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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022154473
(43)【公開日】2022-10-13
(54)【発明の名称】光信号選択装置、および光信号選択方法
(51)【国際特許分類】
G02F 1/31 20060101AFI20221005BHJP
【ＦＩ】
G02F1/31
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021057533
(22)【出願日】2021-03-30
【国等の委託研究の成果に係る記載事項】（出願人による申告）平成３０年度、総務省「新たな社会インフラを担う革新的光ネットワーク技術の研究開発」委託研究開発、産業技術力強化法第１７条の適用を受ける特許出願
(71)【出願人】
【識別番号】516059813
【氏名又は名称】エピフォトニクス株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002147
【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】竹沢 永訓
(72)【発明者】
【氏名】井出 昌史
【テーマコード（参考）】
2K102
【Ｆターム（参考）】
2K102AA21
2K102BA05
2K102BA08
2K102BB01
2K102BB04
2K102BC04
2K102BD02
2K102CA00
2K102DB08
2K102DD02
2K102EA21
2K102EB08
2K102EB10
2K102EB11
2K102EB12
2K102EB16
(57)【要約】
【課題】光変調器を制御することで損失を抑制すること。
【解決手段】光信号選択装置は、複数の光ファイバが所定の方向に沿って配列され、光信号の入出力を行う光ファイバアレイと、複数の光ファイバのうち、第１光ファイバから入力された光信号を所定の角度で回折させて、第１光ファイバと前記第１光ファイバとは異なる第２光ファイバとの経路を結合する光変調器と、光変調器を制御する制御装置と、を備える。光変調器は、パターン画像を表示する第１光変調部と、第２光変調部との少なくとも一方を有し、制御装置は、第１光変調部と、第２光変調部との少なくとも一方に表示させるパターン画像を制御することで、光信号に対する減衰量の制御を行う。
【選択図】図１
【解決手段】光信号選択装置は、複数の光ファイバが所定の方向に沿って配列され、光信号の入出力を行う光ファイバアレイと、複数の光ファイバのうち、第１光ファイバから入力された光信号を所定の角度で回折させて、第１光ファイバと前記第１光ファイバとは異なる第２光ファイバとの経路を結合する光変調器と、光変調器を制御する制御装置と、を備える。光変調器は、パターン画像を表示する第１光変調部と、第２光変調部との少なくとも一方を有し、制御装置は、第１光変調部と、第２光変調部との少なくとも一方に表示させるパターン画像を制御することで、光信号に対する減衰量の制御を行う。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の光ファイバが所定の方向に沿って配列され、光信号の入出力を行う光ファイバアレイと、
前記複数の光ファイバのうち、第１光ファイバから入力された光信号を所定の角度で回折させて、前記第１光ファイバと前記第１光ファイバとは異なる第２光ファイバとの経路を結合する光変調器と、
前記光変調器を制御する制御装置と、を備え、
前記光変調器は、パターン画像を表示する第１光変調部と、第２光変調部との少なくとも一方を有し、
前記制御装置は、前記第１光変調部と、前記第２光変調部との少なくとも一方に表示させる前記パターン画像を制御することで、前記光信号に対する減衰量の制御を行う、
光信号選択装置。
前記複数の光ファイバのうち、第１光ファイバから入力された光信号を所定の角度で回折させて、前記第１光ファイバと前記第１光ファイバとは異なる第２光ファイバとの経路を結合する光変調器と、
前記光変調器を制御する制御装置と、を備え、
前記光変調器は、パターン画像を表示する第１光変調部と、第２光変調部との少なくとも一方を有し、
前記制御装置は、前記第１光変調部と、前記第２光変調部との少なくとも一方に表示させる前記パターン画像を制御することで、前記光信号に対する減衰量の制御を行う、
光信号選択装置。
【請求項2】
前記制御装置は、前記第１光変調部に第１パターン画像を表示させ、前記第２光変調部に前記第１パターン画像とは異なる第２パターン画像を表示させることで、前記光信号に対する減衰量の制御を行う、
請求項１に記載の光信号選択装置。
請求項１に記載の光信号選択装置。
【請求項3】
前記制御装置は、前記第１パターン画像および前記第２パターン画像を表示させる位置に関する第１描画パラメータに基づいて、前記光信号に対する減衰量の制御を行う、
請求項２に記載の光信号選択装置。
請求項２に記載の光信号選択装置。
【請求項4】
前記制御装置は、前記第１パターン画像および前記第２パターン画像を表示させる位置と、位相変調量とに関する第２描画パラメータに基づいて、前記光信号に対する減衰量の制御を行う、
請求項２または３に記載の光信号選択装置。
請求項２または３に記載の光信号選択装置。
【請求項5】
前記制御装置は、前記第１光変調部の前記第１描画パラメータと、前記第２光変調部の前記第１描画パラメータとに異なる値を設定して、前記光信号に対する減衰量の制御を行う、
請求項３に記載の光信号選択装置。
請求項３に記載の光信号選択装置。
【請求項6】
前記制御装置は、前記第１光変調部の前記第２描画パラメータと、前記第２光変調部の前記第２描画パラメータとに異なる値を設定して、前記光信号に対する減衰量の制御を行う、
請求項４に記載の光信号選択装置。
請求項４に記載の光信号選択装置。
【請求項7】
前記制御装置は、前記第１パターン画像および前記第２パターン画像の描画領域を狭めることで、前記光信号に対する減衰量の制御を行う、
請求項２から６のいずれか１項に記載の光信号選択装置。
