特開 2022-133846 ソース塗布装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022133846

(43)【公開日】2022-09-14

(54)【発明の名称】ソース塗布装置

(51)【国際特許分類】

   A21C 15/00 20060101AFI20220907BHJP

   A23P 20/15 20160101ALI20220907BHJP

   B05C 11/02 20060101ALI20220907BHJP

【ＦＩ】

A21C15/00 Z

A23P20/15

B05C11/02

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021032764

(22)【出願日】2021-03-02

(71)【出願人】

【識別番号】521089889

【氏名又は名称】ＴＭＫ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100121441

【弁理士】

【氏名又は名称】西村 竜平

(74)【代理人】

【識別番号】100154704

【弁理士】

【氏名又は名称】齊藤 真大

(74)【代理人】

【識別番号】100129702

【弁理士】

【氏名又は名称】上村 喜永

(74)【代理人】

【識別番号】100206151

【弁理士】

【氏名又は名称】中村 惇志

(74)【代理人】

【識別番号】100218187

【弁理士】

【氏名又は名称】前田 治子

(72)【発明者】

【氏名】京谷 泰裕

(72)【発明者】

【氏名】山下 耕典

(72)【発明者】

【氏名】伴 英樹

(72)【発明者】

【氏名】中村 莞司

【テーマコード（参考）】

4B031

4B048

4F042

【Ｆターム（参考）】

4B031CA19

4B031CB07

4B031CB09

4B031CM02

4B048PE04

4B048PE08

4B048PN01

4B048PN20

4B048PN23

4F042AA01

4F042BA06

4F042BA08

4F042BA27

4F042DD06

4F042DD16

4F042DD17

4F042DD18

4F042DD20

4F042DD22

4F042DD25

4F042DD45

4F042DF17

4F042DH09

(57)【要約】

【課題】生地Ｃ上にむらなくソースＳを自動的に塗ることができるようにして、ピザ等の食品の生産において、品質の低下を招くことなく、省力化と時間短縮を図る。
【解決手段】
複数の突起４１２が下面に設けられた塗布体４１と、該塗布体４１の周囲に設けられた押圧体４２とを設け、前記押圧体４２によって生地Ｃの周縁部を上から押さえるとともに、前記塗布体４１を旋回させ、その下面と生地Ｃとの間にあるソースＳを該生地Ｃに伸ばしながら塗布するようにした。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ピザやお好み焼き等の生地上にソースを塗布するものであって、
複数の突起が下面に設けられた塗布体と、
該塗布体の周囲に設けられた押圧体と、
前記押圧体及び塗布体を所定の上位置と下位置との間で上下動させる上下動アクチュエータと、
前記塗布体を水平旋回させる旋回アクチュエータと、
前記上下動アクチュエータ及び旋回アクチュエータを制御する制御装置とを備え、
該制御装置による制御によって、前記押圧体及び塗布体が前記上位置から下位置に移動し、前記押圧体が生地の周縁部を上から押さえる一方で、前記塗布体が旋回してその下面と生地との間にあるソースを伸ばしながら該生地に塗布することを特徴とするソース塗布装置。

【請求項2】

前記押圧体は円環状をなすものであり、
前記塗布体は円盤状をなし、前記押圧体の内周に略隙間なく嵌まり込むものであることを特徴とする請求項１記載のソース塗布装置。

【請求項3】

ソースの塗布時に、前記塗布体が正方向と逆方向とに交互に旋回することを特徴とする請求項１又は２記載のソース塗布装置。

【請求項4】

前記突起の少なくとも先端部が滑らかに形成してあることを特徴とする請求項１乃至３いずれか記載のソース塗布装置。

【請求項5】

前記突起が略半球状をなすものであることを特徴とする請求項４記載のソース塗布装置。

【請求項6】

前記突起が塗布体下面の略全面に亘って設けられていることを特徴とする請求項１乃至５いずれか記載のソース塗布装置。

【請求項7】

前記突起が塗布体下面の中央部を除く略全面に亘って設けられていることを特徴とする請求項１乃至５いずれか記載のソース塗布装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ピザやお好み焼き等の生地上にソースを塗布するソース塗布装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

