特開 2022-143186 基板処理装置および処理具交換方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022143186

(43)【公開日】2022-10-03

(54)【発明の名称】基板処理装置および処理具交換方法

(51)【国際特許分類】

   B05C 11/10 20060101AFI20220926BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20220926BHJP

   B08B 3/04 20060101ALI20220926BHJP

   B05C 5/00 20060101ALI20220926BHJP

   B05B 15/55 20180101ALN20220926BHJP

【ＦＩ】

B05C11/10

H01L21/304 643A

H01L21/304 644A

H01L21/304 643Z

H01L21/304 644Z

B08B3/04 Z

B05C5/00 101

B05B15/55

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021043576

(22)【出願日】2021-03-17

(71)【出願人】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100093056

【弁理士】

【氏名又は名称】杉谷 勉

(74)【代理人】

【識別番号】100142930

【弁理士】

【氏名又は名称】戸高 弘幸

(74)【代理人】

【識別番号】100175020

【弁理士】

【氏名又は名称】杉谷 知彦

(74)【代理人】

【識別番号】100180596

【弁理士】

【氏名又は名称】栗原 要

(74)【代理人】

【識別番号】100195349

【弁理士】

【氏名又は名称】青野 信喜

(72)【発明者】

【氏名】稲垣 幸彦

【テーマコード（参考）】

3B201

4D073

4F041

4F042

5F157

【Ｆターム（参考）】

3B201AA47

3B201BB01

3B201BB92

4D073AA01

4D073BB03

4D073CC05

4D073CC10

4F041AA02

4F041AA05

4F041AA06

4F041AB01

4F041BA05

4F041BA35

4F041BA60

4F042AA02

4F042AA06

4F042AA07

4F042AA08

4F042BA08

4F042BA11

4F042BA12

4F042CB02

4F042CB08

4F042CB19

4F042CC02

4F042CC04

4F042CC08

4F042EB02

4F042EB05

4F042EB09

4F042EB18

5F157AB02

5F157AB14

5F157AB16

5F157AB33

5F157AB90

5F157BA02

5F157BB22

5F157BB39

5F157CC03

5F157CC11

5F157CC41

5F157DC01

5F157DC90

(57)【要約】

【課題】処理具などの汚染を防止することができ、処理具の交換時間を削減できる基板処理装置および処理具交換方法を提供する。
【解決手段】
ポット４３の開口部４３Ａに設けられた保持部４５は、ノズル３を保持し、さらに、保持部４５は、回転機構４７によって回転される。回転機構４７は、保持部４５でノズル３が保持された状態で、保持部４５を回転させることで、ノズルブロック５からノズル３を取り外す。また、回転機構４７は、保持部４５で保持されたノズル３が保持された状態で、保持部４５を回転させることで、ノズルブロック５にノズル３を取り付ける。ノズルブロック５に取り付けられたノズル３を交換する際に、作業者がノズル３を触る機会を減らすことができる。そのため、ノズル３の汚染を防止することができる。また、また、ノズルブロック５へのノズル３の脱着作業を自動化することができ、その結果、ノズル３の交換時間を削減できる。
【選択図】図１３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

処理具がねじで取り付けられる取付部材と、
前記取付部材を移動させる移動機構と、
上向きに開口する開口部を有して、前記開口部を通じて処理具を収容することが可能な容器と、
前記容器の前記開口部に設けられ、収容された処理具の外周側面に当接して前記処理具を回転可能に保持する保持部と、
前記保持部で保持された処理具の中心軸周りに前記保持部を回転させる回転機構と、を備え、
前記回転機構は、前記保持部で処理具が保持された状態で、前記保持部を正逆に回転させることで、前記取付部材に処理具を脱着させることを特徴とする基板処理装置。

【請求項2】

請求項１に記載の基板処理装置において、
複数個の前記容器を備え、
前記各容器には、それぞれ前記保持部が設けられ、
前記各保持部を回転させる前記回転機構を少なくとも１つ備え、
前記回転機構は、前記各保持部で処理具がそれぞれ保持された状態で、前記各保持部を正逆に回転させることで、前記取付部材に各処理具を脱着させることを特徴とする基板処理装置。

【請求項3】

請求項２に記載の基板処理装置において
前記容器として、第１容器と第２容器とは対向配置され、
前記第１容器と前記第２容器の間に１つの前記回転機構を備え、
前記回転機構は、前記第１容器および前記第２容器に設けられた前記各保持部で処理具がそれぞれ保持された状態で、前記各保持部を正逆に回転させることで、前記取付部材に各処理具を脱着させることを特徴とする基板処理装置。

【請求項4】

請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記容器は、前記保持部で保持された処理具に向くように洗浄液を供給する洗浄液供給路を備えていることを特徴とする基板処理装置。

【請求項5】

請求項４に記載の基板処理装置において、
前記回転機構は、前記洗浄液供給路から洗浄液を供給しているときに、前記保持部で保持された処理具を回転させることを特徴とする基板処理装置。

【請求項6】

請求項４または５に記載の基板処理装置において、
前記容器は、前記洗浄液供給路から供給された洗浄液を貯留して、前記処理具の先端部を洗浄液に浸すように構成されていることを特徴とする基板処理装置。

【請求項7】

請求項１から６のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理具は、ノズルであることを特徴とする基板処理装置。

【請求項8】

請求項１から６のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理具は、ブラシであることを特徴とする基板処理装置。

【請求項9】

請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理具は、取付部材に脱着される蓋部であることを特徴とする基板処理装置。

【請求項10】

処理具がねじで取り付けられる取付部材と、
前記取付部材を移動させる移動機構と、
上向きに開口する開口部を有して、前記開口部を通じて処理具を収容することが可能な容器と、
を備えた基板処理装置における処理具交換方法であって、
前記容器の開口部に設けられた保持部によって、収容された処理具の外周側面に当接して前記処理具を回転可能に保持する工程と、
回転機構によって、前記保持部で処理具を保持した状態で、前記処理具の中心軸周りに前記保持部を正逆に回転させることで、前記取付部材に処理具を脱着させる工程と、
を備えていることを特徴とする処理具交換方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板を処理する基板処理装置およびその基板処理装置に用いられる処理具の交換方法に関する。基板は、例えば、半導体基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）用の基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが挙げられる。ＦＰＤは、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などが挙げられる。

【背景技術】

【0002】

従来の基板処理装置は、ノズル（ノズルチップ）、配管（または流路）、およびノズル移動機構を備える。ノズルは、処理液（例えばレジスト液）を吐出する。ノズル移動機構はノズルを移動させる。ノズル交換のために、ノズルは、配管の先端に取り付けたり取り外したりできる（例えば、特許文献１参照）。

【0003】

特許文献１には、ノズルチップを溶剤吐出管に取り付ける装置が開示されている。装置はアームを備える。アームの先端にはＵ字形の溝が設けられる。装置は、Ｕ字形の溝で挟持されたノズルチップを溶剤吐出管の先端まで上昇させる。溶剤吐出管には、ノズルチップの外周に沿って４つのラッチが設けられる。４つのラッチは、ノズルチップのフランジを引っ掛けることで、ノズルチップを溶剤吐出管の先端に固定させる。

