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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022134735
(43)【公開日】2022-09-15
(54)【発明の名称】除菌浄化装置
(51)【国際特許分類】
A61L 9/00 20060101AFI20220908BHJP
A61L 9/20 20060101ALI20220908BHJP
D03D 1/00 20060101ALI20220908BHJP
【ＦＩ】
A61L9/00 C
A61L9/20
D03D1/00 Z
【審査請求】有
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021034090
(22)【出願日】2021-03-04
(11)【特許番号】
(45)【特許公報発行日】2022-02-25
(71)【出願人】
【識別番号】000003757
【氏名又は名称】東芝ライテック株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100146592
【弁理士】
【氏名又は名称】市川 浩
(74)【代理人】
【識別番号】100157901
【弁理士】
【氏名又は名称】白井 達哲
(74)【代理人】
【識別番号】100176751
【弁理士】
【氏名又は名称】星野 耕平
(72)【発明者】
【氏名】津崎 修
【テーマコード（参考）】
4C180
4L048
【Ｆターム（参考）】
4C180AA02
4C180AA07
4C180AA16
4C180BB06
4C180BB08
4C180BB09
4C180CC03
4C180CC17
4C180DD03
4C180DD04
4C180DD09
4C180EA06X
4C180EA07X
4C180EA08X
4C180EA16X
4C180EA33X
4C180EA34X
4C180HH05
4C180HH15
4C180HH19
4L048AA04
4L048BA06
(57)【要約】
【課題】ガスの浄化、および、細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化を行うことができる除菌浄化装置を提供することである。
【解決手段】実施形態に係る除菌浄化装置は、シートと、前記シートに坦持された複数の光触媒と、を有する光触媒フィルタと；前記光触媒フィルタと対向し、第１の発光素子と、第２の発光素子と、を有する光源と；を具備している。前記第１の発光素子は、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射する。前記第２の発光素子は、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射する。
【選択図】図１
【解決手段】実施形態に係る除菌浄化装置は、シートと、前記シートに坦持された複数の光触媒と、を有する光触媒フィルタと；前記光触媒フィルタと対向し、第１の発光素子と、第２の発光素子と、を有する光源と；を具備している。前記第１の発光素子は、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射する。前記第２の発光素子は、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射する。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
シートと、前記シートに坦持された複数の光触媒と、を有する光触媒フィルタと；
前記光触媒フィルタと対向し、第１の発光素子と、第２の発光素子と、を有する光源と；
を具備し、
前記第１の発光素子は、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射し、
前記第２の発光素子は、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射する除菌浄化装置。
前記光触媒フィルタと対向し、第１の発光素子と、第２の発光素子と、を有する光源と；
を具備し、
前記第１の発光素子は、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射し、
前記第２の発光素子は、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射する除菌浄化装置。
【請求項2】
処理の対象となるガスは、前記光触媒フィルタ側から、前記光触媒フィルタと対向する前記光源側に向けて流れる請求項１記載の除菌浄化装置。
【請求項3】
前記光触媒フィルタと対向し、前記光源側とは反対側に設けられたフィルタをさらに備えた請求項１または２に記載の除菌浄化装置。
【請求項4】
前記光触媒フィルタ側から、前記光触媒フィルタと対向する前記光源側に向けて流れる前記ガスの流れを形成するファンをさらに備えた請求項２記載の除菌浄化装置。
【請求項5】
前記ファンは、前記光源の、前記光触媒フィルタ側とは反対側に設けられている請求項４記載の除菌浄化装置。
【請求項6】
前記シートは、複数の線状体を含む織物であり、
前記複数の線状体は、金属を含む請求項１～５のいずれか１つに記載の除菌浄化装置。
前記複数の線状体は、金属を含む請求項１～５のいずれか１つに記載の除菌浄化装置。
【請求項7】
前記シートのメッシュ数は、５００以下である請求項１～６のいずれか１つに記載の除菌浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明の実施形態は、除菌浄化装置に関する。
【背景技術】
【0002】
健康意識の高まりを反映して、電車や自動車などの車内、冷蔵庫内、居住空間などの所謂、閉鎖空間におけるガスの浄化（例えば、空気の浄化）の要望が高まっている。例えば、食物から発生するアンモニアやエチレンの除去、タバコ煙に含まれるアセトアルデヒドなどのＶＯＣ(Volatile Organic Compounds；揮発性有機化合物）の除去、脱臭などの要求が高まっている。
そのため、複数の発光ダイオードを有する光源と、光触媒が坦持された光触媒フィルタとを備えた光触媒装置が提案されている。
そのため、複数の発光ダイオードを有する光源と、光触媒が坦持された光触媒フィルタとを備えた光触媒装置が提案されている。
【0003】
ここで、一般的には、光触媒フィルタには、いわゆる紫外光応答型の光触媒が用いられる。そのため、光源には、紫外光を照射する発光ダイオードが用いられる。紫外光には殺菌作用があるので、紫外光を照射する発光ダイオードを備えた光触媒装置とすれば、光触媒作用により生成された活性酸素種などによりガスの浄化を行うことができ、且つ、生成された活性酸素種などと、紫外光とにより、細菌やウィルスをある程度除菌したり、不活性化したりすることができる。
【0004】
しかしながら、近年においては、細菌やウィルスなどの除菌や不活性化をより効果的に行うことが求められている。この場合、脱臭などのガスの浄化を行う光触媒装置と、細菌やウィルスなどの除菌や不活性化を行う殺菌装置とを設けることもできるが、この様にすると、装置の大型化、高コスト化、設置スペースの増大などを招くことになる。
そこで、ガスの浄化、および、細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化を行うことができる技術の開発が望まれていた。
