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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022151394
(43)【公開日】2022-10-07
(54)【発明の名称】口腔用組成物
(51)【国際特許分類】
A61K 8/25 20060101AFI20220930BHJP
A61Q 11/00 20060101ALI20220930BHJP
A61K 33/00 20060101ALI20220930BHJP
A61K 33/08 20060101ALI20220930BHJP
A61P 1/02 20060101ALI20220930BHJP
A61K 47/10 20060101ALI20220930BHJP
【ＦＩ】
A61K8/25
A61Q11/00
A61K33/00
A61K33/08
A61P1/02
A61K47/10
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021054438
(22)【出願日】2021-03-27
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＷＩＮＤＯＷＳ
(71)【出願人】
【識別番号】592150354
【氏名又は名称】日本歯科薬品株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100118382
【弁理士】
【氏名又は名称】多田 央子
(74)【代理人】
【識別番号】100094477
【弁理士】
【氏名又は名称】神野 直美
(74)【代理人】
【識別番号】100078813
【弁理士】
【氏名又は名称】上代 哲司
(72)【発明者】
【氏名】鈴木 成一郎
(72)【発明者】
【氏名】横田 兼欣
【テーマコード（参考）】
4C076
4C083
4C086
【Ｆターム（参考）】
4C076AA12
4C076BB22
4C076CC16
4C076DD26
4C076DD37
4C076DD38
4C076DD38F
4C076DD43
4C076EE53
4C076FF16
4C083AB171
4C083AB172
4C083AB282
4C083AB371
4C083AB372
4C083AC122
4C083AC131
4C083AC132
4C083AC302
4C083AC432
4C083AC472
4C083AD112
4C083AD282
4C083CC41
4C083DD22
4C083DD23
4C083EE01
4C083EE32
4C086AA01
4C086AA02
4C086HA06
4C086HA18
4C086HA21
4C086MA01
4C086MA02
4C086MA04
4C086MA05
4C086MA57
4C086NA05
4C086ZA67
(57)【要約】
【課題】歯面に短時間接触させるだけでう蝕を予防できる、簡単な組成の口腔用組成物を提供する。
【解決手段】ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を含み、ｐＨが３．５～６．５である口腔用組成物。ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の体積基準粒度分布において小径側から測定した９０％位置の粒子径（Ｄ９０）は１μｍ以下であることが好ましい。ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の含有量は、組成物の全量に対して、０．０００５～５０重量％とすることができる。さらにソルビトールを含むことが好ましい。
【選択図】なし
【解決手段】ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を含み、ｐＨが３．５～６．５である口腔用組成物。ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の体積基準粒度分布において小径側から測定した９０％位置の粒子径（Ｄ９０）は１μｍ以下であることが好ましい。ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の含有量は、組成物の全量に対して、０．０００５～５０重量％とすることができる。さらにソルビトールを含むことが好ましい。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を含み、ｐＨが３．５～６．５である口腔用組成物。
【請求項2】
ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物が水に不溶なものであり、このケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の体積基準粒度分布において小径側から測定した９０％位置の粒子径（Ｄ９０）が１μｍ以下である、請求項１に記載の口腔用組成物。
【請求項3】
ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の含有量が、組成物の全量に対して、０．０００５～５０重量％である、請求項１又は２に記載の口腔用組成物。
【請求項4】
ソルビトールを含む、請求項１～３の何れかに記載の口腔用組成物。
【請求項5】
歯面への耐酸性の付与、歯質の脱灰予防、歯質の再石灰化促進、又はう蝕の予防若しくは改善のために用いられる、請求項１～４の何れかに記載の口腔用組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、う蝕を予防できる口腔用組成物に関する。
【背景技術】
【0002】
現在、ホームケアでのう蝕予防は、フッ化ナトリウム、フッ化第一スズ、モノフルオロリン酸ナトリウムといったフッ化物の使用が主流である。フッ化物は、歯磨き剤、洗口剤、歯面塗布剤などに配合されており、特に歯磨き剤のほとんどにフッ化物が配合されている。水道水へのフッ化物の添加も、実施には至っていないが、優れた方法であると報告されている（平成18年2月10日 日歯学会発第57号諮問に対する日本歯科医師会答申書）。