ピザは、周知のように、生地上にソースを塗り、その上に具材を載せて窯やオーブンで焼くことで完成するが、近時では、工場等で大量生産され、スーパーやコンビニ、通販サイトなどで販売されるピザもある。

【0003】

このようなピザを生産する際の問題点の１つにソースを塗る工程（ソース塗布工程）がある。このソース塗布工程では、ソースをできるだけ均一に、かつはみ出ることなくピザ上に塗ることが好ましいが、この工程が現状ではスプーンやヘラなどを用いて人手で行われており、熟練した作業者を多数確保しない限り、生産速度を上げることができない。また、人手に頼っているがために、この工程での大幅な費用の削減が難しい。
そこで、特許文献１や特許文献２に示されているように、このソース塗布工程を自動で行う装置も考えられている。

【0004】

しかしながら、結局のところ、このようなものでは、ソースを均一に塗ることが難しく、現在でも、ソース塗布工程を依然人手で行っているのが実情である。特に、玉ねぎのみじん切りなどの微小固形物が混在するソースは、前述の装置で均等に塗布することはほとんどできない。
このような問題点は、お好み焼きやクレープなど、生地上にソースを塗る食材すべてに共通する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００６－１２１９５１号公報

【特許文献2】特開昭５９－１１９１９４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本発明は、上述した課題に鑑みなされたものであって、その所期課題は、ピザ等の食品の生産において、品質の低下を招くことなく、省力化と時間短縮を図ることにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

すなわち、本発明に係るソース塗布装置は、ピザやお好み焼き等の生地上にソースを塗布するものであって、以下の構成を備えていることを特徴とする。

【0008】

（１）下面に複数の突起が設けられた塗布体。
（２）該塗布体の周囲に設けられた押圧体。
（３）前記押圧体及び塗布体を予め定められた上位置と下位置との間で上下動させる上下動アクチュエータ。
（４）前記塗布体を水平旋回させる旋回アクチュエータ。
（５）前記上下動アクチュエータ及び旋回アクチュエータを制御することによって、前記塗布体及び押圧体を上位置から下位置に移動させ、前記押圧体には生地の周縁部を上から押さえさせるとともに、前記塗布体には旋回してその下面と生地との間にあるソースを伸ばしながら該生地に塗布させる制御装置。

【0009】

上述した構成の本発明によれば、塗布体下面に設けられた複数の突起によって、生地に多少の凹凸があっても、該生地上にむらなくソースを塗ることができる。しかして、かかる作用効果は、本発明者の試行錯誤を含む鋭意検討により初めて見出されたものである。

【0010】

本発明の具体的な実施態様としては、前記押圧体が円環状をなすものであり、前記塗布体が円盤状をなし、前記押圧体の内周に略隙間なく嵌まり込むものを挙げることできる。

【0011】

このような構成であれば、前記押圧体によって生地の周縁全部が押さえられるので、確実に生地を座面に固定できるだけでなく、該押圧体の内周部分にのみソース塗布が塗布されるので、その塗布領域を一定にできる。さらに、ソースは、押圧体、塗布体及び生地に閉じ込められて逃げ場がないため、塗布体の旋回によって、よりムラなく生地に塗布されるという効果も得られる。これに対し、例えば塗布体を半円状にしたり、あるいは、塗布体の直径を押圧体の内周径よりも小さくしたりして、生地の上面の一部が空いた状態とした場合は、その空いた部分にソースが逃げ、塗布体を繰り返し旋回させてもソースの塗布状態にムラが残る場合がある。

【0012】

ソースの塗りムラをさらに低減させるには、ソースの塗布時に、前記塗布体が正方向と逆方向とに交互に旋回するようにしておくことが好ましい。
生地に傷がつきにくいようにし、しかも塗りムラを低減するためには、前記突起の少なくとも先端部が滑らかに形成してあることが望ましい。
具体的な実施態様としては、前記突起が略半球状をなすものを挙げることができる。
前記突起は、塗布体下面の略全面に亘って設けられていてもよいし、塗布体下面の中央部を除く略全面に亘って設けられていてもよい。

