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特開2022-164641板状のガラスまたはガラスセラミック要素、ならびにその製造方法およびその使用
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022164641
(43)【公開日】2022-10-27
(54)【発明の名称】板状のガラスまたはガラスセラミック要素、ならびにその製造方法およびその使用
(51)【国際特許分類】
C03C 17/36 20060101AFI20221020BHJP
C03C 17/09 20060101ALI20221020BHJP
C03C 17/245 20060101ALI20221020BHJP
F24C 15/10 20060101ALI20221020BHJP
H05B 6/12 20060101ALI20221020BHJP
【ＦＩ】
C03C17/36
C03C17/09
C03C17/245 A
F24C15/10 B
H05B6/12 305
【審査請求】未請求
【請求項の数】17
【出願形態】ＯＬ
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2022067738
(22)【出願日】2022-04-15
(31)【優先権主張番号】10 2021 109 572.7
(32)【優先日】2021-04-16
(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE
(71)【出願人】
【識別番号】504299782
【氏名又は名称】ショット アクチエンゲゼルシャフト
【氏名又は名称原語表記】ＳＣＨＯＴＴ ＡＧ
【住所又は居所原語表記】Ｈａｔｔｅｎｂｅｒｇｓｔｒ． １０， ５５１２２ Ｍａｉｎｚ， Ｇｅｒｍａｎｙ
(74)【代理人】
【識別番号】100114890
【弁理士】
【氏名又は名称】アインゼル・フェリックス＝ラインハルト
(74)【代理人】
【識別番号】100098501
【弁理士】
【氏名又は名称】森田 拓
(74)【代理人】
【識別番号】100116403
【弁理士】
【氏名又は名称】前川 純一
(74)【代理人】
【識別番号】100134315
【弁理士】
【氏名又は名称】永島 秀郎
(74)【代理人】
【識別番号】100162880
【弁理士】
【氏名又は名称】上島 類
(72)【発明者】
【氏名】クリスティアン ヘン
(72)【発明者】
【氏名】アシッシュ レプチャ
(72)【発明者】
【氏名】アンドレアス ハーン
(72)【発明者】
【氏名】エラ ルール
(72)【発明者】
【氏名】クン チェン
【テーマコード（参考）】
3K151
4G059
【Ｆターム（参考）】
3K151BA62
4G059AA01
4G059AC08
4G059AC16
4G059AC19
4G059DA05
4G059DB02
4G059EA05
4G059EA12
4G059EB04
4G059GA01
4G059GA02
4G059GA04
4G059GA14
(57)【要約】 （修正有）
【課題】板状のガラスまたはガラスセラミック要素、特に家庭用電化製品および／または加熱器具に使用可能なガラスまたはガラスセラミック要素、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】板状のガラスまたはガラスセラミック要素１は、板状のガラスまたはガラスセラミック基材１０と、前記ガラスまたはガラスセラミック基材の少なくとも１つの主面１１，１２上に少なくとも部分的に配置されたコーティング２とを含む。前記コーティングは、金属成分と半金属成分とを含み、前記ガラスまたはガラスセラミック基材は、透明に形成されており、前記コーティングは、１ＭΩ超の表面抵抗を有し、前記ガラスまたはガラスセラミック要素は、少なくとも前記コーティングが配置された領域１０１において、０．５％～1０％、好ましくは０．５％～５％の光透過率τｖｉｓを有する。
【選択図】図１
【解決手段】板状のガラスまたはガラスセラミック要素１は、板状のガラスまたはガラスセラミック基材１０と、前記ガラスまたはガラスセラミック基材の少なくとも１つの主面１１，１２上に少なくとも部分的に配置されたコーティング２とを含む。前記コーティングは、金属成分と半金属成分とを含み、前記ガラスまたはガラスセラミック基材は、透明に形成されており、前記コーティングは、１ＭΩ超の表面抵抗を有し、前記ガラスまたはガラスセラミック要素は、少なくとも前記コーティングが配置された領域１０１において、０．５％～1０％、好ましくは０．５％～５％の光透過率τｖｉｓを有する。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
板状のガラスまたはガラスセラミック基材（１０）と、前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１０）の少なくとも１つの主面（１１，１２）上に少なくとも部分的に配置されたコーティング（２）とを含む板状のガラスまたはガラスセラミック要素（１）であって、
前記コーティング（２）は、金属成分と半金属成分とを含み、
前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１０）は、透明に形成されており、
前記コーティング（２）は、１ＭΩ超の表面抵抗を有し、
前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、少なくとも前記コーティング（２）が配置された領域（１０１）において、０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％の光透過率τｖｉｓを有する、ガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
前記コーティング（２）は、金属成分と半金属成分とを含み、
前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１０）は、透明に形成されており、
前記コーティング（２）は、１ＭΩ超の表面抵抗を有し、
前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、少なくとも前記コーティング（２）が配置された領域（１０１）において、０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％の光透過率τｖｉｓを有する、ガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
【請求項2】
前記コーティング（２）は、反射性を有するように形成されており、ここで、特に、前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）が前記少なくとも１つの領域（１０１）において以下の特性を有する場合のコーティング（２）は反射性であると理解される、請求項１記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）：
－ 可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率が１０％～３０％であり、これは特に、単層として形成されたコーティング（２）について達成されるものである、または
－ 可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率が２０％～７０％であり、これは特に、層系（２０）、特に少なくとも３つの部分層（２ａ，２ｂ，２ｃ）を含むものとして形成されたコーティング（２）について達成されるものであり、
特に、前記値は、前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）が、前記コーティング（２）を配置する前記主面（１１，１２）において平滑となるように形成されている場合に達成され、ここで特に、非構造化ロールを用いた圧延によって得られた主面（１１，１２）、および／または粗さ、特に粗さＲａが１μｍ未満である主面（１１，１２）も平滑であると理解され、
あるいは、前記コーティング（２）を配置する前記主面（１１，１２）は、１μｍ～５μｍの粗さを有し、かつ好ましくは構造化されており、前記領域（１０１）において前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、少なくとも２％～最大で２０％の、可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率を有するか、または
光沢度、好ましくは光沢計Ｒｈｏｐｏｉｎｔ Ｑｓを用いて測定された光沢度であって、特に２０°の測定角度では少なくとも８７ＧＵ、好ましくは少なくとも１００ＧＵであり、特に好ましくは６０°の測定角度では少なくとも９３ＧＵ、好ましくは少なくとも１００ＧＵであり、特に好ましくは８５°の測定角度では少なくとも９７ＧＵであり、前記コーティングを配置する前記主面または面は、１μｍ～５μｍの粗さ、特に粗さＲａを有し、好ましくは構造化されているか、
または
光沢度、好ましくは光沢計Ｒｈｏｐｏｉｎｔ Ｑｓを用いて測定された光沢度であって、特に２０°の測定角度では少なくとも５００ＧＵ、好ましくは少なくとも７００ＧＵであり、特に好ましくは６０°の測定角度では少なくとも２００ＧＵ、好ましくは少なくとも２５０ＧＵ、特に好ましくは少なくとも２７０ＧＵ、非常に特に好ましくは少なくとも３００ＧＵであり、殊に好ましくは８５°の測定角度では少なくとも９９ＧＵであり、特に、前記値は、前記ガラスまたはガラスセラミック要素が、前記コーティングを配置する前記主面または面において平滑となるように形成されている場合に達成され、ここで特に、非構造化ロールを用いた圧延によって得られたプレートの主面もしくは面、例えば上面もしくは下面、および／または粗さ、特に粗さＲａが１μｍ未満である主面（もしくは面、例えば上面もしくは下面）も平滑であると理解される。
－ 可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率が１０％～３０％であり、これは特に、単層として形成されたコーティング（２）について達成されるものである、または
－ 可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率が２０％～７０％であり、これは特に、層系（２０）、特に少なくとも３つの部分層（２ａ，２ｂ，２ｃ）を含むものとして形成されたコーティング（２）について達成されるものであり、
