(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022141184
(43)【公開日】2022-09-29
(54)【発明の名称】樹脂組成物
(51)【国際特許分類】
C08L 63/00 20060101AFI20220921BHJP
C08L 27/12 20060101ALI20220921BHJP
C08K 3/013 20180101ALI20220921BHJP
C08K 3/36 20060101ALI20220921BHJP
H05K 1/03 20060101ALI20220921BHJP
B32B 27/20 20060101ALI20220921BHJP
B32B 27/38 20060101ALI20220921BHJP
B32B 27/30 20060101ALI20220921BHJP
【ＦＩ】
C08L63/00 Z
C08L27/12
C08K3/013
C08K3/36
H05K1/03 610L
H05K1/03 610M
H05K1/03 610R
B32B27/20
B32B27/38
B32B27/30 D
【審査請求】未請求
【請求項の数】21
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021041386
(22)【出願日】2021-03-15
(71)【出願人】
【識別番号】000000066
【氏名又は名称】味の素株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002147
【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】中村 洋介
【テーマコード（参考）】
4F100
4J002
【Ｆターム（参考）】
4F100AA01
4F100AA01A
4F100AA20
4F100AA20A
4F100AK03
4F100AK03A
4F100AK17
4F100AK17B
4F100AK42
4F100AK42B
4F100AK53
4F100AK53A
4F100AK54
4F100AK54A
4F100AT00B
4F100BA02
4F100BA07
4F100CA02
4F100CA02A
4F100CA23
4F100CA23A
4F100EH46
4F100EJ17
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4F100EJ67
4F100GB43
4F100JG05
4F100JK06
4F100JK15
4F100YY00A
4J002BD12Y
4J002CC03Z
4J002CD02W
4J002CD04W
4J002CD05W
4J002CD06W
4J002CD07W
4J002CD10W
4J002CD13W
4J002CD14W
4J002CF03X
4J002CF04X
4J002CM05Z
4J002DE076
4J002DE106
4J002DE146
4J002DE186
4J002DE236
4J002DE286
4J002DF016
4J002DG046
4J002DJ016
4J002DJ036
4J002DJ046
4J002DJ056
4J002DK006
4J002DL006
4J002ER007
4J002FD016
4J002FD147
4J002FD14X
4J002FD14Z
4J002FD150
4J002GF00
4J002GQ01
4J002GQ05
(57)【要約】
【課題】硬化物の誘電正接（Ｄｆ）を低く抑えることができ且つラミネート後のムラの発生を抑えることができる樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、及び（Ｄ）無機充填材を含む樹脂組成物であって、（Ｃ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１０質量％以上であり、（Ｄ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、６０質量％以上である、樹脂組成物。
【選択図】なし
【解決手段】（Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、及び（Ｄ）無機充填材を含む樹脂組成物であって、（Ｃ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１０質量％以上であり、（Ｄ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、６０質量％以上である、樹脂組成物。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、及び（Ｄ）無機充填材を含む樹脂組成物であって、
（Ｃ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１０質量％以上であり、
（Ｄ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、６０質量％以上である、樹脂組成物。
（Ｃ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１０質量％以上であり、
（Ｄ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、６０質量％以上である、樹脂組成物。
【請求項2】
（Ａ）成分の数平均分子量が、２００００以下である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項3】
（Ａ）成分が、フルオロオレフィンと、ビニルエーテルと、の共重合体を含む、請求項１又は２に記載の樹脂組成物。
【請求項4】
（Ａ）成分が、
式（ＡＦ）：
［式中、
Ｒｆ１は、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基、又は（４）置換基で置換されていてもよいアルコキシ基を示し；
Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、又は（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４のうち少なくとも１個がフッ素原子である。］
で表される繰り返し単位、及び
式（ＡＥ）：
［式中、
Ｒ１は、置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示す。］
で表される繰り返し単位を含む共重合体を含む、請求項１～３の何れか１項に記載の樹脂組成物。
式（ＡＦ）：
【化1】
Ｒｆ１は、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基、又は（４）置換基で置換されていてもよいアルコキシ基を示し；
Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、又は（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４のうち少なくとも１個がフッ素原子である。］
で表される繰り返し単位、及び
式（ＡＥ）：
【化2】
Ｒ１は、置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示す。］
で表される繰り返し単位を含む共重合体を含む、請求項１～３の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項5】
（Ａ）成分が、ヒドロキシ基を有する、請求項１～４の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項6】
（Ａ）成分の水酸基価が、２０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇである、請求項５に記載の樹脂組成物。
【請求項7】
（Ａ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、０．１質量％以上である、請求項１～６の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項8】
（Ａ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１０質量％以下である、請求項１～７の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項9】
（Ｂ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１質量％～２０質量％である、請求項１～８の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項10】
（Ａ）成分に対する（Ｂ）成分の質量比（（Ｂ）成分／（Ａ）成分）が、０．５～３０である、請求項１～９の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項11】
（Ａ）成分に対する（Ｃ）成分の質量比（（Ｃ）成分／（Ａ）成分）が、１～６０である、請求項１～１０の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項12】
（Ａ）成分に対する（Ｄ）成分の質量比（（Ｄ）成分／（Ａ）成分）が、５～３００である、請求項１～１１の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項13】
（Ｄ）成分が、シリカである、請求項１～１２の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項14】
（Ｄ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、６８質量％以上である、請求項１～１３の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項15】
フェノール系硬化剤及びカルボジイミド系硬化剤からなる群より選ばれる硬化剤をさらに含む、請求項１～１４の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項16】
樹脂組成物の硬化物の誘電正接（Ｄｆ）が、５．８ＧＨｚ、２３℃で測定した場合、０．００３０以下である、請求項１～１５の何れか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項17】
請求項１～１６の何れか１項に記載の樹脂組成物の硬化物。
【請求項18】
請求項１～１６の何れか１項に記載の樹脂組成物を含有する、シート状積層材料。
【請求項19】
支持体と、当該支持体上に設けられた請求項１～１６の何れか１項に記載の樹脂組成物から形成される樹脂組成物層と、を有する樹脂シート。
【請求項20】
請求項１～１６の何れか１項に記載の樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層を備えるプリント配線板。
【請求項21】
請求項２０に記載のプリント配線板を含む、半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、エポキシ樹脂を含む樹脂組成物に関する。さらには、当該樹脂組成物を用いて得られる硬化物、シート状積層材料、樹脂シート、プリント配線板、及び半導体装置に関する。
【背景技術】
【0002】
プリント配線板の製造技術として、絶縁層と導体層を交互に積み重ねるビルドアップ方式による製造方法が知られている。ビルドアップ方式による製造方法において、一般に、絶縁層は樹脂組成物を硬化させて形成される。近年、絶縁層の誘電正接をより低く抑えることが求められている。
【0003】
これまでに、絶縁層を形成するための樹脂組成物として、活性エステル化合物、及び無機充填材を高配合したエポキシ樹脂組成物を用いることにより、絶縁層の誘電正接をより低く抑えることができることが知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０２０－２３７１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかし、活性エステル化合物、及び無機充填材を高配合したエポキシ樹脂組成物を用いた場合、ラミネート処理後のムラの発生が課題となっていた（ラミネート後のムラの詳細については試験例２を参照）。
【0006】
本発明の課題は、硬化物の誘電正接（Ｄｆ）を低く抑えることができ且つラミネート後のムラの発生を抑えることができる樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の課題を達成すべく、本発明者らは鋭意検討した結果、（Ｃ）活性エステル化合物、及び（Ｄ）無機充填材を、それぞれ１０質量％以上、６０質量％以上と、高配合したエポキシ樹脂組成物において、さらに（Ａ）フッ素原子含有ポリマーを用いることにより、意外にも、硬化物の誘電正接（Ｄｆ）を低く抑えることができ、且つラミネート処理後のムラの発生を抑えることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【0008】
すなわち、本発明は以下の内容を含む。
［１］ （Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、及び（Ｄ）無機充填材を含む樹脂組成物であって、
（Ｃ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１０質量％以上であり、
（Ｄ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、６０質量％以上である、樹脂組成物。
［２］ （Ａ）成分の数平均分子量が、２００００以下である、上記［１］に記載の樹脂組成物。
［３］ （Ａ）成分が、フルオロオレフィンと、ビニルエーテルと、の共重合体を含む、上記［１］又は［２］に記載の樹脂組成物。
［４］ （Ａ）成分が、
式（ＡＦ）：
［１］ （Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、及び（Ｄ）無機充填材を含む樹脂組成物であって、
（Ｃ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１０質量％以上であり、
（Ｄ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、６０質量％以上である、樹脂組成物。
［２］ （Ａ）成分の数平均分子量が、２００００以下である、上記［１］に記載の樹脂組成物。
［３］ （Ａ）成分が、フルオロオレフィンと、ビニルエーテルと、の共重合体を含む、上記［１］又は［２］に記載の樹脂組成物。
［４］ （Ａ）成分が、
式（ＡＦ）：
【0009】
【化1】
【0010】
［式中、
Ｒｆ１は、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基、又は（４）置換基で置換されていてもよいアルコキシ基を示し；
Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、又は（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４のうち少なくとも１個がフッ素原子である。］
で表される繰り返し単位、及び
式（ＡＥ）：
Ｒｆ１は、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基、又は（４）置換基で置換されていてもよいアルコキシ基を示し；
Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、又は（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４のうち少なくとも１個がフッ素原子である。］
で表される繰り返し単位、及び
式（ＡＥ）：
【0011】
【化2】
【0012】
［式中、
Ｒ１は、置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示す。］
で表される繰り返し単位を含む共重合体を含む、上記［１］～［３］の何れかに記載の樹脂組成物。
［５］ （Ａ）成分が、ヒドロキシ基を有する、上記［１］～［４］の何れかに記載の樹脂組成物。
［６］ （Ａ）成分の水酸基価が、２０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇである、上記［５］に記載の樹脂組成物。
［７］ （Ａ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、０．１質量％以上である、上記［１］～［６］の何れかに記載の樹脂組成物。
［８］ （Ａ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１０質量％以下である、上記［１］～［７］の何れかに記載の樹脂組成物。
［９］ （Ｂ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１質量％～２０質量％である、上記［１］～［８］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１０］ （Ａ）成分に対する（Ｂ）成分の質量比（（Ｂ）成分／（Ａ）成分）が、０．５～３０である、上記［１］～［９］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１１］ （Ａ）成分に対する（Ｃ）成分の質量比（（Ｃ）成分／（Ａ）成分）が、１～６０である、上記［１］～［１０］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１２］ （Ａ）成分に対する（Ｄ）成分の質量比（（Ｄ）成分／（Ａ）成分）が、５～３００である、上記［１］～［１１］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１３］ （Ｄ）成分が、シリカである、上記［１］～［１２］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１４］ （Ｄ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、６８質量％以上である、上記［１］～［１３］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１５］ フェノール系硬化剤及びカルボジイミド系硬化剤からなる群より選ばれる硬化剤をさらに含む、上記［１］～［１４］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１６］ 樹脂組成物の硬化物の誘電正接（Ｄｆ）が、５．８ＧＨｚ、２３℃で測定した場合、０．００３０以下である、上記［１］～［１５］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１７］ 上記［１］～［１６］の何れかに記載の樹脂組成物の硬化物。
［１８］ 上記［１］～［１６］の何れかに記載の樹脂組成物を含有する、シート状積層材料。
［１９］ 支持体と、当該支持体上に設けられた上記［１］～［１６］の何れかに記載の樹脂組成物から形成される樹脂組成物層と、を有する樹脂シート。
［２０］ 上記［１］～［１６］の何れかに記載の樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層を備えるプリント配線板。
［２１］ 上記［２０］に記載のプリント配線板を含む、半導体装置。
Ｒ１は、置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示す。］
で表される繰り返し単位を含む共重合体を含む、上記［１］～［３］の何れかに記載の樹脂組成物。
［５］ （Ａ）成分が、ヒドロキシ基を有する、上記［１］～［４］の何れかに記載の樹脂組成物。
［６］ （Ａ）成分の水酸基価が、２０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇである、上記［５］に記載の樹脂組成物。
［７］ （Ａ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、０．１質量％以上である、上記［１］～［６］の何れかに記載の樹脂組成物。
［８］ （Ａ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１０質量％以下である、上記［１］～［７］の何れかに記載の樹脂組成物。
［９］ （Ｂ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１質量％～２０質量％である、上記［１］～［８］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１０］ （Ａ）成分に対する（Ｂ）成分の質量比（（Ｂ）成分／（Ａ）成分）が、０．５～３０である、上記［１］～［９］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１１］ （Ａ）成分に対する（Ｃ）成分の質量比（（Ｃ）成分／（Ａ）成分）が、１～６０である、上記［１］～［１０］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１２］ （Ａ）成分に対する（Ｄ）成分の質量比（（Ｄ）成分／（Ａ）成分）が、５～３００である、上記［１］～［１１］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１３］ （Ｄ）成分が、シリカである、上記［１］～［１２］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１４］ （Ｄ）成分の含有量が、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、６８質量％以上である、上記［１］～［１３］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１５］ フェノール系硬化剤及びカルボジイミド系硬化剤からなる群より選ばれる硬化剤をさらに含む、上記［１］～［１４］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１６］ 樹脂組成物の硬化物の誘電正接（Ｄｆ）が、５．８ＧＨｚ、２３℃で測定した場合、０．００３０以下である、上記［１］～［１５］の何れかに記載の樹脂組成物。
