(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022158800
(43)【公開日】2022-10-17
(54)【発明の名称】メタルマスク及びその検出方法
(51)【国際特許分類】
C23C 14/04 20060101AFI20221006BHJP
C23C 14/12 20060101ALI20221006BHJP
C23C 14/24 20060101ALI20221006BHJP
【ＦＩ】
C23C14/04 A
C23C14/12
C23C14/24 G
【審査請求】有
【請求項の数】4
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021114566
(22)【出願日】2021-07-09
(31)【優先権主張番号】110112006
(32)【優先日】2021-03-31
(33)【優先権主張国・地域又は機関】TW
(71)【出願人】
【識別番号】517313512
【氏名又は名称】達運精密工業股▲ふん▼有限公司
【氏名又は名称原語表記】ＤＡＲＷＩＮ ＰＲＥＣＩＳＩＯＮＳ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．２０－１， Ｇｕａｎｇｆｕ Ｎ． Ｒｄ．， Ｈｕｋｏｕ Ｔｏｗｎｓｈｉｐ， Ｈｓｉｎｃｈｕ Ｃｏｕｎｔｙ， Ｔａｉｗａｎ
(74)【代理人】
【識別番号】100102842
【弁理士】
【氏名又は名称】葛和 清司
(72)【発明者】
【氏名】ヤン，ユン－ペイ
(72)【発明者】
【氏名】リー，メイ－ルン
(72)【発明者】
【氏名】リン，ウェン－イー
【テーマコード（参考）】
4K029
【Ｆターム（参考）】
4K029BA62
4K029BD00
4K029CA01
4K029HA01
4K029HA03
(57)【要約】
【課題】メタルマスク及びその検出方法を提供する。
【解決手段】この検出方法において、まず、第１の長辺と、第２の長辺と、第１の短辺と、第２の短辺と、複数のパターン領域と、を有するメタルマスクを提供し、続いて、第１の長辺及び第２の長辺に隣接するこれらのパターン領域に基づき、第１の長辺に隣接する第１の基準直線、及び第２の長辺に隣接する第２の基準直線を定義し、続いて、第１の長辺に隣接するこれらのパターン領域と第１の基準直線との間の第１の最大オフセット長さを測定し、第２の長辺に隣接するこれらのパターン領域と第２の基準直線との間の第２の最大オフセット長さを測定し、第１の最大オフセット長さと第２の最大オフセット長さとの間の差分値が２０ミクロン以下である場合、メタルマスクが検出基準に合致すると判定する。
【選択図】図１Ａ
【解決手段】この検出方法において、まず、第１の長辺と、第２の長辺と、第１の短辺と、第２の短辺と、複数のパターン領域と、を有するメタルマスクを提供し、続いて、第１の長辺及び第２の長辺に隣接するこれらのパターン領域に基づき、第１の長辺に隣接する第１の基準直線、及び第２の長辺に隣接する第２の基準直線を定義し、続いて、第１の長辺に隣接するこれらのパターン領域と第１の基準直線との間の第１の最大オフセット長さを測定し、第２の長辺に隣接するこれらのパターン領域と第２の基準直線との間の第２の最大オフセット長さを測定し、第１の最大オフセット長さと第２の最大オフセット長さとの間の差分値が２０ミクロン以下である場合、メタルマスクが検出基準に合致すると判定する。
【選択図】図１Ａ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
互いに対向する第１の長辺及び第２の長辺と、互いに対向する第１の短辺及び第２の短辺と、複数のパターン領域と、を有し、前記第１の長辺、前記第２の長辺、前記第１の短辺及び前記第２の短辺が前記パターン領域を囲むメタルマスクを提供するステップと、
前記第１の長辺及び前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域に基づき、前記第１の長辺に隣接するとともに前記第１の長辺に沿って延在する第１の基準直線、及び前記第２の長辺に隣接するとともに前記第２の長辺に沿って延在する第２の基準直線を定義するステップと、
前記第１の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第１の基準直線との間の、前記第１の基準直線に垂直な第１の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第２の基準直線との間の、前記第２の基準直線に垂直な第２の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第１の最大オフセット長さと前記第２の最大オフセット長さとの間の差分値が２０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが検出基準に合致すると判定するステップと、
を含むメタルマスクの検出方法。
前記第１の長辺及び前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域に基づき、前記第１の長辺に隣接するとともに前記第１の長辺に沿って延在する第１の基準直線、及び前記第２の長辺に隣接するとともに前記第２の長辺に沿って延在する第２の基準直線を定義するステップと、
前記第１の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第１の基準直線との間の、前記第１の基準直線に垂直な第１の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第２の基準直線との間の、前記第２の基準直線に垂直な第２の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第１の最大オフセット長さと前記第２の最大オフセット長さとの間の差分値が２０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが検出基準に合致すると判定するステップと、
を含むメタルマスクの検出方法。
【請求項2】
前記第１の最大オフセット長さが３０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが前記検出基準に合致すると判定するステップと、
前記第１の最大オフセット長さが３０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項１に記載のメタルマスクの検出方法。
前記第１の最大オフセット長さが３０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項１に記載のメタルマスクの検出方法。
【請求項3】
前記第２の最大オフセット長さが３０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが前記検出基準に合致すると判定するステップと、
前記第２の最大オフセット長さが３０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが前記不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項２に記載のメタルマスクの検出方法。
前記第２の最大オフセット長さが３０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが前記不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項２に記載のメタルマスクの検出方法。
【請求項4】
前記第１の短辺に隣接する前記パターン領域に基づき、前記第１の短辺に隣接するとともに前記第１の短辺に沿って延在する第３の基準直線を定義するステップと、
前記第１の短辺に隣接する前記パターン領域と前記第３の基準直線との間の、前記第３の基準直線に垂直な第３の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第３の最大オフセット長さが１０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが前記検出基準に合致すると判定するステップと、
前記第３の最大オフセット長さが１０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項１に記載のメタルマスクの検出方法。
前記第１の短辺に隣接する前記パターン領域と前記第３の基準直線との間の、前記第３の基準直線に垂直な第３の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第３の最大オフセット長さが１０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが前記検出基準に合致すると判定するステップと、
前記第３の最大オフセット長さが１０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項１に記載のメタルマスクの検出方法。
【請求項5】
反ったメタルマスクにおいて、互いに平行して離れた長さがＬ１である第１の基準直線と長さがＬ２である第２の基準直線を定義するステップと、
前記第１の基準直線を長さがＬ３である第１の変形線にし、前記第２の基準直線を長さがＬ４である第２の変形線にするように、前記メタルマスクを平らに広げるステップと、
前記第１の基準直線の長さＬ１、前記第２の基準直線の長さＬ２、前記第１の変形線の長さＬ３及び前記第２の変形線の長さＬ４が
│（Ｌ３＋Ｌ４）／２－（Ｌ１＋Ｌ２）／２│≦２０ミクロンという数式を満たすか否かを判定するステップと、
前記第１の基準直線の長さＬ１、前記第２の基準直線の長さＬ２、前記第１の変形線の長さＬ３及び前記第２の変形線の長さＬ４が前記数式を満たしている場合、前記メタルマスクが検出基準に合致すると判定するステップと、
を含むメタルマスクの検出方法。
前記第１の基準直線を長さがＬ３である第１の変形線にし、前記第２の基準直線を長さがＬ４である第２の変形線にするように、前記メタルマスクを平らに広げるステップと、
前記第１の基準直線の長さＬ１、前記第２の基準直線の長さＬ２、前記第１の変形線の長さＬ３及び前記第２の変形線の長さＬ４が
│（Ｌ３＋Ｌ４）／２－（Ｌ１＋Ｌ２）／２│≦２０ミクロンという数式を満たすか否かを判定するステップと、
前記第１の基準直線の長さＬ１、前記第２の基準直線の長さＬ２、前記第１の変形線の長さＬ３及び前記第２の変形線の長さＬ４が前記数式を満たしている場合、前記メタルマスクが検出基準に合致すると判定するステップと、
を含むメタルマスクの検出方法。
【請求項6】
前記メタルマスクを平らに広げる方法は、前記メタルマスクを２枚の硬質基板の間に挟んで、前記硬質基板の押圧により前記メタルマスクを平らにするステップを含む請求項５に記載のメタルマスクの検出方法。
【請求項7】
前記第１の基準直線と前記第２の基準直線との間の距離は、３ｃｍ～２５ｃｍである請求項５に記載のメタルマスクの検出方法。
【請求項8】