特に、前記値は、前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）が、前記コーティング（２）を配置する前記主面（１１，１２）において平滑となるように形成されている場合に達成され、ここで特に、非構造化ロールを用いた圧延によって得られた主面（１１，１２）、および／または粗さ、特に粗さＲａが１μｍ未満である主面（１１，１２）も平滑であると理解され、
あるいは、前記コーティング（２）を配置する前記主面（１１，１２）は、１μｍ～５μｍの粗さを有し、かつ好ましくは構造化されており、前記領域（１０１）において前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、少なくとも２％～最大で２０％の、可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率を有するか、または
光沢度、好ましくは光沢計Ｒｈｏｐｏｉｎｔ Ｑｓを用いて測定された光沢度であって、特に２０°の測定角度では少なくとも８７ＧＵ、好ましくは少なくとも１００ＧＵであり、特に好ましくは６０°の測定角度では少なくとも９３ＧＵ、好ましくは少なくとも１００ＧＵであり、特に好ましくは８５°の測定角度では少なくとも９７ＧＵであり、前記コーティングを配置する前記主面または面は、１μｍ～５μｍの粗さ、特に粗さＲａを有し、好ましくは構造化されているか、
または
光沢度、好ましくは光沢計Ｒｈｏｐｏｉｎｔ Ｑｓを用いて測定された光沢度であって、特に２０°の測定角度では少なくとも５００ＧＵ、好ましくは少なくとも７００ＧＵであり、特に好ましくは６０°の測定角度では少なくとも２００ＧＵ、好ましくは少なくとも２５０ＧＵ、特に好ましくは少なくとも２７０ＧＵ、非常に特に好ましくは少なくとも３００ＧＵであり、殊に好ましくは８５°の測定角度では少なくとも９９ＧＵであり、特に、前記値は、前記ガラスまたはガラスセラミック要素が、前記コーティングを配置する前記主面または面において平滑となるように形成されている場合に達成され、ここで特に、非構造化ロールを用いた圧延によって得られたプレートの主面もしくは面、例えば上面もしくは下面、および／または粗さ、特に粗さＲａが１μｍ未満である主面（もしくは面、例えば上面もしくは下面）も平滑であると理解される。
【請求項3】
前記コーティング（２）は、タッチ操作可能であると同時に反射性をも有するように形成されている、請求項１または２記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
【請求項4】
前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、少なくとも前記コーティング（２）が配置された領域（１０１）において、ＣＩＥＬ＊ａ＊ｂ＊系における色度点であって、Ｌ＊が５５より大きく、ａ＊、ｂ＊が－１２～＋１２、好ましくは－１０～＋１０、特に好ましくは－５～＋５の範囲にある色度点を有し、前記色度点は、好ましくは、色度計による色度測定において測定されるかまたは測定可能であり、好ましくは、黒色トラップに対する測定で、特に好ましくはＫｏｎｉｃａ－Ｍｉｎｏｌｔａ社製分光光度計ＣＭ－７００ｄを使用して測定され、前記コーティング（２）は、前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１０）の、前記色度計と反対側の主面（１１，１２）上に配置されている、請求項１から３までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
【請求項5】
前記コーティング（２）は、１０００ｎｍ未満でかつ好ましくは少なくとも２０ｎｍの厚さを有する、請求項１から４までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
【請求項6】
前記コーティング（２）は、一定の厚さを有する、請求項１から５までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
【請求項7】
－ 前記コーティング（２）は、金属で形成されており、
好ましくは、前記コーティング（２）のＯおよび／またはＮの元素の含有量は、それぞれ４重量％未満であり、好ましくはそれぞれ２重量％未満であり、
好ましくは、前記半金属成分はＳｉを含み、前記金属成分はＡｌを含み、
特に好ましくは、前記コーティング（２）は、７０重量％超のＳｉの含有量と３０重量％未満のＡｌの含有量とを有する、請求項１から６までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
好ましくは、前記コーティング（２）のＯおよび／またはＮの元素の含有量は、それぞれ４重量％未満であり、好ましくはそれぞれ２重量％未満であり、
好ましくは、前記半金属成分はＳｉを含み、前記金属成分はＡｌを含み、
特に好ましくは、前記コーティング（２）は、７０重量％超のＳｉの含有量と３０重量％未満のＡｌの含有量とを有する、請求項１から６までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
【請求項8】
－ 前記コーティング（２）は、非金属で形成されており、
好ましくは、前記半金属成分はＳｉを含み、前記金属成分はＡｌを含み、
前記コーティング（２）は、特に好ましくはＯおよび／またはＮの元素を含み、前記コーティング（２）のＮ含有量は、好ましくは少なくとも４重量％であり、好ましくは４重量％超であり、かつ／または前記コーティング（２）のＯ含有量は、好ましくは１０重量％超である、請求項１から６までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
好ましくは、前記半金属成分はＳｉを含み、前記金属成分はＡｌを含み、
前記コーティング（２）は、特に好ましくはＯおよび／またはＮの元素を含み、前記コーティング（２）のＮ含有量は、好ましくは少なくとも４重量％であり、好ましくは４重量％超であり、かつ／または前記コーティング（２）のＯ含有量は、好ましくは１０重量％超である、請求項１から６までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
【請求項9】
前記コーティング（２）のＳｉ含有量は、４０重量％超であり、前記コーティング（２）のＡｌ含有量は、６０重量％未満である、請求項８記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
【請求項10】
以下の特徴のうち少なくとも１つを有する、請求項１から９までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）：
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、さらなるコーティング（３）を含み、前記さらなるコーティング（３）は、前記少なくとも１つの主面（１１，１２）上に、前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１０）と前記コーティング（２）との間に少なくとも部分的に配置されている、
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、カバー層（４）を含み、前記カバー層（４）は、前記コーティング（２）上に少なくとも部分的に配置されている、
－ 前記コーティング（２）は、５５０ｎｍの波長で、少なくとも２以上の屈折率値ｎおよび／または少なくとも０．１以上の吸収係数を有する、
－ 前記コーティング（２）は、非晶質となるように形成されている、
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、少なくとも１つの主面（１１，１２）上に構造化層（５）を含み、前記構造化層（５）は、好ましくは前記コーティング（２）と前記ガラスまたは前記ガラスセラミック基材（１０）との間に、特に好ましくは前記ガラスセラミック基材（１０）に隣接して配置されている、
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、ガラス要素として形成されており、前記コーティング（２）が配置された領域（１０１）において、０．５％～５％、好ましくは０．５～３．５％、特に好ましくは０．５～１．５％の光透過率τｖｉｓを有する、
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、ガラス要素として形成されており、前記コーティング（２）が配置された領域（１０１）において、０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％、好ましくは２％～５％の光透過率τｖｉｓを有する。
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、さらなるコーティング（３）を含み、前記さらなるコーティング（３）は、前記少なくとも１つの主面（１１，１２）上に、前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１０）と前記コーティング（２）との間に少なくとも部分的に配置されている、
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、カバー層（４）を含み、前記カバー層（４）は、前記コーティング（２）上に少なくとも部分的に配置されている、
－ 前記コーティング（２）は、５５０ｎｍの波長で、少なくとも２以上の屈折率値ｎおよび／または少なくとも０．１以上の吸収係数を有する、
－ 前記コーティング（２）は、非晶質となるように形成されている、
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、少なくとも１つの主面（１１，１２）上に構造化層（５）を含み、前記構造化層（５）は、好ましくは前記コーティング（２）と前記ガラスまたは前記ガラスセラミック基材（１０）との間に、特に好ましくは前記ガラスセラミック基材（１０）に隣接して配置されている、
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、ガラス要素として形成されており、前記コーティング（２）が配置された領域（１０１）において、０．５％～５％、好ましくは０．５～３．５％、特に好ましくは０．５～１．５％の光透過率τｖｉｓを有する、