また、歯科治療でも、フッ化物を配合した歯磨き剤や洗口剤を使用することで根面う蝕が回復したことが報告されており、フッ化物による治療が推奨されている（う蝕治療ガイドライン第３版、2020年2月10日、日本歯科保存学会 編集）。
また、歯科治療でも、フッ化物を配合した歯磨き剤や洗口剤を使用することで根面う蝕が回復したことが報告されており、フッ化物による治療が推奨されている（う蝕治療ガイドライン第３版、2020年2月10日、日本歯科保存学会 編集）。
【0003】
しかし、フッ化物を歯面に有効に作用させるためには、フッ化物を歯面になるべく長時間留めておく必要がある。このため、フッ化物を歯面に付着させた後は、うがいをしないことや、３０分間程度飲食をしないことが求められる。また、フッ化物を適用する方法としてイエテボリテクニックと呼ばれる歯磨き法が提案されているが、この方法は、２分間の歯磨き、湿潤剤で泡立ちを保つこと、歯磨き後はなるべく少量の水で洗口した後1分間のブクブクうがいをすること、吐き出した後のうがいはしないまま２時間は飲食をしないことを求めている（Caries Res.、 29、 435-441、 1995）。このように、フッ化物によりう蝕を予防するためには、使用後に長時間にわたり製剤を洗い流さないことや飲食制限が必要になる。
このため、フッ化物含有製剤は、長時間にわたり製剤を口中に含んでいることができる味にしたり、長時間フッ化物を歯面に留めておくことができる性状にする必要があり、組成が制限される。また、製剤を歯面に適用した後に暫くうがいや飲食をしないことは守られないことが多く、実際に効果的にう蝕が予防されるとは限らない。従って、歯面に短時間接触させるだけでう蝕を予防できる製剤が求められている。
このため、フッ化物含有製剤は、長時間にわたり製剤を口中に含んでいることができる味にしたり、長時間フッ化物を歯面に留めておくことができる性状にする必要があり、組成が制限される。また、製剤を歯面に適用した後に暫くうがいや飲食をしないことは守られないことが多く、実際に効果的にう蝕が予防されるとは限らない。従って、歯面に短時間接触させるだけでう蝕を予防できる製剤が求められている。
【0004】
フッ化物以外の成分によりう蝕を予防する口腔用組成物として、例えば、特許文献１は、炭素数１２～２２の飽和脂肪酸であってパルミチン酸含有量が７０質量％以上である飽和脂肪酸のカリウム塩を脂肪酸換算量で０．０５～１．２質量％、ソルビトールを５～４０質量％、及び水を含み、カリウム／飽和脂肪酸の比が１を超え３以下であり、２５℃におけるｐＨが７以上９未満である組成物は、良好な風味を確保しながら飽和脂肪酸カリウム塩の歯の表面への付着性を高め、優れた耐酸性を付与して、う蝕を予防できることを開示している。
しかし、特許文献１の口腔用組成物は、組成に制限が多いため、製剤設計の自由度が低い。従って歯面に短時間接触させるだけでう蝕を予防できる、単純な組成の口腔用組成物が求められている。
しかし、特許文献１の口腔用組成物は、組成に制限が多いため、製剤設計の自由度が低い。従って歯面に短時間接触させるだけでう蝕を予防できる、単純な組成の口腔用組成物が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１９－４８８９７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、歯面に短時間接触させるだけでう蝕を予防できる、簡単な組成の口腔用組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者は、上記課題を解決するために研究を重ね、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を含み、ｐＨが３．５～６．５である口腔用組成物は、例えば日常の歯磨きやうがいのように歯面に繰り返し短時間接触させるように使用することで、歯面に耐酸性を付与して、酸による脱灰を抑制し、また再石灰化を促進することを見出した。
【0008】
本発明は、上記知見に基づき完成されたものであり、下記の口腔用組成物を提供する。
〔１〕 ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を含み、ｐＨが３．５～６．５である口腔用組成物。
〔２〕 ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物が水に不溶なものであり、このケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の体積基準粒度分布において小径側から測定した９０％位置の粒子径（Ｄ９０）が１μｍ以下である、〔１〕に記載の口腔用組成物。
〔３〕 ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の含有量が、組成物の全量に対して、０．０００５～５０重量％である、〔１〕又は〔２〕に記載の口腔用組成物。
〔４〕 ソルビトールを含む、〔１〕～〔３〕の何れかに記載の口腔用組成物。
〔５〕 歯面への耐酸性の付与、歯質の脱灰予防、歯質の再石灰化促進、又はう蝕の予防若しくは改善のために用いられる、〔１〕～〔４〕の何れかに記載の口腔用組成物。
〔１〕 ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を含み、ｐＨが３．５～６．５である口腔用組成物。
〔２〕 ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物が水に不溶なものであり、このケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の体積基準粒度分布において小径側から測定した９０％位置の粒子径（Ｄ９０）が１μｍ以下である、〔１〕に記載の口腔用組成物。
〔３〕 ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の含有量が、組成物の全量に対して、０．０００５～５０重量％である、〔１〕又は〔２〕に記載の口腔用組成物。