請求項２から６のいずれか１項に記載の光信号選択装置。
【請求項8】
複数の光ファイバのうち、第１光ファイバから入力された光信号を、光変調器を制御して所定の角度で回折させて、前記第１光ファイバと前記第１光ファイバとは異なる第２光ファイバとの経路を結合させるステップと、
前記光変調器の第１光変調部と、第２光変調部との少なくとも一方にパターン画像を表示させるステップと、
前記第１光変調部と、前記第２光変調部との少なくとも一方に表示させる前記パターン画像を制御することで、前記光信号に対する減衰量の制御を行うステップと、
を含む、光信号選択方法。
前記光変調器の第１光変調部と、第２光変調部との少なくとも一方にパターン画像を表示させるステップと、
前記第１光変調部と、前記第２光変調部との少なくとも一方に表示させる前記パターン画像を制御することで、前記光信号に対する減衰量の制御を行うステップと、
を含む、光信号選択方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、光信号選択装置、および光信号選択方法に関する。
【背景技術】
【0002】
光波長分割多重方式（ＷＤＭ:Wavelength Division Multiplexing）を用いた、高速で大容量の情報通信技術が知られている。
【0003】
特許文献１には、経路の組み合わせ数に比べて、制御パラメータ数が増大することを抑制することのできる技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０１６－１２２１５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
位相変調型の光変調器においては、受けた光信号を所定の角度で回折する際に損失が発生する。光変調器のみを制御することで、光信号の減衰量を制御することの技術が望まれている。
【0006】
本開示は、光変調器を制御することで光信号の減衰量を制御することのできる光信号選択装置、および光信号選択方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示に係る光信号選択装置は、複数の光ファイバが所定の方向に沿って配列され、光信号の入出力を行う光ファイバアレイと、前記複数の光ファイバのうち、第１光ファイバから入力された光信号を所定の角度で回折させて、前記第１光ファイバと前記第１光ファイバとは異なる第２光ファイバとの経路を結合する光変調器と、前記光変調器を制御する制御装置と、を備え、前記光変調器は、パターン画像を表示する第１光変調部と、第２光変調部との少なくとも一方を有し、前記制御装置は、前記第１光変調部と、前記第２光変調部との少なくとも一方に表示させる前記パターン画像を制御することで、前記光信号に対する減衰量の制御を行う。
【0008】
本開示に係る光信号選択方法は、複数の光ファイバのうち、第１光ファイバから入力された光信号を、光変調器を制御して所定の角度で回折させて、前記第１光ファイバと前記第１光ファイバとは異なる第２光ファイバとの経路を結合させるステップと、前記光変調器の第１光変調部と、第２光変調部との少なくとも一方にパターン画像を表示させるステップと、前記第１光変調部と、前記第２光変調部との少なくとも一方に表示させる前記パターン画像を制御することで、前記光信号に対する減衰量の制御を行うステップと、を含む。
【発明の効果】
【0009】
本開示によれば、光変調器を制御することで光信号の減衰量を制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、添付図面を参照して、本開示に係る実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本開示が限定されるものではなく、また、以下の実施形態において、同一の部位には同一の符号を付することにより重複する説明を省略する。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内のＸ軸と平行な方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸と直交する水平面内のＹ軸と平行な方向をＹ軸方向とし、水平面と直交するＺ軸と平行な方向をＺ軸方向とする。
【0012】
【0013】
本開示に係る光信号選択装置１は、ＷＳＳ（Wavelength Selective Switch）の一種である。光信号選択装置１は、ＲＯＡＤＭ（Reconfigurable Optical Add/drop multiplexer）の構成部品の１つである。光信号選択装置１は、光通信ネットワークにおいて、回折格子などの波長分離機能と、ミラーや光変調器などの経路切り替え機能といった物理的機能を有する。光信号選択装置１は、信号同士のレベルを同じにするための減衰機能、経路切り替え時の迷光を防ぐヒットレス機能を含む。
【0014】
図１に示すように、光信号選択装置１は、光ファイバアレイ１２と、光分散素子１４と、レンズ１６と、光変調器１８と、偏波操作素子２０と、制御装置２２とを備える。光信号選択装置１において、固定基板１０上に、各構成要素は、光ファイバアレイ１２、光分散素子１４、レンズ１６、偏波操作素子２０、および光変調器１８の順に配置されている。制御装置２２は、光変調器１８を制御するように構成されている。
【0015】
光ファイバアレイ１２は、Ｙ軸方向に沿って、光ファイバ３０１、光ファイバ３０２、・・・、および光ファイバ３０ｎ（ｎは任意の整数）を備える。光ファイバ３０１から光ファイバ３０ｎは、それぞれ、コリメータレンズ３２１からコリメータレンズ３２ｎを有する。光ファイバ３０１から光ファイバ３０ｎは、それぞれ、光信号選択装置１の入出力ポートである。
【0016】
光分散素子１４は、例えば、回折格子で構成されている。光分散素子１４は、光ファイバアレイ１２から受けた光信号をＺ軸方向に分光するように構成されている。
【0017】