【0004】

特許文献２には、ブラシを自動的に交換する洗浄装置が開示されている。洗浄装置は、ブラシと、ブラシを揺動するためのアームと、ブラシを回転するモータとを備える。ブラシヘッドはアームの下側に回転可能に設けられ、ブラシはブラシヘッドにねじで取り付けられる。板に形成された溝でブラシを保持しながらモータでブラシヘッドを回転させれば、ブラシはブラシヘッドに取り付けられ、または取り外される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開平０３－２５２１２４号公報

【特許文献2】特開平０８－３１８２２６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

その他、ノズル交換は次のように行われる。作業者は、基板処理装置の外壁の一部であるパネルを開けて、ノズルが取り付けられた取付部材をつまみ上げる。その後、ノズルを固定するキャップを手動で回すことで、取付部材から古いノズルを取り外す。その後、作業者は、キャップを手動で回して締め込むことで、取付部材に新しいノズルを取り付ける。ここで、手袋をしているものの、作業者が手で交換作業をすることで、ノズルなどの手で触れる部分が汚染する場合がある。また、取り付け時にパネルを開くことで、基板処理装置の外部からのエアーが入り込み、基板処理装置の内部が汚染されてしまう場合もある。ノズル交換は、例えば汚れやすい処理液を吐出する場合に比較的頻繁に行われる。ノズル交換時間を削減し、また、装置停止時間を削減する要望もある。

【0007】

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、処理具などの汚染を防止することができ、処理具の交換時間を削減できる基板処理装置および処理具交換方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明に係る基板処理装置は、処理具がねじで取り付けられる取付部材と、前記取付部材を移動させる移動機構と、上向きに開口する開口部を有して、前記開口部を通じて処理具を収容することが可能な容器と、前記容器の前記開口部に設けられ、収容された処理具の外周側面に当接して前記処理具を回転可能に保持する保持部と、前記保持部で保持された処理具の中心軸周りに前記保持部を回転させる回転機構と、を備え、前記回転機構は、前記保持部で処理具が保持された状態で、前記保持部を正逆に回転させることで、前記取付部材に処理具を脱着させることを特徴とするものである。

【0009】

本発明に係る基板処理装置によれば、容器の開口部に設けられた保持部は、処理具を保持し、さらに、保持部は、回転機構によって回転される。回転機構は、保持部で処理具が保持された状態で、保持部を回転させることで、取付部材から処理具を取り外す。また、回転機構は、保持部で保持された処理具が保持された状態で、保持部を回転させることで、取付部材に処理具を取り付ける。取付部材に取り付けられた処理具を交換する際に、作業者が処理具を触る機会を減らすことができる。そのため、処理具の汚染を防止することができる。また、取付部材への処理具の脱着作業を自動化することができ、その結果、処理具の交換時間を削減できる。

【0010】

また、上述の基板処理装置において、複数個の前記容器を備え、前記各容器には、それぞれ前記保持部が設けられ、前記各保持部を回転させる前記回転機構を少なくとも１つ備え、前記回転機構は、前記各保持部で処理具がそれぞれ保持された状態で、前記各保持部を正逆に回転させることで、前記取付部材に各処理具を脱着させることが好ましい。

【0011】

すなわち、基板処理装置は、複数個の容器を備える。複数個の容器の各々には、保持部が設けられる。各保持部は、少なくとも１つの回転機構によって回転される。単一の保持部が設けられる場合、取付部材から処理具を取り外した後、取付部材に別の保持具を取り付けるために、作業者は、保持部で保持される処理具を交換しなければならない。しかし、複数の保持部が設けられることで、処理具を取り外すための第１保持部と、処理具を取り付けるための第２保持部とを準備できる。そのため、作業者は、第１保持部において、処理具を交換しなくてもよいので、作業者が取付部材に処理具を取り付ける際に処理具に触る機会を減らすことができる。そのため、処理具の汚染を防止することができる。また、処理具の交換時間を削減しつつ、装置停止時間を削減することができる。

【0012】

また、作業者が処理具に触れる機会が大きく減り、処理具交換のときに基板処理装置の外部からのエアーが入り込む機会も大きく減らすことができる。

【0013】

また、上述の基板処理装置において、前記容器として、第１容器と第２容器とは対向配置され、前記第１容器と前記第２容器の間に１つの前記回転機構を備え、前記回転機構は、前記第１容器および前記第２容器に設けられた前記各保持部で処理具がそれぞれ保持された状態で、前記各保持部を正逆に回転させることで、前記取付部材に各処理具を脱着させることが好ましい。

【0014】

これにより、第１容器および第２容器の２つの保持部は、１つの回転機構によって回転される。第１容器および第２容器の各々に回転機構が設けられる場合に比べて、回転機構の数を減らすことができるので、コストを削減できる。また、処理具を交換するための機構をコンパクトにすることができる。

【0015】

また、上述の基板処理装置において、前記容器は、前記保持部で保持された処理具に向くように洗浄液を供給する洗浄液供給路を備えていることが好ましい。処理具を交換するための機構において、処理具を洗浄することができる。

【0016】

また、上述の基板処理装置において、前記回転機構は、前記洗浄液供給路から洗浄液を供給しているときに、前記保持部で保持された処理具を回転させることが好ましい。処理具に付着した汚れをより効果的に除去できる。

【0017】

また、上述の基板処理装置において、前記容器は、前記洗浄液供給路から供給された洗浄液を貯留して、前記処理具の先端部を洗浄液に浸すように構成されていることが好ましい。取り付けるための処理具または、取り外した後の処理具から除去しにくい汚れを、処理液への浸漬によって除去することができる。

【0018】

また、上述の基板処理装置において、前記処理具の一例は、ノズルである。また、前記処理具の一例は、ブラシである。また、前記処理具の一例は、取付部材に脱着される蓋部である。

【0019】

また、本発明に係る処理具交換方法は、処理具がねじで取り付けられる取付部材と、前記取付部材を移動させる移動機構と、上向きに開口する開口部を有して、前記開口部を通じて処理具を収容することが可能な容器と、を備えた基板処理装置における処理具交換方法であって、前記容器の開口部に設けられた保持部によって、収容された処理具の外周側面に当接して前記処理具を回転可能に保持する工程と、回転機構によって、前記保持部で処理具を保持した状態で、前記処理具の中心軸周りに前記保持部を正逆に回転させることで、前記取付部材に処理具を脱着させる工程と、を備えているものである。

【0020】

本発明に係る処理具交換方法によれば、容器の開口部に設けられた保持部は、処理具を保持し、さらに、保持部は、回転機構によって回転される。回転機構は、保持部で処理具が保持された状態で、保持部を回転させることで、取付部材から処理具を取り外す。また、回転機構は、保持部で保持された処理具が保持された状態で、保持部を回転させることで、取付部材に処理具を取り付ける。取付部材に取り付けられた処理具を交換する際に、作業者が処理具を触る機会を減らすことができる。そのため、処理具の汚染を防止することができる。また、取付部材への処理具の脱着作業を自動化することができ、その結果、処理具の交換時間を削減できる。