〔４〕 ソルビトールを含む、〔１〕～〔３〕の何れかに記載の口腔用組成物。
〔５〕 歯面への耐酸性の付与、歯質の脱灰予防、歯質の再石灰化促進、又はう蝕の予防若しくは改善のために用いられる、〔１〕～〔４〕の何れかに記載の口腔用組成物。
【発明の効果】
【0009】
う蝕は、健全な歯面に吸着したう蝕原因細菌が食品由来の糖質から酸を生成し、歯垢のｐＨが低下し、これにより歯表面のエナメル質からリンやカルシウムといったミネラルが溶け出して歯質が脱灰された状態になることにより始まる。口腔内では、脱灰と共に唾液による再石灰化も起こっている。再石灰化の進行の方が早いと初期う蝕は改善するが、脱灰の進行の方が早いとう蝕が進行する。
【0010】
本発明の口腔用組成物は、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を含み、ｐＨが３．５～６．５であることにより歯面の耐酸性を向上させ、酸による脱灰を効果的に抑制することができる。また、再石灰化も促進する。従って、う蝕を予防できると共に、初期う蝕を改善することができる。
また、本発明の口腔用組成物は、繰り返し（即ち、複数回）短時間接触させるだけで、歯面の耐酸性を向上させることができる。うがいなどで洗い流すため、使用後の飲食制限の必要もない。従って、誰でも簡単にう蝕を予防、改善することができる。また、洗口剤だけでなく、歯磨き剤のように通常は使用後直ぐに洗い流すタイプの製剤にすることもでき、汎用性がある。
また、本発明の口腔用組成物は、特別な成分を配合する必要がなく、研磨剤や増粘剤として口腔用組成物に一般に配合されているケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を配合し、また必要であれば汎用のｐＨ調整剤でｐＨを調整するだけで得られるため、製剤設計の自由度が高い。
また、本発明の口腔用組成物は、繰り返し（即ち、複数回）短時間接触させるだけで、歯面の耐酸性を向上させることができる。うがいなどで洗い流すため、使用後の飲食制限の必要もない。従って、誰でも簡単にう蝕を予防、改善することができる。また、洗口剤だけでなく、歯磨き剤のように通常は使用後直ぐに洗い流すタイプの製剤にすることもでき、汎用性がある。
また、本発明の口腔用組成物は、特別な成分を配合する必要がなく、研磨剤や増粘剤として口腔用組成物に一般に配合されているケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を配合し、また必要であれば汎用のｐＨ調整剤でｐＨを調整するだけで得られるため、製剤設計の自由度が高い。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【図1】耐酸性の評価基準となる、歯面の電解放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）写真である。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の口腔用組成物は、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を含み、ｐＨが３．５～６．５である組成物である。
本発明の口腔用組成物は、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を含み、ｐＨが３．５～６．５である組成物である。
【0013】
ケイ酸塩化合物
ケイ酸塩化合物としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム９水和物、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、アルミノケイ酸ナトリウム、アルミノケイ酸カリウム、アルミノケイ酸カルシウムのようなケイ酸塩などが挙げられ、ケイ酸塩は、水和物であってもよい。
ケイ酸塩化合物としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム９水和物、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、アルミノケイ酸ナトリウム、アルミノケイ酸カリウム、アルミノケイ酸カルシウムのようなケイ酸塩などが挙げられ、ケイ酸塩は、水和物であってもよい。
【0014】
ケイ素の酸化物（シリカ）
シリカは、結晶性シリカ、非晶質シリカの何れでもよい。
ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物は、１種又は２種以上を使用できる。
シリカは、結晶性シリカ、非晶質シリカの何れでもよい。
ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物は、１種又は２種以上を使用できる。
【0015】
ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、アルミノケイ酸カルシウム、シリカのような、水に不溶性のケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物を用いる場合は、最大粒子径が制御されることが好ましい。具体的には、体積基準粒度分布において小径側から測定した９０％位置の粒子径（Ｄ９０）が１μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以下がより好ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。この範囲であれば、十分に耐酸性を向上させることができる。下限値は、０．００５μｍ程度であり得る。
本発明において、水に不溶性のケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の粒子径（Ｄ９０を含む）は、レーザー回折散乱法で測定した値である。
本発明において、水に不溶性のケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の粒子径（Ｄ９０を含む）は、レーザー回折散乱法で測定した値である。