レンズ１６は、光分散素子１４と、光変調器１８との間に配置されている。レンズ１６の前側の焦点位置は、光分散素子１４の位置である。レンズ１６の後側の焦点位置は、光変調器１８の位置である。レンズ１６は、光分散素子１４から受けた光信号を、光変調器１８の表面に照射する。レンズ１６は、例えば、単一のレンズであってよい。光変調器１８は、例えば、複数の球面レンズおよびシリンドリカルレンズなどを組み合わせた集光光学系として構成されてもよい。
【0018】
光変調器１８は、複数の光変調素子を備える。光変調器１８は、例えば、屈折率を変化させることのできる２次元配列された複数の位相変調素子を備える。光変調器１８は、例えば、位相変調素子として液晶素子を用いた反射型のＬＣＯＳ（Liquid Crystal On Silicon）で構成することができる。本実施形態では、光変調器１８は、第１光変調部１８－１と、第２光変調部１８－２と、を含む。
【0019】
【0020】
第１光変調部１８－１は、レンズ１６で上側に偏波された上偏波側の光信号を回折させて反射するように構成されている。第２光変調部１８－２は、レンズ１６で下側に偏波された下偏波側の光信号を回折させて反射するように構成されている。図２では、位相変化の違いを濃淡分けして示している。図２では、位相変化量の大きい領域ほど濃い色で示し、位相変化量の小さい領域ほど薄い色で示している。パターン画像は、例えば、ブレ－ズド回析格子の格子パターンを示す画像である。図２に示すように、パターン画像は、位相変化の違いによって濃淡が異なるグラデーション画像となる。パターン画像のグラデーションの方向は、光ファイバアレイ１２の光ファイバ３０１から光ファイバ３０ｎの配列方向と同じである。
【0021】
図２に示すように、光変調器１８に表示されるパターン画像は、縦帯画像１８１を有する。図３は、図２に示すパターン画像に対応する光信号の測定スペクトルの一例を示す図である。図３は、横軸は光信号の波長を示す、縦軸は挿入損失を示す。図３に示すように、図２に示すパターン画像では、所定の波長帯域にピークを有する、スペクトル波形Ｗ１が観測される。スペクトル波形Ｗ１は、縦帯画像１８１の表示位置に対応する位置にピークを有する。すなわち、縦帯画像１８１の表示位置を変化させることで、観測されるスペクトル波形のピークの位置を変化させることができる。光変調器１８に表示される画像は、制御装置２２により制御される。
【0022】
偏波操作素子２０は、レンズ１６と、光変調器１８との間に配置されている。偏波操作素子２０は、レンズ１６から入光した光信号の偏波状態を操作する光操作装置である。偏波操作素子２０は、図示しない偏波分離素子と偏波回転素子とを含む。偏波分離素子は、レンズ１６から入光した光信号を互いに直交する２つの直線偏波に分離する。偏波回転素子は、光変調器１８側の面において、Ｙ方向に並んで配置される。偏波回転素子は、互いに直交する２つの直線偏波の一方を、他方の直線偏波と偏波方向を同一にして、光変調器１８に出力する。
【0023】
【0024】
図４に示すように、制御装置２２は、通信部４０と、記憶部４２と、制御部４４と、を有する。制御装置２２は、例えば、光変調器１８を構成する複数の位相変調素子のそれぞれに電圧を印加するように構成されている。制御装置２２は、例えば、光ファイバ３０１から光ファイバ３０ｎの間における、光信号の切り換えるように構成されている。
【0025】
通信部４０は、制御装置２２と、外部の装置との間の通信を行う。通信部４０は、例えば、制御装置２２に対する各種の操作を受け付ける入力装置の間で、各種の情報の送受信を行う。
【0026】
記憶部４２は、制御部４４の演算内容やプログラムなどの各種情報を記憶するメモリであり、例えば、ＲＡＭ（Random Access Memory）と、ＲＯＭ（Read Only Memory）のような主記憶装置と、オンボードフラッシュメモリ（On-Board Flash Memory）などの補助記憶装置または、ＨＤＤ（Hard Disk Drive）、ＳＳＤ（Solid State Drive）などの外部記憶装置とのうち、少なくとも１つ含む。
【0027】
記憶部４２は、各種の情報を記憶する。記憶部４２は、制御部４４の処理内容を記憶する。記憶部４２は、例えば、光変調器１８に表示されるパターン画像に関する描画パラメータに関する情報を記憶する。
【0028】
制御部４４は、光信号選択装置１の各部の動作を制御する。制御部４４は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）やＭＰＵ（Micro Processing Unit）、またはＧＰＵ（Graphics Processing Unit）等によって、記憶部４２に記憶されたプログラムがＲＡＭ等を作業領域として実行されることにより実現される。制御部４４は、例えば、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）やＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等の集積回路により実現されてもよい。制御部４４は、ハードウェアと、ソフトウェアとの組み合わせで実現されてもよい。
【0029】
制御部４４は、取得部５０と、算出部５２と、駆動部５４と、を有する。
【0030】
取得部５０は、各種情報を取得する。取得部５０は、例えば、制御装置２２に入力された操作に関する操作情報を取得する。取得部５０の具体的な動作は、後述する。
【0031】
算出部５２は、各種情報を算出する。算出部５２は、例えば、取得部５０が取得した情報に基づいて、光変調器１８に表示させるパターン画像に関する描画パラメータを算出する。算出部５２の具体的な動作は、後述する。
【0032】
駆動部５４は、光変調器１８を駆動させる。駆動部５４は、光変調器１８を駆動させて、パターン画像を表示させる。駆動部５４は、例えば、算出部５２の算出結果に従って、光変調器１８を制御して、パターン画像を表示させる。駆動部５４の具体的な動作は、後述する。
【0033】
【0034】