前記第１の基準直線と前記第２の基準直線との両方の長さは等しくない請求項５に記載のメタルマスクの検出方法。
【請求項9】
互いに対向する第１の長辺及び第２の長辺と、互いに対向する第１の短辺及び第２の短辺と、複数のパターン領域と、を有し、前記第１の長辺、前記第２の長辺、前記第１の短辺及び前記第２の短辺が前記パターン領域を囲み、前記パターン領域が規則的に配列されるメタルマスクを提供するステップと、
前記第１の長辺及び前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域に基づき、前記第１の長辺に隣接するとともに前記第１の長辺に沿って延在する第１の基準直線、及び前記第２の長辺に隣接するとともに前記第２の長辺に沿って延在する第２の基準直線を定義するステップと、
前記第１の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第１の基準直線との間の、前記第１の基準直線に垂直な第１の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第２の基準直線との間の、前記第２の基準直線に垂直な第２の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第１の最大オフセット長さ及び前記第２の最大オフセット長さが３０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが検出基準に合致すると判定するステップと、
を含むメタルマスクの検出方法。
前記第１の長辺及び前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域に基づき、前記第１の長辺に隣接するとともに前記第１の長辺に沿って延在する第１の基準直線、及び前記第２の長辺に隣接するとともに前記第２の長辺に沿って延在する第２の基準直線を定義するステップと、
前記第１の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第１の基準直線との間の、前記第１の基準直線に垂直な第１の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第２の基準直線との間の、前記第２の基準直線に垂直な第２の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第１の最大オフセット長さ及び前記第２の最大オフセット長さが３０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが検出基準に合致すると判定するステップと、
を含むメタルマスクの検出方法。
【請求項10】
互いに対向する第１の長辺及び第２の長辺と、互いに対向する第１の短辺及び第２の短辺と、複数のパターン領域と、を有する基板であって、前記第１の長辺、前記第１の短辺、前記第２の長辺と前記第２の短辺が前記パターン領域を囲むように順次連結され、且つ、前記基板において、前記第１の長辺に隣接するとともに前記第１の長辺に沿って延在する第１の基準直線、及び前記第２の長辺に隣接するとともに前記第２の長辺に沿って延在する第２の基準直線が定義され、前記第１の長辺の前記パターン領域と前記第１の基準直線との間に、前記第１の基準直線に垂直な第１の最大オフセット長さを有し、前記第２の長辺の前記パターン領域と前記第２の基準直線との間に、前記第２の基準直線に垂直な第２の最大オフセット長さを有し、前記第１の最大オフセット長さと前記第２の最大オフセット長さとの間の差分値は２０ミクロン以下である基板を含むメタルマスク。
【請求項11】
前記パターン領域は規則的に配列される請求項１０に記載のメタルマスク。
【請求項12】
前記第１の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第１の短辺及び前記第２の短辺に隣接し、前記第２の基準直線の２つの端点も、それぞれ前記第１の短辺及び前記第２の短辺に隣接する請求項１０に記載のメタルマスク。
【請求項13】
前記パターン領域はそれぞれ複数の周縁を有し、前記第１の最大オフセット長さは、前記第１の長辺に隣接する前記周縁と前記第１の基準直線との間の最大距離であり、
前記第２の最大オフセット長さは、前記第２の長辺に隣接する前記周縁と前記第２の基準直線との間の最大距離である請求項１０に記載のメタルマスク。
前記第２の最大オフセット長さは、前記第２の長辺に隣接する前記周縁と前記第２の基準直線との間の最大距離である請求項１０に記載のメタルマスク。
【請求項14】
各前記パターン領域の形状は多角形であり、各前記パターン領域は複数の頂点を有し、
前記第１の長辺と前記第１の短辺との間に第１の隅部が形成され、
前記第１の長辺と前記第２の短辺との間に第２の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第１の短辺との間に第３の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第２の短辺との間に第４の隅部が形成され、
前記第１の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第１の隅部及び前記第２の隅部に隣接する２つの前記頂点に位置し、前記第２の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第３の隅部及び前記第４の隅部に隣接する２つの前記頂点に位置する請求項１０に記載のメタルマスク。
前記第１の長辺と前記第１の短辺との間に第１の隅部が形成され、
前記第１の長辺と前記第２の短辺との間に第２の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第１の短辺との間に第３の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第２の短辺との間に第４の隅部が形成され、
前記第１の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第１の隅部及び前記第２の隅部に隣接する２つの前記頂点に位置し、前記第２の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第３の隅部及び前記第４の隅部に隣接する２つの前記頂点に位置する請求項１０に記載のメタルマスク。
【請求項15】
各前記パターン領域の形状は四角形又は六角形である請求項１４に記載のメタルマスク。
【請求項16】
前記第１の長辺と前記第１の短辺との間に第１の隅部が形成され、
前記第１の長辺と前記第２の短辺との間に第２の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第１の短辺との間に第３の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第２の短辺との間に第４の隅部が形成され、
前記第１の基準直線の２つの端点及び前記第２の基準直線の２つの端点は、いずれも前記パターン領域外に位置し、且つそれぞれ前記第１の隅部、前記第２の隅部、前記第３の隅部及び前記第４の隅部に隣接する請求項１０に記載のメタルマスク。
前記第１の長辺と前記第２の短辺との間に第２の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第１の短辺との間に第３の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第２の短辺との間に第４の隅部が形成され、
前記第１の基準直線の２つの端点及び前記第２の基準直線の２つの端点は、いずれも前記パターン領域外に位置し、且つそれぞれ前記第１の隅部、前記第２の隅部、前記第３の隅部及び前記第４の隅部に隣接する請求項１０に記載のメタルマスク。
【請求項17】
各前記パターン領域は複数の開口を有し、
前記第１の長辺と前記第１の短辺との間に第１の隅部が形成され、
前記第１の長辺と前記第２の短辺との間に第２の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第１の短辺との間に第３の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第２の短辺との間に第４の隅部が形成され、
前記第１の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第１の隅部及び前記第２の隅部に隣接する２つの前記開口に位置し、前記第２の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第３の隅部及び前記第４の隅部に隣接する２つの前記開口に位置する請求項１０に記載のメタルマスク。
前記第１の長辺と前記第１の短辺との間に第１の隅部が形成され、
前記第１の長辺と前記第２の短辺との間に第２の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第１の短辺との間に第３の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第２の短辺との間に第４の隅部が形成され、
前記第１の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第１の隅部及び前記第２の隅部に隣接する２つの前記開口に位置し、前記第２の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第３の隅部及び前記第４の隅部に隣接する２つの前記開口に位置する請求項１０に記載のメタルマスク。
【請求項18】
各前記パターン領域の形状は円形であり、各前記パターン領域は中心を有し、
前記第１の長辺と前記第１の短辺との間に第１の隅部が形成され、
前記第１の長辺と前記第２の短辺との間に第２の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第１の短辺との間に第３の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第２の短辺との間に第４の隅部が形成され、
前記第１の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第１の隅部及び前記第２の隅部に隣接する２つの前記中心に位置し、前記第２の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第３の隅部及び前記第４の隅部に隣接する２つの前記中心に位置し、前記第１の最大オフセット長さは、前記第１の長辺に隣接する前記中心と前記第１の基準直線との間の最大距離であり、前記第２の最大オフセット長さは、前記第２の長辺に隣接する前記中心と前記第２の基準直線との間の最大距離である請求項１０に記載のメタルマスク。
前記第１の長辺と前記第１の短辺との間に第１の隅部が形成され、
前記第１の長辺と前記第２の短辺との間に第２の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第１の短辺との間に第３の隅部が形成され、
前記第２の長辺と前記第２の短辺との間に第４の隅部が形成され、
