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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022148144
(43)【公開日】2022-10-06
(54)【発明の名称】酸化銅被覆部材
(51)【国際特許分類】
B32B 9/00 20060101AFI20220929BHJP
【ＦＩ】
B32B9/00 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021049712
(22)【出願日】2021-03-24
(71)【出願人】
【識別番号】000006264
【氏名又は名称】三菱マテリアル株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100149548
【弁理士】
【氏名又は名称】松沼 泰史
(74)【代理人】
【識別番号】100175802
【弁理士】
【氏名又は名称】寺本 光生
(74)【代理人】
【識別番号】100142424
【弁理士】
【氏名又は名称】細川 文広
(74)【代理人】
【識別番号】100140774
【弁理士】
【氏名又は名称】大浪 一徳
(72)【発明者】
【氏名】伊藤 優樹
(72)【発明者】
【氏名】石井 博
(72)【発明者】
【氏名】歳森 悠人
(72)【発明者】
【氏名】長友 義幸
【テーマコード（参考）】
4F100
【Ｆターム（参考）】
4F100AA17B
4F100AA17C
4F100AA19C
4F100AA20C
4F100AA21C
4F100AA25C
4F100AA27C
4F100AA28C
4F100AB17C
4F100AG00A
4F100AK01A
4F100AK42A
4F100AT00A
4F100BA02
4F100BA03
4F100BA04
4F100BA07
4F100CB05D
4F100EH66B
4F100EH66C
4F100GB08
4F100GB81
4F100JC00
4F100JL13D
4F100JN01A
4F100JN28
(57)【要約】
【課題】耐久性に優れ、かつ、抗菌性・抗ウィルス性に優れた酸化銅被覆部材を提供する。
【解決手段】基材と、この基材の少なくとも表面に形成された酸化銅層と、を有し、前記酸化銅層がＣｕ４Ｏ３を含むことを特徴とする。前記基材の表面における前記酸化銅層の被覆率が１０％以上であることが好ましい。前記酸化銅層の厚さが１００ｎｍ以下であることが好ましい。前記基材と前記酸化銅層との間に中間層が形成されており、前記中間層が、金属Ｃｕ，Ｉｎ酸化物，Ｓｎ酸化物，Ｚｎ酸化物，Ｎｂ酸化物，Ｔｉ酸化物，Ａｌ酸化物，Ｇａ酸化物，Ｗ酸化物，Ｍｏ酸化物，Ｓｉ酸化物，Ｚｒ酸化物，Ｔａ酸化物，Ｙ酸化物，Ｇｅ酸化物，Ｃｕ酸化物，Ａｇ酸化物から選択される一種または二種以上を含むことが好ましい。
【選択図】なし
【解決手段】基材と、この基材の少なくとも表面に形成された酸化銅層と、を有し、前記酸化銅層がＣｕ４Ｏ３を含むことを特徴とする。前記基材の表面における前記酸化銅層の被覆率が１０％以上であることが好ましい。前記酸化銅層の厚さが１００ｎｍ以下であることが好ましい。前記基材と前記酸化銅層との間に中間層が形成されており、前記中間層が、金属Ｃｕ，Ｉｎ酸化物，Ｓｎ酸化物，Ｚｎ酸化物，Ｎｂ酸化物，Ｔｉ酸化物，Ａｌ酸化物，Ｇａ酸化物，Ｗ酸化物，Ｍｏ酸化物，Ｓｉ酸化物，Ｚｒ酸化物，Ｔａ酸化物，Ｙ酸化物，Ｇｅ酸化物，Ｃｕ酸化物，Ａｇ酸化物から選択される一種または二種以上を含むことが好ましい。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と、この基材の少なくとも表面に形成された酸化銅層と、を有し、前記酸化銅層がＣｕ４Ｏ３を含むことを特徴とする酸化銅被覆部材。
【請求項2】
前記基材の表面における前記酸化銅層の被覆率が１０％以上であることを特徴とする請求項１に記載の酸化銅被覆部材。
【請求項3】
前記酸化銅層の厚さが１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の酸化銅被覆部材。
【請求項4】
