(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022140237
(43)【公開日】2022-09-26
(54)【発明の名称】栽培方法および栽培装置
(51)【国際特許分類】
A01G 7/00 20060101AFI20220915BHJP
A01G 22/05 20180101ALI20220915BHJP
A01G 22/15 20180101ALI20220915BHJP
A01G 22/60 20180101ALI20220915BHJP
【ＦＩ】
A01G7/00 601C
A01G22/05 Z
A01G22/15
A01G22/60
【審査請求】未請求
【請求項の数】4
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021144985
(22)【出願日】2021-09-06
(31)【優先権主張番号】P 2021038658
(32)【優先日】2021-03-10
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】591079487
【氏名又は名称】広島県
(71)【出願人】
【識別番号】504224153
【氏名又は名称】国立大学法人 宮崎大学
(74)【代理人】
【識別番号】110000338
【氏名又は名称】特許業務法人ＨＡＲＡＫＥＮＺＯ ＷＯＲＬＤ ＰＡＴＥＮＴ ＆ ＴＲＡＤＥＭＡＲＫ
(72)【発明者】
【氏名】松浦 昌平
(72)【発明者】
【氏名】竹下 稔
【テーマコード（参考）】
2B022
【Ｆターム（参考）】
2B022AA01
2B022AB11
2B022AB15
2B022AB17
2B022DA01
2B022DA08
(57)【要約】
【課題】キク科またはナス科の植物の、ウイルス病の発病を防止しながらＵＶ障害の発生を十分に低減する。
【解決手段】キク科またはナス科の植物（４）の栽培方法であって、ＬＥＤ光源（１ａ）を用いて、２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有する光を、１日当たり暗期に０．６ｋＪ／ｍ２以上１．２ｋＪ／ｍ２未満の照射量で、植物（４）に照射する工程を含む。
【選択図】図１
【解決手段】キク科またはナス科の植物（４）の栽培方法であって、ＬＥＤ光源（１ａ）を用いて、２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有する光を、１日当たり暗期に０．６ｋＪ／ｍ２以上１．２ｋＪ／ｍ２未満の照射量で、植物（４）に照射する工程を含む。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ＬＥＤ光源を用いてキク科またはナス科の植物に光を照射する工程を含み、当該工程では、２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有する光を、１日当たり暗期に０．６ｋＪ／ｍ２以上１．２ｋＪ／ｍ２未満の照射量で、前記植物に照射することを特徴とする、栽培方法。
【請求項2】
前記光は、半値幅が、ピーク波長±６ｎｍの波長範囲に含まれる、請求項１に記載の栽培方法。
【請求項3】
前記暗期は、前記光の照射量に対する可視光の照射量の割合が１０％以下となる期間であることを特徴とする、請求項１または２に記載の栽培方法。
【請求項4】
２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有する光を、１日当たり暗期に０．６ｋＪ／ｍ２以上１．２ｋＪ／ｍ２未満の照射量で、キク科またはナス科の植物に照射可能なＬＥＤ光源を備えることを特徴とする、栽培装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ウイルス病の発病を低減可能な、キク科またはナス科の植物の栽培方法および栽培装置に関する。
【背景技術】
【0002】
黄化えそウイルス（以下、「ＴＳＷＶ」と略称する）およびトマトモザイクウイルス（以下、「ＴｏＭＶ」と略称する）等の、植物にえそ症状を発症させるウイルスは、微小昆虫または感染した植物汁液を介して容易に伝搬する。そのため、これらのウイルスはキク科またはナス科の植物の管理作業または土壌汚染等を介して伝染し、これらの植物の生産に大きな被害をもたらす。このような被害は日本をはじめ、全世界的に広がっており、重大な問題となっている。
【0003】
特許文献１には、波長２８０～２９０ｎｍの深紫外光（ＵＶ－Ｂ）をトマト苗に０．７～１．４ｋＪ／ｍ２の照射量で照射することで、トマトに抵抗性を誘導し、ＴｏＭＶへの感染および発病を低減する技術が開示されている。なお、非特許文献１には、特許文献１に記載の深紫外光の照射実験が明期に行われたものであることが示されている。
【0004】
また、特許文献２には、上述の深紫外光をトマト苗に、１日当たり暗期に０．３～０．４ｋＪ／ｍ２の照射量で照射することで、ＵＶ障害を低減しながら、ＴｏＭＶへの感染および発病を低減する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１６－７１８５号公報
【特許文献2】特開２０１９－１６２０５９号公報
【非特許文献】
【0006】
【非特許文献1】S Matsuura et. al.，"Suppression of Tomato mosaic virus disease in tomato plants by deep ultraviolet irradiation using light-emitting diodes", Letters in Applied Microbiology 59, p457-463，2014.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、特許文献１および特許文献２に記載の技術は、トマトへのＴｏＭＶの感染および発病は低減できるが、葉の褐変および巻葉等のＵＶ障害の発生については、未だ改善の余地がある。ＵＶ障害の程度をさらに低減できれば、作物の品質への悪影響が回避でき商品価値のさらなる向上が期待できる。これは、キク等の鑑賞用植物では葉も商品に含まれるため、特に重要である。また、特許文献１および特許文献２に記載の技術は、トマト以外の植物に対する効果は不明である。
【0008】
本発明の一態様は、キク科またはナス科の植物において、ウイルス病の発病を低減しながら、ＵＶ障害の発生を十分に低減できる栽培方法等を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