［１７］ 上記［１］～［１６］の何れかに記載の樹脂組成物の硬化物。
［１８］ 上記［１］～［１６］の何れかに記載の樹脂組成物を含有する、シート状積層材料。
［１９］ 支持体と、当該支持体上に設けられた上記［１］～［１６］の何れかに記載の樹脂組成物から形成される樹脂組成物層と、を有する樹脂シート。
［２０］ 上記［１］～［１６］の何れかに記載の樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層を備えるプリント配線板。
［２１］ 上記［２０］に記載のプリント配線板を含む、半導体装置。
【発明の効果】
【0013】
本発明の樹脂組成物によれば、硬化物の誘電正接（Ｄｆ）を低く抑えることができ且つラミネート後のムラの発生を抑えることができる。
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。ただし、本発明は、下記実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施され得る。
【0015】
＜樹脂組成物＞
本発明の樹脂組成物は、（Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、及び（Ｄ）無機充填材を含み、（Ｃ）活性エステル化合物の含有量が１０質量％以上であり、（Ｄ）無機充填材の含有量が６０質量％以上である。このような樹脂組成物を用いることにより、硬化物の誘電正接（Ｄｆ）を低く抑えることができ且つラミネート後のムラの発生を抑えることができる。
本発明の樹脂組成物は、（Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、及び（Ｄ）無機充填材を含み、（Ｃ）活性エステル化合物の含有量が１０質量％以上であり、（Ｄ）無機充填材の含有量が６０質量％以上である。このような樹脂組成物を用いることにより、硬化物の誘電正接（Ｄｆ）を低く抑えることができ且つラミネート後のムラの発生を抑えることができる。
【0016】
本発明の樹脂組成物は、（Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、及び（Ｄ）無機充填材の他に、さらに任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分としては、例えば、（Ｃ’）その他の硬化剤、（Ｅ）ラジカル重合性化合物、（Ｆ）硬化促進剤、（Ｇ）熱可塑性樹脂、（Ｈ）その他の添加剤、及び（Ｉ）有機溶剤が挙げられる。以下、樹脂組成物に含まれる各成分について詳細に説明する。
【0017】
＜（Ａ）フッ素原子含有ポリマー＞
本発明の樹脂組成物は、（Ａ）フッ素原子含有ポリマーを含有する。（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、１種単独で用いてもよく、２種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
本発明の樹脂組成物は、（Ａ）フッ素原子含有ポリマーを含有する。（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、１種単独で用いてもよく、２種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【0018】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、一実施形態において、好ましくは、ヒドロキシ基を有する。当該実施形態において、（Ａ）フッ素原子含有ポリマーの水酸基価は、一実施形態において、好ましくは２０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは２０～８０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
【0019】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、カルボキシ基を有していてもよいし、カルボキシ基を有さなくてもよいが、一実施形態において、カルボキシ基を有さないことが特に好ましい。（Ａ）フッ素原子含有ポリマーの酸価は、一実施形態において、好ましくは５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、さらに好ましくは０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、特に好ましくは、０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
【0020】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、一実施形態において、好ましくは、フルオロオレフィンと、ビニルエーテルと、の共重合体を含む。ビニルエーテルは、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基等の官能基を有さないアルキルビニルエーテル、ヒドロキシ基を有するヒドロキシアルキルビニルエーテル、カルボキシ基を有するカルボキシアルキルビニルエーテル等であり得る。（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、当該実施形態において、より好ましくは、フルオロオレフィンと、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、カルボキシアルキルビニルエーテル及びアルキルビニルエーテルから選ばれる１種以上のビニルエーテルと、の共重合体を含み、特に好ましくは、フルオロオレフィンと、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、カルボキシアルキルビニルエーテル及びアルキルビニルエーテルから選ばれる１種以上のビニルエーテルと、の交互共重合体を含む。ビニルエーテルは、一実施形態において、ヒドロキシアルキルビニルエーテル及びカルボキシアルキルビニルエーテルから選ばれる官能性ビニルエーテルと、アルキルビニルエーテルと、の少なくとも２種類を含むことが好ましく、ヒドロキシアルキルビニルエーテルと、アルキルビニルエーテルと、の少なくとも２種類を含むことがより好ましい。
【0021】
フルオロオレフィンは、１個以上のフッ素原子で置換されたアルケン化合物を意味し、例えば、フルオロエチレン（フッ化ビニル）、１，１－ジフルオロエチレン（フッ化ビニリデン）、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ペンタフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン等の１個以上のフッ素原子で置換されたアルケン；クロロトリフルオロエチレン、ブロモトリフルオロエチレン等の１個以上のフッ素原子に加えて塩素原子及び／又は臭素原子で置換されたアルケン；トリフルオロメチルトリフルオロビニルエーテル、ペンタフルオロエチルトリフルオロビニルエーテル、ヘプタフルオロプロピルトリフルオロビニルエーテル等の１個以上のフッ素原子に加えて１個以上のフッ素原子で置換されたアルコキシ基で置換されたアルケン等が挙げられる。
【0022】
アルケンとは、少なくとも１つの炭素－炭素二重結合を有する直鎖又は分枝鎖の脂肪族不飽和炭化水素を意味する。アルケンは、特に指定がない限り、炭素原子数２～１０のアルケンが好ましく、炭素原子数２～６のアルケンがより好ましく、炭素原子数２又は３のアルケンがさらに好ましい。アルケンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１－ブテン、ｃｉｓ－２－ブテン、ｔｒａｎｓ－２－ブテン、２－メチルプロペン、１－ペンテン、ｃｉｓ－２－ペンテン、ｔｒａｎｓ－２－ペンテン、２－メチル－１－ブテン、２－メチル－２－ブテン、３－メチル－１－ブテン等が挙げられる。
【0023】
アルコキシ（基）とは、直鎖、分枝鎖及び／又は環状の１価の脂肪族飽和炭化水素基が酸素原子に結合してなる１価の基（すなわちＲａＯ－（Ｒａは１価の脂肪族飽和炭化水素基）で表される基）を意味する。アルコキシ（基）は、特に指定がない限り、炭素原子数１～１０のアルコキシ（基）が好ましく、炭素原子数１～６のアルコキシ（基）がより好ましく、炭素原子数１～３のアルコキシ（基）がさらに好ましい。アルコキシ（基）としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、２－メチルシクロヘキシルオキシ基、４－メチルシクロヘキシルオキシ基、シクロペンチルメトキシ基、シクロヘキシルメトキシ基等が挙げられる。
【0024】
アルキルビニルエーテルは、非官能基で置換されていてもよいアルキルとビニルとのエーテル化合物を意味し、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルビニルエーテル、ペンチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、シクロペンチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２－メチルシクロヘキシルビニルエーテル等の無置換アルキルのビニルエーテル；クロロメチルビニルエーテル、１－クロロエチルビニルエーテル等の１個以上のハロゲン原子で置換されたアルキルのビニルエーテル；ベンジルビニルエーテル、２－フェニルエチルビニルエーテル等の１個以上のフェニル基で置換されたアルキルのビニルエーテル等が挙げられる。
【0025】
ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子である。ハロゲン原子は、特に指定がない限り、フッ素原子、又は塩素原子が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。
【0026】
アルキル（基）とは、直鎖、分枝鎖及び／又は環状の１価の脂肪族飽和炭化水素基を意味する。アルキル（基）は、特に指定がない限り、炭素原子数１～１０のアルキル（基）が好ましく、炭素原子数１～６のアルキル（基）がより好ましく、炭素原子数１～３のアルキル（基）がさらに好ましい。アルキル（基）としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２－メチルシクロヘキシル基、４－メチルシクロヘキシル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。
【0027】
ヒドロキシアルキルビニルエーテルは、ヒドロキシ基で置換されたアルキルとビニルとのエーテル化合物を意味し、例えば、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、３－ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２－ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、３－ヒドロキシブチルビニルエーテル、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピルビニルエーテル、５－ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６－ヒドロキシヘキシルビニルエーテル等のヒドロキシ基で置換されたアルキルのビニルエーテル等が挙げられる。
【0028】
カルボキシアルキルビニルエーテルは、カルボキシ基で置換されたアルキルとビニルとのエーテル化合物を意味し、例えば、２－カルボキシエチルビニルエーテル、３－カルボキシプロピルビニルエーテル、２－カルボキシプロピルビニルエーテル、４－カルボキシブチルビニルエーテル、３－カルボキシブチルビニルエーテル、２－カルボキシ－２－メチルプロピルビニルエーテル、５－カルボキシペンチルビニルエーテル、６－カルボキシヘキシルビニルエーテル等のカルボキシ基で置換されたアルキルのビニルエーテル等が挙げられる。
【0029】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、一実施形態において、好ましくは、式（ＡＦ）：
【0030】
【化3】
【0031】
［式中、
Ｒｆ１は、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基、又は（４）置換基で置換されていてもよいアルコキシ基を示し；
Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、又は（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４のうち少なくとも１個がフッ素原子である。］
で表される繰り返し単位を含む重合体を含む。（Ａ）フッ素原子含有ポリマー１分子中に含まれる式（ＡＦ）で表される繰り返し単位は、１種であっても２種以上であってもよい。
Ｒｆ１は、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基、又は（４）置換基で置換されていてもよいアルコキシ基を示し；
Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、又は（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４のうち少なくとも１個がフッ素原子である。］
で表される繰り返し単位を含む重合体を含む。（Ａ）フッ素原子含有ポリマー１分子中に含まれる式（ＡＦ）で表される繰り返し単位は、１種であっても２種以上であってもよい。
【0032】
本明細書中、置換基は、特に限定されるものではないが、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、カルバモイル基、ニトロ基、アリール基、アルキル置換アリール基（アルキル基で置換されたアリール基）、アルコキシ基、アリール－オキシ基、アルキル－カルボニル基、アリール－カルボニル基、アルコキシ－カルボニル基、アリール－オキシ－カルボニル基、アルキル－カルボニル－オキシ基、アリール－カルボニル－オキシ基、モノ又はジ－アルキル－アミノ基、モノ又はジ－アリール－アミノ基、モノ又はジ（アルキル－カルボニル）アミノ基、モノ又はジ（アリール－カルボニル）アミノ基、モノ又はジ－アルキル－カルバモイル基、モノ又はジ－アリール－カルバモイル基等の１価の置換基が挙げられる。
【0033】
アリール（基）とは、芳香族炭素環の１個の水素原子を除いてなる１価の芳香族炭化水素基を意味する。アリール（基）は、特に指定がない限り、炭素原子数６～１４のアリール（基）が好ましく、炭素原子数６～１０のアリール（基）が特に好ましい。アリール（基）としては、例えば、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基等が挙げられる。
【0034】
Ｒｆ１は、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基、又は（４）置換基で置換されていてもよいアルコキシ基を示す。Ｒｆ１は、好ましくは、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、又は（４）ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基であり；より好ましくは、（１）水素原子、（２）フッ素原子、（３）塩素原子、（４）フッ素原子及び／又は塩素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は（５）フッ素原子及び／又は塩素原子で置換されていてもよいアルコキシ基であり；さらに好ましくは、（１）水素原子、（２）フッ素原子、（３）塩素原子、又は（４）フッ素原子及び／又は塩素原子で置換されていてもよいアルキル基であり；特に好ましくは、フッ素原子、又は塩素原子である。
【0035】
Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、又は（３）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示す。Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４は、それぞれ独立して、好ましくは、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、又は（３）ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基であり；より好ましくは、（１）水素原子、（２）フッ素原子、（３）塩素原子、又は（４）フッ素原子及び／又は塩素原子で置換されていてもよいアルキル基であり；さらに好ましくは、フッ素原子、又は塩素原子であり；特に好ましくは、フッ素原子である。
【0036】
Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４のうち少なくとも１個がフッ素原子であり、好ましくは、Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４のうち少なくとも２個がフッ素原子であり、より好ましくは、Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲｆ４のうち少なくとも３個がフッ素原子である。
【0037】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、当該実施形態において、より好ましくは、式（ＡＦ）で表される繰り返し単位に加えて、さらに式（ＡＥ）：
【0038】
【化4】
【0039】
［式中、
Ｒ１は、置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示す。］
で表される繰り返し単位を含む共重合体を含む。（Ａ）フッ素原子含有ポリマー１分子中に含まれる式（ＡＥ）で表される繰り返し単位は、１種であっても２種以上であってもよい。
Ｒ１は、置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示す。］
で表される繰り返し単位を含む共重合体を含む。（Ａ）フッ素原子含有ポリマー１分子中に含まれる式（ＡＥ）で表される繰り返し単位は、１種であっても２種以上であってもよい。
【0040】
Ｒ１は、置換基で置換されていてもよいアルキル基を示す。Ｒ１は、好ましくは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、及びフェニル基から選ばれる置換基で置換されていてもよいアルキル基である。Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）置換基で置換されていてもよいアルキル基を示す。Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、好ましくは、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）ハロゲン原子及び／又はフェニル基で置換されていてもよいアルキル基である。
【0041】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、当該実施形態において、式（ＡＦ）で表される繰り返し単位と、式（ＡＥ）で表される繰り返し単位とが、交互に配置されていることが特に好ましい。
【0042】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、当該実施形態において、さらに好ましくは、式（ＡＦ）で表される繰り返し単位に加えて、さらに式（ＡＥ－１）：
【0043】
【化5】
【0044】
［式中、
Ｒ１１は、（１）ヒドロキシ基で置換され且つさらにハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、又は（２）カルボキシ基で置換され且つさらにハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）ハロゲン原子及び／又はフェニル基で置換されていてもよいアルキル基を示す。］
で表される繰り返し単位を含む共重合体を含む。（Ａ）フッ素原子含有ポリマー１分子中に含まれる式（ＡＥ－１）で表される繰り返し単位は、１種であっても２種以上であってもよい。
Ｒ１１は、（１）ヒドロキシ基で置換され且つさらにハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、又は（２）カルボキシ基で置換され且つさらにハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）ハロゲン原子及び／又はフェニル基で置換されていてもよいアルキル基を示す。］
で表される繰り返し単位を含む共重合体を含む。（Ａ）フッ素原子含有ポリマー１分子中に含まれる式（ＡＥ－１）で表される繰り返し単位は、１種であっても２種以上であってもよい。
【0045】
Ｒ１１は、（１）ヒドロキシ基で置換され且つさらにハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、又は（２）カルボキシ基で置換され且つさらにハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基を示す。Ｒ１１は、好ましくは、（１）ヒドロキシ基で置換され且つさらにフッ素原子及び／又は塩素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は（２）カルボキシ基で置換され且つさらにフッ素原子及び／又は塩素原子で置換されていてもよいアルキル基であり；より好ましくは、ヒドロキシ基で置換され且つさらにフッ素原子及び／又は塩素原子で置換されていてもよいアルキル基であり；さらに好ましくは、ヒドロキシ基（特に好ましくは１個のヒドロキシ基）で置換されたアルキル基である。
【0046】
Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）ハロゲン原子及び／又はフェニル基で置換されていてもよいアルキル基を示す。Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立して、好ましくは、（１）水素原子、又は（２）フッ素原子及び／又は塩素原子で置換されていてもよいアルキル基であり；より好ましくは、水素原子、又はアルキル基であり；さらに好ましくは、水素原子である。