図５は、第１光変調部１８－１の測定スペクトルの一例を示す図である。図５には、スペクトル波形Ｗ１０が示されている。図６は、図５に対応する第１光変調部１８－１のパターン画像の描画パターンを示す図である。図６に示すように、第１光変調部１８－１は、所定の縦位置において、フレネルレンズのレンズ中心に相当する位相変化領域１８２を有する。図７は、図６に示す描画パターンの任意の縦方向の位相変化プロファイルを示す位相変化シミュレーション結果を示す。
【0035】
本実施形態では、レンズ中心に相当する位相変化領域１８２の位置を変更することにより、出力ポートを変更することができる。具体的には、本実施形態では、第１描画パラメータを変更することにより、位相変化領域１８２の位置を変更することができる。すなわち、本実施形態は、第１描画パラメータを変更することにより、出力ポートを変更することができる。第１描画パラメータは、位相変化領域１８２を描画する位置を決定するパラメータである。
【0036】
図８は、出力ポートと、第１描画パラメータとの対応関係の一例を示す図である。入力ポートをＰ８とすると、図８に示すように、第１描画パラメータを３００ピクセルに設定すると、出力ポートは出力ポートＰ１になる。第１描画パラメータを２８９ピクセルに設定すると、出力ポートは出力ポートＰ２になる。第１描画パラメータを２７４ピクセルに設定すると、出力ポートは出力ポートＰ３になる。第１描画パラメータを２６４ピクセルに設定すると、出力ポートは出力ポートＰ４になる。第１描画パラメータを２３９ピクセルに設定すると、出力ポートは出力ポートＰ５になる。第１描画パラメータを２２１ピクセルに設定すると、出力ポートは出力ポートＰ６になる。第１描画パラメータを２０３ピクセルに設定すると、出力ポートは出力ポートＰ７になる。図８に示すように、第１描画パラメータを１０～２０ピクセル程度変更することで、出力ポートが変化する。すなわち、本実施形態では、第１描画パラメータを変更するのみで、出力ポートを変更することができる。
【0037】
図９は、入力ポートＰ８時の出力ポートと、位相変化シミュレーションの対応関係を示す図である。図９に示すように、出力ポートＰ１、出力ポートＰ２、出力ポートＰ３、出力ポートＰ４、出力ポートＰ５、出力ポートＰ６、および出力ポートＰ７の順に、位相変化領域１８２の位置が上方向にシフトする。すなわち、第１描画パラメータを変更させることで、ピーク波長の位置を変更することができる。
【0038】
［減衰機能］
次に、実施形態に係る光変調器１８による測定スペクトルの例を説明する。図１０は、実施形態に係る第１光変調部の測定スペクトルの一例を示す図である。図１１は、実施形態に係る第２光変調部の測定スペクトルの一例を示す図である。図１２は、実施形態に係る光変調部の測定スペクトルの一例を示す図である。図１０から図１２は、入力ポートがポートＰ７で、出力ポートがポートＰ８の測定スペクトルの一例を示している。
次に、実施形態に係る光変調器１８による測定スペクトルの例を説明する。図１０は、実施形態に係る第１光変調部の測定スペクトルの一例を示す図である。図１１は、実施形態に係る第２光変調部の測定スペクトルの一例を示す図である。図１２は、実施形態に係る光変調部の測定スペクトルの一例を示す図である。図１０から図１２は、入力ポートがポートＰ７で、出力ポートがポートＰ８の測定スペクトルの一例を示している。
【0039】
図１０に示すように、第１光変調部１８－１の測定スペクトルとして、所定の波長λｎにピーク値ＰＶ１を有する、スペクトル波形Ｗ２０が得られる。図１１に示すように、第２光変調部１８－２の測定スペクトルとして、所定の波長λｎにピーク値ＰＶ２を有する、スペクトル波形Ｗ２１が得られる。
【0040】
図１２に示すように、光変調器１８の測定スペクトルとして、スペクトル波形Ｗ２２が得られる。スペクトル波形Ｗ２２は、スペクトル波形Ｗ２０と、スペクトル波形Ｗ２１との重ね合わせてして得られるスペクトル波形となる。
【0041】
ＰＶ１，ＰＶ２，ＰＶ３はｄＢ（デシベル）で表され、図１０，１１，１２の縦軸の下部になるほど挿入損失は大きくなる。図１２に示すように、スペクトル波形Ｗ２２は、スペクトル波形Ｗ２０と、スペクトル波形Ｗ２１との重ね合わせであるため、波長λｎで、ピーク値ＰＶ３を有し、挿入損失は小さくなっている。
【0042】
［第１の方法］
第１描画パラメータを変更することで、あるポートと次のポートの中間に出力するように操作することにより、所定ポートの結合係数を低下させ、所定ポートにおける出力の減衰量を得る。
第１描画パラメータを変更することで、あるポートと次のポートの中間に出力するように操作することにより、所定ポートの結合係数を低下させ、所定ポートにおける出力の減衰量を得る。
【0043】
【0044】
図１３に示すように、初期状態においては、光変調器１８のポートＰｎのスペクトル波形Ｗ３０が得られる（ステップＳ１０）。本実施形態では、第１描画パラメータを変化させることで測定スペクトルのピークの位置をシフトさせることができる。例えば、第１描画パラメータを初期状態よりも大きく設定することで、スペクトル波形Ｗ３０全体を左側にシフトさせることができる（ステップＳ１２）。ステップＳ１２に示すように、スペクトル波形Ｗ３０が左方向にシフトして、ポートＰｎの次のポートである、ポートＰｎ＋１からスペクトル波形Ｗ３１が測定される。更に、第１描画パラメータを大きく設定することで、スペクトル波形Ｗ３０とスペクトル波形Ｗ３１とは、左方向にシフトして、スペクトル波形Ｗ３１のみが観測される。
【0045】
上述したように、本実施形態では、光変調器１８の測定スペクトルは、第１光変調部１８－１の測定スペクトルと、第２光変調部１８－２の測定スペクトルとの和となる。したがって、第１光変調部１８－１の測定スペクトルと、第２光変調部１８－２の測定スペクトルとを左右にシフトさせることで、光変調器１８の測定スペクトルの波長λｎにおける減衰量を制御することができる。
【0046】
次に、光変調器１８の測定スペクトルの減衰量を制御するための、第１の方法について説明する。
【0047】
図１４と、図１５と、図１６と、図１７とを用いて、第１光変調部および第２光変調部の測定スペクトルをシフトさせる方向について説明する。図１４から図１７は、第１光変調部および第２光変調部の測定スペクトルをシフトさせる方向を説明するための図である。
【0048】