前記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る栽培方法は、ＬＥＤ光源を用いてキク科またはナス科の植物に光を照射する工程を含み、当該工程では、２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有する光を、１日当たり暗期に０．６ｋＪ／ｍ２以上１．２ｋＪ／ｍ２未満の照射量で、前記植物に照射する。
【0010】
本発明の一態様に係る栽培方法は、前記光は、半値幅が、ピーク波長±６ｎｍの波長範囲に含まれてもよい。
【0011】
本発明の一態様に係る栽培方法は、前記暗期は、前記光の照射量に対する可視光の照射量の割合が１０％以下となる期間であってもよい。
【0012】
前記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る栽培装置は、２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有する光を、１日当たり暗期に０．６ｋＪ／ｍ２以上１．２ｋＪ／ｍ２未満の照射量で、キク科またはナス科の植物に照射可能なＬＥＤ光源を備える。
【発明の効果】
【0013】
本発明の一態様によれば、キク科またはナス科の植物において、ウイルス病の発病を防止しながら、ＵＶ障害の発生を十分に低減できる栽培方法等を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【図1】一実施形態に係る植物の栽培装置の概要構成を示す模式図である。
【図2】キクへの光照射による、ＴＳＷＶ発病指数への影響を示すグラフである。
【図3】キクへの光照射による、ＴＳＷＶ蓄積量への影響を示すグラフである。
【図4】タバコへの光照射による、ＴＳＷＶ輪紋病斑数への影響を示すグラフである。
【図5】タバコへの光照射による、ＴＳＷＶ低減効果を示す写真を表す図である。
【図6】タバコへの光照射による、ＴＳＷＶ局部病斑数への影響を示すグラフである。
【図7】タバコへの光照射による、ＴＳＷＶ病斑面積率への影響を示すグラフである。
【図8】トマトへの光照射による、ＴｏＭＶ発病指数への影響を示すグラフである。
【図9】トマトへの光照射による、ＴｏＭＶ蓄積量への影響を示すグラフである。
【図10】トマトへの光照射による、ＴｏＭＶ局部病斑数への影響を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下、本発明の一実施形態について説明する。なお、以下の記載は発明の趣旨をより良く理解させるためのものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。また、本明細書において「Ａ～Ｂ」とは、特に指定しない限りＡ以上Ｂ以下であることを示している。
【0016】
〔栽培装置〕
図１の符号１０１は、本発明の一実施形態に係る植物の栽培装置１０の概要構成を示す模式図である。また、図１の符号１０２は、栽培装置１０が備える光照射モジュール１の外観構成を示す模式図である。図１の符号１０１に示すように、栽培装置１０は、光照射モジュール１と、支持棒２と、電気コード３とを備える。光照射モジュール１は、ガラス温室またはビニールハウス内で、所定の波長のＵＶ（紫外線）を、所定の照射量により均一照射できるモジュールである。光照射モジュール１が照射するＵＶは、特許請求の範囲に記載の「光」の一例である。
図１の符号１０１は、本発明の一実施形態に係る植物の栽培装置１０の概要構成を示す模式図である。また、図１の符号１０２は、栽培装置１０が備える光照射モジュール１の外観構成を示す模式図である。図１の符号１０１に示すように、栽培装置１０は、光照射モジュール１と、支持棒２と、電気コード３とを備える。光照射モジュール１は、ガラス温室またはビニールハウス内で、所定の波長のＵＶ（紫外線）を、所定の照射量により均一照射できるモジュールである。光照射モジュール１が照射するＵＶは、特許請求の範囲に記載の「光」の一例である。
【0017】
支持棒２は、針金を介して天井から吊り下げられており、１本の支持棒２に対して複数台の光照射モジュール１が設置されている。なお、支持棒２の設置方法は、このような態様に限定されず、光照射モジュール１からのＵＶが植物４に問題なく照射され、光照射モジュール１を備えた支持棒２の設置位置を固定できる態様であれば、どのような設置方法を採用してもよい。
【0018】
植物４は、光照射モジュール１からＵＶを照射することで、えそ症状の原因となるウイルス（以下、単に「ウイルス」と称する場合がある）への感染および発病が低減され得る植物である。このようなウイルスとしては、例えば、ＴＳＷＶ、茎えそウイルス（ＣＳＮＶ）およびＴｏＭＶが挙げられる。植物４は、キク科の植物またはナス科の植物である。キク科の植物としては、例えば、キク、ガーベラ、ダリア、マリーゴールド、マーガレット、レタスおよびシュンギクが挙げられる。ナス科の植物としては、例えば、トマト、タバコ、ナス、ジャガイモ、トウガラシ、シシトウ、ピーマンおよびペチュニアが挙げられる。ただし、植物４の例はこれに限られず、キク科またはナス科の植物であれば、特に限定されない。
【0019】
図１の符号１０２に示すように、光照射モジュール１は、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）光源１ａと、電気コード３とを備える。光照射モジュール１は、電気コード３によって電源（不図示）に電気的に接続されている。また、光照射モジュール１は、全体形状が略直方体形状を為している。ＬＥＤ光源１ａは、光照射モジュール１の略直方体形状の一面を為す略四角形状の底面の中央付近に設けられている。本実施形態では、１台の光照射モジュール１に対して１つのＬＥＤ光源１ａ（実装ＬＥＤチップ）を設けている。なお、１台の光照射モジュール１に対して２つ以上のＬＥＤ光源１ａを設けてもよい。また、光照射モジュール１は、湿度対策のためＬＥＤチップを石英ガラスで覆ったタイプのモジュールでもよい。
【0020】
ＬＥＤ光源１ａは、２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有するＵＶを照射可能な光源である。ＬＥＤ光源１ａは、２９０ｎｍ以上２９２ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有するＵＶを照射可能であることがより好ましい。光照射モジュール１は、ＬＥＤ光源１ａによりＵＶを照射する。
【0021】