【0016】
ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度は低濃度で十分であり、組成物の全量に対して、０．０００５重量％以上あればよい。０．００１重量％、０．０１重量％、０．１重量％、又は１重量％以上とすることもできる。この範囲であれば、ｐＨ３．５～６．５の組成物中に、十分に耐酸性を向上させることができるだけのケイ酸イオンが存在することになる。また、耐酸性を向上させる上ではケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度の上限に特に制限はないが、性状を液状（粘液状を含む）とする場合は、多すぎると沈殿や凝集などの影響を受けて好ましくない。従って、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度は、組成物の全量に対して、５０重量％以下であればよく、１０重量％以下が好ましく、５重量％以下がより好ましい。２重量％以下とすることもできる。この範囲であれば、沈殿や凝集などの影響を極力受けず、安定な製剤にできる。
【0017】
また、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度は、ケイ酸イオン濃度が、組成物の全量に対して、１ｐｐｍ以上、中でも３ｐｐｍ以上、中でも５ｐｐｍ以上になる濃度であることが好ましい。この範囲であれば、十分に耐酸性を向上させることができる。また、ケイ酸イオン濃度が、組成物の全量に対して、１０００ｐｐｍ以下、中でも５００ｐｐｍ以下、中でも１００ｐｐｍ以下になる濃度であることが好ましい。この範囲であれば、沈殿や凝集などの影響を極力受けず、安定な製剤にできる。
【0018】
ソルビトール
本発明の口腔用組成物は、ソルビトールを含むことが好ましい。本発明の口腔用組成物中でケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物は不安定であり、凝集、析出、濁りを生じ易いことが判明したが、ソルビトールを含むことにより、凝集、析出、濁りが抑制される。
ソルビトールの濃度は、配合されるケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度に依存し、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度に対して、５０倍量以上が好ましく、１００倍量以上がより好ましい。２００倍量以上とすることもできる。この範囲であれば、十分に凝集、析出、濁りを抑制することができ、また適度な甘味を有する組成物となる。また、ソルビトールの濃度は、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度に対して、５０００倍量以下が好ましく、１５００倍量以下がより好ましい。１０００倍量以下とすることもできる。この範囲であれば、十分に凝集、析出、濁りを抑制することができる。
本発明の口腔用組成物は、ソルビトールを含むことが好ましい。本発明の口腔用組成物中でケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物は不安定であり、凝集、析出、濁りを生じ易いことが判明したが、ソルビトールを含むことにより、凝集、析出、濁りが抑制される。
ソルビトールの濃度は、配合されるケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度に依存し、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度に対して、５０倍量以上が好ましく、１００倍量以上がより好ましい。２００倍量以上とすることもできる。この範囲であれば、十分に凝集、析出、濁りを抑制することができ、また適度な甘味を有する組成物となる。また、ソルビトールの濃度は、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度に対して、５０００倍量以下が好ましく、１５００倍量以下がより好ましい。１０００倍量以下とすることもできる。この範囲であれば、十分に凝集、析出、濁りを抑制することができる。
【0019】
ｐＨ
本発明の口腔用組成物は、ｐＨが３．５以上であり、また４以上、４．５以上、又は５以上とすることもできる。また、ｐＨは６．５以下であり、この範囲であれば、十分に耐酸性を付与することができる。６以下、又は５．５以下とすることもできる。
本発明の口腔用組成物は、ｐＨが３．５以上であり、また４以上、４．５以上、又は５以上とすることもできる。また、ｐＨは６．５以下であり、この範囲であれば、十分に耐酸性を付与することができる。６以下、又は５．５以下とすることもできる。
【0020】
製剤形態・性状
本発明の口腔用組成物の製剤形態としては、練り歯磨き、歯磨き粉、液体歯磨きのような歯磨き剤、洗口剤（マウスウォッシュ、マウスリンスなど）、口腔清涼剤、うがい剤、マウススプレー、歯面塗布剤、バーニッシュ、食品（チューイングガム、グミ、フィルム、トローチなど）などが挙げられる。液状（粘液状を含む）の製剤が好ましいが、固形状でも水を含むことによりｐＨを調整できるものであればよい。
また、本発明の口腔用組成物は、液剤、乳剤（乳液、クリーム）、懸濁剤、ゲル剤、ペースト剤、ガム剤などの性状にすることができる。また、液剤、乳剤、懸濁剤などを含浸させた布にすることもできる。
本発明の口腔用組成物の製剤形態としては、練り歯磨き、歯磨き粉、液体歯磨きのような歯磨き剤、洗口剤（マウスウォッシュ、マウスリンスなど）、口腔清涼剤、うがい剤、マウススプレー、歯面塗布剤、バーニッシュ、食品（チューイングガム、グミ、フィルム、トローチなど）などが挙げられる。液状（粘液状を含む）の製剤が好ましいが、固形状でも水を含むことによりｐＨを調整できるものであればよい。
また、本発明の口腔用組成物は、液剤、乳剤（乳液、クリーム）、懸濁剤、ゲル剤、ペースト剤、ガム剤などの性状にすることができる。また、液剤、乳剤、懸濁剤などを含浸させた布にすることもできる。
