(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022129495
(43)【公開日】2022-09-06
(54)【発明の名称】促進酸化処理設備
(51)【国際特許分類】
C02F 1/32 20060101AFI20220830BHJP
C02F 1/72 20060101ALI20220830BHJP
C02F 1/76 20060101ALI20220830BHJP
【ＦＩ】
C02F1/32
C02F1/72 Z
C02F1/72 101
C02F1/76 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021028175
(22)【出願日】2021-02-25
(71)【出願人】
【識別番号】000238186
【氏名又は名称】株式会社フソウ
(74)【代理人】
【識別番号】100141586
【弁理士】
【氏名又は名称】沖中 仁
(74)【代理人】
【識別番号】100102211
【弁理士】
【氏名又は名称】森 治
(72)【発明者】
【氏名】一番ヶ瀬 宏之
【テーマコード（参考）】
4D037
4D050
【Ｆターム（参考）】
4D037AA05
4D037AA11
4D037AB03
4D037AB04
4D037AB11
4D037AB14
4D037BA18
4D037BB01
4D037BB02
4D037CA02
4D037CA06
4D037CA08
4D037CA11
4D050AA03
4D050AA12
4D050AB04
4D050AB06
4D050AB13
4D050AB19
4D050BB06
4D050BB09
4D050BC09
4D050BD03
4D050BD08
4D050CA15
4D050CA16
(57)【要約】
【課題】促進酸化プロセスを採用するに当たり、処理コストの上昇を抑制しながら、異臭味物質に代表される溶解性有機物の分解処理を効率よく、かつ、確実に行うことができるようにした促進酸化処理設備を提供すること。
【解決手段】促進酸化処理設備が、薬剤添加装置１と、複数の紫外線ランプを設置した紫外線照射装置２と、被処理水中の除去対象物質濃度を測定する測定手段３と、被処理水中の除去対象物質濃度と紫外線の必要照射量の相関関係を記憶させる記憶手段と、測定手段３により測定した被処理水中の除去対象物質濃度と、記憶手段に記憶されている被処理水中の除去対象物質濃度と紫外線の必要照射量の相関関係とに基づいて、紫外線の照射量が必要照射量となるように紫外線照射装置２の紫外線ランプの点灯を制御する制御手段４とを備える。
【選択図】図４
【解決手段】促進酸化処理設備が、薬剤添加装置１と、複数の紫外線ランプを設置した紫外線照射装置２と、被処理水中の除去対象物質濃度を測定する測定手段３と、被処理水中の除去対象物質濃度と紫外線の必要照射量の相関関係を記憶させる記憶手段と、測定手段３により測定した被処理水中の除去対象物質濃度と、記憶手段に記憶されている被処理水中の除去対象物質濃度と紫外線の必要照射量の相関関係とに基づいて、紫外線の照射量が必要照射量となるように紫外線照射装置２の紫外線ランプの点灯を制御する制御手段４とを備える。
【選択図】図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
被処理水に、薬剤添加装置によって次亜塩素酸塩又は過酸化水素を添加するとともに、紫外線照射装置によって紫外線の照射を行って、被処理水に溶解している夾雑物質を分解処理する促進酸化処理設備であって、前記促進酸化処理設備が、複数の紫外線ランプを設置した紫外線照射装置と、被処理水中の除去対象物質濃度を測定する測定手段と、被処理水中の除去対象物質濃度と紫外線の必要照射量の相関関係を記憶させる記憶手段と、前記測定手段により測定した被処理水中の除去対象物質濃度と、前記記憶手段に記憶されている被処理水中の除去対象物質濃度と紫外線の必要照射量の相関関係とに基づいて、紫外線の照射量が必要照射量となるように紫外線照射装置の紫外線ランプの点灯を制御する制御手段とを備えてなることを特徴とする促進酸化処理設備。