従来、有効波長成分として２８０ｎｍ以上２９０ｎｍ以下の波長域の深紫外光（以下、「従来のＵＶ」と称する場合がある）をトマトに照射すると、ＴｏＭＶ感染および発病を低減できることが知られていた。これは、従来のＵＶが照射されたトマトにおいて、感染特異的タンパク質（Pathogenesis-related protein）をコードする遺伝子等、ウイルスに対して抵抗性を示す遺伝子の発現が誘導されることが要因と考えられる。このような遺伝子発現誘導の結果、従来のＵＶが照射されたトマトは、ウイルスに対して抵抗性を獲得し、ウイルス感染および発病が低減すると考えられる。
【0022】
しかしながら、トマト等の植物に対してこのような従来のＵＶを照射すると、ＵＶ障害が生じてしまう。ＵＶ障害とは、植物へのＵＶ照射に起因して起こり得る植物の変化のうち、形態上好ましくない変化である。ＵＶ障害としては、例えば、褐変等の葉色の変化、巻葉等の葉形状の変化およびクチクラ層の発達による葉の光沢上昇が挙げられる。
【0023】
これまで、トマトに生じるＵＶ障害を低減するために、従来のＵＶの照射量を制限する等の試みがなされてきた。しかしながら、植物へのウイルス感染の低減と、ＵＶ障害の低減とを両立するために最適なＵＶの特性については、明らかではなかった。
【0024】
本発明者らは、照射可能なＵＶの波長が段階的に異なる複数のＬＥＤ光源を用いて、植物４へのＵＶ照射実験を行った。その結果、本発明者らは、２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有するＵＶであれば、植物４に対するウイルス抵抗性の誘導効果と、ＵＶ障害の低減効果とのバランスが最適であることを突き止めた。そのため、このようなＵＶであれば、植物４へのウイルス感染の低減とＵＶ障害程度の低減とを、従来よりも高い次元で両立できることを見出した。すなわち、本発明者らの鋭意検討によって、植物へのウイルス感染の低減と、ＵＶ障害程度の低減とを両立するために最適なＵＶの特性が初めて明らかとなった。
【0025】
また、２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有するＵＶは、従来のＵＶよりも、波長領域が長波長側にシフトしている。そのため、仮に２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有するＵＶが人体に照射されてしまっても、従来のＵＶよりも人体への毒性は低い。すなわち、本実施形態に係る栽培装置１０が照射するＵＶは、人体への安全性の観点からも優れている。
【0026】
ＬＥＤ光源１ａが照射可能なＵＶは、半値幅が、ピーク波長±６ｎｍの波長範囲に含まれる光であることが好ましい。ここでいう半値幅とは、半値全幅である。このような構成であれば、ＬＥＤ光源１ａが照射するＵＶは、ピーク波長から大きく外れた波長成分をほとんど含まない。したがって、植物４に照射した場合に、ピーク波長およびその近傍の波長成分により植物４のウイルスに対する抵抗性を効果的に誘導しながら、ピーク波長よりも短い波長成分は最小限となるため、ＵＶ障害を最小限にコントロールできる。
【0027】
ＬＥＤ光源１ａは光の指向特性が鋭いため、植物体に均一にＵＶを照射するためには、栽培装置１０において、光照射モジュール１を一定間隔で配置することが好ましい。なお、図１の符号１０１では、１つの光照射モジュール１に対して２つの植物４が対応している様子が示されている。しかしながら、１つの光照射モジュール１に対して１つの植物４を対応させてもよいし、３つ以上の植物４を対応させてもよい。また、光照射モジュール１は、二条並列または二条千鳥となるように配置されてもよい。要するに、光照射モジュール１は、植物草冠上で一定の均一な照射強度が得られるような配置にするのが望ましい。また、このような配置方法については、簡単な光学的計算により算出することが可能である。
【0028】
ＬＥＤ光源１ａは、ＵＶを、１日当たり暗期に０．６ｋＪ／ｍ２以上１．２ｋＪ／ｍ２未満の照射量で照射可能である。植物４におけるＵＶ障害を軽減しながら、ウイルス病の低減に必要な照射量は、１日当たり暗期に０．６ｋＪ／ｍ２以上１．２ｋＪ／ｍ２未満である。「暗期」については後述する。
【0029】
植物４に照射されるＵＶの照射量が１．２ｋＪ／ｍ２以上となる場合、ＬＥＤ光源１ａが照射するＵＶであっても、植物４にＵＶ障害を引き起こす可能性がある。植物４のＵＶ障害を最小レベルにするため、ＬＥＤ光源１ａによる１日当たりの照射量は１．２ｋＪ／ｍ２未満とする。
【0030】
また、植物４に照射するＵＶの照射量が０．６ｋＪ／ｍ２未満である場合、植物４におけるウイルス抵抗性が十分に誘導されない可能性がある。このため、ＬＥＤ光源１ａによる、植物４への１日当たりの照射量は０．６ｋＪ／ｍ２以上とする。
【0031】
以上の通り、ＬＥＤ光源１ａは、１日当たり暗期に０．６ｋＪ／ｍ２以上１．２ｋＪ／ｍ２未満の照射量で照射可能な出力を備えていればよい。なお、栽培装置１０が、１つの植物４に対して複数のＬＥＤ光源１ａにより照射を行うよう構成されている場合、当該複数のＬＥＤ光源１ａが、合計すれば上述の照射量で照射可能な出力を備えていればよい。
【0032】
〔栽培方法〕
本実施形態に係る栽培方法では、ＬＥＤ光源１ａを用いて植物４にＵＶを照射する工程を含む。また、前記工程では、２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有するＵＶを、１日当たり暗期に０．６ｋＪ／ｍ２以上１．２ｋＪ／ｍ２未満の照射量で植物４に照射する。本実施形態に係る栽培方法に使用するＬＥＤ光源１ａは、上述の栽培装置１０が備えるものであってよい。
本実施形態に係る栽培方法では、ＬＥＤ光源１ａを用いて植物４にＵＶを照射する工程を含む。また、前記工程では、２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有するＵＶを、１日当たり暗期に０．６ｋＪ／ｍ２以上１．２ｋＪ／ｍ２未満の照射量で植物４に照射する。本実施形態に係る栽培方法に使用するＬＥＤ光源１ａは、上述の栽培装置１０が備えるものであってよい。
【0033】
本実施形態に係る栽培方法では、ＵＶを暗期に照射する。ここで、暗期とは、植物４への、ＬＥＤ光源１ａによるＵＶ照射量に対する可視光の照射量の割合が１０％以下となる期間であってよい。可視光とは、３６０ｎｍ以上８３０ｎｍ以下の波長を有する光であり、自然光および人工光の両方を含み得る。
【0034】
暗期として、例えば、日没後から日の出前までの（自然光が全く存在しないか、または若干の自然光が存在する薄明の状態も含む）任意の期間のことであってよい。言い換えれば、暗期とは大半が真っ暗な状態であるが、薄明も含まれ得る状態のことである。また、薄明とは日の出の約３０分前から日の出までの時期、または日没から日没の約３０分後までの時期のことである。