【発明の効果】

【0013】

以上に述べた本発明に係るソース塗布装置によれば、生地上にむらなくソースを自動的に塗ることができるので、ピザ等の食品の生産において、品質の低下を招くことなく、省力化と時間短縮を図ることができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】本発明の一実施形態におけるソース塗布装置の全体を示す概略斜視図である。

【図2】同実施形態におけるソース塗布装置の正面図である。

【図3】同実施形態におけるソース塗布装置の側面図である。

【図4】同実施形態におけるソース塗布装置の押圧体及び塗布体の斜視図である。

【図5】同実施形態における塗布体の底面図及び下方から視た斜視図である。

【図6】同実施形態におけるソース塗布装置による、ピザにソースを塗布する際の動作を示す動作説明図である。

【図7】同実施形態におけるソース塗布装置による、ピザにソースを塗布する際の動作を示す動作説明図である。

【図8】同実施形態におけるソース塗布装置による、ピザにソースを塗布する際の動作を示す動作説明図である。

【図9】同実施形態におけるソース塗布装置による、ピザにソースを塗布する際の動作を示す動作説明図である。

【図10】同実施形態におけるソース塗布装置による、ピザにソースを塗布する際の動作を示す動作説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

以下、本発明の一実施形態を、図面を参照しながら説明する。

【0016】

［構成］
図１～図３に本実施形態におけるソース塗布装置１００の全体概略図を示す。
このソース塗布装置１００は、ベルトコンベア等の搬送装置２００上に等間隔に一列で並べられて次々搬送されてくるピザの生地ＣにソースＳを塗布するものであり、以下の各部を備えている。

【0017】

（１）床上に設置された基台１
（２）該基台１上に水平移動可能に設置されたスライド体２
（３）該スライド体２に上下動可能に保持された上下動体３
（４）該上下動体３に支持された塗布機構４
（５）複数のアクチュエータ
（６）前記アクチュエータを制御する制御装置（図示しない）
次に前記各部について説明する。

【0018】

（１）基台１
該基台１は、矩形板状をなすＳＵＳ等の金属製のものであり、ここでは可動台Ｗ上に設置されている。

【0019】

（２）スライド体２
該スライド体２は、底板部材２１と該底板部材２１の奥辺部から立ち上がる起立部材２２とを備えた、側方から視て概略Ｌ字形状をなすＳＵＳ等の金属製ものである。この実施形態では、このスライド体２の底板部材２１と前記基台１との間に、左右に延びるレール及びレール溝からなるスライド機構５１が設けられており、このスライド機構５１を介して、該スライド体２は、図１の紙面における左右方向にスライド移動可能に前記基台１に支持されている。

【0020】

（３）上下動体３
該上下動体３は、起立する柱状部材３１と、この柱状部材３１に後側を固着された水平に展伸する支持板３２とを備えたＳＵＳ等の金属製のものである。この実施形態では、前記柱状部材３１と前記スライド体２の起立部材２２との間に、上下に延びるレール及びレール溝からなる第２スライド機構５２が設けられており、この第２スライド機構５２を介して、該上下動体３は上下にスライド移動可能に、前記スライド体２に支持されている。

【0021】

（４）塗布機構４
該塗布機構４は、図４等に示すように生地Ｃ上のソースＳを伸ばして塗布する塗布体４１と、生地Ｃが回転しないようにその周囲を押さえる押圧体４２とを備えたものである。この実施形態では、この塗布機構４が左右にそれぞれ１つずつ設けられており、その間隔が前記生地Ｃの搬送間隔と等しくなるように設定してある。

【0022】

（４－１）塗布体４１
該塗布体４１は、図５、図１～図４等に示すように、円盤状をなす塗布体本体４１１と、この塗布体本体４１１の下面から一体に突出する複数の突起４１２とから構成された樹脂製又は錆びにくいＳＵＳ等の金属製のものである。

【0023】

前記塗布体本体４１１は、その直径がピザ生地Ｃの直径よりもやや小さく設定されたものである。その厚みは均等でも構わないが、この実施形態では、中央部が最も厚く、外側に向かうほど厚みが少しずつ小さくなるように構成されている。