【0021】
任意成分
本発明の口腔用組成物は、製剤形態に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、種々の基材又は担体、添加物を含むことができる。基材又は担体、添加物は、１種又は２種以上を配合できる。
本発明の口腔用組成物は、製剤形態に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、種々の基材又は担体、添加物を含むことができる。基材又は担体、添加物は、１種又は２種以上を配合できる。
【0022】
本発明の口腔用組成物は、基材又は担体として、ｐＨを調整できるだけの水を含む。
水の濃度は、製剤の形態および水以外の基剤又は担体の溶解度によって適宜調整することができる。
水の濃度は、製剤の形態および水以外の基剤又は担体の溶解度によって適宜調整することができる。
【0023】
水以外の基材又は担体として、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリンのような多価アルコール、エタノール、イソプロピルアルコールのような１価アルコールなどが挙げられる。
【0024】
添加物としては、ｐＨ調整剤、ケイ素化合物以外の研磨剤、ケイ素化合物以外の粘結剤又は増粘剤、界面活性剤、甘味剤、殺菌成分、防腐剤、湿潤剤、香料などが挙げられる。
【0025】
ｐＨ調整剤としては、乳酸、クエン酸、リンゴ酸、グルコン酸、マレイン酸、酒石酸、コハク酸、グルタミン酸、酢酸のような有機酸及びその塩、リン酸、塩酸、硝酸、炭酸のような無機酸及びその塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。
【0026】
ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物以外の研磨剤としては、塩化ナトリウム、炭酸カルシウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、酢酸マグネシウム、ピロリン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、リン酸カルシウムなどが挙げられる。
【0027】
ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物以外の粘結剤又は増粘剤としては、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、メチルセルロースのようなセルロース系粘結剤；カラギーナン、キサンタンガム、ペクチン、トラガントガム、アラビアガム、グアーガム、ローカストビーンガム、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエステルのような多糖類及びその誘導体；ポリアクリル酸ナトリウム、カルボキシビニルポリマー、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンのような合成ポリマーなどが挙げられる。
【0028】
界面活性剤としては、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸カリウムのようなアルキル硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫酸エステル塩、脂肪酸アミドスルホン酸塩、リン酸エステル及びその塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、脂肪酸エステル硫酸エステル塩、α-オレフィンスルホン酸塩、Ｎ－アシルスルホン酸塩、脂肪酸エステルスルホン酸塩、グリセリン脂肪酸エステル硫酸塩などのアニオン性界面活性剤；
ＰＯＥ－アルキルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステル、ＰＯＥ－ソルビタン脂肪酸エステル、ＰＯＥ－グリセリン脂肪酸エステル、ＰＯＥ－ヒマシ油、ＰＯＥ－硬化ヒマシ油脂肪酸エステル、グリセリンアルキルエーテル、ショ糖脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステルなどの非イオン性界面活性剤；
アルキルベタイン系界面活性剤、アミンオキサイド系界面活性剤、イミダゾリニウムベタイン系界面活性剤などの両性界面活性剤が挙げられる。
ＰＯＥ－アルキルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステル、ＰＯＥ－ソルビタン脂肪酸エステル、ＰＯＥ－グリセリン脂肪酸エステル、ＰＯＥ－ヒマシ油、ＰＯＥ－硬化ヒマシ油脂肪酸エステル、グリセリンアルキルエーテル、ショ糖脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステルなどの非イオン性界面活性剤；
アルキルベタイン系界面活性剤、アミンオキサイド系界面活性剤、イミダゾリニウムベタイン系界面活性剤などの両性界面活性剤が挙げられる。
【0029】
甘味剤としては、サッカリンナトリウム、ステビオサイド、ネオヘスペリジンヒドロカルコン、グリチルリチン、ペリラルチン、ｐ－メトキシシンナミックアルデヒド、ソーマチン、パラチノース、マルチトール、キシリトール、トレハロース、アラビトールなどが挙げられる。ソルビトールも甘味剤に分類される。
【0030】
殺菌成分としては、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウムのような四級アンモニウム塩型殺菌成分、塩化セチルピリジニウム、グルコン酸クロルヘキシジン、塩酸クロルヘキシジン、イソプロピルメチルフェノール、ヒノキチオールなどが挙げられる。
【0031】
防腐剤としては、メチルパラベン、エチルパラベン、ブチルパラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル、安息香酸ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸塩などが挙げられる。