前記第１の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第１の隅部及び前記第２の隅部に隣接する２つの前記中心に位置し、前記第２の基準直線の２つの端点は、それぞれ前記第３の隅部及び前記第４の隅部に隣接する２つの前記中心に位置し、前記第１の最大オフセット長さは、前記第１の長辺に隣接する前記中心と前記第１の基準直線との間の最大距離であり、前記第２の最大オフセット長さは、前記第２の長辺に隣接する前記中心と前記第２の基準直線との間の最大距離である請求項１０に記載のメタルマスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、パターニングに用いられるプロセスツール及びその検出方法に関し、特にメタルマスク及びその検出方法に関する。
【背景技術】
【0002】
現在、例えば有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ；ＯＬＥＤ）表示パネルのような表示パネルでは、ファインメタルマスク（Ｆｉｎｅ Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ；ＦＭＭ）をプロセスツールの１つとして使用している。具体的には、有機発光ダイオード表示パネルは、蒸着（ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）によって製造される。蒸着中に、ファインメタルマスクをガラス板に置き、蒸着中に生じたメッキ材がファインメタルマスクの複数の開口に従ってガラス板に堆積することで、有機発光ダイオード表示パネル内の発光層などの膜層を形成することができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
現在、表示パネル（有機発光ダイオード表示パネルを含む）は、高解像度へ発展し続けている。高解像度の表示パネルを製造するために、メタルマスクは、相当に薄い厚さを有する必要があり、且つメタルマスクのこれらの開口の位置及び形状上の誤差が大きくなってはならず、そうでなければ、不良な表示パネルが製造され、歩留まりが低下することになる。
【課題を解決するための手段】
【0004】
本発明の少なくとも１つの実施例は、歩留まりを向上させる目的を達成するために、メタルマスクをスクリーニングすることで、検出基準に合致するメタルマスクを使用するように保証することに役立てるメタルマスクの検出方法を提案する。
【0005】
本発明の少なくとも１つの実施例は、上記検出方法によりスクリーニングすることで得られるメタルマスクを更に提案する。
【0006】
本発明の少なくとも１つの実施例により提案されるメタルマスクの検出方法は、互いに対向する第１の長辺及び第２の長辺と、互いに対向する第１の短辺及び第２の短辺と、複数のパターン領域と、を有し、第１の長辺、第２の長辺、第１の短辺と第２の短辺がこれらのパターン領域を囲み、これらのパターン領域が規則的に配列されるメタルマスクを提供するステップと、第１の長辺及び第２の長辺に隣接するこれらのパターン領域に基づき、第１の長辺に隣接するとともに第１の長辺に沿って延在する第１の基準直線、及び第２の長辺に隣接するとともに第２の長辺に沿って延在する第２の基準直線を定義するステップと、第１の長辺に隣接するこれらのパターン領域と第１の基準直線との間の、第１の基準直線に垂直な第１の最大オフセット長さを測定するステップと、第２の長辺に隣接するこれらのパターン領域と第２の基準直線との間の、第２の基準直線に垂直な第２の最大オフセット長さを測定するステップと、第１の最大オフセット長さと第２の最大オフセット長さとの間の差分値が２０ミクロン以下である場合、メタルマスクが検出基準に合致し、即ち、プロセスでの使用に適合する合格メタルマスクであると判定するステップと、を含む。本発明の少なくとも１つの実施例において、前記検出方法は、第１の最大オフセット長さが３０ミクロン以下である場合、メタルマスクが検出基準に合致するマスク、即ち、プロセスの要求に応えた合格メタルマスクであると判定するステップと、第１の最大オフセット長さが３０ミクロンより大きい場合、メタルマスクが不合格マスクであると判定するステップと、を更に含む。
【0007】
本発明の少なくとも１つの実施例において、前記検出方法は、第２の最大オフセット長さが３０ミクロン以下である場合、メタルマスクが検出基準に合致するマスク、即ち、プロセスの要求に応えた合格メタルマスクであると判定するステップと、第２の最大オフセット長さが３０ミクロンより大きい場合、メタルマスクが不合格マスクであると判定するステップと、を更に含む。本発明の少なくとも１つの実施例において、前記検出方法は、第１の短辺に隣接するこれらのパターン領域に基づき、第１の短辺に隣接するとともに第１の短辺に沿って延在する第３の基準直線を定義するステップと、第１の短辺に隣接するこれらのパターン領域と第３の基準直線との間の、第３の基準直線に垂直な第３の最大オフセット長さを測定するステップと、第３の最大オフセット長さが１０ミクロン以下である場合、メタルマスクが検出基準に合致するマスク、即ち、プロセスの要求に応えた合格メタルマスクであると判定するステップと、第３の最大オフセット長さが１０ミクロンより大きい場合、メタルマスクが不合格マスクであると判定するステップと、を更に含む。
【0008】
本発明の少なくとも１つの実施例により提案されるメタルマスクの検出方法は、反ったメタルマスクにおいて、互いに平行して離れた長さがＬ１である第１の基準直線と長さがＬ２である第２の基準直線を定義するステップと、第１の基準直線を長さがＬ３である第１の変形線にし、第２の基準直線を長さがＬ４である第２の変形線にするように、メタルマスクを平らに広げるステップと、第１の基準直線の長さＬ１、第２の基準直線の長さＬ２、第１の変形線の長さＬ３と第２の変形線の長さＬ４が
│（Ｌ３＋Ｌ４）／２－（Ｌ１＋Ｌ２）／２│≦２０ミクロンという数式を満たすか否かを判定するステップと、
第１の基準直線の長さＬ１、第２の基準直線の長さＬ２、第１の変形線の長さＬ３及び第２の変形線の長さＬ４が数式を満たしている場合、メタルマスクが検出基準に合致すると判定するステップと、を含む。
│（Ｌ３＋Ｌ４）／２－（Ｌ１＋Ｌ２）／２│≦２０ミクロンという数式を満たすか否かを判定するステップと、
第１の基準直線の長さＬ１、第２の基準直線の長さＬ２、第１の変形線の長さＬ３及び第２の変形線の長さＬ４が数式を満たしている場合、メタルマスクが検出基準に合致すると判定するステップと、を含む。
【0009】
本発明の少なくとも１つの実施例において、前記メタルマスクを平らに広げる方法は、メタルマスクを２枚の硬質基板の間に挟んで、これらの硬質基板の押圧によりメタルマスクを平らにするステップを含む。
【0010】
本発明の少なくとも１つの実施例において、前記第１の基準直線と第２の基準直線との間の距離は、３ｃｍ～２５ｃｍである。
【0011】
本発明の少なくとも１つの実施例において、前記第１の基準直線と第２の基準直線の長さは等しくない。
【0012】
本発明の少なくとも１つの実施例により提案されるメタルマスクの検出方法は、互いに対向する第１の長辺及び第２の長辺と、互いに対向する第１の短辺及び第２の短辺と、複数のパターン領域と、を有し、第１の長辺、第２の長辺、第１の短辺と第２の短辺がこれらのパターン領域を囲み、これらのパターン領域が規則的に配列されるメタルマスクを提供するステップと、第１の長辺及び第２の長辺に隣接するこれらのパターン領域に基づき、第１の長辺に隣接するとともに第１の長辺に沿って延在する第１の基準直線、及び第２の長辺に隣接するとともに第２の長辺に沿って延在する第２の基準直線を定義するステップと、第１の長辺に隣接するこれらのパターン領域と第１の基準直線との間の、第１の基準直線に垂直な第１の最大オフセット長さを測定するステップと、第２の長辺に隣接するこれらのパターン領域と第２の基準直線との間の、第２の基準直線に垂直な第２の最大オフセット長さを測定するステップと、第１の最大オフセット長さと第２の最大オフセット長さのいずれか１つが３０ミクロン以下である場合、メタルマスクが検出基準に合致するマスク、即ち、プロセスの要求に応えた合格メタルマスクであると判定するステップと、を含む。
【0013】
本発明の少なくとも１つの実施例により提案されるメタルマスクは、互いに対向する第１の長辺及び第２の長辺と、互いに対向する第１の短辺及び第２の短辺と、複数のパターン領域と、を有する基板であって、第１の長辺、第１の短辺、第２の長辺と第２の短辺がこれらのパターン領域を囲むように順次連結され、且つ、基板において、第１の長辺に隣接するとともに第１の長辺に沿って延在する第１の基準直線、及び第２の長辺に隣接するとともに第２の長辺に沿って延在する第２の基準直線が定義され、第１の長辺のこれらのパターン領域と第１の基準直線との間に、第１の基準直線に垂直な第１の最大オフセット長さを有し、第２の長辺のこれらのパターン領域と第２の基準直線との間に、第２の基準直線に垂直な第２の最大オフセット長さを有し、第１の最大オフセット長さと第２の最大オフセット長さとの差分値は２０ミクロン以下である基板を含む。
【0014】
本発明の少なくとも１つの実施例において、前記パターン領域は規則的に配列される。
【0015】
本発明の少なくとも１つの実施例において、上記第１の基準直線の２つの端点は、それぞれ第１の短辺及び第２の短辺に隣接し、第２の基準直線の２つの端点も、それぞれ第１の短辺及び第２の短辺に隣接する。
【0016】
本発明の少なくとも１つの実施例において、これらのパターン領域はそれぞれ複数の周縁を有し、第１の最大オフセット長さは、第１の長辺に隣接するこれらの周縁と第１の基準直線との間の最大距離であり、第２の最大オフセット長さは、第２の長辺に隣接するこれらの周縁と第２の基準直線との間の最大距離である。
【0017】
本発明の少なくとも１つの実施例において、各パターン領域の形状は多角形であり、各パターン領域は複数の頂点を有し、第１の長辺と第１の短辺との間に第１の隅部が形成され、第１の長辺と第２の短辺との間に第２の隅部が形成され、第２の長辺と第１の短辺との間に第３の隅部が形成され、第２の長辺と第２の短辺との間に第４の隅部が形成され、第１の基準直線の２つの端点は、それぞれ第１の隅部及び第２の隅部に隣接する２つの頂点に位置し、第２の基準直線の２つの端点は、それぞれ第３の隅部及び第４の隅部に隣接する２つの頂点に位置する。
【0018】
本発明の少なくとも１つの実施例において、各パターン領域の形状は四角形又は六角形である。
【0019】
本発明の少なくとも１つの実施例において、前記第１の基準直線の２つの端点及び第２の基準直線の２つの端点は、いずれもこれらのパターン領域外に位置し、且つそれぞれ第１の隅部、第２の隅部、第３の隅部及び第４の隅部に隣接する。
【0020】
本発明の少なくとも１つの実施例において、各パターン領域は複数の開口を有し、第１の基準直線の２つの端点は、それぞれ第１の隅部及び第２の隅部に隣接する２つの開口に位置し、第２の基準直線の２つの端点は、それぞれ第３の隅部及び第４の隅部に隣接する２つの開口に位置する。
【0021】