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、ガラス要素として形成されており、前記コーティング（２）が配置された領域（１０１）において、０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％、好ましくは２％～５％の光透過率τｖｉｓを有する。
【請求項11】
耐熱性、特に以下のような光学特性の安定性を有する、請求項１から１０までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）：
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）に３９０℃で８０時間熱負荷をかけた後、熱負荷後と熱負荷前の前記領域（１０１）における前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）の光透過率の差は、絶対値で最大５％、好ましくは絶対値で最大３％であり、かつ／または
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）に３９０℃で８０時間熱負荷をかけた後、前記領域（１０１）における前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）の色度点の差ΔＥは、最大で２０、好ましくは最大で１０、特に好ましくは最大で５、非常に特に好ましくは最大で２であり、ここで、ΔＥは、以下：
のように求められ、ここで、色度点ＥｖＴは、熱負荷前の前記領域（１０１）における前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）の色度点を指し、色度座標ａ＊
ｖＴ、ｂ＊
ｖＴ、Ｌ＊
ｖＴによって与えられ、色度点ＥｎＴは、熱負荷後の前記領域（１０１）における前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）の色度点であり、色度座標ａ＊
ｎＴ、ｂ＊
ｎＴ、Ｌ＊
ｎＴによって与えられ、好ましくはそれぞれ、黒色トラップに対する測定で、特にＫｏｎｉｃａ－Ｍｉｎｏｌｔａ社製分光光度計ＣＭ－７００ｄを使用して測定される。
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）に３９０℃で８０時間熱負荷をかけた後、熱負荷後と熱負荷前の前記領域（１０１）における前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）の光透過率の差は、絶対値で最大５％、好ましくは絶対値で最大３％であり、かつ／または
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）に３９０℃で８０時間熱負荷をかけた後、前記領域（１０１）における前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）の色度点の差ΔＥは、最大で２０、好ましくは最大で１０、特に好ましくは最大で５、非常に特に好ましくは最大で２であり、ここで、ΔＥは、以下：
【数1】
【請求項12】
前記コーティング（２）は、部分層（２ａ，２ｂ，２ｃ）を含む層系（２０）として、好ましくは３つの部分層を含む層系（２０）として形成されており、少なくとも２つの部分層（２ａ，２ｃ）は、少なくとも１つの金属成分と少なくとも１つの半金属成分とを含み、かつ少なくとも１つの中間層（２ｂ）を包囲し、前記少なくとも１つの中間層（２ｂ）は、誘電体材料を含み、好ましくは、前記少なくとも１つの中間層（２ｂ）の５５０ｎｍでの屈折率値ｎは、前記少なくとも２つの他の部分層（２ａ，２ｃ）の５５０ｎｍでの屈折率値ｎよりも小さく、さらに好ましくは、前記中間層（２ｂ）の５５０ｎｍでの吸収係数ｋは、前記少なくとも２つの他の部分層（２ａ，２ｃ）の５５０ｎｍでの吸収係数ｋよりも小さい、請求項１から１１までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
【請求項13】
請求項１から１２までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）を含む、家庭用電化製品および／または加熱器具（６０）。
【請求項14】
少なくとも１つの表示および／もしくは操作要素（７０）ならびに／またはセンサ（８０）を含む、請求項１３記載の家庭用電化製品および／または加熱器具（６０）。
【請求項15】
ガラスまたはガラスセラミック要素（１）の、好ましくは請求項１から１２までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）の製造方法であって、前記方法は、
－ 透明に形成された板状のガラスまたはガラスセラミック基材（１）を提供するステップと、
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１）をコーティングチャンバに導入するステップと、
－ 前記コーティングチャンバ内で、少なくとも１つの半金属成分および／または少なくとも１つの金属成分を含むターゲットを提供するステップと、
－ 前記コーティングチャンバ内の圧力を調整し、その際、前記圧力は、少なくとも５×１０－４ｍｂａｒ～最大で５×１０－２ｍｂａｒであるものとするステップと、
－ スパッタリングによりコーティングを行い、その際、前記スパッタリングは、ＤＣスパッタリング、またはＡＣスパッタリング、例えば中周波スパッタリングまたは高周波スパッタリングとして行うことができるものとするステップと
を含み、それにより、板状のガラスまたはガラスセラミック基材（１０）と、前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１０）の少なくとも１つの主面（１１，１２）上に少なくとも部分的に配置されたコーティング（２）とを含む板状のガラスまたはガラスセラミック要素（１）が得られ、
ここで、前記コーティング（２）は、金属成分と半金属成分とを含み、かつ１ＭΩ超の表面抵抗を有し、前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、少なくとも前記コーティング（２）が配置された領域（１０１）において、好ましくは前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１０）の厚さ４ｍｍに対して、０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％の光透過率τｖｉｓを有する、方法。
－ 透明に形成された板状のガラスまたはガラスセラミック基材（１）を提供するステップと、
－ 前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１）をコーティングチャンバに導入するステップと、
－ 前記コーティングチャンバ内で、少なくとも１つの半金属成分および／または少なくとも１つの金属成分を含むターゲットを提供するステップと、
－ 前記コーティングチャンバ内の圧力を調整し、その際、前記圧力は、少なくとも５×１０－４ｍｂａｒ～最大で５×１０－２ｍｂａｒであるものとするステップと、
－ スパッタリングによりコーティングを行い、その際、前記スパッタリングは、ＤＣスパッタリング、またはＡＣスパッタリング、例えば中周波スパッタリングまたは高周波スパッタリングとして行うことができるものとするステップと
を含み、それにより、板状のガラスまたはガラスセラミック基材（１０）と、前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１０）の少なくとも１つの主面（１１，１２）上に少なくとも部分的に配置されたコーティング（２）とを含む板状のガラスまたはガラスセラミック要素（１）が得られ、
ここで、前記コーティング（２）は、金属成分と半金属成分とを含み、かつ１ＭΩ超の表面抵抗を有し、前記ガラスまたはガラスセラミック要素（１）は、少なくとも前記コーティング（２）が配置された領域（１０１）において、好ましくは前記ガラスまたはガラスセラミック基材（１０）の厚さ４ｍｍに対して、０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％の光透過率τｖｉｓを有する、方法。
【請求項16】
ガラスセラミック要素（１）であって、好ましくは、請求項１５記載の方法で製造されたまたは製造可能である、請求項１から１２までのいずれか１項記載のガラスまたはガラスセラミック要素（１）。
【請求項17】
家庭用電化製品および／もしくは加熱器具（６０）のカバープレートとしての、特に調理用機器のカバープレートとしての、またはオーブンの窓としての、または暖炉の覗き窓としての、または冷蔵庫の覗き窓としての、または電子レンジの覗き窓としての、または操作要素、特にコーヒーマシンの操作要素のもしくはオーブンの前面窓としての、または例えば棚もしくはテーブルなどの台所用具もしくは実験室用具の天板としての、または例えばスマートフォンなどの家電機器の操作面としての、請求項１から１２までもしくは請求項１６のいずれか１項記載のおよび／または請求項１５記載の方法で製造されたもしくは製造可能であるガラスまたはガラスセラミック要素の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、概して、板状のガラスまたはガラスセラミック要素、特に家庭用電化製品および／または加熱器具に使用可能なガラスまたはガラスセラミック要素に関する。特に本発明は、板状のガラスまたはガラスセラミック基材と、該基材の少なくとも片面に少なくとも部分的に配置されたコーティングとを含む板状のガラスまたはガラスセラミック要素に関する。本発明のさらなる態様は、該ガラスまたはセラミック要素の製造方法およびその使用に関する。
【0002】
発明の背景
板状のガラスまたはガラスセラミック要素は、例えば高温用途のカバープレートや仕切板として、例えばいわゆるクックプレートとして、またはオーブンの平面もしくは曲面の覗き窓として使用される。この場合、板状のガラスまたはガラスセラミック要素を通る電磁放射線の透過性を可能な限り狙いどおりに調整する必要がある。例えば、熱放射線がガラスまたはガラスセラミック要素を可能な限り支障なく通れるように、特定の波長域、例えば赤外領域での高い透過性を可能にすることが必要な場合がある。ただし、透過性が高すぎないことも必要となり得る。このことは特に、可視光領域について該当する。可視光領域では、機器の操作者や使用者から見てガラスまたはガラスセラミック要素の奥側にある領域について、狙いどおりにシェーディングを生じさせる必要がある場合が多い。その場合、特に安全上の理由から、ガラスまたはガラスセラミック要素によって、このようなガラスまたはガラスセラミック要素を備えた機器のスイッチオフ状態では、均質な、特にいわゆる「デッドフロント効果」が得られ、スイッチオン状態では、例えばディスプレイや警告灯などの電気光学的表示要素がその要素を通してはっきりとそのままの色調で知覚できることが必要となり得る。これにより、特にこうした機器の使用者の安全性を大幅に向上させることができる。