【発明の効果】

【0021】

本発明に係る基板処理装置および処理具交換方法によれば、処理具などの汚染を防止することができ、処理具の交換時間を削減できる。

【図面の簡単な説明】

【0022】

【図1】実施例１に係る基板処理装置の概略構成図である。

【図2】実施例１に係る基板処理装置の平面図である。

【図3】ノズルの取付手段を説明する図である。

【図4】（ａ）は、実施例１に係る交換機構の構成を示す図であり、（ｂ）は、（ａ）の交換機構を部分的に示した平面図である。

【図5】実施例１に係るノズル交換の動作を示すフローチャートである。

【図6】（ａ）～（ｃ）は、ノズル交換を説明するための図である。

【図7】（ａ）～（ｃ）は、ノズル交換を説明するための図である。

【図8】（ａ）、（ｂ）は、ノズル交換を説明するための図である。

【図9】実施例２に係る基板処理装置の概略構成図である。

【図10】実施例２に係る交換機構の構成を示す図である。

【図11】実施例２に係る交換機構の動作例を説明するための図である。

【図12】実施例２に係るブラシの交換動作を示すフローチャートである。

【図13】実施例３に係る交換機構の構成を示す図である。

【図14】実施例３に係るノズルの交換動作を示すフローチャートである。

【図15】（ａ）は、蓋部を取り付ける前の状態を示す図であり、（ｂ）は、ノズルブロック（接続部）に蓋部を取り付けた状態を示す図である。

【図16】変形例に係る交換機構の構成を示す図である。

【図17】変形例に係る、３つのポット（３つの保持部）を備えた交換機構の構成を示す図である。

【図18】変形例に係る、交換機構が待機ポットに隣接して設けられる構成を示す図である。

【実施例0023】

以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。図１は、実施例１に係る基板処理装置の概略構成図である。図２は、実施例１に係る基板処理装置の平面図である。

【0024】

図１を参照する。基板処理装置１は、保持回転部２、ノズル３およびノズルブロック５を備える。なお、図１において、保持回転部２は縦断面図で示され、ノズル３およびノズルブロック５は、側面図で示される。また、後述する交換機構４１は縦断面図で示される。ノズル３（３Ａ，３Ｂ）は本発明の処理具に相当する。ノズルブロック５は本発明の取付部材に相当する。

【0025】

保持回転部２は、基板Ｗを水平姿勢で保持しながら、保持した基板Ｗを回転させる。これにより、基板Ｗは、基板Ｗ中心の垂直軸ＡＸ１周りに回転される。保持回転部２は、スピンチャック７と回転駆動部８を備える。スピンチャック７は、例えば、基板Ｗの載置面に設けられた吸引口から空気を吸引することで基板Ｗの裏面を保持する。回転駆動部８は、電動モータを備え、スピンチャック７を垂直軸ＡＸ１周りに回転させる。保持回転部２の周りには、基板Ｗの側方を囲うように、カップ９が設けられる。

【0026】

ノズル３は、基板Ｗに対して処理液を吐出するものである。処理液は、例えば、フォトレジスト液などのレジスト液、反射防止膜形成用の塗布液、レジストカバー膜形成用の塗布液、ＳＯＧ（Spin on glass）用の塗布液、ＳＯＤ（Spin on dielectric）用の塗布液が用いられる。また、ノズル３は、ノズルブロック５に、ねじで取り付けられる。ノズル３をノズルブロック５に取り付けるための具体的な構造は、後で説明する。

【0027】

ノズル３には、処理液供給源１１から配管１３を通じて処理液が供給される。配管１３の一端は処理液供給源１１に接続される。配管１３の他端は、ノズルブロック５内の流路５Ａに接続する。すなわち、配管１３の他端は、流路５Ａを介してノズル３に接続する。配管１３には、処理液供給源１１から順番に、ポンプ１５、開閉弁Ｖ１が設けられる。なお、ノズル３と開閉弁Ｖ１との間の配管１３には、更に、サックバック弁が設けられてもよい。

【0028】

図２を参照する。基板処理装置１は、複数（例えば１０個）のノズル３を備える。複数個のノズル３は各々、ノズルブロック５に取り付けられる。複数個のノズル３の各々には、処理液供給源１１から配管１３を通じて処理液が供給される。すなわち、基板処理装置１において、図１に示すような、ノズル３、ノズルブロック５、処理液供給源１１、配管１３、ポンプ１５および開閉弁Ｖ１が、複数組（例えば１０組）設けられる。複数個のノズル３は、通常、待機ポット１７に置かれる。待機ポット１７において、各ノズル３の先端部は、待機ポット１７の内部の収容空間１８に収容される。基板処理装置１は、１０個のノズル３と同数の１０個の待機ポット１７を備える。

【0029】

基板処理装置１は、図２に示すように、２つの保持回転部２を備える。２つの保持回転部２は、Ｘ方向に並んで配置される。１０個の待機ポット１７は、Ｘ方向に直線状に並んで配置される。

【0030】

また、基板処理装置１は、ノズルブロック５を移動させるノズル移動機構１９を備える。ノズル移動機構１９は、複数個のノズル３のうちの１つのノズル３を選択して把持し、把持したノズル３を基板Ｗの上方などの任意の位置に移動させる。

【0031】

ノズル移動機構１９は、把持部２１、２つの水平移動部２３，２４および昇降部２５を備える。把持部２１は、ノズルブロック５を把持する。第１水平移動部２３は、例えば把持部２１を、第１方向（Ｘ方向）に移動可能に支持する。第１水平移動部２３は、第１方向（Ｘ方向）に把持部２１を移動させる。昇降部２５は、例えば第１水平移動部２３を昇降可能に支持する。昇降部２５は、第１水平移動部２３をＺ方向に昇降させることで、把持部２１を昇降させる。第２水平移動部２４は、例えば昇降部２５を、第１方向と直交する第２方向（Ｙ方向）に移動可能に支持する。第２水平移動部２４は、昇降部２５を第２方向（Ｙ方向）に移動させることで、把持部２１を第２方向に移動させる。

【0032】

把持部２１および昇降部２５は、例えば電動モータまたはエアシリンダを備え、電動モータまたはエアシリンダによって駆動される。２つの水平移動部２３，２４は各々、電動モータを備え、電動モータによって駆動される。ノズル移動機構１９は、本発明の移動機構に相当する。

【0033】

図３は、ノズル３の取付手段を説明する図である。ノズル３は、ノズルチップ３１（ノズル本体）とキャップ３３を備える。ノズルチップ３１は、キャップ３３から分離する。ノズルチップ３１の先端部には、吐出口３１Ａが設けられる。吐出口３１Ａから処理液の流路３１Ｂが延びる。ノズルチップ３１の基端部には、フランジ３１Ｃが設けられる。なお、ノズルチップ３１は、キャップ３３から分離せずにキャップ３３に固定されていてもよい。

【0034】

キャップ３３は、中空円筒状に形成される。キャップ３３の底部３３Ａには、開口部３３Ｂが形成されている。開口部３３Ｂには、ノズルチップ３１の先端部が通される。底部３３Ａは、ノズルチップ３１のフランジ３１Ｃを受けるように構成される。キャップ３３の内周側面３３Ｃには、ねじ溝３３Ｄが形成される。また、キャップ３３の外周側面３３Ｅには、ローレット加工によって、上下方向に延びた多数の溝が形成される。

