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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022158981
(43)【公開日】2022-10-17
(54)【発明の名称】フルオロポリエーテル基含有シラン化合物
(51)【国際特許分類】
C08G 65/336 20060101AFI20221007BHJP
C09K 3/18 20060101ALI20221007BHJP
【ＦＩ】
C08G65/336
C09K3/18 103
【審査請求】有
【請求項の数】31
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022035906
(22)【出願日】2022-03-09
(11)【特許番号】
(45)【特許公報発行日】2022-10-06
(31)【優先権主張番号】P 2021058247
(32)【優先日】2021-03-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000002853
【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100129791
【弁理士】
【氏名又は名称】川本 真由美
(74)【代理人】
【識別番号】100132252
【弁理士】
【氏名又は名称】吉田 環
(74)【代理人】
【識別番号】100221501
【弁理士】
【氏名又は名称】式見 真行
(74)【代理人】
【識別番号】100188802
【弁理士】
【氏名又は名称】澤内 千絵
(72)【発明者】
【氏名】松井 元志
(72)【発明者】
【氏名】野村 孝史
(72)【発明者】
【氏名】高野 真也
(72)【発明者】
【氏名】本多 有佳里
(72)【発明者】
【氏名】渡邊 裕介
(72)【発明者】
【氏名】片岡 真奈美
(72)【発明者】
【氏名】後藤 章広
【テーマコード（参考）】
4H020
4J005
【Ｆターム（参考）】
4H020BA22
4J005AA00
4J005AA09
4J005AB00
4J005BA00
4J005BD05
4J005BD08
(57)【要約】
【課題】より良い物性を有する表面処理層の形成に寄与し得るフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の提供。
【解決手段】式（Ａ１）または（Ａ２）で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物［式中、各記号は、明細書中の記載と同意義である。］。
【選択図】なし
【解決手段】式（Ａ１）または（Ａ２）で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物［式中、各記号は、明細書中の記載と同意義である。］。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（Ａ１）または（Ａ２）：
で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、独立して、０または１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
ただし、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０価の有機基であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
で表される基であり；
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｌ１は１である。］
【化1】
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、独立して、０または１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
ただし、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０価の有機基であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化2】
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｌ１は１である。］
【請求項2】
αは、１であり、
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０）ｐ４－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４は、１または２である、
請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０）ｐ４－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４は、１または２である、
請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項3】
αは、１であり、Ｘ１は、単結合である、請求項１または２に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項4】
βおよびγは、１であり、
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０’）ｐ４’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’は、１または２である、
請求項１～３のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０’）ｐ４’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’は、１または２である、
請求項１～３のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項5】
βおよびγは、１であり、
Ｘ２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基である、請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｘ２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基である、請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項6】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、
－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４、または
－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－１０アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項１～５のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４、または
－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－１０アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項１～５のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項7】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項8】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項9】
Ｒ５４は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である、請求項６～８のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項10】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項11】
請求項１～１０のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
【請求項12】
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）で表される化合物、および、式（Ａ２）で表される化合物である、請求項１１に記載の表面処理剤。
【請求項13】
請求項１～１０のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、および、該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１つを含有する、表面処理剤。
【請求項14】
含フッ素オイルをさらに含有する、請求項１１～１３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項15】
前記含フッ素オイルは、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物および前記含フッ素オイルの合計量に対して、３０質量％以下含まれる、請求項１４に記載の表面処理剤。
【請求項16】
シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１１～１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項17】
さらに溶媒を含有する、請求項１６に記載の表面処理剤。
【請求項18】
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１１～１７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項19】
請求項１１～１８のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
【請求項20】
基材と、該基材の表面に、請求項１～１０のいずれか１項に記載の化合物または請求項１１～１８のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項21】
前記物品が光学部材である、請求項２０に記載の物品。
【請求項22】
前記物品がディスプレイである、請求項２０または２１に記載の物品。
【請求項23】
下記式（Ｂ１）：
で表される化合物。
［式中：
βは、１～９の整数であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
Ｘ２’は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
【化3】
［式中：
βは、１～９の整数であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
Ｘ２’は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
【請求項24】
βは、１であり、
Ｘ２’は、下記式：
－（Ｒ８０”）ｐ４”－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０”は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４”は、１または２である、
請求項２３に記載の化合物。
Ｘ２’は、下記式：
－（Ｒ８０”）ｐ４”－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０”は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４”は、１または２である、
請求項２３に記載の化合物。
【請求項25】
下記式（Ｂ２）：
で表される、化合物またはその酸塩。
［式中：
Ｙ１は、水素原子、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、２，２，２－トリクロロエトキシカルボニル基、２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、または（２－トリメチルシリル）エタンスルホニル基であり；
Ｒ１は、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
ただし、Ｙ１およびＲ１の少なくとも一方は水素原子であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
で表される基であり；
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ｂ２）において、少なくとも１つのｌ１は１であり；
βは、１～９の整数であり；
Ｘ２”は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
【化4】
［式中：
Ｙ１は、水素原子、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、２，２，２－トリクロロエトキシカルボニル基、２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、または（２－トリメチルシリル）エタンスルホニル基であり；
Ｒ１は、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
ただし、Ｙ１およびＲ１の少なくとも一方は水素原子であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化5】
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ｂ２）において、少なくとも１つのｌ１は１であり；
βは、１～９の整数であり；
Ｘ２”は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
【請求項26】
βは、１であり、
Ｘ２”は、下記式：
－（Ｒ８０’’’）ｐ４’’’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’’’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’’’は、１または２である、
請求項２５に記載の化合物。
Ｘ２”は、下記式：
－（Ｒ８０’’’）ｐ４’’’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’’’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’’’は、１または２である、
請求項２５に記載の化合物。
【請求項27】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４または－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項２５または２６に記載の化合物。
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項２５または２６に記載の化合物。
【請求項28】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、請求項２７に記載の化合物。
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、請求項２７に記載の化合物。
【請求項29】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、請求項２７に記載の化合物。
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、請求項２７に記載の化合物。
【請求項30】
Ｒ５４は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である、請求項２７～２９のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項31】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環である、請求項２７に記載の化合物。
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環である、請求項２７に記載の化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物に関する。
【背景技術】
【0002】
ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。
【0003】
そのような含フッ素化合物として、フルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０００－３２７７７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上記のような表面処理層には、さらに良好な物性を有することが求められる。本開示は、より良い物性を有する表面処理層の形成に寄与し得るフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示は、以下の［１］～［３１］を提供するものである。
［１］
下記式（Ａ１）または（Ａ２）：
で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、独立して、０または１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
ただし、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０価の有機基であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
で表される基であり；
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｌ１は１である。］
［２］
αは、１であり、
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０）ｐ４－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４は、１または２である、
［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［３］
αは、１であり、Ｘ１は、単結合である、［１］または［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［４］
βおよびγは、１であり、
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０’）ｐ４’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’は、１または２である、
［１］～［３］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［５］
βおよびγは、１であり、
Ｘ２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基である、［１］～［４］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［６］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、
－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４、または
－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－１０アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
［１］～［５］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［７］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
［１］～［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［８］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
［１］～［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［９］
Ｒ５４は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である、［６］～［８］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１０］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
［１］～［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１１］
［１］～［１０］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
［１２］
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）で表される化合物、および、式（Ａ２）で表される化合物である、［１１］に記載の表面処理剤。
［１３］
［１］～［１０］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、および、該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１つを含有する、表面処理剤。
［１４］
含フッ素オイルをさらに含有する、［１１］～［１３］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１５］
前記含フッ素オイルは、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物および前記含フッ素オイルの合計量に対して、３０質量％以下含まれる、［１４］に記載の表面処理剤。
［１６］
シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、［１１］～［１５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１７］
さらに溶媒を含有する、［１６］に記載の表面処理剤。
［１８］
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［１１］～［１７］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１９］
［１１］～［１８］のいずれか１つに記載の表面処理剤を含有するペレット。
［２０］
基材と、該基材の表面に、［１］～［１０］のいずれか１つに記載の化合物または［１１］～［１８］のいずれか１つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［２１］
前記物品が光学部材である、［２０］に記載の物品。
［２２］
前記物品がディスプレイである、［２０］または［２１］に記載の物品。
［２３］
下記式（Ｂ１）：
で表される、化合物。
［式中：
βは、１～９の整数であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
Ｘ２’は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
［２４］
βは、１であり、
Ｘ２’は、下記式：
－（Ｒ８０”）ｐ４”－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０”は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４”は、１または２である、
［２３］に記載の化合物。
［２５］
下記式（Ｂ２）：
で表される、化合物またはその酸塩。
［式中：
Ｙ１は、水素原子、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、２，２，２－トリクロロエトキシカルボニル基、２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、または（２－トリメチルシリル）エタンスルホニル基であり；
Ｒ１は、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
ただし、Ｙ１およびＲ１の少なくとも一方は水素原子であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
で表される基であり；
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ｂ２）において、少なくとも１つのｌ１は１であり；
βは、１～９の整数であり；
Ｘ２”は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
［２６］
βは、１であり、
Ｘ２”は、下記式：
－（Ｒ８０’’’）ｐ４’’’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’’’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’’’は、１または２である、
［２５］に記載の化合物。
［２７］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４または－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
［２５］または［２６］に記載の化合物。
［２８］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、［２７］に記載の化合物。
［２９］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、［２７］に記載の化合物。
［３０］
Ｒ５４は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である、［２７］～［２９］のいずれか１つに記載の化合物。
［３１］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環である、［２７］に記載の化合物。
［１］
下記式（Ａ１）または（Ａ２）：