【請求項2】
前記紫外線照射装置による紫外線の照射を、濾過処理を施した被処理水に対して行うようにしたことを特徴とする請求項１に記載の促進酸化処理設備。
【請求項3】
前記紫外線の必要照射量と次亜塩素酸塩又は過酸化水素の必要添加量の相関関係を記憶させる記憶手段と、前記記憶手段に記憶されている紫外線の必要照射量と次亜塩素酸塩又は過酸化水素の必要添加量の相関関係とに基づいて、次亜塩素酸塩又は過酸化水素の添加量が必要添加量となるように薬剤添加装置による薬剤添加量を制御する制御手段とを備えてなることを特徴とする請求項１又は２に記載の促進酸化処理設備。
【請求項4】
前記紫外線照射装置によって紫外線の照射を行う前の被処理水に過酸化水素を添加する薬剤添加装置に加え、紫外線照射装置によって紫外線の照射を行った後の被処理水に次亜塩素酸塩を添加する残留過酸化水素除去用薬剤添加装置を備えてなることを特徴とする請求項１、２又は３に記載の促進酸化処理設備。
【請求項5】
前記促進酸化処理後の被処理水の残留塩素濃度を測定する残留塩素濃度計を設置し、該残留塩素濃度計の測定値に基づいて次亜塩素酸塩の添加量を制御する制御手段を備えてなることを特徴とする請求項１、２、３又は４に記載の促進酸化処理設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、促進酸化処理設備に関し、特に、地表水や地下水等の原水から水道水や工業用水を生成する浄水処理設備や廃水を処理する廃水処理設備等において、原水や廃水中に含まれる溶解性有機物を効果的に分解するようにした促進酸化処理設備に関するものである。
【背景技術】
【0002】
水道水や工業用水は、その原水を河川や湖沼等の地表水とする場合と、地下水とする場合とに大きく分けられるが、特に、地表水は外的因子の影響を受け易く、湖沼における藻類（原因物質：２－メチルイソボルネオール、ジェオスミン）に起因する異臭味の発生や、河川における工場排水に起因する微量有害物質汚染など、従来から水質汚濁が大きな問題となっている。
【0003】
ところで、水質汚濁の主な原因物質である溶解性有機物は、従来プロセスである凝集沈殿や砂濾過では、十分な除去、分解が困難であることから、オゾン処理、活性炭処理等の高度処理プロセスを追加して対策がなされている。
【0004】
この高度処理プロセスのうち、特に、異臭味物質を含む溶解性有機物の分解処理には、促進酸化プロセスが提案されている（例えば、特許文献１～２参照。）。
促進酸化プロセスは、オゾン、紫外線、酸化剤等を組み合わせ、酸化力の高い活性酸素を発生させることで分解を行うものであるが、高い分解率を達成するためには、長時間の反応、若しくは、オゾン、紫外線等の大量投与が必要となり、実用化されている分野は限定的であった。
促進酸化プロセスは、オゾン、紫外線、酸化剤等を組み合わせ、酸化力の高い活性酸素を発生させることで分解を行うものであるが、高い分解率を達成するためには、長時間の反応、若しくは、オゾン、紫外線等の大量投与が必要となり、実用化されている分野は限定的であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２００８－６２２０１号公報
【特許文献2】特開２０１３－２２０３９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、上記促進酸化プロセスを採用するに当たり、処理コストの上昇を抑制しながら、異臭味物質に代表される溶解性有機物の分解処理を効率よく、かつ、確実に行うことができるようにした促進酸化処理設備を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記目的を達成するため、本発明の促進酸化処理設備は、被処理水に、薬剤添加装置によって次亜塩素酸塩又は過酸化水素を添加するとともに、紫外線照射装置によって紫外線の照射を