板状のガラスまたはガラスセラミック要素は、例えば高温用途のカバープレートや仕切板として、例えばいわゆるクックプレートとして、またはオーブンの平面もしくは曲面の覗き窓として使用される。この場合、板状のガラスまたはガラスセラミック要素を通る電磁放射線の透過性を可能な限り狙いどおりに調整する必要がある。例えば、熱放射線がガラスまたはガラスセラミック要素を可能な限り支障なく通れるように、特定の波長域、例えば赤外領域での高い透過性を可能にすることが必要な場合がある。ただし、透過性が高すぎないことも必要となり得る。このことは特に、可視光領域について該当する。可視光領域では、機器の操作者や使用者から見てガラスまたはガラスセラミック要素の奥側にある領域について、狙いどおりにシェーディングを生じさせる必要がある場合が多い。その場合、特に安全上の理由から、ガラスまたはガラスセラミック要素によって、このようなガラスまたはガラスセラミック要素を備えた機器のスイッチオフ状態では、均質な、特にいわゆる「デッドフロント効果」が得られ、スイッチオン状態では、例えばディスプレイや警告灯などの電気光学的表示要素がその要素を通してはっきりとそのままの色調で知覚できることが必要となり得る。これにより、特にこうした機器の使用者の安全性を大幅に向上させることができる。
【0003】
例えば、上方から見たときに黒色に近い濃い色感を与える重厚感のある色のガラスセラミックを含むガラスセラミックプレートが知られている。
【0004】
また、ガラスまたはガラスセラミック要素が、板状のガラスまたはガラスセラミック基材の主面上にシェーディング用のコーティングを有する透明なガラスまたはガラスセラミック基材を含むことも可能である。例えば、独国特許出願公開第１０２００７０３０５０３号明細書は、コーティングされたガラスセラミック生成物に関するものであり、コーティングは反射性を有するように設計されており、遮光効果を有する。そのために、ガラスセラミックプレートにシリコンコーティングが施される。これは、高温領域と低温領域とでは層厚が異なり、すなわち高温領域の方が低温領域より厚い。こうした措置は、層薄では、可視光領域での透過率が十分に高いため、例えばこの層薄を通して表示要素が容易に透けて見えてしまい、また温度安定性が十分でないという理由から必要となる。一方で、独国特許出願公開第１０２００７０３０５０３号明細書により高温領域で使用されるような層厚のより大きな層は、確かに温度安定性は高いものの、それと同時に可視光領域での透過率が不十分である。いわゆるディスプレイ機能は、これらの層では限られた範囲でしか与えられない。したがって、独国特許出願公開第１０２００７０３０５０３号明細書によるガラスセラミックプレートは、例えば、一方では表示要素の、そして他方では高温領域の、完全にフレキシブルな分離が可能な調理用機器（いわゆる「どこでも調理可能な」調理用機器）の新規の設計には適していない。
【0005】
独国特許出願公開第１０２０１３１０４７０２号明細書も、コーティングされたガラスセラミックプレートに関する。独国特許出願公開第１０２０１３１０４７０２号明細書に記載のガラスセラミッククックプレートのコーティングは、クロム、鉄、ニッケルおよびケイ素を含む合金の金属層と、クロム、鉄、ニッケルおよびケイ素を含む合金の酸化物の形態のバリア層とを含む多層膜コーティングである。これらの層は、メタリックで鏡面性の優美さと高い耐熱性とを併せ持つという利点がある。このコーティングは、確かに適切な層厚を選択することで半透明となるように調整することができるが、タッチ操作に対応しておらず、またＩＲ透過率も不十分である。
【0006】
独国特許出願公開第１０２０１３１０４７０２号明細書に記載の層は、その金属特性ゆえに導電性を有する。したがって、いわゆる静電容量方式のタッチセンサは、このコーティングでは使用できない。そのため、これらの層はタッチ操作に対応していないか、あるいは非常に限られた範囲でのタッチ操作にしか対応していない。
【0007】
そのため、メタリックな優美さを有し、耐熱性が高く、それと同時にフレキシブルなタッチおよびディスプレイ機能を有するガラスまたはガラスセラミック要素が求められている。
【0008】
発明の課題
本発明の課題は、従来技術の弱点を少なくとも部分的に緩和するガラスまたはガラスセラミック要素を提供することである。本発明のさらなる態様は、そのようなガラスおよびガラスセラミック要素の製造方法およびその使用に関する。
本発明の課題は、従来技術の弱点を少なくとも部分的に緩和するガラスまたはガラスセラミック要素を提供することである。本発明のさらなる態様は、そのようなガラスおよびガラスセラミック要素の製造方法およびその使用に関する。
【0009】
発明の概要
本発明の課題は、独立請求項の主題によって解決される。好ましい実施形態および特別な実施形態、ならびにさらなる実施形態は、本開示の従属請求項、明細書および図面に見出すことができる。
本発明の課題は、独立請求項の主題によって解決される。好ましい実施形態および特別な実施形態、ならびにさらなる実施形態は、本開示の従属請求項、明細書および図面に見出すことができる。
【0010】
したがって、本開示は、板状のガラスまたはガラスセラミック基材と、該ガラスまたはガラスセラミック基材の少なくとも１つの主面上に少なくとも部分的に配置されたコーティングとを含む板状のガラスまたはガラスセラミック要素に関する。コーティングは、金属成分と半金属成分とを含み、かつ１ＭΩ超の表面抵抗を有する。ガラスまたはガラスセラミック基材は、透明に形成されている。ガラスまたはガラスセラミック要素は、少なくともコーティングが配置された領域において、０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％の光透過率τｖｉｓを有する。
【0011】
本開示において、光透過率とは、例えばＤＩＮ ＥＮ ４１０に準拠して算出および定義されるとおり、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長域における透過率を指す。これは、τｖｉｓと表記されることもある。通常、これは標準光源Ｄ６５に関するものである。
【0012】
分光透過率とは、ある波長に対する透過率値を意味する。
【0013】
ガラスまたはガラスセラミック要素のこうした設計は、特に家庭用電化製品および／または加熱器具における使用に非常に有利である。
【0014】
ガラスまたはガラスセラミック基材自体は、透明に形成されている。ガラスまたはガラスセラミック基材を透明に形成するとは、ここでは特に、ガラスまたはガラスセラミック基材が、少なくとも２０％、好ましくは少なくとも４０％の可視光線透過率τｖｉｓ（または光透過率）を有することを意味する。また、これより高い値、例えば少なくとも８０％とすることも可能である。このような透過率は、例えば、ガラスまたはガラスセラミック基材が着色されていないこと、あるいはガラスまたはガラスセラミック基材中の吸収成分、例えば着色イオンの割合が制限されていることにより達成可能である。しかし、ガラスまたはガラスセラミック基材の透明度を、吸収による着色に加えて、またはそれに代えて、散乱によって低下させることも可能である。散乱が強いほど透明度は低くなる。したがって、本開示では、透明なガラスまたはガラスセラミック基材とは特に、低濁度であるガラスまたはガラスセラミック基材をも意味する。
【0015】
特に、ガラスまたはガラスセラミック基材が吸収によって着色されておらず、それと同時に低濁度であることが可能である。
【0016】
このように、ガラスまたはガラスセラミック基材自体は、観察者や操作者から見てガラスまたはガラスセラミック基材の奥側に配置された表示要素、例えばディスプレイや照明を十分に知覚できるようにするのに非常に良好に適している。しかし一方でその欠点は、こうすることで、例えば安全上重要となる表示の知覚を妨げるおそれのある他のコンポーネントも視認可能となってしまうことにある。したがって、概して、コーティングをガラスまたはガラスセラミック基材に少なくとも部分的に施与することで、少なくともコーティングが配置された領域において、支障のあるコンポーネントが相応してシェーディングされるようにすることが有利である。したがって、実施形態によるコーティングは、遮光コーティングをも意味し、またはそのように呼ぶこともできる。
【0017】
よって、ガラスまたはガラスセラミック要素は、例えばコーティングがないままの無コーティング部または無コーティング領域を含むことができる。
【0018】
しかしこれは、実施形態によるガラスまたはガラスセラミック要素において必須ではない。シェーディングまたは遮光コーティングを有する既知の板状のガラスまたはガラスセラミック要素は、コーティングの一部を省略する必要がある場合が多い。なぜならば、こうした遮光コーティングはほぼ完全なシェーディングを生じるため、コーティングを通して表示要素および／または照明を視認することができなくなってしまうためである。その結果、この無コーティング領域に、半透明に形成されたさらなるコーティングを適宜施与する必要がでてくる。そのため、このようなガラスまたはガラスセラミック要素の製造には、例えば遮光コートを有しない領域に半透明の特殊なスクリーン印刷用ペーストを施与するといった、異なるコーティング薬剤やコーティング材を用いた異なるコーティングステップが含まれ、それに応じてコストがかかる。
【0019】
実施形態によるコーティングの場合には、このことは不要である。なぜならば、少なくともコーティングが配置された領域において、好ましくはガラスまたはガラスセラミック基材の厚さ４ｍｍに対して、ガラスまたはガラスセラミック要素が０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％の光透過率τｖｉｓを有するように、コーティングが形成されているためである。これは、このようなガラスまたはガラスセラミック要素を備えた機器、例えば家庭用電化製品および／または加熱器具の観察者または使用者が表示要素を良好に知覚できることを保証しつつ、十分なシェーディングを可能にする光透過率である。それと同時にこれは、特に家庭用電化製品および／または加熱器具のスイッチオフ状態において、ガラスまたはガラスセラミック要素の非常に均質な優美さをも可能にするものである。なぜならば、無コーティング部および／またはガラスもしくはガラスセラミック要素の均質かつ均一な印象を損ないかねないさらなるコーティングの施与は、もはや必須でなくなったためである。