そこで、ガスの浄化、および、細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化を行うことができる技術の開発が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１１－２１８０７３号公報
【特許文献2】実用新案登録第３２２８２４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明が解決しようとする課題は、ガスの浄化、および、細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化を行うことができる除菌浄化装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
実施形態に係る除菌浄化装置は、シートと、前記シートに坦持された複数の光触媒と、を有する光触媒フィルタと；前記光触媒フィルタと対向し、第１の発光素子と、第２の発光素子と、を有する光源と；を具備している。前記第１の発光素子は、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射する。前記第２の発光素子は、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射する。
【発明の効果】
【0008】
本発明の実施形態によれば、ガスの浄化、および、細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化を行うことができる除菌浄化装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】本実施の形態に係る除菌浄化装置を例示するための模式分解図である。
【図3】（ａ）、（ｂ）は、他の実施形態に係る除菌浄化装置を例示するための模式断面図である。
【図4】（ａ）、（ｂ）は、比較例に係る除菌浄化装置を例示するための模式断面図である。
【図5】閉鎖空間における浮遊菌の除菌効果を例示するためのグラフである。
【図6】光源と光触媒フィルタの配置の効果について例示するためのグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図１は、本実施の形態に係る除菌浄化装置１を例示するための模式分解図である。
図２は、図１における除菌浄化装置１のＡ－Ａ線方向の模式断面図である。
図１および図２に示すように、除菌浄化装置１は、例えば、フレーム２、蓋３、光源４、および光触媒フィルタ５を有する。
図１は、本実施の形態に係る除菌浄化装置１を例示するための模式分解図である。
図２は、図１における除菌浄化装置１のＡ－Ａ線方向の模式断面図である。
図１および図２に示すように、除菌浄化装置１は、例えば、フレーム２、蓋３、光源４、および光触媒フィルタ５を有する。
【0011】
フレーム２は、箱状を呈している。ガスＧの流入側から見た場合に、フレーム２の輪郭は、図１に例示をしたように略四角形とすることができる。この場合、フレーム２の輪郭は、例えば、略多角形とすることもできる。ただし、後述する光源４および光触媒フィルタ５の着脱やスペース効率を考慮すると、フレーム２の輪郭は、略四角形とすることが好ましい。
【0012】
フレーム２の、一方の端部２ａは開口している。フレーム２の、端部２ａに対向する端部２ｂは塞がっている。フレーム２の、一方の側面２ｃには孔２ｃ１が設けられている。フレーム２の、側面２ｃに対向する側面２ｄには孔２ｄ１が設けられている。
【0013】
側面２ｃの孔２ｃ１、および側面２ｄの孔２ｄ１は、処理の対象となるガスＧの流入口または流出口となる。この場合、図２に示すように、例えば、側面２ｃの孔２ｃ１をガスＧの流入口、側面２ｄの孔２ｄ１をガスＧの流出口とすることができる。なお、側面２ｃの孔２ｃ１をガスＧの流出口、側面２ｄの孔２ｄ１をガスＧの流入口としてもよい。すなわち、ガスＧの流れ方向には特に限定がない。
【0014】
ガスＧは、例えば、空気を主成分とし、処理の対象となる物質、細菌、ウィルスなどを含む気体とすることができる。なお、処理の対象となる物質は、光触媒作用により浄化可能なものであればよい。処理の対象となる物質は、例えば、アンモニア、エチレン、アセトアルデヒドなどのＶＯＣなどとすることができる。
【0015】
また、フレーム２の、側面２ｃおよび側面２ｄの少なくともいずれかにはフィルタや格子などを設けることもできる。フィルタが設けられていれば、フレーム２の内部にゴミなどが吸引されるのを抑制することができる。そのため、ゴミなどが光触媒や発光素子に付着して光触媒作用が低下するのを抑制することができる。格子が設けられていれば、指や異物がフレーム２の内部に侵入するのを抑制することができる。
【0016】
フレーム２の、側面２ｃに交差する側面２ｅには複数の溝２ｅ１が設けられている。フレーム２の、側面２ｅに対向する側面２ｆには複数の溝２ｆ１が設けられている。複数の溝２ｅ１および複数の溝２ｆ１は、フレーム２の内部に開口している。複数の溝２ｅ１および複数の溝２ｆ１は、フレーム２の側面２ｃと側面２ｄとの間に並べて設けられている。複数の溝２ｅ１および複数の溝２ｆ１は、フレーム２の端部２ａと端部２ｂとの間を延びている。
【0017】
溝２ｅ１は、対向する溝２ｆ１と略平行に設けられている。互いに対向する一対の溝２ｅ１、２ｆ１は、いわゆるスロットとなる。光源４および光触媒フィルタ５のそれぞれは、一対の溝２ｅ１、２ｆ１（スロット）に挿入される。一対の溝２ｅ１、２ｆ１に挿入された光触媒フィルタ５は、他の一対の溝２ｅ１、２ｆ１に挿入された光源４と略平行となる。そのため、光源４から照射された光を光触媒フィルタ５に効率よく入射させることができる。
【0018】
光源４および光触媒フィルタ５のそれぞれが挿入される一対の溝２ｅ１、２ｆ１が設けられていれば、光源４および光触媒フィルタ５を、フレーム２の内部に抜き差し自在に設けることができる。そのため、メンテナンス性の向上を図ることができる。
【0019】
フレーム２の材料には、特に限定はない。ただし、フレーム２の材料を熱可塑性樹脂とすれば、射出成形法を用いてフレーム２を形成することができる。そのため、製造コストの低減を図ることができる。
【0020】
例えば、フレーム２の材料は、ＡＢＳ樹脂（アクリルニトリルーブタジエンースチレン共重合合成樹脂）とすることができる。フレーム２の材料が、ＡＢＳ樹脂であれば、成形性の向上と低コスト化を図ることができる。この場合、フレーム２の材料を強化ＡＢＳ樹脂とすれば、フレーム２の強度を向上させることができる。なお、強化ＡＢＳ樹脂は、ＡＢＳ樹脂にガラス繊維などを混合させたものである。
【0021】
また、フレーム２の材料は、例えば、ポリプロピレン樹脂やアクリル樹脂（ポリメタクリル酸メチル樹脂）などであってもよい。この場合、フレーム２の材料が、アクリル樹脂であれば、光源４から照射された紫外光に対する耐性と、ガスＧに含まれるＶＯＣに対する耐性が向上する。また、アクリル樹脂の重合度を１００００～１５０００程度とすれば、発臭を抑制することができる。
【0022】
また、フレーム２の材料は、金属とすることもできる。フレーム２の材料を金属とすれば、除菌浄化装置１の剛性を高めることができる。金属は、例えば、鉄、ステンレス、アルミニウム合金などとすることができる。
【0023】
