(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022148270
(43)【公開日】2022-10-06
(54)【発明の名称】アルミ配線の製造方法
(51)【国際特許分類】
C23F 11/00 20060101AFI20220929BHJP
H01L 21/3205 20060101ALI20220929BHJP
C11D 7/36 20060101ALI20220929BHJP
C11D 7/32 20060101ALI20220929BHJP
【ＦＩ】
C23F11/00 E
H01L21/88 N
C11D7/36
C11D7/32
C23F11/00 F
【審査請求】未請求
【請求項の数】1
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021049886
(22)【出願日】2021-03-24
(71)【出願人】
【識別番号】000005980
【氏名又は名称】三菱製紙株式会社
(72)【発明者】
【氏名】川真田 幸直
【テーマコード（参考）】
4H003
4K062
5F033
【Ｆターム（参考）】
4H003AB31
4H003AB37
4H003AC08
4H003AC23
4H003DA15
4H003EA14
4H003EB24
4H003ED02
4H003FA28
4K062AA01
4K062BA08
4K062BB25
4K062FA09
5F033HH08
5F033PP19
5F033QQ08
5F033QQ19
5F033QQ20
5F033QQ91
5F033QQ98
5F033XX18
(57)【要約】
【課題】高湿環境下においても高い防食性を有するアルミ配線の製造方法を提供する。特に、高湿環境下において隣接する２つの配線間に電圧が印加された場合に生じる腐食に対しても高い防食性を有するアルミ配線の製造方法を提供する。
【解決手段】亜硝酸塩および下記一般式（１）または（２）で表される化合物を含有する処理液でアルミ配線を処理する工程を有することを特徴とするアルミ配線の製造方法。
【化１】
【選択図】なし
【解決手段】亜硝酸塩および下記一般式（１）または（２）で表される化合物を含有する処理液でアルミ配線を処理する工程を有することを特徴とするアルミ配線の製造方法。
【化１】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
亜硝酸塩および下記一般式（１）または（２）で表される化合物を含有する処理液でアルミ配線を処理する工程を有することを特徴とするアルミ配線の製造方法。
（一般式（１）、（２）中Ｒ１およびＲ２は炭素数１２から１５のアルキル基を表し、ｍおよびｎは２から１０の整数を表す。）
【化1】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、アルミ配線の製造方法に関し、詳しくは高湿環境下においても高い防食性を有するアルミ配線の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
アルミは軽量で電気抵抗も小さいために様々なところで電気配線の材料として用いられている。また、様々な基材に対して蒸着により薄膜を形成することが可能であり、配線材料としては非常に有用な金属である。例えば半導体素子においては蒸着したアルミ薄膜は配線材料として使用されている。
【0003】
アルミはイオン化傾向の高い金属であるが、空気中では酸化被膜を形成するために比較的乾燥した雰囲気ではあまり腐食することはないが、高湿環境下では酸化被膜が破壊され、容易に腐食が進行する。このような理由でアルミ配線の腐食防止は現在においても大きな課題になっている。
【0004】
アルミ配線の腐食防止の方法として、アルミ配線を処理液で処理する方法が知られている。例えば、特開平３－２９５２４７号公報（特許文献１）には、アルミ配線を過酸化水素の溶液に浸漬させることによって腐食防止を行う方法が開示されている。また、特開平１０－３２１６２７号公報（特許文献２）にはリン酸を含む処理液によって処理する方法が開示され、特開２００７－１７３６０１号公報（特許文献３）には、アルミ配線の表面にリン原子を含有する保護膜を形成し得る含リン洗浄剤組成物にポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエーテル等の陰イオン性あるいは非イオン性の界面活性剤を利用できることが記載されている。
【0005】
一方、アルミ配線の洗浄工程において防食処理を行う試みもされており、例えば特開２００３－６４３９７号公報（特許文献４）には特定の構造を有するグリコールエーテルと特定のリン酸エステル塩を含む洗浄剤によって、電子部品の腐食を防止する方法が開示されている。
【0006】
アルミの防食は他の分野においても試みられており、例えば特開平１０－５５９９３号公報（特許文献５）には、４級アンモニウム塩、含フッ素化合物、水溶性または水混和性の有機溶剤、無機酸および／または有機酸、および界面活性剤を含有する洗浄剤によって半導体素子工程のドライエッチング処理の際に生じる堆積ポリマーを、金属膜を腐食することなく容易に洗浄しうることが開示されている。
【0007】
しかし、上記のような方法であっても高湿環境下においてアルミ配線の腐食を防止することは容易ではなかった。特に高湿環境下において隣接する２つの配線間に電圧が印加された場合に生じる腐食については今もなお大きな問題となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0008】
【特許文献1】特開平３－２９５２４７号公報
【特許文献2】特開平１０－３２１６２７号公報
【特許文献3】特開２００７－１７３６０１号公報
【特許文献4】特開２００３－６４３９７号公報
【特許文献5】特開平１０－５５９９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
本発明の目的は、高湿環境下においても高い防食性を有するアルミ配線の製造方法を提供することであり、特に高湿環境下において隣接する２つの配線間に電圧が印加された場合に生じる腐食に対しても高い防食性を有するアルミ配線の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明の上記目的は、下記に記載の発明により達成される。
亜硝酸塩および下記一般式（１）または（２）で表される化合物を含有する処理液でアルミ配線を処理する工程を有することを特徴とするアルミ配線の製造方法。
亜硝酸塩および下記一般式（１）または（２）で表される化合物を含有する処理液でアルミ配線を処理する工程を有することを特徴とするアルミ配線の製造方法。