【0020】
したがって、一実施形態によれば、コーティングは、ガラスまたはガラスセラミック基材の少なくとも１つの主面の実質的に全面に施与されている。これは特に、コーティングが少なくとも１つの主面の少なくとも９０％、好ましくは少なくとも９５％を覆っていることを意味する。特に、コーティングは、少なくとも１つの主面の１００％を覆っていることもできる。したがって、一実施形態によれば、ガラスまたはガラスセラミック要素は、非常に単純な様式でかつ非常に有利なことに、審美的に優美な非常に均質な外観と操作者の安全性の向上とを兼ね備えるように形成されている。この非常に均質で視覚的に均一な外観は「デッドフロント」とも呼ばれ、その結果得られる非常に均質で視覚的に均一な見た目の優美さは「デッドフロント効果」とも呼ばれる。
【0021】
このことが可能となるもう１つの理由は特に、コーティングが総じて少なくとも１つの主面の被覆度合いに制限されることなく１ＭΩ超の表面抵抗を有するように設計されていることである。なぜならば、このようにコーティングの導電率を低くすることで、静電容量方式のタッチセンサも使用できるようになるためである。つまり、このコーティングの設計が、コーティングをタッチ操作可能なものとするための重要な前提条件である。
【0022】
静電容量方式のタッチセンサの機能には、すなわちタッチ操作可能なコーティングとしてのコーティング設計にも、２つの基準が重要となる。第一には、隣接する２つの個々のボタンが別々に読み取れるように、容量的に短絡していないことが必要である。このことは、隣接して配置され、異なるスイッチング機能を記憶している個々のボタンだけでなく、個々のボタンで構成されるスライディングスイッチ（スライダー）にとっても重要である。容量性短絡は、個々のボタンの双方のスイッチング面（センサ面）を覆う容量性または電気的に結合した導電層によって引き起こされ得る。
【0023】
第二には、個々のスイッチにおいて、いわゆる浮遊容量と呼ばれる接地環境の容量結合により引き起こされる干渉的なグラウンド信号が大きくなりすぎないようにすることが必要である。この不利な効果は、導電層が個々のボタンのスイッチング面に容量結合している場合に増幅される可能性がある。これにより、個々のボタンの有効なスイッチング面積が増加し、接地環境（例えば室内空気）との結合がより強くなる。これにより、個々のボタンが持続的に作動してスイッチング機能に使用できなくなるおそれがある。これらの不利な効果はいずれも、少なくとも典型的な容量性制御インターフェースでは、層の表面抵抗が１ＭΩ超、好ましくは５ＭΩ超、特に好ましくはさらには１０ＭΩ超またはそれを上回る場合に、導電性層と組み合わせて回避することができる。
【0024】
表面抵抗が大きいほど、隣接して配置された個々のボタンの配置を近づけることができる。同時に、表面抵抗の増加により操作安全性が向上する。表面抵抗が高いほど浮遊容量との結合が少なくなるため、検出感度が高くなり、センサからの入力を誤検出する確率が低くなる。
【0025】
所定の領域のコーティング特性を調整する必要はない。特に、特別な「表示領域」や「センサ領域」が得られるようにガラスまたはガラスセラミック要素の所定の領域のコーティングの層厚を調整することは不要である。ガラスまたはガラスセラミック領域を請求項１に記載のとおりに設計することにより、いわゆる「どこでも調理可能な」調理用機器のように、高温領域と表示要素とセンサとをフレキシブルに配置する用途でも機能する均質なコーティングを、驚くほど簡単に施与することができる。
【0026】
好適なセンサとしては、例えば、既に述べたタッチセンサ（静電容量方式のタッチセンサまたはタッチ）が挙げられる。また、例えば調理用機器などの家庭用電化製品および／または加熱器具のカバープレートの下方や裏側にセンサが設置されることも多い。そのため、コーティングがこれらのセンサに対して透過性であることも必要であり、その際、これらのセンサは通常、近赤外領域で発光する。制御や通信、例えば調理用機器の場合には換気フードとの通信に使用されるセンサや温度センサが主なものである。
【0027】
本開示では、以下の定義が適用される：
板状の物品または生成物とは、総じて、該物品あるいは生成物が、直交座標系の第１の空間方向における横方向の寸法が、第１の空間方向に直交する直交座標系の２つのさらなる空間方向における横方向の寸法の最大５分の１である形状を有することを意味する。つまり、板状の物品（または板ガラスやプレートやストリップ）の厚さは、その長さおよび幅の最大５分の１である。板状の物品、例えば板状の要素は、平面、すなわち平坦であってもよいし、反っており、例えば湾曲したまたは曲面の板ガラスであってもよい。さらに、プレートまたは板ガラスが、例えば機械的回転制御のフィードスルーのための、または特に板状の物品もしくは板状の要素もしくはプレートがコンロとして使用される場合には例えば換気フードのガスバーナーの導管のための無コーティング部を有することも総じて可能である。本開示では、板ガラスとプレートという用語は同義的に用いられる。特に、板状の設計は、板ガラス状の設計を指す場合もある。
板状の物品または生成物とは、総じて、該物品あるいは生成物が、直交座標系の第１の空間方向における横方向の寸法が、第１の空間方向に直交する直交座標系の２つのさらなる空間方向における横方向の寸法の最大５分の１である形状を有することを意味する。つまり、板状の物品（または板ガラスやプレートやストリップ）の厚さは、その長さおよび幅の最大５分の１である。板状の物品、例えば板状の要素は、平面、すなわち平坦であってもよいし、反っており、例えば湾曲したまたは曲面の板ガラスであってもよい。さらに、プレートまたは板ガラスが、例えば機械的回転制御のフィードスルーのための、または特に板状の物品もしくは板状の要素もしくはプレートがコンロとして使用される場合には例えば換気フードのガスバーナーの導管のための無コーティング部を有することも総じて可能である。本開示では、板ガラスとプレートという用語は同義的に用いられる。特に、板状の設計は、板ガラス状の設計を指す場合もある。
【0028】
さらに、板状の物品または板状の要素が、コーティングが配置された面が平滑となるように設計されていることも総じて可能であるが、この面が隆起部を有する形状であることも総じて可能である。これは、例えば特に、板状の要素がクックプレートとして適切であるかまたはクックプレートとして使用することが想定されており、例えばガラスセラミックを含むかまたはガラスセラミックから形成されている場合に該当し得る。しかし、コーティングが配置される面に隆起部を有する設計は、クックプレートとして使用するのに適し、かつ／またはそれが想定された板状の要素に限定されず、他の使用目的または用途での他の板状の要素でも存在し得るものである。
【0029】
基材とは、未コーティングの物品を意味する。要素は、基材とコーティングとを含む。要素は、コーティングされた基材を意味することもあり、その際、相応して、基材は、未コーティングの要素を意味することもある。
【0030】
本発明において、ガラスまたはガラスセラミック要素の厚さに言及する場合、これは総じて、ガラスまたはガラスセラミック基材の厚さを意味する。なぜならば、ガラスまたはガラスセラミック要素を得るべくガラスまたはガラスセラミック基材に堆積させるコーティングは非常に薄く、せいぜい数マイクロメートル以下の範囲であるため、測定精度の観点から、要素の厚さは基材の厚さと一致するためである。
【0031】
要素や基材といった板状の物品の主面とは、本発明では、合わせて物品の総表面積の５０％超を占める面を意味する。主面は面と呼ばれることもあり、特に厳密な空間的配置に応じて板ガラスやプレートの前面や裏面、あるいは上面や下面と呼ばれることもある。したがって、主面は、例えば板ガラスあるいは板状の物品または生成物の端面としての面ではない。主面は、特に互いに平行に配置されていてよい。ここで、平行な配置とは特に、主面の法線が互いに最大５°の角度を成す配置を意味する。
【0032】
金属でのコーティングの形成とは、本発明では、コーティングが非金属を限られた範囲でしか含まないこと、特にコーティング中の非金属の含有量が４重量％未満であることを意味する。このように、金属での形成は、コーティングが少なくとも４重量％、好ましくは４重量％超、特に１０重量％超の非金属を含む非金属での形成とは対照的である。特に、非金属での形成とは、セラミックまたは部分セラミックでの形成を意味し、またそのように呼ぶこともでき、例えば、コーティング材料は、酸化物および／または窒化物であってよい。
【0033】
本明細書では、金属と非金属との中間の性質を持つ元素を半金属（メタロイドとも呼ぶ）と呼ぶ。本明細書では、半金属のグループには以下のものが含まれる：ホウ素、ケイ素、ゲルマニウム、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレン、テルル、ポロニウム。半金属成分とは、半金属を含む成分を意味する。特に、半金属成分は、ケイ素および／またはゲルマニウムを含む。
【0034】
タッチ操作可能なコーティングとは特に、コーティングが１ＭΩ超の十分に高い表面抵抗を有することを意味する。
【0035】
一実施形態によれば、コーティングは反射性を有するように形成されている。言い換えれば、コーティングは、可視光領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲の電磁放射線を反射するように設計されている。一実施形態によれば、コーティングは、鏡面効果を有することができ、すなわちメタリックな優美さを生じることができる。特に、このような反射性の構造は、ガラスまたはガラスセラミック要素の全体的な印象を非常に均質なものとすることに有利に寄与することができ、これは特に安全性の観点から重要である場合がある。なぜならば、このようにして、例えばこうしたガラスまたはガラスセラミック要素を備えた家庭用電化製品および／または加熱器具の正常な状態からの逸脱を、例えば故障の際に点滅する視覚的表示によって非常に容易に知覚することができるためであり、なぜならば、こうした視覚的表示は、要素の全般的に均質な全体的印象の中で視覚的に非常に目立つためである。