【化1】
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、独立して、０または１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
ただし、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０価の有機基であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化2】
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｌ１は１である。］
［２］
αは、１であり、
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０）ｐ４－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４は、１または２である、
［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［３］
αは、１であり、Ｘ１は、単結合である、［１］または［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［４］
βおよびγは、１であり、
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０’）ｐ４’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’は、１または２である、
［１］～［３］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［５］
βおよびγは、１であり、
Ｘ２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基である、［１］～［４］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［６］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、
－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４、または
－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－１０アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
［１］～［５］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［７］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
［１］～［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［８］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
［１］～［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［９］
Ｒ５４は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である、［６］～［８］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１０］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
［１］～［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１１］
［１］～［１０］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
［１２］
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）で表される化合物、および、式（Ａ２）で表される化合物である、［１１］に記載の表面処理剤。
［１３］
［１］～［１０］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、および、該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１つを含有する、表面処理剤。
［１４］
含フッ素オイルをさらに含有する、［１１］～［１３］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１５］
前記含フッ素オイルは、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物および前記含フッ素オイルの合計量に対して、３０質量％以下含まれる、［１４］に記載の表面処理剤。
［１６］
シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、［１１］～［１５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１７］
さらに溶媒を含有する、［１６］に記載の表面処理剤。
［１８］
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［１１］～［１７］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１９］
［１１］～［１８］のいずれか１つに記載の表面処理剤を含有するペレット。
［２０］
基材と、該基材の表面に、［１］～［１０］のいずれか１つに記載の化合物または［１１］～［１８］のいずれか１つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［２１］
前記物品が光学部材である、［２０］に記載の物品。
［２２］
前記物品がディスプレイである、［２０］または［２１］に記載の物品。
［２３］
下記式（Ｂ１）：
【化3】
［式中：
βは、１～９の整数であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
Ｘ２’は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
［２４］
βは、１であり、
Ｘ２’は、下記式：
－（Ｒ８０”）ｐ４”－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０”は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４”は、１または２である、
［２３］に記載の化合物。
［２５］
下記式（Ｂ２）：
【化4】
［式中：
Ｙ１は、水素原子、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、２，２，２－トリクロロエトキシカルボニル基、２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、または（２－トリメチルシリル）エタンスルホニル基であり；
Ｒ１は、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
ただし、Ｙ１およびＲ１の少なくとも一方は水素原子であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化5】
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ｂ２）において、少なくとも１つのｌ１は１であり；
βは、１～９の整数であり；
Ｘ２”は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
［２６］
βは、１であり、
Ｘ２”は、下記式：
－（Ｒ８０’’’）ｐ４’’’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’’’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’’’は、１または２である、
［２５］に記載の化合物。
［２７］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４または－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
［２５］または［２６］に記載の化合物。
［２８］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、［２７］に記載の化合物。
［２９］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、［２７］に記載の化合物。
［３０］
Ｒ５４は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である、［２７］～［２９］のいずれか１つに記載の化合物。
［３１］
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環である、［２７］に記載の化合物。
【発明の効果】
【0007】
本開示によれば、より良い物性を有する表面処理層の形成に寄与し得るフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0008】
本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。
本明細書において用いられる場合、「２価の有機基」としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
本明細書において用いられる場合、「２価の有機基」としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【0009】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、分子から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素原子数１～２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
【0010】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、Ｃ２－６アルキニル基、Ｃ３－１０シクロアルキル基、Ｃ３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【0011】
本明細書において、アルキル基およびフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【0012】
本明細書において、「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲｈ、－ＯＣＯＲｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｈ
２、－ＮＲｈ
２、－ＮＨＲｈ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１－４アルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、加水分解可能な基はメトキシ基である。別の態様において、加水分解可能な基はエトキシ基である。
【0013】
本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（Ａ１）または（Ａ２）で表される化合物である。
【化6】
【0014】
式（Ａ１）において、ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表される。
【0015】
式（Ａ２）において、ＲＦ２は、－Ｒｆ２
ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表される。
【0016】
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基である。
【0017】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基における「Ｃ１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１－６アルキル基、特にＣ１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－６アルキル基、特にＣ１－３アルキル基である。
【0018】
上記Ｒｆ１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ－Ｃ１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１－１６パーフルオロアルキル基である。
【0019】
上記Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ３、－ＣＦ２ＣＦ３、または－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【0020】
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基である。
【0021】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基における「Ｃ１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－３アルキレン基である。
【0022】
上記Ｒｆ２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１－３パーフルオロアルキレン基である。
【0023】
上記Ｃ１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－３パーフルオロアルキレン基、具体的には－ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２－、または－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－である。
【0024】
上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。
【0025】
上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。
【0026】
上記式（Ａ１）および（Ａ２）において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式で表されるフルオロポリエーテル基である。尚、ＲＦとして記載される構造は、式（Ａ１）においては左側がＲｆ１で表される構造に結合し、式（Ａ２）においては左側がＲｆ２
ｐで表される構造に結合する。
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
［式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
［式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
【0027】
ＲＦａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。
【0028】
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。
【0029】
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。
【0030】
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、－（ＯＣ６Ｆ１２）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ５Ｆ１０）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ３Ｆ６）－（即ち、上記式中、ＲＦａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。また、－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－である。
【0031】
一の態様において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０または１、好ましくは１である。］
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０または１、好ましくは１である。］
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。
【0032】
上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ３Ｆ６）は、好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）または（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）で表される基であり、より好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）で表される基である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ２Ｆ４）は、好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２）または（ＯＣＦ（ＣＦ３））で表される基であり、より好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される基である。
【0033】
上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であってもよい。
【0034】
上記式（ｆ３）において、Ｒ６は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４である。上記（ｆ３）において、Ｒ７は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基である。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、および－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｇ－または－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｇ－である。
【0035】
上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【0036】
上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【0037】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ１）で表される基である。
【0038】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ２）で表される基である。
【0039】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ３）で表される基である。
【0040】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ４）で表される基である。
【0041】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ５）で表される基である。
【0042】
好ましい態様において、ＲＦは、式（ｆ２）：
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基である。式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。ＲＦは、より具体的には、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であり得る。
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基である。式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。ＲＦは、より具体的には、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であり得る。
【0043】
上記ＲＦにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、ＲＦを含む化合物から得られる硬化層（例えば表面処理層）の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、上記化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、上記化合物の安定性はより向上する。この場合、ｆの値は１以上である。
【0044】
一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９５であり、より好ましくは０．２～０．９である。
【0045】
一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは、０．２０以上１．０未満であり、より好ましくは０．２０～０．９５であり、より好ましくは０．２０～０．９０、さらに好ましくは、０．４０～０．８０、特に好ましくは０．５０～０．７０である。
【0046】
一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２０～０．８０であり、より好ましくは０．３０～０．７０である。別の態様において、ｅ／ｆ比は０．５０～０．８０である。
【0047】
一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０～２．０である。
【0048】
一の態様において、ｅ／ｆ比は、０．２～１．５であり、好ましくは０．５～１．１である。
【0049】
上記ＲＦにおいて、ｅ／ｆ比は、１．０未満であってもよく、０．９５以下であってもよく、０．９０以下であってもよく、０．９０未満であってもよく、例えば０．８以下、０．７０以下であってもよい。ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２０以上、より好ましくは０．３０以上、さらに好ましくは０．４０以上、特に好ましくは０．５０以上である。ｅ／ｆ比は、例えば、０．２０以上１．０未満、例えば、０．２０以上０．９５以下、０．２０以上０．９０未満、具体的には０．４０以上０．８０以下、より具体的には０．５０以上０．７０以下を挙げることができる。ｅ／ｆ比が低くなり過ぎると、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いて形成される硬化層（あるいは硬化膜。以下においても同様）の加水分解性が高くなり、該硬化層の耐久性が低くなることがある。ｅ／ｆ比が高くなりすぎると、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いて形成される硬化層の動摩擦係数が高くなり、十分な摩擦耐久性を有する硬化層が得られないことがある。
【0050】
好ましい態様において、ＲＦは、
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
で表される基であり（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）、ｅ／ｆ比は、０．２０以上１．０未満であり、より好ましくは０．２０～０．９５であり、より好ましくは０．２０～０．９０、さらに好ましくは、０．４０～０．８０、特に好ましくは０．５０～０．７０である。ＲＦは、より具体的には、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であり得る。
上記のようなＲＦを有する化合物を用いることにより、該化合物を用いて形成される硬化層の化学的な耐久性（耐ケミカル性）、摩擦耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、または表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）等が良好になる。これは、上記のようなＲＦを有する化合物を用いることによって、該化合物から形成される硬化層の表面の動摩擦係数が小さくなるためと考えられる。
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
で表される基であり（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）、ｅ／ｆ比は、０．２０以上１．０未満であり、より好ましくは０．２０～０．９５であり、より好ましくは０．２０～０．９０、さらに好ましくは、０．４０～０．８０、特に好ましくは０．５０～０．７０である。ＲＦは、より具体的には、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であり得る。
上記のようなＲＦを有する化合物を用いることにより、該化合物を用いて形成される硬化層の化学的な耐久性（耐ケミカル性）、摩擦耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、または表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）等が良好になる。これは、上記のようなＲＦを有する化合物を用いることによって、該化合物から形成される硬化層の表面の動摩擦係数が小さくなるためと考えられる。
【0051】
一の態様において、ＲＦは、
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
で表される基であり（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）、
ｅ／ｆ比は、０．２０～０．８０であり、より好ましくは０．３０～０．７０である。
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
で表される基であり（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）、
ｅ／ｆ比は、０．２０～０．８０であり、より好ましくは０．３０～０．７０である。
【0052】