【0011】
【化1】
【0012】
一般式（１）、（２）中Ｒ１およびＲ２は炭素数１２から１５のアルキル基を表し、ｍおよびｎは２から１０の整数を表す。
【発明の効果】
【0013】
本発明により、高湿環境下においても高い防食性を有するアルミ配線の製造方法を提供することができ、特に高湿環境下において隣接する２つの配線間に電圧が印加された場合に生じる腐食に対しても高い防食性を有するアルミ配線の製造方法を提供することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下本発明を詳細に説明する。
本発明のアルミ配線の製造方法は、亜硝酸塩および、前記一般式（１）または（２）で表される化合物を含有する処理液でアルミ配線を処理する工程を有する。
本発明のアルミ配線の製造方法は、亜硝酸塩および、前記一般式（１）または（２）で表される化合物を含有する処理液でアルミ配線を処理する工程を有する。
【0015】
本発明で用いられる亜硝酸塩は、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属類との塩、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩を挙げることができる。
【0016】
本発明で用いる処理液における亜硝酸塩の含有量は、１Ｌ当たり１０～２００ｇの範囲が好ましい。この範囲より少ないと、十分な腐食防止の効果が得られない場合があり、この範囲より多いと、洗浄作業の工程に負荷がかかり、作業効率が低下する場合がある。
【0017】
本発明において一般式（１）で表される化合物はポリオキシエチレンアルキルエーテルのリン酸ジエステルであり、一般式（２）で表される化合物はポリオキシエチレンアルキルエーテルのリン酸トリエステルである。本発明で用いる処理液における一般式（１）または（２）で表される化合物の含有量は、１Ｌ当たり０．２～５ｇの範囲が好ましい。この範囲より少ないと、十分な腐食防止の効果が得られない場合があり、この範囲より多いと、洗浄作業の工程に負荷がかかり、作業効率が低下する場合がある。
【0018】
本発明において一般式（１）および（２）で表される化合物は市販品を使用することができる。一般式（１）で表される化合物の市販品としては、例えば日光ケミカルズ株式会社のＮＩＫＫＯＬ（登録商標）ＤＤＰ－２（炭素数１２～１５、ｍが２）、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－４（炭素数１２～１５、ｍが４）、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－６（炭素数１２～１５、ｍが６）、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－８（炭素数１２～１５、ｍが８）、ＤＤＰ－１０（炭素数１２～１５、ｍが１０）を、一般式（２）で表される化合物の市販品としては、同じく日光ケミカルズ株式会社のＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２（炭素数１２～１５、ｎが２）、ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－８（炭素数１２～１５、ｎが８）を入手して使用することができる。
【0019】
本発明で用いる処理液の溶媒は水あるいは水を主成分とする溶媒であることが好ましい。ここで主成分とは、全溶媒成分に対する水の割合が５０質量％以上であることを意味し、より好ましくは７５質量％以上、更に８５質量％以上であることが好ましい。水を主成分とする溶媒を使用することで、取り扱いが容易となり、その後の洗浄工程が簡便になる。処理液のｐＨは３～１０の範囲であることが好ましく、より好ましくは５～８である。ｐＨが高すぎたり低すぎたりすると、アルミ配線の溶解が発生するために抵抗値が上昇したり断線しやすくなる場合がある。
【0020】
本発明において一般式（１）および（２）で表される化合物は、水に溶解しない場合は水に分散させて用いることもできるが、より安定した処理のために可溶化剤を加えて水に溶解させて用いることができる。該可溶化剤としては、（ポリ）アルキレングリコールおよびそのアルキルエーテルおよび各種界面活性剤を用いることができる。その中でもポリエーテルアミン型の界面活性剤は、より腐食防止の効果が向上するため好適に用いることができる。
【0021】
上記ポリエーテルアミン型の界面活性剤は、アルキルジエタノールアミンのエチレンオキシおよびプロピレンオキシ付加物であり、例えば、日油株式会社より市販されるナイミーン（登録商標）Ｌ－２０７、ナイミーンＬ－７０３、ナイミーンＦ－２１５、Ｔ２－２１０、Ｓ－２１０等、花王株式会社より市販されるアミート（登録商標）３０８、アミート３２０等、ライオン・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社より市販されるリポノール（登録商標）Ｃ／２５、リポノールＯ／２５、リポノールＴ／２５、リポノールＣ／１８－１８等を入手して使用することができる。
【0022】
上記の可溶化剤として用いる界面活性剤の添加量の下限は、一般式（１）および（２）で表される化合物を溶解できる量によって決められる。上限は一般式（１）および（２）で表される化合物の添加量（質量）に対して１０倍以下が好ましく、更に好ましくは４倍以下である。可溶化剤の添加量が多すぎると腐食防止の効果が低下する場合もある。
【0023】
本発明においてアルミ配線を処理する方法としては、処理液にアルミ配線を浸漬する方法やアルミ配線に処理液をスプレーで吹き付ける方法などを挙げることができる。処理の効果を安定させるために処理温度および処理時間を一定にすることが好ましく、処理温度は作業性を考慮して２０℃から６０℃の範囲で選択することが好ましい。処理時間は３０秒から５分の範囲で選択することができる。
【0024】
上記した処理工程の後には、水洗工程を設けることが好ましい。前述した本発明の処理工程により、アルミ配線上に必要以上の成分が残存し後の工程に対して弊害が発生する場合がある。これらの必要以上の成分をアルミ配線から取り除くために水洗工程は有効である。
【0025】