【0035】

ノズルブロック５は、ノズル３を接続するための接続部３５を備える。接続部３５は、先端部３５Ａと外ねじ部３７を備える。先端部３５Ａは、ノズルチップ３１の基端部と接触する。外ねじ部３７は、先端部３５Ａの上側に設けられ、中空円筒状に形成される。外ねじ部３７の外周側面には、ねじ溝３７Ａが形成される。接続部３５のねじ溝３７Ａは、キャップ３３のねじ溝３３Ｄと噛み合うように構成される。

【0036】

中心軸ＡＸ２を中心に例えば時計回りにキャップ３３を回転させると、キャップ３３とノズルブロック５の接続部３５がねじ締めされる。その結果、ノズルチップ３１（ノズル３）がノズルブロック５に取り付けられる。また、中心軸ＡＸ２を中心に反時計回りにキャップ３３を回転させると、キャップ３３と接続部３５のねじ締めが緩む。その結果、
ノズルチップ３１（ノズル３）がノズルブロック５から取り外される。

【0037】

ノズルブロック５の内部には、処理液を送るための流路５Ａが形成される。流路５Ａの入口５Ｂは、配管１３と連通する。流路５Ａは、接続部３５の先端部３５Ａまで延び、流路５Ａの出口５Ｃは、ノズルチップ３１の流路３１Ｂと連通する。

【0038】

＜１．交換機構４１の構成＞
図４（ａ）、図４（ｂ）を参照する。基板処理装置１は、ノズル３を交換するための交換機構４１を備える。交換機構４１は、２つの保持回転部２の間に配置される（図２参照）。交換機構４１は、第１ポット４３、第２ポット４４、第１保持部４５、第２保持部４６および回転機構４７を備える。第１ポット４３と第２ポット４４は対向配置される。すなわち、第１ポット４３と第２ポット４４は水平方向に並んで配置される。回転機構４７は、第１ポット４３と第２ポット４４との間に配置される。

【0039】

第１ポット４３は本発明の第１容器に相当する。第２ポット４４は本発明の第２容器に相当する。２つのポット４３，４４は各々、本発明の容器に相当する。２つの保持部４５，４６は各々、本発明の保持部に相当する。

【0040】

＜１－１．第１ポット４３の構成＞
第１ポット４３は、上向きに開口する開口部４３Ａを有する。第１ポット４３は、開口部４３Ａを通じてノズル３を収容することができる。第１保持部４５は、第１ポット４３の開口部４３Ａに設けられる。

【0041】

第１保持部４５は、収容されたノズル３の外周側面に当接してノズル３を回転可能に保持する。この点、具体的に説明する。第１保持部４５は、中空円筒状に形成される。そのため、第１保持部４５は、第１ポット４３の内部と連通するトンネル部４９を有する。第１保持部４５のトンネル部４９は、図４（ａ）に示すように、ノズル３を通すことができる。トンネル部４９の側面（第１保持部４５の内周側面）にも上下方向に延びる多数の溝が形成される。これにより、キャップ３３がトンネル部４９に容易に進入し、トンネル部４９から容易に退出することができる。また、キャップ３３とトンネル部４９の側面との間において、中心軸ＡＸ２周りの方向への摩擦力を容易に得ることができる。

【0042】

第１保持部４５は、ベアリング５１を介して、第１ポット４３に設けられる。これにより、第１保持部４５は、第１保持部４５の中心の垂直軸ＡＸ３周りに、第１ポット４３に対して回転可能である。また、第１ポット４３の収容空間の内径をキャップ３３の外径よりも小さくすることで、キャップ３３が第１ポット４３内に入りすぎることを防止する。

【0043】

＜１－２．第２ポット４４の構成＞
第２ポット４４および第２保持部４６は、第１ポット４３および第１保持部４５と同様に構成される。第２ポット４４および第２保持部４６を簡単に説明する。第２ポット４４は、上向きに開口する開口部４４Ａを有する。第２ポット４４は、開口部４４Ａを通じてノズル３を収容することができる。第２保持部４６は、第２ポット４４の開口部４４Ａに設けられる。

【0044】

第２保持部４６は、収容されたノズル３の外周側面に当接してノズル３を回転可能に保持する。第２保持部４６は、トンネル部４９を有する。第２保持部４６のトンネル部４９は、ノズル３を通すことができる。第２保持部４６のトンネル部４９の側面にも上下方向に延びる多数の溝が形成される。第２保持部４６は、ベアリング５１を介して、第２ポット４４に設けられる。また、第１ポット４３の収容空間の内径は、キャップ３３の外径よりも小さくなっている。

【0045】

＜１－３．回転機構４７の構成＞
回転機構４７は、２つの保持部４５，４６の各々で保持されたノズル３の中心軸ＡＸ２（ＡＸ３）周りに２つの保持部４５，４６を回転させる。回転機構４７は、各保持部４５，４６でノズル３がそれぞれ保持された状態で、各保持部４５，４６を正逆に回転させることで、ノズルブロック５にノズル３を着脱させる。

【0046】

回転機構４７を具体的に説明する。回転機構４７は、電動モータ５３と円板状の歯車５５とを備える。電動モータ５３の出力軸５３Ａは、歯車５５の中心部に連結する。図４（ｂ）に示すように、歯車５５の外周側面には、複数の歯がリング状に形成された歯部５５Ａが設けられる。これに対し、第１保持部４５の上部の外周側面には、歯車部４５Ａが設けられ、第２保持部４６の上部の外周側面には、歯車部４６Ａが設けられる。２つの歯車部４５Ａ，４６Ａは各々、複数の歯がリング状に形成されている。歯車５５（歯部５５Ａ）は、第１保持部４５の歯車部４５Ａと噛み合うと共に、歯車５５は、第２保持部４６の歯車部４６Ａと噛み合う。そのため、電動モータ５３により歯車５５が出力軸５３Ａの周りに回転すると、２つの保持部４５，４６は、垂直軸ＡＸ３（中心軸ＡＸ２）周りに回転する。なお、歯車５５が時計回りに回転すると、２つの保持部４５，４６は共に、反時計回りに回転する。

【0047】

＜１－４．洗浄液供給路５７，５８等の構成＞
図４（ａ）を参照する。第１ポット４３は、第１洗浄液供給路５７を備える。第２ポット４４は、第２洗浄液供給路５８を備える。第１洗浄液供給路５７は、第１ポット４３の内周側面に形成される。第１洗浄液供給路５７は、第１保持部４５で保持されたノズル３に向くように洗浄液を供給する。同様に、第２洗浄液供給路５８は、第２ポット４４の内周側面に形成される。第２洗浄液供給路５８は、第２保持部４６で保持されたノズル３に向くように洗浄液を供給する。なお、洗浄液は、例えば、シンナー等の溶剤が用いられる。