一の態様において、ｅは、１０以上１００以下の整数、かつ、ｆは、１１以上１００以下の整数であってもよく、ｅは、１５以上７０以下の整数、かつ、ｆは、２１以上９５以下の整数であってもよい。
【0053】
一の態様において、ｅおよびｆの和は、好ましくは２０以上、より好ましくは３０以上、特に好ましくは４０以上である。
【0054】
別の態様において、ｅおよびｆの和は、好ましくは１００以上、より好ましくは１２０以上、さらに好ましくは１３０以上、特に好ましくは１４０以上である。
【0055】
一の態様において、ｅおよびｆの和は、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１８０以下、さらに好ましくは１６０以下、特に好ましくは１５０以下である。
【0056】
ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，５００～３０，０００、さらに好ましくは４，０００～３０，０００である。ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、例えば、２，５００～２０，０００、２，５００～１５，０００、３，０００～１５，０００、２，０００～１０，０００であってもよい。本明細書において、ＲＦ１およびＲＦ２の数平均分子量は、１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。
【0057】
別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。
【0058】
別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、６，０００～３０，０００、好ましくは６，０００～２０，０００、より好ましくは７，０００～２０，０００、さらに好ましく８，０００～１５，０００、特に好ましくは９，０００～１５，０００、より好ましくは１０，０００～１５，０００であり得る。ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、例えば、６，０００～１５，０００の範囲にあってもよい。
【0059】
一の態様において、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、
ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が６，０００～２０，０００、およびｅ／ｆ比が０．５０～０．８０の範囲にあり；
好ましくは、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が６，０００～１５，０００、およびｅ／ｆ比が０．５０～０．７０の範囲にあり；
より好ましくは、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が１０，０００～１５，０００、およびｅ／ｆ比が０．５０～０．７０の範囲にある。
本態様において、好ましくは、ＲＦは、－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基である。ここで、例えば、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅは、２０～７０範囲にある整数であり、ｆは、４５～１２０の範囲にある整数である。このようなフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、極めて高い潤滑性と低い動摩擦係数による滑り性を示す硬化層（例えば表面処理層）の形成に寄与し得る。
ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が６，０００～２０，０００、およびｅ／ｆ比が０．５０～０．８０の範囲にあり；
好ましくは、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が６，０００～１５，０００、およびｅ／ｆ比が０．５０～０．７０の範囲にあり；
より好ましくは、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が１０，０００～１５，０００、およびｅ／ｆ比が０．５０～０．７０の範囲にある。
本態様において、好ましくは、ＲＦは、－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基である。ここで、例えば、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅは、２０～７０範囲にある整数であり、ｆは、４５～１２０の範囲にある整数である。このようなフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、極めて高い潤滑性と低い動摩擦係数による滑り性を示す硬化層（例えば表面処理層）の形成に寄与し得る。
【0060】
本開示において、ＲＦ１またはＲＦ２で表される基とＣＲＳｉ
２Ｒ２で表される基とが、－Ｘ１Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－で表される基で結合される。ここで、ＲＦ１またはＲＦ２で表される基は、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル基を含有する基であり、ＣＲＳｉ
２Ｒ２で表される基は、基材との結合能を提供するシラン部である。上記のようにＣ（Ｏ）－Ｎで表される構造を含むことにより、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および／または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いて形成される硬化層の耐ケミカル性（例えば、強アルカリ水溶液や強酸水溶液に対する耐性、活性酸素種による酸化に対する耐性）が良好になり得る。
【0061】
－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－で表される基において、Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり、Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基である。ただし、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０価の有機基である。
【0062】
式（Ａ１）において、αは、１～９の整数であり、βは、１～９の整数であり、式（Ａ２）において、γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。
【0063】
一の態様において、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－は２価の有機基であり、αは１であり、βは１である。
【0064】
一の態様において、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－は２価の有機基であり、γは１である。
【0065】
一の態様において、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－は、３～６価の有機基であり、αは１であり、βは２～５である。
【0066】
一の態様において、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－は、３～６価の有機基であり、γは２～５である。
【0067】
一の態様において、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－は、３価の有機基であり、αは１であり、βは２である。
【0068】
一の態様において、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－は、３価の有機基であり、γは２である。
【0069】
一の態様において、αは、１であり、Ｘ１は、単結合、または２価の有機基である。
【0070】
一の態様において、Ｘ１は、単結合である。
【0071】
一の態様において、Ｘ１は、２価の有機基である。
【0072】
一の態様において、Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０）ｐ４－
で表される２価の有機基である。なお、本明細書において、Ｘ１として記載している構造は、左側がＲＦ１またはＲＦ２と、右側がＣ（Ｏ）Ｎと、それぞれ結合する。
式中：
Ｒ８０は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４は、１または２である。本開示において、フェニレン基とは、特に記載がなければ、ｏ－、ｍ－またはｐ－フェニレン基を示す。
－（Ｒ８０）ｐ４－
で表される２価の有機基である。なお、本明細書において、Ｘ１として記載している構造は、左側がＲＦ１またはＲＦ２と、右側がＣ（Ｏ）Ｎと、それぞれ結合する。
式中：
Ｒ８０は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４は、１または２である。本開示において、フェニレン基とは、特に記載がなければ、ｏ－、ｍ－またはｐ－フェニレン基を示す。
【0073】
一の態様において、Ｘ１としては、例えば、単結合または下記式：
－（Ｒ８１）ｐ５－（Ｘ８１）ｑ５－
で表される２価の有機基が挙げられる。
－（Ｒ８１）ｐ５－（Ｘ８１）ｑ５－
で表される２価の有機基が挙げられる。
【0074】
上記式中：
Ｒ８１は、それぞれ独立して、単結合、－（ＣＨ２）ｓ５－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ２）ｓ５－であり、
ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ８１は、－（Ｘ８２）ｌ５－を表し、
Ｘ８２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ８３）２－、－（Ｓｉ（Ｒ８３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ８３）２－、－ＮＲ８４－および－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基またはＣ１－６アルコキシ基であり、好ましくはフェニル基またはＣ１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ８４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１－６アルキル基（好ましくはメチル基）であり、
ｍ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ５は、０または１であり、
ｑ５は、０または１であり、
ここに、ｐ５およびｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５またはｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。
一の態様において、ｐ５は１であり、ｑ５は０である。別の態様において、ｐ５は１であり、ｑ５は１である。さらに別の態様において、ｐ５は０であり、ｑ５は１である。
ここに、Ｘ１（典型的にはＸ１の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ１は、これらの基により置換されていない。
Ｒ８１は、それぞれ独立して、単結合、－（ＣＨ２）ｓ５－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ２）ｓ５－であり、
ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ８１は、－（Ｘ８２）ｌ５－を表し、
Ｘ８２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ８３）２－、－（Ｓｉ（Ｒ８３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ８３）２－、－ＮＲ８４－および－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基またはＣ１－６アルコキシ基であり、好ましくはフェニル基またはＣ１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ８４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１－６アルキル基（好ましくはメチル基）であり、
ｍ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ５は、０または１であり、
ｑ５は、０または１であり、
ここに、ｐ５およびｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５またはｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。
一の態様において、ｐ５は１であり、ｑ５は０である。別の態様において、ｐ５は１であり、ｑ５は１である。さらに別の態様において、ｐ５は０であり、ｑ５は１である。
ここに、Ｘ１（典型的にはＸ１の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ１は、これらの基により置換されていない。
【0075】
一の態様において、上記Ｘ１は、それぞれ独立して、
－（Ｒ８１）ｐ５－（Ｘ８１）ｑ５－Ｒ８２－
である。Ｒ８２は、単結合、－（ＣＨ２）ｔ５－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｔ５－である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｘ１（典型的にはＸ１の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ１は、これらの基により置換されていない。
－（Ｒ８１）ｐ５－（Ｘ８１）ｑ５－Ｒ８２－
である。Ｒ８２は、単結合、－（ＣＨ２）ｔ５－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｔ５－である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｘ１（典型的にはＸ１の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ１は、これらの基により置換されていない。
【0076】
一の態様において、Ｘ１は、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基である。
【0077】
一の態様において、Ｘ１は、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい、Ｃ１－４アルキル基である。
【0078】
一の態様において、Ｘ１は、置換基を有しないＣ１－４アルキル基（即ち、－ＣＨ２－、－Ｃ２Ｈ４－、－Ｃ３Ｈ６－、または－Ｃ４Ｈ８－で表される基）である。
【0079】
一の態様において、βは、１であり、Ｘ２は、単結合または２価の有機基である。
【0080】
一の態様において、γは、１であり、Ｘ２は、単結合または２価の有機基である。
【0081】
一の態様において、Ｘ２は、単結合である。
【0082】
一の態様において、Ｘ２は、２価の有機基である。
【0083】
一の態様において、Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０’）ｐ４’－
で表される２価の有機基である。なお、本明細書において、Ｘ２として記載している構造は、左側がＣ（Ｏ）Ｎと、右側が（ＣＲＳｉ ２Ｒ２）γと、それぞれ結合する。
式中：
Ｒ８０’は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’は、１または２である。
－（Ｒ８０’）ｐ４’－
で表される２価の有機基である。なお、本明細書において、Ｘ２として記載している構造は、左側がＣ（Ｏ）Ｎと、右側が（ＣＲＳｉ ２Ｒ２）γと、それぞれ結合する。
式中：
Ｒ８０’は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’は、１または２である。
【0084】
一の態様において、Ｘ２は－ＣＨ２－（Ｒ８０””）ｐ４””－で表される２価の有機基である。Ｒ８０””は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基（例えばＣ１－３アルキレン基）、またはフェニレン基を表し、
ｐ４””は、１または２である。
ｐ４””は、１または２である。
【0085】
一の態様において、Ｘ２は－ＣＨ２－（Ｒ８０””）ｐ４””－で表される２価の有機基であり、ｐ４””は０である。Ｒ８０””は上記と同意義である。
【0086】
一の態様において、Ｘ２としては、例えば、単結合または下記式：
－（Ｒ８１’）ｐ５’－（Ｘ８１’）ｑ５’－
で表される２価の有機基が挙げられる。
式中、Ｒ８１’、ｐ５’、Ｘ８１’、およびｑ５’は、それぞれＸ１のＲ８１、ｐ５、Ｘ８１、およびｑ５と同意義である。
－（Ｒ８１’）ｐ５’－（Ｘ８１’）ｑ５’－
で表される２価の有機基が挙げられる。
式中、Ｒ８１’、ｐ５’、Ｘ８１’、およびｑ５’は、それぞれＸ１のＲ８１、ｐ５、Ｘ８１、およびｑ５と同意義である。
【0087】
一の態様において、上記Ｘ２は、それぞれ独立して、
－（Ｒ８１’）ｐ５’－（Ｘ８１’）ｑ５’－Ｒ８２’－
である。式中、Ｒ８１’、ｐ５’、Ｘ８１’、ｑ５’およびＲ８２’は、それぞれＸ１のＲ８１、ｐ５、Ｘ８１、ｑ５およびＲ８２と同意義である。
－（Ｒ８１’）ｐ５’－（Ｘ８１’）ｑ５’－Ｒ８２’－
である。式中、Ｒ８１’、ｐ５’、Ｘ８１’、ｑ５’およびＲ８２’は、それぞれＸ１のＲ８１、ｐ５、Ｘ８１、ｑ５およびＲ８２と同意義である。
【0088】
一の態様において、Ｘ２は、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基である。
【0089】
一の態様において、Ｘ２は、１以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基である。
【0090】
一の態様において、Ｘ２は、置換基を有しないＣ１－４アルキレン基である。
【0091】
一の態様において、Ｘ１は、単結合、または１以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基であり、Ｘ２は、単結合、または１以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基である。
【0092】
一の態様において、－Ｘ１Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－において、Ｘ１は単結合、Ｘ２は１以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基であり、好ましくは、Ｘ１は単結合、Ｘ２は－ＣｎＨ２ｎ－で表される基（ｎは１～４の整数）であり、例えば、Ｘ１は単結合、Ｘ２は－ＣＨ２－である。このような構造を有することにより、特に、上記アミド基の効果をより強く発現させ得る。
【0093】
式（Ａ１）および（Ａ２）において、Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２で表される基、または－ＲＳｉで表される基である。
【0094】
一の態様において、Ｒ１は水素原子である。
【0095】
一の態様において、Ｒ１はＣ１－４アルキル基であり、好ましくは－ＣＨ３である。
【0096】
一の態様において、Ｒ１は－Ｒ２で表される基である。
【0097】
一の態様において、Ｒ１は－ＲＳｉで表される基である。
【0098】
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
で表される基である。
【化7】
【0099】
式（Ｓ１）において、Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基である。
【0100】
好ましい態様において、Ｘ３は、２価の有機基である。
【0101】
Ｘ３は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ１１－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ１２－または、－（ＣＨ２）ｚ１３－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ１４－である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
上記ｚ１１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、上記ｚ１２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。好ましくは、ｚ１１とｚ１２との合計は１以上である。
上記ｚ１３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、上記ｚ１４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。好ましくは、ｚ１３とｚ１４との合計は１以上である。
上記ｚ１１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、上記ｚ１２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。好ましくは、ｚ１１とｚ１２との合計は１以上である。
上記ｚ１３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、上記ｚ１４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。好ましくは、ｚ１３とｚ１４との合計は１以上である。
【0102】
Ｘ３は、より好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基であり、例えば、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｘ３は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。
【0103】
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。
【0104】
Ｒｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｈ、－ＯＣＯＲｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｈ
２、－ＮＲｈ
２、－ＮＨＲｈ、－ＮＣＯ、またはハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
【0105】
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。
【0106】
Ｒｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【0107】
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｌ１は１である。言い換えると、ＲＳｉにおいて、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのＲｂ１が存在する。
【0108】
ｌ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり、より好ましくは、２または３、さらに好ましくは３である。
【0109】
好ましくは、式（Ｓ１）で表される基毎に、少なくとも１つのＲｂ１が存在する。言い換えると、ＲＳｉが式（Ｓ１）で表される場合、式（Ａ１）および式（Ａ２）の末端のＲＳｉ部分（以下、単に式（Ａ１）および式（Ａ２）の「末端部分」ともいう）において、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子が存在する。
【0110】
好ましくは、式（Ａ１）の末端部分および式（Ａ２）の末端部分において、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。
【0111】
式（Ａ１）および（Ａ２）において、Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表される。
【0112】
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基である。ここで、オキシアルキレン基は、１以上の酸素原子と２以上の炭素原子とからなる基であり、直鎖状であってもよく、環構造を形成していてもよい。
【0113】
好ましくは、－Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４、または－Ｒ５５－Ｒ５６で表される。
【0114】
一の態様において、Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表される。
【0115】
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－１０アルキレン基である。
【0116】
一の態様において、Ｒ５２は、単結合である。
【0117】
一の態様において、Ｒ５２は、Ｃ１－１０アルキレン基、好ましくはＣ１－４アルキレン基である。
【0118】
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数である。
【0119】
一の態様において、ｎ４は０である。
【0120】
一の態様において、ｎ４は１～１０の整数であり、好ましくは１～６の整数である。
【0121】
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、好ましくはＣ１－２アルキレン基であり、例えば、－ＣＨ２ＣＨ２－、または－ＣＨ２－である。
【0122】
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。
環構造を含む１価の炭化水素基としては、芳香環を有する基、シクロアルキル基、またはヘテロシクロアルキル基を含む１価の炭化水素基を挙げることができる。
芳香環を有する基としては、例えば、フェニル基を挙げることができる。