【0036】
例えば実施形態によるコーティングなどのコーティングの反射特性は、総じて、それぞれコーティングを施与する表面の厳密な設計に依存する。例えば、一般的には、基材表面が非常に平滑であれば反射率は高くなる。ここで例えば、平滑な表面を有する基材に施与した場合に以下の反射特性を有するコーティングも、本開示の趣意において反射性であると理解される：可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率が、特に単層として形成される実施形態によるコーティングについて達成される１０％～３０％であるか、または特に多層系、特に３層を含むものとして形成される実施形態によるコーティングについて達成される２０％～７０％である。これらの値は特に、基材が平滑に形成されており、すなわち構造化されておらず、例えば、隆起部を有しておらず粗面化もされていない実施形態で達成される。また特に、非構造化ロールで圧延して得られた基材表面も平滑であると理解される。特に、粗さ、特に粗さＲａが１μｍ未満である基材表面も、非構造化または平滑な基材表面と理解され得る。
【0037】
構造化された基材表面では、反射率値あるいは反射率レベルがより低くなり、指向性測定では可視スペクトル領域については２％～２０％であり、粗さＲａについては１μｍ～５μｍである。
【0038】
すなわち、本実施形態によるガラスまたはガラスセラミック要素は、コーティングが反射性を有するように形成されるように設計されていてよい。ここで、ガラスまたはガラスセラミック要素が少なくとも１つの領域において以下の反射特性を有する場合のコーティングは反射性であると理解され、または反射性であると呼ばれる：
－ 可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率が１０％～３０％であり、これは特に、単層として形成された実施形態によるコーティングについて達成されるものである、または
－ 可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率が２０％～７０％であり、これは特に、層系、特に少なくとも３つの部分層を含むものとして形成されたコーティングについて達成されるものであり、
特に、前述のこれらの値は、ガラスまたはガラスセラミック要素が、コーティングを配置する主面または面において平滑となるように形成されている場合に達成され、ここで特に、非構造化ロールを用いた圧延によって得られたプレートの主面もしくは面、例えば上面もしくは下面、および／または粗さ、特に粗さＲａが１μｍ未満である主面（もしくは面、例えば上面もしくは下面）も平滑であると理解され、
あるいは、コーティングを配置する主面または面は、１μｍ～５μｍの粗さを有し、かつ好ましくは構造化されており、この領域においてガラスまたはガラスセラミック要素は、少なくとも２％～最大で２０％の、可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率を有するか、または
光沢度、好ましくは光沢計Ｒｈｏｐｏｉｎｔ Ｑｓを用いて測定された光沢度であって、特に２０°の測定角度では少なくとも８７ＧＵ、好ましくは少なくとも１００ＧＵであり、特に好ましくは６０°の測定角度では少なくとも９３ＧＵ、好ましくは少なくとも１００ＧＵであり、特に好ましくは８５°の測定角度では少なくとも９７ＧＵであり、コーティングを配置する主面または面は、１μｍ～５μｍの粗さ、特に粗さＲａを有し、好ましくは構造化されているか、
または
光沢度、好ましくは光沢計Ｒｈｏｐｏｉｎｔ Ｑｓを用いて測定された光沢度であって、特に２０°の測定角度では少なくとも５００ＧＵ、好ましくは少なくとも７００ＧＵであり、特に好ましくは６０°の測定角度では少なくとも２００ＧＵ、好ましくは少なくとも２５０ＧＵ、特に好ましくは少なくとも２７０ＧＵ、非常に特に好ましくは少なくとも３００ＧＵであり、殊に好ましくは８５°の測定角度では少なくとも９９ＧＵであり、特に、前述のこれらの値は、ガラスまたはガラスセラミック要素が、コーティングを配置する主面または面において平滑となるように形成されている場合に達成され、ここで特に、非構造化ロールを用いた圧延によって得られたプレートの主面もしくは面、例えば上面もしくは下面、および／または粗さ、特に粗さＲａが１μｍ未満である主面（もしくは面、例えば上面もしくは下面）も平滑であると理解される。
－ 可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率が１０％～３０％であり、これは特に、単層として形成された実施形態によるコーティングについて達成されるものである、または
－ 可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率が２０％～７０％であり、これは特に、層系、特に少なくとも３つの部分層を含むものとして形成されたコーティングについて達成されるものであり、
特に、前述のこれらの値は、ガラスまたはガラスセラミック要素が、コーティングを配置する主面または面において平滑となるように形成されている場合に達成され、ここで特に、非構造化ロールを用いた圧延によって得られたプレートの主面もしくは面、例えば上面もしくは下面、および／または粗さ、特に粗さＲａが１μｍ未満である主面（もしくは面、例えば上面もしくは下面）も平滑であると理解され、
あるいは、コーティングを配置する主面または面は、１μｍ～５μｍの粗さを有し、かつ好ましくは構造化されており、この領域においてガラスまたはガラスセラミック要素は、少なくとも２％～最大で２０％の、可視スペクトル領域、すなわち３８０ｎｍ～７８０ｎｍでの平均反射率を有するか、または
光沢度、好ましくは光沢計Ｒｈｏｐｏｉｎｔ Ｑｓを用いて測定された光沢度であって、特に２０°の測定角度では少なくとも８７ＧＵ、好ましくは少なくとも１００ＧＵであり、特に好ましくは６０°の測定角度では少なくとも９３ＧＵ、好ましくは少なくとも１００ＧＵであり、特に好ましくは８５°の測定角度では少なくとも９７ＧＵであり、コーティングを配置する主面または面は、１μｍ～５μｍの粗さ、特に粗さＲａを有し、好ましくは構造化されているか、
または
光沢度、好ましくは光沢計Ｒｈｏｐｏｉｎｔ Ｑｓを用いて測定された光沢度であって、特に２０°の測定角度では少なくとも５００ＧＵ、好ましくは少なくとも７００ＧＵであり、特に好ましくは６０°の測定角度では少なくとも２００ＧＵ、好ましくは少なくとも２５０ＧＵ、特に好ましくは少なくとも２７０ＧＵ、非常に特に好ましくは少なくとも３００ＧＵであり、殊に好ましくは８５°の測定角度では少なくとも９９ＧＵであり、特に、前述のこれらの値は、ガラスまたはガラスセラミック要素が、コーティングを配置する主面または面において平滑となるように形成されている場合に達成され、ここで特に、非構造化ロールを用いた圧延によって得られたプレートの主面もしくは面、例えば上面もしくは下面、および／または粗さ、特に粗さＲａが１μｍ未満である主面（もしくは面、例えば上面もしくは下面）も平滑であると理解される。
【0039】
平均反射率とは、ある波長域における反射率値の算術平均を意味する。
【0040】
反射率測定は、明示的に別段の記載がない限り、本開示では、板状のガラスまたはガラスセラミック要素の視認面あるいは操作者面で行われる。すなわち、反射率測定の測定値は、視認面あるいは操作者面に関するものである。したがって、反射率測定は、常に基材を通して、すなわちガラスセラミック材料またはガラス材料を通して行われる。これは、コーティングが常に「動作裏面／背面／下面」に配置されているためである。
【0041】
ここで、光沢度はいわゆる光沢度単位ＧＵ（ＧＵ、ｇｌｏｓｓ ｕｎｉｔｓ）で規定される。上記のような測定器を用いて、特に光沢度の測定を当該の国際規格に準拠して行うことができる。
【0042】
得られる光沢度の値は、例えば、その領域が構造化されているか否かに依存する。測定値の一例を以下の表に示す：
【表1】
【0043】
測定時には、試料をそれぞれ黒色の下敷の上に載置した。測定を、ガラスまたはガラスセラミック要素を通して行った。
【0044】
ここで、試料番号１はガラス要素であり、コーティングは、窒化ケイ素層を含む４層コーティングであり、コーティングの領域、すなわち測定領域における主面は構造化されている。ガラス基材を通して見たときのコーティングの視覚的な印象は、灰銀色である。
【0045】
試料番号２もガラス要素であり、コーティングは、窒化ケイ素層を含む２層コーティングであり、コーティングの領域、すなわち測定領域における主面は構造化されている。この場合も、ガラス基材を通して見たときのコーティングの視覚的な印象は、灰銀色である。
【0046】
比較例１あるいは参考例１では、コーティングを含まないが測定領域では構造化されているガラス基材あるいは要素を測定する。
【0047】
試料番号３～５はそれぞれ、コーティングの領域、すなわち測定領域における主面または面がそれぞれ構造化されておらず、すなわち平滑であるガラスセラミック要素である。
【0048】
試料番号３は、ＳｉＯ２を含む４層コーティングであり、上方から、すなわちガラスセラミックを通して見たときのこのコーティングの視覚的な印象は、銀色である。
【0049】
試料番号４は、窒化ケイ素層を含む４層コーティングであり、同様にガラスセラミックを通して見たときに銀色の印象を有する。
【0050】
最後に、試料番号５は窒化ケイ素層を含む２層コーティングであり、この場合も、ガラスセラミックを通して見たときの視覚的な印象は、銀色である。
【0051】
比較例あるいは参考例２は、コーティングされていないガラスセラミック基材である。
【0052】
しかし、コーティング自体を見たときの視覚的な印象は、これらの印象とは全く異なることができ、試料１、２、４および５では、直接見たときのコーティングは、金色となるように形成されている。
【0053】
測定値から、コーティングによって、特に２０°および６０°の視野角で、コーティングされていない基材と比較して、基材あるいは要素の少なくとも１つの領域で光沢度が増加することがわかる。これは、例示的に試料３～５に見られるように、少なくとも１つの領域において表面が平滑である場合に特に顕著である。
【0054】
角度によるガラスのグレードの分類は、以下のとおりである：
２０度：０～２０００ＧＵ（ここで、０は、完全に艶消しであり、２０００は、完全な鏡面体である）
６０度：０～１０００ＧＵ（ここで、０は、完全に艶消しであり、１０００は、完全な鏡面体である）