【0048】

２本の洗浄液供給路５７，５８には、洗浄液供給源６０から配管６２，６３，６４を通じて洗浄液が供給される。配管６３の一端は、第１洗浄液供給路５７に接続され、配管６３の他端は、配管６２に接続される。また、配管６４の一端は、第２洗浄液供給路５８に接続され、配管６４の他端は、配管６２に接続される。配管６２は、洗浄液供給源６０に接続される。配管６２には、ポンプ６６が設けられる。ポンプ６６は、洗浄液供給源６０の洗浄液を交換機構４１側に送り出す。２本の配管６３，６４には、２つの開閉弁Ｖ２，Ｖ３がそれぞれ設けられる。各開閉弁Ｖ２，Ｖ３は、洗浄液の供給およびその供給の停止を行う。このような構成により、２本の洗浄液供給路５７，５８に選択的に洗浄液を供給できる。

【0049】

また、第１ポット４３の内部の底面には、第１排出管６８の一端が接続される。また、第２ポット４４の内部の底面には、第２排出管６９の一端が接続される。２本の排出管６８，６９の他端は、三方弁７１に接続される。三方弁７１には、更に共通排出管７３が接続される。三方弁７１は、共通排出管７３を２本の排出管６８，６９の一方に選択的に接続させる。

【0050】

例えば、三方弁７１によって共通排出管７３が第１排出管６８に接続される場合、第１ポット４３内の洗浄液を第１排出管６８および共通排出管７３を通じて排出することができる。この場合、第２ポット４４の内部には、洗浄液を貯留させることができる。第２ポット４４は、第２洗浄液供給路５８から供給された洗浄液を貯留して、ノズル３の先端部を洗浄液に浸すことができる。

【0051】

また、三方弁７１によって共通排出管７３が第２排出管６９に接続される場合、第２ポット４４内の洗浄液を第２排出管６９および共通排出管７３を通じて排出することができる。この場合、第１ポット４３の内部には、洗浄液を貯留させることができる。第１ポット４３は、第１洗浄液供給路５７から供給された洗浄液を貯留して、ノズル３の先端部を洗浄液に浸すことができる。

【0052】

図１を参照する。基板処理装置１の残りの構成を説明する。基板処理装置１は、コントローラ８１と、図示しない記憶部（例えばメモリ）とを備えている。コントローラ８１は、例えば中央演算処理装置（ＣＰＵ）などの１つまたは複数のプロセッサを備えている。コントローラ８１は、基板処理装置１の各構成（例えば保持回転部２、ノズル移動機構１９、回転機構４７、開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３、三方弁７１、およびポンプ１５，６６）を制御する。記憶部には、基板処理装置１の動作に必要なコンピュータプログラムが記憶されている。

【0053】

次に、基板処理装置１の基本的な動作について説明する。図２を参照する。図示しない基板搬送ロボットは、左右の保持回転部２のうち、例えば左側の保持回転部２の上に基板Ｗを搬送する。保持回転部２は、基板Ｗを保持し、保持した基板Ｗを回転させる。ノズル移動機構１９は、１０個のノズル３のうちの任意のノズル３が取り付けられたノズルブロック５を選択的に把持する。そして、ノズル移動機構１９は、把持したノズルブロック５を上昇させて、待機ポット１７の収容空間１８からノズル３の先端部を取り出す。その後、ノズル移動機構１９は、左側の保持回転部２で回転された基板Ｗの中心部の上方にノズル３およびノズルブロック５を移動する。

【0054】

その後、図１に示す開閉弁Ｖ１を開状態にし、かつ、ポンプ１５が処理液を送り出す。これにより、ノズル３から処理液が基板Ｗの中心に吐出され、基板Ｗの回転により処理液が基板Ｗで広げられる。その後、開閉弁Ｖ１を閉状態にし、かつ、ポンプ１５を停止する。これにより、ノズル３からの処理液の吐出が停止する。その後、ノズル移動機構１９は、ノズル３およびノズルブロック５を待機ポット１７に移動させ、ノズル３の先端部を待機ポット１７の収容空間１８に収めながら、待機ポット１７にノズルブロック５を置く。把持部２１は、ノズルブロック５の把持を解除する。左側の保持回転部２は、基板Ｗの回転を停止し、基板Ｗの保持を解除する。図示しない基板搬送ロボットは、左側の保持回転部２から次の送り先に基板Ｗを搬送する。

【0055】

次に、図５、図６（ａ）～図６（ｃ）、図７（ａ）～図７（ｃ）、図８（ａ）および図８（ｂ）を参照しながら、ノズル交換の動作について説明する。この説明において、ノズルブロック５から取り外すノズル３を第１ノズル３Ａと呼ぶ。また、第１ノズル３Ａに代えて、ノズルブロック５に取り付けるノズル３を第２ノズル３Ｂと呼ぶ。

【0056】

〔ステップＳ０１〕第２ノズル３Ｂに対する交換前洗浄
図６（ａ）を参照する。第２ポット４４には、第２ノズル３Ｂの先端部が収容されている。この際、第２ノズル３Ｂ（すなわち、第２ノズル３Ｂのキャップ３３）は、第２保持部４６によって保持されている。ノズル交換の前に第２ノズル３Ｂを洗浄する。

【0057】

具体的に説明する。開閉弁Ｖ３を開状態にし、かつポンプ６６を駆動させる（図４（ａ）参照）。これにより、第２ノズル３Ｂ（ノズルチップ３１）の先端部に向けて、第２洗浄液供給路５８から洗浄液が供給される。この際、三方弁７１は、共通排出管７３を第２排出管６９に接続させる。これにより、第２ポット４４内の洗浄液を第２排出管６９および共通排出管７３を通じて排出することができる。

【0058】

なお、回転機構４７は、第２洗浄液供給路５８から洗浄液を供給しているときに、第２保持部４６で保持される第２ノズル３Ｂを回転させてさせてもよい。第２ノズル３Ｂを回転しなくても、第２ノズル３Ｂに着液した洗浄液が第２ノズル３Ｂの周方向に回り込みながら下方向に流れるので、第２ノズル３Ｂの吐出口付近の任意の領域を十分に洗浄できる。更に、第２ノズル３Ｂを回転させながら洗浄液を第２ノズル３Ｂに供給すれば、より均等に第２ノズル３Ｂの先端部に洗浄液を供給することができる。

【0059】

なお、開閉弁Ｖ３を閉状態にし、かつポンプ６６の駆動を停止することで、第２洗浄液供給路５８からの洗浄液の供給が停止する（図４（ａ）参照）。

【0060】

〔ステップＳ０２〕第１ポット４３への第１ノズル３Ａの移動
図６（ａ）に示すように、ノズル移動機構１９は、ノズルブロック５の第１ノズル３Ａを第１ポット４３の開口部４３Ａおよび第１保持部４５のトンネル部４９の上方に移動させる。図６（ｂ）を参照する。その後、ノズル移動機構１９は、予め設定された高さに、第１ノズル３Ａを下降させる。これにより、第１ノズル３Ａのキャップ３３は、第１保持部４５のトンネル部４９に進入する。その後、第１ノズル３Ａの先端部は第１ポット４３内に収容されると共に、第１保持部４５によって第１ノズル３Ａは保持される。