【0047】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、当該実施形態において、Ｒ１１がヒドロキシ基を有する式（ＡＥ－１）で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。
【0048】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、当該実施形態において、特に好ましくは、式（ＡＦ）で表される繰り返し単位及び式（ＡＥ－１）で表される繰り返し単位に加えて、さらに式（ＡＥ－２）：
【0049】
【化6】
【0050】
［式中、
Ｒ２１は、ハロゲン原子及び／又はフェニル基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）ハロゲン原子及び／又はフェニル基で置換されていてもよいアルキル基を示す。］
で表される繰り返し単位を含む共重合体を含む。（Ａ）フッ素原子含有ポリマー１分子中に含まれる式（ＡＥ－２）で表される繰り返し単位は、１種であっても２種以上であってもよい。
Ｒ２１は、ハロゲン原子及び／又はフェニル基で置換されていてもよいアルキル基を示し；
Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）ハロゲン原子及び／又はフェニル基で置換されていてもよいアルキル基を示す。］
で表される繰り返し単位を含む共重合体を含む。（Ａ）フッ素原子含有ポリマー１分子中に含まれる式（ＡＥ－２）で表される繰り返し単位は、１種であっても２種以上であってもよい。
【0051】
Ｒ２１は、ハロゲン原子及び／又はフェニル基で置換されていてもよいアルキル基を示す。Ｒ２１は、好ましくは、フッ素原子、塩素原子及びフェニル基から選ばれる置換基で置換されていてもよいアルキル基であり；より好ましくは、アルキル基である。
【0052】
Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立して、（１）水素原子、又は（２）ハロゲン原子及び／又はフェニル基で置換されていてもよいアルキル基を示す。Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立して、好ましくは、（１）水素原子、又は（２）フッ素原子及び／又は塩素原子で置換されていてもよいアルキル基であり；より好ましくは、水素原子、又はアルキル基であり；さらに好ましくは、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４が、それぞれ独立して、水素原子、又はアルキル基であり且つＲ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうち少なくとも２個以上が、水素原子であり；特に好ましくは、Ｒ２２が、水素原子、又はアルキル基であり且つＲ２３及びＲ２４が、水素原子である。
【0053】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、当該実施形態において、Ｒ２２、Ｒ２３、及びＲ２４のすべてが水素原子である式（ＡＥ－２）で表される繰り返し単位と、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうち２個が水素原子であり且つ残りの１個が水素原子ではない式（ＡＥ－２）で表される繰り返し単位との両方を含むことがより好ましい。
【0054】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、当該実施形態において、式（ＡＦ）で表される繰り返し単位と、式（ＡＥ－１）で表される繰り返し単位及び式（ＡＥ－２）で表される繰り返し単位から選ばれる単位とが、交互に配置されていることが特に好ましい。
【0055】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーの数平均分子量は、好ましくは２００００以下、特に好ましくは１６０００以下である。（Ａ）フッ素原子含有ポリマーの数平均分子量の下限は、特に限定されるものではないが、好ましくは１０００以上、特に好ましくは５０００以上である。樹脂の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により、ポリスチレン換算の値として測定できる。
【0056】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、樹脂組成物に粒子の状態で含まれていてもよいが、（Ｄ）無機充填材以外の非粒子樹脂成分と相溶して含まれていることが好ましい。よって、（Ａ）フッ素原子含有ポリマーは、（Ｂ）エポキシ樹脂及び（Ｃ）活性エステル化合物と相溶できることが好ましい。
【0057】
（Ａ）フッ素原子含有ポリマーの市販品としては、例えば、旭硝子社製のルミフロン「ＬＦ２００」、「ＬＦ３０２、「ＬＦ４００」、「ＬＦ６００」、「ＬＦ６００Ｘ」、「ＬＦ８００」、「ＬＦ９０６Ｎ」、「ＬＦ９１０ＬＭ」、「ＬＦ９１６Ｎ」、「ＬＦ９３６」、「ＬＥ９０１０」等が挙げられ、１種又は２種以上を使用することができる。
【0058】
樹脂組成物中の（Ａ）フッ素原子含有ポリマーの含有量は、特に限定されるものではないが、硬化物のガラス転移温度のより高いものとし、銅めっきピール強度を十分に確保する観点から、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１５質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以下であり、算術平均粗さをより低く抑え且つさらに銅めっきピール強度を向上させる観点から、さらにより好ましくは５質量％以下、特に好ましくは３質量％以下である。樹脂組成物中の（Ａ）フッ素原子含有ポリマーの含有量の下限は、特に限定されるものではないが、本発明の所望の効果をより顕著に得る観点から、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．２質量％以上、さらに好ましくは０．３質量％以上、さらにより好ましくは０．４質量％以上、特に好ましくは０．４５質量％以上である。
【0059】
＜（Ｂ）エポキシ樹脂＞
本発明の樹脂組成物は、（Ｂ）エポキシ樹脂を含有する。（Ｂ）エポキシ樹脂とは、エポキシ基を有する硬化性樹脂である。
本発明の樹脂組成物は、（Ｂ）エポキシ樹脂を含有する。（Ｂ）エポキシ樹脂とは、エポキシ基を有する硬化性樹脂である。
【0060】
（Ｂ）エポキシ樹脂としては、例えば、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ｔｅｒｔ－ブチル－カテコール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、シクロヘキサン型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、トリメチロール型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、イソシアヌラート型エポキシ樹脂、フェノールフタルイミジン型エポキシ樹脂等が挙げられる。（Ｂ）エポキシ樹脂は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【0061】
樹脂組成物は、（Ｂ）エポキシ樹脂として、１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含むことが好ましい。（Ｂ）エポキシ樹脂の不揮発成分１００質量％に対して、１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂の割合は、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６０質量％以上、特に好ましくは７０質量％以上である。
【0062】
エポキシ樹脂には、温度２０℃で液状のエポキシ樹脂（以下「液状エポキシ樹脂」ということがある。）と、温度２０℃で固体状のエポキシ樹脂（以下「固体状エポキシ樹脂」ということがある。）とがある。本発明の樹脂組成物は、エポキシ樹脂として、液状エポキシ樹脂のみを含んでいてもよく、或いは固体状エポキシ樹脂のみを含んでいてもよく、或いは液状エポキシ樹脂と固体状エポキシ樹脂とを組み合わせて含んでいてもよい。
【0063】
液状エポキシ樹脂としては、１分子中に２個以上のエポキシ基を有する液状エポキシ樹脂が好ましい。
【0064】
液状エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、エステル骨格を有する脂環式エポキシ樹脂、シクロヘキサン型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、及びブタジエン構造を有するエポキシ樹脂が好ましい。
【0065】
液状エポキシ樹脂の具体例としては、ＤＩＣ社製の「ＨＰ４０３２」、「ＨＰ４０３２Ｄ」、「ＨＰ４０３２ＳＳ」（ナフタレン型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「８２８ＵＳ」、「８２８ＥＬ」、「ｊＥＲ８２８ＥＬ」、「８２５」、「エピコート８２８ＥＬ」（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ｊＥＲ８０７」、「１７５０」（ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ｊＥＲ１５２」（フェノールノボラック型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「６３０」、「６３０ＬＳＤ」、「６０４」（グリシジルアミン型エポキシ樹脂）；ＡＤＥＫＡ社製の「ＥＤ－５２３Ｔ」（グリシロール型エポキシ樹脂）；ＡＤＥＫＡ社製の「ＥＰ－３９５０Ｌ」、「ＥＰ－３９８０Ｓ」（グリシジルアミン型エポキシ樹脂）；ＡＤＥＫＡ社製の「ＥＰ－４０８８Ｓ」（ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂）；日鉄ケミカル＆マテリアル化学社製の「ＺＸ１０５９」（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂とビスフェノールＦ型エポキシ樹脂の混合品）；ナガセケムテックス社製の「ＥＸ－７２１」（グリシジルエステル型エポキシ樹脂）；ダイセル社製の「セロキサイド２０２１Ｐ」（エステル骨格を有する脂環式エポキシ樹脂）；ダイセル社製の「ＰＢ－３６００」、日本曹達社製の「ＪＰ－１００」、「ＪＰ－２００」（ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂）；日鉄ケミカル＆マテリアル製の「ＺＸ１６５８」、「ＺＸ１６５８ＧＳ」（液状１，４－グリシジルシクロヘキサン型エポキシ樹脂）等が挙げられる。これらは、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【0066】
固体状エポキシ樹脂としては、１分子中に３個以上のエポキシ基を有する固体状エポキシ樹脂が好ましく、１分子中に３個以上のエポキシ基を有する芳香族系の固体状エポキシ樹脂がより好ましい。
【0067】
固体状エポキシ樹脂としては、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフタレン型４官能エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、フェノールフタルイミジン型エポキシ樹脂が好ましい。
【0068】
固体状エポキシ樹脂の具体例としては、ＤＩＣ社製の「ＨＰ４０３２Ｈ」（ナフタレン型エポキシ樹脂）；ＤＩＣ社製の「ＨＰ－４７００」、「ＨＰ－４７１０」（ナフタレン型４官能エポキシ樹脂）；ＤＩＣ社製の「Ｎ－６９０」（クレゾールノボラック型エポキシ樹脂）；ＤＩＣ社製の「Ｎ－６９５」（クレゾールノボラック型エポキシ樹脂）；ＤＩＣ社製の「ＨＰ－７２００」、「ＨＰ－７２００ＨＨ」、「ＨＰ－７２００Ｈ」、「ＨＰ－７２００Ｌ」（ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂）；ＤＩＣ社製の「ＥＸＡ－７３１１」、「ＥＸＡ－７３１１－Ｇ３」、「ＥＸＡ－７３１１－Ｇ４」、「ＥＸＡ－７３１１－Ｇ４Ｓ」、「ＨＰ６０００」（ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂）；日本化薬社製の「ＥＰＰＮ－５０２Ｈ」（トリスフェノール型エポキシ樹脂）；日本化薬社製の「ＮＣ７０００Ｌ」（ナフトールノボラック型エポキシ樹脂）；日本化薬社製の「ＮＣ３０００Ｈ」、「ＮＣ３０００」、「ＮＣ３０００Ｌ」、「ＮＣ３０００ＦＨ」、「ＮＣ３１００」（ビフェニル型エポキシ樹脂）；日鉄ケミカル＆マテリアル社製の「ＥＳＮ４７５Ｖ」、「ＥＳＮ４１００Ｖ」（ナフタレン型エポキシ樹脂）；日鉄ケミカル＆マテリアル社製の「ＥＳＮ４８５」（ナフトール型エポキシ樹脂）；日鉄ケミカル＆マテリアル社製の「ＥＳＮ３７５」（ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ＹＸ４０００Ｈ」、「ＹＸ４０００」、「ＹＸ４０００ＨＫ」、「ＹＬ７８９０」（ビキシレノール型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ＹＬ６１２１」（ビフェニル型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ＹＸ８８００」（アントラセン型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ＹＸ７７００」（フェノールアラルキル型エポキシ樹脂）；大阪ガスケミカル社製の「ＰＧ－１００」、「ＣＧ－５００」；三菱ケミカル社製の「ＹＬ７７６０」（ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ＹＬ７８００」（フルオレン型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ｊＥＲ１０１０」（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ｊＥＲ１０３１Ｓ」（テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂）；日本化薬社製の「ＷＨＲ９９１Ｓ」（フェノールフタルイミジン型エポキシ樹脂）等が挙げられる。これらは、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【0069】
（Ｂ）エポキシ樹脂として、液状エポキシ樹脂と固体状エポキシ樹脂とを組み合わせて用いる場合、それらの質量比（液状エポキシ樹脂：固体状エポキシ樹脂）は、好ましくは２０：１～１：２０、より好ましくは１０：１～１：１０、特に好ましくは７：１～１：７である。
【0070】
（Ｂ）エポキシ樹脂のエポキシ当量は、好ましくは５０ｇ／ｅｑ．～５，０００ｇ／ｅｑ．、より好ましくは６０ｇ／ｅｑ．～２，０００ｇ／ｅｑ．、さらに好ましくは７０ｇ／ｅｑ．～１，０００ｇ／ｅｑ．、さらにより好ましくは８０ｇ／ｅｑ．～５００ｇ／ｅｑ．である。エポキシ当量は、エポキシ基１当量あたりの樹脂の質量である。このエポキシ当量は、ＪＩＳ Ｋ７２３６に従って測定することができる。
【0071】
（Ｂ）エポキシ樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１００～５，０００、より好ましくは２５０～３，０００、さらに好ましくは４００～１，５００である。樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により、ポリスチレン換算の値として測定できる。
【0072】
樹脂組成物中の（Ｂ）エポキシ樹脂の含有量は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは３０質量％未満、より好ましくは２５質量％以下、さらに好ましくは２０質量％以下、さらにより好ましくは１５質量％以下、特に好ましくは１０質量％以下である。樹脂組成物中の（Ｂ）エポキシ樹脂の含有量の下限は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．５質量％以上、さらに好ましくは１質量％以上、さらにより好ましくは３質量％以上、特に好ましくは５質量％以上である。
【0073】
樹脂組成物中の（Ａ）フッ素原子含有ポリマーに対する（Ｂ）エポキシ樹脂の質量比（（Ｂ）成分／（Ａ）成分）は、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．３以上、特に好ましくは０．５以上である。樹脂組成物中の（Ａ）フッ素原子含有ポリマーに対する（Ｂ）エポキシ樹脂の質量比（（Ｂ）成分／（Ａ）成分）の上限は、好ましくは５０以下、より好ましくは３０以下、特に好ましくは２０以下である。
【0074】
＜（Ｃ）活性エステル化合物＞
本発明の樹脂組成物は、（Ｃ）活性エステル化合物を含有する。（Ｃ）活性エステル化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。（Ｃ）活性エステル化合物は、（Ｂ）エポキシ樹脂と反応して硬化させるエポキシ樹脂硬化剤としての機能を有し得る。
本発明の樹脂組成物は、（Ｃ）活性エステル化合物を含有する。（Ｃ）活性エステル化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。（Ｃ）活性エステル化合物は、（Ｂ）エポキシ樹脂と反応して硬化させるエポキシ樹脂硬化剤としての機能を有し得る。
【0075】
（Ｃ）活性エステル化合物としては、一般にフェノールエステル類、チオフェノールエステル類、Ｎ－ヒドロキシアミンエステル類、複素環ヒドロキシ化合物のエステル類等の、反応活性の高いエステル基を１分子中に２個以上有する化合物が好ましく用いられる。当該活性エステル化合物は、カルボン酸化合物及び／又はチオカルボン酸化合物とヒドロキシ化合物及び／又はチオール化合物との縮合反応によって得られるものが好ましい。特に耐熱性向上の観点から、カルボン酸化合物とヒドロキシ化合物とから得られる活性エステル化合物が好ましく、カルボン酸化合物とフェノール化合物及び／又はナフトール化合物とから得られる活性エステル化合物がより好ましい。カルボン酸化合物としては、例えば安息香酸、酢酸、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸等が挙げられる。フェノール化合物又はナフトール化合物としては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、フェノールフタリン、メチル化ビスフェノールＡ、メチル化ビスフェノールＦ、メチル化ビスフェノールＳ、フェノール、ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール、カテコール、α－ナフトール、β－ナフトール、１，５－ジヒドロキシナフタレン、１，６－ジヒドロキシナフタレン、２，６－ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、フロログルシン、ベンゼントリオール、ジシクロペンタジエン型ジフェノール化合物、フェノールノボラック等が挙げられる。ここで、「ジシクロペンタジエン型ジフェノール化合物」とは、ジシクロペンタジエン１分子にフェノール２分子が縮合して得られるジフェノール化合物をいう。
【0076】
具体的には、（Ｃ）活性エステル化合物としては、ジシクロペンタジエン型活性エステル化合物、ナフタレン構造を含むナフタレン型活性エステル化合物、フェノールノボラックのアセチル化物を含む活性エステル化合物、フェノールノボラックのベンゾイル化物を含む活性エステル化合物が好ましく、中でもジシクロペンタジエン型活性エステル化合物、及びナフタレン型活性エステル化合物から選ばれる少なくとも１種であることがより好ましく、ジシクロペンタジエン型活性エステル化合物がさらに好ましい。ジシクロペンタジエン型活性エステル化合物としては、ジシクロペンタジエン型ジフェノール構造を含む活性エステル化合物が好ましい。
【0077】
（Ｃ）活性エステル化合物の市販品としては、ジシクロペンタジエン型ジフェノール構造を含む活性エステル化合物として、「ＥＸＢ９４５１」、「ＥＸＢ９４６０」、「ＥＸＢ９４６０Ｓ」、「ＥＸＢ－８０００Ｌ」、「ＥＸＢ－８０００Ｌ－６５Ｍ」、「ＥＸＢ－８０００Ｌ－６５ＴＭ」、「ＨＰＣ－８０００Ｌ－６５ＴＭ」、「ＨＰＣ－８０００」、「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」、「ＨＰＣ－８０００Ｈ」、「ＨＰＣ－８０００Ｈ－６５ＴＭ」、（ＤＩＣ社製）；ナフタレン構造を含む活性エステル化合物として「ＨＰ－Ｂ－８１５１－６２Ｔ」、「ＥＸＢ－８１００Ｌ－６５Ｔ」、「ＥＸＢ－８１５０－６０Ｔ」、「ＥＸＢ－８１５０－６２Ｔ」、「ＥＸＢ－９４１６－７０ＢＫ」、「ＨＰＣ－８１５０－６０Ｔ」、「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、「ＥＸＢ－８」（ＤＩＣ社製）；りん含有活性エステル化合物として、「ＥＸＢ９４０１」（ＤＩＣ社製）、フェノールノボラックのアセチル化物である活性エステル化合物として「ＤＣ８０８」（三菱ケミカル社製）、フェノールノボラックのベンゾイル化物である活性エステル化合物として「ＹＬＨ１０２６」、「ＹＬＨ１０３０」、「ＹＬＨ１０４８」（三菱ケミカル社製）、スチリル基及びナフタレン構造を含む活性エステル化合物として「ＰＣ１３００－０２－６５ＭＡ」（エア・ウォーター社製）等が挙げられる。
【0078】
（Ｃ）活性エステル化合物の活性エステル基当量は、好ましくは５０ｇ／ｅｑ．～５００ｇ／ｅｑ．、より好ましくは５０ｇ／ｅｑ．～４００ｇ／ｅｑ．、さらに好ましくは１００ｇ／ｅｑ．～３００ｇ／ｅｑ．である。活性エステル基当量は、活性エステル基１当量あたりの活性エステル化合物の質量である。
【0079】