本発明の製造方法により処理されるアルミ配線には特に限定はないが、本発明は真空蒸着で形成された薄膜のアルミ配線に対して特に有効である。真空蒸着による配線パターンの形成方法としては、基材にあらかじめアルミを蒸着させる部分と蒸着させない部分のパターンを形成させ、選択的に蒸着させてアルミ配線パターンを形成させる方法、あるいはまず基材の全面にアルミを蒸着させ、その上にレジストでパターンを形成し、エッチングによって不要な部分のアルミを除去しパターンを形成させる方法などを挙げることができる。真空蒸着によるアルミ配線の膜厚は、１０ｎｍ以上１μｍ以下の範囲が好ましい。１０ｎｍ未満では、十分な導電性を得ることが難しく、また１μｍ超では基材との密着性が低下する場合がある。
【実施例0026】
以下、実施例を用いて本発明を説明するが、無論この記述により本発明が限定されるものではない。
【0027】
７５μｍの厚みＰＥＴフィルム上に真空蒸着により０．２μｍの厚みのアルミ蒸着膜を形成させたフィルムに対して、アルミ蒸着膜上にレジストパターンを形成させ、リン酸によるエッチングによって不要なアルミ蒸着膜を除去することでアルミ配線による櫛形電極を形成した。形成した櫛形電極は、線幅および線間が５０μｍで、電極が対向している部分の長さは２０ｍｍであった。
【0028】
このようにしてアルミ配線で作製した櫛形電極を、３０℃で保温した以下の１～１８の処理液に１分間浸漬し、その後イオン交換水で２０秒洗浄し、乾燥させた。
【0029】
＜処理液１＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整して処理液１を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整して処理液１を作製した。
【0030】
＜処理液２＞
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液２を作製した。
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液２を作製した。
【0031】
＜処理液３＞
ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－６ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液３を作製した。
ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－６ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液３を作製した。
【0032】
＜処理液４＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液４を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液４を作製した。
【0033】
＜処理液５＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－８ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液５を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－８ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液５を作製した。
【0034】
＜処理液６＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－２ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液６を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－２ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液６を作製した。
【0035】
＜処理液７＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－６ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液７を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－６ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液７を作製した。
【0036】
＜処理液８＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－１０ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液８を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－１０ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整して処理液８を作製した。
【0037】
＜処理液９＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ １ｇ
ナイミーンＬ７０３ ２ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整して処理液９を作製した。ナイミーンＬ７０３はラウリルジエタノールアミンにエチレンオキシドおよびプロピレンオキシドを付加させた界面活性剤である。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ １ｇ
ナイミーンＬ７０３ ２ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整して処理液９を作製した。ナイミーンＬ７０３はラウリルジエタノールアミンにエチレンオキシドおよびプロピレンオキシドを付加させた界面活性剤である。
【0038】
＜処理液１０＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－６ １ｇ
ナイミーンＬ２０７ ４ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整して処理液１０を作製した。ナイミーンＬ２０７はラウリルジエタノールアミンにエチレンオキシドを付加させた界面活性剤である。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－６ １ｇ
ナイミーンＬ２０７ ４ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整して処理液１０を作製した。ナイミーンＬ２０７はラウリルジエタノールアミンにエチレンオキシドを付加させた界面活性剤である。
【0039】