【0032】
湿潤剤としては、マルチトール、ラクチトールのような糖アルコール、グリセリン、エチレングリコール、ポリエチレングリコールのような多価アルコールなどが挙げられる。糖アルコールのソルビトールは湿潤剤にも分類される。
【0033】
香料としては、各種精油、メントールのような精油成分、調合香料などが挙げられる。
【0034】
用途
本発明の口腔用組成物は、日常の歯磨きやうがいのように歯面に繰り返し（即ち、複数回）短時間接触させるように使用することで、歯質に耐酸性を付与して脱灰を防ぎ、再石灰化を促進できる。従って、本発明の口腔用組成物は、う蝕予防や初期う蝕の改善のために使用できる。
また、本発明の口腔用組成物は、歯面に触れる程度でも効果を発揮するが、口腔内全体に行き渡らせるためには、１回の接触時間として５秒以上、中でも１０秒以上は接触させる方法で使用するのが効果的である。接触時間の上限は特に限定されないが、通常の歯磨き時間の３分間程度とすればよい。
本発明の口腔用組成物は、日常の歯磨きやうがいのように歯面に繰り返し（即ち、複数回）短時間接触させるように使用することで、歯質に耐酸性を付与して脱灰を防ぎ、再石灰化を促進できる。従って、本発明の口腔用組成物は、う蝕予防や初期う蝕の改善のために使用できる。
また、本発明の口腔用組成物は、歯面に触れる程度でも効果を発揮するが、口腔内全体に行き渡らせるためには、１回の接触時間として５秒以上、中でも１０秒以上は接触させる方法で使用するのが効果的である。接触時間の上限は特に限定されないが、通常の歯磨き時間の３分間程度とすればよい。
【実施例0035】
以下、実施例を挙げて、本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
（１）口腔用組成物の調製
表１～表３に示す組成の液状の歯磨き剤組成物を、各成分を混合することにより調製した。
（１）口腔用組成物の調製
表１～表３に示す組成の液状の歯磨き剤組成物を、各成分を混合することにより調製した。
【表1】
【表2】
【表3】
【0036】
（２）耐酸性の評価
試験１（ＦＥ－ＳＥＭでの表面観察）
凍結保存したウシ中切歯の歯冠部を試料とした。試料表面を♯１０００の耐水研磨紙により研磨した。各歯磨き剤組成物に試料を１０秒間浸漬した後、精製水に３０分浸漬した。各歯磨き剤組成物への浸漬と精製水への浸漬からなる一連の操作を３０回繰り返した。次いで、脱灰液（２．２ｍＭ ＣａＣｌ２、５０ｍＭ 酢酸、２．２ｍＭ ＮａＨ２ＰＯ４、ｐＨ ４．５）５０ｍＬに、３７℃で２時間浸漬した後、１０秒間精製水で洗浄した。
洗浄後の試料表面を電解放出形走査型電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）で観察し、下記基準に従って外観評価を行った。
試験１（ＦＥ－ＳＥＭでの表面観察）
凍結保存したウシ中切歯の歯冠部を試料とした。試料表面を♯１０００の耐水研磨紙により研磨した。各歯磨き剤組成物に試料を１０秒間浸漬した後、精製水に３０分浸漬した。各歯磨き剤組成物への浸漬と精製水への浸漬からなる一連の操作を３０回繰り返した。次いで、脱灰液（２．２ｍＭ ＣａＣｌ２、５０ｍＭ 酢酸、２．２ｍＭ ＮａＨ２ＰＯ４、ｐＨ ４．５）５０ｍＬに、３７℃で２時間浸漬した後、１０秒間精製水で洗浄した。
洗浄後の試料表面を電解放出形走査型電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）で観察し、下記基準に従って外観評価を行った。
【0037】
＜判定＞
Ａ（良好） :脱灰を受けたエナメル質表面と比較し、歯磨き剤組成物を適用したエナメル質表面が滑らかで、エナメル小柱が露出していない。
Ｂ（普通） :脱灰を受けたエナメル質表面と比較し、歯磨き剤組成物を適用したエナメル質表面が滑らかだが、エナメル小柱に隙間を生じている。
Ｃ（不良）:脱灰を受けたエナメル質表面と比較し、歯磨き剤組成物を適用したエナメル質表面に差異は認められず、エナメル小柱も露出している。
Ａ、Ｂ、Ｃの判定基準となるエナメル質表面のＦＥ－ＳＥＭ写真を図１に示す。
Ａ（良好） :脱灰を受けたエナメル質表面と比較し、歯磨き剤組成物を適用したエナメル質表面が滑らかで、エナメル小柱が露出していない。
Ｂ（普通） :脱灰を受けたエナメル質表面と比較し、歯磨き剤組成物を適用したエナメル質表面が滑らかだが、エナメル小柱に隙間を生じている。
Ｃ（不良）:脱灰を受けたエナメル質表面と比較し、歯磨き剤組成物を適用したエナメル質表面に差異は認められず、エナメル小柱も露出している。
Ａ、Ｂ、Ｃの判定基準となるエナメル質表面のＦＥ－ＳＥＭ写真を図１に示す。
【0038】
試験２（ＴＭＲ分析によるミネラルの定量）
凍結保存したウシ歯中切歯の歯冠又は歯根を試料とした。試料表面を♯２０００の耐水研磨紙により研磨した。各歯磨き剤組成物に試料を３０秒間浸漬し、水洗せずに水気を切ってから再石灰化溶液（０．０２Ｍ ＨＥＰＥＳ、３．０ｍＭ ＣａＣｌ２、１．８ｍＭ ＫＨ２ＰＯ４、ｐＨ ７．０）に３０分間浸漬し、水洗せずに水気を切ってから脱灰液（１．５ｍＭ ＣａＣｌ２、５０ｍＭ 酢酸、０．９ｍＭ ＫＨ２ＰＯ４、０．１ｐｐｍ Ｆ、ｐＨ ５．０）に浸漬した。各歯磨き剤組成物への浸漬、再石灰化溶液への浸漬、及び脱灰液への浸漬からなる一連の操作を１日２回、５日間（合計１０回）繰り返した。
作製した試料をイオン水で水洗し、７０～９９．５％のエタノール系列にて順次脱水後、１００％プロピレンオキシド、および包埋用レジン（ＳｐｕｒｒＬｏｗ－ＶｉｓｃｏｓｉｔｙＥｍｂｅｄｄｉｎｇＫｉｔ、Ｐｏｌｉｓｃｉｅｎｃｅｓ、ＵＳＡ）にて包埋した。重合後、ダイヤモンドワイヤー一式精密切断機（Ｗｅｌｌ ３２４２、Ｗａｌｔｅｒ Ｅｂｎｅｒ、Ｇｅｒｍａｎｙ）を用いて、厚さ３００μｍの薄切片を各ブロックから３枚ずつ歯軸と垂直方向に切り出した。各切片は発生源にＣｕ、およびフィルターにＮｉを使用した顕微エックス線装置（ＰＷ３８３０、Ｓｐｅｃｔｒｉｓ、ＵＫ）およびＨｉｇｈ ｒｅｓｏｌｕｓｉｏｎ Ｘ－ｒａｙ ｇｌａｓｓ ｐｌａｔｅ（コニカミノルタ）を用いて、１３段階のアルミステップウェッジとともにＴＭＲ撮影（管電圧３５ｋＶ、管電流１５ｍＡ、照射時間１５分）を行った。現像後、光学顕微鏡を通して得られた画像をＷｉｎｄｏｗｓ搭載のコンピューターに転送し、分析ソフト（ＴＭＲ２００６、２０１２、Ｉｎｓｐｅｋｔｏｒ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｓｙｓｔｅｍｓ、Ｔｈｅ Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄｓ）を用いてミネラルプロファイルを作製、病巣深度（ＬＤ）を測定した。それぞれの群におけるこれらパラメーターの有意差検定は、Ｏｎｅ-ｗａｙ ＡＮＯＶＡ及びＴｕｋｅｙの検定により有意水準５％で行った。