樹脂組成物中の（Ｃ）活性エステル化合物の含有量は、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、１０質量％以上であり、好ましくは１１質量％以上、より好ましくは１２質量％以上、さらに好ましくは１３質量％以上、特に好ましくは１４質量％以上である。樹脂組成物中の（Ｃ）活性エステル化合物の含有量の上限は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは４０質量％以下、さらに好ましくは３０質量％以下、さらにより好ましくは２５質量％以下、特に好ましくは２０質量％以下である。
【0080】
樹脂組成物中の（Ａ）フッ素原子含有ポリマーに対する（Ｃ）活性エステル化合物の質量比（（Ｃ）成分／（Ａ）成分）は、好ましくは０．２以上、より好ましくは０．５以上、特に好ましくは１以上である。樹脂組成物中の（Ａ）フッ素原子含有ポリマーに対する（Ｃ）活性エステル化合物の質量比（（Ｃ）成分／（Ａ）成分）の上限は、好ましくは１００以下、より好ましくは６０以下、特に好ましくは４０以下である。
【0081】
＜（Ｃ’）その他の硬化剤＞
本発明の樹脂組成物は、さらに任意成分として（Ｃ）成分以外の（Ｃ’）硬化剤を含んでいてもよい。（Ｃ’）その他の硬化剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を任意に組み合わせて用いてもよい。（Ｃ’）その他の硬化剤は、（Ｃ）活性エステル化合物同様に、（Ｂ）エポキシ樹脂と反応して硬化させるエポキシ樹脂硬化剤としての機能を有し得る。
本発明の樹脂組成物は、さらに任意成分として（Ｃ）成分以外の（Ｃ’）硬化剤を含んでいてもよい。（Ｃ’）その他の硬化剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を任意に組み合わせて用いてもよい。（Ｃ’）その他の硬化剤は、（Ｃ）活性エステル化合物同様に、（Ｂ）エポキシ樹脂と反応して硬化させるエポキシ樹脂硬化剤としての機能を有し得る。
【0082】
（Ｃ’）その他の硬化剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、フェノール系硬化剤、カルボジイミド系硬化剤、酸無水物系硬化剤、アミン系硬化剤、ベンゾオキサジン系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤、及びチオール系硬化剤が挙げられる。本発明の樹脂組成物は、フェノール系硬化剤及びカルボジイミド系硬化剤からなる群より選ばれる硬化剤を含むことが特に好ましい。
【0083】
フェノール系硬化剤としては、耐熱性及び耐水性の観点から、ノボラック構造を有するフェノール系硬化剤が好ましい。また、被着体に対する密着性の観点から、含窒素フェノール系硬化剤が好ましく、トリアジン骨格含有フェノール系硬化剤がより好ましい。中でも、耐熱性、耐水性、及び密着性を高度に満足させる観点から、トリアジン骨格含有フェノールノボラック樹脂が好ましい。フェノール系硬化剤の具体例としては、例えば、明和化成社製の「ＭＥＨ－７７００」、「ＭＥＨ－７８１０」、「ＭＥＨ－７８５１」、日本化薬社製の「ＮＨＮ」、「ＣＢＮ」、「ＧＰＨ」、日鉄ケミカル＆マテリアル社製の「ＳＮ－１７０」、「ＳＮ－１８０」、「ＳＮ－１９０」、「ＳＮ－４７５」、「ＳＮ－４８５」、「ＳＮ－４９５」、「ＳＮ－３７５」、「ＳＮ－３９５」、ＤＩＣ社製の「ＬＡ－７０５２」、「ＬＡ－７０５４」、「ＬＡ－３０１８」、「ＬＡ－３０１８－５０Ｐ」、「ＬＡ－１３５６」、「ＴＤ２０９０」、「ＴＤ－２０９０－６０Ｍ」等が挙げられる。
【0084】
カルボジイミド系硬化剤としては、１分子内中に１個以上、好ましくは２個以上のカルボジイミド構造を有する硬化剤が挙げられ、例えば、テトラメチレン－ビス（ｔ－ブチルカルボジイミド）、シクロヘキサンビス（メチレン－ｔ－ブチルカルボジイミド）等の脂肪族ビスカルボジイミド；フェニレン－ビス（キシリルカルボジイミド）等の芳香族ビスカルボジイミド等のビスカルボジイミド；ポリヘキサメチレンカルボジイミド、ポリトリメチルヘキサメチレンカルボジイミド、ポリシクロヘキシレンカルボジイミド、ポリ（メチレンビスシクロヘキシレンカルボジイミド）、ポリ（イソホロンカルボジイミド）等の脂肪族ポリカルボジイミド；ポリ（フェニレンカルボジイミド）、ポリ（ナフチレンカルボジイミド）、ポリ（トリレンカルボジイミド）、ポリ（メチルジイソプロピルフェニレンカルボジイミド）、ポリ（トリエチルフェニレンカルボジイミド）、ポリ（ジエチルフェニレンカルボジイミド）、ポリ（トリイソプロピルフェニレンカルボジイミド）、ポリ（ジイソプロピルフェニレンカルボジイミド）、ポリ（キシリレンカルボジイミド）、ポリ（テトラメチルキシリレンカルボジイミド）、ポリ（メチレンジフェニレンカルボジイミド）、ポリ［メチレンビス（メチルフェニレン）カルボジイミド］等の芳香族ポリカルボジイミド等のポリカルボジイミドが挙げられる。
【0085】
カルボジイミド系硬化剤の市販品としては、例えば、日清紡ケミカル社製の「カルボジライトＶ－０２Ｂ」、「カルボジライトＶ－０３」、「カルボジライトＶ－０４Ｋ」、「カルボジライトＶ－０７」及び「カルボジライトＶ－０９」；ラインケミー社製の「スタバクゾールＰ」、「スタバクゾールＰ４００」、「ハイカジル５１０」等が挙げられる。
【0086】
酸無水物系硬化剤としては、１分子内中に１個以上の酸無水物基を有する硬化剤が挙げられ、１分子内中に２個以上の酸無水物基を有する硬化剤が好ましい。酸無水物系硬化剤の具体例としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルナジック酸無水物、水素化メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロ－３－フラニル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンソフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、３，３’－４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ－ヘキサヒドロ－５－（テトラヒドロ－２，５－ジオキソ－３－フラニル）－ナフト［１，２－Ｃ］フラン－１，３－ジオン、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、スチレンとマレイン酸とが共重合したスチレン・マレイン酸樹脂などのポリマー型の酸無水物などが挙げられる。酸無水物系硬化剤の市販品としては、新日本理化社製の「ＨＮＡ－１００」、「ＭＨ－７００」、「ＭＴＡ－１５」、「ＤＤＳＡ」、「ＯＳＡ」、三菱ケミカル社製の「ＹＨ－３０６」、「ＹＨ－３０７」、日立化成社製の「ＨＮ－２２００」、「ＨＮ－５５００」、クレイバレイ社製「ＥＦ－３０」、「ＥＦ－４０」「ＥＦ－６０」、「ＥＦ－８０」等が挙げられる。
【0087】
アミン系硬化剤としては、１分子内中に１個以上、好ましくは２個以上のアミノ基を有する硬化剤が挙げられ、例えば、脂肪族アミン類、ポリエーテルアミン類、脂環式アミン類、芳香族アミン類等が挙げられ、中でも、本発明の所望の効果を奏する観点から、芳香族アミン類が好ましい。アミン系硬化剤は、第１級アミン又は第２級アミンが好ましく、第１級アミンがより好ましい。アミン系硬化剤の具体例としては、４，４’－メチレンビス（２，６－ジメチルアニリン）、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン、３，３’－ジアミノジフェニルスルホン、ｍ－フェニレンジアミン、ｍ－キシリレンジアミン、ジエチルトルエンジアミン、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、３，３’－ジメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、２，２’－ジメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、３，３’－ジヒドロキシベンジジン、２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、３，３－ジメチル－５，５－ジエチル－４，４－ジフェニルメタンジアミン、２，２－ビス（４－アミノフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（４－アミノフェノキシ）フェニル）プロパン、１，３－ビス（３－アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、ビス（４－（４－アミノフェノキシ）フェニル）スルホン、ビス（４－（３－アミノフェノキシ）フェニル）スルホン、等が挙げられる。アミン系硬化剤は市販品を用いてもよく、例えば、セイカ社製「ＳＥＩＫＡＣＵＲＥ－Ｓ」、日本化薬社製の「ＫＡＹＡＢＯＮＤ Ｃ－２００Ｓ」、「ＫＡＹＡＢＯＮＤ Ｃ－１００」、「カヤハードＡ－Ａ」、「カヤハードＡ－Ｂ」、「カヤハードＡ－Ｓ」、三菱ケミカル社製の「エピキュアＷ」等が挙げられる。
【0088】
ベンゾオキサジン系硬化剤の具体例としては、ＪＦＥケミカル社製の「ＪＢＺ－ＯＰ１００Ｄ」、「ＯＤＡ－ＢＯＺ」；昭和高分子社製の「ＨＦＢ２００６Ｍ」；四国化成工業社製の「Ｐ－ｄ」、「Ｆ－ａ」などが挙げられる。
【0089】
シアネートエステル系硬化剤としては、例えば、ビスフェノールＡジシアネート、ポリフェノールシアネート（オリゴ（３－メチレン－１，５－フェニレンシアネート））、４，４’－メチレンビス（２，６－ジメチルフェニルシアネート）、４，４’－エチリデンジフェニルジシアネート、ヘキサフルオロビスフェノールＡジシアネート、２，２－ビス（４－シアネート）フェニルプロパン、１，１－ビス（４－シアネートフェニルメタン）、ビス（４－シアネート－３，５－ジメチルフェニル）メタン、１，３－ビス（４－シアネートフェニル－１－（メチルエチリデン））ベンゼン、ビス（４－シアネートフェニル）チオエーテル、及びビス（４－シアネートフェニル）エーテル等の２官能シアネート樹脂、フェノールノボラック及びクレゾールノボラック等から誘導される多官能シアネート樹脂、これらシアネート樹脂が一部トリアジン化したプレポリマーなどが挙げられる。シアネートエステル系硬化剤の具体例としては、ロンザジャパン社製の「ＰＴ３０」及び「ＰＴ６０」（いずれもフェノールノボラック型多官能シアネートエステル樹脂）、「ＢＡ２３０」、「ＢＡ２３０Ｓ７５」（ビスフェノールＡジシアネートの一部又は全部がトリアジン化され三量体となったプレポリマー）等が挙げられる。
【0090】
チオール系硬化剤としては、例えば、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、トリス（３－メルカプトプロピル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【0091】
（Ｃ’）その他の硬化剤の反応基当量は、好ましくは５０ｇ／ｅｑ．～３０００ｇ／ｅｑ．、より好ましくは１００ｇ／ｅｑ．～１０００ｇ／ｅｑ．、さらに好ましくは１００ｇ／ｅｑ．～５００ｇ／ｅｑ．、特に好ましくは１００ｇ／ｅｑ．～３００ｇ／ｅｑ．である。反応基当量は、反応基１当量あたりの硬化剤の質量である。
【0092】
樹脂組成物中の（Ｃ’）その他の硬化剤の含有量は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは１５質量％以下、より好ましくは１０質量％以下、さらに好ましくは５質量％以下、特に好ましくは３質量％以下である。樹脂組成物中の（Ｃ’）その他の硬化剤の含有量の下限は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、例えば、０質量％以上、０．０１質量％以上、０．１質量％以上、１質量％以上、２質量％以上等であり得る。
【0093】
樹脂組成物中の（Ｃ）活性エステル化合物の含有量は、樹脂組成物中の（Ｃ）活性エステル化合物と（Ｃ’）その他の硬化剤の合計を１００質量％とした場合、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは４０質量％以上、特に好ましくは５０質量％以上である。
【0094】
＜（Ｄ）無機充填材＞
本発明の樹脂組成物は、（Ｄ）無機充填材を含有する。（Ｄ）無機充填材は、粒子の状態で樹脂組成物に含まれる。
本発明の樹脂組成物は、（Ｄ）無機充填材を含有する。（Ｄ）無機充填材は、粒子の状態で樹脂組成物に含まれる。
【0095】
（Ｄ）無機充填材の材料としては、無機化合物を用いる。（Ｄ）無機充填材の材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、ガラス、コーディエライト、シリコン酸化物、硫酸バリウム、炭酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、酸化亜鉛、ハイドロタルサイト、ベーマイト、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化マンガン、ホウ酸アルミニウム、炭酸ストロンチウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、及びリン酸タングステン酸ジルコニウム等が挙げられる。これらの中でも、シリカが特に好適である。シリカとしては、例えば、無定形シリカ、溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカ、中空シリカ等が挙げられる。また、シリカとしては球形シリカが好ましい。（Ｄ）無機充填材は、１種類単独で用いてもよく、２種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【0096】
（Ｄ）無機充填材の市販品としては、例えば、電化化学工業社製の「ＵＦＰ－３０」；新日鉄住金マテリアルズ社製の「ＳＰ６０－０５」、「ＳＰ５０７－０５」；アドマテックス社製の「ＹＣ１００Ｃ」、「ＹＡ０５０Ｃ」、「ＹＡ０５０Ｃ－ＭＪＥ」、「ＹＡ０１０Ｃ」；デンカ社製の「ＵＦＰ－３０」；トクヤマ社製の「シルフィルＮＳＳ－３Ｎ」、「シルフィルＮＳＳ－４Ｎ」、「シルフィルＮＳＳ－５Ｎ」；アドマテックス社製の「ＳＣ２５００ＳＱ」、「ＳＯ－Ｃ４」、「ＳＯ－Ｃ２」、「ＳＯ－Ｃ１」；デンカ社製の「ＤＡＷ－０３」、「ＦＢ－１０５ＦＤ」などが挙げられる。
【0097】
（Ｄ）無機充填材の平均粒径は、特に限定されるものではないが、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下、さらに好ましくは２μｍ以下、さらにより好ましくは１μｍ以下、特に好ましくは０．７μｍ以下である。（Ｄ）無機充填材の平均粒径の下限は、特に限定されるものではないが、好ましくは０．０１μｍ以上、より好ましくは０．０５μｍ以上、さらに好ましくは０．１μｍ以上、特に好ましくは０．２μｍ以上である。（Ｄ）無機充填材の平均粒径は、ミー（Ｍｉｅ）散乱理論に基づくレーザー回折・散乱法により測定することができる。具体的には、レーザー回折散乱式粒径分布測定装置により、無機充填材の粒径分布を体積基準で作成し、そのメディアン径を平均粒径とすることで測定することができる。測定サンプルは、無機充填材１００ｍｇ、メチルエチルケトン１０ｇをバイアル瓶に秤取り、超音波にて１０分間分散させたものを使用することができる。測定サンプルを、レーザー回折式粒径分布測定装置を使用して、使用光源波長を青色及び赤色とし、フローセル方式で無機充填材の体積基準の粒径分布を測定し、得られた粒径分布からメディアン径として平均粒径を算出した。レーザー回折式粒径分布測定装置としては、例えば堀場製作所社製「ＬＡ－９６０」等が挙げられる。
【0098】
（Ｄ）無機充填材の比表面積は、特に限定されるものではないが、好ましくは０．１ｍ２／ｇ以上、より好ましくは０．５ｍ２／ｇ以上、さらに好ましくは１ｍ２／ｇ以上、特に好ましくは３ｍ２／ｇ以上である。（Ｄ）無機充填材の比表面積の上限は、特に限定されるものではないが、好ましくは１００ｍ２／ｇ以下、より好ましくは７０ｍ２／ｇ以下、さらに好ましくは５０ｍ２／ｇ以下、特に好ましくは４０ｍ２／ｇ以下である。無機充填材の比表面積は、ＢＥＴ法に従って、比表面積測定装置（マウンテック社製Ｍａｃｓｏｒｂ ＨＭ－１２１０）を使用して試料表面に窒素ガスを吸着させ、ＢＥＴ多点法を用いて比表面積を算出することで得られる。
【0099】
（Ｄ）無機充填材は、耐湿性及び分散性を高める観点から、表面処理剤で処理されていることが好ましい。表面処理剤としては、例えば、フッ素含有シランカップリング剤、アミノシラン系カップリング剤、エポキシシラン系カップリング剤、メルカプトシラン系カップリング剤、シラン系カップリング剤、アルコキシシラン、オルガノシラザン化合物、チタネート系カップリング剤等が挙げられる。また、表面処理剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を任意に組み合わせて用いてもよい。
【0100】
表面処理剤の市販品としては、例えば、信越化学工業社製「ＫＢＭ４０３」（３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）、信越化学工業社製「ＫＢＭ８０３」（３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン）、信越化学工業社製「ＫＢＥ９０３」（３－アミノプロピルトリエトキシシラン）、信越化学工業社製「ＫＢＭ５７３」（Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン）、信越化学工業社製「ＳＺ－３１」（ヘキサメチルジシラザン）、信越化学工業社製「ＫＢＭ１０３」（フェニルトリメトキシシラン）、信越化学工業社製「ＫＢＭ－４８０３」（長鎖エポキシ型シランカップリング剤）、信越化学工業社製「ＫＢＭ－７１０３」（３，３，３－トリフルオロプロピルトリメトキシシラン）等が挙げられる。
【0101】
表面処理剤による表面処理の程度は、無機充填材の分散性向上の観点から、所定の範囲に収まることが好ましい。具体的には、無機充填材１００質量％は、０．２質量％～５質量％の表面処理剤で表面処理されていることが好ましく、０．２質量％～３質量％で表面処理されていることがより好ましく、０．３質量％～２質量％で表面処理されていることがさらに好ましい。
【0102】
表面処理剤による表面処理の程度は、無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量によって評価することができる。無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量は、無機充填材の分散性向上の観点から、０．０２ｍｇ／ｍ２以上が好ましく、０．１ｍｇ／ｍ２以上がより好ましく、０．２ｍｇ／ｍ２以上がさらに好ましい。一方、樹脂組成物の溶融粘度やシート形態での溶融粘度の上昇を防止する観点から、１．０ｍｇ／ｍ２以下が好ましく、０.８ｍｇ／ｍ２以下がより好ましく、０．５ｍｇ／ｍ２以下がさらに好ましい。
【0103】
（Ｄ）無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量は、表面処理後の無機充填材を溶剤（例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ））により洗浄処理した後に測定することができる。具体的には、溶剤として十分な量のＭＥＫを表面処理剤で表面処理された無機充填材に加えて、２５℃で５分間超音波洗浄する。上澄液を除去し、固形分を乾燥させた後、カーボン分析計を用いて無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量を測定することができる。カーボン分析計としては、堀場製作所社製「ＥＭＩＡ－３２０Ｖ」等を使用することができる。
【0104】
樹脂組成物中の（Ｄ）無機充填材の含有量は、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、６０質量％以上であり、好ましくは６３質量％以上、より好ましくは６６質量％以上、さらに好ましくは６８質量％以上、特に好ましくは７０質量％以上である。樹脂組成物中の（Ｄ）無機充填材の含有量の上限は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは９０質量％以下、より好ましくは８５質量％以下、さらに好ましくは８０質量％以下、特に好ましくは７５質量％以下であり得る。
【0105】
樹脂組成物中の（Ａ）フッ素原子含有ポリマーに対する（Ｄ）無機充填材の質量比（（Ｄ）成分／（Ａ）成分）は、好ましくは１以上、より好ましくは３以上、特に好ましくは５以上である。樹脂組成物中の（Ａ）フッ素原子含有ポリマーに対する（Ｄ）無機充填材の質量比（（Ｄ）成分／（Ａ）成分）の上限は、好ましくは５００以下、より好ましくは３００以下、特に好ましくは２００以下である。
【0106】
＜（Ｅ）ラジカル重合性化合物＞
本発明の樹脂組成物は、さらに任意成分として（Ｅ）ラジカル重合性化合物を含んでいてもよい。（Ｅ）ラジカル重合性化合物は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を任意に組み合わせて用いてもよい。
本発明の樹脂組成物は、さらに任意成分として（Ｅ）ラジカル重合性化合物を含んでいてもよい。（Ｅ）ラジカル重合性化合物は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を任意に組み合わせて用いてもよい。
【0107】
（Ｅ）ラジカル重合性化合物は、一実施形態において、エチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性化合物である。（Ｅ）ラジカル重合性化合物は、特に限定されるものではないが、例えば、アリル基、３－シクロヘキセニル基、３－シクロペンテニル基、ｐ－ビニルフェニル基、ｍ－ビニルフェニル基、ｏ－ビニルフェニル基等の不飽和炭化水素基；アクリロイル基、メタクリロイル基、マレイミド基（２，５－ジヒドロ－２，５－ジオキソ－１Ｈ－ピロール－１－イル基）等のα，β－不飽和カルボニル基等のラジカル重合性基を有し得る。（Ｅ）ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性基を２個以上有することが好ましい。
【0108】
（Ｅ）ラジカル重合性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル系ラジカル重合性化合物、スチレン系ラジカル重合性化合物、アリル系ラジカル重合性化合物、マレイミド系ラジカル重合性化合物等であり得る。