８５度：０～１９９ＧＵ（ここで、０は、完全に艶消しであり、１９９は、完全な鏡面体である）
２０度：０～２０００ＧＵ（ここで、０は、完全に艶消しであり、２０００は、完全な鏡面体である）
６０度：０～１０００ＧＵ（ここで、０は、完全に艶消しであり、１０００は、完全な鏡面体である）
８５度：０～１９９ＧＵ（ここで、０は、完全に艶消しであり、１９９は、完全な鏡面体である）
【0055】
つまり、上記の測定値から、特に基材主面が平滑な場合、少なくとも１つの領域で非常に鏡面性の強い表面が得られることがわかる。よって、コーティングはこの領域において、ほぼメタリックな鏡面性となるように形成されているか、または十分な不透明度と、反射における好ましくはニュートラルな色の印象（しばしば「銀色」とも呼ばれる）と、総じて高い反射度とを伴ういわゆる「メタリックな優美さ」を有する。
【0056】
しかし、コーティングが配置された少なくとも１つの領域における主面が構造化された構造を有する場合にも、メタリックな優美さ、すなわち、制御パネルや他の面、例えばステンレス鋼製のカバー要素などのステンレス鋼表面から得られる印象と同様の印象が得られる。このような構造化により、特にブラッシュステンレス鋼などのブラッシュメタル表面の印象を生じさせることができる。
【0057】
そのため、作業環境の均質な優美さを得るためには、このような要素が特に好ましい場合がある。なぜならば、このようにして、例えば、視覚的にほとんど目立たない、あるいは通常の金属表面とほとんど差異がないように形成されたカバープレートが得られるためである。
【0058】
このことは、図面の図１０の写真の図で例示される。これは、ガラス要素を写真で示したものである。ここでは、ガラス基材を通して観察する。コーティングには無コーティング部があり、ここでは写真画像の右下領域の暗い部分である。ここで、右方から左方へ延びる縞模様が得られるように構造化されており、これは、写真画像ではコーティングの輝度の局所的な差として現れている。しかし、光学的な優美さの全体的にメタリックな特性がはっきりと認識できる。
【0059】
よって、驚くべきことに、本開示に従って、反射性であると同時にタッチ操作も可能であるように形成されているカバープレートを得ることができる。そのため、このカバープレートは、本発明で扱う用途では不利となる、コーティングの金属特性、特に高い導電性を伴うことなくメタリック効果を発揮する。
【0060】
一実施形態によれば、ガラスまたはガラスセラミック要素は、少なくともコーティングが配置された領域において、ＣＩＥＬ＊ａ＊ｂ＊系における色度点であって、Ｌ＊が５５より大きく、ａ＊、ｂ＊が－１２～＋１２、好ましくは－１０～＋１０、特に好ましくは－５～＋５の範囲にある色度点を有する。色度点は、色度計による色度測定において測定されるかまたは測定可能であることが好ましく、その際、コーティングは、ガラスまたはガラスセラミック基材の、色度計と反対側の主面上に配置されている。要素の、コーティングされた面と反対側の面にさらなるコーティングが配置されている場合には、これを、測定前に例えば研磨やレーザアブレーションで除去して、ガラスまたはガラスセラミック基材の、色度計と反対側の主面上にコーティングが配置された状態で測定できるようにすることが可能である。特に、このような研磨工程は通常は、コーティングの色度点の測定結果に全くあるいはせいぜい無視できる程度にしか影響を与えない。好ましくは、Ｌ＊は、６０より大きく、好ましくは６２より大きい。本願において、総じて、色度値あるいは色度点はそれぞれ好ましくは、黒色トラップに対する測定で、特に好ましくはＫｏｎｉｃａ－Ｍｉｎｏｌｔａ社製分光光度計ＣＭ－７００ｄを使用して測定される。
【0061】
よって、本実施形態によれば、コーティングは、透過におけるニュートラルな色度点を有する反射コーティングとして形成されている。透過におけるニュートラルな色度点が特に有利であるのは、それにより、表示要素および／または発光要素を、コーティングを通して可能な限りそのままの色調で知覚することが可能となるためである。例えば、色度値ａ＊、ｂ＊がそれぞれ－３０～＋３０の範囲にある場合、透過におけるニュートラルな色度点を既に与えることができる。例えば、単層として形成されたコーティングについて、ａ＊が１０８でありｂ＊が２２．４である値を実現することができ、また、層系（特に少なくとも３つの部分層を含む層系）として形成されたコーティングについて、ａ＊が４６でありｂ＊が８．１である値を実現することができる。これらの色度値ａ＊、ｂ＊により、透過においてニュートラルな色度点が可能となる。
【0062】
そのため、コーティングおよび／または要素の厳密な設計次第では、明色の印象を設定することが可能である。例えば、５５または６０、あるいは６２よりも有意に大きいＬ＊の値を得ることができる。
【0063】
一実施形態によれば、コーティングは、１０００ｎｍ未満、例えば５００ｎｍ未満、またはさらには２００ｎｍ未満の厚さを有する。コーティングの厚さが大きいと、コーティングのクラックや剥離の影響も生じ得るため、好ましくない。また、製造上の理由から、可能な限り小さい厚さを選択することが望ましい場合もある。なぜならば、例えばＰＶＤプロセスでは、厚いコーティングよりも薄いコーティングの方が短時間で成膜することができるためである。また、コーティングの厚さ（または層厚）が１０００ｎｍを超えて非常に大きい場合には、透過率が低すぎるため好ましくないことがある。
【0064】
しかし、コーティングのシェーディング効果を保証するためには、コーティングの所定の最小厚さを好ましくは少なくとも２０ｎｍとすることが有利になり得る。この最小層厚は、好ましくは２０ｎｍであるが、この値は、コーティングの厳密な組成によって変化し得る。例えば、純粋に金属で形成されたコーティングは、所定の非金属（またはセラミック）状に形成されたコーティングよりも小さい層厚で、既に十分なシェーディングを生じさせることができる。
【0065】
ガラスまたはガラスセラミック要素の特別な利点の１つに、コーティングが、いわゆる高温領域にもいわゆる低温領域または表示領域にも適しているという点がある。ガラスまたはガラスセラミック要素の対応する領域を高温領域として使用するか低温領域または表示領域として使用するかに応じてコーティングの厚さを特に調整することは、不要である。したがって特に、一実施形態によれば、コーティングが一定の厚さを有することが提供される。
【0066】
一定の厚さとは、ここでは、コーティングが配置されたガラスまたはガラスセラミック要素の少なくとも１つの領域におけるコーティングの厚さが、この領域におけるコーティングの平均厚さに対して最大で４０％、好ましくは最大で２０％、特に好ましくは最大で１０％、非常に特に好ましくは最大で５％変動することを意味する。平均厚さは、コーティングの最大厚さとコーティングの最小厚さとの平均値として定義される。
【0067】
さらに、コーティングが一方ではタッチ操作可能となるように設計されており、他方ではそれと同時に反射性をも有するように形成されていることが可能であることによって、コーティングの特別な利点が提供される。そのため、一実施形態によれば、コーティングは、タッチ操作可能であると同時に反射性をも有するように形成されるように設計されている。特に、本実施形態によれば、コーティングは、ＣＩＥＬ＊ａ＊ｂ＊系における色度点であって、Ｌ＊値が５５より大きく、好ましくは６０より大きく、特に好ましくは６２より大きく、さらにはそれよりも大きい色度点を有するように形成されていてよい。特に、本実施形態によるコーティングによって、明色の鏡面反射性の設計が可能であり、その際、ガラスまたはガラスセラミック要素は同時に、コーティングが配置された領域においてもタッチ操作可能である。
【0068】
実施形態によるコーティングあるいは板状のガラスまたはガラスセラミック要素のような反射率値および／または色度値、特にＬ＊値を有すると同時にさらにタッチ操作も可能であるコーティングあるいは板状のガラスまたはガラスセラミック要素のこのような設計は、以前には不可能であった。非構造化基材あるいは非構造化基材表面について得られるようなこのような高い反射率値は、これまでは通常は純金属コーティングによってのみ可能であったが、こうしたコーティングは導電性であるため、タッチ操作が可能となるようには形成されていない。
【0069】
コーティングの一実施形態によれば、コーティングは、コーティングまたはコーティングの少なくとも一部、特にコーティングが単層としてではなく層系として、例えば３層を含むものとして形成されている場合には例えば下層または部分層が、５５０ｎｍの波長で０．１より大きい吸収係数ｋを有するように設計されている。ｋの値が大きいことが有利であり、ｋは、例えば１より大きくてもよく、例えば約２であってもよいし、さらには２より大きくてもよい。５５０ｎｍでの屈折率値ｎは、例えば２より大きくてもよい。例えば金属で形成されたコーティングでは、５５０ｎｍでのｎが２未満であり、ｋが２より大きい場合に有利である。非金属または（部分的に）セラミックコーティングの実施形態によれば、５５０ｎｍでのｎが２より大きく、ｋが０．１より大きく３未満であると有利である場合がある。このような場合、吸収性であると同時に高い表面抵抗をも有するコーティングを有利に得ることができるため、少なくともコーティングが配置された領域において０．５％～５％の調整可能な光透過率を有するガラスまたはガラスセラミック要素が得られる。
【0070】
さらなる実施形態によれば、コーティングは、１０重量％未満、好ましくは５重量％未満、特に好ましくは２重量％未満の水素を含む。一般に、水素はコーティングの耐熱性を低下させるため、これは有利なことである。したがって、コーティングの水素含有量は制限されるべきであり、上述のとおり１０重量％未満であることが好ましい。したがって、好ましくは、水素の意図的な添加は行われない。
【0071】
本開示のさらなる態様はまた、ガラスまたはガラスセラミック要素、好ましくは本開示の一実施形態によるガラスまたはガラスセラミック要素の製造方法に関する。この方法は、
－ 透明に形成された板状のガラスまたはガラスセラミック基材を提供するステップと、
－ ガラスまたはガラスセラミック基材をコーティングチャンバに導入するステップと、
－ コーティングチャンバ内で、少なくとも１つの半金属成分および／または少なくとも１つの金属成分を含むターゲットを提供するステップと、
－ コーティングチャンバ内の圧力を調整し、その際、圧力は、少なくとも５×１０－４ｍｂａｒ～最大で５×１０－２ｍｂａｒであるものとするステップと、