図１４は、第１光変調部１８－１のスペクトル波形Ｗ４０と、第２光変調部１８－２のスペクトル波形Ｗ４１の両方を右方向にシフトさせる例を示している。スペクトル波形Ｗ４０の波長がλｎのときの初期状態の挿入損失を、ＩＬ１［ｄＢ］であるものとする。スペクトル波形Ｗ４１の波長がλｎのときの初期状態の挿入損失を、ＩＬ２［ｄＢ］であるものとする。
【0049】
駆動部５４は、第１光変調部１８－１を駆動させて、スペクトル波形Ｗ４０が右方向にシフトするように、パターン画像を描画させる。これにより、スペクトル波形Ｗ４０の波長がλｎの時の挿入損失は、ＩＬ１よりも大きいＩＬ３［ｄＢ］となる。すなわち、駆動部５４は、波長がλｎのときの挿入損失が初期状態に比べて大きくなるようにスペクトル波形Ｗ４０が右方向にシフトするパターン画像を第１光変調部１８－１に描画させる。この場合、算出部５２が、スペクトル波形Ｗ４０と、初期状態の挿入損失ＩＬ１に基づいて、スペクトル波形Ｗ４０を右方向にシフトするシフト量を算出する。
【0050】
駆動部５４は、第２光変調部１８－２を駆動させて、スペクトル波形Ｗ４１が右方向にシフトするように、パターン画像を描画させる。これにより、スペクトル波形Ｗ４１の波長がλｎの時の挿入損失は、ＩＬ２よりも大きいＩＬ４［ｄＢ］となる。すなわち、駆動部５４は、波長がλｎのときの挿入損失が初期状態に比べて大きくなるようにスペクトル波形Ｗ４１が右方向にシフトするパターン画像を第２光変調部１８－２に描画させる。この場合、算出部５２が、スペクトル波形Ｗ４１と、初期状態の挿入損失ＩＬ２に基づいて、スペクトル波形Ｗ４２を右方向にシフトするシフト量を算出する。
【0051】
図１４に示す例では、スペクトル波形Ｗ４０とスペクトル波形Ｗ４１とを右方向にシフトさせることで、波長がλｎのときの挿入損失を大きくする。これにより、スペクトル波形Ｗ４０とスペクトル波形Ｗ４１との重ね合わせで得られる、光変調器１８の測定スペクトルの挿入損失を大きくすることができる。
【0052】
図１５は、第１光変調部１８－１のスペクトル波形Ｗ４０と、第２光変調部１８－２のスペクトル波形Ｗ４１の両方を左方向にシフトさせる例を示している。
【0053】
駆動部５４は、第１光変調部１８－１を駆動させて、スペクトル波形Ｗ４０が左方向にシフトするように、パターン画像を描画させる。これにより、スペクトル波形Ｗ４０の波長がλｎの時の挿入損失は、ＩＬ１よりも大きいＩＬ５［ｄＢ］となる。すなわち、駆動部５４は、波長がλｎのときの挿入損失が初期状態に比べて大きくなるようにスペクトル波形Ｗ４０が左方向にシフトするパターン画像を第１光変調部１８－１に描画させる。この場合、算出部５２が、スペクトル波形Ｗ４０と、初期状態の挿入損失ＩＬ１に基づいて、スペクトル波形Ｗ４０を左方向にシフトするシフト量を算出する。
【0054】
駆動部５４は、第２光変調部１８－２を駆動させて、スペクトル波形Ｗ４１が左方向にシフトするように、パターン画像を描画させる。これにより、スペクトル波形Ｗ４１の波長がλｎの時の挿入損失は、ＩＬ２よりも大きいＩＬ６［ｄＢ］となる。すなわち、駆動部５４は、波長がλｎのときの挿入損失が初期状態に比べて大きくなるようにスペクトル波形Ｗ４１が左方向にシフトするパターン画像を第２光変調部１８－２に描画させる。この場合、算出部５２が、スペクトル波形Ｗ４１と、初期状態の挿入損失ＩＬ２に基づいて、スペクトル波形Ｗ４２を左方向にシフトするシフト量を算出する。
【0055】
図１５に示す例では、スペクトル波形Ｗ４０とスペクトル波形Ｗ４１とを左方向にシフトさせることで、波長がλｎのときの挿入損失を大きくする。これにより、スペクトル波形Ｗ４０とスペクトル波形Ｗ４１との重ね合わせで得られる、光変調器１８の測定スペクトルの挿入損失を大きくすることができる。
【0056】
図１６は、第１光変調部１８－１のスペクトル波形Ｗ４０を右方向にシフトさせ、第２光変調部１８－２のスペクトル波形Ｗ４１を左方向にシフトさせる例を示している。
【0057】
駆動部５４は、第１光変調部１８－１を駆動させて、スペクトル波形Ｗ４０が右方向にシフトするように、パターン画像を描画させる。これにより、スペクトル波形Ｗ４０の波長がλｎの時の挿入損失は、ＩＬ１よりも大きいＩＬ７［ｄＢ］となる。すなわち、駆動部５４は、波長がλｎのときの挿入損失が初期状態に比べて大きくなるようにスペクトル波形Ｗ４０が右方向にシフトするパターン画像を第１光変調部１８－１に描画させる。この場合、算出部５２が、スペクトル波形Ｗ４０と、初期状態の挿入損失ＩＬ１に基づいて、スペクトル波形Ｗ４０を右方向にシフトするシフト量を算出する。
【0058】
駆動部５４は、第２光変調部１８－２を駆動させて、スペクトル波形Ｗ４１が左方向にシフトするように、パターン画像を描画させる。これにより、スペクトル波形Ｗ４１の波長がλｎの時の挿入損失は、ＩＬ２よりも大きいＩＬ８［ｄＢ］となる。すなわち、駆動部５４は、波長がλｎのときの挿入損失が初期状態に比べて大きくなるようにスペクトル波形Ｗ４１が左方向にシフトするパターン画像を第２光変調部１８－２に描画させる。この場合、算出部５２が、スペクトル波形Ｗ４１と、初期状態の挿入損失ＩＬ２に基づいて、スペクトル波形Ｗ４２を左方向にシフトするシフト量を算出する。
【0059】
図１６に示す例では、スペクトル波形Ｗ４０を右方向にシフトさせ、スペクトル波形Ｗ４１を左方向にシフトさせることで、波長がλｎのときの挿入損失を大きくする。これにより、スペクトル波形Ｗ４０とスペクトル波形Ｗ４１との重ね合わせで得られる、光変調器１８の測定スペクトルの挿入損失を大きくすることができる。
【0060】
図１７は、第１光変調部１８－１のスペクトル波形Ｗ４０を左方向にシフトさせ、第２光変調部１８－２のスペクトル波形Ｗ４１を右方向にシフトさせる例を示している。
【0061】
駆動部５４は、第１光変調部１８－１を駆動させて、スペクトル波形Ｗ４０が左方向にシフトするように、パターン画像を描画させる。これにより、スペクトル波形Ｗ４０の波長がλｎの時の挿入損失は、ＩＬ１よりも大きいＩＬ９［ｄＢ］となる。すなわち、駆動部５４は、波長がλｎのときの挿入損失が初期状態に比べて大きくなるようにスペクトル波形Ｗ４０が左方向にシフトするパターン画像を第１光変調部１８－１に描画させる。この場合、算出部５２が、スペクトル波形Ｗ４０と、初期状態の挿入損失ＩＬ１に基づいて、スペクトル波形Ｗ４０を左方向にシフトするシフト量を算出する。