【0035】
ＬＥＤ光源１ａが照射可能なＵＶは、従来の２８０ｎｍ以上２９０ｎｍ以下の波長域のＵＶよりは安全性が向上しているが、依然として人体に有害となり得る波長である。そのため、植物４へのＵＶの照射を、人間が作業を行わない夜間や夜明け前等の暗期に実施することは、人体への安全性の観点から好ましい。
【0036】
また、暗期は、室内への自然光の入光を制限したり、室内の光源を制御したりする方法により、植物４が受ける可視光の割合を人工的に低減する期間であってもよい。この場合、暗期は、１日のうちのいずれの時期に設定してもよい。
【0037】
このように、ＵＶ照射を暗期に行う構成によれば、植物４に対して、可視光の影響を最小限にした状態でＵＶを照射できる。したがって、植物４に照射される光の波長を容易にコントロールできるため、植物４におけるＵＶ障害の低減およびウイルス病の発病の低減の両立を、容易に実現できる。この観点からは、ＵＶ照射は、暗期の中でも完全に真っ暗な時期に行われることが最も好ましい。
【0038】
なお、上述のように植物４に対するＵＶの照射を暗期（例えば、夜間）のみに限定した場合、例えば、特許文献１において安全性向上のため設置が好ましいとされている報告灯等の設備を用いない運用が可能となる。さらに、暗期は作業者が植物４のメンテナンス等の作業を行わないため、作業者が誤ってＵＶを直視する危険性が回避できるなど、実用的なメリットが複数ある。
【0039】
光照射モジュール１は、比較的面積の小さい、太陽光利用のガラス温室またはビニールハウスの育苗床で利用可能である。また、光照射モジュール１は、大面積の本圃でも利用可能であり、その場合、長期に亘り植物４のウイルス病の発病を低減できる可能性がある。
【0040】
また、本実施形態に係る栽培方法におけるＵＶ照射は、既存のウイルス感染防止対策の少なくとも一部を代替し得るものである。植物ウイルスは昆虫等が媒介して伝播することが知られている。そのため、植物４へのウイルス感染防止対策として、殺虫剤の散布が行われている。植物４へのＵＶ照射を行うことで、植物４に対する殺虫剤の散布回数を低減してもよい。これにより、農薬の使用量の低減およびこれらの散布労力の低減が実現できる。
【0041】
また、ハサミ等の管理用具を用いた植物４の管理作業中に、管理用具に付着した汁液を介してウイルスが伝播する場合がある。そのため、このような管理用具は頻繁に消毒することが好ましい。植物４へのＵＶ照射を行うことで、管理用具の消毒回数および消毒液等の使用量を低減してもよい。これにより、植物４の管理作業コストの低減にも繋がる。
【実施例0042】
〔１．キク科の植物に対するＵＶ照射の効果〕
キク科の植物の栽培で問題となるＴＳＷＶの感染および発病を低減し、かつ、キク科の植物にＵＶ障害を引き起こさない、最適なＵＶの波長と照射量とを明らかにするために、キク（‘神馬’）へのＵＶ照射実験を行った。
キク科の植物の栽培で問題となるＴＳＷＶの感染および発病を低減し、かつ、キク科の植物にＵＶ障害を引き起こさない、最適なＵＶの波長と照射量とを明らかにするために、キク（‘神馬’）へのＵＶ照射実験を行った。
【0043】
（方法）
１１月に、１ａ（アール）の鉄骨ハウスにキク（‘神馬’）を定植した。栽培条件は、ドレインベッド隔離床、２０ｃｍ株間の４条植え、夜温１８℃設定、夜間中断電照、養液土耕とした。また、ドレインベッド３ベッドを２分割し、無照射区（Control）１区および照射区４区の計５処理区を設けた。
１１月に、１ａ（アール）の鉄骨ハウスにキク（‘神馬’）を定植した。栽培条件は、ドレインベッド隔離床、２０ｃｍ株間の４条植え、夜温１８℃設定、夜間中断電照、養液土耕とした。また、ドレインベッド３ベッドを２分割し、無照射区（Control）１区および照射区４区の計５処理区を設けた。
【0044】
各照射区において、光照射モジュールにより照射されるＵＶの特性および１日当たりの設定照射量は、以下の通りである；
（１）ピーク波長２８５ｎｍ（λｐ＝２８５ｎｍ、Δλ＝１０ｎｍ）、６００Ｊ／ｍ２、
（２）ピーク波長２８５ｎｍ（λｐ＝２８５ｎｍ、Δλ＝１０ｎｍ）、３００Ｊ／ｍ２、
（３）ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）、１２００Ｊ／ｍ２、
（４）ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）、６００Ｊ／ｍ２。
（１）ピーク波長２８５ｎｍ（λｐ＝２８５ｎｍ、Δλ＝１０ｎｍ）、６００Ｊ／ｍ２、
（２）ピーク波長２８５ｎｍ（λｐ＝２８５ｎｍ、Δλ＝１０ｎｍ）、３００Ｊ／ｍ２、
（３）ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）、１２００Ｊ／ｍ２、
（４）ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）、６００Ｊ／ｍ２。
【0045】
「λｐ」はピーク波長の範囲を示し、「Δλ」は半値幅を示す。前記（１）および（２）では、発光出力３０ｍＷの、ＳＭＤ基板実装タイプの光照射モジュール（日機装技研製）を、前記（３）および（４）では、発光出力３１～３５ｍＷの、ＳＭＤ基板実装タイプの光照射モジュール（Ｄｏｗａ製）をそれぞれ用いた。ＵＶの照射量は、植物草冠上層部での照射強度を、ＵＶ検出器（ＵＶ－３７１９－４）を接続しＸ１－１オプトメーターで計測し、１日当たりの照射量を計算した。
【0046】
照射方法としては、１１月から１２月にかけて、キク定植の２週間経過後から毎日、夜間に５時間（ＡＭ１：００～ＡＭ６：００）、前記の照射量をキクに照射した。植物草冠上層部への照射強度は、１日当たりの照射量が３００Ｊ／ｍ２の条件では１．７μＷ／ｃｍ２、６００Ｊ／ｍ２の条件では３．３μＷ／ｃｍ２、１２００Ｊ／ｍ２の条件では６．７μＷ／ｃｍ２に設定した。
【0047】
ウイルス接種は、照射開始７日後に、タバコ（Nicotiana rustica）により増殖したＴＳＷＶキク分離株を、各区指定した８株の上位展開葉３葉にカーボランダム（登録商標）を用いて汁液接種した。カーボランダムは、炭化ケイ素の粉末である。その後も、ＵＶの照射を継続した。
【0048】
接種１１日後および接種２１日後に、各区指定した８株における発病指数を調査した。ＵＶ障害は、目視により観察した。発病指数の評価は、以下の基準で行った；
「０」：無症状、
「１」：接種葉に僅かの黄化えそ斑が観察される、
「２」：接種葉に明瞭な黄化えそ斑が観察される、
「３」：接種葉に多数の黄化えそ斑が観察される。
「０」：無症状、
「１」：接種葉に僅かの黄化えそ斑が観察される、
「２」：接種葉に明瞭な黄化えそ斑が観察される、