本発明の少なくとも１つの実施例において、前記各パターン領域の形状は円形であり、各パターン領域は中心を有し、第１の基準直線の２つの端点は、それぞれ第１の隅部及び第２の隅部に隣接する２つの中心に位置し、第２の基準直線の２つの端点は、それぞれ第３の隅部及び第４の隅部に隣接する２つの中心に位置し、第１の最大オフセット長さは、第１の長辺に隣接するこれらの中心と第１の基準直線との間の最大距離であり、第２の最大オフセット長さは、第２の長辺に隣接するこれらの中心と第２の基準直線との間の最大距離である。
【発明の効果】
【0022】
上記の内容に基づき、本発明の少なくとも１つの実施例により開示された検出方法は、合格メタルマスクを選択し、不合格メタルマスクを排除することで、不良な表示パネルの産出を減少し、表示パネルの歩留まりを向上させることに役立てる。
【図面の簡単な説明】
【0023】
【図1A】本発明の少なくとも１つの実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。
【図1B】本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。
【図1C】本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。
【図1D】本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。
【図2】本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。
【図3】本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。
【図4】本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。
【図5A】本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。
【図6】本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0024】
以下の説明では、本願の技術的特徴を明らかにするために、図面における要素（例えば層、膜、基板及び領域など）の寸法（例えば長さ、幅、厚さ及び深さ）は、不均等な比率で拡大される。従って、以下の実施例の説明及び解釈は、図面における要素の寸法及び形状に限定されず、実際のプロセス及び／又は公差による寸法、形状及び両方の偏差を包含すべきである。例えば、図面に示される平坦な表面は、粗さ及び／又は非線形の特徴を有してもよく、図面に示される鋭角は、丸くてもよい。従って、本発明の図面に示される要素は、主に例示のためのものであり、要素の実際の形状を正確に描く意図ではなく、本願の特許請求の範囲を限定するものでもない。
【0025】
次に、本明細書に現れる「約」、「ほぼ」又は「実質的に」といった用語は、明確に記載された数値及び数値範囲を包含するだけでなく、当業者が理解できる許容可能な偏差範囲も包含し、この偏差範囲は、測定時に発生した誤差によって決定されてよく、この誤差は、例えば測定システム又はプロセス条件の両方の制限に起因するものである。例えば、２つの物体（例えば基板の平面又はトレース）が「実質的に平行」又は「実質的に垂直」であることについて、「実質的に平行」及び「実質的に垂直」は、それぞれこの２つの物体間の平行及び垂直が許容偏差範囲による非平行及び非垂直を含んでよいことを意味する。
【0026】
また、「約」は、上記数値の１つ又は複数の標準偏差、例えば±３０％、±２０％、±１０％又は±５％内にあることを表してもよい。本明細書に現れる「約」、「ほぼ」又は「実質的に」といった用語は、光学特性、エッチング特性、機械的特性又は他の特性に従って許容可能な偏差範囲又は標準偏差を選択してよく、単に１つの標準偏差を以上の光学特性、エッチング特性、機械的特性又は他の特性などの全ての特性に適用するわけではない。
【0027】
図１Ａは、本発明の少なくとも１つの実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。図１Ａを参照されたく、本実施例の検出方法において、まず、メタルマスク１００を提供し、メタルマスク１００は、互いに対向する第１の長辺１１１と第２の長辺１１２と、互いに対向する第１の短辺１２１と第２の短辺１２２と、複数のパターン領域１３０とを有する基板であって、第１の長辺１１１、第１の短辺１２１、第２の長辺１１２と第２の短辺１２２がこれらのパターン領域１３０を囲むように順次連結される基板を含む。
【0028】
メタルマスク１００は、金属材料に対して転圧とフォトリソグラフィー（エッチングを含む）を順に行った後に形成されてもよく、又は電鋳（ｅｌｅｃｔｒｏｆｏｒｍｉｎｇ）を用いて製造されてもよく、上記金属材料は、金属シート又は金属板であってよい。従って、メタルマスク１００の形状は、必ずしも矩形であるとは限らない。換言すれば、第１の長辺１１１、第２の長辺１１２、第１の短辺１２１及び第２の短辺１２２のいずれか１つの形状は、必ずしも直線であるとは限らない。
【0029】
図１Ａを例とし、第１の長辺１１１及び第２の長辺１１２の形状はいずれも曲線であり、図１Ａに示す第１の長辺１１１及び第２の長辺１１２の形状は二次曲線であってもよい。しかしながら、他の実施例において、第１の長辺１１１、第２の長辺１１２、第１の短辺１２１及び第２の短辺１２２のうちの少なくとも１つの形状が直線であってもよいため、第１の長辺１１１、第２の長辺１１２、第１の短辺１２１及び第２の短辺１２２のいずれか１つの形状は、直線又は曲線に限定されない。
【0030】
各パターン領域１３０の形状は多角形であってよく、これらのパターン領域１３０は規則的に配列されてよく、例えばマトリックス状に配列される。図１Ａを例とし、４つのパターン領域１３０は、１×４マトリックスとなるように配列されてよく、各パターン領域１３０の形状は、矩形のような四角形であってよい。各パターン領域１３０は複数の開口１３１を有し、各開口１３１の形状は矩形であってよく、これらの開口１３１は規則的に配列されてよく、例えば、図１Ａに示すようにマトリックス状に配列されている。
【0031】
メタルマスク１００は、例えば有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示パネルのような表示パネルを製造するために用いられてよい。メタルマスク１００が有機発光ダイオード表示パネルを製造するために用いられる場合、各パターン領域１３０の寸法は、１つの有機発光ダイオード表示パネルの寸法に相当してよく、各開口１３１の寸法は、１つのピクセルに相当してよく、上記ピクセルは、サブピクセル（ｓｕｂ－ｐｉｘｅｌ）であってよい。又は、上記ピクセルは、複数のサブピクセルで構成されてもよい。蒸着を行う場合、メタルマスク１００により一部のメッキ材を阻止することで、メッキ材が基本的にこれらの開口１３１内のみに堆積し、有機発光ダイオード表示パネル内の膜層、例えば発光層を形成することができる。
【0032】
メタルマスク１００は、第１の隅部１９１と、第２の隅部１９２と、第３の隅部１９３と、第４の隅部１９４との４つの隅部を更に有する。第１の隅部１９１は、第１の長辺１１１と第１の短辺１２１との間に形成され、第２の隅部１９２は、第１の長辺１１１と第２の短辺１２２との間に形成される。第３の隅部１９３は、第２の長辺１１２と第１の短辺１２１との間に形成され、第４の隅部１９４は、第２の長辺１１２と第２の短辺１２２との間に形成される。
【0033】
メタルマスク１００を提供した後、第１の長辺１１１及び第２の長辺１１２に隣接するこれらのパターン領域１３０に基づき、基板において第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２を定義する。第１の基準直線Ｓａ１は、第１の長辺１１１に隣接するとともに第１の長辺１１１に沿って延在し、第２の基準直線Ｓａ２は、第２の長辺１１２に隣接するとともに第２の長辺１１２に沿って延在する。従って、第１の基準直線Ｓａ１と第２の基準直線Ｓａ２とは交差するか又は重なることはない。メタルマスク１００が金属材料に対して転圧とフォトリソグラフィーを順に行った後に形成されたものであってよいため、メタルマスク１００は反って平坦でなくなり、第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２の両方は、反って平坦でないメタルマスク１００において定義されてよい。
【0034】
第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２は、両方とも端点を有する。図１Ａに示す実施例において、第１の基準直線Ｓａ１は、２つの端点Ｅ１１ａ及びＥ１１ｂを有し、第２の基準直線Ｓａ２は、２つの端点Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂを有し、２つの端点Ｅ１１ａ及びＥ１１ｂは、それぞれ第１の短辺１２１及び第２の短辺１２２に隣接し、２つの端点Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂも、それぞれ第１の短辺１２１及び第２の短辺１２２に隣接する。第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２が両方とも端点を有するため、第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２は無限長の直線ではない。従って、これらの端点Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂの位置が決定されると、第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２も定義されたことを意味する。
【0035】
各パターン領域１３０の形状が多角形であるため、各パターン領域１３０は複数の頂点１３０ａを有する。例えば、図１Ａにおいて、形状が四角形のパターン領域１３０は、４つの頂点１３０ａを有する。第１の基準直線Ｓａ１の２つの端点Ｅ１１ａ及びＥ１１ｂは、それぞれ第１の隅部１９１及び第２の隅部１９２に隣接する２つの頂点１３０ａに位置し、第２の基準直線Ｓａ２の２つの端点Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂは、それぞれ第３の隅部１９３及び第４の隅部１９４に隣接する２つの頂点１３０ａに位置する。
【0036】
換言すれば、図１Ａに示すこれらの端点Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂは、実質的に２つのパターン領域１３０の４つの頂点１３０ａと見なされてもよく、これらの２つのパターン領域１３０は、それぞれ第１の短辺１２１及び第２の短辺１２２に隣接する。以上から分かるように、図１Ａに示す実施例において、第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２が第１の隅部１９１、第２の隅部１９２、第３の隅部１９３及び第４の隅部１９４に隣接する４つの頂点１３０ａによって定義されるため、端点Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂは、肉眼で見えるものである。また、第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２が両方とも基本的に仮想直線であるため、端点Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂを除き、第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２２の両方の他の部分は全て仮想的である。