【0062】
駆動部５４は、第２光変調部１８－２を駆動させて、スペクトル波形Ｗ４１が右方向にシフトするように、パターン画像を描画させる。これにより、スペクトル波形Ｗ４１の波長がλｎの時の挿入損失は、ＩＬ２よりも大きいＩＬ１０［ｄＢ］となる。すなわち、駆動部５４は、波長がλｎのときの挿入損失が初期状態に比べて大きくなるようにスペクトル波形Ｗ４１が右方向にシフトするパターン画像を第２光変調部１８－２に描画させる。この場合、算出部５２が、スペクトル波形Ｗ４１と、初期状態の挿入損失ＩＬ２に基づいて、スペクトル波形Ｗ４２を右方向にシフトするシフト量を算出する。
【0063】
図１７に示す例では、スペクトル波形Ｗ４０を左方向にシフトさせ、スペクトル波形Ｗ４１を右方向にシフトさせることで、波長がλｎのときの挿入損失を大きくする。これにより、スペクトル波形Ｗ４０とスペクトル波形Ｗ４１との重ね合わせで得られる、光変調器１８の測定スペクトルの挿入損失を大きくすることができる。
【0064】
【0065】
図１８には、第１描画パラメータを変更したことによる、減衰量の変化を検証した結果を示すグラフＧ１が示されている。図１８は、横軸が第１描画パラメータ［ピクセル］を示し、縦軸が減衰量［ｄＢ］を示す。具体的には、グラフＧ１は、第１光変調部１８－１および第２光変調部１８－２の第１描画パラメータを同じ方向にシフトさせた場合の、減衰量を示す。グラフＧ１に示すように、第１光変調部１８－１および第２光変調部１８－２の第１描画パラメータが２５５［ピクセル］で減衰量を０［ｄＢ］としている。グラフＧ１に示すように、第１光変調部１８－１および第２光変調部１８－２の第１描画パラメータを２５５［ピクセル］よりも小さくしたり、大きくしたりすることにより、大きな減衰特性を得ることができる。なお、本実施形態では、駆動部５４は、第１描画パラメータを変更することで、第１光変調部１８－１および第２光変調部１８－２に描画させるパターン画像を変更する。なお、第１光変調部１８－１が表示するパターン画像は第１パターン画像と呼ばれ、第２光変調部１８－２に表示されるパターン画像は第２パターン画像と呼ばれることもある。本実施形態において、第１パターン画像と、第２パターン画像とは異なるものとして説明するが、第１パターン画像と、第２パターン画像は、それぞれ独立しており、パターン画像の操作により単独に減衰量を制御できる。例えば、どちらか一方のみのパターン画像を第１光変調部１８－１と第２光変調部１８－２にわたって表示する画像であってもよい。本実施形態では、第１光変調部１８－１と、第２光変調部１８－２との２つ領域にパターン画像を表示することにより、減衰量を大きくすることができる。
【0066】
図１９を用いて、第２描画パラメータと、減衰量との関係について説明する。図１９は、第２描画パラメータと、減衰量との関係を示すグラフである。第２描画パラメータは、単位画素[ピクセル]ごとの位相変化量［ラジアン］である。第２描画パラメータでは、図９に示した出力ポート切り替えと同じことを行える。
【0067】
図１９には、第２描画パラメータを変更したことによる、減衰量の変化を検証した結果を示すグラフＧ２が示されている。図１９は、横軸が第２描画パラメータ［ラジアン／ピクセル］を示し、縦軸が減衰量を示す。具体的には、グラフＧ２は、第１光変調部１８－１および第２光変調部１８－２の第２描画パラメータが－０．３８［ラジアン／ピクセル］で減衰量を０［ｄＢ］としている。グラフＧ２に示すように、第１光変調部１８－１および第２光変調部１８－２の第２描画パラメータを－０．３８［ラジアン／ピクセル］よりも大きくしたり、小さくしたりすることで、大きな減衰特性を得ることができる。なお、本実施形態では、駆動部５４は、第２描画パラメータを変更することで、第１光変調部１８－１および第２光変調部１８－２に描画させるパターン画像を変更する。
【0068】
図２０と、図２１とを用いて、第１光変調部１８－１および第２光変調部１８－２の第２描画パラメータをそれぞれ交互に少しずつ変化させた場合の、減衰量の変化について説明する。図２０は、第１光変調部１８－１の第２描画パラメータと、第２光変調部１８－２の第２描画パラメータとの組み合わせを示す表である。図２１は、図２０のデータに基づいた、第１光変調部１８－１の第２描画パラメータと、第２光変調部１８－２の第２描画パラメータとの組み合わせパターンと、減衰量との関係を示すグラフである。
【0069】
図２０に示すように、本実施形態では、第１光変調部１８－１の第２描画パラメータと、第２光変調部１８－２の第２描画パラメータとを３５パターンの組み合わせで減衰量の変化を検証した。例えば、組み合わせパターン１では、第１光変調部１８－１の第２描画パラメータは－０.６００［ラジアン／ピクセル］であり、第２光変調部１８－２の第２描画パラメータは－０．６１０［ラジアン／ピクセル］である。例えば、組み合わせパターン３５では、第１光変調部１８－１の第２描画パラメータは、－０．６４５［ラジアン／ピクセル］であり、第２光変調部１８－２の第２描画パラメータは、－０．６５５［ラジアン／ピクセル］である。すなわち、本実施形態では、第１光変調部１８－１の第２描画パラメータを－０.６００［ラジアン／ピクセル］から－０．６４５［ラジアン／ピクセル］まで変化させる。また、本実施形態では、第２光変調部１８－２の第２描画パラメータを－０．６１０［ラジアン／ピクセル］から－０．６５５［ラジアン／ピクセル］まで変化させる。
【0070】
図２１は、第１光変調部１８－１の第２描画パラメータと、第２光変調部１８－２の第２描画パラメータとの組み合わせと、減衰量との関係を示すグラフである。図２１は、横軸は組み合わせパターンを示し、縦軸は減衰量［ｄＢ］を示す。グラフＧ３に示すように、組み合わせパターン１で、減衰量は０［ｄＢ］である。グラフＧ３に示すように、組み合わせパターン１と比べて、第１光変調部１８－１の第２描画パラメータおよび第２光変調部１８－２の第２描画パラメータの少なくとも一方を小さくすることで、減衰量は大きくなる。また、第１光変調部１８－１の第２描画パラメータおよび第２光変調部１８－２の第２描画パラメータが小さいほど、減衰量は大きくなる。