蓋３は、フレーム２の端部２ａに設けられている。蓋３は、端部２ａに設けられた開口を覆ってる。蓋３が設けられていれば、フレーム２の内部に設けられた光源４および光触媒フィルタ５が、脱離するのを抑制することができる。また、フレーム２の内部にゴミなどが侵入するのを抑制することができる。蓋３は、ネジなどを用いてフレーム２に取り付けることができる。また、蓋３にフックなどを設け、フレーム２に設けられた凹部や凸部にフックを保持させるようにしてもよい。蓋３がフレーム２に着脱自在に設けられていれば、メンテナンス性の向上を図ることができる。蓋３の材料には特に限定がない。例えば、蓋３の材料は、フレーム２の材料と同じとすることができる。
【0024】
光源４は、少なくとも１つ設けることができる。光源４は、フレーム２の内部に設けられる。光源４は、光触媒フィルタ５と対向している。ガスＧの流れ方向において、光源４は、光触媒フィルタ５の上流側に設けられていてもよいし、下流側に設けられていてもよいし、両側に設けられていてもよい。
【0025】
光源４は、例えば、基板４ａ、発光素子４ｂ（第１の発光素子の一例に相当する）、および発光素子４ｃ（第２の発光素子の一例に相当する）を有する。
基板４ａは、板状を呈している。基板４ａはガスＧの流路に設けられる。そのため、基板４ａが設けられていると、ガスＧの流通が妨げられるおそれがある。この場合、厚み方向を貫通する複数の孔を基板４ａに設けることができる。しかしながら、孔の大きさが小さければ圧力損失が大きくなるのでガスＧの流通が妨げられる。孔の大きさを大きくすると、発光素子４ｂ、４ｃと配線パターンの配置や数などに制約が生じる。
基板４ａは、板状を呈している。基板４ａはガスＧの流路に設けられる。そのため、基板４ａが設けられていると、ガスＧの流通が妨げられるおそれがある。この場合、厚み方向を貫通する複数の孔を基板４ａに設けることができる。しかしながら、孔の大きさが小さければ圧力損失が大きくなるのでガスＧの流通が妨げられる。孔の大きさを大きくすると、発光素子４ｂ、４ｃと配線パターンの配置や数などに制約が生じる。
【0026】
そこで、図１に示すように、基板４ａの幅寸法Ｗ１は、光触媒フィルタ５の幅寸法Ｗ２よりも小さくしている。なお、幅寸法は、一対の溝２ｅ１、２ｆ１（スロット）が延びる方向における寸法である。この様にすれば、適切なガスＧの流通を確保することができるとともに、発光素子４ｂ、４ｃと配線パターンの配置や数などに制約が生じるのを抑制することができる。
本発明者の得た知見によれば、「Ｗ１（ｍｍ）／Ｗ２（ｍｍ）」が、０．５より小さければ、適切なガスＧの流通を確保するのが容易となる。
本発明者の得た知見によれば、「Ｗ１（ｍｍ）／Ｗ２（ｍｍ）」が、０．５より小さければ、適切なガスＧの流通を確保するのが容易となる。
【0027】
基板４ａの材料や構造には特に限定はない。例えば、基板４ａは、酸化アルミニウムや窒化アルミニウムなどの無機材料（セラミックス）、紙フェノールやガラスエポキシなどの有機材料などから形成することができる。また、基板４ａは、金属板の表面を絶縁材料で被覆したメタルコア基板などであってもよい。
【0028】
発光素子４ｂ、４ｃの発熱量が多い場合には、放熱性の観点から熱伝導率の高い材料を用いて基板４ａを形成することが好ましい。熱伝導率の高い材料としては、例えば、酸化アルミニウムや窒化アルミニウムなどのセラミックス、高熱伝導性樹脂、メタルコア基板などを例示することができる。高熱伝導性樹脂は、例えば、ＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）やナイロン等の樹脂に、酸化アルミニウムや炭素（カーボン）などからなるフィラーを混合させたものである。
また、基板４ａは、単層構造を有するものであってもよいし、多層構造を有するものであってもよい。
また、基板４ａは、単層構造を有するものであってもよいし、多層構造を有するものであってもよい。
【0029】
発光素子４ｂは、基板４ａの、光触媒フィルタ５と対向する側の面に設けることができる。光触媒フィルタ５が光源４の一方の側に設けられている場合には、発光素子４ｂは、基板４ａの一方の面に設けることができる。光触媒フィルタ５が光源４の両側に設けられている場合には、発光素子４ｂは、基板４ａの両側の面に設けることができる。
【0030】
発光素子４ｂは、例えば、基板４ａの面に設けられた配線パターンと電気的に接続される。発光素子４ｂの形式には特に限定はない。発光素子４ｂは、例えば、ＰＬＣＣ（Plastic Leaded Chip Carrier）型などの表面実装型の発光素子とすることができる。発光素子４ｂは、例えば、砲弾型などのリード線を有する発光素子とすることもできる。
【0031】
また、発光素子４ｂは、ＣＯＢ（Chip On Board）により実装されるものとしてもよい。ＣＯＢにより実装される発光素子４ｂとする場合には、チップ状の発光素子と、発光素子と配線パターンを電気的に接続する配線と、チップ状の発光素子と配線を覆う封止部などと、を基板４ａの上に設けることができる。
【0032】
発光素子４ｂは、少なくとも１つ設けることができる。ただし、複数の発光素子４ｂが設けられていれば、光触媒フィルタ５の広い領域に光を照射することができる。複数の発光素子４ｂは、直列接続することができる。複数の発光素子４ｂの配置には特に限定はないが、基板４ａの面にほぼ均等に設けることが好ましい。複数の発光素子４ｂが、基板４ａの面にほぼ均等に設けられていれば、光触媒フィルタ５の表面に均等に光を照射するのが容易となる。
【0033】
ここで、光触媒５ｂの反応の速度は、光触媒５ｂの吸収波長領域と光強度（光量）によって変化する。そのため、複数の発光素子４ｂの配置や数は、１つの発光素子４ｂが照射する光の光量と、光触媒５ｂを坦持しているシート５ａの面積と、発光素子４ｂの発光面とシート５ａとの間の距離と、に基づいて決定することができる。
例えば、光源４に最も近い光触媒フィルタ５（シート５ａ）の、全面積の６０％以上で、光照射強度が１ｍＷ／ｃｍ２以上となるように、複数の発光素子４ｂの配置や数などを設定することが好ましい。
例えば、光源４に最も近い光触媒フィルタ５（シート５ａ）の、全面積の６０％以上で、光照射強度が１ｍＷ／ｃｍ２以上となるように、複数の発光素子４ｂの配置や数などを設定することが好ましい。
【0034】
発光素子４ｂは、光触媒５ｂが坦持されたシート５ａに向けて所定の波長を有する光を照射する。この場合、光触媒５ｂの材料や組成が変われば、光触媒５ｂの吸収波長領域が変化する。そのため、光触媒５ｂの吸収波長領域に応じて、適切な波長の光を照射する発光素子４ｂを選択する。
【0035】
例えば、光触媒５ｂが、酸化チタンなどを含む紫外光応答型の光触媒であれば、発光素子４ｂは、ピーク波長が、例えば、３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射する発光ダイオードやレーザダイオードなどとすることができる。
また、光触媒５ｂが、酸化タングステンなどの可視光応答型の光触媒であれば、発光素子４ｂは、ピーク波長が、例えば、４０５ｎｍ以上、６００ｎｍ以下の可視光を照射する発光ダイオード、レーザダイオード、有機発光ダイオードなどとすることができる。
この場合、発光素子４ｂはピーク波長が同じものを複数設けることもできるし、ピーク波長が異なるものを複数種類設けることもできる。