＜処理液１１＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ ５ｇ
ナイミーンＬ７０３ １０ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整して処理液１１を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ ５ｇ
ナイミーンＬ７０３ １０ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整して処理液１１を作製した。
【0040】
＜処理液１２＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ ０．５ｇ
ナイミーンＬ７０３ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整し処理液１２を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ ０．５ｇ
ナイミーンＬ７０３ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整し処理液１２を作製した。
【0041】
＜処理液１３＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
エマルゲン（登録商標）１０８ １ｇ
（花王株式会社製界面活性剤：ポリオキシエチレンラウリルエーテル）
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整して処理液１３を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
エマルゲン（登録商標）１０８ １ｇ
（花王株式会社製界面活性剤：ポリオキシエチレンラウリルエーテル）
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整して処理液１３を作製した。
【0042】
＜処理液１４＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
エマール（登録商標）２０Ｃ １ｇ
（花王株式会社製界面活性剤：ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム）
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整し処理液１４を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
エマール（登録商標）２０Ｃ １ｇ
（花王株式会社製界面活性剤：ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム）
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整し処理液１４を作製した。
【0043】
＜処理液１５＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ホステン（登録商標）ＨＬＰ－１ １ｇ
（日光ケミカルズ株式会社製界面活性剤：ポリオキシエチレンラウリルエーテルのモノリン酸エステル）
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整し処理液１５を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ホステン（登録商標）ＨＬＰ－１ １ｇ
（日光ケミカルズ株式会社製界面活性剤：ポリオキシエチレンラウリルエーテルのモノリン酸エステル）
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨを６に調整し処理液１５を作製した。
【0044】
＜処理液１６＞
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ナイミーンＬ７０３ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整し処理液１６を作製した。
亜硝酸ナトリウム ５０ｇ
ナイミーンＬ７０３ １ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整し処理液１６を作製した。
【0045】
＜処理液１７＞
亜硝酸ナトリウム ２０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ １ｇ
ナイミーンＬ７０３ ２ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整し処理液１７を作製した。
亜硝酸ナトリウム ２０ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ １ｇ
ナイミーンＬ７０３ ２ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整し処理液１７を作製した。
【0046】
＜処理液１８＞
亜硝酸ナトリウム １００ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ １ｇ
ナイミーンＬ７０３ ２ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整し処理液１８を作製した。
亜硝酸ナトリウム １００ｇ
ＮＩＫＫＯＬ ＴＤＰ－２ １ｇ
ナイミーンＬ７０３ ２ｇ
イオン交換水を加え１Ｌに調整し、１Ｎ硝酸でｐＨを６に調整し処理液１８を作製した。
【0047】
このようにしてアルミ配線で作製した櫛形電極に対して、高湿環境下において、アルミ配線間に電圧が印加された場合に生じる腐食を強制的に再現するために、電極上にイオン交換水を０．０１ｇ滴下してから電圧を２０Ｖ印加した。その後、電極の状態を観察し以下の基準で評価を行った。評価結果を表１に示す。
○：電圧印加時間が１０分以内では断線がみられない。
○△：電圧印加時間が７．５分超から１０分以内で断線がみられた。
△：電圧印加時間が５分超から７．５分以内で断線がみられた。
×：電圧印加時間が５分以内で断線がみられた。
○：電圧印加時間が１０分以内では断線がみられない。
○△：電圧印加時間が７．５分超から１０分以内で断線がみられた。
△：電圧印加時間が５分超から７．５分以内で断線がみられた。
×：電圧印加時間が５分以内で断線がみられた。
【0048】
【表1】
【0049】
表１から本発明によって作製したアルミ配線は高湿環境下において、配線間に電圧が印加された場合に生じる腐食に対して高い防食性を有することが解る。