前記基材と前記酸化銅層との間に中間層が形成されており、前記中間層が、金属Ｃｕ，Ｉｎ酸化物，Ｓｎ酸化物，Ｚｎ酸化物，Ｎｂ酸化物，Ｔｉ酸化物，Ａｌ酸化物，Ｇａ酸化物，Ｗ酸化物，Ｍｏ酸化物，Ｓｉ酸化物，Ｚｒ酸化物，Ｔａ酸化物，Ｙ酸化物，Ｇｅ酸化物，Ｃｕ酸化物，Ａｇ酸化物から選択される一種または二種以上を含むことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の酸化銅被覆部材。
【請求項5】
前記基材が、透明ガラス基板又は透明樹脂基板であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の酸化銅被覆部材。
【請求項6】
波長５５０ｎｍの光の透過率が５％以上であることを特徴とする請求項５に記載の酸化銅被覆部材。
【請求項7】
前記基材に粘着層が設けられていることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の酸化銅被覆部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、基材の表面に酸化銅膜が形成された酸化銅被覆部材に関するものである。
【背景技術】
【0002】
一般に、医療機関、公共施設、衛生管理に厳しい研究施設（例えば食品、化粧品、医薬品等）において使用される机、椅子、棚等の什器や、手すり、ドアノブ等においては、複数の人が触れるおそれがあるため、伝染病の予防、ウィルスや菌の拡散防止の観点からも抗菌性・抗ウィルス性を有していることが望ましい。
【0003】
ここで、銅又は銅合金および酸化銅においては、抗菌・抗ウィルス性を有することが知られている。このため、例えば特許文献１，２には、机、椅子、棚等の什器や、手すり、ドアノブ等の各種製品に抗菌・抗ウィルス性のある銅又は銅合金を使用することで、様々な菌、ウィルスによる感染を予防することが開示されている。
また、既存の製品の表面に抗菌性を付与するものとして、例えば特許文献３，４に示すように、フィルムの表面に、銅又は銅合金の膜を成膜した抗菌フィルム（抗ウィルスフィルム）が提案されている。
さらに、特許文献５，６には、酸化銅等を利用した抗菌・抗ウィルス部材が提案されている。
また、既存の製品の表面に抗菌性を付与するものとして、例えば特許文献３，４に示すように、フィルムの表面に、銅又は銅合金の膜を成膜した抗菌フィルム（抗ウィルスフィルム）が提案されている。
さらに、特許文献５，６には、酸化銅等を利用した抗菌・抗ウィルス部材が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特許第５２４５０１５号公報
【特許文献2】特許第６１７７４４１号公報
【特許文献3】特開２０１０－２４７４５０号公報
【特許文献4】特開２０１８－１３４７５３号公報
【特許文献5】特許第５７４６４０６号公報
【特許文献6】特許第６６６０３９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
近年では、各種菌やウィルスを原因とする感染症が広く蔓延することがあり、抗菌性・抗ウィルス性に優れるとともに、長時間安定して使用できるように耐久性に優れた抗菌・抗ウィルス部材が求められている。
ここで、酸化銅としては、主に、Ｃｕ２ＯとＣｕＯが存在する。ここで、Ｃｕ２Ｏにおいては、抗菌性・抗ウィルス性に優れているが耐久性が低く、長時間安定して抗菌・抗ウィルスの効果を発現することができないおそれがあった。一方、ＣｕＯにおいては、耐久性に優れているが抗菌性・抗ウィルス性が不十分であった。
ここで、酸化銅としては、主に、Ｃｕ２ＯとＣｕＯが存在する。ここで、Ｃｕ２Ｏにおいては、抗菌性・抗ウィルス性に優れているが耐久性が低く、長時間安定して抗菌・抗ウィルスの効果を発現することができないおそれがあった。一方、ＣｕＯにおいては、耐久性に優れているが抗菌性・抗ウィルス性が不十分であった。
【0006】
本発明は、以上のような事情を背景としてなされたものであって、耐久性に優れ、かつ、抗菌性・抗ウィルス性に優れた酸化銅被覆部材を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0007】