【0037】
第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２を定義した後、即ち、これらの端点Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂの位置を決定した後、第１の長辺１１１に隣接するこれらのパターン領域１３０と第１の基準直線Ｓａ１との間の第１の最大オフセット長さＬａ１を測定し、且つ、第２の長辺１１２に隣接するこれらのパターン領域１３０と第２の基準直線Ｓａ２との間の第２の最大オフセット長さＬａ２を測定し、第１の最大オフセット長さＬａ１は第１の基準直線Ｓａ１に垂直であり、第２の最大オフセット長さＬａ２は第２の基準直線Ｓａ２に垂直である。
【0038】
第１の最大オフセット長さＬａ１と第１の基準直線Ｓａ１とは「実質的に垂直」であり、第２の最大オフセット長さＬａ２と第２の基準直線Ｓａ２とも「実質的に垂直」であることを説明すべきである。従って、第１の最大オフセット長さＬａ１と第１の基準直線Ｓａ１との間の垂直及び第２の最大オフセット長さＬａ２と第２の基準直線Ｓａ２との間の垂直は、許容偏差範囲による非垂直を含んでよい。また、各パターン領域１３０は実際にこれらの開口１３１を有するが、図面を簡略化し、第１の最大オフセット長さＬａ１及び第２の最大オフセット長さＬａ２を明瞭に示すために、図１Ａの中央の２つのパターン領域１３０について開口１３１を省略して示している。
【0039】
これらのパターン領域１３０はそれぞれ複数の周縁１３０ｅを有し、同一のパターン領域１３０において、周縁１３０ｅは、図１Ａに示すように４つの頂点１３０ａを有する。本実施例において、第１の最大オフセット長さＬａ１は、第１の長辺１１１に隣接するこれらの周縁１３０ｅと第１の基準直線Ｓａ１との間の最大距離であり、第２の最大オフセット長さＬａ２は、第２の長辺１１２に隣接するこれらの周縁１３０ｅと第２の基準直線Ｓａ２との間の最大距離である。
【0040】
第１の最大オフセット長さＬａ１と第２の最大オフセット長さＬａ２との間の差分値が２０ミクロン以下である場合、メタルマスク１００は、検出基準に合致すると判定され、即ち、検出基準に合致する当該メタルマスク１００におけるこれらの開口１３１の誤差値範囲はプロセスの許容範囲内にある。従って、メタルマスク１００に他の欠陥及び規格外のパラメータがない限り、このメタルマスク１００は、関連するプロセスで使用可能であり、前述した関連するプロセスは、例えば物理気相成長（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ；ＰＶＤ）であり、検出基準に合致する上記メタルマスク１００は、表示パネルの製造に適し、特に高解像度の有機発光ダイオード表示パネルを製造することができる。
【0041】
一方、第１の最大オフセット長さＬａ１と第２の最大オフセット長さＬａ２との間の差分値が２０ミクロンより大きい場合、メタルマスク１００のこれらの開口１３１の誤差が大き過ぎ、検出基準に合致しないことを意味し、この場合、メタルマスク１００を使用して製造された表示パネル（特に高解像度の有機発光ダイオード表示パネル）では、例えばサブピクセル領域内の発光層がオフセットし、一部のサブピクセル領域内に発光層がなく、又はこれらの発光層の寸法の差が大き過ぎるなどの欠陥が引き起こされやすい。従って、このようなメタルマスク１００がスパッタリング又は蒸着などの物理気相成長への応用に適していないため、メタルマスク１００が不合格マスクであると判定する。
【0042】
第１の最大オフセット長さＬａ１と第２の最大オフセット長さＬａ２との間の差分値が２０ミクロン以下であっても、メタルマスク１００は、検出基準に合致しないと判定される可能性があることを説明すべきである。例えば、第１の最大オフセット長さＬａ１と第２の最大オフセット長さＬａ２の両方のいずれか１つが３０ミクロンより大きい場合、メタルマスク１００が検出基準に合致しない不合格マスクであると判定する。また、第１の最大オフセット長さＬａ１と第２の最大オフセット長さＬａ２との間の差分値が２０ミクロン以下であり、第１の最大オフセット長さＬａ１が３０ミクロン以下であり、第２の最大オフセット長さＬａ２も３０ミクロン以下である場合、メタルマスク１００が検出基準に合致する合格マスクであると判定する。
【0043】
言及に値するのは、以上の第１の最大オフセット長さＬａ１及び第２の最大オフセット長さＬａ２の両方の測定、及び第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２の両方の定義は、いずれも寸法測定器によって行われることができる。具体的には、寸法測定器は、メタルマスク１００においてこれらの端点Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂを見つけてから、第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２を定義することができる。
【0044】
寸法測定器は、これらの端点Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂに座標値を提供することができる。第１の基準直線Ｓａ１を例とし、端点Ｅ１１ａの座標値は（Ｘ１，Ｙ１）であってよく、端点Ｅ１１ｂの座標値は（Ｘ２，Ｙ２）であってよい。続いて、以上の端点Ｅ１１ａ及びＥ１１ｂの座標値（Ｘ１，Ｙ１）及び（Ｘ２，Ｙ２）を以下の数式（１）に代入することで、第１の最大オフセット長さＬａ１を算出し、上記寸法測定器は、以上の端点Ｅ１１ａ及びＥ１１ｂの座標値（Ｘ１，Ｙ１）及び（Ｘ２，Ｙ２）を測定した後、数式（１）の演算を行うことができる。
【0045】
【数1】
【0046】
上記数式（１）におけるＬは、第１の最大オフセット長さＬａ１に等しく、Ｘ及びＹは、第１の最大オフセット長さＬａ１の端点ＳＰ１の座標値（Ｘ，Ｙ）であり、端点ＳＰ１は、図１Ａに示すように周縁１３０ｅに位置する。同様に、寸法測定器は、端点Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂに座標値を提供することもでき、端点Ｅ１２ａの座標値を（Ｘ３，Ｙ３）としてよく、端点Ｅ１２ｂの座標値を（Ｘ４，Ｙ４）としてよい。続いて、端点Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂの座標値（Ｘ３，Ｙ３）及び（Ｘ４，Ｙ４）を以下の数式（２）に代入し、寸法測定器は、数式（２）の演算を行うこともできる。
【0047】
【数2】
【0048】
数式（２）は、実質的に上記数式（１）と同様である。具体的には、数式（１）におけるＸ１をＸ３に置き換え、Ｘ２をＸ４に置き換え、Ｙ１をＹ３に置き換え、且つＹ２をＹ４に置き換えることで、数式（２）を得ることができる。数式（２）において、Ｌは第２の最大オフセット長さＬａ２に等しく、Ｘ及びＹは、第２の最大オフセット長さＬａ２の端点ＳＰ２の座標値（Ｘ，Ｙ）であり、端点ＳＰ２も周縁１３０ｅに位置する。
【0049】
上記数式（１）及び（２）を利用して、寸法測定器は、第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２を定義することができるだけでなく、第１の最大オフセット長さＬａ１及び第２の最大オフセット長さＬａ２を測定することで、第１の最大オフセット長さＬａ１と第２の最大オフセット長さＬａ２との間の差分値が２０ミクロンより大きいか否かを判定し、第１の最大オフセット長さＬａ１及び第２の最大オフセット長さＬａ２の両方のいずれか１つが３０ミクロンより大きいか否かを判定し、不合格メタルマスク１００を排除し、且つ検出基準に合致する合格メタルマスク１００を選別することもできる。このようにすれば、本実施例の検出方法は、物理気相成長（例えば蒸着）に適しないメタルマスク１００を表示パネルの製造に用いることを回避し、不良な表示パネルの産出を減少し、歩留まりを向上させることができる。
【0050】
図１Ｂは、本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。図１Ｂを参照されたく、本実施例の検出方法は、前述した実施例の検出方法と類似する。例えば、図１Ｂに示す実施例においても、数式（１）及び（２）を利用して第１の最大オフセット長さＬｂ１及び第２の最大オフセット長さＬｂ２を測定することができる。本実施例と前述した実施例との間の相違点は、図１Ｂにおける第１の基準直線Ｓｂ１及び第２の基準直線Ｓｂ２の両方の定義が第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２の両方の定義と異なるだけである。
【0051】
本実施例の検出方法においても、第１の基準直線Ｓｂ１及び第２の基準直線Ｓｂ２が第１の長辺１１１及び第２の長辺１１２に隣接するこれらのパターン領域１３０に基づいて定義されるが、前述した図１Ａに示す実施例と異なり、第１の基準直線Ｓｂ１の２つの端点Ｅ２１ａ、Ｅ２１ｂ及び第２の基準直線Ｓｂ２の２つの端点Ｅ２２ａ、Ｅ２２ｂは、いずれもこれらのパターン領域１３０外に位置し、且つそれぞれ第１の隅部１９１、第２の隅部１９２、第３の隅部１９３及び第４の隅部１９４に隣接する。
【0052】
また、これらの端点Ｅ２１ａ、Ｅ２１ｂ、Ｅ２２ａ及びＥ２２ｂは、それぞれメタルマスク１００に作成された肉眼で見える複数のマークに位置してよい。図１Ｂを例とし、メタルマスク１００は、肉眼で見える第１のマーク１８１、第２のマーク１８２、第３のマーク１８３及び第４のマーク１８４を更に有してよく、第１のマーク１８１は第１の隅部１９１に隣接し、第２のマーク１８２は第２の隅部１９２に隣接し、第３のマーク１８３は第３の隅部１９３に隣接し、第４のマーク１８４は第４の隅部１９４に隣接する。端点Ｅ２１ａは第１のマーク１８１に位置し、端点Ｅ２１ｂは第２のマーク１８２に位置し、端点Ｅ２２ａは第３のマーク１８３に位置し、端点Ｅ２２ｂは第４のマーク１８４に位置する。従って、端点Ｅ２１ａ、Ｅ２１ｂ、Ｅ２２ａ及びＥ２２ｂを除き、第１の基準直線Ｓｂ１及び第２の基準直線Ｓｂ２の両方の他の部分は全て仮想的である。
【0053】
図１Ｃは、本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。図１Ｃを参照されたく、本実施例の検出方法は、前述した図１Ａ及び図１Ｂに示す検出方法と類似する。例えば、図１Ｃに示す実施例においても、数式（１）及び（２）を利用して第１の最大オフセット長さＬｃ１及び第２の最大オフセット長さＬｃ２を測定することができる。しかしながら、本実施例の第１の基準直線Ｓｃ１及び第２の基準直線Ｓｃ２の両方の定義は、前述した第１の基準直線Ｓａ１、Ｓｂ１及び第２の基準直線Ｓａ２、Ｓｂ２の定義と異なる。