シクロアルキル基としては、例えば、Ｃ３－１０シクロアルキル基、具体的には、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基を挙げることができる。
ヘテロシクロアルキル基としては、例えば、酸素原子を含んだシクロアルキル基を挙げることができる。
環構造を含む１価の炭化水素基としては、例えば以下のような構造を挙げることができる。なお、以下において＊を付した箇所において－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－の右側と結合する。
環構造を含む１価の炭化水素基としては、芳香環を有する基、シクロアルキル基、またはヘテロシクロアルキル基を含む１価の炭化水素基を挙げることができる。
芳香環を有する基としては、例えば、フェニル基を挙げることができる。
シクロアルキル基としては、例えば、Ｃ３－１０シクロアルキル基、具体的には、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基を挙げることができる。
ヘテロシクロアルキル基としては、例えば、酸素原子を含んだシクロアルキル基を挙げることができる。
環構造を含む１価の炭化水素基としては、例えば以下のような構造を挙げることができる。なお、以下において＊を付した箇所において－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－の右側と結合する。
【化8】
【0123】
Ｒ５４は、好ましくは、Ｃ１－４アルキル基であり、より好ましくは、Ｃ１－２アルキル基である。
【0124】
一の態様において、Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。Ｒ５４は、好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である。
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。Ｒ５４は、好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である。
【0125】
一の態様において、Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され、
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
ｎ４は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。Ｒ５４は、好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である。
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
ｎ４は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。Ｒ５４は、好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である。
【0126】
一の態様において、Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され、
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり、好ましくは、Ｃ１－４アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
ｎ４は、０であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり、好ましくは、Ｃ１－４アルキル基である。即ち、本態様において、Ｒ５１は－Ｒ５２－Ｏ－Ｒ５４で表される。
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり、好ましくは、Ｃ１－４アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
ｎ４は、０であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり、好ましくは、Ｃ１－４アルキル基である。即ち、本態様において、Ｒ５１は－Ｒ５２－Ｏ－Ｒ５４で表される。
【0127】
一の態様において、Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５５－Ｒ５６で表される。
【0128】
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基である。
【0129】
一の態様において、Ｒ５５は、単結合である。
【0130】
一の態様において、Ｒ５５は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基（例えば、－ＣＨ２－、－Ｃ２Ｈ４－、－Ｃ３Ｈ６－、または－Ｃ４Ｈ８－で表される基）であり、例えば－ＣＨ２－である。
【0131】
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に１以上の酸素原子を含む３～２０員環構造を有する。
Ｒ５６は、環構造中に、酸素原子を、好ましくは１～１０個含み、１～８個含んでいてもよく、１～６個含んでいてもよく、例えば２個含んでいてもよい。
Ｒ５６において、環構造を構成する原子は置換基を有していてもよい。好ましくはＲ５６において、環構造を構成する原子は置換基を有しない。
Ｒ５６は、環構造中に、酸素原子を、好ましくは１～１０個含み、１～８個含んでいてもよく、１～６個含んでいてもよく、例えば２個含んでいてもよい。
Ｒ５６において、環構造を構成する原子は置換基を有していてもよい。好ましくはＲ５６において、環構造を構成する原子は置換基を有しない。
【0132】
一の態様において、Ｒ５６は、酸素原子と炭素原子とを環員原子とし、当該環員原子は、好ましくは酸素原子を１～８個および炭素原子を２～１６個含み、より好ましくは酸素原子を１～６個および炭素原子を２～１２個含む。
【0133】
一の態様において、Ｒ５６は、クラウンエーテル由来の１価の有機基である。ここで、クラウンエーテルとは、（－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－）ｍで表される大環状のエーテルをいい、ｍは例えば、４～６の整数である。
【0134】
Ｒ５６としては、具体的に以下の構造を挙げることができる。なお、以下において＊を付した箇所においてＲ５５と結合する。
【化9】
【0135】
好ましくは、
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され、
Ｒ５２は単結合、Ｒ５３はＣＨ２、ｎ４はそれぞれ独立して１～１０の整数（好ましくは、ｎ４は１～２の整数）、Ｒ５４はそれぞれ独立してＣ１－４アルキル基；
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され、
Ｒ５２はＣＨ２、Ｒ５３はＣＨ２ＣＨ２、ｎ４はそれぞれ独立して１～１０の整数（好ましくは、ｎ４は１～６の整数）、Ｒ５４はそれぞれ独立してＣ１－４アルキル基；
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され、
Ｒ５２はそれぞれ独立して単結合、またはＣ１－１０アルキレン基、ｎ４は０、Ｒ５４はそれぞれ独立してＣ１－４アルキル基；または
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５５－Ｒ５６で表され、
Ｒ５５はそれぞれ独立して単結合またはＣ１－１０アルキレン基（好ましくは、Ｒ５５は単結合）、Ｒ５６はそれぞれ独立して酸素原子を１～８個および炭素原子を２～１６個含む環構造（好ましくは酸素原子を１～６個および炭素原子を２～１２個含む環構造）
を有する。
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され、
Ｒ５２は単結合、Ｒ５３はＣＨ２、ｎ４はそれぞれ独立して１～１０の整数（好ましくは、ｎ４は１～２の整数）、Ｒ５４はそれぞれ独立してＣ１－４アルキル基；
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され、
Ｒ５２はＣＨ２、Ｒ５３はＣＨ２ＣＨ２、ｎ４はそれぞれ独立して１～１０の整数（好ましくは、ｎ４は１～６の整数）、Ｒ５４はそれぞれ独立してＣ１－４アルキル基；
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され、
Ｒ５２はそれぞれ独立して単結合、またはＣ１－１０アルキレン基、ｎ４は０、Ｒ５４はそれぞれ独立してＣ１－４アルキル基；または
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５５－Ｒ５６で表され、
Ｒ５５はそれぞれ独立して単結合またはＣ１－１０アルキレン基（好ましくは、Ｒ５５は単結合）、Ｒ５６はそれぞれ独立して酸素原子を１～８個および炭素原子を２～１６個含む環構造（好ましくは酸素原子を１～６個および炭素原子を２～１２個含む環構造）
を有する。
【0136】
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）で表される化合物である。
【0137】
別の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ２）で表される化合物である。
【0138】
上記の式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造し得る。
【0139】
一態様として、特に限定されないが、式（Ａ１）で表される本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の製造に適した方法を以下に記載する。
【0140】
本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、例えば、式（Ｂ２）：
で表される化合物またはその酸塩と、ＨＳｉＭ３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子（即ち、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ）、またはＣ１－６アルコキシ基であり、好ましくはハロゲン原子、より好ましくはＣｌ）、所望により、Ｒｂ１Ｌ’（Ｒｂ１は上記と同意義であり、Ｌ’はＲｂ１と結合可能な基を表す）で表される化合物、および／または、Ｒｃ１Ｌ”（Ｒｃ１は上記と同意義であり、Ｌ”はＲｃ１と結合可能な基を表す）で表される化合物とを反応させる工程を含む方法により製造し得る。
【化10】
【0141】
式（Ｂ２）において、Ｒ１は、式（Ａ１）または式（Ａ２）における、Ｒ１に対応する。
Ｙ１は、水素原子、または、アミノ基の保護基（例えば、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、２，２，２－トリクロロエトキシカルボニル基、２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、または（２－トリメチルシリル）エタンスルホニル基）である。
なお、Ｙ１およびＲ１の少なくとも一方は水素原子である。
Ｙ１は、水素原子、または、アミノ基の保護基（例えば、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、２，２，２－トリクロロエトキシカルボニル基、２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、または（２－トリメチルシリル）エタンスルホニル基）である。
なお、Ｙ１およびＲ１の少なくとも一方は水素原子である。
【0142】
一の態様において、Ｙ１は水素原子である。一の態様において、Ｙ１は保護基である。
【0143】
式（Ｂ２）において、Ｘ２”は、単結合、または、２～１０価の有機基である。Ｘ２”は、式（Ａ１）または式（Ａ２）における、Ｘ２に対応する。
Ｘ３’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基である。－Ｘ３’－ＣＨ＝ＣＨ２から、式（Ａ１）および（Ａ２）におけるＸ３が形成される。Ｘ３’は、好ましくはＣ１－２アルキレン基である。
Ｒ２、βは、それぞれ、式（Ａ１）または式（Ａ２）におけるＲ２、βに対応する。
Ｘ３’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基である。－Ｘ３’－ＣＨ＝ＣＨ２から、式（Ａ１）および（Ａ２）におけるＸ３が形成される。Ｘ３’は、好ましくはＣ１－２アルキレン基である。
Ｒ２、βは、それぞれ、式（Ａ１）または式（Ａ２）におけるＲ２、βに対応する。
【0144】
一の態様において、式（Ｂ２）において、Ｒ１およびＹ１は水素原子である。
【0145】
式（Ｂ２）で表される化合物の酸塩としては、塩酸塩等が挙げられる。
【0146】
上記工程は、適切な触媒の存在下、適切な溶媒中で行われることが好ましい。
【0147】
適切な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。
【0148】
適切な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、ヘキサフルオロベンゼン等が挙げられる。
【0149】
かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０～１００℃、好ましくは５０～８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０～６００分、好ましくは１２０～３００分であり、反応圧力は、特に限定されないが、－０．２～１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
【0150】
上記式（Ｂ２）で表される化合物は、特に限定されないが、例えば、式（Ｂ１）：
で表される化合物を還元条件に付しアミンへと変換した後、必要あれば種々修飾反応を施すことで得られる。
Ｘ２’は、単結合、または、２～１０価の有機基である。ＮＣ－Ｘ２’－から、式（Ｂ２）におけるＨＲ１Ｎ－Ｘ２”－が形成される。Ｘ３’、Ｒ２、およびβは、それぞれ上記と同意義である。
【化11】
Ｘ２’は、単結合、または、２～１０価の有機基である。ＮＣ－Ｘ２’－から、式（Ｂ２）におけるＨＲ１Ｎ－Ｘ２”－が形成される。Ｘ３’、Ｒ２、およびβは、それぞれ上記と同意義である。
【0151】
上記式（Ｂ１）で表される化合物は、特に限定されないが、
式：ＮＣ－Ｘ２’－ＣＨ２－ＣＯＯＲｘ
で表される化合物と塩基、およびＨａｌ－Ｘ３’－（ＣＨ＝ＣＨ２）で表されるアルケニルハライドとを反応させ、式（Ｂ０）：
で表される化合物を合成し、脱炭酸反応により－ＣＯＯＲｘ部分を－Ｈへと変換し、その後塩基と適当な（オキシ）アルキルハライドを作用させることで合成できる。Ｈａｌはハロゲン、例えばＢｒであり、Ｒｘはメチル基またはエチル基である。Ｘ２’、およびＸ３’はそれぞれ上記と同意義である。
式：ＮＣ－Ｘ２’－ＣＨ２－ＣＯＯＲｘ
で表される化合物と塩基、およびＨａｌ－Ｘ３’－（ＣＨ＝ＣＨ２）で表されるアルケニルハライドとを反応させ、式（Ｂ０）：
【化12】
【0152】
また、本開示は、式（Ｂ１）：
で表される化合物、即ち、上記製造方法における中間体を提供する。Ｘ２’、Ｘ３’、Ｒ２、およびβはそれぞれ上記と同意義である。
【化13】
【0153】
一の態様において、式（Ｂ１）で表される化合物において、
βは、１～９の整数であり；
Ｘ２’は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基であり；
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基である。
βは、１～９の整数であり；
Ｘ２’は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基であり；
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基である。
【0154】
一の態様において、βは、１であり、
Ｘ２’は、単結合である。
Ｘ２’は、単結合である。
【0155】
一の態様において、βは、１であり、
Ｘ２’は、下記式：
－（Ｒ８０”）ｐ４”－
で表される２価の有機基である。Ｒ８０”は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基（例えば、Ｃ１－３アルキレン基）、またはフェニレン基を表し、ｐ４”は、１または２である。
一の態様において、Ｘ２’は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基であり、例えば１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－３アルキレン基である。
Ｘ２’は、下記式：
－（Ｒ８０”）ｐ４”－
で表される２価の有機基である。Ｒ８０”は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基（例えば、Ｃ１－３アルキレン基）、またはフェニレン基を表し、ｐ４”は、１または２である。
一の態様において、Ｘ２’は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基であり、例えば１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－３アルキレン基である。
【0156】
また、本開示は、式（Ｂ２）：
で表される化合物およびその酸塩、即ち、上記製造方法における中間体を提供する。Ｙ１、Ｒ１、Ｘ２”、Ｘ３’、Ｒ２、およびβはそれぞれ上記と同意義である。
【化14】
【0157】
一の態様において、式（Ｂ２）で表される化合物において、
Ｒ１は、式（Ａ１）または式（Ａ２）における、Ｒ１に対応し；
βは、１～９の整数であり、好ましくは１であり；
Ｘ２”は、単結合、または、２～１０価の有機基であり、好ましくは２価の有機基であり、例えば、下記式：
－（Ｒ８０’’’）ｐ４’’’－
で表される２価の有機基である。
Ｒ８０’’’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’’’は、１または２である。
Ｒ１は、式（Ａ１）または式（Ａ２）における、Ｒ１に対応し；
βは、１～９の整数であり、好ましくは１であり；
Ｘ２”は、単結合、または、２～１０価の有機基であり、好ましくは２価の有機基であり、例えば、下記式：
－（Ｒ８０’’’）ｐ４’’’－
で表される２価の有機基である。
Ｒ８０’’’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’’’は、１または２である。
【0158】
一の態様において、式（Ｂ２）で表される化合物において、
Ｒ１は、式（Ａ１）または式（Ａ２）における、Ｒ１に対応し；
βは、１～９の整数であり、好ましくは１であり；
Ｘ２”は、単結合、または、２～１０価の有機基であり、好ましくは２価の有機基であり、例えば、下記式：
－（Ｒ８０’’’）ｐ４’’’－
で表される２価の有機基であり；
Ｒ８０’’’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し；
ｐ４’’’は、１または２であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基であり；
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基である。Ｒ５１は、上記と同意義である。
Ｒ１は、式（Ａ１）または式（Ａ２）における、Ｒ１に対応し；
βは、１～９の整数であり、好ましくは１であり；
Ｘ２”は、単結合、または、２～１０価の有機基であり、好ましくは２価の有機基であり、例えば、下記式：
－（Ｒ８０’’’）ｐ４’’’－
で表される２価の有機基であり；
Ｒ８０’’’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し；
ｐ４’’’は、１または２であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基であり；
Ｒ２は、それぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基である。Ｒ５１は、上記と同意義である。
【0159】
一の態様において、Ｒ８０’’’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基であり、例えば、Ｃ１－４アルキレン基である。
【0160】
一の態様において、Ｒ８０’’’は、フェニレン基である。
【0161】
一の態様において、上記中間体は、式（Ｂ２）で表される化合物である。
【0162】
一の態様において、上記中間体は、式（Ｂ２）で表される化合物であり、Ｙ１は水素原子である。
【0163】
一の態様において、上記中間体は、式（Ｂ２）で表される化合物であり、Ｙ１は保護基である。保護基としては、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、２，２，２－トリクロロエトキシカルボニル基、２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、または（２－トリメチルシリル）エタンスルホニル基等が挙げられ、好ましくは、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基である。本態様では、Ｒ１は水素原子である。
【0164】
一の態様において、上記中間体は、式（Ｂ２）で表される化合物の酸塩である。酸塩としては、塩酸塩等が挙げられ、好ましくは、塩酸塩である。本態様では、Ｒ１およびＹ１の少なくとも一方は水素原子である。一の態様において、Ｙ１は水素原子である。
【0165】
（表面処理剤）
上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、表面処理剤として用いることができる。
上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、表面処理剤として用いることができる。
【0166】
本開示の表面処理剤は、良好な紫外線耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、耐ケミカル性、耐加水分解性、滑り性の抑制効果、高い摩擦耐久性、耐熱性、防湿性等を有する表面処理層の形成に寄与し得る。
【0167】
一の態様において、表面処理剤は、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する。
【0168】
一の態様において、表面処理剤は、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、および、該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１つを含有する。ここで、縮合物とは、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の水酸基、および／または、加水分解可能な基を予め公知の方法により部分的に加水分解した水酸基を縮合させて得られる部分（加水分解）縮合物である。
表面処理剤には、必要に応じて、加水分解縮合触媒、例えば、有機錫化合物（ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫など）、有機チタン化合物（テトラｎ－ブチルチタネートなど）、有機酸（酢酸、メタンスルホン酸、フッ素変性カルボン酸など）、無機酸（塩酸、硫酸など）を添加してもよい。これらの中では、特に酢酸、テトラｎ－ブチルチタネート、ジラウリン酸ジブチル錫、フッ素変性カルボン酸などが望ましい。
加水分解縮合触媒の添加量は触媒量であり、通常、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び／又はその部分（加水分解）縮合物１００質量部に対して０．０１～５質量部、特に０．１～１質量部である。
表面処理剤には、必要に応じて、加水分解縮合触媒、例えば、有機錫化合物（ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫など）、有機チタン化合物（テトラｎ－ブチルチタネートなど）、有機酸（酢酸、メタンスルホン酸、フッ素変性カルボン酸など）、無機酸（塩酸、硫酸など）を添加してもよい。これらの中では、特に酢酸、テトラｎ－ブチルチタネート、ジラウリン酸ジブチル錫、フッ素変性カルボン酸などが望ましい。
加水分解縮合触媒の添加量は触媒量であり、通常、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び／又はその部分（加水分解）縮合物１００質量部に対して０．０１～５質量部、特に０．１～１質量部である。
【0169】
別の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む。本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。本態様の組成物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、本態様の組成物では、ＲＦ部分の二次構造がらせん構造をとりやすく、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなるため、硬化層の強度が高くなると考えられる。
【0170】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは、０．７０、より好ましくは０．６０、より好ましくは０．５０、さらに好ましくは０．４０、さらにより好ましくは０．３０、例えば０．２０、具体的には０．１０であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）は、０．００１以上０．７０以下であってもよく、０．００１以上０．６０以下であってもよく、０．００１以上０．５０以下であってもよく、０．００２以上０．４０以下であってもよく、０．００５以上０．３０以下であってもよく、０．０１以上０．２０以下であってもよく、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。
【0171】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは、０．７０、より好ましくは０．６０、より好ましくは０．５０、さらに好ましくは０．４０、さらにより好ましくは０．３０、例えば、０．２０、具体的には０．１０であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）は、０．００１以上０．７０以下であってもよく、０．００１以上０．６０以下であってもよく、０．００１以上０．５０以下であってもよく、０．００２以上０．４０以下であってもよく、０．００５以上０．３０以下であってもよく、０．０１以上０．２０以下であってもよく、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。