また、光触媒５ｂが、酸化タングステンなどの可視光応答型の光触媒であれば、発光素子４ｂは、ピーク波長が、例えば、４０５ｎｍ以上、６００ｎｍ以下の可視光を照射する発光ダイオード、レーザダイオード、有機発光ダイオードなどとすることができる。
この場合、発光素子４ｂはピーク波長が同じものを複数設けることもできるし、ピーク波長が異なるものを複数種類設けることもできる。
【0036】
発光素子４ｃは、基板４ａの、発光素子４ｂが設けられる面に設けることができる。
前述した発光素子４ｂと同様に、発光素子４ｃは、ＰＬＣＣ型などの表面実装型の発光素子、砲弾型などのリード線を有する発光素子、ＣＯＢにより実装されるチップ状の発光素子のいずれであってもよい。
前述した発光素子４ｂと同様に、発光素子４ｃは、ＰＬＣＣ型などの表面実装型の発光素子、砲弾型などのリード線を有する発光素子、ＣＯＢにより実装されるチップ状の発光素子のいずれであってもよい。
【0037】
発光素子４ｃは、少なくとも１つ設けることができる。ただし、複数の発光素子４ｃが設けられていれば、光触媒フィルタ５の広い領域に紫外光を照射することができる。
発光素子４ｃは、例えば、基板４ａの面に設けられた配線パターンと電気的に接続される。この場合、例えば、発光素子４ｃと発光素子４ｂとを直列接続することもできるし、発光素子４ｃと発光素子４ｂとを並列接続することもできる。また、例えば、複数の発光素子４ｃと複数の発光素子４ｂとを直列接続することもできるし、複数の発光素子４ｃと複数の発光素子４ｂとを並列接続することもできる。
発光素子４ｃは、例えば、基板４ａの面に設けられた配線パターンと電気的に接続される。この場合、例えば、発光素子４ｃと発光素子４ｂとを直列接続することもできるし、発光素子４ｃと発光素子４ｂとを並列接続することもできる。また、例えば、複数の発光素子４ｃと複数の発光素子４ｂとを直列接続することもできるし、複数の発光素子４ｃと複数の発光素子４ｂとを並列接続することもできる。
【0038】
複数の発光素子４ｃの配置には特に限定はないが、基板４ａの面にほぼ均等に設けることが好ましい。複数の発光素子４ｃが、基板４ａの面にほぼ均等に設けられていれば、光触媒フィルタ５の表面に均等に光を照射するのが容易となる。例えば、発光素子４ｃと発光素子４ｂとを交互に設けたり、複数の発光素子４ｃからなる列と、複数の発光素子４ｂからなる列とを基板４ａの面の幅方向に並べて設けることができる。なお、図１に例示をした光源４の場合には、１つの発光素子４ｃが基板４ａの略中央に設けられ、発光素子４ｃを挟んで２つの発光素子４ｃが設けられている。
【0039】
発光素子４ｃの数は、発光素子４ｂの数と同じとすることもできるし、異なるものとすることもできる。
例えば、前述した発光素子４ｂと同様に、光源４に最も近い光触媒フィルタ５（シート５ａ）の、全面積の６０％以上で、光照射強度が１ｍＷ／ｃｍ２以上となるように、複数の発光素子４ｃの配置や数などを設定することができる。
例えば、前述した発光素子４ｂと同様に、光源４に最も近い光触媒フィルタ５（シート５ａ）の、全面積の６０％以上で、光照射強度が１ｍＷ／ｃｍ２以上となるように、複数の発光素子４ｃの配置や数などを設定することができる。
【0040】
ここで、ガスＧが、フレーム２の内部を流れた際に、ガスＧに含まれていた細菌やウィルスなどが光触媒フィルタ５（シート５ａ）の表面に付着する場合がある。紫外光には殺菌作用があるので、発光素子４ｂから、例えば、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光が照射されれば、細菌やウィルスをある程度除菌したり、不活性化したりすることができる。
【0041】
しかしながら、近年においては、閉鎖空間におけるガスの浄化とともに、細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化を行うことが求められている。この場合、紫外光のピーク波長が短くなれば殺菌作用が強くなる。
そこで、発光素子４ｃは、発光素子４ｂから照射される紫外光よりもピーク波長が短い紫外光を照射するものとしている。
そこで、発光素子４ｃは、発光素子４ｂから照射される紫外光よりもピーク波長が短い紫外光を照射するものとしている。
【0042】
例えば、発光素子４ｃは、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射する発光ダイオードやレーザダイオードなどとすることができる。この場合、ピーク波長が短くなるほど殺菌作用が強くなるが、発光素子４ｃの価格が高くなる。そのため、発光素子４ｃは、ピーク波長が２７０ｎｍ以上、２８０ｎｍ以下の紫外光を照射する発光ダイオードやレーザダイオードなどとすることが好ましい。
【0043】
この様な発光素子４ｃが設けられていれば、発光素子４ｂから照射される紫外光よりも殺菌作用の強い紫外光を光触媒フィルタ５（シート５ａ）の表面に照射することができるので、細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化を行うことができる。また、フレーム２の内部を流れるガスＧに含まれている細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化も可能となる。
なお、発光素子４ｃの効果に関する詳細は後述する。
なお、発光素子４ｃの効果に関する詳細は後述する。
【0044】
光触媒フィルタ５は、例えば、シート５ａ、および、複数の光触媒５ｂを有する。
シート５ａは、例えば、複数の線状体を織り込んだものである。すなわち、シート５ａは、複数の線状体を含む織物である。
ここで、一般的には、光触媒を坦持するシートは、複数のガラス繊維を用いて形成される。複数のガラス繊維から形成されたシートは剛性が低いので、シートの周縁を保持する枠状部材が必要となる。また、近年においては、処理能力の向上が求められており、シートを透過するガスＧの流量や流速が増加する傾向にある。
シート５ａは、例えば、複数の線状体を織り込んだものである。すなわち、シート５ａは、複数の線状体を含む織物である。
ここで、一般的には、光触媒を坦持するシートは、複数のガラス繊維を用いて形成される。複数のガラス繊維から形成されたシートは剛性が低いので、シートの周縁を保持する枠状部材が必要となる。また、近年においては、処理能力の向上が求められており、シートを透過するガスＧの流量や流速が増加する傾向にある。
【0045】
そのため、シートの中央領域の変形を抑制するために、枠状部材に桟などが設けられる場合がある。枠状部材や桟などが設けられると、発光素子４ｂ、４ｃから照射された光が入射せず、ガスＧも流通することができない領域が生じるので、処理能力の向上を図れなくなる。
【0046】
そこで、本実施の形態に係るシート５ａは、金属を含む複数の線状体から形成されている。線状体の材料は、例えば、ステンレス、ニッケル、モネル、リン青銅、チタン、銅、銅合金、銀、銀合金などである。
線状体の線径（太さ）は、例えば、０．０１６ｍｍ以上、２．０ｍｍ以下とすることができる。
線状体の線径（太さ）は、例えば、０．０１６ｍｍ以上、２．０ｍｍ以下とすることができる。
【0047】
この様な線状体を用いてシート５ａを形成すれば、シート５ａの剛性を高めることができるので、シート５ａを透過するガスＧの流量や流速を増加させることができる。また、補強のための枠状部材や桟などを設ける必要もない。そのため、除菌浄化装置１の処理能力の向上を図ることができる。
【0048】