【0054】
第１の基準直線Ｓｃ１及び第２の基準直線Ｓｃ２を定義する過程で、第１の基準直線Ｓｃ１の２つの端点Ｅ３１ａ及びＥ３１ｂは、それぞれ第１の隅部１９１及び第２の隅部１９２に隣接する２つの開口１３１に位置し、第２の基準直線Ｓｃ２の２つの端点Ｅ３２ａ及びＥ３２ｂは、それぞれ第３の隅部１９３及び第４の隅部１９４に隣接する２つの開口１３１に位置する。図１Ｃを例とし、これらの端点Ｅ３１ａ、Ｅ３１ｂ、Ｅ３２ａ及びＥ３２ｂは、これらの開口１３１の縁部に位置してよい。又は、他の実施例において、これらの端点Ｅ３１ａ、Ｅ３１ｂ、Ｅ３２ａ及びＥ３２ｂのそれぞれは、１つの開口１３１の内部に位置してもよい。従って、これらの端点Ｅ３１ａ、Ｅ３１ｂ、Ｅ３２ａ及びＥ３２ｂは、いずれもこれらのパターン領域１３０内に位置する。
【0055】
図１Ｄは、本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。図１Ｄを参照されたく、図１Ｄに示す検出方法は、実質的に図１Ａに示す検出方法と同様であり、図１Ｄのメタルマスク１０１は、メタルマスク１００と同様であってよい。例えば、メタルマスク１０１は、金属材料に対して転圧とフォトリソグラフィーを順に行った後に形成されてもよく、又は電鋳を用いて製造されてもよい。しかしながら、図１Ａに示す第１の長辺１１１及び第２の長辺１１２の両方の形状は、いずれも二次曲線であるが、図１Ｄに示す第１の長辺１１１ｄ及び第２の長辺１１２ｄの両方の形状は、いずれも少なくとも１つの変曲点（ｉｎｆｌｅｃｔｉｏｎ ｐｏｉｎｔ）を有する曲線である。
【0056】
図１Ｄに示すメタルマスク１０１において、第１の長辺１１１ｄ及び第２の長辺１１２ｄは二次曲線ではないが、図１Ｄの実施例において、２つの端点Ｅ１１ａ及びＥ１１ｂは、それぞれ第１の隅部１９１及び第２の隅部１９２に隣接する２つの頂点１３０ａに位置し、２つの端点Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂは、それぞれ第３の隅部１９３及び第４の隅部１９４に隣接する２つの頂点１３０ａに位置する。次に、第１の最大オフセット長さＬａ１は、第１の長辺１１１に隣接するこれらの周縁１３０ｅと第１の基準直線Ｓａ１との間の最大距離であり、第２の最大オフセット長さＬａ２も、第２の長辺１１２に隣接するこれらの周縁１３０ｅと第２の基準直線Ｓａ２との間の最大距離である。
【0057】
従って、第１の長辺１１１ｄ及び第２の長辺１１２ｄが変曲点を有するか否かを問わず、図１Ｄと図１Ａにおける第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２の定義は同様であり、且つ図１Ｄと図１Ａにおける第１の最大オフセット長さＬａ１及び第２の最大オフセット長さＬａ２の定義も同様である。また、他の実施例において、図１Ｄにおけるこれらの端点Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ及びＥ１２ｂは、これらのパターン領域１３０外に位置してもよく（図１Ｂに示す）、又はこれらのパターン領域１３０の開口１３１内に位置してもよい。従って、図１Ｄにおける第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２の両方の定義は、実質的に第１の基準直線Ｓｂ１、Ｓｃ１及び第２の基準直線Ｓｂ２、Ｓｃ２の定義と同様であってもよい。
【0058】
図２は、本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。図２を参照されたく、本実施例は、前述した実施例と類似する。例えば、メタルマスク２００は複数のパターン領域２３０を有し、これらのパターン領域２３０は規則的に配列されてよい。次に、各パターン領域２３０も複数の開口１３１を有し、且つ各パターン領域２３０の形状も多角形である。しかしながら、前述した実施例のパターン領域１３０と異なり、本実施例において、各パターン領域２３０の形状は六角形であり、且つこれらのパターン領域２３０はマトリックス状に配列されていない。
【0059】
メタルマスク２００の検出方法は、基本的にメタルマスク１００の検出方法と同様である。メタルマスク２００の検出方法において、第１の基準直線Ｓ２１は第１の長辺１１１に隣接するこれらのパターン領域２３０に基づいて定義され、第２の基準直線Ｓ２２も第２の長辺１１２に隣接するこれらのパターン領域２３０に基づいて定義され、第１の基準直線Ｓ２１は、第１の長辺１１１に隣接するとともに第１の長辺１１１に沿って延在し、第２の基準直線Ｓ２２は、第２の長辺１１２に隣接するとともに第２の長辺１１２に沿って延在する。
【0060】
各パターン領域２３０も複数の頂点２３０ａを有する。例えば、１つのパターン領域２３０は６つの頂点２３０ａを有する（図２に示す）。図１Ａの実施例と同様に、第１の基準直線Ｓ２１の２つの端点Ｅ４１ａ及びＥ４１ｂは、それぞれ第１の隅部１９１及び第２の隅部１９２に隣接する２つの頂点２３０ａに位置し、第２の基準直線Ｓａ２の２つの端点Ｅ４２ａ及びＥ４２ｂは、それぞれ第３の隅部１９３及び第４の隅部１９４に隣接する２つの頂点２３０ａに位置する。従って、これらの端点Ｅ４１ａ、Ｅ４１ｂ、Ｅ４２ａ及びＥ４２ｂは、実質的に４つのパターン領域２３０の頂点２３０ａと見なされてもよく、２つのパターン領域２３０は第１の短辺１２１に隣接し、他の２つのパターン領域２３０は第２の短辺１２２に隣接する。
【0061】
第１の隅部１９１は第１の頂点１９１ａを有し、第１の長辺１１１と第１の短辺１２１は、第１の頂点１９１ａで交差する。第２の隅部１９２は第２の頂点１９２ａを有し、第１の長辺１１１と第２の短辺１２２は、第２の頂点１９２ａで交差する。第３の隅部１９３は第３の頂点１９３ａを有し、第２の長辺１１２と第１の短辺１２１は、第３の頂点１９３ａで交差する。第４の隅部１９４は第４の頂点１９４ａを有し、第２の長辺１１２と第２の短辺１２２は、第４の頂点１９４ａで交差する。
【0062】
本実施例において、端点Ｅ４１ａ、Ｅ４１ｂ、Ｅ４２ａ及びＥ４２ｂは、第１の頂点１９１ａ、第２の頂点１９２ａ、第３の頂点１９３ａ及び第４の頂点１９４ａに隣接する頂点２３０ａに基づいて決定される。具体的には、第１の隅部１９１において、端点Ｅ４１ａは、第１の頂点１９１ａに最も近い頂点２３０ａに位置する。同様に、端点Ｅ４１ｂは、第２の頂点１９２ａに最も近い頂点２３０ａに位置し、端点Ｅ４２ａは、第３の頂点１９３ａに最も近い頂点２３０ａに位置し、端点Ｅ４２ｂは、第４の頂点１９４ａに最も近い頂点２３０ａに位置する。
【0063】
第１の基準直線Ｓ２１及び第２の基準直線Ｓ２２を定義した後、第１の長辺１１１に隣接するこれらのパターン領域２３０と第１の基準直線Ｓ２１との間の第１の最大オフセット長さＬ２１を測定し、且つ、第２の長辺１１２に隣接するこれらのパターン領域２３０と第２の基準直線Ｓ２２との間の第２の最大オフセット長さＬ２２を測定し、第１の最大オフセット長さＬ２１は第１の基準直線Ｓ２１に実質的に垂直であり、第２の最大オフセット長さＬ２２は第２の基準直線Ｓ２２に実質的に垂直である。
【0064】
第１の最大オフセット長さＬ２１と第２の最大オフセット長さＬ２２との間の差分値が２０ミクロンより大きく、又は第１の最大オフセット長さＬ２１及び第２の最大オフセット長さＬ２２の両方のいずれか１つが３０ミクロンより大きい場合、メタルマスク２００は、不合格マスクであると判定される。第１の最大オフセット長さＬ２１と第２の最大オフセット長さＬ２２との間の差分値が２０ミクロン以下であり、第１の最大オフセット長さＬ２１が３０ミクロン以下であり、第２の最大オフセット長さＬ２２も３０ミクロン以下である場合、メタルマスク２００が合格マスクであり、検出基準に合致すると判定する。
【0065】
また、第１の最大オフセット長さＬ２１及び第２の最大オフセット長さＬ２２の両方の測定方法は、前述した実施例における第１の最大オフセット長さＬａ１及び第２の最大オフセット長さＬａ２と同様であってよい。例えば、第１の最大オフセット長さＬ２１及び第２の最大オフセット長さＬ２２は、寸法測定器によって測定されてよく、寸法測定器は、第１の基準直線Ｓ２１及び第２の基準直線Ｓ２２を定義し、且つ上記数式（１）及び（２）を利用して計算して第１の最大オフセット長さＬ２１及び第２の最大オフセット長さＬ２２を得ることができる。従って、第１の最大オフセット長さＬ２１及び第２の最大オフセット長さＬ２２の両方の測定方法は、前述した実施例と同様であってよく、ここで繰り返して説明しない。
【0066】
説明すべきこととして、図２に示す実施例において、第１の基準直線Ｓ２１の２つの端点Ｅ４１ａ及びＥ４１ｂ、並びに第２の基準直線Ｓａ２の２つの端点Ｅ４２ａ及びＥ４２ｂは、それぞれ４つの頂点２３０ａに位置し、端点Ｅ４１ａ及びＥ４２ａは、第２の短辺１２１に隣接する最も外側のパターン領域２３０の頂点２３０ａに位置し、端点Ｅ４１ｂ及びＥ４２ｂは、第２の短辺１２２に隣接する最も外側のパターン領域２３０の頂点２３０ａに位置する。
【0067】
しかしながら、他の実施例において、これらの端点Ｅ４１ａ、Ｅ４１ｂ、Ｅ４２ａ及びＥ４２ｂは、それぞれ第１の隅部１９１、第２の隅部１９２、第３の隅部１９３及び第４の隅部１９４に隣接し、且ついずれもこれらのパターン領域２３０ａ外に位置してもよい。換言すれば、これらの端点Ｅ４１ａ、Ｅ４１ｂ、Ｅ４２ａ及びＥ４２ｂのそれぞれは、いずれか１つのパターン領域２３０ａ内に位置しなくてもよく、且つメタルマスク２００の１つの隅部（即ち第１の隅部１９１、第２の隅部１９２、第３の隅部１９３又は第４の隅部１９４）に隣接してもよい。
【0068】
又は、第１の基準直線Ｓ２１の２つの端点Ｅ４１ａ及びＥ４１ｂは、それぞれ第１の隅部１９１及び第２の隅部１９２に隣接する２つの開口１３１に位置してもよく、第２の基準直線Ｓ２２の２つの端点Ｅ４２ａ及びＥ４２ｂは、それぞれ第３の隅部１９３及び第４の隅部１９４に隣接する２つの開口１３１に位置してもよい。例えば、これらの端点Ｅ４１ａ、Ｅ４１ｂ、Ｅ４２ａ及びＥ４２ｂのいずれか１つは、１つの開口１３１の縁部（図１Ｃに示す）に位置してもよく、又は１つの開口１３１内部に位置してもよい。従って、図２に示す端点Ｅ４１ａ、Ｅ４１ｂ、Ｅ４２ａ及びＥ４２ｂは、いずれも頂点２３０ａに位置することに限定されない。
【0069】
図３は、本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。図３を参照されたく、本実施例は、前述した実施例と類似する。例えば、メタルマスク３００は複数のパターン領域３３０を有し、且つこれらのパターン領域３３０は規則的に配列されてよく、例えば図３に示すようにマトリックス状に配列され、各パターン領域３３０も複数の開口１３１を有する。しかしながら、前述したパターン領域１３０及び２３０と異なり、本実施例における各パターン領域３３０の形状が円形であるため、各パターン領域３３０は中心３３０ｃを有する。
【0070】