「３」：接種葉に多数の黄化えそ斑が観察される。
【0049】
ここで、「僅か」とは、注意深く観察すれば見つかる程度を示す。発病指数の統計解析は、Kruskal-Wallis検定により、ｎ＝８で、Ｐ＜０．０５を有意差ありとして行った。
【0050】
ＵＶ障害の程度については、以下の基準により評価した；
「－」：無障害、
「±」：接種葉に僅かの褐変、縮葉または巻葉が観察される、
「＋」：接種葉に明瞭な褐変、縮葉または巻葉が観察される、
「＋＋」：接種葉に、より明瞭な褐変、縮葉または巻葉が観察される。
「－」：無障害、
「±」：接種葉に僅かの褐変、縮葉または巻葉が観察される、
「＋」：接種葉に明瞭な褐変、縮葉または巻葉が観察される、
「＋＋」：接種葉に、より明瞭な褐変、縮葉または巻葉が観察される。
【0051】
ここで、「僅か」とは、注意深く観察すれば見つかる程度を示す。なお、ＵＶ障害の評価基準については、他の実施例でも同様である。
【0052】
供試ウイルスであるＴＳＷＶの、病斑部に局在するという性質上、上述の方法では、サンプルによってはＴＳＷＶを検出することができない。そのため、全葉抽出によってウイルス蓄積量を調査する手法を採用した。ここでは、ＴＳＷＶ接種サンプルの全葉を液体窒素により凍結粉砕後、１サンプルを３本の１．５ｍＬチューブに分けてＲＮＡを抽出し、１本のチューブにまとめて精製した。その後、ノーマライザーとしてＰＧＫタンパク質の遺伝子発現量を用い、比較Ｃｔ法による定量ＰＣＲ解析により、キク葉内のＴＳＷＶウイルス蓄積量を調査した。
【0053】
（結果）
図２は、接種２１日後における各サンプルの発病指数を示す。また、図３は、各サンプルのＴＳＷＶ蓄積量を示す。図２に示すように、無照射区では、接種２１日後において、接種葉に明瞭な黄化えそ斑が観察されたが、各照射区では、発病指数が有意に低減していた。
図２は、接種２１日後における各サンプルの発病指数を示す。また、図３は、各サンプルのＴＳＷＶ蓄積量を示す。図２に示すように、無照射区では、接種２１日後において、接種葉に明瞭な黄化えそ斑が観察されたが、各照射区では、発病指数が有意に低減していた。
【0054】
図２および図３に示すように、各照射区の中で、ピーク波長２９１ｎｍ、６００Ｊ／ｍ２の照射区がＴＳＷＶによる発病の低減効果を表し、かつＵＶ障害が最も軽微であった。一方、ピーク波長２９１ｎｍ、１２００Ｊ／ｍ２の照射区では、ピーク波長２８５ｎｍ、６００Ｊ／ｍ２の照射区とほぼ同等のＵＶ障害が発生した。この結果から、ピーク波長２９１ｎｍのＵＶにおける１日当たりの照射量は、１２００Ｊ／ｍ２未満が適正照射量であることが明らかとなった。
【0055】
なお、図３に示すように、キク体内のＴＳＷＶ蓄積量は、ピーク波長２９１ｎｍでは６００Ｊ／ｍ２、１２００Ｊ／ｍ２ともに低く、ピーク波長２８５ｎｍの場合と、ＴＳＷＶ感染の低減効果に有意差は認められなかった。
【0056】
以上の結果から、ピーク波長２９１ｎｍのＵＶを１日当たり夜間に６００Ｊ／ｍ２で照射することで、ＴＳＷＶによるキクえそ病の発病を、ＵＶ障害をほぼ完全に回避しながら効果的に低減できた。また、ピーク波長２９１ｎｍのＵＶでは、１日当たりの照射量が１２００Ｊ／ｍ２未満であれば、ＵＶ障害を回避できることが示された。
【0057】
〔２．ナス科の植物に対するＵＶ照射の効果〕
ナス科の植物の栽培で問題となるＴＳＷＶまたはＴｏＭＶの感染および発病を低減し、かつ、ナス科の植物にＵＶ障害を引き起こさない、最適なＵＶの波長と照射量とを明らかにするために、タバコ（Nicotinia rustica）およびトマト（‘桃太郎８’）へのＵＶ照射実験を行った。タバコは、ナス科の植物において代表的なモデル植物である。
ナス科の植物の栽培で問題となるＴＳＷＶまたはＴｏＭＶの感染および発病を低減し、かつ、ナス科の植物にＵＶ障害を引き起こさない、最適なＵＶの波長と照射量とを明らかにするために、タバコ（Nicotinia rustica）およびトマト（‘桃太郎８’）へのＵＶ照射実験を行った。タバコは、ナス科の植物において代表的なモデル植物である。
【0058】
〔２－１．タバコへの６００Ｊ／ｍ２での照射〕
（方法）
鉄骨ＰＯ（ポリオレフィン）フィルムハウスに光照射モジュール４個を５０ｃｍ四方に設置し、その下部にポット栽培の４．１葉期のタバコ（Nicotinia rustica）を静置した。無照射区（Control）１区および照射区３区の計４処理区を設けた。
（方法）
鉄骨ＰＯ（ポリオレフィン）フィルムハウスに光照射モジュール４個を５０ｃｍ四方に設置し、その下部にポット栽培の４．１葉期のタバコ（Nicotinia rustica）を静置した。無照射区（Control）１区および照射区３区の計４処理区を設けた。
【0059】
各照射区において、光照射モジュールにより照射されるＵＶの特性は以下の通りである、；
（１）ピーク波長２８４ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２８３～２８５ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）、
（２）ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）、
（３）ピーク波長２９７ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９６～２９８ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）。
（１）ピーク波長２８４ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２８３～２８５ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）、
（２）ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）、
（３）ピーク波長２９７ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９６～２９８ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）。
【0060】
光照射モジュールによる１日当たりの照射量は、６００Ｊ／ｍ２とした。光照射モジュールは、発光出力３０ｍＷ、動作電圧５．５Ｖの、ＳＭＤ基板実装タイプの光照射モジュール（Ｄｏｗａ製）を用いた。ＵＶの照射量は、植物草冠上層部での照射強度をＵＶ検出器（ＵＶ－３７１９－４）で計測し、１日当たりの照射量を計算した。
【0061】