【0071】
上述のとおり、第１の方法では、第１光変調部１８－１および第２光変調部１８－２の第１描画パラメータまたは第２描画パラメータを変更することにより、減衰量を制御することができる。言い換えれば、本実施形態は、第１光変調部１８－１および第２光変調部１８－２に減衰機能を持たせることができる。
【0072】
［第２の方法］
次に、光変調器１８の描画パターンを変調し光信号選択装置１の入出力ポート間の結合係数を低下させて減衰特性を得るための、第２の方法について説明する。第２実施形態では、光軸中心に相当する光変調器１８の画素位置を中心に、パターン画像の描画領域を狭めることで、減衰機能を持たせる。
次に、光変調器１８の描画パターンを変調し光信号選択装置１の入出力ポート間の結合係数を低下させて減衰特性を得るための、第２の方法について説明する。第２実施形態では、光軸中心に相当する光変調器１８の画素位置を中心に、パターン画像の描画領域を狭めることで、減衰機能を持たせる。
【0073】
図２２は、本発明の実施形態に係る光学系の作用を説明するための補足図である。図２２において図１では反射型構成で示した光学系を光分散素子１４から光変調器１８までの間を展開し透過型の等価光学回路としてあらわした。図２２に示す、透過光学回路は、光分散素子１４ａ、レンズ１６ａ、光変調器１８、レンズ１６ｂ、および光分散素子１４ｂが、順に並んでいる。光分散素子１４ａと、レンズ１６ａとの間の光学距離はｆであるとする。レンズ１６ａと、光変調器１８との間の光学距離は、ｆであるとする。光変調器１８と、レンズ１６ｂとの間の光学距離は、ｆであるとする。レンズ１６ｂと、光分散素子１４ｂとの間の光学距離は、ｆであるとする。図１示す例では、光分散素子１４は、レンズ１６の前側焦点面に配置され、光変調器１８の変調面または反射面は、レンズ１６の後側焦点面に配置される。図１に示す例では、光変調器１８を反射した光は、おおよそ同じ経路を逆方向に進み再度光分散素子１４に結合する。そのため、図１に示す光信号選択装置１構成する図２２で示した光学系は、４ｆの光学系で光分散素子１４ａの出射面から出力される光信号Ｓ２１において分散素子１４ａ出射面での複素振幅分布を入力像とすると、光変調器１８の変調面である入出力面はレンズ１６aの作用によりフーリエ面となる。さらに、光変調器１８の位相変調を受けたフーリエ面である出力面の複素振幅分布像は、レンズ１６ｂの作用で逆フーリエ変換され、光分散素子１４ｂにフーリエ面の逆フーリエ変換出力像を再結合させるフーリエ光学系を構成する。
【0074】
図２３Ａと、図２３Ｂと、図２４Ａと、図２４Ｂとを用いて、光変調器１８のパターン画像の描画領域を狭める方法について説明する。図２３Ａと、図２３Ｂと、図２４Ａと、図２４Ｂとは、光変調器１８のパターン画像の描画領域を狭める方法を説明するための図である。以下では、光変調器１８の縦方向の描画領域は、通常では、２５０ピクセルであるものとする。
【0075】
なお前述のようにここでパターン画像の描画領域を狭める操作対象である光変調器１８の面は光分散素子１４からの入射光の複素振幅分布に対するフーリエ面であり、描画領域を狭める操作は、フーリエ面のパワースペクトル分布を面積階調することと等価であり得る。光変調器１８で位相変調を受け光分散素子１４に再入射する反射光の複素振幅分布の光強度は、言い換えれば、パーセバルの定理によりフーリエ面でのパワースペクトル分布に相関する光強度変調を受ける。したがって、フーリエ面の回折光操作により光ファイバアレイ１２に再結合する出射光の減衰特性を制御することができる。
【0076】
図２３Ａは、光変調器１８のパターン画像の縦方向の描画領域を１２０ピクセルに狭めたパターン画像１８ａを示している。図２３Ａに示すように、パターン画像１８ａは、ポート切り替え領域１００と、ポート切り替え領域１１０と、迷光除去領域１２０と、を有する。
【0077】
ポート切り替え領域１００と、ポート切り替え領域１１０とは、出力ポートの切り替えに直接関与する領域である。迷光除去領域１２０は、出力ポートを切り替える対象以外の光信号を除去する領域である。
【0078】
図２３Ｂに示すように、パターン画像１８ｂは、ポート切り替え領域１００と、ポート切り替え領域１１０と、黒領域１３０と、を有する。パターン画像１８ｂは、図２３Ａに示すパターン画像１８ａにおいて、迷光除去領域１２０の代わりに黒領域１３０を表示させたパターン画像である。ポート切り替え領域１００およびポート切り替え領域１１０以外の領域を黒くすることで、出力ポートの切り替えに直接関与する領域が鮮明になる。
【0079】
図２４Ａは、光変調器１８のパターン画像の縦方向の描画領域を６０ピクセルに狭めたパターン画像１８ｃ示している。図２４Ａに示すように、パターン画像１８ｃは、ポート切り替え領域１００Ａと、ポート切り替え領域１１０Ａと、迷光除去領域１２０Ａと、を有する。パターン画像１８ｃにおいて、ポート切り替え領域１００Ａと、ポート切り替え領域１１０Ａとの縦方向の長さは、それぞれ、図２３Ａに示すパターン画像１８ａのポート切り替え領域１００と、ポート切り替え領域１１０との半分になる。
【0080】
図２４Ａに示すように、パターン画像１８ｄは、ポート切り替え領域１００Ａと、ポート切り替え領域１１０Ａと、黒領域１３０Ａと、を有する。パターン画像１８ｂは、図２４Ａに示すパターン画像１８ｃにおいて、迷光除去領域１２０Ａの代わりに黒領域１３０Ａを表示させたパターン画像である。
【0081】
図２５Ａと、図２５Ｂと、図２５Ｃとを用いて、光変調器のパターン画像の縦方向の描画領域と、挿入損失との関係について説明する。図２５Ａと、図２５Ｂと、図２５Ｃとは、光変調器のパターン画像の縦方向の描画領域と、挿入損失との関係を説明するための図である。
【0082】
【0083】
図２５Ａは、スペクトル波形Ｗ５０を示す。スペクトル波形Ｗ５０は、光変調器１８のパターン画像の縦方向の描画領域を制限していない状態のスペクトル波形を示す。スペクトル波形Ｗ５０のピーク値ＰＶ１０は、７．５［ｄＢ］程度となる。