この課題を解決するために、本発明者らが鋭意検討した結果、所定の条件で作成することにより、Ｃｕ４Ｏ３含む酸化銅を形成することができることが分かった。そして、このＣｕ４Ｏ３含む酸化銅は、耐久性に優れ、かつ、抗菌性・抗ウィルス性に優れていることが分かった。
【0008】
本発明の酸化銅被覆部材は、上述の知見に基づいてなされたものであって、基材と、この基材の少なくとも表面に形成された酸化銅層と、を有し、前記酸化銅層がＣｕ４Ｏ３を含むことを特徴としている。
【0009】
この構成酸化銅被覆部材においては、基材の少なくとも表面にＣｕ４Ｏ３を含む酸化銅層が形成されているので、耐久性、抗菌性・抗ウィルス性に優れており、抗菌・抗ウィルスの効果を長時間安定して発現することができる。
【0010】
ここで、本発明の酸化銅被覆部材においては、前記基材の表面における前記酸化銅層の被覆率が１０％以上であることが好ましい。
この場合、前記基材の表面におけるＣｕ４Ｏ３を含む酸化銅層の被覆率が１０％以上とされているので、抗菌・抗ウィルスの効果を十分に発現することができる。
この場合、前記基材の表面におけるＣｕ４Ｏ３を含む酸化銅層の被覆率が１０％以上とされているので、抗菌・抗ウィルスの効果を十分に発現することができる。
【0011】
また、本発明の酸化銅被覆部材においては、前記酸化銅層の厚さが１００ｎｍ以下であることが好ましい。
この場合、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層の厚さが１００ｎｍ以下であることから、光の透過性が高くなり、視認性および意匠性を向上させることができる。
この場合、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層の厚さが１００ｎｍ以下であることから、光の透過性が高くなり、視認性および意匠性を向上させることができる。
【0012】
さらに、本発明の酸化銅被覆部材においては、前記基材と前記酸化銅層との間に中間層が形成されており、前記中間層が、金属Ｃｕ，Ｉｎ酸化物，Ｓｎ酸化物，Ｚｎ酸化物，Ｎｂ酸化物，Ｔｉ酸化物，Ａｌ酸化物，Ｇａ酸化物，Ｗ酸化物，Ｍｏ酸化物，Ｓｉ酸化物，Ｚｒ酸化物，Ｔａ酸化物，Ｙ酸化物，Ｇｅ酸化物，Ｃｕ酸化物，Ａｇ酸化物から選択される一種または二種以上を含むことが好ましい。
この場合、上述の中間層が形成されているので、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層を安定して形成することができ、ロバスト性を確保でき、厚膜化を図ることができる。また、中間層が露出した場合でも、ある程度の抗菌性・抗ウィルス性を確保することができる。
この場合、上述の中間層が形成されているので、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層を安定して形成することができ、ロバスト性を確保でき、厚膜化を図ることができる。また、中間層が露出した場合でも、ある程度の抗菌性・抗ウィルス性を確保することができる。
【0013】
また、本発明の酸化銅被覆部材においては、前記基材が、透明ガラス基板又は透明樹脂基板であることが好ましい。
この場合、基材自体が光の透過性に優れており、酸化銅被覆部材全体で視認性および意匠性を向上させることができる。
この場合、基材自体が光の透過性に優れており、酸化銅被覆部材全体で視認性および意匠性を向上させることができる。
【0014】
さらに、本発明の酸化銅被覆部材においては、波長５５０ｎｍの光の透過率が５％以上であることが好ましい。
この場合、酸化銅被覆部材全体で、光の透過性に優れており、視認性および意匠性を向上させることができる。
この場合、酸化銅被覆部材全体で、光の透過性に優れており、視認性および意匠性を向上させることができる。
【0015】
また、本発明の酸化銅被覆部材においては、前記基材に粘着層が設けられていることが好ましい。
この場合、粘着層を用いて、各種製品の表面に酸化銅被覆部材を比較的容易に配置することができ、各種製品の表面に抗菌性・抗ウィルス性を付与することができる。
この場合、粘着層を用いて、各種製品の表面に酸化銅被覆部材を比較的容易に配置することができ、各種製品の表面に抗菌性・抗ウィルス性を付与することができる。
【発明の効果】
【0016】
本発明によれば、耐久性に優れ、かつ、抗菌性・抗ウィルス性に優れた酸化銅被覆部材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【発明を実施するための形態】