【0109】
（メタ）アクリル系ラジカル重合性化合物は、例えば、１個以上、好ましくは２個以上のアクリロイル基及び／又はメタクリロイル基を有する化合物である。（メタ）アクリル系ラジカル重合性化合物としては、例えば、シクロヘキサン－１，４－ジメタノールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサン－１，３－ジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の低分子量（分子量１０００未満）の脂肪族（メタ）アクリル酸エステル化合物；ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート、３，６－ジオキサ－１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、３，６，９－トリオキサウンデカン－１，１１－ジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、９，９－ビス［４－（２－アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等の低分子量（分子量１０００未満）のエーテル含有（メタ）アクリル酸エステル化合物；トリス（３－ヒドロキシプロピル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート等の低分子量（分子量１０００未満）のイソシアヌレート含有（メタ）アクリル酸エステル化合物；（メタ）アクリル変性ポリフェニレンエーテル樹脂等の高分子量（分子量１０００以上）のアクリル酸エステル化合物等が挙げられる。（メタ）アクリル系ラジカル重合性化合物の市販品としては、例えば、新中村化学工業社製の「Ａ－ＤＯＧ」（ジオキサングリコールジアクリレート）、共栄社化学社製の「ＤＣＰ－Ａ」（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）、「ＤＣＰ」（トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート）、日本化薬株式会社の「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ－６８４」（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）、「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ－６０４」（ジオキサングリコールジアクリレート）、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチックス社製の「ＳＡ９０００」、「ＳＡ９０００－１１１」（メタクリル変性ポリフェニレンエーテル）等が挙げられる。
【0110】
スチレン系ラジカル重合性化合物は、例えば、芳香族炭素原子に直接結合した１個以上、好ましくは２個以上のビニル基を有する化合物である。スチレン系ラジカル重合性化合物としては、例えば、ジビニルベンゼン、２，４－ジビニルトルエン、２，６－ジビニルナフタレン、１，４－ジビニルナフタレン、４，４’－ジビニルビフェニル、１，２－ビス（４－ビニルフェニル）エタン、２，２－ビス（４－ビニルフェニル）プロパン、ビス（４－ビニルフェニル）エーテル等の低分子量（分子量１０００未満）のスチレン系化合物；ビニルベンジル変性ポリフェニレンエーテル樹脂、スチレン－ジビニルベンゼン共重合体等の高分子量（分子量１０００以上）のスチレン系化合物等が挙げられる。スチレン系ラジカル重合性化合物の市販品としては、例えば、日鉄ケミカル＆マテリアル社製の「ＯＤＶ－ＸＥＴ（Ｘ０３）」、「ＯＤＶ－ＸＥＴ（Ｘ０４）」、「ＯＤＶ－ＸＥＴ（Ｘ０５）」（スチレン－ジビニルベンゼン共重合体）、三菱ガス化学社製の「ＯＰＥ－２Ｓｔ １２００」、「ＯＰＥ－２Ｓｔ ２２００」（ビニルベンジル変性ポリフェニレンエーテル樹脂）が挙げられる。
【0111】
アリル系ラジカル重合性化合物は、例えば、１個以上、好ましくは２個以上のアリル基を有する化合物である。アリル系ラジカル重合性化合物としては、例えば、ジフェン酸ジアリル、トリメリット酸トリアリル、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、２，６－ナフタレンジカルボン酸ジアリル、２，３－ナフタレンカルボン酸ジアリル等の芳香族カルボン酸アリルエステル化合物；１，３，５－トリアリルイソシアヌレート、１，３－ジアリル－５－グリシジルイソシアヌレート等のイソシアヌル酸アリルエステル化合物；２，２－ビス［３－アリル－４－（グリシジルオキシ）フェニル］プロパン等のエポキシ含有芳香族アリル化合物；ビス［３－アリル－４－（３，４－ジヒドロ－２Ｈ‐１，３－ベンゾオキサジン－３－イル）フェニル］メタン等のベンゾオキサジン含有芳香族アリル化合物；１，３，５－トリアリルエーテルベンゼン等のエーテル含有芳香族アリル化合物；ジアリルジフェニルシラン等のアリルシラン化合物等が挙げられる。アリル系ラジカル重合性化合物の市販品としては、日本化成社製の「ＴＡＩＣ」（１，３，５－トリアリルイソシアヌレート）、日触テクノファインケミカル社製の「ＤＡＤ」（ジフェン酸ジアリル）、和光純薬工業社製の「ＴＲＩＡＭ－７０５」（トリメリット酸トリアリル）、日本蒸留工業社製の商品名「ＤＡＮＤ」（２，３－ナフタレンカルボン酸ジアリル）、四国化成工業社製「ＡＬＰ－ｄ」（ビス［３－アリル－４－（３，４－ジヒドロ－２Ｈ－１，３－ベンゾオキサジン－３－イル）フェニル］メタン）、日本化薬社製の「ＲＥ－８１０ＮＭ」（２，２－ビス［３－アリル－４－（グリシジルオキシ）フェニル］プロパン）、四国化成社製の「ＤＡ－ＭＧＩＣ」（１，３－ジアリル－５－グリシジルイソシアヌレート）等が挙げられる。
【0112】
マレイミド系ラジカル重合性化合物は、例えば、１個以上、好ましくは２個以上のマレイミド基を有する化合物である。マレイミド系ラジカル重合性化合物は、脂肪族アミン骨格を含む脂肪族マレイミド化合物であっても、芳香族アミン骨格を含む芳香族マレイミド化合物であってもよく、市販品としては、例えば、信越化学工業社製の「ＳＬＫ－２６００」、デザイナーモレキュールズ社製の「ＢＭＩ－１５００」、「ＢＭＩ－１７００」、「ＢＭＩ－３０００Ｊ」、「ＢＭＩ－６８９」、「ＢＭＩ－２５００」（ダイマージアミン構造含有マレイミド化合物）、デザイナーモレキュールズ社製の「ＢＭＩ－６１００」（芳香族マレイミド化合物）、日本化薬社製の「ＭＩＲ－５０００－６０Ｔ」、「ＭＩＲ－３０００－７０ＭＴ」（ビフェニルアラルキル型マレイミド化合物）、ケイ・アイ化成社製の「ＢＭＩ－７０」、「ＢＭＩ－８０」、大和化成工業社製「ＢＭＩ－２３００」、「ＢＭＩ－ＴＭＨ」等が挙げられる。また、（マレイミド系ラジカル重合性化合物として、発明協会公開技報公技番号２０２０－５００２１１号に開示されているマレイミド樹脂（インダン環骨格含有マレイミド化合物）を用いてもよい。
【0113】
（Ｅ）ラジカル重合性化合物のエチレン性不飽和結合当量は、好ましくは２０ｇ／ｅｑ．～３０００ｇ／ｅｑ．、より好ましくは５０ｇ／ｅｑ．～２５００ｇ／ｅｑ．、さらに好ましくは７０ｇ／ｅｑ．～２０００ｇ／ｅｑ．、特に好ましくは９０ｇ／ｅｑ．～１５００ｇ／ｅｑ．である。エチレン性不飽和結合当量は、エチレン性不飽和結合１当量あたりのラジカル重合性化合物の質量である。
【0114】
（Ｅ）ラジカル重合性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは４００００以下、より好ましくは１００００以下、さらに好ましくは５０００以下、特に好ましくは３０００以下である。下限は、特に限定されるものではないが、例えば、１５０以上等とし得る。
【0115】
樹脂組成物中の（Ｅ）ラジカル重合性化合物の含有量は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは２５質量％以下、より好ましくは１５質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以下、さらにより好ましくは５質量％以下、特に好ましくは３質量％以下である。樹脂組成物中の（Ｅ）ラジカル重合性化合物の含有量の下限は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、例えば、０質量％以上、０．００１質量％以上であり、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．０５質量％以上、さらに好ましくは０．１質量％以上、特に好ましくは０．５質量％以上である。
【0116】
＜（Ｆ）硬化促進剤＞
本発明の樹脂組成物は、さらに任意成分として（Ｆ）硬化促進剤を含んでいてもよい。（Ｆ）硬化促進剤は、（Ｂ）エポキシ樹脂の硬化を促進させる硬化触媒としての機能を有する。
本発明の樹脂組成物は、さらに任意成分として（Ｆ）硬化促進剤を含んでいてもよい。（Ｆ）硬化促進剤は、（Ｂ）エポキシ樹脂の硬化を促進させる硬化触媒としての機能を有する。
【0117】
硬化促進剤としては、例えば、リン系硬化促進剤、ウレア系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、金属系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤等が挙げられる。中でも、架橋性向上の観点から、イミダゾール系硬化促進剤が好ましい。（Ｆ）硬化促進剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0118】
リン系硬化促進剤としては、例えば、テトラブチルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムアセテート、テトラブチルホスホニウムデカノエート、テトラブチルホスホニウムラウレート、ビス（テトラブチルホスホニウム）ピロメリテート、テトラブチルホスホニウムハイドロジェンヘキサヒドロフタレート、テトラブチルホスホニウム２，６－ビス［（２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）メチル］－４－メチルフェノラート、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルホスホニウムテトラフェニルボレート等の脂肪族ホスホニウム塩；メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、プロピルトリフェニルホスホニウムブロマイド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、ｐ－トリルトリフェニルホスホニウムテトラ－ｐ－トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラｐ－トリルボレート、トリフェニルエチルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリス（３－メチルフェニル）エチルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリス（２－メトキシフェニル）エチルホスホニウムテトラフェニルボレート、（４－メチルフェニル）トリフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、ブチルトリフェニルホスホニウムチオシアネート等の芳香族ホスホニウム塩；トリフェニルホスフィン・トリフェニルボラン等の芳香族ホスフィン・ボラン複合体；トリフェニルホスフィン・ｐ－ベンゾキノン付加反応物等の芳香族ホスフィン・キノン付加反応物；トリブチルホスフィン、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（２－ブテニル）ホスフィン、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（３－メチル－２－ブテニル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン等の脂肪族ホスフィン；ジブチルフェニルホスフィン、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、ブチルジフェニルホスフィン、ジフェニルシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ－ｏ－トリルホスフィン、トリ－ｍ－トリルホスフィン、トリ－ｐ－トリルホスフィン、トリス（４－エチルフェニル）ホスフィン、トリス（４－プロピルフェニル）ホスフィン、トリス（４－イソプロピルフェニル）ホスフィン、トリス（４－ブチルフェニル）ホスフィン、トリス（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，４－ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，５－ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，６－ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（３，５－ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，４，６－トリメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，６－ジメチル－４－エトキシフェニル）ホスフィン、トリス（２－メトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４－メトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４－エトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４－ｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）ホスフィン、ジフェニル－２－ピリジルホスフィン、１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，４－ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）アセチレン、２，２’－ビス（ジフェニルホスフィノ）ジフェニルエーテル等の芳香族ホスフィン等が挙げられる。
【0119】
ウレア系硬化促進剤としては、例えば、１，１－ジメチル尿素；１，１，３－トリメチル尿素、３－エチル－１，１－ジメチル尿素、３－シクロヘキシル－１，１－ジメチル尿素、３－シクロオクチル－１，１－ジメチル尿素等の脂肪族ジメチルウレア；３－フェニル－１，１－ジメチル尿素、３－（４－クロロフェニル）－１，１－ジメチル尿素、３－（３，４－ジクロロフェニル）－１，１－ジメチル尿素、３－（３－クロロ－４－メチルフェニル）－１，１－ジメチル尿素、３－（２－メチルフェニル）－１，１－ジメチル尿素、３－（４－メチルフェニル）－１，１－ジメチル尿素、３－（３，４－ジメチルフェニル）－１，１－ジメチル尿素、３－（４－イソプロピルフェニル）－１，１－ジメチル尿素、３－（４－メトキシフェニル）－１，１－ジメチル尿素、３－（４－ニトロフェニル）－１，１－ジメチル尿素、３－［４－（４－メトキシフェノキシ）フェニル］－１，１－ジメチル尿素、３－［４－（４－クロロフェノキシ）フェニル］－１，１－ジメチル尿素、３－［３－（トリフルオロメチル）フェニル］－１，１－ジメチル尿素、Ｎ，Ｎ－（１，４－フェニレン）ビス（Ｎ’，Ｎ’－ジメチル尿素）、Ｎ，Ｎ－（４－メチル－１，３－フェニレン）ビス（Ｎ’，Ｎ’－ジメチル尿素）〔トルエンビスジメチルウレア〕等の芳香族ジメチルウレア等が挙げられる。
【0120】
グアニジン系硬化促進剤としては、例えば、ジシアンジアミド、１－メチルグアニジン、１－エチルグアニジン、１－シクロヘキシルグアニジン、１－フェニルグアニジン、１－（ｏ－トリル）グアニジン、ジメチルグアニジン、ジフェニルグアニジン、トリメチルグアニジン、テトラメチルグアニジン、ペンタメチルグアニジン、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エン、７－メチル－１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エン、１－メチルビグアニド、１－エチルビグアニド、１－ｎ－ブチルビグアニド、１－ｎ－オクタデシルビグアニド、１，１－ジメチルビグアニド、１，１－ジエチルビグアニド、１－シクロヘキシルビグアニド、１－アリルビグアニド、１－フェニルビグアニド、１－（ｏ－トリル）ビグアニド等が挙げられる。
【0121】
イミダゾール系硬化促進剤としては、例えば、２－メチルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、２－ヘプタデシルイミダゾール、１，２－ジメチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、１，２－ジメチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、１－ベンジル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、２，４－ジアミノ－６－［２’－メチルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６－［２’－ウンデシルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６－［２’－エチル－４’－メチルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６－［２’－メチルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジンイソシアヌル酸付加物、２－フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、２－フェニル－４，５－ジヒドロキシメチルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロキシメチルイミダゾール、２，３－ジヒドロ－１Ｈ－ピロロ［１，２－ａ］ベンズイミダゾール、１－ドデシル－２－メチル－３－ベンジルイミダゾリウムクロライド、２－メチルイミダゾリン、２－フェニルイミダゾリン等のイミダゾール化合物及びイミダゾール化合物とエポキシ樹脂とのアダクト体が挙げられる。
【0122】
イミダゾール系硬化促進剤としては、市販品を用いてもよく、例えば、四国化成工業社製の「１Ｂ２ＰＺ」、「２ＭＺＡ－ＰＷ」、「２ＰＨＺ－ＰＷ」、三菱ケミカル社製の「Ｐ２００－Ｈ５０」等が挙げられる。
【0123】
金属系硬化促進剤としては、例えば、コバルト、銅、亜鉛、鉄、ニッケル、マンガン、スズ等の金属の、有機金属錯体又は有機金属塩が挙げられる。有機金属錯体の具体例としては、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトナート等の有機コバルト錯体、銅（ＩＩ）アセチルアセトナート等の有機銅錯体、亜鉛（ＩＩ）アセチルアセトナート等の有機亜鉛錯体、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート等の有機鉄錯体、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート等の有機ニッケル錯体、マンガン（ＩＩ）アセチルアセトナート等の有機マンガン錯体等が挙げられる。有機金属塩としては、例えば、オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸スズ、ステアリン酸亜鉛等が挙げられる。
【0124】
アミン系硬化促進剤としては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミン、４－ジメチルアミノピリジン、ベンジルジメチルアミン、２，４，６，－トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、１，８－ジアザビシクロ（５，４，０）－ウンデセン等が挙げられる。
【0125】
アミン系硬化促進剤としては、市販品を用いてもよく、例えば、味の素ファインテクノ社製の「ＭＹ－２５」等が挙げられる。
【0126】
樹脂組成物中の（Ｆ）硬化促進剤の含有量は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは１５質量％以下、より好ましくは１０質量％以下、さらに好ましくは５質量％以下、特に好ましくは１質量％以下である。樹脂組成物中の（Ｆ）硬化促進剤の含有量の下限は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、例えば、０質量％以上、０．００１質量％以上、０．０１質量％以上、０．０５質量％以上等であり得る。
【0127】
＜（Ｇ）熱可塑性樹脂＞
本発明の樹脂組成物は、さらに任意成分として（Ｇ）熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。ここで説明する（Ｇ）熱可塑性樹脂は、上記で説明した（Ｅ）ラジカル重合性化合物に該当するもの以外の成分である。
本発明の樹脂組成物は、さらに任意成分として（Ｇ）熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。ここで説明する（Ｇ）熱可塑性樹脂は、上記で説明した（Ｅ）ラジカル重合性化合物に該当するもの以外の成分である。
【0128】
（Ｇ）熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリイミド樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。（Ｇ）熱可塑性樹脂は、一実施形態において、ポリイミド樹脂及びフェノキシ樹脂からなる群から選ばれる熱可塑性樹脂を含むことが好ましく、フェノキシ樹脂を含むことがより好ましい。また、熱可塑性樹脂は、１種類単独で用いてもよく、又は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【0129】