【0024】

前記突起４１２は、ここでは、前記塗布体本体４１１の下面の略全面にほぼ均等に配置された概略半球状をなすものであり、各突起４１２の形状及び寸法は同一にしてある。

【0025】

上述した構成の塗布体４１は左右ともに同形状であり、それら左右の塗布体４１が、共通する１つの前記支持板３２によって水平かつ自転旋回可能に支持されている。具体的に説明する。

【0026】

前記支持板３２の前側からは、図１、図２等に示すように、シャフト４１ａが回転可能に垂下させてあり、このシャフト４１ａの先端（下端）に帯状をなす中間支持板４１ｂが水平に取り付けてある。さらにこの中間支持板４１ｂの両端からそれぞれが垂下させてあり、これら一対の支軸４１ｃの下端に該塗布体４１が、前記シャフト４１ａと同軸となるように取り付けられている。この支軸４１ｃは、前記中間支持板４１ｂに設けられた貫通孔に挿通させてあるとともに、該支軸４１ｃの上端部に取り付けられたリング材４１ｄが該中間支持板４１ｂの上面に引っかかって下方に抜けないようにしてある。このような構成により、前記支軸４１ｃ及びこれに支持された塗布体４１が中間支持板４１ｂに対して上下動可能に吊り下げられている。

【0027】

また、この支軸４１ｃにはコイルばね４１ｅが外嵌させてあり、支軸４１ｃ及びこれに支持された塗布体４１が、吊り下げられた自然状態から中間支持板４１ｂに対して上動した際に、このコイルばね４１ｅが収縮し、塗布体４１に下向きの力を付勢するように構成してある。

【0028】

（４－２）押圧体４２
該押圧体４２は、図１～図４等に示すように、その下面が平らな円環状をなす樹脂製又は錆びにくいＳＵＳ等の金属製のものである。また、その中心孔４１ａの直径は、前記塗布体４１の直径と同一又はやや大きく設定されており、前記塗布体４１がこの中心孔４１ａにほぼ隙間なく嵌まり込むように構成されている。

【0029】

上述した構成の押圧体４２は、前記塗布体４１同様、左右ともに同形状であり、それら左右の押圧体４２が、共通する１つの前記支持板３２によって水平に支持されている。具体的に説明する。

【0030】

前記支持板３２の前側からは一対の第２支軸４２ｃが垂下させてあり、これら第２支軸４２ｃの下端に該押圧体４２が取り付けられている。この第２支軸４２ｃは、前記支持板３２に設けられた貫通孔に挿通させてあり、該第２支軸４２ｃの上端部に取り付けられたリング材４２ｄが前記支持板３２の上面に引っかかることにより、該第２支軸４２ｃ及びこれに支持された押圧体４２が支持板３２に対して上下動可能に吊り下げられている。また、この第２支軸４２ｃにはコイルばね４２ｅが外嵌させてあり、該第２支軸４２ｃ及びこれに支持された押圧体４２が、吊り下げられた自然状態から支持板３２に対して上動した際に、前記コイルばね４２ｅが収縮し、押圧体４２に下向きの力を付勢するように構成してある。

【0031】

なお、支持板３２によって吊り下げられた自然状態において、該押圧体４２の下端は、前記塗布体４１とほぼ同じ高さ又は塗布体４１の下端よりもやや低くなるように設定してある。

【0032】

（５）アクチュエータ
本実施形態では、前記スライド体２を基台１に対して左右にスライド駆動するスライドアクチュエータ（図示しない）、前記上下動体３をスライド体２に対して上下動させる上下動アクチュエータ６１、前記塗布体４１を旋回駆動する旋回アクチュエータ６２の３つが設けられている。

【0033】

前記スライドアクチュエータは、図示しないが、例えばステッピングモータと該ステッピングモータの回転をスライド体２の水平移動に変換する変換機構とによって構成されている。

【0034】

前記上下動アクチュエータ６１は、例えば、ステッピングモータ（図示しない）と該ステッピングモータにの回転を上下動体３の上下移動に変換するシリンダ機構とによって構成されている。この実施形態では、シリンダ機構のボア部６１１が前記スライド体２の起立部材２２に取り付けられており、このボア部６１１から上下に突没するシリンダ６１２の上端が前記支持板３２の後端部に取り付けられて該支持板３２を上下動させるように構成してある。