ここで、線状体が金属を含んでいると、線状体の表面に付着したウィルスなどの感染力がある程度の間維持される。しかしながら、前述したように、発光素子４ｃから照射される紫外光は、殺菌作用が強いので、線状体の表面に付着したウィルスなどの除菌や不活性化を容易に行うことができる。
また、線状体の材料が、銅や銅合金などの銅イオンを発生させる金属であれば、銅イオンにより、線状体の表面に付着したウィルスなどの除菌や不活性化を行うこともできる。
線状体の材料が、銀や銀合金などの銀イオンを発生させる金属であれば、銀イオンにより、線状体の表面に付着したウィルスなどの除菌や不活性化を行うこともできる。
また、線状体の材料が、銅や銅合金などの銅イオンを発生させる金属であれば、銅イオンにより、線状体の表面に付着したウィルスなどの除菌や不活性化を行うこともできる。
線状体の材料が、銀や銀合金などの銀イオンを発生させる金属であれば、銀イオンにより、線状体の表面に付着したウィルスなどの除菌や不活性化を行うこともできる。
【0049】
複数の線状体を織り込むと、隣接する線状体により画された領域に隙間が生ずる。すなわち、シート５ａには、厚み方向を貫通する複数の隙間が設けられる。厚み方向を貫通する複数の隙間が設けられていれば、複数の隙間がガスＧの流路となる。
【0050】
複数の線状体の織り方には特に限定はない。この場合、綾畳折とすれば、シート５ａの厚み方向に曲がりくねった隙間が形成される。綾畳折とすれば、シート５ａの剛性を向上させることができ、圧力損失も低減させることができる。平畳折とすれば、シート５ａの剛性を向上させることができ、圧力損失も低減させることができる。
【0051】
ここで、１インチ（２５．４ｍｍ）の間にある隙間の数、すなわち、メッシュ数が大きくなると、断面積の小さな隙間が設けられることになる。隙間の断面積が小さくなると、隙間を流通するガスＧの圧力損失が大きくなる。この場合、圧力損失が５０Ｐａを越えると、シート５ａを通り抜けるガスＧの流量が少なくなり、所望の処理能力が得られなくなるおそれがある。本発明者の得た知見によれば、メッシュ数を５００以下にすれば、圧力損失を５０Ｐａ以下とすることができる。そのため、メッシュ数は、５００以下とすることが好ましい。
【0052】
複数の光触媒５ｂは、シート５ａに坦持されている。複数の光触媒５ｂは、例えば、粒状体である。光触媒５ｂの種類は、除菌浄化装置１の用途や、ガスＧに含まれる物質などに応じて適宜選択することができる。例えば、光触媒５ｂは、紫外光応答型の光触媒や可視光応答型の光触媒などとすることができる。紫外光応答型の光触媒は、例えば、酸化チタンなどを含んでいる。可視光応答型の光触媒は、例えば、酸化タングステン、窒素などをドープした酸化チタン、異種金属をイオン注入した酸化チタンなどを含んでいる。
【0053】
この場合、前述したように、光触媒５ｂが紫外光応答型の光触媒であれば、発光素子４ｂを、紫外光を照射する発光素子とすることができる。発光素子４ｂから照射される紫外光の波長は、発光素子４ｃから照射される紫外光の波長よりも長いので、発光素子４ｂから照射される紫外光に比べて殺菌作用が弱くなる。しかしながら、発光素子４ｂから紫外光が照射されれば、発光素子４ｃから照射される紫外光による殺菌作用を増強することができる。
【0054】
そのため、光触媒５ｂを、酸化チタンなどの紫外光応答型の光触媒とし、発光素子４ｂを、紫外光を照射する発光ダイオードやレーザダイオードなどとすることが好ましい。
【0055】
光触媒フィルタ５は、少なくとも１つ設けることができる。複数の光触媒フィルタ５を設ける場合には、複数の光触媒フィルタ５を、フレーム２の側面２ｃと側面２ｄの間に並べて設けることができる。光触媒フィルタ５は、光源４と並べて設けることができる。光触媒フィルタ５は、基板４ａの発光素子４ｂ、４ｃが設けられる側に、光源４と並べて設けることができる。
【0056】
光触媒フィルタ５の数には特に限定はない。光触媒フィルタ５の数は、ガスＧの流量、ガスＧに含まれている物質の量、光源４から照射される光の光強度（光量）などに応じて適宜変更することができる。この場合、光触媒フィルタ５の数は、光源４の数と同じとすることもできるし、光源４の数よりも多くすることもできる。
【0057】
ここで、基板４ａの両側の面に発光素子４ｂ、４ｃを設ければ、光触媒フィルタ５と光触媒フィルタ５との間に光源４を設けることができる。光源４と光触媒フィルタ５との間の距離が長くなるほど、または、光源４と光触媒フィルタ５との間に設けられる他の光触媒フィルタ５の数が多くなるほど、光触媒反応の速度が遅くなったり、除菌効果などが低くなったりする。基板４ａの両側の面に発光素子４ｂ、４ｃを設ければ、光触媒フィルタ５と光触媒フィルタ５との間に光源４を設けることができるので、光源４と、光源４から最も遠い光触媒フィルタ５との間の距離を短くすることができる。また、光源４と光触媒フィルタ５との間に設けられる他の光触媒フィルタ５の数を少なくすることができる。そのため、光触媒反応の速度を速くすることができ、且つ、除菌効果などを向上させることができる。
【0058】
光触媒フィルタ５は、例えば、以下のようにして形成することができる。
まず、複数の線状体を織り込んでシート５ａを形成する。
次に、エマルジョン溶液を生成する。
例えば、純水に燐酸などを加えて、ｐＨ（水素イオン濃度）を２～７に調整した水溶液を生成する。
続いて、水溶液に、複数の光触媒５ｂを加える。
以上の様にして、エマルジョン溶液を生成することができる。
まず、複数の線状体を織り込んでシート５ａを形成する。
次に、エマルジョン溶液を生成する。
例えば、純水に燐酸などを加えて、ｐＨ（水素イオン濃度）を２～７に調整した水溶液を生成する。
続いて、水溶液に、複数の光触媒５ｂを加える。
以上の様にして、エマルジョン溶液を生成することができる。
【0059】
次に、シート５ａをエマルジョン溶液に１０分間程度浸漬させる。
次に、エマルジョン溶液からシート５ａを引き上げて乾燥させる。
乾燥は、加熱乾燥とすることができる。
以上の様にして、光触媒フィルタ５を形成することができる。
次に、エマルジョン溶液からシート５ａを引き上げて乾燥させる。
乾燥は、加熱乾燥とすることができる。
以上の様にして、光触媒フィルタ５を形成することができる。
【0060】
図３（ａ）、（ｂ）は、他の実施形態に係る除菌浄化装置１ａを例示するための模式断面図である。
なお、図３（ｂ）は、図３（ａ）における除菌浄化装置１ａのＢ－Ｂ線方向の模式断面図である。
図４（ａ）、（ｂ）は、比較例に係る除菌浄化装置１００を例示するための模式断面図である。
なお、図４（ｂ）は、図４（ａ）における除菌浄化装置１００のＣ－Ｃ線方向の模式断面図である。
なお、図３（ｂ）は、図３（ａ）における除菌浄化装置１ａのＢ－Ｂ線方向の模式断面図である。
図４（ａ）、（ｂ）は、比較例に係る除菌浄化装置１００を例示するための模式断面図である。
なお、図４（ｂ）は、図４（ａ）における除菌浄化装置１００のＣ－Ｃ線方向の模式断面図である。
【0061】
まず、比較例に係る除菌浄化装置１００について説明する。
図４（ａ）、（ｂ）に示すように、除菌浄化装置１００は、フレーム２、蓋３、光源４、光触媒フィルタ５、フィルタ６、およびファン７を有する。
フィルタ６は、例えば、フレーム２の、側面２ｄに設けられている。
ファン７は、例えば、フレーム２の、側面２ｃに設けられている。
図４（ａ）、（ｂ）に示すように、除菌浄化装置１００は、フレーム２、蓋３、光源４、光触媒フィルタ５、フィルタ６、およびファン７を有する。