【0018】
以下に、本発明の一実施形態である酸化銅被覆部材について説明する。
本実施形態である酸化銅被覆部材は、例えば、机、椅子、棚等の什器や、手すり、ドアノブ等の不特定多数の人が接触するような各種製品に適用されるものである。
本実施形態である酸化銅被覆部材は、例えば、机、椅子、棚等の什器や、手すり、ドアノブ等の不特定多数の人が接触するような各種製品に適用されるものである。
【0019】
ここで、本実施形態である酸化銅被覆部材１０は、グラム陽性菌、グラム陰性菌のいずれに対しても抗菌性を有している。なお、グラム陽性菌としては、たとえば、ブドウ球菌、腸球菌、連鎖球菌、肺炎球菌、炭疽菌、破傷風菌、ウェルシュ菌、ディフィシル菌、リステリア菌、ジフテリア菌、結核菌などが挙げられる。グラム陰性菌としては、たとえば、大腸菌、緑膿菌、百日咳菌、野兎病菌、レジオネラ菌、チフス菌、サルモネラ菌、赤痢菌、肺炎桿菌、セラチア菌、プロテウス菌、エンテロバクター菌、ペスト菌、腸炎ビブリオ、コレラ菌、インフルエンザ菌、淋菌、髄膜炎菌、カタール球菌、アシネトバクター、ピロリ菌などが挙げられる。また、これら菌の中でも特定の抗菌薬に対して耐性を持つ、いわゆる薬剤耐性菌にも効果を発揮する。
また、本実施形態である酸化銅被覆部材１０は、各種ウィルスに対して抗ウィルス性を有している。対象となるウィルスは、例えば、エンベロープを持つウィルスとしてインフルエンザウィルス、コロナウィルス、エボラウィルス、ジカウィルス、エンベロープなしのウィルスとしてはネコカリシウィルス、ノロウィルスなどが挙げられる。
また、本実施形態である酸化銅被覆部材１０は、各種ウィルスに対して抗ウィルス性を有している。対象となるウィルスは、例えば、エンベロープを持つウィルスとしてインフルエンザウィルス、コロナウィルス、エボラウィルス、ジカウィルス、エンベロープなしのウィルスとしてはネコカリシウィルス、ノロウィルスなどが挙げられる。
【0020】
本実施形態である酸化銅被覆部材１０は、図１に示すように、基材１１と、この基材１１の少なくとも表面に形成された酸化銅層１２と、を有し、酸化銅層１２がＣｕ４Ｏ３を含むものとされている。
ここで、基材１１の表面に形成された酸化銅層１２にＣｕ４Ｏ３を含有するか否かは、ｉｎ－ＰｌａｎｅＸＲＤ法によって確認することができる。図２に、Ｃｕ２Ｏ，ＣｕＯ，Ｃｕ４Ｏ３のピーク位置を示す。
ここで、基材１１の表面に形成された酸化銅層１２にＣｕ４Ｏ３を含有するか否かは、ｉｎ－ＰｌａｎｅＸＲＤ法によって確認することができる。図２に、Ｃｕ２Ｏ，ＣｕＯ，Ｃｕ４Ｏ３のピーク位置を示す。
【0021】
なお、本実施形態では、図１に示すように、基材１１と酸化銅層１２との間に、中間層１３が形成されていてもよい。
さらに、本実施形態においては、図１に示すように、基板１１の酸化銅層１２とは反対側の面に粘着層１５が形成されていてもよい。
ここで、基材１１の材質等は特に制限はなく、例えば金属、ガラス、樹脂などで構成されたものであってもよい。
さらに、本実施形態においては、図１に示すように、基板１１の酸化銅層１２とは反対側の面に粘着層１５が形成されていてもよい。
ここで、基材１１の材質等は特に制限はなく、例えば金属、ガラス、樹脂などで構成されたものであってもよい。
【0022】
ここで、本実施形態では、基材１１の表面における酸化銅層１２の被覆率は１０％以上であることが好ましい。酸化銅層１２の被覆率が高い方が、抗菌・抗ウィルスの効果がさらに発現しやすくなる。
なお、基材１１の表面における酸化銅層１２の被覆率は、１５％以上であることがより好ましく、２０％以上であることがさらに好ましい。
なお、基材１１の表面における酸化銅層１２の被覆率は、１５％以上であることがより好ましく、２０％以上であることがさらに好ましい。
【0023】
また、本実施形態では、酸化銅層１２の厚さは、１００ｎｍ以下であってもよい。Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層１２の厚さが１００ｎｍ以下であれば、光の透過性に優れ、視認性および意匠性に優れることになる。