【0035】

前記旋回アクチュエータ６２は、前記支持板３２上に固定されたステッピングモータ６２１と、このステッピングモータ６２１の回転を、前記塗布体４１を支持するシャフト４１ａに伝達する回転伝達機構とによって構成されている。この実施形態での回転伝達機構は、ステッピングモータ６２１の軸及び前記シャフト４１ａにそれぞれ取り付けられたプーリー６２２と、これらプーリー６２２間にかけ渡されて回転を伝える無端ベルト６２３とから構成されたものである。なお、この実施形態では、塗布体４１が左右に設けられているが、これら２つの塗布体４１を共通する１つの前記ステッピングモータ６２１で駆動し、これら塗布体４１が同期して旋回するようにしてある。

【0036】

（６）制御装置
該制御装置は、図示しないＣＰＵ、メモリ、通信インタフェース、入出力インタフェース、前記アクチュエータを駆動するためのドライバなどを備えたいわゆるコンピュータであり、前記メモリに予め格納したプログラムに従ってその周辺機器が協動することにより、前記各アクチュエータを制御し、ピザ生地Ｃに自動的にソースＳを塗布させるものである。

【0037】

［動作］
次に、この制御装置の機能説明を兼ねて、該ソース塗布装置１００の動作を詳述する。

【0038】

前提構成として、このソース塗布装置１００は、その左右方向を生地Ｃの搬送方向と合致させ、かつ、搬送方向からみて、塗布体４１及び押圧体４２が生地Ｃの直上に位置するように設置されている。また、搬送されてくる生地Ｃの中央部には前の工程でソースＳが予め盛られている（まだ伸ばされていない）。

【0039】

さらに、搬送装置２００又はソース塗布装置１００の所定箇所には、超音波や光などを利用した位置センサ（図示しない）が設けられている。この位置センサは、ソースＳ塗布前の生地Ｃが所定位置に到達したことを検知し、その検知信号を前記制御装置に送信するように設定されている。

【0040】

以上の前提構成の下、ように、前記塗布体４１及び押圧体４２は、まず、図７（ａ）に示す初期位置に位置づけられる。この初期位置とは、上下方向においては該塗布体４１及び押圧体４２の下面が生地Ｃよりも上方となり、搬送方向（左右方向）においては前記スライド体２が上流側寄りとなる所定の位置である。

【0041】

この状態で制御装置が前記検知信号を受信すると、最初の２つの生地Ｃが各塗布体４１の真下に到達する所定時間後、スライド体２を生地搬送速度と同じ速度で下流側に移動させつつ、これとほぼ同時に、制御装置は、前記上下動体３を所定距離だけ下動させる。このことによって、前記各生地Ｃをそれぞれ一対の押圧体４２（及び塗布体４１）で直上から押圧する（図７（ｂ））。

【0042】

このときの上下動体３の下動距離は、図６に示すように、予め定められている。具体的には、前記初期位置（図６（ａ））から、上下動体３を下動させ、押圧体４２（及び塗布体４１）が生地Ｃに軽く接触する接触位置（図６（ｂ））よりも、さらに上下動体３を下動させた位置（押圧位置）まで下動する。

【0043】

この押圧位置では、前記接触位置と比較して、押圧体４２（及び塗布体４１）の高さ位置はほとんど変わらないが、上下動体３は、接触位置よりも下方にあり、その分だけコイルばね４１ｅ、４２ｅが縮み、その反力で押圧体４２（及び塗布体４１）が生地を押圧することになる。

【0044】

この後も、制御装置は、上下動体３の高さ位置を維持しつつ、スライド体２を引き続きスライドさせる（図８（ｃ））。このことにより、押圧体４２は、生地Ｃと同期して搬送方向に移動しながら該生地Ｃを押圧し続ける。
その所定時間後または所定距離スライド後、制御装置は、上下動体３を上動させて押圧体４２及び塗布体４１を生地Ｃから離脱させる（図８（ｄ））。