行って、被処理水に溶解している夾雑物質を分解処理する促進酸化処理設備であって、前記促進酸化処理設備が、複数の紫外線ランプを設置した紫外線照射装置と、被処理水中の除去対象物質濃度を測定する測定手段と、被処理水中の除去対象物質濃度と紫外線の必要照射量の相関関係を記憶させる記憶手段と、前記測定手段により測定した被処理水中の除去対象物質濃度と、前記記憶手段に記憶されている被処理水中の除去対象物質濃度と紫外線の必要照射量の相関関係とに基づいて、紫外線の照射量が必要照射量となるように紫外線照射装置の紫外線ランプの点灯を制御する制御手段とを備えてなることを特徴とする。
【0008】
この場合において、前記紫外線照射装置による紫外線の照射を、濾過処理を施した被処理水に対して行うようにすることができる。
【0009】
前記紫外線の必要照射量と次亜塩素酸塩又は過酸化水素の必要添加量の相関関係を記憶させる記憶手段と、前記記憶手段に記憶されている紫外線の必要照射量と次亜塩素酸塩又は過酸化水素の必要添加量の相関関係とに基づいて、次亜塩素酸塩又は過酸化水素の添加量が必要添加量となるように薬剤添加装置による薬剤添加量を制御する制御手段とを備えてなるようにすることができる。
【0010】
また、前記紫外線照射装置によって紫外線の照射を行う前の被処理水に過酸化水素を添加する薬剤添加装置に加え、紫外線照射装置によって紫外線の照射を行った後の被処理水に次亜塩素酸塩を添加する残留過酸化水素除去用薬剤添加装置を備えてなるようにすることができる。
【0011】
また、前記促進酸化処理後の被処理水の残留塩素濃度を測定する残留塩素濃度計を設置し、該残留塩素濃度計の測定値に基づいて次亜塩素酸塩の添加量を制御する制御手段を備えてなるようにすることができる。
【発明の効果】
【0012】
本発明の促進酸化処理設備によれば、処理コストの上昇を抑制しながら、異臭味物質に代表される溶解性有機物の分解処理を効率よく、かつ、確実に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1】各条件によるカビ臭除去率の実験結果である。
【図2】各条件によるカビ臭除去率の実験結果である。
【図3】残留塩素濃度の経時変化の実験結果である。
【図4】本発明の促進酸化処理設備の実施例を示す説明図である。
【図5】本発明の促進酸化処理設備の実施例を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明の促進酸化処理設備の実施の形態を、浄水処理設備に適用した例に基づいて説明する。
【実施例0015】
［低圧ＵＶランプ＋次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＯＣｌ）］
○被処理水
・対象：浄水処理
・除去対象物質：カビ臭物質（異臭味物質）、農薬、１、４－ジオキサン、有機フッ素化合物
○ＵＶ促進酸化処理条件
・照射量：２００～１０００ｍＪ／ｃｍ２
・ＮａＯＣｌ注入率：０．２～４ｍｇ／Ｌ（＋浄水中の残留塩素（０．５ｍｇ／Ｌ程度））
カビ臭に対する処理実験結果の一例を図１に示す。
ＵＶ照射量が高い程、カビ臭除去率が向上する傾向が確認できた。
また、ＮａＯＣｌ注入については、注入なしの場合、ＵＶ照射量を上昇させても除去率はほとんど向上しないのに対し、ＮａＯＣｌ注入を行うと同じＵＶ照射量における除去率が向上することが確認できた。
一方、ＮａＯＣｌ注入率１ｍｇ／Ｌ以上になると除去率向上への効果はあまりみられないことが明らかとなった。
以上の結果から、本原水に対する最適条件（除去率７０％）は、
・照射量：５００ｍＪ／ｃｍ２
・ＮａＯＣｌ注入率：１ｍｇ／Ｌ
であると判断した。
ただし、原水水質及び対象物質によって最適条件は異なると考えられるため、都度実験によって確認を行う必要がある。
また、この時の処理水の残留塩素濃度は０．５ｍｇ／Ｌ程度であった。これは一般的な浄水処理での後塩素処理後の残留塩素濃度であることから、これを管理することによって塩素注入管理を行うことが、本システムにおける効率的な運用方法であることが確かめられた。