なお、酸化銅層１２の厚さの上限は、９０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましい。また、酸化銅層１２の厚さの下限は、５ｎｍ以上であることがさらに好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましい。
なお、酸化銅層１２の厚さの上限は、９０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましい。また、酸化銅層１２の厚さの下限は、５ｎｍ以上であることがさらに好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましい。
【0024】
また、本実施形態では、中間層１３が、金属Ｃｕ，Ｉｎ酸化物，Ｓｎ酸化物，Ｚｎ酸化物，Ｎｂ酸化物，Ｔｉ酸化物，Ａｌ酸化物，Ｇａ酸化物，Ｗ酸化物，Ｍｏ酸化物，Ｓｉ酸化物，Ｚｒ酸化物，Ｔａ酸化物，Ｙ酸化物，Ｇｅ酸化物，Ｃｕ酸化物，Ａｇ酸化物から選択される一種または二種以上を含むものとされていることが好ましい。
これらの中間層１３が存在することにより、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層１２を安定して形成することが可能となる。また、これらの中間層１３は、一定の抗菌性・抗ウィルス性を有していることから、中間層１３が表面に露出した場合でも、抗菌性・抗ウィルス性を発現することができる。
これらの中間層１３が存在することにより、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層１２を安定して形成することが可能となる。また、これらの中間層１３は、一定の抗菌性・抗ウィルス性を有していることから、中間層１３が表面に露出した場合でも、抗菌性・抗ウィルス性を発現することができる。
【0025】
なお、本実施形態において、中間層１３の厚さに特に制限はないが、製造コストの削減を図る場合には、中間層の厚みを１００ｎｍ以下とすることが好ましく、５０ｎｍ以下とすることがより好ましい。中間層１３としての作用効果を十分に奏功せしめるためには、中間層１３の厚みを５ｎｍ以上とすることが好ましく、８ｎｍ以上とすることがより好ましく、１０ｎｍ以上とすることが更に好ましい。
【0026】
さらに、本実施形態においては、基材１１が、透明ガラス基板又は透明樹脂基板であってもよい。酸化銅被覆部材１０全体として光の透過性に優れることになるため、この酸化銅被覆部材１０を各種製品の表面に配設した際に、各種製品の表面を視認することが可能となる。
【0027】
また、本実施形態においては、波長５５０ｎｍの光の透過率が５％以上であることが好ましい。酸化銅被覆部材１０全体として光の透過性に優れることになる。
なお、波長５５０ｎｍの光の透過率は、１５％以上であることがさらに好ましく、２５％以上であることがより好ましい。
なお、波長５５０ｎｍの光の透過率は、１５％以上であることがさらに好ましく、２５％以上であることがより好ましい。
【0028】
以下に、図１に示す酸化銅被覆部材１０の製造方法について説明する。
【0029】
まず、粘着層１５を形成した基材１１を準備する。
【0030】
次に、スパッタリング法により、基材１１の一方の面（粘着層１５とは反対側の面）に、中間層１３を成膜する。このとき、中間層１３を構成する金属Ｃｕ又は金属酸化物に対応した組成のスパッタリングターゲットを用いることが好ましい。
例えば、中間層１３を構成する金属酸化物からなる酸化物スパッタリングターゲットを用いてもよいし、中間層１３を構成する金属酸化物の金属スパッタリングターゲットを用いて酸素を導入して反応性スパッタ法を適用してもよい。なお、スパッタリングターゲットの導電性等を考慮して、ＤＣ（直流）スパッタ、ＲＦ（高周波）スパッタ、ＭＦ（中周波）スパッタ、ＡＣ（交流）スパッタ等を適宜選択して使用することが好ましい。
例えば、中間層１３を構成する金属酸化物からなる酸化物スパッタリングターゲットを用いてもよいし、中間層１３を構成する金属酸化物の金属スパッタリングターゲットを用いて酸素を導入して反応性スパッタ法を適用してもよい。なお、スパッタリングターゲットの導電性等を考慮して、ＤＣ（直流）スパッタ、ＲＦ（高周波）スパッタ、ＭＦ（中周波）スパッタ、ＡＣ（交流）スパッタ等を適宜選択して使用することが好ましい。