フィルタ６は、例えば、フレーム２の、側面２ｄに設けられている。
ファン７は、例えば、フレーム２の、側面２ｃに設けられている。
【0062】
ファン７により、フレーム２の内部にあるガスＧが排気されることで、フレーム２の外部にあるガスＧがフィルタ６を介して、フレーム２の内部に導入される。
そのため、図４（ｂ）に示すように、フレーム２の内部に、フィルタ６側からファン７側に向けて流れるガスＧの流れが形成される。
そのため、図４（ｂ）に示すように、フレーム２の内部に、フィルタ６側からファン７側に向けて流れるガスＧの流れが形成される。
【0063】
ここで、発光素子４ｂ、４ｃには、封止材としてシリコーン樹脂が用いられている。シリコーン樹脂は紫外線に対する耐性が高いが、発光素子４ｂ、４ｃが紫外線を照射した際にシリコーン樹脂の一部が分解する場合がある。この場合、照射される紫外線のピーク波長が短くなるほどシリコーン樹脂の分解が生じ易くなる。そのため、発光素子４ｃに用いられているシリコーン樹脂の分解がさらに生じ易くなる。
【0064】
また、発光素子４ｂ、４ｃが紫外線を照射した際に熱が発生する。発生した熱により、シリコーン樹脂が加熱されると、シリコーン樹脂の分解がさらに生じ易くなる。
シリコーン樹脂が分解されると、シリコーン樹脂の成分を含むガスが、発光素子４ｂ、４ｃから放出される。発光素子４ｂ、４ｃから放出されたガスは、フレーム２の内部を流れるガスＧの流れに乗ってフレーム２の外部に排出される。
シリコーン樹脂が分解されると、シリコーン樹脂の成分を含むガスが、発光素子４ｂ、４ｃから放出される。発光素子４ｂ、４ｃから放出されたガスは、フレーム２の内部を流れるガスＧの流れに乗ってフレーム２の外部に排出される。
【0065】
この際、図４（ｂ）に示すように、フレーム２の内部を流れるガスＧの流れの上流側に光源４（発光素子４ｂ、４ｃ）が設けられ、光源４よりも下流側に光触媒フィルタ５が設けられていると、ガスＧに含まれているシリコーン樹脂の成分が、光触媒フィルタ５の光触媒５ｂに付着しやすくなる。シリコーン樹脂の成分が光触媒５ｂに付着すると、紫外線が光触媒５ｂに入射し難くなったり、処理の対象となるガスＧが光触媒５ｂに接触しにくくなったりする。そのため、除菌浄化装置１００の機能（ガスの浄化、細菌やウィルスなどの除菌や不活性化など）が経時的に低下するおそれがある。
【0066】
図３（ａ）、（ｂ）に示すように、他の実施形態に係る除菌浄化装置１ａは、フレーム２、蓋３、光源４、光触媒フィルタ５、フィルタ６、およびファン７を有する。
除菌浄化装置１ａにおいては、フィルタ６は、例えば、フレーム２の、側面２ｃに設けられている。フィルタ６は、光触媒フィルタ５と対向し、光源４側とは反対側に設けられている。フィルタ６は、フレーム２の内部にゴミなどが吸引されるのを抑制するために設けられている。
除菌浄化装置１ａにおいては、フィルタ６は、例えば、フレーム２の、側面２ｃに設けられている。フィルタ６は、光触媒フィルタ５と対向し、光源４側とは反対側に設けられている。フィルタ６は、フレーム２の内部にゴミなどが吸引されるのを抑制するために設けられている。
【0067】
ファン７は、例えば、フレーム２の、側面２ｄに設けられている。ファン７は、光源４の、光触媒フィルタ５側とは反対側に設けられている。ファン７は、フレーム２の内部にあるガスＧを排気する。ファン７は、光触媒フィルタ５側から、光触媒フィルタ５と対向する光源４側に向けて流れるガスＧの流れを形成する。
【0068】
ファン７により、フレーム２の内部にあるガスＧが排気されることで、フレーム２の外部にあるガスＧがフィルタ６を介して、フレーム２の内部に導入される。
そのため、図３（ｂ）に示すように、フレーム２の内部に、フィルタ６側からファン７側に向けて流れるガスＧの流れが形成される。
すなわち、処理の対象となるガスＧは、光触媒フィルタ５側から、光触媒フィルタ５と対向する光源４側に向けて流れる。
そのため、図３（ｂ）に示すように、フレーム２の内部に、フィルタ６側からファン７側に向けて流れるガスＧの流れが形成される。
すなわち、処理の対象となるガスＧは、光触媒フィルタ５側から、光触媒フィルタ５と対向する光源４側に向けて流れる。
【0069】
図３（ｂ）に示すように、除菌浄化装置１ａにおいては、フレーム２の内部を流れるガスＧの流れの上流側に光触媒フィルタ５が設けられ、光触媒フィルタ５よりも下流側に光源４（発光素子４ｂ、４ｃ）が設けられている。なお、図２に示すように、除菌浄化装置１においても、ガスＧの流れの上流側に光触媒フィルタ５が設けられ、光触媒フィルタ５よりも下流側に光源４が設けられている。
そのため、シリコーン樹脂の成分を含むガスが、発光素子４ｂ、４ｃから放出されたとしても、ガスＧの流れにより、放出されたガスが光触媒フィルタ５に到達するのが阻害される。
その結果、除菌浄化装置１ａの機能（ガスの浄化、細菌やウィルスなどの除菌や不活性化など）が経時的に低下するのを抑制することができる。
なお、光源４と光触媒フィルタ５の配置の効果に関する詳細は後述する。
そのため、シリコーン樹脂の成分を含むガスが、発光素子４ｂ、４ｃから放出されたとしても、ガスＧの流れにより、放出されたガスが光触媒フィルタ５に到達するのが阻害される。
その結果、除菌浄化装置１ａの機能（ガスの浄化、細菌やウィルスなどの除菌や不活性化など）が経時的に低下するのを抑制することができる。
なお、光源４と光触媒フィルタ５の配置の効果に関する詳細は後述する。
【0070】
次に、発光素子４ｃの効果についてさらに説明する。
図５は、閉鎖空間における浮遊菌の除菌効果を例示するためのグラフである。
図５中のＤ１は、発光素子４ｂのみが設けられた場合である。
図５中のＤ２は、発光素子４ｂと発光素子４ｃが設けられた場合である。すなわち、Ｄ２は、除菌浄化装置１の場合である。
浮遊菌の除菌効果の確認は、チャンバの内部で行った。閉鎖空間の体積は、１ｍ３とした。閉鎖空間に含まれるガスは、浮遊菌を含む空気とした。
図５は、閉鎖空間における浮遊菌の除菌効果を例示するためのグラフである。
図５中のＤ１は、発光素子４ｂのみが設けられた場合である。
図５中のＤ２は、発光素子４ｂと発光素子４ｃが設けられた場合である。すなわち、Ｄ２は、除菌浄化装置１の場合である。
浮遊菌の除菌効果の確認は、チャンバの内部で行った。閉鎖空間の体積は、１ｍ３とした。閉鎖空間に含まれるガスは、浮遊菌を含む空気とした。
【0071】
発光素子４ｂは、ピーク波長が４００ｎｍ、光量が３５００ｍＷ（順方向電流３５０ｍＡ）の紫外光を照射する発光ダイオードとした。
発光素子４ｃは、ピーク波長が２８０ｎｍ、光量が１４０ｍＷ（順方向電流３５０ｍＡ）の紫外光を照射する発光ダイオードとした。
光触媒フィルタ５の光触媒５ｂは、酸化チタンを含み、平均粒度が約２００μｍの粒子とした。
光触媒フィルタ５のシート５ａは、ステンレスの線状体を織り込んだものとし、メッシュ数は２００とした。
発光素子４ｃは、ピーク波長が２８０ｎｍ、光量が１４０ｍＷ（順方向電流３５０ｍＡ）の紫外光を照射する発光ダイオードとした。
光触媒フィルタ５の光触媒５ｂは、酸化チタンを含み、平均粒度が約２００μｍの粒子とした。
光触媒フィルタ５のシート５ａは、ステンレスの線状体を織り込んだものとし、メッシュ数は２００とした。
【0072】
図５中のＤ１から分かるように、発光素子４ｂのみが設けられた場合には、通電開始から３０分経過後の浮遊菌の除去率は４５％程度であった。