○被処理水
・対象：浄水処理
・除去対象物質：カビ臭物質（異臭味物質）、農薬、１、４－ジオキサン、有機フッ素化合物
○ＵＶ促進酸化処理条件
・照射量：２００～１０００ｍＪ／ｃｍ２
・ＮａＯＣｌ注入率：０．２～４ｍｇ／Ｌ（＋浄水中の残留塩素（０．５ｍｇ／Ｌ程度））
カビ臭に対する処理実験結果の一例を図１に示す。
ＵＶ照射量が高い程、カビ臭除去率が向上する傾向が確認できた。
また、ＮａＯＣｌ注入については、注入なしの場合、ＵＶ照射量を上昇させても除去率はほとんど向上しないのに対し、ＮａＯＣｌ注入を行うと同じＵＶ照射量における除去率が向上することが確認できた。
一方、ＮａＯＣｌ注入率１ｍｇ／Ｌ以上になると除去率向上への効果はあまりみられないことが明らかとなった。
以上の結果から、本原水に対する最適条件（除去率７０％）は、
・照射量：５００ｍＪ／ｃｍ２
・ＮａＯＣｌ注入率：１ｍｇ／Ｌ
であると判断した。
ただし、原水水質及び対象物質によって最適条件は異なると考えられるため、都度実験によって確認を行う必要がある。
また、この時の処理水の残留塩素濃度は０．５ｍｇ／Ｌ程度であった。これは一般的な浄水処理での後塩素処理後の残留塩素濃度であることから、これを管理することによって塩素注入管理を行うことが、本システムにおける効率的な運用方法であることが確かめられた。
【0016】
○紫外線照射量の調整
この促進酸化浄水処理設備においては、図４に示すように、急速濾過池Ｐ１の後段に配設した紫外線照射装置２でＵＶランプ（本実施例においては、低圧ＵＶランプ。）を使用しているが、この紫外線照射装置２において、必要照射量を確保するために多数のＵＶランプを設置することとなる。
そこで、その特徴を活かし、原水中のターゲット物質の種類及び濃度と必要照射量の相関をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、紫外線ランプの点灯を制御する、具体的には、必要照射量に対応するＵＶランプの点灯本数を制御するシステムとする。
制御盤にターゲット物質の種類及び濃度を入力することで、自動的にＵＶランプの点灯本数を制御し、最適運転制御ができるシステムとする。
ターゲット物質の種類及び濃度の連続測定機器がある場合は、その信号を入力することで完全自動制御運転をすることが可能となる。
○ＮａＯＣｌ注入率（注入量）の調整
原水中のターゲット物質の種類及び濃度によって、紫外線の必要照射量とその時に必要なＮａＯＣｌ注入率（注入量）には相関関係がある。
そこで、その相関関係をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、ＮａＯＣｌ注入率（注入量）を制御するシステムとする。
この促進酸化浄水処理設備においては、図４に示すように、急速濾過池Ｐ１の後段に配設した紫外線照射装置２でＵＶランプ（本実施例においては、低圧ＵＶランプ。）を使用しているが、この紫外線照射装置２において、必要照射量を確保するために多数のＵＶランプを設置することとなる。
そこで、その特徴を活かし、原水中のターゲット物質の種類及び濃度と必要照射量の相関をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、紫外線ランプの点灯を制御する、具体的には、必要照射量に対応するＵＶランプの点灯本数を制御するシステムとする。
制御盤にターゲット物質の種類及び濃度を入力することで、自動的にＵＶランプの点灯本数を制御し、最適運転制御ができるシステムとする。
ターゲット物質の種類及び濃度の連続測定機器がある場合は、その信号を入力することで完全自動制御運転をすることが可能となる。
○ＮａＯＣｌ注入率（注入量）の調整
原水中のターゲット物質の種類及び濃度によって、紫外線の必要照射量とその時に必要なＮａＯＣｌ注入率（注入量）には相関関係がある。
そこで、その相関関係をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、ＮａＯＣｌ注入率（注入量）を制御するシステムとする。