【0031】
次に、成膜した中間層１３の上に、スパッタリング法により、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層１２を形成する。
このとき、酸化銅スパッタリングターゲットを用いて、スパッタ時のＡｒガスと酸素ガスの流量比を調整することで、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層１２を形成する。
このとき、酸化銅スパッタリングターゲットを用いて、スパッタ時のＡｒガスと酸素ガスの流量比を調整することで、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層１２を形成する。
【0032】
上述の工程により、本実施形態である酸化銅被覆部材１０を製造することが可能となる。
【0033】
以上のような構成とされた本実施形態である酸化銅被覆部材１０によれば、基材１１の少なくとも表面にＣｕ４Ｏ３を含む酸化銅層１２が形成されているので、酸化銅層１２の抗菌性・抗ウィルス性および耐久性に優れており、抗菌・抗ウィルスの効果を長時間安定して発現することができる。
【0034】
また、本実施形態の酸化銅被覆部材１０において、基材１１の表面における酸化銅層１２の被覆率が１０％以上である場合には、基材１１の表面に抗菌性・抗ウィルス性および耐久性に優れたＣｕ４Ｏ３を含む酸化銅層１２が十分に形成されているので、抗菌・抗ウィルスの効果を十分に発現することができる。
【0035】
さらに、本実施形態の酸化銅被覆部材１０において、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層１２の厚さが１００ｎｍ以下である場合には、この酸化銅層１２の可視光の透過性が高くなり、視認性および意匠性を向上させることができる。
【0036】
さらに、本実施形態の酸化銅被覆部材１０において、基材１１と酸化銅層１２との間に中間層１３が形成されており、この中間層１３が、金属Ｃｕ，Ｉｎ酸化物，Ｓｎ酸化物，Ｚｎ酸化物，Ｎｂ酸化物，Ｔｉ酸化物，Ａｌ酸化物，Ｇａ酸化物，Ｗ酸化物，Ｍｏ酸化物，Ｓｉ酸化物，Ｚｒ酸化物，Ｔａ酸化物，Ｙ酸化物，Ｇｅ酸化物，Ｃｕ酸化物，Ａｇ酸化物から選択される一種または二種以上を含む場合には、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層１２を安定して形成することができ、ロバスト性を確保でき、厚膜化を図ることができる。また、中間層１３が露出した場合でも、ある程度の抗菌性・抗ウィルス性を確保することができる。
【0037】
また、本実施形態の酸化銅被覆部材１０において、基材１１が、透明ガラス基板又は透明樹脂基板である場合には、基材１１自体が光の透過性に優れており、酸化銅被覆部材１０を各種製品の表面に配設しても、各種製品の表面を視認することが可能となる。
【0038】
さらに、本実施形態の酸化銅被覆部材１０において、波長５５０ｎｍの光の透過率が５％以上である場合には、酸化銅被覆部材１０全体で、光の透過性に優れており、酸化銅被覆部材１０を各種製品の表面に配設しても、各種製品の表面を確実に視認することが可能となる。
【0039】
また、本実施形態の酸化銅被覆部材１０において、基材１１に粘着層１５が設けられている場合には、粘着層１５を用いて、各種製品の表面に酸化銅被覆部材１０を比較的容易に配置することができ、比較的容易に、各種製品に抗菌性・抗ウィルス性を付与することができる。
【0040】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、本実施形態では、基材の表面に酸化銅層を形成した構造のものを例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、部材全体が、銅又は銅合金、酸化銅で構成されたものであってもよく、少なくともその表面に、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層を有していればよい。
具体的には、表面にＣｕ４Ｏ３を含む酸化銅層を有していれば、銅又は銅合金で構成された線棒材、管材、板条材であってもよいし、これらの銅部材を素材として用いた各種加工品であってもよい。