照射方法としては、３月に、４．１葉期のタバコを静置した日から毎日、夜間に１４時間（１７：００～７：００）かけて、前記の照射量をタバコに照射した。植物草冠上層部への照射強度は１．２μＷ／ｃｍ２とした。ハウス内の温度は、夜間１５℃、日中３０℃とした。
【0062】
ウイルス接種は、照射開始８日後に、予め準備したタバコのＴＳＷＶ発病葉により、各群のタバコの第４葉および第５葉に、カーボランダムを用いて汁液接種した。その後も、ＵＶの照射を継続した。
【0063】
接種１０日後に、接種葉の輪紋病斑数を調査した。ＵＶ障害は、目視により観察した。輪紋病斑数の統計解析は、Tukey検定により、ｎ＝５で、Ｐ＜０．０５を有意差ありとして行った。
【0064】
（結果）
図４は、接種１０日後での、各サンプルの接種葉における輪紋病斑数を示す。図４に示すように、接種葉における輪紋病斑数は、ピーク波長２８４ｎｍおよび２９１ｎｍの照射群で有意に少なく、ＵＶ照射の効果が認められた。ピーク波長２８４ｎｍの照射区では、巻葉および葉焼けのＵＶ障害が発生した。ピーク波長２９１ｎｍの照射区では、僅かにＵＶ障害が発生したが、問題になる程度ではなかった。一方、ピーク波長２９７ｎｍの照射区では、ＵＶ障害は全く発生しなかったが、輪紋病斑数は無照射区と有意差がなく、照射によるウイルス低減効果は認められなかった。
図４は、接種１０日後での、各サンプルの接種葉における輪紋病斑数を示す。図４に示すように、接種葉における輪紋病斑数は、ピーク波長２８４ｎｍおよび２９１ｎｍの照射群で有意に少なく、ＵＶ照射の効果が認められた。ピーク波長２８４ｎｍの照射区では、巻葉および葉焼けのＵＶ障害が発生した。ピーク波長２９１ｎｍの照射区では、僅かにＵＶ障害が発生したが、問題になる程度ではなかった。一方、ピーク波長２９７ｎｍの照射区では、ＵＶ障害は全く発生しなかったが、輪紋病斑数は無照射区と有意差がなく、照射によるウイルス低減効果は認められなかった。
【0065】
以上の結果より、ピーク波長２９１ｎｍのＵＶは、１日当たり夜間に６００Ｊ／ｍ２で照射することで、ＵＶ障害を十分に回避しながらウイルス病を低減できる特性を有するＵＶであることが判明した。
【0066】
〔２－２．タバコへの１０００Ｊ／ｍ２での照射〕
（方法）
１ａ（アール）の鉄骨ハウスに、９ｃｍポットに移植したタバコ（Nicotiana rustica）を静置した。ドレインベッド上を３分割し、無照射区（Control）、２９１ｎｍ照射区および２８５ｎｍ照射区の計３処理区を設けた。各区について、タバコ６株とした。
（方法）
１ａ（アール）の鉄骨ハウスに、９ｃｍポットに移植したタバコ（Nicotiana rustica）を静置した。ドレインベッド上を３分割し、無照射区（Control）、２９１ｎｍ照射区および２８５ｎｍ照射区の計３処理区を設けた。各区について、タバコ６株とした。
【0067】
各照射区において、光照射モジュールにより照射されるＵＶの特性は、以下の通りである；
（１）ピーク波長２８５ｎｍ（λｐ＝２８５ｎｍ、Δλ＝１０ｎｍ）、
（２）ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）。
（１）ピーク波長２８５ｎｍ（λｐ＝２８５ｎｍ、Δλ＝１０ｎｍ）、
（２）ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）。
【0068】
光照射モジュールによる１日当たりの照射量は、１０００Ｊ／ｍ２とした。光照射モジュールは、前記（１）では、発光出力３０ｍＷの、ＳＭＤ基板実装タイプの光照射モジュール（日機装技研製）を、前記（２）では、発光出力３１～３５ｍＷの、ＳＭＤ基板実装タイプの光照射モジュール（Ｄｏｗａ製）を用いた。ＵＶの照射量は、植物表面上での照射強度をＵＶ検出器（ＵＶ－３７１９－４）で計測し、１日当たりの照射量を計算した。
【0069】
照射方法としては、２月に毎日、夜間に５．５時間（ＰＭ１０：３０～ＡＭ４：００）、照射強度が植物表面上で約５μＷ／ｃｍ２となるように、前記の照射量をタバコに照射した。
【0070】
ウイルス接種は、照射開始５日後に、予め準備したＴＳＷＶキク分離株（タバコで増殖）を、各区６株のタバコの第６葉に、カーボランダムを用いて汁液接種した。その後も、ＵＶの照射を継続した。
【0071】
接種１０日後に、接種葉の局部病斑数を計測した。ＵＶ障害は、目視により観察した。局部病斑数の統計解析は、Tukey検定により、ｎ＝６で、Ｐ＜０．０５を有意差ありとして行った。
【0072】
（結果）
図５は、接種１０日後における各サンプルの接種葉の外観を示す。図６は、接種１０日後における各サンプルの接種葉における局部病斑数を示す。図５および図６に示すように、無照射区では、接種１０日後において接種葉に平均２１４個の局部病斑が出現した。一方、ピーク波長２８５ｎｍの照射区では１５個、ピーク波長２９１ｎｍの照射区では６５個の局部病斑がそれぞれ出現していた。これは、無照射区に対して、ピーク波長２８５ｎｍの照射区では６％、ピーク波長２９１ｎｍの照射区では３１％への、大幅な低減となった。ピーク波長２８５ｎｍの照射区では、強い縮葉および葉焼けのＵＶ障害が発生したが、ピーク波長２９１ｎｍの照射区では僅かな縮葉が見られただけで、ＵＶ障害はほとんど問題にはならなかった。以上より、ピーク波長２９１ｎｍのＵＶを１日当たり１０００Ｊ／ｍ２で照射することで、ＵＶ障害を十分に回避しながら、ＴＳＷＶ感染を有効に低減できることが判明した。
図５は、接種１０日後における各サンプルの接種葉の外観を示す。図６は、接種１０日後における各サンプルの接種葉における局部病斑数を示す。図５および図６に示すように、無照射区では、接種１０日後において接種葉に平均２１４個の局部病斑が出現した。一方、ピーク波長２８５ｎｍの照射区では１５個、ピーク波長２９１ｎｍの照射区では６５個の局部病斑がそれぞれ出現していた。これは、無照射区に対して、ピーク波長２８５ｎｍの照射区では６％、ピーク波長２９１ｎｍの照射区では３１％への、大幅な低減となった。ピーク波長２８５ｎｍの照射区では、強い縮葉および葉焼けのＵＶ障害が発生したが、ピーク波長２９１ｎｍの照射区では僅かな縮葉が見られただけで、ＵＶ障害はほとんど問題にはならなかった。以上より、ピーク波長２９１ｎｍのＵＶを１日当たり１０００Ｊ／ｍ２で照射することで、ＵＶ障害を十分に回避しながら、ＴＳＷＶ感染を有効に低減できることが判明した。
【0073】
〔２－３．タバコへの５００Ｊ／ｍ２での照射〕
（方法）
１ａ（アール）の鉄骨ハウスに、９ｃｍポットに移植したタバコ（Nicotiana rustica）を静置した。ドレインベッド上を３分割し、無照射区（Control）１区および照射区２区を設けた。各区について、タバコ６株とした。