【0172】
上記表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
パーフルオロヘキサン、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＣＦ３ＣＨＦＣＨＦＣ２Ｆ５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ６Ｆ１３ＯＣＨ３、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２Ｏ）ｎ１ＣＦ２ＣＦ３［式中、ｍ１およびｎ１は、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍ１またはｎ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍ１およびｎ１の和は１以上である。］、１，1－ジクロロ－２，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－１，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，２－トリクロロ―３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。
パーフルオロヘキサン、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＣＦ３ＣＨＦＣＨＦＣ２Ｆ５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ６Ｆ１３ＯＣＨ３、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２Ｏ）ｎ１ＣＦ２ＣＦ３［式中、ｍ１およびｎ１は、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍ１またはｎ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍ１およびｎ１の和は１以上である。］、１，1－ジクロロ－２，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－１，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，２－トリクロロ―３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。
【0173】
上記溶媒中に含まれる水分含有量は、２０質量ｐｐｍ以下であることが好ましい。上記水分含有量は、カールフィッシャー法を用いて測定することができる。このような水分含有量であることによって、表面処理剤の保存安定性が向上し得る。
【0174】
上記表面処理剤は、さらに、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）を含んでいてもよい。
【0175】
上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（１）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ５－（ＯＣ４Ｆ８）ａ’－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’－（ＯＣＦ２）ｄ’－Ｒｆ６ ・・・（１）
式中、Ｒｆ５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ５およびＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。上記繰り返し単位中に少なくとも１の分岐構造を有する。すなわち、上記繰り返し単位は、少なくとも１のＣＦ３末端（具体的には、－ＣＦ３、－Ｃ２Ｆ５等、より具体的には－ＣＦ３）を有する。分岐構造を有する繰り返し単位としては、－（ＯＣ４Ｆ８）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－；－（ＯＣ３Ｆ６）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－；－（ＯＣ２Ｆ４）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－を挙げることができる。
Ｒｆ５－（ＯＣ４Ｆ８）ａ’－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’－（ＯＣＦ２）ｄ’－Ｒｆ６ ・・・（１）
式中、Ｒｆ５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ５およびＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。上記繰り返し単位中に少なくとも１の分岐構造を有する。すなわち、上記繰り返し単位は、少なくとも１のＣＦ３末端（具体的には、－ＣＦ３、－Ｃ２Ｆ５等、より具体的には－ＣＦ３）を有する。分岐構造を有する繰り返し単位としては、－（ＯＣ４Ｆ８）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－；－（ＯＣ３Ｆ６）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－；－（ＯＣ２Ｆ４）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－を挙げることができる。
【0176】
上記一般式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（１ａ）および（１ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ５－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｂ’’－Ｒｆ６ ・・・（１ａ）
Ｒｆ５－（ＯＣ４Ｆ８）ａ’’－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’’－（ＯＣＦ（ＣＦ３））ｃ’’－（ＯＣＦ２）ｄ’’－Ｒｆ６ ・・・（１ｂ）
これら式中、Ｒｆ５およびＲｆ６は上記の通りであり；式（１ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（１ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。－（ＯＣ４Ｆ８）－、－（ＯＣ３Ｆ６）－は分岐構造を有する。
Ｒｆ５－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｂ’’－Ｒｆ６ ・・・（１ａ）
Ｒｆ５－（ＯＣ４Ｆ８）ａ’’－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’’－（ＯＣＦ（ＣＦ３））ｃ’’－（ＯＣＦ２）ｄ’’－Ｒｆ６ ・・・（１ｂ）
これら式中、Ｒｆ５およびＲｆ６は上記の通りであり；式（１ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（１ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。－（ＯＣ４Ｆ８）－、－（ＯＣ３Ｆ６）－は分岐構造を有する。
【0177】
上記含フッ素オイルは、１，０００～３０，０００の数平均分子量を有していてよい。特に、式（１ａ）で表される化合物の数平均分子量は、２，０００～８，０００であることが好ましい。かかる数平均分子量を有することにより、良好な摩擦耐久性を得ることができる。一の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、３，０００～８，０００である。別の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、８，０００～３０，０００である。
【0178】
上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、例えば０～５００質量部、好ましくは０～１００質量部、より好ましくは１～５０質量部、さらに好ましくは１～５質量部で含まれ得る。
【0179】
上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物および含フッ素オイルの合計量に対して、例えば０～３０質量％、好ましくは０～２０質量％、より好ましくは０～１０質量％含まれ得る。
【0180】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’－Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’－Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、ＲｆがＣ１－１６パーフルオロアルキル基である上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
【0181】
含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【0182】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
【0183】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
【0184】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
【0185】
一の態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物は０．００１～７０モル％、および含フッ素オイルは０．００１～５０モル％含まれることが好ましく、式（Ａ２）で表される化合物は０．０１～６０モル％、および含フッ素オイルは０．０１～４０モル％含まれることがより好ましく、式（Ａ２）で表される化合物は０．１～５０モル％、および含フッ素オイルは０．１～３０モル％含まれることがさらに好ましい。
【0186】
一の態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ１）で表される化合物が０．００１～７０モル％、および含フッ素オイルが０．００１～５０モル％含まれることが好ましく、式（Ａ１）で表される化合物が０．０１～６０モル％、および含フッ素オイルが０．０１～４０モル％含まれることがより好ましく、式（Ａ１）で表される化合物が０．１～５０モル％、および含フッ素オイルが０．１～３０モル％含まれることがさらに好ましい。
【0187】
上記表面処理剤は、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。
【0188】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【0189】
上記表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～５０質量部、好ましくは０～５質量部で含まれ得る。
【0190】
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【0191】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【0192】
触媒は、上記含フッ素シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。
【0193】
上記他の成分としての低級アルコールとしては、炭素数１～６のアルコール化合物が挙げられる。
【0194】
上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。
【0195】
上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。
【0196】
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物しては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、アニリン、ピリジン、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げられる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、またはテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。
【0197】
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
【0198】
一の態様において、上記表面処理剤は、上記他の成分である含フッ素オイル、シリコーンオイル、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物を含まない。
【0199】
一の態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物は、例えば、７０モル％以下含まれていてもよく、６０モル％以下含まれていてもよく、５０モル％以下含まれていてもよく、０．００１モル％以上含まれていてもよく、０．０１モル％以上含まれていてもよく、０．１モル%以上含まれていてもよい。式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物は、例えば、１～７０モル％含まれていてもよく、５～５０モル％含まれていてもよい。
【0200】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、含フッ素オイルは、例えば、０．００１モル％以上含まれていてもよく、０．０１モル％以上含まれていてもよく、１．０モル％以上含まれていてもよく、５０モル％以下含まれていてもよく、４０モル％以下含まれていてもよく、３０モル％以下含まれていてもよく、１０モル％以下含まれていてもよい。式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、含フッ素オイルは、例えば、０．００１～５０モル％含まれていてもよく、０．０１～４０モル％含まれていてもよい。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が０．００１～７０モル％、および含フッ素オイルが０．００１～５０モル％含まれることが好ましく、式（Ａ２）で表される化合物が０．０１～６０モル％、および含フッ素オイルが０．０１～４０モル％含まれることがより好ましく、式（Ａ２）で表される化合物が０．１～５０モル％、および含フッ素オイルが０．１～３０モル％含まれることがさらに好ましい。
本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。さらに、本態様の組成物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、本態様の組成物では、ＲＦ部分の二次構造がらせん構造をとりやすく、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなるため、硬化層の強度が高くなると考えられる。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、含フッ素オイルは、例えば、０．００１モル％以上含まれていてもよく、０．０１モル％以上含まれていてもよく、１．０モル％以上含まれていてもよく、５０モル％以下含まれていてもよく、４０モル％以下含まれていてもよく、３０モル％以下含まれていてもよく、１０モル％以下含まれていてもよい。式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、含フッ素オイルは、例えば、０．００１～５０モル％含まれていてもよく、０．０１～４０モル％含まれていてもよい。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が０．００１～７０モル％、および含フッ素オイルが０．００１～５０モル％含まれることが好ましく、式（Ａ２）で表される化合物が０．０１～６０モル％、および含フッ素オイルが０．０１～４０モル％含まれることがより好ましく、式（Ａ２）で表される化合物が０．１～５０モル％、および含フッ素オイルが０．１～３０モル％含まれることがさらに好ましい。
本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。さらに、本態様の組成物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、本態様の組成物では、ＲＦ部分の二次構造がらせん構造をとりやすく、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなるため、硬化層の強度が高くなると考えられる。
【0201】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、および式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が、０．００１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、０．１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、例えば、１０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよい。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、および式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が、０．００１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、０．１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、例えば、１０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよい。
【0202】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、および式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ１）で表される化合物が、０．００１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、０．１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、１０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、例えば、２０モル％以上５０モル％未満、３０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよい。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、および式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ１）で表される化合物が、０．００１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、０．１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、１０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、例えば、２０モル％以上５０モル％未満、３０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよい。
【0203】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、および式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が、３５モル％以上６５モル％未満含まれていてもよく、４０モル％以上６０モル％未満含まれていてもよい。
本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、および式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が、３５モル％以上６５モル％未満含まれていてもよく、４０モル％以上６０モル％未満含まれていてもよい。
【0204】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含み、上記他の成分である、含フッ素オイルを含まない（例えば、含フッ素オイルの含有量が、表面処理剤１００質量部に対して、１質量部以下であり、より具体的には、０質量部である）。
【0205】
本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用いることができる。
【0206】
本開示の表面処理剤は、例えば、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として用いることができる。
【0207】
本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【0208】
（物品）
以下、本開示の物品について説明する。
以下、本開示の物品について説明する。
【0209】
本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物またはフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤（以下、これらを代表して単に「本開示の表面処理剤」という）より形成された層（表面処理層）とを含む。
【0210】
本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
【0211】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【0212】
基材の形状は特に限定されない。また、本開示の表面処理剤によって形成された層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【0213】
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【0214】
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【0215】
次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。
【0216】
本開示の表面処理剤の層形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
【0217】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
【0218】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
【0219】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【0220】
湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）が特に好ましい。
【0221】
乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【0222】
表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【0223】
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【0224】
上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【0225】
すなわち本開示はさらに、本開示の表面処理剤に由来する層を最外層に有する光学材料にも関する。
【0226】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【0227】
本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
【0228】
また、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる：ウィンドウ、ライトカバー、社外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる：インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。
【0229】
また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
【0230】
上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【0231】
以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。
【実施例0232】
以下、実施例を通じてより具体的に説明するが、本開示はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意である。
【0233】
（実施例１）
ジメチルホルムアミド（１３０ｍＬ）にシアノ酢酸エチル（１１．３ｇ）と炭酸カリウムを加え、室温で撹拌した後、アリルブロミド（２５．４ｍＬ）を滴下した。終夜撹拌後、酢酸エチルを加え、水で洗浄した後、減圧濃縮して化合物１－１を１８．７ｇ得た。
ジメチルホルムアミド（１３０ｍＬ）にシアノ酢酸エチル（１１．３ｇ）と炭酸カリウムを加え、室温で撹拌した後、アリルブロミド（２５．４ｍＬ）を滴下した。終夜撹拌後、酢酸エチルを加え、水で洗浄した後、減圧濃縮して化合物１－１を１８．７ｇ得た。
【0234】
化合物１－１
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.30 (t, 3H), 2.54 (dd, 2H), 2.64 (dd, 2H), 4.25 (q, 2H), 5.25-5.22 (m, 4H), 5.86-5.75 (m, 2H).