凍結保存したウシ歯中切歯の歯冠又は歯根を試料とした。試料表面を♯２０００の耐水研磨紙により研磨した。各歯磨き剤組成物に試料を３０秒間浸漬し、水洗せずに水気を切ってから再石灰化溶液（０．０２Ｍ ＨＥＰＥＳ、３．０ｍＭ ＣａＣｌ２、１．８ｍＭ ＫＨ２ＰＯ４、ｐＨ ７．０）に３０分間浸漬し、水洗せずに水気を切ってから脱灰液（１．５ｍＭ ＣａＣｌ２、５０ｍＭ 酢酸、０．９ｍＭ ＫＨ２ＰＯ４、０．１ｐｐｍ Ｆ、ｐＨ ５．０）に浸漬した。各歯磨き剤組成物への浸漬、再石灰化溶液への浸漬、及び脱灰液への浸漬からなる一連の操作を１日２回、５日間（合計１０回）繰り返した。
作製した試料をイオン水で水洗し、７０～９９．５％のエタノール系列にて順次脱水後、１００％プロピレンオキシド、および包埋用レジン（ＳｐｕｒｒＬｏｗ－ＶｉｓｃｏｓｉｔｙＥｍｂｅｄｄｉｎｇＫｉｔ、Ｐｏｌｉｓｃｉｅｎｃｅｓ、ＵＳＡ）にて包埋した。重合後、ダイヤモンドワイヤー一式精密切断機（Ｗｅｌｌ ３２４２、Ｗａｌｔｅｒ Ｅｂｎｅｒ、Ｇｅｒｍａｎｙ）を用いて、厚さ３００μｍの薄切片を各ブロックから３枚ずつ歯軸と垂直方向に切り出した。各切片は発生源にＣｕ、およびフィルターにＮｉを使用した顕微エックス線装置（ＰＷ３８３０、Ｓｐｅｃｔｒｉｓ、ＵＫ）およびＨｉｇｈ ｒｅｓｏｌｕｓｉｏｎ Ｘ－ｒａｙ ｇｌａｓｓ ｐｌａｔｅ（コニカミノルタ）を用いて、１３段階のアルミステップウェッジとともにＴＭＲ撮影（管電圧３５ｋＶ、管電流１５ｍＡ、照射時間１５分）を行った。現像後、光学顕微鏡を通して得られた画像をＷｉｎｄｏｗｓ搭載のコンピューターに転送し、分析ソフト（ＴＭＲ２００６、２０１２、Ｉｎｓｐｅｋｔｏｒ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｓｙｓｔｅｍｓ、Ｔｈｅ Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄｓ）を用いてミネラルプロファイルを作製、病巣深度（ＬＤ）を測定した。それぞれの群におけるこれらパラメーターの有意差検定は、Ｏｎｅ-ｗａｙ ＡＮＯＶＡ及びＴｕｋｅｙの検定により有意水準５％で行った。
【0039】
＜判定＞
良好：ＬＤ値が、対照検体のＬＤ値の９５％以下の場合
不良：ＬＤ値が、対照検体のＬＤ値の９５％超の場合
対照検体は、歯磨き剤組成物を使用しない他は同様の操作を行った検体である。
良好：ＬＤ値が、対照検体のＬＤ値の９５％以下の場合
不良：ＬＤ値が、対照検体のＬＤ値の９５％超の場合
対照検体は、歯磨き剤組成物を使用しない他は同様の操作を行った検体である。
【0040】
試験１では、歯試料を歯磨き剤組成物と脱灰液に浸漬する操作を繰り返しているため、耐酸性を評価している。一方、試験２は、歯試料を歯磨き剤組成物と再石灰化と脱灰液に浸漬する操作を繰り返しているため、歯磨き剤組成物の耐酸性だけでなく再石灰化能も評価できる。
【0041】
試験３（カラーレーザー顕微鏡を用いて脱灰深さを定量）
凍結保存したウシ中切歯の歯冠部（エナメル質）及び歯根部（象牙質）を試料とした。試料表面を♯２０００の耐水研磨紙により研磨し、ネイルバーニッシュを用いて２ｍｍ×３ｍｍの開窓部を規定し、以下の脱灰試験を供した。なお、試験は実施例１、８および比較例１は歯冠部（エナメル質）に対して、実施例１０、１２および比較例２は歯根部（象牙質）に対して実施した。
各歯磨き剤組成物に試料を１０秒間浸漬した後、再石灰溶液（０．０２Ｍ ＨＥＰＥＳ、３．０ｍＭ ＣａＣｌ２、１．８ｍＭ ＫＨ２ＰＯ４、ｐＨ ７．０）に３０分浸漬し、水洗せずに水気を切ってから脱灰液（１．５ｍＭ ＣａＣｌ２、０．９ｍＭ ＫＨ２ＰＯ４、５０ｍＭ ａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ、０．１ ｐｐｍ Ｆ、ｐＨ ５．０）３０ｍＬに３０分間浸漬した。
各歯磨き剤組成物への浸漬と精製水への浸漬及び脱灰液への浸漬からなる一連の操作を３０回繰り返した。次いで、脱灰液に、３７℃で２４時間浸漬した後、ネイルバーニッシュを取り除き、１０秒間精製水で洗浄した。
洗浄後の試料表面をカラーレーザー顕微鏡で観察し、開窓部とネイルバーニッシュで覆われていた試料表面の段差を定量した。
凍結保存したウシ中切歯の歯冠部（エナメル質）及び歯根部（象牙質）を試料とした。試料表面を♯２０００の耐水研磨紙により研磨し、ネイルバーニッシュを用いて２ｍｍ×３ｍｍの開窓部を規定し、以下の脱灰試験を供した。なお、試験は実施例１、８および比較例１は歯冠部（エナメル質）に対して、実施例１０、１２および比較例２は歯根部（象牙質）に対して実施した。
各歯磨き剤組成物に試料を１０秒間浸漬した後、再石灰溶液（０．０２Ｍ ＨＥＰＥＳ、３．０ｍＭ ＣａＣｌ２、１．８ｍＭ ＫＨ２ＰＯ４、ｐＨ ７．０）に３０分浸漬し、水洗せずに水気を切ってから脱灰液（１．５ｍＭ ＣａＣｌ２、０．９ｍＭ ＫＨ２ＰＯ４、５０ｍＭ ａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ、０．１ ｐｐｍ Ｆ、ｐＨ ５．０）３０ｍＬに３０分間浸漬した。
各歯磨き剤組成物への浸漬と精製水への浸漬及び脱灰液への浸漬からなる一連の操作を３０回繰り返した。次いで、脱灰液に、３７℃で２４時間浸漬した後、ネイルバーニッシュを取り除き、１０秒間精製水で洗浄した。
洗浄後の試料表面をカラーレーザー顕微鏡で観察し、開窓部とネイルバーニッシュで覆われていた試料表面の段差を定量した。