（方法）
１ａ（アール）の鉄骨ハウスに、９ｃｍポットに移植したタバコ（Nicotiana rustica）を静置した。ドレインベッド上を３分割し、無照射区（Control）１区および照射区２区を設けた。各区について、タバコ６株とした。
【0074】
各照射区において、光照射モジュールにより照射されるＵＶの特性は、以下の通りである；
（１）ピーク波長２８５ｎｍ（λｐ＝２８５ｎｍ、Δλ＝１０ｎｍ）、
（２）ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）。
（１）ピーク波長２８５ｎｍ（λｐ＝２８５ｎｍ、Δλ＝１０ｎｍ）、
（２）ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）。
【0075】
光照射モジュールによる１日当たりの照射量は、５００Ｊ／ｍ２とした。光照射モジュールは、前記（１）では、発光出力３０ｍＷの、ＳＭＤ基板実装タイプの光照射モジュール（日機装技研製）を、前記（２）では、発光出力３１～３５ｍＷの、ＳＭＤ基板実装タイプの光照射モジュール（Ｄｏｗａ製）を用いた。ＵＶの照射量は、植物表面上での照射強度をＵＶ検出器（ＵＶ－３７１９－４）で計測し、１日当たりの照射量を計算した。
【0076】
照射方法としては、１月から２月にかけて毎日、夜間に２時間（ＡＭ２：００～ＡＭ４：００）、照射強度が植物表面上で７μＷ／ｃｍ２となるように、前記の照射量をタバコに照射した。
【0077】
ウイルス接種は、照射開始６日後に、予め準備したＴＳＷＶキク分離株（タバコで増殖）を、各区６株のタバコの第５葉および第６葉に、カーボランダムを用いて汁液接種した。その後も、ＵＶの照射を継続した。
【0078】
接種７日後に、接種葉の病斑面積率（％）を計測した。ＵＶ障害は、目視により観察した。病斑面積率の統計解析は、Tukey検定により、ｎ＝４～６で、Ｐ＜０．０５を有意差ありとして行った。
【0079】
（結果）
図７は、接種７日後での、各サンプルの接種葉における病斑面積率（％）を示す。図７に示すように、無照射区では、接種７日後において接種葉の病斑面積率は約３０％であった。一方、ピーク波長２８５ｎｍの照射区では１２．５％、ピーク波長２９１ｎｍの照射区では１８．３％の病斑面積率であり、両者間に有意差はなく、いずれも病斑形成に対して低減効果が認められた。しかしながら、無照射区とピーク波長２９１ｎｍの照射区との間にも、病斑面積率に有意差はなかった。すなわち、ピーク波長２９１ｎｍでは、ＴＳＷＶ感染の低減効果を得るためには、１日当たり５００Ｊ／ｍ２を超える照射量を要することが判明した。ピーク波長２８５ｎｍの照射区では、縮葉等のＵＶ障害が発生したが、ピーク波長２９１ｎｍの照射区では、ＵＶ障害は全く認められなかった。
図７は、接種７日後での、各サンプルの接種葉における病斑面積率（％）を示す。図７に示すように、無照射区では、接種７日後において接種葉の病斑面積率は約３０％であった。一方、ピーク波長２８５ｎｍの照射区では１２．５％、ピーク波長２９１ｎｍの照射区では１８．３％の病斑面積率であり、両者間に有意差はなく、いずれも病斑形成に対して低減効果が認められた。しかしながら、無照射区とピーク波長２９１ｎｍの照射区との間にも、病斑面積率に有意差はなかった。すなわち、ピーク波長２９１ｎｍでは、ＴＳＷＶ感染の低減効果を得るためには、１日当たり５００Ｊ／ｍ２を超える照射量を要することが判明した。ピーク波長２８５ｎｍの照射区では、縮葉等のＵＶ障害が発生したが、ピーク波長２９１ｎｍの照射区では、ＵＶ障害は全く認められなかった。
【0080】
〔２－４．トマトへのＵＶ照射における発病低減効果およびＵＶ障害回避効果〕
（方法）
１ａ（アール）の鉄骨ハウスに、９ｃｍポットに移植したトマト（‘桃太郎８’）を静置した。‘桃太郎８’は、ＴｏＭＶに対する抵抗性遺伝子Ｔｍ－２ａをヘテロに有する品種である。ドレインベッド上を２分割し、無照射区（Control）および照射区の計２処理区を設けた。各区について、トマト９株とした。
（方法）
１ａ（アール）の鉄骨ハウスに、９ｃｍポットに移植したトマト（‘桃太郎８’）を静置した。‘桃太郎８’は、ＴｏＭＶに対する抵抗性遺伝子Ｔｍ－２ａをヘテロに有する品種である。ドレインベッド上を２分割し、無照射区（Control）および照射区の計２処理区を設けた。各区について、トマト９株とした。
【0081】
照射区において、光照射モジュールにより照射されるＵＶの特性は、次の通りである；ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）。
【0082】
光照射モジュールによる１日当たりの照射量は、１１７０Ｊ／ｍ２とした。光照射モジュールは、発光出力３１～３５ｍＷの、ＳＭＤ基板実装タイプの光照射モジュール（Ｄｏｗａ製）を用いた。ＵＶの照射量は、植物草冠上層部での照射強度をＵＶ検出器（ＵＶ－３７１９－４）で計測し、１日当たりの照射量を計算した。
【0083】
照射方法としては、２月から３月にかけて毎日、夜間に６．５時間（ＰＭ１０：３０～ＡＭ５：００）、照射強度が植物草冠上層部で約５μＷ／ｃｍ２となるように、前記の照射量をトマトに照射した。
【0084】
ウイルス接種は、照射開始１１日後に、抵抗性遺伝子Ｔｍ－２ａ打破系統のＴｏＭＶ株（タバコで増殖）を、各区９株のトマトの本葉２葉期の第１～２葉に、カーボランダムを用いて汁液接種した。その後も、ＵＶの照射を継続した。
【0085】
接種８日後に、発病指数を調査した。ＵＶ障害は、目視により観察した。発病指数の評価は、以下の基準で行った；
「０」：無発病、
「１」：接種葉に僅かの黄化えそ斑が観察される、
「２」：接種葉に明瞭な黄化えそ斑が観察される、
「３」：接種葉に多数の黄化えそ斑が観察される、
「４」：接種葉の枯死が観察される。
「０」：無発病、
「１」：接種葉に僅かの黄化えそ斑が観察される、
「２」：接種葉に明瞭な黄化えそ斑が観察される、
「３」：接種葉に多数の黄化えそ斑が観察される、
「４」：接種葉の枯死が観察される。
【0086】
ここで、「僅か」とは、注意深く観察すれば見つかる程度を示す。発病指数の統計解析は、Mann-Whitney U 検定により、ｎ＝９で、Ｐ＜０．１を有意傾向ありとして行った。
【0087】
また、実施例１と同様、トマト葉におけるウイルス蓄積量を調査した。ここでは、接種８日後の、上記発病指数の調査に用いたトマトの第４～５葉０．１５～０．２ｇをサンプリングして、－８０℃に保存したＴｏＭＶ接種サンプルを用いた。このＴｏＭＶ接種サンプルから、市販キットにより全ＲＮＡを抽出して精製した。その後、ノーマライザーとしてトマトのＥＦ１ａ遺伝子の遺伝子発現量を用い、比較Ｃｔ法による定量ＰＣＲ解析により、トマト葉内のＴｏＭＶウイルス蓄積量を調査した。