ポリイミド樹脂の具体例としては、信越化学工業社製「ＳＬＫ－６１００」、新日本理化社製の「リカコートＳＮ２０」及び「リカコートＰＮ２０」等が挙げられる。
【0130】
フェノキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ骨格、ビスフェノールＦ骨格、ビスフェノールＳ骨格、ビスフェノールアセトフェノン骨格、ノボラック骨格、ビフェニル骨格、フルオレン骨格、ジシクロペンタジエン骨格、ノルボルネン骨格、ナフタレン骨格、アントラセン骨格、アダマンタン骨格、テルペン骨格、及びトリメチルシクロヘキサン骨格からなる群から選択される１種類以上の骨格を有するフェノキシ樹脂が挙げられる。フェノキシ樹脂の末端は、フェノール性水酸基、エポキシ基等のいずれの官能基でもよい。
【0131】
フェノキシ樹脂の具体例としては、三菱ケミカル社製の「１２５６」及び「４２５０」（いずれもビスフェノールＡ骨格含有フェノキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ＹＸ８１００」（ビスフェノールＳ骨格含有フェノキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ＹＸ６９５４」（ビスフェノールアセトフェノン骨格含有フェノキシ樹脂）；新日鉄住金化学社製の「ＦＸ２８０」及び「ＦＸ２９３」；三菱ケミカル社製の「ＹＬ７５００ＢＨ３０」、「ＹＸ６９５４ＢＨ３０」、「ＹＸ７５５３」、「ＹＸ７５５３ＢＨ３０」、「ＹＬ７７６９ＢＨ３０」、「ＹＬ６７９４」、「ＹＬ７２１３」、「ＹＬ７２９０」、「ＹＬ７４８２」及び「ＹＬ７８９１ＢＨ３０」；等が挙げられる。
【0132】
ポリビニルアセタール樹脂としては、例えば、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂が挙げられ、ポリビニルブチラール樹脂が好ましい。ポリビニルアセタール樹脂の具体例としては、電気化学工業社製の「電化ブチラール４０００－２」、「電化ブチラール５０００－Ａ」、「電化ブチラール６０００－Ｃ」、「電化ブチラール６０００－ＥＰ」；積水化学工業社製のエスレックＢＨシリーズ、ＢＸシリーズ（例えばＢＸ－５Ｚ）、ＫＳシリーズ（例えばＫＳ－１）、ＢＬシリーズ、ＢＭシリーズ；等が挙げられる。
【0133】
ポリオレフィン樹脂としては、例えば低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、エチレン－酢酸ビニル共重合体、エチレン－アクリル酸エチル共重合体、エチレン－アクリル酸メチル共重合体等のエチレン系共重合樹脂；ポリプロピレン、エチレン－プロピレンブロック共重合体等のポリオレフィン系重合体等が挙げられる。
【0134】
ポリブタジエン樹脂としては、例えば、水素化ポリブタジエン骨格含有樹脂、ヒドロキシ基含有ポリブタジエン樹脂、フェノール性水酸基含有ポリブタジエン樹脂、カルボキシ基含有ポリブタジエン樹脂、酸無水物基含有ポリブタジエン樹脂、エポキシ基含有ポリブタジエン樹脂、イソシアネート基含有ポリブタジエン樹脂、ウレタン基含有ポリブタジエン樹脂、ポリフェニレンエーテル－ポリブタジエン樹脂等が挙げられる。
【0135】
ポリアミドイミド樹脂の具体例としては、東洋紡社製の「バイロマックスＨＲ１１ＮＮ」及び「バイロマックスＨＲ１６ＮＮ」が挙げられる。ポリアミドイミド樹脂の具体例としてはまた、日立化成社製の「ＫＳ９１００」、「ＫＳ９３００」（ポリシロキサン骨格含有ポリアミドイミド）等の変性ポリアミドイミドが挙げられる。
【0136】
ポリエーテルスルホン樹脂の具体例としては、住友化学社製の「ＰＥＳ５００３Ｐ」等が挙げられる。
【0137】
ポリスルホン樹脂の具体例としては、ソルベイアドバンストポリマーズ社製のポリスルホン「Ｐ１７００」、「Ｐ３５００」等が挙げられる。
【0138】
ポリフェニレンエーテル樹脂の具体例としては、ＳＡＢＩＣ製「ＮＯＲＹＬ ＳＡ９０」等が挙げられる。ポリエーテルイミド樹脂の具体例としては、ＧＥ社製の「ウルテム」等が挙げられる。
【0139】
ポリカーボネート樹脂としては、ヒドロキシ基含有カーボネート樹脂、フェノール性水酸基含有カーボネート樹脂、カルボキシ基含有カーボネート樹脂、酸無水物基含有カーボネート樹脂、イソシアネート基含有カーボネート樹脂、ウレタン基含有カーボネート樹脂等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂の具体例としては、三菱瓦斯化学社製の「ＦＰＣ０２２０」、旭化成ケミカルズ社製の「Ｔ６００２」、「Ｔ６００１」（ポリカーボネートジオール）、クラレ社製の「Ｃ－１０９０」、「Ｃ－２０９０」、「Ｃ－３０９０」（ポリカーボネートジオール）等が挙げられる。ポリエーテルエーテルケトン樹脂の具体例としては、住友化学社製の「スミプロイＫ」等が挙げられる。
【0140】
ポリエステル樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンナフタレート樹脂、ポリトリメチレンテレフタレート樹脂、ポリトリメチレンナフタレート樹脂、ポリシクロヘキサンジメチルテレフタレート樹脂等が挙げられる。
【0141】
（Ｇ）熱可塑性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果を顕著に得る観点から好ましくは５，０００以上、より好ましくは８，０００以上、さらに好ましくは１０，０００以上、特に好ましくは２０，０００以上であり、好ましくは１００，０００以下、より好ましくは７０，０００以下、さらに好ましくは６０，０００以下、特に好ましくは５０，０００以下である。
【0142】
樹脂組成物中の（Ｇ）熱可塑性樹脂の含有量は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、本発明の所望の効果を顕著に得る観点から、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１０質量％以下、さらに好ましくは５質量％以下、さらにより好ましくは３質量％以下、特に好ましくは１質量％以下であり得る。樹脂組成物中の（Ｇ）熱可塑性樹脂の含有量の下限は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、例えば、０質量％以上、０．０１質量％以上、０．１質量％以上、０．５質量％以上等であり得る。
【0143】
＜（Ｈ）その他の添加剤＞
本発明の樹脂組成物は、不揮発成分として、さらに任意の添加剤を含んでいてもよい。このような添加剤としては、例えば、過酸化物系ラジカル重合開始剤、アゾ系ラジカル重合開始剤等のラジカル重合開始剤；エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ウレタン樹脂、シアネート樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂等のエポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂；ゴム粒子等の有機充填材；有機銅化合物、有機亜鉛化合物、有機コバルト化合物等の有機金属化合物；フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、アイオディングリーン、ジアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック等の着色剤；ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、フェノチアジン等の重合禁止剤；シリコーン系レベリング剤、アクリルポリマー系レベリング剤等のレベリング剤；ベントン、モンモリロナイト等の増粘剤；シリコーン系消泡剤、アクリル系消泡剤、フッ素系消泡剤、ビニル樹脂系消泡剤等の消泡剤；ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤；尿素シラン等の接着性向上剤；トリアゾール系密着性付与剤、テトラゾール系密着性付与剤、トリアジン系密着性付与剤等の密着性付与剤；ヒンダードフェノール系酸化防止剤等の酸化防止剤；スチルベン誘導体等の蛍光増白剤；フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤；リン系難燃剤（例えばリン酸エステル化合物、ホスファゼン化合物、ホスフィン酸化合物、赤リン）、窒素系難燃剤（例えば硫酸メラミン）、ハロゲン系難燃剤、無機系難燃剤（例えば三酸化アンチモン）等の難燃剤；リン酸エステル系分散剤、ポリオキシアルキレン系分散剤、アセチレン系分散剤、シリコーン系分散剤、アニオン性分散剤、カチオン性分散剤等の分散剤；ボレート系安定剤、チタネート系安定剤、アルミネート系安定剤、ジルコネート系安定剤、イソシアネート系安定剤、カルボン酸系安定剤、カルボン酸無水物系安定剤等の安定剤等が挙げられる。（Ｈ）その他の添加剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。（Ｈ）その他の添加剤の含有量は当業者であれば適宜設定できる。
本発明の樹脂組成物は、不揮発成分として、さらに任意の添加剤を含んでいてもよい。このような添加剤としては、例えば、過酸化物系ラジカル重合開始剤、アゾ系ラジカル重合開始剤等のラジカル重合開始剤；エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ウレタン樹脂、シアネート樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂等のエポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂；ゴム粒子等の有機充填材；有機銅化合物、有機亜鉛化合物、有機コバルト化合物等の有機金属化合物；フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、アイオディングリーン、ジアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック等の着色剤；ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、フェノチアジン等の重合禁止剤；シリコーン系レベリング剤、アクリルポリマー系レベリング剤等のレベリング剤；ベントン、モンモリロナイト等の増粘剤；シリコーン系消泡剤、アクリル系消泡剤、フッ素系消泡剤、ビニル樹脂系消泡剤等の消泡剤；ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤；尿素シラン等の接着性向上剤；トリアゾール系密着性付与剤、テトラゾール系密着性付与剤、トリアジン系密着性付与剤等の密着性付与剤；ヒンダードフェノール系酸化防止剤等の酸化防止剤；スチルベン誘導体等の蛍光増白剤；フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤；リン系難燃剤（例えばリン酸エステル化合物、ホスファゼン化合物、ホスフィン酸化合物、赤リン）、窒素系難燃剤（例えば硫酸メラミン）、ハロゲン系難燃剤、無機系難燃剤（例えば三酸化アンチモン）等の難燃剤；リン酸エステル系分散剤、ポリオキシアルキレン系分散剤、アセチレン系分散剤、シリコーン系分散剤、アニオン性分散剤、カチオン性分散剤等の分散剤；ボレート系安定剤、チタネート系安定剤、アルミネート系安定剤、ジルコネート系安定剤、イソシアネート系安定剤、カルボン酸系安定剤、カルボン酸無水物系安定剤等の安定剤等が挙げられる。（Ｈ）その他の添加剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。（Ｈ）その他の添加剤の含有量は当業者であれば適宜設定できる。
【0144】
＜（Ｉ）有機溶剤＞
本発明の樹脂組成物は、上述した不揮発成分以外に、揮発性成分として、さらに任意の有機溶剤を含有する場合がある。（Ｉ）有機溶剤としては、公知のものを適宜用いることができ、その種類は特に限定されるものではない。（Ｉ）有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソアミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ-ブチロラクトン等のエステル系溶剤；テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジフェニルエーテル、アニソール等のエーテル系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶剤；酢酸２－エトキシエチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチルジグリコールアセテート、γ－ブチロラクトン、メトキシプロピオン酸メチル等のエーテルエステル系溶剤；乳酸メチル、乳酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル等のエステルアルコール系溶剤；２－メトキシプロパノール、２－メトキシエタノール、２－エトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）等のエーテルアルコール系溶剤；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等のアミド系溶剤；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶剤；ヘキサン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤等を挙げることができる。（Ｉ）有機溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
本発明の樹脂組成物は、上述した不揮発成分以外に、揮発性成分として、さらに任意の有機溶剤を含有する場合がある。（Ｉ）有機溶剤としては、公知のものを適宜用いることができ、その種類は特に限定されるものではない。（Ｉ）有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソアミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ-ブチロラクトン等のエステル系溶剤；テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジフェニルエーテル、アニソール等のエーテル系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶剤；酢酸２－エトキシエチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチルジグリコールアセテート、γ－ブチロラクトン、メトキシプロピオン酸メチル等のエーテルエステル系溶剤；乳酸メチル、乳酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル等のエステルアルコール系溶剤；２－メトキシプロパノール、２－メトキシエタノール、２－エトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）等のエーテルアルコール系溶剤；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等のアミド系溶剤；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶剤；ヘキサン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤等を挙げることができる。（Ｉ）有機溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【0145】
一実施形態において、（Ｉ）有機溶剤の含有量は、特に限定されるものではないが、樹脂組成物中の全成分を１００質量％とした場合、例えば、６０質量％以下、４０質量％以下、３０質量％以下、２０質量％以下、１５質量％以下、１０質量％以下等であり得る。
【0146】
＜樹脂組成物の製造方法＞
本発明の樹脂組成物は、例えば、任意の調製容器に（Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、（Ｄ）無機充填材、必要に応じて（Ｃ’）その他の硬化剤、必要に応じて（Ｅ）ラジカル重合性化合物、必要に応じて（Ｆ）硬化促進剤、必要に応じて（Ｇ）熱可塑性樹脂、必要に応じて（Ｈ）その他の添加剤、及び必要に応じて（Ｉ）有機溶剤を、任意の順で及び／又は一部若しくは全部同時に加えて混合することによって、製造することができる。また、各成分を加えて混合する過程で、温度を適宜設定することができ、一時的に又は終始にわたって、加熱及び／又は冷却してもよい。また、加えて混合する過程において又はその後に、樹脂組成物を、例えば、ミキサーなどの撹拌装置又は振盪装置を用いて撹拌又は振盪し、均一に分散させてもよい。また、撹拌又は振盪と同時に、真空下等の低圧条件下で脱泡を行ってもよい。
本発明の樹脂組成物は、例えば、任意の調製容器に（Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、（Ｄ）無機充填材、必要に応じて（Ｃ’）その他の硬化剤、必要に応じて（Ｅ）ラジカル重合性化合物、必要に応じて（Ｆ）硬化促進剤、必要に応じて（Ｇ）熱可塑性樹脂、必要に応じて（Ｈ）その他の添加剤、及び必要に応じて（Ｉ）有機溶剤を、任意の順で及び／又は一部若しくは全部同時に加えて混合することによって、製造することができる。また、各成分を加えて混合する過程で、温度を適宜設定することができ、一時的に又は終始にわたって、加熱及び／又は冷却してもよい。また、加えて混合する過程において又はその後に、樹脂組成物を、例えば、ミキサーなどの撹拌装置又は振盪装置を用いて撹拌又は振盪し、均一に分散させてもよい。また、撹拌又は振盪と同時に、真空下等の低圧条件下で脱泡を行ってもよい。
【0147】
＜樹脂組成物の特性＞
本発明の樹脂組成物は、（Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、及び（Ｄ）無機充填材を含み、（Ｃ）活性エステル化合物の含有量が１０質量％以上であり、（Ｄ）無機充填材の含有量が６０質量％以上である。このような樹脂組成物を用いることにより、硬化物の誘電正接（Ｄｆ）を低く抑えることができ且つラミネート後のムラの発生を抑えることができる。
本発明の樹脂組成物は、（Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）活性エステル化合物、及び（Ｄ）無機充填材を含み、（Ｃ）活性エステル化合物の含有量が１０質量％以上であり、（Ｄ）無機充填材の含有量が６０質量％以上である。このような樹脂組成物を用いることにより、硬化物の誘電正接（Ｄｆ）を低く抑えることができ且つラミネート後のムラの発生を抑えることができる。
【0148】
本発明の樹脂組成物の硬化物は、誘電正接（Ｄｆ）が低いという特徴を有し得る。したがって、一実施形態において、下記試験例１のように５．８ＧＨｚ、２３℃で測定した場合の樹脂組成物の硬化物の誘電正接（Ｄｆ）は、好ましくは０．０２００以下、０．０１００以下、より好ましくは０．００８０以下、０．００７０以下、０．００６０以下、０．００５０以下、さらに好ましくは０．００４０以下、０．００３５以下、０．００３０以下、特に好ましくは０．００２７以下、０．００２６以下となり得る。
【0149】
本発明の樹脂組成物は、ラミネート後のムラの発生を抑えることができるという特徴を有し得る。したがって、一実施形態において、下記試験例２のように本発明の樹脂組成物を内層基板にラミネートした後、内層基板周囲の樹脂の凹みを観察した場合に、凹みが観察され得ない。
【0150】
一実施形態において、本発明の樹脂組成物の硬化物は、粗化処理後の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が低いという特徴を有し得る。したがって、一実施形態において、下記試験例３のように測定される粗化処理後の硬化物表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下、さらに好ましくは１５０ｎｍ以下、さらにより好ましくは１００ｎｍ以下、特に好ましくは５０ｎｍ以下となり得る。下限については特に限定されるものではなく、例えば、１ｎｍ以上、２ｎｍ以上等とし得る。
【0151】
一実施形態において、本発明の樹脂組成物の硬化物は、銅めっきピール強度に優れているという特徴を有し得る。したがって、一実施形態において、下記試験例４のように硬化物に銅めっき導体層の形成し、垂直方向に銅めっき導体層を引き剥がした時の荷重から算出される銅めっきピール強度が、好ましくは０．２ｋｇｆ／ｃｍ以上、より好ましくは０．２５ｋｇｆ／ｃｍ以上、さらに好ましくは０．３ｋｇｆ／ｃｍ以上、特に好ましくは０．３５ｋｇｆ／ｃｍ以上、０．３８ｋｇｆ／ｃｍ以上となり得る。上限については特に限定されるものではないが、例えば、１０ｋｇｆ／ｃｍ以下等とし得る。
【0152】
＜樹脂組成物の用途＞
本発明の樹脂組成物は、絶縁用途の樹脂組成物、特に、絶縁層を形成するための樹脂組成物として好適に使用することができる。具体的には、絶縁層上に形成される導体層（再配線層を含む）を形成するための当該絶縁層を形成するための樹脂組成物（導体層を形成するための絶縁層形成用樹脂組成物）として好適に使用することができる。また、後述するプリント配線板において、プリント配線板の絶縁層を形成するための樹脂組成物（プリント配線板の絶縁層形成用樹脂組成物）として好適に使用することができる。本発明の樹脂組成物はまた、樹脂シート、プリプレグ等のシート状積層材料、ソルダーレジスト、アンダーフィル材、ダイボンディング材、半導体封止材、穴埋め樹脂、部品埋め込み樹脂等、樹脂組成物が必要とされる用途で広範囲に使用できる。
本発明の樹脂組成物は、絶縁用途の樹脂組成物、特に、絶縁層を形成するための樹脂組成物として好適に使用することができる。具体的には、絶縁層上に形成される導体層（再配線層を含む）を形成するための当該絶縁層を形成するための樹脂組成物（導体層を形成するための絶縁層形成用樹脂組成物）として好適に使用することができる。また、後述するプリント配線板において、プリント配線板の絶縁層を形成するための樹脂組成物（プリント配線板の絶縁層形成用樹脂組成物）として好適に使用することができる。本発明の樹脂組成物はまた、樹脂シート、プリプレグ等のシート状積層材料、ソルダーレジスト、アンダーフィル材、ダイボンディング材、半導体封止材、穴埋め樹脂、部品埋め込み樹脂等、樹脂組成物が必要とされる用途で広範囲に使用できる。