また、本実施形態では、中間層を形成したものとして説明したが、中間層が形成されていなくてもよい。
例えば、本実施形態では、基材の表面に酸化銅層を形成した構造のものを例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、部材全体が、銅又は銅合金、酸化銅で構成されたものであってもよく、少なくともその表面に、Ｃｕ４Ｏ３を含む酸化銅層を有していればよい。
具体的には、表面にＣｕ４Ｏ３を含む酸化銅層を有していれば、銅又は銅合金で構成された線棒材、管材、板条材であってもよいし、これらの銅部材を素材として用いた各種加工品であってもよい。
また、本実施形態では、中間層を形成したものとして説明したが、中間層が形成されていなくてもよい。
【実施例0041】
以下に、本発明の効果を確認すべく行った確認実験の結果について説明する。
【0042】
まず、表１に示すように、ガラス製の基材（５０ｍｍ×５０ｍｍ×厚さ１ｍｍ）、および、ＰＥＴ樹脂製の基材（５０ｍｍ×５０ｍｍ×厚さ０．０５ｍｍ）を準備した。
【0043】
次に、表１に記載の中間層を成膜するために、株式会社高純度化学製の各種組成のスパッタリングターゲットを準備した。
また、酸化銅層を成膜するために、三菱マテリアル株式会社製酸化銅スパッタリングターゲットを準備した。
なお、比較例２においては、金属銅スパッタリングターゲットを準備した。
また、酸化銅層を成膜するために、三菱マテリアル株式会社製酸化銅スパッタリングターゲットを準備した。
なお、比較例２においては、金属銅スパッタリングターゲットを準備した。
【0044】
これらのスパッタリングターゲットを無酸素銅製のバッキングプレートに半田付けし、これを直流マグネトロンスパッタ装置に装着し、真空排気装置にて直流マグネトロンスパッタ装置内を５×１０－５Ｐａ以下まで排気した後、Ａｒガスを導入してターゲットと平行に配置した洗浄済みの表１に示す基板と、上記スパッタリングターゲットとの間にプラズマを発生させることで中間層および酸化銅層（比較例２においては金属銅層）を形成した。中間層の成膜条件、および、酸化銅層の成膜条件を以下に示す。
【0045】
＜中間層の成膜条件＞
使用ガス：Ａｒ＋５体積％酸素
ガス圧：０．４０Ｐａ
スパッタリング電力：直流１００Ｗ
ターゲット／基板間距離：７０ｍｍ
使用ガス：Ａｒ＋５体積％酸素
ガス圧：０．４０Ｐａ
スパッタリング電力：直流１００Ｗ
ターゲット／基板間距離：７０ｍｍ
【0046】
＜酸化銅層の成膜条件＞
使用ガス：Ａｒ＋Ｏ２（比率は表１に記載）
ガス圧：０．４０Ｐａ
スパッタリング電力：直流１００Ｗ
ターゲット／基板間距離：７０ｍｍ
使用ガス：Ａｒ＋Ｏ２（比率は表１に記載）
ガス圧：０．４０Ｐａ
スパッタリング電力：直流１００Ｗ
ターゲット／基板間距離：７０ｍｍ
【0047】
＜金属銅層の成膜条件＞
到達真空度：５×１０－５Ｐａ以下
使用ガス：Ａｒ
ガス圧：０．４Ｐａ
スパッタリング電力：直流１００Ｗ
ターゲット／基板間距離：７０ｍｍ
到達真空度：５×１０－５Ｐａ以下
使用ガス：Ａｒ
ガス圧：０．４Ｐａ
スパッタリング電力：直流１００Ｗ
ターゲット／基板間距離：７０ｍｍ
【0048】
上述のようにして得られた酸化銅被覆部材について、以下の項目について評価した。
【0049】
（膜厚測定）
中間層、酸化銅層および金属銅層の厚みは、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって下地層および銅層の断面を観察することで確認し、狙い値通りの厚みで成膜されていることを確認した。ＴＥＭ観察のための試料作製には、例えば、クロスセクションポリッシャー（ＣＰ）や、集束イオンビーム（ＦＩＢ）を用いることができる。
中間層、酸化銅層および金属銅層の厚みは、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって下地層および銅層の断面を観察することで確認し、狙い値通りの厚みで成膜されていることを確認した。ＴＥＭ観察のための試料作製には、例えば、クロスセクションポリッシャー（ＣＰ）や、集束イオンビーム（ＦＩＢ）を用いることができる。
【0050】
（酸化銅層の同定）