【0061】

〔ステップＳ０３〕第１ノズル３Ａに対する洗浄
第１保持部４５が第１ノズル３Ａを保持した後、第１洗浄液供給路５７から第１ノズル３Ａに向けて洗浄液を供給する。すなわち、開閉弁Ｖ２を開状態にし、かつポンプ６６を駆動させる（図４（ａ）参照）。これにより、第１ノズル３Ａの先端部が洗浄される。また、三方弁７１は、共通排出管７３を第２排出管６９に接続しているので、供給された洗浄液は、第１ポット４３内に貯留される。これにより、図６（ｃ）に示すように、第１ノズル３Ａの先端部が洗浄液に浸漬される。そして、第１ノズル３Ａの先端部が洗浄液に浸漬された状態を、予め設定された時間中、維持する。第１ノズル３Ａから除去しにくい汚れを、処理液への浸漬によって除去することができる。

【0062】

なお、開閉弁Ｖ２を閉状態にし、かつポンプ６６の駆動を停止することで、第１洗浄液供給路５７からの洗浄液の供給が停止する（図４（ａ）参照）。なお、ノズル交換を更に迅速に行うために、ステップＳ０３での第１ノズル３Ａの洗浄を省いてステップＳ０４に進み、後述するステップＳ０７だけで第１ノズル３Ａを洗浄するようにしてもよい。

【0063】

〔ステップＳ０４〕ノズルブロック５からの第１ノズル３Ａの取り外し
回転機構４７は、第１保持部４５で第１ノズル３Ａを保持した状態で、第１ノズル３Ａの中心軸ＡＸ２周りに第１保持部４５を回転させる（図６（ｃ）参照）。この回転は、例えば反時計回りの回転である。これにより、ノズルブロック５の外ねじ部３７に対して第１ノズル３Ａのキャップ３３が緩む。そのため、外ねじ部３７からキャップ３３が分離し、ノズルブロック５から第１ノズル３Ａが取り外される。なお、この際、第１ノズル３Ａの先端部が洗浄液に浸漬した状態で第１ノズル３Ａが回転されるので、第１ノズル３Ａに付着する汚れの洗浄効果向上を期待できる。

【0064】

〔ステップＳ０５〕第２ポット４４へのノズルブロック５の移動
図７（ａ）を参照する。ノズルブロック５から第１ノズル３Ａを取り外した後、ノズル移動機構１９は、ノズルブロック５を上昇させる。図７（ｂ）を参照する。その後、ノズル移動機構１９は、第１保持部４５で保持された第１ノズル３Ａの上方から第２保持部４６で保持された第２ノズル３Ｂの上方に、ノズルブロック５の接続部３５を水平移動させる。図７（ｃ）を参照する。その後、ノズル移動機構１９は、ノズルブロック５の接続部３５の外ねじ部３７（ねじ溝３７Ａ）が第２ノズル３Ｂのキャップ３３の内ねじ（ねじ溝３３Ｄ）に噛み合うところまで、ノズルブロック５を下降させる。

【0065】

〔ステップＳ０６〕ノズルブロック５への第２ノズル３Ｂの取り付け
図８（ａ）を参照する。ノズルブロック５を下降した後、回転機構４７は、第２保持部４６で第２ノズル３Ｂを保持した状態で、第２ノズル３Ｂの中心軸ＡＸ２周りに第２保持部４６を回転させる。この回転は、時計回りの回転である。これにより、ノズルブロック５の外ねじ部３７に対して第２ノズル３Ｂのキャップ３３が締め付けられる。そのため、ノズルブロック５に第２ノズル３Ｂが取り付けられる。したがって、第１ノズル３Ａは第２ノズル３Ｂに交換される。

【0066】

図８（ｂ）を参照する。ノズルブロック５に第２ノズル３Ｂを取り付けた後、ノズル移動機構１９は、第２ノズル３Ｂを上昇させる。これにより、第２保持部４６による第２ノズル３Ｂの保持が解除される。その後、ノズル移動機構１９は、第２ノズル３Ｂを任意の位置に移動させる。

【0067】

〔ステップＳ０７〕第１ノズル３Ａに対する洗浄
図８（ｂ）に示すように、第１ノズル３Ａは、第１ポット４３に収容され、かつ第１保持部４５で保持されている。第１ノズル３Ａの汚れが溶解した場合、三方弁７１は、共通排出管７３を第１排出管６８に接続させる。これにより、第１ポット４３内に貯留される洗浄液は、第１排出管６８および共通排出管７３を通じて、排出される。その後、再度、第１洗浄液供給路５７から第１ノズル３Ａに洗浄液を供給して、第１ノズル３Ａの先端部を洗浄する。これにより、洗浄後の第１ノズル３Ａを再利用できる。

【0068】

なお、供給された洗浄液は、第１排出管６８および共通排出管７３を通じて排出される。また、回転機構４７は、第１洗浄液供給路５７から洗浄液を供給しているときに、第１保持部４５で保持される第１ノズル３Ａを回転させてもよい。

【0069】

本実施例によれば、次の効果を備える。第１ポット４３の開口部４３Ａに設けられた第１保持部４５は、第１ノズル３Ａを保持する。第２ポット４４の開口部４４Ａに設けられた第２保持部４６は、第２ノズル３を保持する。２つの保持部４５，４６は、回転機構４７によって回転される。回転機構４７は、第１保持部４５で第１ノズル３Ａが保持された状態で、第１保持部４５を回転させることで、ノズルブロック５から第１ノズル３Ａを取り外す。また、回転機構４７は、第２保持部４６で保持された第２ノズル３Ｂが保持された状態で、第２保持部４６を回転させることで、ノズルブロック５に第２ノズル３Ｂを取り付ける。ノズルブロック５に取り付けられたノズル３を交換する際に、作業者がノズル３（３Ａ，３Ｂ）を触る機会を減らすことができる。そのため、ノズル３の汚染を防止することができる。また、ノズル３の交換作業を自動化することができ、その結果、ノズル３の交換時間を削減できる。

【0070】

また、例えば、単一の保持部が設けられる場合、ノズルブロック５から第１ノズル３Ａを取り外した後、ノズルブロック５に別の第２ノズル３Ｂを取り付けるために、作業者は、単一の保持部で保持される第１ノズル３Ａを第２ノズル３Ｂに交換しなければならない。しかし、２つの保持部４５，４６が設けられることで、第１ノズル３Ａを取り外すための第１保持部４５と、第２ノズル３Ｂを取り付けるための第２保持部４６とを準備できる。そのため、作業者は、単一の保持部において、手または工具を用いて、ノズル３を交換しなくてもよいので、作業者がノズル３を触る機会を減らすことができる。そのため、ノズル３の汚染を防止することができる。また、ノズル３の交換時間を削減しつつ、装置停止時間を削減することができる。

【0071】

また、作業者がノズル３を触れる機会が大きく減り、ノズル３の交換による基板処理装置１の外部からのエアーが入り込む機会も大きく減らすことができる。

【0072】

また、第１ポット４３および第２ポット４４の２つの保持部４５，４６は、１つの回転機構４７によって回転される。第１ポット４３および第２ポット４４の各々に回転機構４７が設けられる場合に比べて、回転機構４７の数を減らすことができるので、コストを削減できる。また、ノズル３を交換するための機構をコンパクトにすることができる。