本実施例の検出方法は、前述した実施例の検出方法と類似し、本実施例においても、上記数式（１）及び（２）を利用して第１の最大オフセット長さＬ３１及び第２の最大オフセット長さＬ３２を測定することができる。本実施例と前述した実施例との両方の検出方法の相違点は、図３における第１の基準直線Ｓ３１及び第２の基準直線Ｓ３２の両方の定義が第１の基準直線Ｓａ１及び第２の基準直線Ｓａ２と異なり、且つ図３における第１の最大オフセット長さＬ３１が前述した第１の最大オフセット長さＬａ１、Ｌｂ１、Ｌｃ１又はＬ２１と異なり、第２の最大オフセット長さＬ３２が前述した第２の最大オフセット長さＬａ２、Ｌｂ２、Ｌｃ２又はＬ２２と異なるだけである。
【0071】
第１の基準直線Ｓ３１の２つの端点Ｅ５１ａ及びＥ５１ｂは、それぞれ第１の隅部１９１及び第２の隅部１９２に隣接する２つの中心３３０ｃに位置し、第２の基準直線Ｓ３２の２つの端点Ｅ５２ａ及びＥ５２ｂは、それぞれ第３の隅部１９３及び第４の隅部１９４に隣接する２つの中心３３０ｃに位置する。第１の基準直線Ｓ３１に実質的に垂直である第１の最大オフセット長さＬ３１は、第１の長辺１１１に隣接するこれらの中心３３０ｃと第１の基準直線Ｓ３１との間の最大距離であり、第２の基準直線Ｓ３２に実質的に垂直である第２の最大オフセット長さＬ３２は、第２の長辺１１２に隣接するこれらの中心３３０ｃと第２の基準直線Ｓ３２との間の最大距離である。
【0072】
言及に値するのは、以上の図１Ａ～図１Ｄ及び図２～図３の実施例において、上記第１の基準直線及び第２の基準直線の両方のいずれか１つの端点（即ち、端点Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂ、Ｅ２１ａ、Ｅ２１ｂ、Ｅ２２ａ、Ｅ２２ｂ、Ｅ３１ａ、Ｅ３１ｂ、Ｅ３２ａ、Ｅ３２ｂ、Ｅ４１ａ、Ｅ４１ｂ、Ｅ４２ａ、Ｅ４２ｂ、Ｅ５１ａ、Ｅ５１ｂ、Ｅ５２ａ又はＥ５２ｂ）も第１の隅部１９１、第２の隅部１９２、第３の隅部１９３及び第４の隅部１９４のうちの１つに隣接するため、上記第１の基準直線及び第２の基準直線の両方の長さは、それぞれメタルマスク１００、１０１、２００及び３００の長さよりも小さいが、それらに近い。
【0073】
従って、これらの第１の基準直線Ｓａ１、Ｓｂ１、Ｓｃ１、Ｓ２１及びＳ３１の定義が異なっても、数式（１）によって計算して得られたこれらの第１の最大オフセット長さＬａ１、Ｌｂ１、Ｌｃ１、Ｌ２１及びＬ３１には顕著な差がない。同様に、これらの第２の基準直線Ｓａ２、Ｓｂ２、Ｓｃ２、Ｓ２２及びＳ３２の定義が異なっても、数式（２）によって計算して得られたこれらの第２の最大オフセット長さＬａ２、Ｌｂ２、Ｌｃ２、Ｌ２２及びＬ３２の間にも顕著な差がない。換言すれば、これらの第１の基準直線Ｓａ１、Ｓｂ１、Ｓｃ１、Ｓ２１及びＳ３１、並びにこれらの第２の基準直線Ｓａ２、Ｓｂ２、Ｓｃ２、Ｓ２２及びＳ３２のいずれに対しても、上記数式（１）及び（２）を利用して以上の第１の最大オフセット長さ及び第２の最大オフセット長さを算出することができる。
【0074】
図４は、本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図である。図４を参照されたく、本実施例の検出方法は、前述した実施例の検出方法と類似する。しかしながら、前述した実施例と異なり、本実施例の検出方法は、第１の最大オフセット長さ及び第２の最大オフセット長さを測定するだけでなく、更に第３の基準直線Ｓ４３を定義し、且つ第３の最大オフセット長さＬ４を測定する。
【0075】
本実施例において、メタルマスク４００は、互いに対向する第１の長辺４１１及び第２の長辺４１２と、互いに対向する第１の短辺４２１及び第２の短辺４２２と、複数のパターン領域４３０と、を有し、第１の長辺４１１、第２の長辺４１２、第１の短辺４２１と第２の短辺４２２はこれらのパターン領域４３０を囲むように連結される。図４に示すメタルマスク４００の材料及び製造方法は、メタルマスク１００の材料及び製造方法と同様であってよく、各パターン領域４３０は複数の開口（図示せず）を有し、これらの開口は規則的に配列されてよい。
【0076】
メタルマスク４００の検出方法において、第１の短辺４２１に隣接するこれらのパターン領域４３０に基づき、第３の基準直線Ｓ４３を定義し、第３の基準直線Ｓ４３は、第１の短辺４２１に隣接するとともに第１の短辺４２１に沿って延在する。前述した第１の基準直線及び第２の基準直線と同様に、第３の基準直線Ｓ４３が端点Ｅ６３ａ及びＥ６３ｂを有するため、第３の基準直線Ｓ４３も無限長の直線ではない。これらの端点Ｅ６３ａ及びＥ６３ｂの位置が決定されると、第３の基準直線Ｓ４３も定義されたことを意味する。
【0077】
各パターン領域４３０の形状は多角形又は変形した多角形であってよく、複数の頂点４３０ａを有する。図４を例とし、各パターン領域４３０の形状が捩じれた四角形であってよいため、パターン領域４３０の形状は、一般的な四角形（例えば矩形）と多少異なるが、各パターン領域４３０の有する４つの頂点４３０ａは、依然として認識可能である。第３の基準直線Ｓ４３の２つの端点Ｅ６３ａ及びＥ６３ｂは、それぞれ第１の隅部４９１及び第３の隅部４９３に隣接する２つの頂点４３０ａに位置してよい。換言すれば、図４に示すこれらの端点Ｅ６３ａ及びＥ６３ｂは、実質的に２つの頂点４３０ａと見なされてもよい。
【0078】
他の実施例において、端点Ｅ６３ａ及びＥ６３ｂはこれらのパターン領域４３０ａ外に位置してもよく、且つそれぞれ第１の隅部４９１及び第３の隅部４９３に隣接することを説明すべきである。又は、第３の基準直線Ｓ４３の２つの端点Ｅ６３ａ及びＥ６３ｂは、それぞれ第１の隅部４９１及び第３の隅部４９３に隣接する２つの開口に位置してもよく、これらの端点Ｅ６３ａ及びＥ６３ｂのいずれか１つは、１つの開口の縁部又は１つの開口の内部に位置してもよい。従って、図４に示す端点Ｅ６３ａ及びＥ６３ｂは、いずれも頂点４３０ａに位置することに限定されない。
【0079】
続いて、第１の短辺４２１に隣接するこれらのパターン領域４３０と第３の基準直線Ｓ４３との間の第３の最大オフセット長さＬ４を測定し、第３の最大オフセット長さＬ４は第３の基準直線Ｓ４３に垂直である。図１Ａの実施例と類似し、これらのパターン領域４３０はそれぞれ複数の周縁４３０ｅを有し、第３の最大オフセット長さＬ４は、第１の短辺４２１に隣接するこれらの周縁４３０ｅと第３の基準直線Ｓ４３との間の最大距離である。第３の基準直線Ｓ４３の定義及び第３の最大オフセット長さＬ４の測定は、いずれも寸法測定器により行われてよく、第３の最大オフセット長さＬ４は、更に前述した数式（１）に基づいて測定されてもよい。第３の最大オフセット長さＬ４が１０ミクロンより大きい場合、メタルマスク４００が不合格マスクであると判定する。逆に、第３の最大オフセット長さＬ４が１０ミクロン以下である場合、メタルマスク４００が検出基準に合致するマスクであり、即ちプロセスの要求に応えた合格メタルマスク４００であると判定する。
【0080】
図４に示す実施例において、第１の長辺４１１及び第２の長辺４１２は両方とも直線であるが、他の実施例（例えば図１Ａに示す実施例）において、第１の長辺４１１及び第２の長辺４１２は両方とも曲線であってもよい。従って、図４において、第１の長辺４１１及び第２の長辺４１２の形状を限定しない。また、図４に示す第３の基準直線Ｓ４３に基づき、更に第２の短辺４２２に隣接する第４の基準直線（図示せず）を定義してもよい。第４の基準直線の２つの端点もそれぞれ第２の隅部４９２及び第４の隅部４９４に隣接して、メタルマスク４００が物理気相成長に適することを保証し、表示パネル（例えば、有機発光ダイオード表示パネル）の歩留まりの低下を回避するように、この第４の基準直線を利用し、第４の最大オフセット長さを更に測定してもよい。
【0081】
図５Ａは、本発明の別の実施例の検出方法により検出されるメタルマスクの平面模式図であり、図５Ｂは、図５Ａにおけるメタルマスクの側面模式図である。図５Ａ及び図５Ｂを参照されたく、まず、メタルマスク５００を提供する。メタルマスク５００は、互いに対向する第１の長辺５１１及び第２の長辺５１２と、互いに対向する第１の短辺５２１及び第２の短辺５２２と、複数のパターン領域（図示せず）と、を有する。メタルマスク１００と同様に、第１の長辺５１１、第２の長辺５１２、第１の短辺５２１と第２の短辺５２２はこれらのパターン領域を囲むように連結される。次に、メタルマスク５００も、金属材料に対して転圧とフォトリソグラフィーを順に行った後に形成されてもよく、又は電鋳を用いて製造されてもよいため、図５Ｂに示すように、メタルマスク５００も反って平坦でなくなる。
【0082】
次に、反ったメタルマスク５００において、互いに平行して離れた第１の基準直線Ｓ５１と第２の基準直線Ｓ５２を定義し、第１の基準直線Ｓ５１と第２の基準直線Ｓ５２とは交差するか又は重なることはなく、且つ第１の基準直線Ｓ５１と第２の基準直線Ｓ５２の両方の長さは、互いに等しくてもよい。第１の基準直線Ｓ５１は端点Ｅ７１ａ及びＥ７１ｂを有し、第２の基準直線Ｓ５２は端点Ｅ７２ａ及びＥ７２ｂを有する。従って、第１の基準直線Ｓ５１及び第２の基準直線Ｓ５２はいずれも無限長の直線ではない。
【0083】
本実施例において、メタルマスク５００に少なくとも１つの位置合わせマーク（図示せず）を先に形成してよく、そのうちの１つの位置合わせマークは、端点Ｅ７１ａ、Ｅ７１ｂ、Ｅ７２ａ及びＥ７２ｂのうちの１つに位置してよい。寸法測定器は、上記位置合わせマークを検知し、且つ位置合わせマークの位置に基づいて端点Ｅ７１ａ、Ｅ７１ｂ、Ｅ７２ａ及びＥ７２ｂの座標値を定義することができる。このようにすれば、寸法測定器は、第１の基準直線Ｓ５１及び第２の基準直線Ｓ５２の両方の長さを算出することができる。
【0084】
第１の基準直線Ｓ５１及び第２の基準直線Ｓ５２の両方が実質的に平行であってよいため、第１の基準直線Ｓ５１と第２の基準直線Ｓ５２との間の平行は、許容偏差範囲による非平行を含んでよく、前述した許容偏差範囲は、３ミクロン以内としてよい。また、第１の基準直線Ｓ５１と第２の基準直線Ｓ５２との間の距離は、３ｃｍ～２５ｃｍであってよく、この距離の誤差は、±３ミクロン以内としてよい。
【0085】
図５Ｃは、図５Ａにおけるメタルマスクが平らに広げられた後の平面模式図である。図５Ｃを参照されたく、続いて、第１の基準直線Ｓ５１が第１の変形線Ｓ５１ｄになり、第２の基準直線Ｓ５２が第２の変形線Ｓ５２ｄになるように、メタルマスク５００を平らに広げる。メタルマスク５００が平らに広げられた場合、第１の長辺５１１、第２の長辺５１２、第１の短辺５２１及び第２の短辺５２２も変形する。例えば、第１の長辺５１１は、長い第１の長辺５１１ｐになり、第２の長辺５１２は、長い第２の長辺５１２ｐになる。
【0086】
図５Ｄは、図５Ｃにおけるメタルマスクが２枚の硬質基板の間に挟まれた場合の側面模式図である。図５Ｃ及び図５Ｄを参照されたく、メタルマスク５００を平らに広げる方法は、メタルマスク５００を２枚の硬質基板５１の間に挟んで、これらの硬質基板５１の押圧によりメタルマスク５００を平らにすることであってよく、硬質基板５１はガラス板又は鋼板であってよい。
【0087】
【0088】
【数3】
【0089】