【0045】

他方、押圧体４２に生地Ｃが接触し、または押圧している間、制御装置は、旋回アクチュエータ６２を駆動して塗布体４１を旋回させる。この実施形態では、正方向に１回転させた後（図９（ａ）、（ｂ））、中間位置で反転させて、逆方向に１回転させる（図１０（ｃ）、（ｄ））。このことにより、ソースＳが伸ばされて生地Ｃ上にムラなく塗布される。

【0046】

なお、この実施形態では、塗布体４１は、旋回しながら生地Ｃから離れるようにしてある。旋回を止めてから生地から離れるのに比べ、ムラのない塗布が可能となり、生地Ｃから離れる際に塗布体２に残るソースＳの量も少なくなるからである。
その後、制御装置は、上下動体３を駆動して押圧体４２及び塗布体４１を前記初期位置に位置付け、前述同様の動作を繰り返す。
このことにより、このソース塗布装置１００は、搬送されてくる生地ＣにソースＳを次々塗布していく。

【0047】

［効果］
上述したソース塗布装置１００によれば、塗布体４１下面に設けられた複数の半球状の突起４１２によって、生地Ｃに多少の凹凸があっても、生地Ｃを傷つけることなく、むらなくソースＳを塗ることができる。

【0048】

また、前記押圧体４２が円環状で生地Ｃの周縁全部を押さえるので、確実に生地Ｃを座面に固定できる。さらに押圧体４２の内周部分にのみソースＳ塗布が塗布されるので、その塗布領域を一定にできる。また、ソースＳは、押圧体４２、塗布体４１及び生地Ｃに閉じ込められて逃げ場がないため、塗布体４１の旋回によって、よりムラなく生地Ｃに塗布されるという効果も得られる。

【0049】

［変形例］
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
例えば、前記押圧体及び塗布体は３つ以上であってもよいし、１つであってもよい。これらを多数設けると、処理速度が増え、単位時間当たりの生産量を増加させることができる。他方、１つであれば、生地の搬送間隔にずれが生じても、それに対応してより確実に各生地にソースを塗布することができる。

【0050】

突起の形状は、半球状のものに限られない。例えば直方体状や、円錐状などでもよいが、半楕円球状など、先端部が滑らかな形状であればより好ましい。また、各突起が全て同形状、同寸法である必要はない。例えば中央部の突起が他の突起よりも高さは低いが面積が広いなどといったものでも構わない。さらに、突起は、塗布体下面の略全面に亘って設けられている必要はなく、塗布体下面の中央部を除く略全面に亘って設けられていてもよい。

【0051】

前記実施形態では押圧体４２の内周にほぼ隙間なく塗布体４１が嵌まり込むようにしていたが、ここにある程度の隙間を設けても構わない。例えば、周囲に盛り上がりのあるような生地においては、隙間を設けても不具合が生じない場合がある。

【0052】

押圧体は、円環状のものに限られない。生地の周縁部の少なくとも一部を押さえて固定できればよいのであって、部分円環状のものや、複数に分割されて生地の周縁部の複数点を押さえるようにしたものでもよい。周縁が盛り上がっているような生地の場合、このように部分的に押さえる押圧体でも、ソースが生地の外側にはみ出すことがほとんどない。
塗布体も円盤状に限られず、平面視、半円や多角形状、あるいはその他の異形状であっても構わない。

【0053】

塗布体の下面（突起も含む。）は、ソースの残存付着量が少ない方がよく、ソースの種類に合わせた仕上げにすればよい。例えば、ソースの種類により、光沢面にしてもよいし、ある程度ざらつかせた荒仕上面にしてもよい。また下面に被膜コーティングを施してソース残存付着量を軽減するなどしてもよい。

【0054】

前記実施形態では、押圧体４２及び塗布体４１をスライド体２及び上下動体３によって、左右及び上下の２自由度で移動可能に支持させていたが、押圧体及び塗布体を少なくとも上下動可能に支持する支持機構があればよい。また、例えばより移動自由度の高い関節ロボットなどの支持機構によって支持させてもよい。
その他、本発明は、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、種々変形が可能である。

【符号の説明】

【0055】

１００ ソース塗布装置
４１ 塗布体
４２ 押圧体
６１ 上下動アクチュエータ
６２ 旋回アクチュエータ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】