【化15】
【0235】
ジメチルスルホキシド（１５０ｍＬ）に化合物１－１（１８．７ｇ）と塩化ナトリウム２３．４ｇとを加え、１８０℃で終夜撹拌した。その後、酢酸エチルを加え、水で洗浄した後、減圧濃縮して化合物１－２を８．２２ｇ得た。
【0236】
化合物１－２
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 2.36 (tt, 4H), 2.66 (quintet, 1H), 5.17-5.23 (m, 4H), 5.76-5.86 (m, 2H).
【化16】
【0237】
テトラヒドロフラン（５ｍＬ）に化合物１－２（１．０ｇ）を加え－７８℃で撹拌した後、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラン／ヘキサン溶液（リチウムジイソプロピルアミドを１．０ｍｏｌ／Ｌ含有、９．９ｍＬ）を滴下し、１時間撹拌した。１－ブロモ－２－（２－メトキシエトキシ）エタン（３．０２ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した後、塩酸水溶液と酢酸エチルを加え、水相を除去した。有機相を水で洗浄し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物１－３を１．４３ｇ得た。
【0238】
化合物１－３
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.91 (t, 2H), 2.37 (d, 4H), 3.41 (s, 3H), 3.52-3.78 (m, 6H), 5.13-5.29 (m, 4H), 5.75-5.94 (m, 2H).
【化17】
【0239】
テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）にリチウムアルミニウムヒドリド（０．３７ｇ）を加え、０℃で撹拌し、化合物１－３（１．４３ｇ）を滴下した後、室温で終夜撹拌した。水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物を濾別した後、減圧濃縮することで、化合物１－４を１．１０ｇ得た。
【0240】
化合物１－４
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.20 (brs, 2H), 1.59 (t, 2H), 2.04 (d, 4H), 2.50-2.59 (m, 2H), 3.40 (s, 3H), 3.60-3.65 (m, 6H), 5.01-5.18 (m, 4H), 5.72-5.92 (m, 2H).
【化18】
【0241】
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３（ｍ＝ｎ＝２５、３．０ｇ）にメタキシレンヘキサフロライド（ｍＸＨＦ、３．０ｇ）と化合物１－４（０．３１ｇ）とを加え、室温で終夜撹拌した。その後、パーフルオロヘキサンを加え、アセトンで洗浄した後、減圧濃縮することで、化合物１－５を２．６３ｇ得た。
【0242】
化合物１－５
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 1.97 (m, 2H), 2.20-2.50 (m, 4H), 3.61-3.72 (m, 5H), 3.80-4.03 (m, 6H), 5.40-5.52 (m, 4H), 6.09-6.43 (m, 2H).
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.4, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.4, -57.7, -56.1, -55.2, -53.5, -51.9.
【化19】
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.4, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.4, -57.7, -56.1, -55.2, -53.5, -51.9.
【0243】
化合物１－５（１．０ｇ）にｍＸＨＦ（１．０ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、１９．５ｍｇ）、およびトリメトキシシラン（０．１３ｇ）を加え、室温で２時間撹拌した後、減圧濃縮することで、化合物１－６（０．８５ｇ）を得た。
【0244】
化合物１－６
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.85-1.09 (m, 4H), 1.60-2.05 (m, 10H), 3.57-3.63 (m, 2H), 3.65 (s, 3H), 3.81-4.06 (m, 24H)
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.4, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.4, -57.7, -56.1, -55.2, -53.5, -51.9.
【化20】
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.4, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.4, -57.7, -56.1, -55.2, -53.5, -51.9.
【0245】
（実施例２）
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯＯＨ（ｍ＝３６、ｎ＝２１、２０．９ｇ）にｍＸＨＦ（２０．０ｇ）と塩化チオニル（１．５ｍL）とを加え、９０℃で３時間撹拌した後、減圧濃縮した。得られた溶液に、ｍＸＨＦ（２０．０ｇ）および化合物１－４（２．０ｇ）を加え、室温で終夜撹拌した。得られた溶液に、パーフルオロヘキサンを加え、アセトンで洗浄した後、減圧濃縮することで、化合物２－１を１８．９ｇ得た。
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯＯＨ（ｍ＝３６、ｎ＝２１、２０．９ｇ）にｍＸＨＦ（２０．０ｇ）と塩化チオニル（１．５ｍL）とを加え、９０℃で３時間撹拌した後、減圧濃縮した。得られた溶液に、ｍＸＨＦ（２０．０ｇ）および化合物１－４（２．０ｇ）を加え、室温で終夜撹拌した。得られた溶液に、パーフルオロヘキサンを加え、アセトンで洗浄した後、減圧濃縮することで、化合物２－１を１８．９ｇ得た。
【0246】
化合物２－１
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 1.87 (m, 2H), 2.20-2.38 (m, 4H), 3.59-3.62 (m, 5H), 3.80-3.86 (m, 6H), 5.31-5.39 (m, 4H), 6.06-6.16 (m, 2H).
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.3, -85.1, -83.6, -83.4, -80.0, -78.4, -57.7, -56.06, -55.2, -53.5, -51.9.
【化21】
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.3, -85.1, -83.6, -83.4, -80.0, -78.4, -57.7, -56.06, -55.2, -53.5, -51.9.
【0247】
化合物２－１（１６．０ｇ）にｍＸＨＦ（１６．０ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．２ｇ）、トリアセトキシメチルシラン、およびトリメクロロシラン（１．７ｇ）を加え、６０℃で３時間撹拌した後、減圧濃縮した。その後、メタノール（０．３ｇ）、オルトギ酸トリメチル（６．５ｇ）を加え、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮し、化合物２－２（１４．５ｇ）を得た。
【0248】
化合物２－２
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.90-0.98 (m, 4H), 1.58-1.92 (m, 10H), 3.56-3.60 (m, 2H), 3.65 (s, 3H), 3.82-2.98 (m, 24H)
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.3, -85.1, -83.6, -83.4, -80.0, -78.4, -57.7, -56.06, -55.2, -53.5, -51.9.
【化22】
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.3, -85.1, -83.6, -83.4, -80.0, -78.4, -57.7, -56.06, -55.2, -53.5, -51.9.
【0249】
（実施例３）
テトラヒドロフラン（２４ｍＬ）に化合物１－２（２．０ｇ）を加え－７８℃で撹拌した後、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラン／ヘキサン溶液（リチウムジイソプロピルアミドを１．０ｍｏｌ／Ｌ含有、９．９ｍＬ）を滴下し、１時間撹拌した。１－ブロモ－２－メトキシブタン（５．５１ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した。得られた溶液に塩酸水溶液と酢酸エチルとを加え、水相を除去した。有機相を水で洗浄し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物３－１を０．８ｇ得た。
テトラヒドロフラン（２４ｍＬ）に化合物１－２（２．０ｇ）を加え－７８℃で撹拌した後、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラン／ヘキサン溶液（リチウムジイソプロピルアミドを１．０ｍｏｌ／Ｌ含有、９．９ｍＬ）を滴下し、１時間撹拌した。１－ブロモ－２－メトキシブタン（５．５１ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した。得られた溶液に塩酸水溶液と酢酸エチルとを加え、水相を除去した。有機相を水で洗浄し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物３－１を０．８ｇ得た。
【0250】
化合物３－１
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.56 (m, 6H), 2.32-34 (d, 4H), 3.32 (s, 3 H), 3.38 (t, 2H), 5.16-5.24 (m, 4H), 5.77-5.88 (m, 2H).
【化23】
【0251】
テトラヒドロフラン（８ｍＬ）にリチウムアルミニウムヒドリド（０．２２ｇ）を加え、０℃で撹拌し、化合物３－１（０．８ｇ）を滴下した後、室温で終夜撹拌した。得られた溶液に水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物を濾別した後、減圧濃縮することで、化合物３－２を０．５ｇ得た。
【0252】
化合物３－２
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.20-1.3 (brs, 6H), 1.55 (t, 2H), 2.00 (d, 4H), 2.48 (m, 2H), 3.42 (s, 3H), 3.37 (t, 2H), 5.04-5.07 (m, 4H), 5.74-5.85 (m, 2H).
【化24】
【0253】
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３（ｍ＝３６、ｎ＝２１、４．０ｇ）にｍＸＨＦ（４．０ｇ）と化合物３－２（０．５ｇ）とを加え、室温で終夜撹拌した。得られた溶液にパーフルオロヘキサンを加え、アセトンで洗浄した後、減圧濃縮することで、化合物３－３を４．０ｇ得た。
【0254】
化合物３－３
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 1.61-1.90 (m, 6H), 2.34 (d, 4H), 3.59-3.62 (m, 5H), 3.72 (t, 2H), 5.40-5.45 (m, 4H), 6.13-6.24 (m, 2H).
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.6, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.3, -57.7, -56.0 , -55.2, -53.5, -51.9.
【化25】
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.6, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.3, -57.7, -56.0 , -55.2, -53.5, -51.9.
【0255】
化合物３－３（４．０ｇ）にｍＸＨＦ（４．０ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、１９．５ｍｇ）、トリアセトキシメチルシラン、トリメクロロシラン（０．５ｇ）を加え、６０℃で３時間撹拌した後、減圧濃縮した。得られた溶液にｍＸＨＦ（４．０ｇ）とメタノール（０．１ｇ）、オルトギ酸トリメチル（１．７ｇ）を加え、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮し、化合物３－４（３．６ｇ）を得た。
【0256】
化合物３－４
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.95-0.99 (m, 4H), 1. 49-1.85 (m, 14H), 3.56-3.61 (m, 5H), 3.68 (t, 2H), 3.89-4.10 (m, 18H)
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.6, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.3, -57.7, -56.0 , -55.2, -53.5, -51.9.