【0153】
また、例えば、以下の（１）～（６）工程を経て半導体チップパッケージが製造される場合、本発明の樹脂組成物は、再配線層を形成するための絶縁層としての再配線形成層用の樹脂組成物（再配線形成層形成用の樹脂組成物）、及び半導体チップを封止するための樹脂組成物（半導体チップ封止用の樹脂組成物）としても好適に使用することができる。半導体チップパッケージが製造される際、封止層上に更に再配線層を形成してもよい。
（１）基材に仮固定フィルムを積層する工程、
（２）半導体チップを、仮固定フィルム上に仮固定する工程、
（３）半導体チップ上に封止層を形成する工程、
（４）基材及び仮固定フィルムを半導体チップから剥離する工程、
（５）半導体チップの基材及び仮固定フィルムを剥離した面に、絶縁層としての再配線形成層を形成する工程、及び
（６）再配線形成層上に、導体層としての再配線層を形成する工程
（１）基材に仮固定フィルムを積層する工程、
（２）半導体チップを、仮固定フィルム上に仮固定する工程、
（３）半導体チップ上に封止層を形成する工程、
（４）基材及び仮固定フィルムを半導体チップから剥離する工程、
（５）半導体チップの基材及び仮固定フィルムを剥離した面に、絶縁層としての再配線形成層を形成する工程、及び
（６）再配線形成層上に、導体層としての再配線層を形成する工程
【0154】
また、本発明の樹脂組成物は、部品埋め込み性に良好な絶縁層をもたらすことから、プリント配線板が部品内蔵回路板である場合にも好適に使用することができる。
【0155】
＜シート状積層材料＞
本発明の樹脂組成物は、ワニス状態で塗布して使用することもできるが、工業的には一般に、該樹脂組成物を含有するシート状積層材料の形態で用いることが好適である。
本発明の樹脂組成物は、ワニス状態で塗布して使用することもできるが、工業的には一般に、該樹脂組成物を含有するシート状積層材料の形態で用いることが好適である。
【0156】
シート状積層材料としては、以下に示す樹脂シート、プリプレグが好ましい。
【0157】
一実施形態において、樹脂シートは、支持体と、該支持体上に設けられた樹脂組成物層とを含んでなり、樹脂組成物層は本発明の樹脂組成物から形成される。
【0158】
樹脂組成物層の厚さは、プリント配線板の薄型化、及び当該樹脂組成物の硬化物が薄膜であっても絶縁性に優れた硬化物を提供できるという観点から、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４０μｍ以下である。樹脂組成物層の厚さの下限は、特に限定されないが、通常、５μｍ以上、１０μｍ以上等とし得る。
【0159】
支持体としては、例えば、プラスチック材料からなるフィルム、金属箔、離型紙が挙げられ、プラスチック材料からなるフィルム、金属箔が好ましい。
【0160】
支持体としてプラスチック材料からなるフィルムを使用する場合、プラスチック材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（以下「ＰＥＴ」と略称することがある。）、ポリエチレンナフタレート（以下「ＰＥＮ」と略称することがある。）等のポリエステル、ポリカーボネート（以下「ＰＣ」と略称することがある。）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のアクリル、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルファイド（ＰＥＳ）、ポリエーテルケトン、ポリイミド等が挙げられる。中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましく、安価なポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
【0161】
支持体として金属箔を使用する場合、金属箔としては、例えば、銅箔、アルミニウム箔等が挙げられ、銅箔が好ましい。銅箔としては、銅の単金属からなる箔を用いてもよく、銅と他の金属（例えば、スズ、クロム、銀、マグネシウム、ニッケル、ジルコニウム、ケイ素、チタン等）との合金からなる箔を用いてもよい。
【0162】
支持体は、樹脂組成物層と接合する面にマット処理、コロナ処理、帯電防止処理を施してあってもよい。
【0163】
また、支持体としては、樹脂組成物層と接合する面に離型層を有する離型層付き支持体を使用してもよい。離型層付き支持体の離型層に使用する離型剤としては、例えば、アルキド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、及びシリコーン樹脂からなる群から選択される１種以上の離型剤が挙げられる。離型層付き支持体は、市販品を用いてもよく、例えば、アルキド樹脂系離型剤を主成分とする離型層を有するＰＥＴフィルムである、リンテック社製の「ＳＫ－１」、「ＡＬ－５」、「ＡＬ－７」、東レ社製の「ルミラーＴ６０」、帝人社製の「ピューレックス」、ユニチカ社製の「ユニピール」等が挙げられる。
【0164】
支持体の厚さは、特に限定されないが、５μｍ～７５μｍの範囲が好ましく、１０μｍ～６０μｍの範囲がより好ましい。なお、離型層付き支持体を使用する場合、離型層付き支持体全体の厚さが上記範囲であることが好ましい。
【0165】
一実施形態において、樹脂シートは、さらに必要に応じて、任意の層を含んでいてもよい。斯かる任意の層としては、例えば、樹脂組成物層の支持体と接合していない面（即ち、支持体とは反対側の面）に設けられた、支持体に準じた保護フィルム等が挙げられる。保護フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、例えば、１μｍ～４０μｍである。保護フィルムを積層することにより、樹脂組成物層の表面へのゴミ等の付着やキズを抑制することができる。
【0166】
樹脂シートは、例えば、液状の樹脂組成物をそのまま、或いは有機溶剤に樹脂組成物を溶解した樹脂ワニスを調製し、これを、ダイコーター等を用いて支持体上に塗布し、更に乾燥させて樹脂組成物層を形成させることにより製造することができる。
【0167】
有機溶剤としては、樹脂組成物の成分として説明した有機溶剤と同様のものが挙げられる。有機溶剤は１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0168】
乾燥は、加熱、熱風吹きつけ等の公知の方法により実施してよい。乾燥条件は特に限定されないが、樹脂組成物層中の有機溶剤の含有量が１０質量％以下、好ましくは５質量％以下となるように乾燥させる。樹脂組成物又は樹脂ワニス中の有機溶剤の沸点によっても異なるが、例えば３０質量％～６０質量％の有機溶剤を含む樹脂組成物又は樹脂ワニスを用いる場合、５０℃～１５０℃で３分間～１０分間乾燥させることにより、樹脂組成物層を形成することができる。
【0169】
樹脂シートは、ロール状に巻きとって保存することが可能である。樹脂シートが保護フィルムを有する場合、保護フィルムを剥がすことによって使用可能となる。
【0170】
一実施形態において、プリプレグは、シート状繊維基材に本発明の樹脂組成物を含浸させて形成される。
【0171】
プリプレグに用いるシート状繊維基材は特に限定されず、ガラスクロス、アラミド不織布、液晶ポリマー不織布等のプリプレグ用基材として常用されているものを用いることができる。プリント配線板の薄型化の観点から、シート状繊維基材の厚さは、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以下、特に好ましくは２０μｍ以下である。シート状繊維基材の厚さの下限は特に限定されない。通常、１０μｍ以上である。
【0172】
プリプレグは、ホットメルト法、ソルベント法等の公知の方法により製造することができる。
【0173】
プリプレグの厚さは、上述の樹脂シートにおける樹脂組成物層と同様の範囲とし得る。
【0174】
本発明のシート状積層材料は、プリント配線板の絶縁層を形成するため（プリント配線板の絶縁層用）に好適に使用することができ、プリント配線板の層間絶縁層を形成するため（プリント配線板の層間絶縁層用）により好適に使用することができる。
【0175】
＜プリント配線板＞
本発明のプリント配線板は、本発明の樹脂組成物を硬化して得られる硬化物からなる絶縁層を含む。
本発明のプリント配線板は、本発明の樹脂組成物を硬化して得られる硬化物からなる絶縁層を含む。
【0176】
プリント配線板は、例えば、上述の樹脂シートを用いて、下記（Ｉ）及び（ＩＩ）の工程を含む方法により製造することができる。
（Ｉ）内層基板上に、樹脂シートを、樹脂シートの樹脂組成物層が内層基板と接合するように積層する工程
（ＩＩ）樹脂組成物層を硬化（例えば熱硬化）して絶縁層を形成する工程
（Ｉ）内層基板上に、樹脂シートを、樹脂シートの樹脂組成物層が内層基板と接合するように積層する工程
（ＩＩ）樹脂組成物層を硬化（例えば熱硬化）して絶縁層を形成する工程
【0177】
工程（Ｉ）で用いる「内層基板」とは、プリント配線板の基板となる部材であって、例えば、ガラスエポキシ基板、金属基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、ＢＴレジン基板、熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板等が挙げられる。また、該基板は、その片面又は両面に導体層を有していてもよく、この導体層はパターン加工されていてもよい。基板の片面または両面に導体層（回路）が形成された内層基板は「内層回路基板」ということがある。またプリント配線板を製造する際に、さらに絶縁層及び／又は導体層が形成されるべき中間製造物も本発明でいう「内層基板」に含まれる。プリント配線板が部品内蔵回路板である場合、部品を内蔵した内層基板を使用してもよい。
【0178】
内層基板と樹脂シートの積層は、例えば、支持体側から樹脂シートを内層基板に加熱圧着することにより行うことができる。樹脂シートを内層基板に加熱圧着する部材（以下、「加熱圧着部材」ともいう。）としては、例えば、加熱された金属板（ＳＵＳ鏡板等）又は金属ロール（ＳＵＳロール）等が挙げられる。なお、加熱圧着部材を樹脂シートに直接プレスするのではなく、内層基板の表面凹凸に樹脂シートが十分に追随するよう、耐熱ゴム等の弾性材を介してプレスするのが好ましい。
【0179】
内層基板と樹脂シートの積層は、真空ラミネート法により実施してよい。真空ラミネート法において、加熱圧着温度は、好ましくは６０℃～１６０℃、より好ましくは８０℃～１４０℃の範囲であり、加熱圧着圧力は、好ましくは０．０９８ＭＰａ～１．７７ＭＰａ、より好ましくは０．２９ＭＰａ～１．４７ＭＰａの範囲であり、加熱圧着時間は、好ましくは２０秒間～４００秒間、より好ましくは３０秒間～３００秒間の範囲である。積層は、好ましくは圧力２６．７ｈＰａ以下の減圧条件下で実施され得る。
【0180】
積層は、市販の真空ラミネーターによって行うことができる。市販の真空ラミネーターとしては、例えば、名機製作所社製の真空加圧式ラミネーター、ニッコー・マテリアルズ社製のバキュームアップリケーター、バッチ式真空加圧ラミネーター等が挙げられる。
【0181】
積層の後に、常圧下（大気圧下）、例えば、加熱圧着部材を支持体側からプレスすることにより、積層された樹脂シートの平滑化処理を行ってもよい。平滑化処理のプレス条件は、上記積層の加熱圧着条件と同様の条件とすることができる。平滑化処理は、市販のラミネーターによって行うことができる。なお、積層と平滑化処理は、上記の市販の真空ラミネーターを用いて連続的に行ってもよい。
【0182】
支持体は、工程（Ｉ）と工程（ＩＩ）の間に除去してもよく、工程（ＩＩ）の後に除去してもよい。
【0183】
工程（ＩＩ）において、樹脂組成物層を硬化（例えば熱硬化）して、樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層を形成する。樹脂組成物層の硬化条件は特に限定されず、プリント配線板の絶縁層を形成するに際して通常採用される条件を使用してよい。
【0184】
例えば、樹脂組成物層の熱硬化条件は、樹脂組成物の種類等によっても異なるが、一実施形態において、硬化温度は好ましくは１２０℃～２４０℃、より好ましくは１５０℃～２２０℃、さらに好ましくは１７０℃～２１０℃である。硬化時間は好ましくは５分間～１２０分間、より好ましくは１０分間～１００分間、さらに好ましくは１５分間～１００分間とすることができる。
【0185】
樹脂組成物層を熱硬化させる前に、樹脂組成物層を硬化温度よりも低い温度にて予備加熱してもよい。例えば、樹脂組成物層を熱硬化させるのに先立ち、５０℃～１２０℃、好ましくは６０℃～１１５℃、より好ましくは７０℃～１１０℃の温度にて、樹脂組成物層を５分間以上、好ましくは５分間～１５０分間、より好ましくは１５分間～１２０分間、さらに好ましくは１５分間～１００分間予備加熱してもよい。
【0186】
プリント配線板を製造するに際しては、（ＩＩＩ）絶縁層に穴あけする工程、（ＩＶ）絶縁層を粗化処理する工程、（Ｖ）導体層を形成する工程をさらに実施してもよい。これらの工程（ＩＩＩ）乃至工程（Ｖ）は、プリント配線板の製造に用いられる、当業者に公知の各種方法に従って実施してよい。なお、支持体を工程（ＩＩ）の後に除去する場合、該支持体の除去は、工程（ＩＩ）と工程（ＩＩＩ）との間、工程（ＩＩＩ）と工程（ＩＶ）の間、又は工程（ＩＶ）と工程（Ｖ）との間に実施してよい。また、必要に応じて、工程（ＩＩ）～工程（Ｖ）の絶縁層及び導体層の形成を繰り返して実施し、多層配線板を形成してもよい。
【0187】
他の実施形態において、本発明のプリント配線板は、上述のプリプレグを用いて製造することができる。製造方法は基本的に樹脂シートを用いる場合と同様である。
【0188】
工程（ＩＩＩ）は、絶縁層に穴あけする工程であり、これにより絶縁層にビアホール、スルーホール等のホールを形成することができる。工程（ＩＩＩ）は、絶縁層の形成に使用した樹脂組成物の組成等に応じて、例えば、ドリル、レーザー、プラズマ等を使用して実施してよい。ホールの寸法や形状は、プリント配線板のデザインに応じて適宜決定してよい。
【0189】
工程（ＩＶ）は、絶縁層を粗化処理する工程である。通常、この工程（ＩＶ）において、スミアの除去も行われる。粗化処理の手順、条件は特に限定されず、プリント配線板の絶縁層を形成するに際して通常使用される公知の手順、条件を採用することができる。例えば、膨潤液による膨潤処理、酸化剤による粗化処理、中和液による中和処理をこの順に実施して絶縁層を粗化処理することができる。
【0190】
粗化処理に用いる膨潤液としては特に限定されないが、アルカリ溶液、界面活性剤溶液等が挙げられ、好ましくはアルカリ溶液であり、該アルカリ溶液としては、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液がより好ましい。市販されている膨潤液としては、例えば、アトテックジャパン社製の「スウェリング・ディップ・セキュリガンスＰ」、「スウェリング・ディップ・セキュリガンスＳＢＵ」等が挙げられる。膨潤液による膨潤処理は、特に限定されないが、例えば、３０℃～９０℃の膨潤液に絶縁層を１分間～２０分間浸漬することにより行うことができる。絶縁層の樹脂の膨潤を適度なレベルに抑える観点から、４０℃～８０℃の膨潤液に絶縁層を５分間～１５分間浸漬させることが好ましい。
【0191】
粗化処理に用いる酸化剤としては、特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウムの水溶液に過マンガン酸カリウム又は過マンガン酸ナトリウムを溶解したアルカリ性過マンガン酸溶液が挙げられる。アルカリ性過マンガン酸溶液等の酸化剤による粗化処理は、６０℃～１００℃に加熱した酸化剤溶液に絶縁層を１０分間～３０分間浸漬させて行うことが好ましい。また、アルカリ性過マンガン酸溶液における過マンガン酸塩の濃度は５質量％～１０質量％が好ましい。市販されている酸化剤としては、例えば、アトテックジャパン社製の「コンセントレート・コンパクトＣＰ」、「ドージングソリューション・セキュリガンスＰ」等のアルカリ性過マンガン酸溶液が挙げられる。
【0192】
また、粗化処理に用いる中和液としては、酸性の水溶液が好ましく、市販品としては、例えば、アトテックジャパン社製の「リダクションソリューション・セキュリガントＰ」が挙げられる。
【0193】
中和液による処理は、酸化剤による粗化処理がなされた処理面を３０℃～８０℃の中和液に５分間～３０分間浸漬させることにより行うことができる。作業性等の点から、酸化剤による粗化処理がなされた対象物を、４０℃～７０℃の中和液に５分間～２０分間浸漬する方法が好ましい。
【0194】
一実施形態において、粗化処理後の絶縁層表面の二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）は、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは４００ｎｍ以下、さらに好ましくは３００ｎｍ以下である。下限については特に限定されるものではなく、例えば、１ｎｍ以上、２ｎｍ以上等とし得る。絶縁層表面の二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）は、非接触型表面粗さ計を用いて測定することができる。
【0195】
工程（Ｖ）は、導体層を形成する工程であり、絶縁層上に導体層を形成する。導体層に使用する導体材料は特に限定されない。好適な実施形態では、導体層は、金、白金、パラジウム、銀、銅、アルミニウム、コバルト、クロム、亜鉛、ニッケル、チタン、タングステン、鉄、スズ及びインジウムからなる群から選択される１種以上の金属を含む。導体層は、単金属層であっても合金層であってもよく、合金層としては、例えば、上記の群から選択される２種以上の金属の合金（例えば、ニッケル・クロム合金、銅・ニッケル合金及び銅・チタン合金）から形成された層が挙げられる。中でも、導体層形成の汎用性、コスト、パターニングの容易性等の観点から、クロム、ニッケル、チタン、アルミニウム、亜鉛、金、パラジウム、銀若しくは銅の単金属層、又はニッケル・クロム合金、銅・ニッケル合金、銅・チタン合金の合金層が好ましく、クロム、ニッケル、チタン、アルミニウム、亜鉛、金、パラジウム、銀若しくは銅の単金属層、又はニッケル・クロム合金の合金層がより好ましく、銅の単金属層が更に好ましい。
【0196】
導体層は、単層構造であっても、異なる種類の金属若しくは合金からなる単金属層又は合金層が２層以上積層した複層構造であってもよい。導体層が複層構造である場合、絶縁層と接する層は、クロム、亜鉛若しくはチタンの単金属層、又はニッケル・クロム合金の合金層であることが好ましい。
【0197】
導体層の厚さは、所望のプリント配線板のデザインによるが、一般に３μｍ～３５μｍ、好ましくは５μｍ～３０μｍである。
【0198】
一実施形態において、導体層は、メッキにより形成してよい。例えば、セミアディティブ法、フルアディティブ法等の従来公知の技術により絶縁層の表面にメッキして、所望の配線パターンを有する導体層を形成することができ、製造の簡便性の観点から、セミアディティブ法により形成することが好ましい。以下、導体層をセミアディティブ法により形成する例を示す。
【0199】
まず、絶縁層の表面に、無電解メッキによりメッキシード層を形成する。次いで、形成されたメッキシード層上に、所望の配線パターンに対応してメッキシード層の一部を露出させるマスクパターンを形成する。露出したメッキシード層上に、電解メッキにより金属層を形成した後、マスクパターンを除去する。その後、不要なメッキシード層をエッチング等により除去して、所望の配線パターンを有する導体層を形成することができる。
【0200】
他の実施形態において、導体層は、金属箔を使用して形成してよい。金属箔を使用して導体層を形成する場合、工程（Ｖ）は、工程（Ｉ）と工程（ＩＩ）の間に実施することが好適である。例えば、工程（Ｉ）の後、支持体を除去し、露出した樹脂組成物層の表面に金属箔を積層する。樹脂組成物層と金属箔との積層は、真空ラミネート法により実施してよい。積層の条件は、工程（Ｉ）について説明した条件と同様としてよい。次いで、工程（ＩＩ）を実施して絶縁層を形成する。その後、絶縁層上の金属箔を利用して、サブトラクティブ法、モディファイドセミアディティブ法等の従来の公知の技術により、所望の配線パターンを有する導体層を形成することができる。
【0201】
金属箔は、例えば、電解法、圧延法等の公知の方法により製造することができる。金属箔の市販品としては、例えば、ＪＸ日鉱日石金属社製のＨＬＰ箔、ＪＸＵＴ－ＩＩＩ箔、三井金属鉱山社製の３ＥＣ－ＩＩＩ箔、ＴＰ－ＩＩＩ箔等が挙げられる。
【0202】
＜半導体装置＞
本発明の半導体装置は、本発明のプリント配線板を含む。本発明の半導体装置は、本発明のプリント配線板を用いて製造することができる。
本発明の半導体装置は、本発明のプリント配線板を含む。本発明の半導体装置は、本発明のプリント配線板を用いて製造することができる。
【0203】
半導体装置としては、電気製品（例えば、コンピューター、携帯電話、デジタルカメラ及びテレビ等）及び乗物（例えば、自動二輪車、自動車、電車、船舶及び航空機等）等に供される各種半導体装置が挙げられる。
【実施例0204】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下において、量を表す「部」及び「％」は、別途明示のない限り、それぞれ「質量部」及び「質量％」を意味する。特に温度及び圧力の指定が無い場合の温度条件及び圧力条件は、それぞれ、室温（２３℃）及び大気圧（１ａｔｍ）である。
【0205】
＜実施例１＞