【実施例0017】
［低圧ＵＶランプ＋Ｈ２Ｏ２］
○被処理水
・対象：浄水処理
・除去対象物質：カビ臭物質（異臭味物質）、農薬、１、４－ジオキサン、有機フッ素化合物
○ＵＶ促進酸化処理条件
・照射量：１００～５００ｍＪ／ｃｍ２
・Ｈ２Ｏ２注入率：０．２～２ｍｇ／Ｌ
カビ臭に対する処理実験結果の一例を図２に示す。
Ｈ２Ｏ２注入率が高くなるに従って、ＵＶ照射量に対するカビ臭除去率が向上する傾向が確認できた。
一方、Ｈ２Ｏ２注入率を１．５ｍｇ／Ｌ以上にしても、カビ臭除去率はほとんど向上しなかった。
以上の結果から、本原水に対する最適条件（除去率７０％）は、
・照射量：３５０ｍＪ／ｃｍ２
・Ｈ２Ｏ２注入率：１．５ｍｇ／Ｌ
であると判断した。
ただし、原水水質及び対象物質によって最適条件は異なると考えられるため、都度実験
によって確認を行う必要がある。
○被処理水
・対象：浄水処理
・除去対象物質：カビ臭物質（異臭味物質）、農薬、１、４－ジオキサン、有機フッ素化合物
○ＵＶ促進酸化処理条件
・照射量：１００～５００ｍＪ／ｃｍ２
・Ｈ２Ｏ２注入率：０．２～２ｍｇ／Ｌ
カビ臭に対する処理実験結果の一例を図２に示す。
Ｈ２Ｏ２注入率が高くなるに従って、ＵＶ照射量に対するカビ臭除去率が向上する傾向が確認できた。
一方、Ｈ２Ｏ２注入率を１．５ｍｇ／Ｌ以上にしても、カビ臭除去率はほとんど向上しなかった。
以上の結果から、本原水に対する最適条件（除去率７０％）は、
・照射量：３５０ｍＪ／ｃｍ２
・Ｈ２Ｏ２注入率：１．５ｍｇ／Ｌ
であると判断した。
ただし、原水水質及び対象物質によって最適条件は異なると考えられるため、都度実験
によって確認を行う必要がある。
【0018】
○紫外線照射量の調整
この促進酸化浄水処理設備においては、図５に示すように、急速濾過池Ｐ１の後段に配設した紫外線照射装置２でＵＶランプ（本実施例においては、低圧ＵＶランプ。）を使用しているが、この紫外線照射装置２において、必要照射量を確保するために多数のＵＶランプを設置することとなる。
そこで、その特徴を活かし、原水中のターゲット物質の種類及び濃度と必要照射量の相関をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、紫外線ランプの点灯を制御する、具体的には、必要照射量に対応するＵＶランプの点灯本数を制御するシステムとする。
制御盤にターゲット物質の種類及び濃度を入力することで、自動的にＵＶランプの点灯本数を制御し、最適運転制御ができるシステムとする。
ターゲット物質の種類及び濃度の連続測定機器がある場合は、その信号を入力することで完全自動制御運転をすることが可能となる。
○Ｈ２Ｏ２注入率（注入量）の調整
原水中のターゲット物質の種類及び濃度によって、紫外線の必要照射量とその時に必要なＨ２Ｏ２注入率（注入量）には相関関係がある。
そこで、その相関関係をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、Ｈ２Ｏ２注入率（注入量）を制御するシステムとする。
この促進酸化浄水処理設備においては、図５に示すように、急速濾過池Ｐ１の後段に配設した紫外線照射装置２でＵＶランプ（本実施例においては、低圧ＵＶランプ。）を使用しているが、この紫外線照射装置２において、必要照射量を確保するために多数のＵＶランプを設置することとなる。
そこで、その特徴を活かし、原水中のターゲット物質の種類及び濃度と必要照射量の相関をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、紫外線ランプの点灯を制御する、具体的には、必要照射量に対応するＵＶランプの点灯本数を制御するシステムとする。
制御盤にターゲット物質の種類及び濃度を入力することで、自動的にＵＶランプの点灯本数を制御し、最適運転制御ができるシステムとする。
ターゲット物質の種類及び濃度の連続測定機器がある場合は、その信号を入力することで完全自動制御運転をすることが可能となる。