これに対し、図５中のＤ２から分かるように、発光素子４ｂと発光素子４ｃが設けられた場合には、通電開始から３０分経過後の浮遊菌の除去率は９９％以上とすることができた。
ちなみに、発光素子４ｂのみが設けられた場合には、浮遊菌の除去率が９９％となる時間は１３１分であった。
発光素子４ｂと発光素子４ｃが設けられた場合には、浮遊菌の除去率が９９％となる時間は２６分であった。
これに対し、図５中のＤ２から分かるように、発光素子４ｂと発光素子４ｃが設けられた場合には、通電開始から３０分経過後の浮遊菌の除去率は９９％以上とすることができた。
ちなみに、発光素子４ｂのみが設けられた場合には、浮遊菌の除去率が９９％となる時間は１３１分であった。
発光素子４ｂと発光素子４ｃが設けられた場合には、浮遊菌の除去率が９９％となる時間は２６分であった。
【0073】
なお、発光素子４ｂが設けられていれば、発光素子４ｂから照射された光が、触媒フィルタ５のシート５ａに坦持された光触媒５ｂに入射するので、活性酸素種などを生成することができる。活性酸素種などが生成されれば、ガスＧに含まれている物質を活性酸素種などより処理することができる。すなわち、ガスＧの浄化も併せて行うことができる。
【0074】
次に、光源４と光触媒フィルタ５の配置の効果についてさらに説明する。
図６は、光源４と光触媒フィルタ５の配置の効果について例示するためのグラフである。
図６は、アセトアルデヒドに対する脱臭性能の時間変化を表したものである。また、縦軸の脱臭性能維持率は、「（所定の時間経過後の脱臭性能／初期の脱臭性能）×１００」である。
なお、図６中のＥ１は、前述した比較例に係る除菌浄化装置１００の場合である。すなわち、ガスＧの流れの上流側に光源４が設けられ、光源４よりも下流側に光触媒フィルタ５が設けられた場合である。
図６中のＥ２は、前述した除菌浄化装置１、１ａの場合である。すなわち、ガスＧの流れの上流側に光触媒フィルタ５が設けられ、光触媒フィルタ５よりも下流側に光源４が設けられた場合である。
図６は、光源４と光触媒フィルタ５の配置の効果について例示するためのグラフである。
図６は、アセトアルデヒドに対する脱臭性能の時間変化を表したものである。また、縦軸の脱臭性能維持率は、「（所定の時間経過後の脱臭性能／初期の脱臭性能）×１００」である。
なお、図６中のＥ１は、前述した比較例に係る除菌浄化装置１００の場合である。すなわち、ガスＧの流れの上流側に光源４が設けられ、光源４よりも下流側に光触媒フィルタ５が設けられた場合である。
図６中のＥ２は、前述した除菌浄化装置１、１ａの場合である。すなわち、ガスＧの流れの上流側に光触媒フィルタ５が設けられ、光触媒フィルタ５よりも下流側に光源４が設けられた場合である。
【0075】
比較例に係る除菌浄化装置１００のように、ガスＧの流れの上流側に光源４が設けられ、光源４よりも下流側に光触媒フィルタ５が設けられた場合には、図６中のＥ１から分かるように、動作開始から１６００時間経過後の脱臭性能維持率は１９％となった。
これに対して、除菌浄化装置１、１ａの場合のように、ガスＧの流れの上流側に光触媒フィルタ５が設けられ、光触媒フィルタ５よりも下流側に光源４が設けられた場合には、図６中のＥ２から分かるように、動作開始から１６００時間経過後の脱臭性能維持率は８４％となった。
すなわち、ガスＧの流れの上流側に光触媒フィルタ５が設けられ、光触媒フィルタ５よりも下流側に光源４が設けられた場合には、脱臭性能維持率を大幅に向上させることができた。
これに対して、除菌浄化装置１、１ａの場合のように、ガスＧの流れの上流側に光触媒フィルタ５が設けられ、光触媒フィルタ５よりも下流側に光源４が設けられた場合には、図６中のＥ２から分かるように、動作開始から１６００時間経過後の脱臭性能維持率は８４％となった。
すなわち、ガスＧの流れの上流側に光触媒フィルタ５が設けられ、光触媒フィルタ５よりも下流側に光源４が設けられた場合には、脱臭性能維持率を大幅に向上させることができた。
【0076】
以上に説明した様に、本実施の形態に係る除菌浄化装置１とすれば、ガスの浄化、および、細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化を行うことができる。
以上、本発明のいくつかの実施形態を例示したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更などを行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、前述の各実施形態は、相互に組み合わせて実施することができる。
以上、本発明のいくつかの実施形態を例示したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更などを行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、前述の各実施形態は、相互に組み合わせて実施することができる。
【符号の説明】
【0077】
１ 除菌浄化装置、１ａ 除菌浄化装置、２ フレーム、３ 蓋、４ 光源、４ａ 基板、４ｂ 発光素子、４ｃ 発光素子、５ 光触媒フィルタ、５ａ シート、５ｂ 光触媒、６ フィルタ、７ ファン、Ｇ ガス
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【手続補正書】
【提出日】2021-09-06
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
シートと、前記シートに坦持された複数の光触媒と、を有する光触媒フィルタと；
前記光触媒フィルタと対向し、第１の発光素子と、第２の発光素子と、を有する光源と；
を具備し、
前記第１の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射し、
前記第２の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射し、
処理の対象となるガスは、前記光触媒フィルタ側から、前記光触媒フィルタと対向する前記光源側に向けて流れ、
前記紫外光を照射する前記第１の発光素子と、前記紫外光を照射する前記第２の発光素子と、を有する前記光源は、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの下流側に設けられ、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの上流側には設けられていない除菌浄化装置。
前記光触媒フィルタと対向し、第１の発光素子と、第２の発光素子と、を有する光源と；
を具備し、
前記第１の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射し、
前記第２の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射し、
処理の対象となるガスは、前記光触媒フィルタ側から、前記光触媒フィルタと対向する前記光源側に向けて流れ、
前記紫外光を照射する前記第１の発光素子と、前記紫外光を照射する前記第２の発光素子と、を有する前記光源は、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの下流側に設けられ、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの上流側には設けられていない除菌浄化装置。