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」、数平均分子量約１５０００、不揮発成分率６０％のキシレン溶液）１部、ナフタレン型エポキシ樹脂（ＤＩＣ社製「ＨＰ－４０３２－ＳＳ」、１，６－ビス（グリシジルオキシ）ナフタレン、エポキシ当量約１４５ｇ／ｅｑ．）１０部、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」、活性エステル基当量約２２３ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６５％のトルエン溶液）３０部、シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」、平均粒径０．５μｍ、比表面積５．８ｍ２／ｇ）９０部、トリアジン骨格含有フェノール系硬化剤（ＤＩＣ社製「ＬＡ－３０１８－５０Ｐ」、活性基当量約１５１ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率５０％の２－メトキシプロパノール溶液）２部、カルボジイミド系硬化剤（日清紡ケミカル社製「Ｖ－０３」、活性基当量約２１６ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率５０％のトルエン溶液）５部、イミダゾール系硬化促進剤（四国化成工業社製「１Ｂ２ＰＺ」、１－ベンジル－２－フェニルイミダゾール）０．５部をＭＥＫ５０部に混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」、数平均分子量約１５０００、不揮発成分率６０％のキシレン溶液）１部、ナフタレン型エポキシ樹脂（ＤＩＣ社製「ＨＰ－４０３２－ＳＳ」、１，６－ビス（グリシジルオキシ）ナフタレン、エポキシ当量約１４５ｇ／ｅｑ．）１０部、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」、活性エステル基当量約２２３ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６５％のトルエン溶液）３０部、シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」、平均粒径０．５μｍ、比表面積５．８ｍ２／ｇ）９０部、トリアジン骨格含有フェノール系硬化剤（ＤＩＣ社製「ＬＡ－３０１８－５０Ｐ」、活性基当量約１５１ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率５０％の２－メトキシプロパノール溶液）２部、カルボジイミド系硬化剤（日清紡ケミカル社製「Ｖ－０３」、活性基当量約２１６ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率５０％のトルエン溶液）５部、イミダゾール系硬化促進剤（四国化成工業社製「１Ｂ２ＰＺ」、１－ベンジル－２－フェニルイミダゾール）０．５部をＭＥＫ５０部に混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
【0206】
＜実施例２＞
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」）１部の代わりに、フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－９１０ＬＭ」、数平均分子量約１００００、不揮発成分率６５％のキシレン溶液）１部と、フェノキシ樹脂（三菱化学社製「ＹＸ７５５３ＢＨ３０」、不揮発成分率３０％のＭＥＫとシクロヘキサノンの１：１溶液）１部を使用し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」）１部の代わりに、フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－９１０ＬＭ」、数平均分子量約１００００、不揮発成分率６５％のキシレン溶液）１部と、フェノキシ樹脂（三菱化学社製「ＹＸ７５５３ＢＨ３０」、不揮発成分率３０％のＭＥＫとシクロヘキサノンの１：１溶液）１部を使用し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
【0207】
＜実施例３＞
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」）の使用量を１部から４部に変更し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用し、イミダゾール系硬化促進剤（四国化成工業社製「１Ｂ２ＰＺ」）の使用量を０．５部から０．１部に変更した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」）の使用量を１部から４部に変更し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用し、イミダゾール系硬化促進剤（四国化成工業社製「１Ｂ２ＰＺ」）の使用量を０．５部から０．１部に変更した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
【0208】
＜実施例４＞
シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」）の使用量を９０部から９２部に変更し、さらにビフェニルアラルキルノボラック型マレイミド（日本化薬社製「ＭＩＲ－３０００－７０ＭＴ」、不揮発成分率７０％のＭＥＫ／トルエン混合溶液）を２部使用し、イミダゾール系硬化促進剤（四国化成工業社製「１Ｂ２ＰＺ」）の使用量を０．５部から０．１部に変更した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」）の使用量を９０部から９２部に変更し、さらにビフェニルアラルキルノボラック型マレイミド（日本化薬社製「ＭＩＲ－３０００－７０ＭＴ」、不揮発成分率７０％のＭＥＫ／トルエン混合溶液）を２部使用し、イミダゾール系硬化促進剤（四国化成工業社製「１Ｂ２ＰＺ」）の使用量を０．５部から０．１部に変更した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
【0209】
＜実施例５＞
シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」）の使用量を９０部から９３部に変更し、さらにマレイミド末端ポリイミド化合物（ＤＭＩ社製「ＢＭＩ－１５００」）を１部使用した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」）の使用量を９０部から９３部に変更し、さらにマレイミド末端ポリイミド化合物（ＤＭＩ社製「ＢＭＩ－１５００」）を１部使用した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
【0210】
＜実施例６＞
シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」）の使用量を９０部から９３部に変更し、さらにメタクリル変性ポリフェニレンエーテル（ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチックス社製「ＳＡ９０００－１１１」）を２部使用し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用し、イミダゾール系硬化促進剤（四国化成工業社製「１Ｂ２ＰＺ」）の使用量を０．５部から０．１部に変更した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」）の使用量を９０部から９３部に変更し、さらにメタクリル変性ポリフェニレンエーテル（ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチックス社製「ＳＡ９０００－１１１」）を２部使用し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用し、イミダゾール系硬化促進剤（四国化成工業社製「１Ｂ２ＰＺ」）の使用量を０．５部から０．１部に変更した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
【0211】
＜実施例７＞
シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」）の使用量を９０部から９３部に変更し、さらにビニルベンジル変性ポリフェニレンエーテル（三菱瓦斯化学社製「ＯＰＥ－２Ｓｔ ２２００」、不揮発成分率６５％のトルエン溶液）を２部使用し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」）の使用量を９０部から９３部に変更し、さらにビニルベンジル変性ポリフェニレンエーテル（三菱瓦斯化学社製「ＯＰＥ－２Ｓｔ ２２００」、不揮発成分率６５％のトルエン溶液）を２部使用し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
【0212】
＜実施例８＞
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」）１部の代わりに、フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－９１０ＬＭ」、数平均分子量約１００００、不揮発成分率６５％のキシレン溶液）２０部を使用し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用し、シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」）の使用量を９０部から９８部に変更した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」）１部の代わりに、フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－９１０ＬＭ」、数平均分子量約１００００、不揮発成分率６５％のキシレン溶液）２０部を使用し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用し、シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ－５７３」）で表面処理された球形シリカ（アドマテックス社製「ＳＯ－Ｃ２」）の使用量を９０部から９８部に変更した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
【0213】
＜比較例１＞
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」）１部の代わりに、フェノキシ樹脂（三菱化学社製「ＹＸ７５５３ＢＨ３０」、不揮発成分率３０％のＭＥＫとシクロヘキサノンの１：１溶液）２部を使用した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」）１部の代わりに、フェノキシ樹脂（三菱化学社製「ＹＸ７５５３ＢＨ３０」、不揮発成分率３０％のＭＥＫとシクロヘキサノンの１：１溶液）２部を使用した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
【0214】
＜比較例２＞
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」）１部の代わりに、フェノキシ樹脂（三菱化学社製「ＹＸ７５５３ＢＨ３０」、不揮発成分率３０％のＭＥＫとシクロヘキサノンの１：１溶液）２部を使用し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
フッ素含有ポリマー（ＡＧＣ社製「ＬＦ－２００」）１部の代わりに、フェノキシ樹脂（三菱化学社製「ＹＸ７５５３ＢＨ３０」、不揮発成分率３０％のＭＥＫとシクロヘキサノンの１：１溶液）２部を使用し、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８０００－６５Ｔ」）３０部の代わりに、活性エステル化合物（ＤＩＣ社製「ＨＰＣ－８１５０－６２Ｔ」、活性エステル基当量約２２０ｇ／ｅｑ．、不揮発成分率６２質量％のトルエン溶液）３０部を使用した以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物（樹脂ワニス）を調製した。
【0215】
＜試験例１：誘電正接の測定＞
（１）樹脂組成物層の厚さが４０μｍの樹脂シートＡの作製
支持体として、離型層を備えたポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック社製「ＡＬ５」、厚さ３８μｍ）を用意した。この支持体の離型層上に、実施例及び比較例で得られた樹脂組成物を、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが４０μｍとなるように均一に塗布した。その後、樹脂組成物を８０℃～１００℃（平均９０℃）で４分間乾燥させて、支持体及び樹脂組成物層を含む樹脂シートＡを得た。
（１）樹脂組成物層の厚さが４０μｍの樹脂シートＡの作製
支持体として、離型層を備えたポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック社製「ＡＬ５」、厚さ３８μｍ）を用意した。この支持体の離型層上に、実施例及び比較例で得られた樹脂組成物を、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが４０μｍとなるように均一に塗布した。その後、樹脂組成物を８０℃～１００℃（平均９０℃）で４分間乾燥させて、支持体及び樹脂組成物層を含む樹脂シートＡを得た。
【0216】
（２）評価用硬化物Ｂの作製
樹脂シートＡを１９０℃のオーブンで９０分硬化した。オーブンから取り出した樹脂シートＡから支持体を剥がすことにより、樹脂組成物層の硬化物を得た。その硬化物を長さ８０ｍｍ、幅２ｍｍに切り出し評価用硬化物Ｂとした。
樹脂シートＡを１９０℃のオーブンで９０分硬化した。オーブンから取り出した樹脂シートＡから支持体を剥がすことにより、樹脂組成物層の硬化物を得た。その硬化物を長さ８０ｍｍ、幅２ｍｍに切り出し評価用硬化物Ｂとした。
【0217】
（３）誘電正接の測定
評価用硬化物Ｂについて、関東応用電子開発社製の空洞共振器摂動法誘電率測定装置「ＣＰ５２１」及びアジレントテクノロジーズ（ＡｇｉｌｅｎｔＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ）社製「ＨＰ８３６２Ｂ」を用いて、空洞共振摂動法により測定周波数５．８ＧＨｚ、測定温度２３℃にて、誘電正接の値（Ｄｆ値）を測定した。２本の試験片にて測定を実施し、その平均を算出した。
評価用硬化物Ｂについて、関東応用電子開発社製の空洞共振器摂動法誘電率測定装置「ＣＰ５２１」及びアジレントテクノロジーズ（ＡｇｉｌｅｎｔＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ）社製「ＨＰ８３６２Ｂ」を用いて、空洞共振摂動法により測定周波数５．８ＧＨｚ、測定温度２３℃にて、誘電正接の値（Ｄｆ値）を測定した。２本の試験片にて測定を実施し、その平均を算出した。
【0218】
＜試験例２：ラミネート後のムラの評価＞
（１）内層基板の用意
内層回路を形成したガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板（銅箔の厚さ１８μｍ、基板の厚さ０．４ｍｍ、パナソニック社製「Ｒ１５１５Ａ」）の両面をマイクロエッチング剤（メック社製「ＣＺ８１０１」）にて１μｍエッチングして銅表面の粗化処理を行った。
（１）内層基板の用意
内層回路を形成したガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板（銅箔の厚さ１８μｍ、基板の厚さ０．４ｍｍ、パナソニック社製「Ｒ１５１５Ａ」）の両面をマイクロエッチング剤（メック社製「ＣＺ８１０１」）にて１μｍエッチングして銅表面の粗化処理を行った。
【0219】
（２）樹脂シートＡのラミネート
バッチ式真空加圧ラミネーター（ニッコー・マテリアルズ社製、２ステージビルドアップラミネーター「ＣＶＰ７００」）を用いて、試験例１（１）で得られた樹脂シートＡを樹脂組成物層が内層基板と接するように、内層基板の両面にラミネートした。ラミネートは、３０秒間減圧して気圧を１３ｈＰａ以下に調整した後、１２０℃、圧力０．７４ＭＰａにて３０秒間圧着させることにより実施した。次いで、１００℃、圧力０．５ＭＰａにて６０秒間熱プレスを行った。
バッチ式真空加圧ラミネーター（ニッコー・マテリアルズ社製、２ステージビルドアップラミネーター「ＣＶＰ７００」）を用いて、試験例１（１）で得られた樹脂シートＡを樹脂組成物層が内層基板と接するように、内層基板の両面にラミネートした。ラミネートは、３０秒間減圧して気圧を１３ｈＰａ以下に調整した後、１２０℃、圧力０．７４ＭＰａにて３０秒間圧着させることにより実施した。次いで、１００℃、圧力０．５ＭＰａにて６０秒間熱プレスを行った。
【0220】
（３）ラミネート後のムラの評価
ラミネート後に、内層基板の周囲に沿って樹脂の凹みが観察されるものを「あり」、凹みが観察されないものを「なし」と評価した。
ラミネート後に、内層基板の周囲に沿って樹脂の凹みが観察されるものを「あり」、凹みが観察されないものを「なし」と評価した。
【0221】
＜試験例３：算術平均粗さ（Ｒａ）の測定＞
（１）樹脂組成物層の熱硬化
試験例２（２）で樹脂シートＡをラミネートした内層基板を、１３０℃のオーブンに投入して３０分間加熱し、次いで１７０℃のオーブンに移し替えて３０分間加熱して、樹脂組成物層を熱硬化させて、絶縁層を形成した。その後、支持体を剥離して、絶縁層、内層基板及び絶縁層をこの順に有する硬化基板Ａを得た。
（１）樹脂組成物層の熱硬化
試験例２（２）で樹脂シートＡをラミネートした内層基板を、１３０℃のオーブンに投入して３０分間加熱し、次いで１７０℃のオーブンに移し替えて３０分間加熱して、樹脂組成物層を熱硬化させて、絶縁層を形成した。その後、支持体を剥離して、絶縁層、内層基板及び絶縁層をこの順に有する硬化基板Ａを得た。
【0222】
（２）粗化処理
硬化基板Ａに、粗化処理としてのデスミア処理を行った。デスミア処理としては、下記の湿式デスミア処理を実施した。
硬化基板Ａに、粗化処理としてのデスミア処理を行った。デスミア処理としては、下記の湿式デスミア処理を実施した。
【0223】
（湿式デスミア処理）
硬化基板Ａを、膨潤液（アトテックジャパン社製「スウェリング・ディップ・セキュリガントＰ」、ジエチレングリコールモノブチルエーテル及び水酸化ナトリウムの水溶液）に６０℃で５分間浸漬し、次いで、酸化剤溶液（アトテックジャパン社製「コンセントレート・コンパクトＣＰ」、過マンガン酸カリウム濃度約６％、水酸化ナトリウム濃度約４％の水溶液）に８０℃で２０分間浸漬した。次いで、中和液（アトテックジャパン社製「リダクションソリューション・セキュリガントＰ」、硫酸水溶液）に４０℃で５分間浸漬した後、８０℃で１５分間乾燥した。
硬化基板Ａを、膨潤液（アトテックジャパン社製「スウェリング・ディップ・セキュリガントＰ」、ジエチレングリコールモノブチルエーテル及び水酸化ナトリウムの水溶液）に６０℃で５分間浸漬し、次いで、酸化剤溶液（アトテックジャパン社製「コンセントレート・コンパクトＣＰ」、過マンガン酸カリウム濃度約６％、水酸化ナトリウム濃度約４％の水溶液）に８０℃で２０分間浸漬した。次いで、中和液（アトテックジャパン社製「リダクションソリューション・セキュリガントＰ」、硫酸水溶液）に４０℃で５分間浸漬した後、８０℃で１５分間乾燥した。
【0224】
（３）粗化処理後の絶縁層表面の算術平均粗さ（Ｒａ）の測定
粗化処理後の絶縁層表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、非接触型表面粗さ計（ブルカー社製ＷＹＫＯ ＮＴ３３００）を用いて、ＶＳＩモード、５０倍レンズにより測定範囲を１２１μｍ×９２μｍとして得られる数値により求めた。それぞれ１０点の平均値を求めることにより測定した。
粗化処理後の絶縁層表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、非接触型表面粗さ計（ブルカー社製ＷＹＫＯ ＮＴ３３００）を用いて、ＶＳＩモード、５０倍レンズにより測定範囲を１２１μｍ×９２μｍとして得られる数値により求めた。それぞれ１０点の平均値を求めることにより測定した。
【0225】
＜試験例４：ピール強度の測定＞
（１）導体層の形成
セミアディティブ法に従って、試験例３（２）で粗化処理した硬化基板Ａにおける絶縁層の粗化面に導体層を形成した。すなわち、粗化処理後の基板を、ＰｄＣｌ２を含む無電解めっき液に４０℃で５分間浸漬した後、無電解銅めっき液に２５℃で２０分間浸漬した。次いで、１５０℃にて３０分間加熱してアニール処理を行った後に、エッチングレジストを形成し、エッチングによりパターン形成した。その後、硫酸銅電解めっきを行い、厚さ２５μｍの導体層を形成し、アニール処理を１９０℃にて６０分間行った。得られた基板を「評価基板Ｂ」と称する。
（１）導体層の形成
セミアディティブ法に従って、試験例３（２）で粗化処理した硬化基板Ａにおける絶縁層の粗化面に導体層を形成した。すなわち、粗化処理後の基板を、ＰｄＣｌ２を含む無電解めっき液に４０℃で５分間浸漬した後、無電解銅めっき液に２５℃で２０分間浸漬した。次いで、１５０℃にて３０分間加熱してアニール処理を行った後に、エッチングレジストを形成し、エッチングによりパターン形成した。その後、硫酸銅電解めっきを行い、厚さ２５μｍの導体層を形成し、アニール処理を１９０℃にて６０分間行った。得られた基板を「評価基板Ｂ」と称する。
【0226】
（２）めっき導体層のピール強度の測定
絶縁層と導体層のピール強度の測定は、日本工業規格（ＪＩＳ Ｃ６４８１）に準拠して行った。具体的には、評価基板Ｂの導体層に、幅１０ｍｍ、長さ１００ｍｍの部分の切込みをいれ、この一端を剥がしてつかみ具で掴み、室温中にて、５０ｍｍ／分の速度で垂直方向に３５ｍｍを引き剥がした時の荷重（ｋｇｆ／ｃｍ）を測定し、剥離強度を求めた。測定には、引っ張り試験機（ＴＳＥ社製「ＡＣ－５０Ｃ－ＳＬ」）を使用した。
絶縁層と導体層のピール強度の測定は、日本工業規格（ＪＩＳ Ｃ６４８１）に準拠して行った。具体的には、評価基板Ｂの導体層に、幅１０ｍｍ、長さ１００ｍｍの部分の切込みをいれ、この一端を剥がしてつかみ具で掴み、室温中にて、５０ｍｍ／分の速度で垂直方向に３５ｍｍを引き剥がした時の荷重（ｋｇｆ／ｃｍ）を測定し、剥離強度を求めた。測定には、引っ張り試験機（ＴＳＥ社製「ＡＣ－５０Ｃ－ＳＬ」）を使用した。
【0227】
実施例及び比較例の樹脂組成物の原料の使用量及び不揮発成分の含有量、試験例の測定結果及び評価結果を下記表１に示す。
【0228】
【表1】
【0229】
表１に示す通り、（Ａ）フッ素原子含有ポリマーを含まない樹脂組成物を使用した比較例１及び２では、ラミネート後にムラが発生した。これに対し、（Ａ）フッ素原子含有ポリマーを含む本発明の樹脂組成物を使用した場合は、ラミネート後のムラが発生しないばかりでなく、誘電正接がより低い値となった。