○Ｈ２Ｏ２注入率（注入量）の調整
原水中のターゲット物質の種類及び濃度によって、紫外線の必要照射量とその時に必要なＨ２Ｏ２注入率（注入量）には相関関係がある。
そこで、その相関関係をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、Ｈ２Ｏ２注入率（注入量）を制御するシステムとする。
【実施例0019】
［中圧ＵＶランプ＋次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＯＣｌ）］
○被処理水
・対象：浄水処理
・除去対象物質：カビ臭物質（異臭味物質）、農薬、１、４－ジオキサン、有機フッ素化合物
○ＵＶ促進酸化処理条件
・照射量：１００～５００ｍＪ／ｃｍ２
・ＮａＯＣｌ注入率：０．２～４ｍｇ／Ｌ（＋浄水中の残留塩素（０．５ｍｇ／Ｌ程度））
○被処理水
・対象：浄水処理
・除去対象物質：カビ臭物質（異臭味物質）、農薬、１、４－ジオキサン、有機フッ素化合物
○ＵＶ促進酸化処理条件
・照射量：１００～５００ｍＪ／ｃｍ２
・ＮａＯＣｌ注入率：０．２～４ｍｇ／Ｌ（＋浄水中の残留塩素（０．５ｍｇ／Ｌ程度））
【0020】
○紫外線照射量の調整
この促進酸化浄水処理設備においては、図４に示すように、急速濾過池Ｐ１の後段に配設した紫外線照射装置２でＵＶランプ（本実施例においては、中圧ＵＶランプ。）を使用しているが、この紫外線照射装置２において、必要照射量を確保するために多数のＵＶランプを設置することとなる。
そこで、その特徴を活かし、原水中のターゲット物質の種類及び濃度と必要照射量の相関をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、紫外線ランプの点灯を制御する、具体的には、必要照射量に対応するＵＶランプの点灯本数及び／又はランプ光強度を制御するシステムとする。
制御盤にターゲット物質の種類及び濃度を入力することで、自動的にＵＶランプの点灯本数及び／又はランプ光強度を制御し、最適運転制御ができるシステムとする。
ターゲット物質の種類及び濃度の連続測定機器がある場合は、その信号を入力することで完全自動制御運転をすることが可能となる。
○ＮａＯＣｌ注入率（注入量）の調整
原水中のターゲット物質の種類及び濃度によって、紫外線の必要照射量とその時に必要なＮａＯＣｌ注入率（注入量）には相関関係がある。
そこで、その相関関係をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、ＮａＯＣｌ注入率（注入量）を制御するシステムとする。
この促進酸化浄水処理設備においては、図４に示すように、急速濾過池Ｐ１の後段に配設した紫外線照射装置２でＵＶランプ（本実施例においては、中圧ＵＶランプ。）を使用しているが、この紫外線照射装置２において、必要照射量を確保するために多数のＵＶランプを設置することとなる。
そこで、その特徴を活かし、原水中のターゲット物質の種類及び濃度と必要照射量の相関をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、紫外線ランプの点灯を制御する、具体的には、必要照射量に対応するＵＶランプの点灯本数及び／又はランプ光強度を制御するシステムとする。
制御盤にターゲット物質の種類及び濃度を入力することで、自動的にＵＶランプの点灯本数及び／又はランプ光強度を制御し、最適運転制御ができるシステムとする。
ターゲット物質の種類及び濃度の連続測定機器がある場合は、その信号を入力することで完全自動制御運転をすることが可能となる。
○ＮａＯＣｌ注入率（注入量）の調整
原水中のターゲット物質の種類及び濃度によって、紫外線の必要照射量とその時に必要なＮａＯＣｌ注入率（注入量）には相関関係がある。
そこで、その相関関係をあらかじめ実験によって確認し、制御手段に記憶しておき、原水中のターゲット物質の種類及び濃度に応じて、制御手段により、ＮａＯＣｌ注入率（注入量）を制御するシステムとする。