【0084】
図２５Ｂは、スペクトル波形Ｗ５１を示す。スペクトル波形Ｗ５１は、光変調器１８のパターン画像の縦方向の描画領域を１２０ピクセルに制限した状態のスペクトル波形を示す。スペクトル波形Ｗ５１のピーク値ＰＶ１１は、１１［ｄＢ］程度となる。
【0085】
図２５Ｃは、スペクトル波形Ｗ５２を示す。スペクトル波形Ｗ５２は、光変調器１８のパターン画像の縦方向の描画領域を６０ピクセルに制限した状態のスペクトル波形を示す。スペクトル波形Ｗ５２のピーク値ＰＶ１２は、１７［ｄＢ］程度となる。
【0086】
図２５Ａと、図２５Ｂと、図２５Ｃとに示すように、光変調器１８のパターン画像の縦方向の描画領域を制限することで、スペクトルのピーク値が低くなる。言い換えれば、光変調器１８のパターン画像の縦方向の描画領域を制限することで、挿入損失を制御し出力ポートに結合する光強度を減衰することができる。図２２で説明したように、パターン画像表示位置はフーリエ面となっており、パーセバルの定理からフーリエ変換像位置での開口制限で、パワースペクトルを制御できるため、出力像の逆フーリエ変換像のパワーを制御できると言い換えることも可能である。
【0087】
図２６を用いて、実施形態に係る光変調器のパターン画像の縦方向の描画領域と、減衰量との関係について説明する。図２６は、実施形態に係る光変調器のパターン画像の縦方向の描画領域と、減衰量との関係を示すグラフである。
【0088】
図２６は、横軸は縦方向の縦画素領域［ピクセル］を示し、縦軸は減衰量［ｄＢ］を示す。図２６には、減衰量の実測値と、シミュレーション結果と、近似曲線とのグラフが示される。図２６に示すように、縦画素領域を狭くするに連れて、減衰量は大きくなる。また、本実施形態では、減衰量の実測値の近似曲線は、所定の指数関数に精度よく近似することができる。これにより、本実施形態は、所望の減衰量に設定するための、縦画素領域の値を容易に把握することができる。言い換えれば、本実施形態は、所望の減衰特性を持つ光信号選択装置１を得ることができる。
【0089】
上述のとおり、第２の方法では、光変調器１８の縦方向の画素領域を狭くすることにより、減衰量を大きくすることができる。これにより、本実施形態は、第１光変調部１８－１および第２光変調部１８－２に減衰機能を持たせることができる。
【0090】
【0091】
駆動部５４は、第１光変調部１８－１に所定のパターン画像を表示させる（ステップＳ１００）。駆動部５４は、第２光変調部１８－２に所定のパターン画像を表示させる（ステップＳ１０２）。
【0092】
制御部４４は、光変調器１８のパターン画像のスペクトルの挿入損失を抑制するか否かを判定する（ステップＳ１０４）。具体的には、制御部４４は、例えば、挿入損失が所定の値以上である場合に、挿入損失を抑制すると判定する。制御部４４は、例えば、挿入損失を抑制する旨の指示情報を取得した場合に、挿入損失を抑制すると判定する。挿入損失を抑制すると判定された場合（ステップＳ１０４；Ｙｅｓ）、ステップＳ１０６に進む。挿入損失を抑制しないと判定された場合（ステップＳ１０４；Ｎｏ）、ステップＳ１１０に進む。
【0093】
ステップＳ１０４でＹｅｓと判定された場合、駆動部５４は、第１光変調部１８－１の測定スペクトルのピークの挿入損失が抑制される方向に、測定スペクトルをシフトさせる（ステップＳ１０６）。具体的には、駆動部５４は、第１光変調部１８－１の測定スペクトルのピークの挿入損失が抑制される方向に測定スペクトルがシフトするように、第１光変調部１８－１に表示させるパターン画像を変更する。そして、ステップＳ１０８に進む。
【0094】
駆動部５４は、第２光変調部１８－２の測定スペクトルのピークの挿入損失が抑制される方向に、測定スペクトルをシフトさせる（ステップＳ１０８）。具体的には、駆動部５４は、第２光変調部１８－２の測定スペクトルのピークの挿入損失が抑制さえる方向に測定スペクトルがシフトするように、第２光変調部１８－２に表示させるパターン画像を変更する。そして、ステップＳ１１０に進む。
【0095】
ステップＳ１０４でＮｏと判定された場合、またはステップＳ１０８の後、制御部４４は、処理を終了するか否かを判定する（ステップＳ１１０）。具他艇的には、制御部４４は、処理を終了する旨の操作情報を取得した場合などに、図２７の処理を終了すると判定する。処理を終了すると判定された場合（ステップＳ１１０；Ｙｅｓ）、図２７の処理を終了する。処理を終了すると判定されなかった場合（ステップＳ１１０；Ｎｏ）、ステップＳ１００に進む。
【0096】
以上、本開示の実施形態を説明したが、これら実施形態の内容により本開示が限定されるものではない。また、前述した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、前述した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。さらに、前述した実施形態の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
【符号の説明】
【0097】
１ 光信号選択装置
１０ 固定基板
１２ 光ファイバアレイ
１４ 光分散素子
１６ レンズ
１８ 光変調器
１８－１ 第１光変調部
１８－２ 第２光変調部
２０ 偏波操作素子
２２ 制御装置
３０ 光ファイバ
３２ コリメータレンズ
４０ 通信部
４２ 記憶部
４４ 制御部
５０ 取得部
５２ 算出部
５４ 駆動部
１０ 固定基板
１２ 光ファイバアレイ
１４ 光分散素子
１６ レンズ
１８ 光変調器
１８－１ 第１光変調部
１８－２ 第２光変調部
２０ 偏波操作素子
２２ 制御装置
３０ 光ファイバ
３２ コリメータレンズ
４０ 通信部
４２ 記憶部
４４ 制御部
５０ 取得部
５２ 算出部
５４ 駆動部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23A】
【図23B】
【図24A】
【図24B】
【図25A】
【図25B】
【図25C】
【図26】
【図27】