【0042】
＜判定＞
良好：値が１００μｍ未満
不良：値が１００μｍ以上
良好：値が１００μｍ未満
不良：値が１００μｍ以上
【0043】
（３）安定性の評価（凝集、析出、濁りの抑制）
ケイ酸塩化合物及び／又はケイ素の酸化物を分散させるため、ソルビトールをケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度に対して、０倍量（実施例１４）、１０５倍量（実施例１０）、２１０倍（実施例１３）量、又は１０５０倍量（実施例１、１５）配合し、６０℃で２週間保存した。保存により、凝集、析出、濁りなどの性状に変化があるかを目視で確認した。
ケイ酸塩化合物及び／又はケイ素の酸化物を分散させるため、ソルビトールをケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度に対して、０倍量（実施例１４）、１０５倍量（実施例１０）、２１０倍（実施例１３）量、又は１０５０倍量（実施例１、１５）配合し、６０℃で２週間保存した。保存により、凝集、析出、濁りなどの性状に変化があるかを目視で確認した。
【0044】
（４）結果
評価結果を、表１～表３に併せて示す。
試験１の結果、ｐＨが３．５～６．５の範囲にある実施例１～１５の組成物は、耐酸性が良好であった。これに対して、ｐＨが３．５未満又は６．５を超える比較例３～６の組成物は、耐酸性が不良であった。
具体的には、実施例１（ｐＨ＝４．２）、実施例１０（ｐＨ＝５．０）、比較例３（ｐＨ＝２．５）、比較例４（ｐＨ＝7．０）は、ｐＨ以外の組成が同じであるが、実施例１、１０は耐酸性が良好であるのに対して、比較例３、４は耐酸性が不良であった。また、実施例１１（ｐＨ＝３．５）、実施例１２（ｐＨ＝６．５）、比較例５（ｐＨ＝３．２）、比較例６（ｐＨ＝７．０）は、ｐＨ以外の組成が同じであるが、実施例１１、１２は耐酸性が良好であるのに対して、比較例５、６は耐酸性が不良であった。このことは、ｐＨが３．５～６．５であることにより優れた耐酸性が得られることを示している。
評価結果を、表１～表３に併せて示す。
試験１の結果、ｐＨが３．５～６．５の範囲にある実施例１～１５の組成物は、耐酸性が良好であった。これに対して、ｐＨが３．５未満又は６．５を超える比較例３～６の組成物は、耐酸性が不良であった。
具体的には、実施例１（ｐＨ＝４．２）、実施例１０（ｐＨ＝５．０）、比較例３（ｐＨ＝２．５）、比較例４（ｐＨ＝7．０）は、ｐＨ以外の組成が同じであるが、実施例１、１０は耐酸性が良好であるのに対して、比較例３、４は耐酸性が不良であった。また、実施例１１（ｐＨ＝３．５）、実施例１２（ｐＨ＝６．５）、比較例５（ｐＨ＝３．２）、比較例６（ｐＨ＝７．０）は、ｐＨ以外の組成が同じであるが、実施例１１、１２は耐酸性が良好であるのに対して、比較例５、６は耐酸性が不良であった。このことは、ｐＨが３．５～６．５であることにより優れた耐酸性が得られることを示している。
【0045】
また、試験２の結果、実施例１の組成物は、再石灰化の促進能が高いことが分かった。これに対して、比較例１、２、５、６の組成物は、再石灰化の促進能が低かった。
実施例１と比較例１の各組成物は、ｐＨは同じ４．２であるが、実施例１の組成物がケイ酸カルシウムを含むのに対して、比較例１の組成物はケイ酸塩化合物及びケイ素の酸化物の何れも含まない。また、比較例２の組成物はｐＨが５．８で３．５～６．５の範囲内であるが、ケイ酸塩化合物及びケイ素の酸化物の何れも含まない。このことは、ケイ酸塩化合物及び／又はケイ素の酸化物を含むことにより優れた再石灰化促進能が得られることを示している。
ケイ酸塩化合物及び／又はケイ素の酸化物を含みかつｐＨが３．５～６．５であることにより優れた再石化促進能が得られることを示している。
実施例１と比較例１の各組成物は、ｐＨは同じ４．２であるが、実施例１の組成物がケイ酸カルシウムを含むのに対して、比較例１の組成物はケイ酸塩化合物及びケイ素の酸化物の何れも含まない。また、比較例２の組成物はｐＨが５．８で３．５～６．５の範囲内であるが、ケイ酸塩化合物及びケイ素の酸化物の何れも含まない。このことは、ケイ酸塩化合物及び／又はケイ素の酸化物を含むことにより優れた再石灰化促進能が得られることを示している。
ケイ酸塩化合物及び／又はケイ素の酸化物を含みかつｐＨが３．５～６．５であることにより優れた再石化促進能が得られることを示している。
【0046】
また、比較例７の組成物は、ケイ酸塩化合物又はケイ素の酸化物と同様に酸に溶解する無機物質としてアルミナを含むが、試験１での耐酸性は不良であった。優れた耐酸性を得るためには、ケイ酸塩化合物及び／又はケイ素の酸化物が必須であることが分かる。
【0047】
組成物の安定性については、ソルビトールを、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度に対して、それぞれ、１０５～１０５０倍量配合した実施例１、１０、１３及び１５の各組成物は、６０℃で２週間保存後にも、ケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の凝集、析出、濁りは生じず、良好な性状であった。
これに対して、ソルビトールを含まない他は実施例１３と同じ組成である実施例１４の組成物は、６０℃で２週間保存後に凝集が認められた。また、ソルビトールをケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度に対して、１００００倍量含んだ実施例１６も同様に、凝集が認められた。
これに対して、ソルビトールを含まない他は実施例１３と同じ組成である実施例１４の組成物は、６０℃で２週間保存後に凝集が認められた。また、ソルビトールをケイ酸塩化合物および／またはケイ素の酸化物の濃度に対して、１００００倍量含んだ実施例１６も同様に、凝集が認められた。
【産業上の利用可能性】
【0048】
本発明の口腔用組成物は、歯面に短時間接触させるだけで耐酸性を与えることができ、酸による石灰化とう蝕の進行を抑制することができる。また、口腔用組成物に一般に配合されている成分を用いて得られるため、汎用性の高い組成物である。
【図1】