【実施例0073】

次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。なお、実施例１と重複する説明は省略する。実施例１では、交換機構４１はノズル３を交換した。これに対し、実施例２では、交換機構４１はブラシ８８を交換する。

【0074】

図９は、実施例２に係る基板処理装置の概略構成図である。基板処理装置８５は、基板Ｗに対して洗浄処理を行う。基板処理装置８５は、保持回転部２、ノズル８６、ブラシ８８およびブラシ移動機構９０を備えている。

【0075】

保持回転部２は、スピンチャック９２と回転駆動部８を備える。スピンチャック９２は、円板状の回転ベース９４と３本以上のチャックピン９６を備える。チャックピン９６は、回転ベース９４上にリング状に配置される。チャックピン９６は、基板Ｗの外周の側面に接触して基板Ｗの中心の垂直軸ＡＸ１に各々向かうように、基板Ｗを挟み込む。これにより、スピンチャック９２は、基板Ｗを保持する。回転駆動部８は、スピンチャック９２を垂直軸ＡＸ１の周りに回転させる。

【0076】

ノズル８６は、保持回転部２に保持された基板Ｗの中心（回転中心）に処理液を吐出する。ノズル８６には、処理液供給源９８から配管１００を通じて処理液が供給される。配管１００には、処理液供給源９８側から順番に、ポンプ１０２、開閉弁Ｖ４が設けられる。ポンプ１０２は、ノズル８６側に処理液を送り出す。開閉弁Ｖ４は、処理液の供給およびその供給の停止を行う。処理液は、例えばアンモニア水、アンモニア過酸化水素水、純水（脱イオン水）が用いられる。なお、例えばアンモニア水と純水が選択的にノズル８６に供給されるように構成されていてもよい。

【0077】

ブラシ８８は、例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）のスポンジブラシが用いられる。ブラシ移動機構９０は、アーム１０４、ブラシ回転駆動部１０６、回転軸１０８、揺動駆動部１１０および昇降部１１２を備えている。なお、ブラシ８８は、ＰＶＡ以外の素材であってもよい。また、ブラシ８８は、スポンジに限られず、複数の毛束が部材に植え込まれたものであってもよい。

【0078】

ブラシ８８は、アーム１０４の先端の下面に設けられる。ブラシ８８は、ブラシ８８の中心を通る垂直軸ＡＸ５の周りに回転可能である。ブラシ回転駆動部１０６は、アーム１０４に設けられる。ブラシ回転駆動部１０６は、垂直軸ＡＸ５周りにブラシ８８を回転させる。

【0079】

回転軸１０８は、アーム１０４の基端に設けられる。回転軸１０８は、垂直軸ＡＸ６の周りに回転可能である。揺動駆動部１１０は、回転軸１０８を垂直軸ＡＸ６の周りに揺動させる。これにより、ブラシ８８およびアーム１０４は、垂直軸ＡＸ６の周りに揺動される。昇降部１１２は、回転軸１０８を昇降させる。これにより、ブラシ８８およびアーム１０４を昇降させる。

【0080】

ブラシ回転駆動部１０６、揺動駆動部１１０および昇降部１１２は各々、電動モータを備える。ブラシ回転駆動部１０６、揺動駆動部１１０および昇降部１１２は各々、電動モータで駆動される。

【0081】

なお、ブラシ８８（８８Ａ，８８Ｂ）は本発明の処理具に相当する。アーム１０４は本発明の取付部材に相当する。ブラシ移動機構９０は本発明の移動機構に相当する。

【0082】

次に、実施例２の基板処理装置８５の基本的な動作を簡単に説明する。保持回転部２で基板Ｗを回転させながら、ノズル８６から基板Ｗの回転中心に処理液を吐出する。ブラシ移動機構９０は、処理液の吐出中、かつブラシ８８の下面を基板Ｗの上面に接触（または近接）させた状態で、アーム１０４を揺動させる。これにより、基板Ｗの上面は、スクラブ洗浄される。

【0083】

基板処理装置８５は、洗浄処理しないときにブラシ８８を待機させるための待機ポット１１４を備える。この待機ポット１１４とは別に、基板処理装置８５は、ブラシ８８を交換するための交換機構４１を備える。

【0084】

図１０は、実施例２に係る交換機構４１の構成を示す図である。本実施例の交換機構４１において、２つの保持部４５，４６は各々、ブラシ８８（後述する内ねじ部１１８）を保持する。ブラシ８８は、ブラシ本体１１６と内ねじ部１１８を備える。内ねじ部１１８は、ブラシ本体１１６の基端部に固定される。内ねじ部１１８には、ねじ穴１１９が設けられ、ねじ穴１１９の側面には、ねじ溝１２０が形成される。内ねじ部１１８は、円筒状の部材である。内ねじ部１１８の外周側面には、ローレット加工により、上下方向に延びた多数の溝が形成される。

【0085】

アーム１０４の先端部下面には、接続部１２２が設けられる。接続部１２２は、外ねじ部１２４を備える。外ねじ部１２４の外周側面には、ねじ溝１２５が形成される。ブラシ８８の内ねじ部１１８（ねじ溝１２０）が、接続部１２２の外ねじ部１２４（ねじ溝１２５）と噛み合うことで、ブラシ８８がねじ締めされる。なお、ブラシ８８は、図９に示すように垂直軸ＡＸ６の回りに回動するので、２つのポット４３，４４および２つの保持部４５，４６は各々、ブラシ８８の軌道に沿って設けられる。

【0086】

第１洗浄液供給路５７は、第１ポット４３の内周側面に開口するように設けられている。第１洗浄液供給路５７は、第１保持部４５で保持されるブラシ８８のブラシ本体１１６の下面に向けて洗浄液を供給する。同様に、第２洗浄液供給路５８は、第２ポット４４の内周側面に開口するように設けられている。第２洗浄液供給路５８は、第２保持部４６で保持されるブラシ８８のブラシ本体１１６の下面に向けて洗浄液を供給する。洗浄液は、例えば純水（脱イオン水）が用いられる。

【0087】

図１１を参照する。アーム１０４に取り付ける前のブラシ８８（８８Ｂ）が第２保持部４６に保持されている。第２洗浄液供給路５８から第２保持部４６に保持されたブラシ８８（８８Ｂ）に向けて洗浄液が供給されているときに、回転機構４７が、第２保持部４６で保持されるブラシ８８（８８Ｂ）を回転する。これにより、アーム１０４に設けられたブラシ回転駆動部１０６による回転駆動がなくても、ブラシ８８（８８Ｂ）の洗浄中にブラシ８８（８８Ｂ）を回転させることができる。そのため、ブラシ８８（８８Ｂ）に付着した汚れをより効果的に除去できる。

【0088】

次に、ブラシ８８の交換動作について説明する。図１２は、実施例２に係るブラシ８８の交換動作を示すフローチャートである。本実施例のブラシ交換も、実施例１のノズル交換とほぼ同様に行われる。この説明において、アーム１０４から取り外すブラシ８８を第１ブラシ８８Ａと呼ぶ。また、第１ブラシ８８Ａに代えて、アーム１０４に取り付けるブラシ８８を第２ブラシ８８Ｂと呼ぶ。