上記数式（３）において、Ｌ１は第１の基準直線Ｓ５１の長さであり、Ｌ２は第２の基準直線Ｓ５２の長さであり、Ｌ３は第１の変形線Ｓ５１ｄの長さであり、Ｌ４は第２の変形線Ｓ５２ｄの長さである。第１の基準直線Ｓ５１の長さ、第２の基準直線Ｓ５２の長さ、第１の変形線Ｓ５１ｄの長さ及び第２の変形線Ｓ５２ｄの長さが数式（３）を満たす場合、メタルマスク５００が検出基準に合致する合格マスクであると判定する。
【0090】
また、第１の基準直線Ｓ５１の長さ、第２の基準直線Ｓ５２の長さ、第１の変形線Ｓ５１ｄの長さ及び第２の変形線Ｓ５２ｄの長さは、寸法測定器によって測定されてよく、数式（３）も寸法測定器によって演算されてよく、寸法測定器は、上記位置合わせマークの位置に基づき、第１の変形線Ｓ５１ｄの２つの端点の位置及び第２の変形線Ｓ５２ｄの２つの端点の位置を自動的に選択することで、第１の変形線Ｓ５１ｄの長さ及び第２の変形線Ｓ５２ｄの長さを算出することができる。
【0091】
言及に値するのは、図５Ａに示す実施例において、第１の基準直線Ｓ５１と第２の基準直線Ｓ５２の両方の長さは互いに等しいことである。しかしながら、他の実施例において、第１の基準直線Ｓ５１と第２の基準直線Ｓ５２の両方の長さは等しくなくてもよい。例えば、図６に示す実施例において、反ったメタルマスク５００において、互いに平行して離れた第１の基準直線Ｓ５１と第２の基準直線Ｓ６２を定義してよく、第１の基準直線Ｓ５１と第２の基準直線Ｓ６２の両方の長さは互いに等しくない。例えば、図６に示すように、第１の基準直線Ｓ５１は第２の基準直線Ｓ６２よりも長い。従って、図５Ａにおける第１の基準直線Ｓ５１と第２の基準直線Ｓ５２は、互いに等しくなるように限定されない。
【0092】
以上を纏めると、本発明の少なくとも１つの実施例に開示された検出方法は、合格メタルマスクを選択し、不合格メタルマスクを排除することで、物理気相成長（例えば蒸着）に適しないメタルマスクを表示パネル（例えば、有機発光ダイオード表示パネル）の製造に用いることを回避することに役立つことができる。このようにすれば、不良な表示パネルの産出を減少し、歩留まりを向上させることができる。
【0093】
本発明は、実施例により前述の通りに開示されたが、実施例が本開示内容を限定するものではなく、当業者であれば、本開示内容の精神と範囲から逸脱しない限り、多様の変更や修飾を加えることができる。従って、本開示内容の保護範囲は、下記特許請求の範囲で指定した内容を基準とするものである。
【符号の説明】
【0094】
５１ 硬質基板
１００、１０１、２００、３００、４００、５００ メタルマスク
１１１、４１１、５１１ 第１の長辺
１１２、４１２、５１２ 第２の長辺
１２１、４２１、５２１ 第１の短辺
１２２、４２２、５２２ 第２の短辺
１３０、２３０、３３０、４３０ パターン領域
１３０ａ、２３０ａ、４３０ａ 頂点
１３０ｅ、４３０ｅ 周縁
１３１ 開口
１８１ 第１のマーク
１８２ 第２のマーク
１８３ 第３のマーク
１８４ 第４のマーク
１９１、４９１ 第１の隅部
１９２、４９２ 第２の隅部
１９３、４９３ 第３の隅部
１９４、４９４ 第４の隅部
３３０ｃ 中心
Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂ、Ｅ２１ａ、Ｅ２１ｂ、Ｅ２２ａ、Ｅ２２ｂ、Ｅ３１ａ、Ｅ３１ｂ、Ｅ３２ａ、Ｅ３２ｂ、Ｅ４１ａ、Ｅ４１ｂ、Ｅ４２ａ、Ｅ４２ｂ、Ｅ５１ａ、Ｅ５１ｂ、Ｅ５２ａ、Ｅ５２ｂ、Ｅ６３ａ、Ｅ６３ｂ、Ｅ７１ａ、Ｅ７１ｂ、Ｅ７２ａ、Ｅ７２ｂ、ＳＰ１、ＳＰ２ 端点
Ｌａ１、Ｌｂ１、Ｌｃ１、Ｌ２１、Ｌ３１ 第１の最大オフセット長さ
Ｌａ２、Ｌｂ２、Ｌｃ２、Ｌ２２、Ｌ３２ 第２の最大オフセット長さ
Ｌ４ 第３の最大オフセット長さ
Ｓａ１、Ｓｂ１、Ｓｃ１、Ｓ２１、Ｓ３１、Ｓ５１ 第１の基準直線
Ｓａ２、Ｓｂ２、Ｓｃ２、Ｓ２２、Ｓ３２、Ｓ５２、Ｓ６２ 第２の基準直線
Ｓ５１ｄ 第１の変形線
Ｓ５２ｄ 第２の変形線
Ｓ４３ 第３の基準直線
１００、１０１、２００、３００、４００、５００ メタルマスク
１１１、４１１、５１１ 第１の長辺
１１２、４１２、５１２ 第２の長辺
１２１、４２１、５２１ 第１の短辺
１２２、４２２、５２２ 第２の短辺
１３０、２３０、３３０、４３０ パターン領域
１３０ａ、２３０ａ、４３０ａ 頂点
１３０ｅ、４３０ｅ 周縁
１３１ 開口
１８１ 第１のマーク
１８２ 第２のマーク
１８３ 第３のマーク
１８４ 第４のマーク
１９１、４９１ 第１の隅部
１９２、４９２ 第２の隅部
１９３、４９３ 第３の隅部
１９４、４９４ 第４の隅部
３３０ｃ 中心
Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂ、Ｅ２１ａ、Ｅ２１ｂ、Ｅ２２ａ、Ｅ２２ｂ、Ｅ３１ａ、Ｅ３１ｂ、Ｅ３２ａ、Ｅ３２ｂ、Ｅ４１ａ、Ｅ４１ｂ、Ｅ４２ａ、Ｅ４２ｂ、Ｅ５１ａ、Ｅ５１ｂ、Ｅ５２ａ、Ｅ５２ｂ、Ｅ６３ａ、Ｅ６３ｂ、Ｅ７１ａ、Ｅ７１ｂ、Ｅ７２ａ、Ｅ７２ｂ、ＳＰ１、ＳＰ２ 端点
Ｌａ１、Ｌｂ１、Ｌｃ１、Ｌ２１、Ｌ３１ 第１の最大オフセット長さ
Ｌａ２、Ｌｂ２、Ｌｃ２、Ｌ２２、Ｌ３２ 第２の最大オフセット長さ
Ｌ４ 第３の最大オフセット長さ
Ｓａ１、Ｓｂ１、Ｓｃ１、Ｓ２１、Ｓ３１、Ｓ５１ 第１の基準直線
Ｓａ２、Ｓｂ２、Ｓｃ２、Ｓ２２、Ｓ３２、Ｓ５２、Ｓ６２ 第２の基準直線
Ｓ５１ｄ 第１の変形線
Ｓ５２ｄ 第２の変形線
Ｓ４３ 第３の基準直線
【図1A】
【図1B】
【図1C】
【図1D】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5A】
【図5B】
【図5C】
【図5D】
【図6】
【手続補正書】
【提出日】2022-09-07
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
互いに対向する第１の長辺及び第２の長辺と、互いに対向する第１の短辺及び第２の短辺と、複数のパターン領域と、を有し、前記第１の長辺、前記第２の長辺、前記第１の短辺及び前記第２の短辺が前記パターン領域を囲むメタルマスクを提供するステップと、
前記第１の長辺及び前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域に基づき、前記第１の長辺に隣接するとともに前記第１の長辺に沿って延在する第１の基準直線、及び前記第２の長辺に隣接するとともに前記第２の長辺に沿って延在する第２の基準直線を定義するステップと、
前記第１の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第１の基準直線との間の、前記第１の基準直線に垂直な第１の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第２の基準直線との間の、前記第２の基準直線に垂直な第２の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第１の最大オフセット長さと前記第２の最大オフセット長さとの間の差分値が２０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが検出基準に合致すると判定するステップと、
を含むメタルマスクの検出方法。
前記第１の長辺及び前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域に基づき、前記第１の長辺に隣接するとともに前記第１の長辺に沿って延在する第１の基準直線、及び前記第２の長辺に隣接するとともに前記第２の長辺に沿って延在する第２の基準直線を定義するステップと、
前記第１の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第１の基準直線との間の、前記第１の基準直線に垂直な第１の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第２の長辺に隣接する前記パターン領域と前記第２の基準直線との間の、前記第２の基準直線に垂直な第２の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第１の最大オフセット長さと前記第２の最大オフセット長さとの間の差分値が２０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが検出基準に合致すると判定するステップと、
を含むメタルマスクの検出方法。
【請求項2】
前記第１の最大オフセット長さが３０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが前記検出基準に合致すると判定するステップと、
前記第１の最大オフセット長さが３０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項１に記載のメタルマスクの検出方法。
前記第１の最大オフセット長さが３０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項１に記載のメタルマスクの検出方法。
【請求項3】
前記第２の最大オフセット長さが３０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが前記検出基準に合致すると判定するステップと、
前記第２の最大オフセット長さが３０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが前記不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項２に記載のメタルマスクの検出方法。
前記第２の最大オフセット長さが３０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが前記不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項２に記載のメタルマスクの検出方法。
【請求項4】
前記第１の短辺に隣接する前記パターン領域に基づき、前記第１の短辺に隣接するとともに前記第１の短辺に沿って延在する第３の基準直線を定義するステップと、
前記第１の短辺に隣接する前記パターン領域と前記第３の基準直線との間の、前記第３の基準直線に垂直な第３の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第３の最大オフセット長さが１０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが前記検出基準に合致すると判定するステップと、
前記第３の最大オフセット長さが１０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項１に記載のメタルマスクの検出方法。
前記第１の短辺に隣接する前記パターン領域と前記第３の基準直線との間の、前記第３の基準直線に垂直な第３の最大オフセット長さを測定するステップと、
前記第３の最大オフセット長さが１０ミクロン以下である場合、前記メタルマスクが前記検出基準に合致すると判定するステップと、
前記第３の最大オフセット長さが１０ミクロンより大きい場合、前記メタルマスクが不合格マスクであると判定するステップと、
を更に含む請求項１に記載のメタルマスクの検出方法。