【化26】
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.6, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.3, -57.7, -56.0 , -55.2, -53.5, -51.9.
【0257】
（実施例４）
テトラヒドロフラン（１００ｍＬ）にリチウムアルミニウムヒドリド（１５．４ｇ）を加え、０℃で撹拌し、化合物１－１（１９．６ｇ）を滴下した後、室温で終夜撹拌した。得られた溶液に水、および水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物を濾別した後、減圧濃縮することで、化合物４－１を１７．５ｇ得た。
テトラヒドロフラン（１００ｍＬ）にリチウムアルミニウムヒドリド（１５．４ｇ）を加え、０℃で撹拌し、化合物１－１（１９．６ｇ）を滴下した後、室温で終夜撹拌した。得られた溶液に水、および水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物を濾別した後、減圧濃縮することで、化合物４－１を１７．５ｇ得た。
【0258】
化合物４－１
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 2.07-2.09 (m, 4H), 2.76 (s, 2H), 3.56 (s, 2H), 5.02-5.12 (m, 4H), 5.74-5.87 (m, 2H).
【化27】
【0259】
ジクロロメタン（６０ｍＬ）に化合物４－１（１５．３ｇ）およびトリエチルアミン（８．１ｇ）を加え、０℃で撹拌し、二炭酸ｔ－ブチル（１７．４ｇ）を滴下した後、室温で終夜撹拌した。得られた溶液に水を加え、ジクロロメタンで抽出した後、溶媒を留去しカラム精製を行うことで、化合物４－２を１２．９ｇ得た。なお、以下において「Ｂｏｃ」はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を意味する。
【0260】
化合物４－２
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.44 (s, 9H), 1.89-2.08 (m, 4H), 3.01 (d, 2H), 3.27 (d, 2H), 4.04 (t, 1H), 5.08-5.18 (m, 4H), 5.77-5.87 (m, 2H).
【化28】
【0261】
テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に化合物４－２（１．２８ｇ）および水素化ナトリウム（６０％、０．２４ｇ）を加え、０℃で３０分撹拌した。続いてヨードメタン（０．７１ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した。得られた溶液に水を加え、ジクロロメタンで抽出した後、溶媒を留去しカラム精製を行うことで、化合物４－３を０．５５ｇ得た。
【0262】
化合物４－３
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.44 (s, 9H), 2.05 (d, 4H), 3.12 (d, 2H), 3.18 (s, 2H), 3.32 (s, 3H), 5.05-5.09 (m, 4H), 5.75-5.86 (m, 2H).
【化29】
【0263】
酢酸エチル（５ｍＬ）に化合物４－３（０．２７ｇ）および塩化水素の酢酸エチル溶液（１．５ｍＬ）を加え、室温で終夜撹拌した。得られた溶液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてｐＨ７とした後に、酢酸エチルで抽出し、溶媒を留去して化合物４－４を０．１１ｇ得た。
【0264】
化合物４－４
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.42 (brs, 2H), 2.04 (d, 4H), 2.59 (s, 2H), 3.17 (s, 2H), 3.31 (s, 3H), 5.05-5.09 (m, 4H), 5.76-5.86 (m, 2H).
【化30】
【0265】
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３（ｍ＝３６、ｎ＝２１、１．３ｇ）にｍＸＨＦ（１．３ｇ）と化合物４－４（０．０５ｇ）を加え、室温で終夜撹拌した。得られた溶液にパーフルオロヘキサンを加え、アセトンおよび塩酸水溶液で洗浄した後、減圧濃縮することで、化合物４－５を１．３０ｇ得た。
【0266】
化合物４－５
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 2.25 (m, 4H), 3.43-3.48 (m, 7H), 5.18-5.23 (m, 4H), 5.88-5.99 (m, 2H).
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.8, -85.3, -85.1, -83.7, -83.5, -80.2, -78.4, -57.7, -56.0, -55.2, -53.5, -51.9.
【化31】
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.8, -85.3, -85.1, -83.7, -83.5, -80.2, -78.4, -57.7, -56.0, -55.2, -53.5, -51.9.
【0267】
化合物４－５（１．３０ｇ）にｍＸＨＦ（１．３ｇ）とカールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、２７μＬ）、アニリン（７μＬ）、およびトリメトキシシラン（０．１５ｇ）とを加え、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することで、化合物４－６（１．２３ｇ）を得た。
【0268】
化合物４－６
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.71-0.75 (m, 4H), 1.48-1.59 (m, 8H), 3.37-3.46 (m, 7H), 3.70-3.76 (m, 18H).
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.8, -85.3, -85.1, -83.7, -83.5, -80.1, -78.2, -57.7, -56.0, -55.2, -53.5, -51.9.
【化32】
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.8, -85.3, -85.1, -83.7, -83.5, -80.1, -78.2, -57.7, -56.0, -55.2, -53.5, -51.9.
【0269】
（合成例１）
テトラヒドロフラン（３．５ｇ）に化合物１－２（０．２５ｇ）を加え－７８℃で撹拌した後、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラン／ヘキサン溶液（リチウムジイソプロピルアミドを１．０ｍｏｌ／Ｌ含有、０．２５ｇ）を滴下し、１時間撹拌した。その後、ヘキサエチレングリコール２－ブロモエチルメチルエーテル（０．９８ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した後、塩酸水溶液と酢酸エチルとを加え、水相を除去した。有機相を水で洗浄し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物１Ａ－１を０．２８ｇ得た。
テトラヒドロフラン（３．５ｇ）に化合物１－２（０．２５ｇ）を加え－７８℃で撹拌した後、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラン／ヘキサン溶液（リチウムジイソプロピルアミドを１．０ｍｏｌ／Ｌ含有、０．２５ｇ）を滴下し、１時間撹拌した。その後、ヘキサエチレングリコール２－ブロモエチルメチルエーテル（０．９８ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した後、塩酸水溶液と酢酸エチルとを加え、水相を除去した。有機相を水で洗浄し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物１Ａ－１を０．２８ｇ得た。
【0270】
化合物１Ａ－１
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.87 (t, 2H), 2.48 (d, 4H), 3.40 (s, 3H),3.55-3.69 (m, 26H), 5.05-5.40 (m, 4H), 5.79-5.90 (m, 2H).
【化33】
【0271】
テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）にリチウムアルミニウムヒドリド（３６ｍｇ）を加え、０℃で撹拌し、化合物１Ａ－１（０．２８ｇ）を滴下した後、室温で終夜撹拌した。その後、水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物を濾別した後、減圧濃縮することで、化合物１Ａ－２を０．２４ｇ得た。
【0272】
化合物１Ａ―２
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.43 (s, 2H), 1.56 (t, 2H), 2.00 (d, 4H), 2.50 (s, 2H) 3.37 (s, 3H),3.52-3.80 (m, 26H), 5.05-5.23 (m, 4H), 5.79-5.90 (m, 2H).
【化34】
【0273】
（合成例２）
テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に化合物１－２（１．２１ｇ）を加え－７８℃で撹拌した後、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラン／ヘキサン溶液（リチウムジイソプロピルアミドを１．０ｍｏｌ／Ｌ含有、１０ｍＬ）を滴下し、１時間撹拌した。その後、トリエチレングリコール２－ブロモエチルメチルエーテル（２．８４ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した後、塩酸水溶液と酢酸エチルとを加え、水相を除去した。有機相を水で洗浄し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物２Ａ－１を２．３４ｇ得た。
テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に化合物１－２（１．２１ｇ）を加え－７８℃で撹拌した後、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラン／ヘキサン溶液（リチウムジイソプロピルアミドを１．０ｍｏｌ／Ｌ含有、１０ｍＬ）を滴下し、１時間撹拌した。その後、トリエチレングリコール２－ブロモエチルメチルエーテル（２．８４ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した後、塩酸水溶液と酢酸エチルとを加え、水相を除去した。有機相を水で洗浄し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物２Ａ－１を２．３４ｇ得た。
【0274】
化合物２Ａ―１
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.87 (t, 2H), 2.38 (d, 4H), 3.38 (s, 3H), 3.54-3.70 (m, 14H), 5.17-5.25 (m, 4H), 5.79-5.89 (m, 2H).
【化35】
【0275】
テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）にリチウムアルミニウムヒドリド（０．５７ｇ）を加え、０℃で撹拌し、化合物２Ａ―１（２．３４ｇ）を滴下した後、室温で終夜撹拌した。その後、水、および水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物を濾別した後、減圧濃縮することで、化合物２Ａ－２を２．０ｇ得た。
【0276】
化合物２Ａ―２
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.28 (t, 2H), 1.75 (d, 4H), 2.25 (s, 2H), 2.31 (brs, 2H), 3.06 (s, 3H), 3.22-3.34 (m, 14H), 4.72-4.79 (m, 4H), 5.45-5.55 (m, 2H).
【化36】
【0277】
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３（ｍ＝ｎ＝２５、２．７ｇ）にｍＸＨＦ（２．７ｇ）と化合物２Ａ―２（０．２８ｇ）とを加え、室温で２時間撹拌した。その後、パーフルオロヘキサンを加え、アセトンおよび塩酸水溶液で洗浄した後、減圧濃縮することで、化合物２Ａ―３を２．７２ｇ得た。
【0278】
化合物２Ａ―３
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 1.55 (t, 2H), 1.90-2.08 (m, 4H), 3.27 (s, 3H), 3.33 (d, 2H), 3.45-3.48 (m, 2H), 3.53-3.60 (m, 12H), 5.00-5.04 (m, 4H), 5.76-5.87 (m, 2H).
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.3, -85.1, -83.7, -83.5, -79.9, -78.2, -57.7, -56.1, -55.2, -53.5, -51.9.
【化37】
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.3, -85.1, -83.7, -83.5, -79.9, -78.2, -57.7, -56.1, -55.2, -53.5, -51.9.
【0279】
（合成例３）
テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に化合物１－２（１．２１ｇ）を加え－７８℃で撹拌した後、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラン／ヘキサン溶液（リチウムジイソプロピルアミドを１．０ｍｏｌ／Ｌ含有、１０ｍＬ）を滴下し、１時間撹拌した。その後、２－ブロモエチルメチルエーテル（１．４６ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した後、塩酸水溶液と酢酸エチルを加え、水相を除去した。有機相を水で洗浄し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物３Ａ－１を１．４７ｇ得た。
テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に化合物１－２（１．２１ｇ）を加え－７８℃で撹拌した後、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラン／ヘキサン溶液（リチウムジイソプロピルアミドを１．０ｍｏｌ／Ｌ含有、１０ｍＬ）を滴下し、１時間撹拌した。その後、２－ブロモエチルメチルエーテル（１．４６ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した後、塩酸水溶液と酢酸エチルを加え、水相を除去した。有機相を水で洗浄し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物３Ａ－１を１．４７ｇ得た。
【0280】
化合物３Ａ―１
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.85 (t, 2H), 2.38 (d, 4H), 3.35 (s, 3H), 3.59 (t, 2H), 5.17-5.25 (m, 4H), 5.79-5.90 (m, 2H).
【化38】
【0281】
テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）にリチウムアルミニウムヒドリド（０．６２ｇ）を加え、０℃で撹拌し、化合物３Ａ－１（１．４７ｇ）を滴下した後、室温で終夜撹拌した。水、および水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物を濾別した後、減圧濃縮することで、化合物３Ａ－２を１．２２ｇ得た。
【0282】
化合物３Ａ－２
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.14 (brs, 2H), 1.56 (t, 2H), 2.03 (d, 4H), 2.52 (s, 2H), 3.32 (s, 3H), 3.43 (t, 2H), 5.05-5.09 (m, 4H), 5.77-5.86 (m, 2H).
【化39】
【0283】
（合成例４）
テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に化合物１－２（１．２１ｇ）を加え－７８℃で撹拌した後、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラン／ヘキサン溶液（リチウムジイソプロピルアミドを１．０ｍｏｌ／ｄＬ含有、１０ｍＬ）を滴下し、１時間撹拌した。その後、ジエチレングリコール２－ブロモエチルメチルエーテル（２．３８ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した後、塩酸水溶液と酢酸エチルとを加え、水相を除去した。有機相を水で洗浄し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物４Ａ－１を１．９５ｇ得た。
テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に化合物１－２（１．２１ｇ）を加え－７８℃で撹拌した後、リチウムジイソプロピルアミドのテトラヒドロフラン／ヘキサン溶液（リチウムジイソプロピルアミドを１．０ｍｏｌ／ｄＬ含有、１０ｍＬ）を滴下し、１時間撹拌した。その後、ジエチレングリコール２－ブロモエチルメチルエーテル（２．３８ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した後、塩酸水溶液と酢酸エチルとを加え、水相を除去した。有機相を水で洗浄し、減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物４Ａ－１を１．９５ｇ得た。
【0284】
化合物４Ａ－１
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.87 (t, 2H), 2.38 (d, 4H), 3.38 (s, 3H), 3.54-3.70 (m, 10H), 5.17-5.25 (m, 4H), 5.79-5.89 (m, 2H).