【0089】

〔ステップＳ１１〕第２ブラシ８８Ｂに対する交換前洗浄
図１１を参照する。第２ブラシ８８Ｂ（すなわち、第２ブラシ８８Ｂの内ねじ部１１８）は、第２保持部４６によって保持されている。ブラシ交換の前に第２ノズル３Ｂを洗浄する。具体的に説明する。第２ブラシ８８Ｂ（ブラシ本体１１６）に向けて、第２洗浄液供給路５８から洗浄液を供給する。この際、三方弁７１は、共通排出管７３を第２排出管６９に接続させる。

【0090】

また、回転機構４７は、第２洗浄液供給路５８から洗浄液を供給しているときに、第２保持部４６で保持される第２ブラシ８８Ｂを回転させる。第１ブラシ８８Ａが第１ポット４３および第１保持部４５の上方に移動される前に、この洗浄が終了していると、第１ブラシ８８Ａの取り外し動作を円滑に行うことができる。その結果、ブラシ交換時間を削減し、また、装置停止時間を削減することができる。なお、貯留された洗浄液にブラシ本体１１６を浸漬させつつ、第２保持部４６に保持された第２ブラシ８８Ｂを回転させてもよい。

【0091】

〔ステップＳ１２〕第１ポット４３への第１ブラシ８８Ａの移動
ブラシ移動機構９０の揺動駆動部１１０は、垂直軸ＡＸ６の周りに第１ブラシ８８Ａおよびアーム１０４を回動させることで、第１ブラシ８８Ａを第１ポット４３および第１保持部４５の上方に移動させる。その後、ブラシ移動機構９０の昇降部１１２は、第１ブラシ８８Ａを下降させる。これにより、第１ブラシ８８Ａは、第１保持部４５のトンネル部４９に進入し、第１保持部４５によって保持される。

【0092】

〔ステップＳ１３〕第１ブラシ８８Ａに対する洗浄
第１洗浄液供給路５７から第１ブラシ８８Ａに向けて洗浄液が供給される。これにより、第１ブラシ８８Ａのブラシ本体１１６が洗浄される。三方弁７１は、共通排出管７３を第２排出管６９に接続しているので、供給された洗浄液は、第１ポット４３内に貯留される。これにより、第１ブラシ８８Ａの先端部が洗浄液に浸漬される。そして、第１ブラシ８８Ａの先端部が洗浄液に浸漬された状態を、予め設定された時間中、維持する。なお、ブラシ交換を更に迅速に行うためにステップＳ１３を省いてステップＳ１４に進み、ステップＳ１７だけで第１ブラシ８８Ａを洗浄するようにしてもよい。

【0093】

〔ステップＳ１４〕アーム１０４からの第１ブラシ８８Ａの取り外し
回転機構４７は、第１保持部４５で第１ブラシ８８Ａを保持した状態で、第１ブラシ８８Ａの中心軸ＡＸ２（垂直軸ＡＸ３）の周りに第１保持部４５を回転させる（反時計回り）。これにより、アーム１０４側の接続部１２２の外ねじ部１２４に対して、第１ブラシ８８Ａおよび内ねじ部１１８が緩む。そのため、外ねじ部１２４から内ねじ部１１８が分離し、アーム１０４から第１ブラシ８８Ａが取り外される。なお、この際、第１ブラシ８８Ａのブラシ本体１１６が洗浄液に浸漬された状態で、第１ブラシ８８Ａが回転される。そのため、第１ブラシ８８Ａの汚れが落ちやすくなる。

【0094】

〔ステップＳ１５〕第２ポット４４へのアーム１０４（接続部１２２）の移動
アーム１０４から第１ブラシ８８Ａを取り外した後、昇降部１１２は、アーム１０４を上昇させる。その後、揺動駆動部１１０は、第１保持部４５で保持された第１ブラシ８８Ａの上方から第２保持部４６で保持された第２ブラシ８８Ｂの上方に、接続部１２２を回動させる。その後、昇降部１１２は、接続部１２２の外ねじ部１２４と第２ブラシ８８Ｂの内ねじ部１１８とが噛み合うところまで、接続部１２２を下降させる。

【0095】

〔ステップＳ１６〕アーム１０４への第２ブラシ８８Ｂの取り付け
接続部１２２を下降した後、回転機構４７は、第２保持部４６で第２ブラシ８８Ｂを保持した状態で、第２ブラシ８８Ｂの中心軸ＡＸ２（垂直軸ＡＸ３）の周りに第２保持部４６を回転させる（時計回り）。これにより、アーム１０４側の接続部１２２の外ねじ部１２４に対してブラシ本体１１６および内ねじ部１１８が締め付けられる。そのため、アーム１０４に第２ブラシ８８Ｂが取り付けられる。したがって、第１ブラシ８８Ａが第２ブラシ８８Ｂに交換される。

【0096】

アーム１０４に第２ブラシ８８Ｂを取り付けた後、昇降部１１２は、第２ブラシ８８Ｂを上昇させる。これにより、第２保持部４６による第２ブラシ８８Ｂの保持が解除される。その後、揺動駆動部１１０は、第２ブラシ８８Ｂを任意の位置に移動させる。

【0097】

〔ステップＳ１７〕第１ブラシ８８Ａに対する洗浄
第１ブラシ８８Ａは、第１ポット４３に収容され、かつ第１保持部４５で保持されている。第１ブラシ８８Ａの汚れが溶解したとき、三方弁７１は、共通排出管７３を第１排出管６８に接続させる。これにより、第１ポット４３内に貯留される洗浄液は、第１排出管６８および共通排出管７３を通じて、排出される。その後、再度、第１洗浄液供給路５７から第１ブラシ８８Ａに洗浄液を供給して、第１ブラシ８８Ａのブラシ本体１１６を洗浄する。これにより、洗浄後の第１ブラシ８８Ａを再利用できる。

【0098】

なお、供給された洗浄液は、第１排出管６８および共通排出管７３を通じて排出される。また、回転機構４７は、第１洗浄液供給路５７から洗浄液を供給しているときに、第１保持部４５で保持される第１ブラシ８８Ａを回転させる。なお、ステップＳ１１，Ｓ１７の少なくとも一方において、洗浄液を供給しているときに、必要によりブラシ８８は、回転されなくてもよい。

【0099】

図１２の動作では、第１ブラシ８８Ａのブラシ本体１１６は、洗浄液に浸漬させている。この点、ブラシ本体１１６を洗浄液に浸漬させない場合は、ステップＳ１７は、省略される。

【0100】

本実施例によれば、実施例１と同様の効果を有する。アーム１０４に取り付けられたブラシ８８を交換する際に、作業者がブラシ８８（８８Ａ，８８Ｂ）を触る機会を減らすことができる。そのため、ブラシ８８の汚染を防止することができる。また、ブラシ８８の交換作業を自動化することができ、その結果、ブラシ８８の交換時間を削減できる。