上述の条件で成膜した酸化銅層からサンプルを採取し、ｉｎ－ＰｌａｎｅＸＲＤ法を用いて、酸化銅層の同定を行った。酸化銅層の任意の１０箇所を測定し、１箇所でもＣｕ４Ｏ３が検出された場合は「Ｃｕ４Ｏ３」とし、Ｃｕ４Ｏ３が検出されず、主としてＣｕ２ＯやＣｕＯが検出された場合は、それぞれ「Ｃｕ２Ｏ」、「ＣｕＯ」とした。
上述の条件で成膜した酸化銅層からサンプルを採取し、ｉｎ－ＰｌａｎｅＸＲＤ法を用いて、酸化銅層の同定を行った。酸化銅層の任意の１０箇所を測定し、１箇所でもＣｕ４Ｏ３が検出された場合は「Ｃｕ４Ｏ３」とし、Ｃｕ４Ｏ３が検出されず、主としてＣｕ２ＯやＣｕＯが検出された場合は、それぞれ「Ｃｕ２Ｏ」、「ＣｕＯ」とした。
【0051】
（抗菌活性評価）
ＪＩＳ Ｚ ２８０１に準拠し各試験片の表面に一定の黄色ブドウ球菌を接種し、菌数が初期播種菌数の１／１０以下になるまでの時間を測定した。１／１０以下になるまでの時間が１時間以下の場合を「〇」、１／１０以下になるまでの時間が１時間を超える場合を「△」、１／１０以下にならなかった場合を「×」とした。
ＪＩＳ Ｚ ２８０１に準拠し各試験片の表面に一定の黄色ブドウ球菌を接種し、菌数が初期播種菌数の１／１０以下になるまでの時間を測定した。１／１０以下になるまでの時間が１時間以下の場合を「〇」、１／１０以下になるまでの時間が１時間を超える場合を「△」、１／１０以下にならなかった場合を「×」とした。
【0052】
（耐久性）
得られた酸化銅被覆部材を、４０℃の０．９ｍｏｌ％ＮａＣｌ水溶液に１時間浸漬し、その後の外観の変化を目視で確認した。
変色部が酸化銅層の全面にわたる場合（９０％以上）を「×」、変色部が全面の５０％以上９０％未満の場合を「△」、変色部が全面の１０％以上５０％未満の場合を「〇」、変色部が１０％未満の場合を「◎」と評価した。
ここでいう外観の変色は、コニカミノルタ製の分光測色計「ＣＭ－７００ｄ」を使用し、ＳＣＩ（正反射光込み）方式でＪＩＳ ８７８１－４に従い色差ΔＥで示される色差１０以上を基準とした。色差は試験前後でのそれぞれの変化を表し、色差が１０以上では目視で十分に変色していることが確認できる。
得られた酸化銅被覆部材を、４０℃の０．９ｍｏｌ％ＮａＣｌ水溶液に１時間浸漬し、その後の外観の変化を目視で確認した。
変色部が酸化銅層の全面にわたる場合（９０％以上）を「×」、変色部が全面の５０％以上９０％未満の場合を「△」、変色部が全面の１０％以上５０％未満の場合を「〇」、変色部が１０％未満の場合を「◎」と評価した。
ここでいう外観の変色は、コニカミノルタ製の分光測色計「ＣＭ－７００ｄ」を使用し、ＳＣＩ（正反射光込み）方式でＪＩＳ ８７８１－４に従い色差ΔＥで示される色差１０以上を基準とした。色差は試験前後でのそれぞれの変化を表し、色差が１０以上では目視で十分に変色していることが確認できる。
【0053】
【表1】
【0054】
基材の表面に形成された酸化銅層がＣｕＯであった比較例１においては、耐変色性（耐久性）には優れていたが、抗菌活性が低く、抗菌性・抗ウィルス性に劣っていた。
基材の表面に金属銅層が形成された比較例２においては、抗菌活性が高く、抗菌性・抗ウィルス性に優れていたが、耐変色性（耐久性）に著しく劣っていた。
基材の表面に形成された酸化銅層がＣｕ２Ｏであった比較例３においては、抗菌活性が高く、抗菌性・抗ウィルス性に優れていたが、耐変色性（耐久性）に劣っていた。
基材の表面に金属銅層が形成された比較例２においては、抗菌活性が高く、抗菌性・抗ウィルス性に優れていたが、耐変色性（耐久性）に著しく劣っていた。
基材の表面に形成された酸化銅層がＣｕ２Ｏであった比較例３においては、抗菌活性が高く、抗菌性・抗ウィルス性に優れていたが、耐変色性（耐久性）に劣っていた。
【0055】
これに対して、基材の表面に形成された酸化銅層がＣｕ４Ｏ３であった本発明例１－２２においては、抗菌活性が高く、抗菌性・抗ウィルス性に優れており、耐変色性（耐久性）にも優れていた。また、本発明例１－２２では、波長５５０ｎｍの光の透過率が５％以上であった。
【0056】
以上の結果から、本発明例によれば、耐久性に優れ、かつ、抗菌性・抗ウィルス性に優れた酸化銅被覆部材を提供可能であることが確認された。
【符号の説明】
【0057】
１０ 酸化銅被覆部材
１１ 基材
１２ 酸化銅層
１３ 中間層
１５ 粘着層
１１ 基材
１２ 酸化銅層
１３ 中間層
１５ 粘着層
【図1】
【図2】