【0088】
（結果）
図８は、接種８日後における各サンプルの発病指数を示す。また、図９は、各サンプルのＴｏＭＶ蓄積量を示す。図８に示すように、無照射区では、接種８日後における発病指数は約２だったのに対し、照射区では約１．１であった。すなわち、トマトにおいて、ＵＶ照射によるＴｏＭＶの発病低減傾向が認められた。また、照射区では、僅かな葉の光沢および縮葉といったＵＶ障害が見られたが、生育にはほとんど影響のない極めて軽微なものであった。
図８は、接種８日後における各サンプルの発病指数を示す。また、図９は、各サンプルのＴｏＭＶ蓄積量を示す。図８に示すように、無照射区では、接種８日後における発病指数は約２だったのに対し、照射区では約１．１であった。すなわち、トマトにおいて、ＵＶ照射によるＴｏＭＶの発病低減傾向が認められた。また、照射区では、僅かな葉の光沢および縮葉といったＵＶ障害が見られたが、生育にはほとんど影響のない極めて軽微なものであった。
【0089】
図９に示すように、トマト体内のＴｏＭＶ蓄積量は、照射区では無照射区の約６４％であり、照射区の方が少なかった。すなわち、ＵＶ照射による、トマト葉でのＴｏＭＶ増殖低減効果が観察された。
【0090】
以上の結果から、ピーク波長２９１ｎｍのＵＶを１日当たり夜間に１１７０Ｊ／ｍ２で照射することで、トマトのＴｏＭＶによる発病を、ＵＶ障害を十分に回避しながら効果的に低減できた。
【0091】
〔２－５．トマトへのＵＶ照射における感染低減効果〕
（方法）
１ａ（アール）の鉄骨ハウスに、９ｃｍポットに移植したトマト（‘桃太郎８’）を静置した。ドレインベッド上を２分割し、無照射区（Control）および照射区の計２処理区を設けた。各区について、トマト６株とした。
（方法）
１ａ（アール）の鉄骨ハウスに、９ｃｍポットに移植したトマト（‘桃太郎８’）を静置した。ドレインベッド上を２分割し、無照射区（Control）および照射区の計２処理区を設けた。各区について、トマト６株とした。
【0092】
照射区において、光照射モジュールにより照射されるＵＶの特性は、次の通りである；ピーク波長２９１ｎｍ（誤差±１ｎｍ、λｐ＝２９０～２９２ｎｍ、Δλ＝１１～１２ｎｍ）。
【0093】
光照射モジュールによる１日当たりの照射量は、１１７０Ｊ／ｍ２とした。光照射モジュールは、発光出力３１～３５ｍＷの、ＳＭＤ基板実装タイプの光照射モジュール（Ｄｏｗａ製）を用いた。ＵＶの照射量は、植物草冠上層部での照射強度をＵＶ検出器（ＵＶ－３７１９－４）で計測し、１日当たりの照射量を計算した。
【0094】
照射方法としては、３月に毎日、夜間に６．５時間（ＰＭ１０：３０～ＡＭ５：００）、照射強度が植物草冠上層部で約５μＷ／ｃｍ２となるように、前記の照射量をトマトに照射した。
【0095】
ウイルス接種は、照射開始３日後に、抵抗性遺伝子Ｔｍ－２ａ打破系統のＴｏＭＶ株（タバコで増殖）を、各区６株のトマトの本葉５．５葉期の第４～５葉に、カーボランダムを用いて汁液接種した。その後も、ＵＶの照射を継続した。
【0096】
接種７日後に、接種葉の局部病斑数を調査した。局部病斑数の統計解析は、t-検定により、ｎ＝６で、Ｐ＜０．０１を有意差ありとして行った。
【0097】
（結果）
図１０は、接種７日後における各サンプルの接種葉における局部病斑数を示す。図１０に示すように、無照射区では、接種７日後において接種葉に平均７９．５個の局部病斑が出現した。一方、照射区では２４．８個の局部病斑が出現しており、ＵＶ照射によって、トマトのＴｏＭＶに対する有意かつ明らかな感染低減効果が認められた。
図１０は、接種７日後における各サンプルの接種葉における局部病斑数を示す。図１０に示すように、無照射区では、接種７日後において接種葉に平均７９．５個の局部病斑が出現した。一方、照射区では２４．８個の局部病斑が出現しており、ＵＶ照射によって、トマトのＴｏＭＶに対する有意かつ明らかな感染低減効果が認められた。
【0098】
以上より、ピーク波長２９１ｎｍのＵＶを１日当たり１１７０Ｊ／ｍ２で照射することで、トマトへのＴｏＭＶの感染を有効に低減できることが判明した。
【0099】
〔ＬＥＤ光源について〕
ＬＥＤ光源の製造性および流通性の問題から、すべてのピーク波長を連続的に試行することは不可能であり、今回の実験のように約５ｎｍ間隔の非連続的なピーク波長で実験データを蓄積した。しかし、この方法でも、最適な波長を絞り込むのに必要かつ十分な精度を有していると判断できる。すなわち、本願の出願時の技術水準においては、上述の各実施例は、ＵＶのピーク波長を最大限に細分化した条件による実験となっている。
ＬＥＤ光源の製造性および流通性の問題から、すべてのピーク波長を連続的に試行することは不可能であり、今回の実験のように約５ｎｍ間隔の非連続的なピーク波長で実験データを蓄積した。しかし、この方法でも、最適な波長を絞り込むのに必要かつ十分な精度を有していると判断できる。すなわち、本願の出願時の技術水準においては、上述の各実施例は、ＵＶのピーク波長を最大限に細分化した条件による実験となっている。
【0100】
ＬＥＤ光源におけるピーク波長の誤差を±１ｎｍと考えると、上述の実施例で使用したピーク波長２８５ｎｍのＬＥＤ光源は、ピーク波長２８６ｎｍのＵＶも照射し得る。また、ピーク波長２９７ｎｍのＬＥＤ光源は、ピーク波長２９６ｎｍのＵＶも照射し得る。これを考慮すると、上述の各実施例では、２８７ｎｍ以上２９５ｎｍ以下の範囲にピーク波長を有するＵＶであれば、キク科またはナス科の植物のウイルス病について、最も効果的に、ＵＶ障害を回避しながら低減できることが示されたと言える。
【0101】
〔付記事項〕
また、本発明は上述した各実施形態または各実施例に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。異なる実施形態または実施例にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
また、本発明は上述した各実施形態または各実施例に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。異なる実施形態または実施例にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【符号の説明】
【0102】
１ 光照射モジュール
１ａ ＬＥＤ光源
２ 支持棒
３ 電気コード
４ 植物
１０ 栽培装置
１ａ ＬＥＤ光源
２ 支持棒
３ 電気コード
４ 植物
１０ 栽培装置
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】