【化40】
【0285】
テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）にリチウムアルミニウムヒドリド（０．５５ｇ）を加え、０℃で撹拌し、化合物４Ａ－１（１．９５ｇ）を滴下した後、室温で終夜撹拌した。得られた溶液に水、および水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物を濾別した後、減圧濃縮することで、化合物４Ａ－２を１．６４ｇ得た。
【0286】
化合物４Ａ－２
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 1.34 (t, 2H), 1.80 (d, 4H), 1.97 (brs, 2H), 2.30 (s, 2H), 3.13 (s, 3H), 3.28-3.41 (m, 10H), 4.79-4.85 (m, 4H), 5.52-5.62 (m, 2H).
【化41】
【0287】
（合成例５）
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３（ｍ＝３６、ｎ＝２１、４．０ｇ）にｍＸＨＦ（４．０ｇ）と化合物４－１（０．１７ｇ）とを加え、室温で終夜撹拌した。得られた溶液にパーフルオロヘキサンを加え、アセトンおよび塩酸水溶液で洗浄した後、減圧濃縮することで、化合物５Ａ－１を４．０６ｇ得た。
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３（ｍ＝３６、ｎ＝２１、４．０ｇ）にｍＸＨＦ（４．０ｇ）と化合物４－１（０．１７ｇ）とを加え、室温で終夜撹拌した。得られた溶液にパーフルオロヘキサンを加え、アセトンおよび塩酸水溶液で洗浄した後、減圧濃縮することで、化合物５Ａ－１を４．０６ｇ得た。
【0288】
化合物５Ａ－１
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 1.82-1.98 (m, 4H), 3.18 (d, 2H), 3.32-3.33 (m, 2H), 3.42 (brs, 1H), 4.95 (d, 4H), 5.61-5.71 (m, 2H).
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.8, -85.3, -85.1, -83.7, -83.5, -80.0, -78.3, -57.7, -56.0, -55.2, -53.5, -51.9.
【化42】
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.8, -85.3, -85.1, -83.7, -83.5, -80.0, -78.3, -57.7, -56.0, -55.2, -53.5, -51.9.
【0289】
化合物５Ａ－１（１．９ｇ）にＡＧＣ株式会社製のアサヒクリンＡＫ２２５（３．５ｍＬ）、ジイソプロピルエチルアミン（０．２２ｇ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（０．０１ｇ）を加えた。溶液を０℃に冷却した後、クロロメチルメチルエーテル（０．０８ｇ）を加え、４０℃で終夜撹拌した。得られた溶液にパーフルオロヘキサンを加え、水洗した後、減圧濃縮することで、化合物５Ａ－２を１．９０ｇ得た。
【0290】
化合物５Ａ－２
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 1.93-1.94 (m, 4H), 3.23-3.24 (m, 5H), 3.33 (s, 2H), 4.47 (s, 2H), 4.90-4.94 (m, 4H), 5.57-5.68 (m, 2H).
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.8, -85.3, -85.1, -83.7, -83.5, -80.2, -78.4, -57.7, -56.0, -55.2, -53.5, -51.9.
【化43】
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.8, -85.3, -85.1, -83.7, -83.5, -80.2, -78.4, -57.7, -56.0, -55.2, -53.5, -51.9.
【0291】
（比較例１）
ＷＯ２０１７／２１２８５０の実施例１に記載の方法に従って、化合物５－１を得た（ｎ：ｍ＝５３：４７、ｎ＋ｍ＝４３）。
ＷＯ２０１７／２１２８５０の実施例１に記載の方法に従って、化合物５－１を得た（ｎ：ｍ＝５３：４７、ｎ＋ｍ＝４３）。
【0292】
化合物５－１
【化44】
【0293】
＜表面処理層の形成＞
実施例１～４、比較例１で得られたフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、濃度０．０６質量％となるようにＮｏｖｅｃ ７２００（３Ｍ社製、エチルパーフルオロブチルエーテル）で希釈し、それぞれ表面処理剤を調製した。その後、表面を大気圧プラズマで処理した化学強化ガラス（コーニング社製 Ｇｏｒｉｌｌａ ３）上にスプレー塗布装置を用いて上記で調製した表面処理剤を塗布した。塗布量は表面処理剤６０ｇ／ｍ２とした。続いて、表面処理剤が塗布された基材を大気圧下、１４０℃で３０分間加熱処理した。
実施例１～４、比較例１で得られたフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、濃度０．０６質量％となるようにＮｏｖｅｃ ７２００（３Ｍ社製、エチルパーフルオロブチルエーテル）で希釈し、それぞれ表面処理剤を調製した。その後、表面を大気圧プラズマで処理した化学強化ガラス（コーニング社製 Ｇｏｒｉｌｌａ ３）上にスプレー塗布装置を用いて上記で調製した表面処理剤を塗布した。塗布量は表面処理剤６０ｇ／ｍ２とした。続いて、表面処理剤が塗布された基材を大気圧下、１４０℃で３０分間加熱処理した。
【0294】
＜水の静的接触角の測定方法＞
静的接触角の測定は、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。具体的には、測定対象の表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより静的接触角を測定した。水の静的接触角は、基材の表面処理層の異なる５点において測定し、その平均値を算出した値を用いた。
静的接触角の測定は、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。具体的には、測定対象の表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより静的接触角を測定した。水の静的接触角は、基材の表面処理層の異なる５点において測定し、その平均値を算出した値を用いた。
【0295】
＜消しゴム耐久性評価＞
（初期評価）
初期評価（消しゴム摩擦回数０回）として、表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、水の静的接触角を測定した。
（消しゴム耐久性試験後の評価） 形成された表面処理層に対して、ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で往復回数２５００回毎に水の静的接触角を測定し、５，０００回まで測定した。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。
消しゴム：Ｒａｂｅｒ Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
接地面積：６ｍｍφ
移動距離（片道）：４０ｍｍ
移動速度：３，６００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ
（初期評価）
初期評価（消しゴム摩擦回数０回）として、表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、水の静的接触角を測定した。
（消しゴム耐久性試験後の評価） 形成された表面処理層に対して、ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で往復回数２５００回毎に水の静的接触角を測定し、５，０００回まで測定した。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。
消しゴム：Ｒａｂｅｒ Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
接地面積：６ｍｍφ
移動距離（片道）：４０ｍｍ
移動速度：３，６００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ
【0296】
結果を表１に、摩擦回数０回の接触角（初期接触角）に対する接触角の測定値の比率を表２に、それぞれ示す。
【0297】
【表1】
【0298】
【表2】
【産業上の利用可能性】
【0299】
本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、種々多様な基材、特に摩擦耐久性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。
【手続補正書】
【提出日】2022-07-21
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（Ａ１）または（Ａ２）：
で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、独立して、０または１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
ただし、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０価の有機基であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
で表される基であり；
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｌ１は１である。］
【化1】
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、独立して、０または１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
ただし、－Ｘ１－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１－Ｘ２－で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０価の有機基であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化2】
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｌ１は１である。］
【請求項2】
αは、１であり、
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０）ｐ４－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４は、１または２である、
請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０）ｐ４－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４は、１または２である、
請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項3】
αは、１であり、Ｘ１は、単結合である、請求項１または２に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項4】
βおよびγは、１であり、
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０’）ｐ４’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’は、１または２である、
請求項１～３のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または、下記式：
－（Ｒ８０’）ｐ４’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’は、１または２である、
請求項１～３のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項5】
βおよびγは、１であり、
Ｘ２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基である、請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｘ２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基である、請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項6】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、
－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４、または
－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－１０アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項１～５のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４、または
－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－１０アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項１～５のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項7】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項8】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項9】
Ｒ５４は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である、請求項６～８のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項10】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
【請求項11】
請求項１～１０のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
【請求項12】
前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）で表される化合物、および、式（Ａ２）で表される化合物である、請求項１１に記載の表面処理剤。
【請求項13】
請求項１～１０のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、および、該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１つを含有する、表面処理剤。
【請求項14】
含フッ素オイルをさらに含有する、請求項１１～１３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項15】
前記含フッ素オイルは、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物および前記含フッ素オイルの合計量に対して、３０質量％以下含まれる、請求項１４に記載の表面処理剤。
【請求項16】
シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１１～１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項17】
さらに溶媒を含有する、請求項１６に記載の表面処理剤。
【請求項18】
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１１～１７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項19】
請求項１１～１８のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
【請求項20】
基材と、該基材の表面に、請求項１～１０のいずれか１項に記載の化合物または請求項１１～１８のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項21】
前記物品が光学部材である、請求項２０に記載の物品。
【請求項22】
前記物品がディスプレイである、請求項２０または２１に記載の物品。
【請求項23】
下記式（Ｂ１）：
で表される化合物。
［式中：
βは、１～９の整数であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
Ｘ２’は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
【化3】
［式中：
βは、１～９の整数であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
Ｘ２’は、単結合、または、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
【請求項24】
βは、１であり、
Ｘ２’は、下記式：
－（Ｒ８０”）ｐ４”－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０”は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４”は、１または２である、
請求項２３に記載の化合物。
Ｘ２’は、下記式：
－（Ｒ８０”）ｐ４”－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０”は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４”は、１または２である、
請求項２３に記載の化合物。
【請求項25】
下記式（Ｂ２）：
で表される、化合物またはその酸塩。
［式中：
Ｙ１は、水素原子、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、２，２，２－トリクロロエトキシカルボニル基、２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、または（２－トリメチルシリル）エタンスルホニル基であり；
Ｒ１は、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
ただし、Ｙ１およびＲ１の少なくとも一方は水素原子であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
で表される基であり；
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ｂ２）において、少なくとも１つのｌ１は１であり；
βは、１～９の整数であり；
Ｘ２”は、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
【化4】
［式中：
Ｙ１は、水素原子、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、２，２，２－トリクロロエトキシカルボニル基、２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、または（２－トリメチルシリル）エタンスルホニル基であり；
Ｒ１は、水素原子、Ｃ１－４アルキル基、－Ｒ２、または－ＲＳｉであり；
ただし、Ｙ１およびＲ１の少なくとも一方は水素原子であり；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２－Ｒ５１で表され；
Ｒ５１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン基を有する１価の有機基であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化5】
Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ただし、式（Ｂ２）において、少なくとも１つのｌ１は１であり；
βは、１～９の整数であり；
Ｘ２”は、２～１０価の有機基であり；
Ｘ３’は、それぞれ独立して、Ｃ１－２アルキレン基である。］
【請求項26】
βは、１であり、
Ｘ２”は、下記式：
－（Ｒ８０’’’）ｐ４’’’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’’’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’’’は、１または２である、
請求項２５に記載の化合物。
Ｘ２”は、下記式：
－（Ｒ８０’’’）ｐ４’’’－
で表される２価の有機基であり、
Ｒ８０’’’は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－４アルキレン基、またはフェニレン基を表し、
ｐ４’’’は、１または２である、
請求項２５に記載の化合物。
【請求項27】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４または－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項２５または２６に記載の化合物。
Ｒ５２は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、それぞれ独立して、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環構造を有する、
請求項２５または２６に記載の化合物。
【請求項28】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－（Ｒ５３－Ｏ）ｎ４－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、請求項２７に記載の化合物。
Ｒ５２は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
ｎ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、請求項２７に記載の化合物。
【請求項29】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５２－Ｏ－Ｒ５４で表され；
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、請求項２７に記載の化合物。
Ｒ５２は、Ｃ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５４は、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である、請求項２７に記載の化合物。
【請求項30】
Ｒ５４は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基である、請求項２７～２９のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項31】
Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ５５－Ｒ５６で表され；
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環である、請求項２７に記載の化合物。
Ｒ５５は、単結合、またはＣ１－４アルキレン基であり；
Ｒ５６は、環構造中に少なくとも１つの酸素原子を含む３～２０員環である、請求項２７に記載の化合物。