【請求項2】
箱状を呈し、前記光源と前記光触媒フィルタとが収納されるフレームをさらに備え、
前記フレームの内壁には、互いに対向する一対の溝が並べて複数組設けられ、
前記光触媒フィルタは、前記一対の溝に抜き差し自在に設けられ、
前記光源は、前記光触媒フィルタが設けられる前記一対の溝の、前記ガスの流れの下流側に位置する他の前記一対の溝に抜き差し自在に設けられる請求項１記載の除菌浄化装置。
前記フレームの内壁には、互いに対向する一対の溝が並べて複数組設けられ、
前記光触媒フィルタは、前記一対の溝に抜き差し自在に設けられ、
前記光源は、前記光触媒フィルタが設けられる前記一対の溝の、前記ガスの流れの下流側に位置する他の前記一対の溝に抜き差し自在に設けられる請求項１記載の除菌浄化装置。
【請求項3】
前記光触媒フィルタと対向し、前記光源側とは反対側に設けられたフィルタをさらに備えた請求項１または２に記載の除菌浄化装置。
【請求項4】
前記光触媒フィルタ側から、前記光触媒フィルタと対向する前記光源側に向けて流れる前記ガスの流れを形成するファンをさらに備えた請求項１～３のいずれか１つに記載の除菌浄化装置。
【請求項5】
前記ファンは、前記光源の、前記光触媒フィルタ側とは反対側に設けられている請求項４記載の除菌浄化装置。
【請求項6】
前記シートは、複数の線状体を含む織物であり、
前記複数の線状体は、金属を含む請求項１～５のいずれか１つに記載の除菌浄化装置。
前記複数の線状体は、金属を含む請求項１～５のいずれか１つに記載の除菌浄化装置。
【請求項7】
前記シートのメッシュ数は、５００以下である請求項１～６のいずれか１つに記載の除菌浄化装置。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0007】
実施形態に係る除菌浄化装置は、シートと、前記シートに坦持された複数の光触媒と、を有する光触媒フィルタと；前記光触媒フィルタと対向し、第１の発光素子と、第２の発光素子と、を有する光源と；を具備している。前記第１の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射する。前記第２の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射する。処理の対象となるガスは、前記光触媒フィルタ側から、前記光触媒フィルタと対向する前記光源側に向けて流れ、前記紫外光を照射する前記第１の発光素子と、前記紫外光を照射する前記第２の発光素子と、を有する前記光源は、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの下流側に設けられ、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの上流側には設けられていない。
【手続補正書】
【提出日】2021-11-17
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項1】
シートと、前記シートに坦持された複数の光触媒と、を有する光触媒フィルタと；
前記光触媒フィルタと対向する基板と、前記基板の、前記光触媒フィルタと対向する面に設けられた第１の発光素子および第２の発光素子と、を有する光源と；
箱状を呈し、前記光源と前記光触媒フィルタとが収納されるフレームと；
を具備し、
前記第１の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射し、
前記第２の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射し、
処理の対象となるガスは、前記フレームの内部を、前記光触媒フィルタ側から、前記光触媒フィルタと対向する前記光源側に向けて流れ、
前記第２の発光素子は、前記第１の発光素子よりも、前記フレームの中央側に設けられ、
前記光源は、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの下流側に設けられ、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの上流側には設けられていない除菌浄化装置。
前記光触媒フィルタと対向する基板と、前記基板の、前記光触媒フィルタと対向する面に設けられた第１の発光素子および第２の発光素子と、を有する光源と；
箱状を呈し、前記光源と前記光触媒フィルタとが収納されるフレームと；
を具備し、
前記第１の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射し、
前記第２の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射し、
処理の対象となるガスは、前記フレームの内部を、前記光触媒フィルタ側から、前記光触媒フィルタと対向する前記光源側に向けて流れ、
前記第２の発光素子は、前記第１の発光素子よりも、前記フレームの中央側に設けられ、
前記光源は、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの下流側に設けられ、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの上流側には設けられていない除菌浄化装置。
【手続補正2】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項2】
前記フレームの内壁には、互いに対向する一対の溝が並べて複数組設けられ、
前記光触媒フィルタは、前記一対の溝に抜き差し自在に設けられ、
前記光源は、前記光触媒フィルタが設けられる前記一対の溝の、前記ガスの流れの下流側に位置する他の前記一対の溝に抜き差し自在に設けられる請求項１記載の除菌浄化装置。
前記光触媒フィルタは、前記一対の溝に抜き差し自在に設けられ、
前記光源は、前記光触媒フィルタが設けられる前記一対の溝の、前記ガスの流れの下流側に位置する他の前記一対の溝に抜き差し自在に設けられる請求項１記載の除菌浄化装置。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0007】
実施形態に係る除菌浄化装置は、シートと、前記シートに坦持された複数の光触媒と、を有する光触媒フィルタと；前記光触媒フィルタと対向する基板と、前記基板の、前記光触媒フィルタと対向する面に設けられた第１の発光素子および第２の発光素子と、を有する光源と；箱状を呈し、前記光源と前記光触媒フィルタとが収納されるフレームと；を具備している。前記第１の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が３１５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の紫外光を照射する。前記第２の発光素子は、封止材としてシリコーン樹脂を含み、ピーク波長が２８０ｎｍ以下の紫外光を照射する。処理の対象となるガスは、前記フレームの内部を、前記光触媒フィルタ側から、前記光触媒フィルタと対向する前記光源側に向けて流れ、前記第２の発光素子は、前記第１の発光素子よりも、前記フレームの中央側に設けられ、前記光源は、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの下流側に設けられ、前記光触媒フィルタの、前記ガスの流れの上流側には設けられていない。