－ スパッタリングによりコーティングを行い、その際、スパッタリングは、ＤＣスパッタリング、またはＡＣスパッタリング、例えば中周波スパッタリングまたは高周波スパッタリングとして行うことができるものとするステップと
を含み、それにより、板状のガラスまたはガラスセラミック基材と、該ガラスまたはガラスセラミック基材の少なくとも１つの主面上に少なくとも部分的に配置されたコーティングとを含む板状のガラスまたはガラスセラミック要素が得られ、
ここで、コーティングは、金属成分と半金属成分とを含み、かつ１ＭΩ超の表面抵抗を有し、ガラスまたはガラスセラミック要素は、少なくともコーティングが配置された領域において、好ましくはガラスまたはガラスセラミック基材の厚さ４ｍｍに対して、０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％の光透過率τｖｉｓを有する。
－ 透明に形成された板状のガラスまたはガラスセラミック基材を提供するステップと、
－ ガラスまたはガラスセラミック基材をコーティングチャンバに導入するステップと、
－ コーティングチャンバ内で、少なくとも１つの半金属成分および／または少なくとも１つの金属成分を含むターゲットを提供するステップと、
－ コーティングチャンバ内の圧力を調整し、その際、圧力は、少なくとも５×１０－４ｍｂａｒ～最大で５×１０－２ｍｂａｒであるものとするステップと、
－ スパッタリングによりコーティングを行い、その際、スパッタリングは、ＤＣスパッタリング、またはＡＣスパッタリング、例えば中周波スパッタリングまたは高周波スパッタリングとして行うことができるものとするステップと
を含み、それにより、板状のガラスまたはガラスセラミック基材と、該ガラスまたはガラスセラミック基材の少なくとも１つの主面上に少なくとも部分的に配置されたコーティングとを含む板状のガラスまたはガラスセラミック要素が得られ、
ここで、コーティングは、金属成分と半金属成分とを含み、かつ１ＭΩ超の表面抵抗を有し、ガラスまたはガラスセラミック要素は、少なくともコーティングが配置された領域において、好ましくはガラスまたはガラスセラミック基材の厚さ４ｍｍに対して、０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％の光透過率τｖｉｓを有する。
【0072】
総じて、ガラスまたはガラスセラミック基材は、本方法を実施する前に既に少なくとも１つのコーティングを含むことができ、すなわち、例えば上面または下面にいわゆるクッキングゾーンマーキングの形態でコーティングを有することができる。しかし、スパッタリング後に初めて、もう１つのコーティング、または場合によってはさらなる複数のコーティングを施与することも可能である。
【0073】
本方法によれば、少なくとも１つのターゲットがコーティングチャンバ内で提供される。例えば、少なくとも１つの半金属成分と少なくとも１つの金属成分とを含むターゲットを１つだけ提供することが可能である。しかし、半金属成分を含むターゲットと、金属成分を含むもう１つのターゲットとを提供することも可能である。これは、例えばいわゆる同時スパッタリングの場合に該当する。
【0074】
一実施形態によるコーティングは、例えば、不可避の不純物を除いてアルミニウムおよびシリコンのみを含む金属コーティングとして形成され、例えば、いわゆる同時スパッタリングプロセスで製造することができる。このプロセスでは、第１のマグネトロンに純アルミニウムターゲットが、第２のマグネトロンにシリコンターゲットが備えられ、スパッタリングを容易にするための技術的理由から、このターゲットには一定量のアルミニウム、例えば最大で２０重量％のアルミニウム安定化が含まれることがある。両ターゲットは、スパッタリングローブ同士の主方向が基材の一平面上に向くように互いに割り当てられる。この面では、選択されたプロセスパラメータに従って得られるコーティングの調整された組成が予想されるが、しかし、基材面ではアルミニウムの方またはシリコンの方にシフトしている。スパッタリングプロセスは、アルミニウムターゲットへのスパッタリング電力が、シリコンターゲットへの電力の約２倍となるように運転される。
【0075】
反応ガスを添加することで、例えば金属で形成されたコーティングよりもアルミニウム含有量の高い組成物を得ることができる。例えば、この場合、アルミニウムとシリコンとの比率が（重量で）１：１の組成物を得ることもできる。コーティングにおけるアルミニウムの比率が高すぎると、シリコンの安定化特性によりコーティングの耐熱性および／または耐薬品性に不利になることがある。いわゆる（部分的に）セラミックコーティングの製造における課題は特に、正しい動作点を確立し、さらに制御することにある。これは特に、正しい反応ガス分圧の確立に関する。ここで、反応性スパッタリングのいわゆるＳ字曲線の金属部分に位置する動作点を調整する必要がある。この点は、反応ガス制御と部分的にセラミック化したターゲットの使用とによって安定的に確立および維持することが可能であり、その際、装置内の所定の残留ガス量が絶対的に必要である。この特定の動作点の目的は、吸収性のある非化学量論的なコーティングであって、光学的印象に関するその金属特性が可能な限り保持されるにもかかわらず、可能な限り高い表面抵抗を有するコーティングを確立することにある。このようなコーティングは、例えば、５５０ｎｍの波長での吸収係数ｋが少なくとも０．１以上であり、かつ／または５５０ｎｍの波長での屈折率値が２以上であると表すこともできる。
【0076】
さらに、本開示は、ガラスまたはガラスセラミック要素、特に本開示の実施形態によるガラスまたはガラスセラミック要素であって、本開示による方法で製造されたまたは少なくとも製造可能なガラスまたはガラスセラミック要素にも関する。
【0077】
本開示のさらに別の態様は、ガラスまたはガラスセラミック要素、特に、実施形態によるおよび／または本開示の実施形態による方法で製造されたもしくは少なくとも製造可能なガラスまたはガラスセラミック要素の、例えば、家庭用電化製品および／もしくは加熱器具のカバープレートとしての、特に調理用機器、特にガスもしくは誘導調理用機器のカバープレートとしての、またはオーブンの窓としての、または暖炉の覗き窓としての、または冷蔵庫の覗き窓としての、または電子レンジの覗き窓としての、または操作要素、特にコーヒーマシンの操作要素のもしくはオーブンの前面窓としての、または例えば棚もしくはテーブルなどの台所用具もしくは実験室用具の天板としての、または例えばスマートフォンなどの家電機器の操作面としての使用にも関する。
【図面の簡単な説明】
【0078】
【図1】ガラスまたはガラスセラミック要素１の概略側面図。
【図2】ガラスまたはガラスセラミック要素１の上面図。
【図3】ガラスまたはガラスセラミック要素１の概略斜視図。
【図4】さらなるコーティング３を含むガラスまたはガラスセラミック要素１の概略側面図。
【図5】ガラスまたはガラスセラミック要素１の概略断面図。
【図6】ガラスまたはガラスセラミック要素１のさらなる実施形態を示す図。
【図7】例示的な家庭用電化製品および／または加熱器具６０を示す図。
【図8】センサ８０を含むガラスまたはガラスセラミック要素１を示す図。
【図9】ガラスまたはガラスセラミック要素１のさらなる好ましい実施形態を示す図。
【図10】ガラス要素の写真を示す図。
【図11】ガラスまたはガラスセラミック要素の屈折率値ｎを示す図。
【図12】ガラスまたはガラスセラミック要素の吸収係数ｋを示す図。
【0079】
以下に、図面を参照しながら本発明をより詳細に説明する。
【0080】
図１は、一実施形態によるガラスまたはガラスセラミック要素１の、正確な縮尺によらない概略側面図である。ガラスまたはガラスセラミック要素１は、ガラスまたはガラスセラミック基材１０を含み、この基材１０は、ここでは板状でかつ平面状に形成されている。総じて、図１に示した平面の板状のガラスまたはガラスセラミック要素１あるいはガラスまたはガラスセラミック基材１０の例に限定されず、要素１あるいは基材１０は、反るようにまたは湾曲するように形成されていてもよい。
【0081】
板状のガラスまたはガラスセラミック基材１０は、２つの主面１１，１２を含む。これらの主面１１，１２は総じて、面１１，１２と呼ばれることもあり、特に基材１０の厳密な空間的配置に応じて、例えば上面や下面あるいは前面や裏面と呼ばれることもある。基材１０の面１１，１２と、コーティングされた基材あるいは要素１の面１１，１２とは互いに対応しているため、基材１０の主面または面１１，１２に関する説明は、総じて、要素１の面または主面にも相応して該当する。
【0082】
原則として、このような基材１０あるいは要素１を備えた機器、例えば家庭用電化製品および／または加熱器具の動作使用において最上面または最前面として存在する面を、上面あるいは前面と呼ぶ。
【0083】
ガラスまたはガラスセラミック基材１０は、例えば、ガラス基材として設計されていてよい。この場合、ガラス基材は、ソーダライムガラス、アルミノケイ酸ガラスまたはホウケイ酸ガラスを含むことができ、特に、ソーダライム板ガラスまたはホウケイ酸板ガラスとして設計されていてよい。その場合、ソーダライムガラスは安価に製造および加工できるため有利である。特に、基材１０は、強化された、好ましくは熱強化されたソーダライム板ガラスとして存在することができる。このようにすると、基材１０の機械的耐久性が向上するため有利である。しかし、ガラス基材１０の特定の設計では、基材１０がホウケイ酸ガラスを含み、例えばホウケイ酸板ガラスとして形成されていることが好ましい場合がある。なぜならば、ホウケイ酸ガラスはソーダライムガラスに比べて耐薬品性が向上しており、また、既にもともと耐熱性も向上していることから、必ずしもそうしたホウケイ酸板ガラスを改めて強化する必要がないためである。ただし、ホウケイ酸板ガラスについても、強化、例えば熱強化を行うことは排除されない。したがって、家庭用電化製品および／または熱分解炉の覗き窓のような例えば５００℃に及ぶ高い使用温度を有する加熱器具でガラス基材１０を使用するには、ガラス基材１０をホウケイ酸板ガラスとして、または例えばアルミニウムシリケートガラスまたはリチウムアルミニウムシリケートガラスを含む化学強化板ガラスとして設計すると有利である場合がある。
【0084】
一実施形態によれば、ガラスまたはガラスセラミック基材１０は、ガラスセラミック基材として存在する。この場合、ガラスセラミックは、好ましくは透明に形成されており、すなわち吸収によって暗色にならず、それと同時に好ましくは澄明であり、すなわち散乱をわずかにしか示さない。このようなガラスセラミック基材１０、およびそれに相応してガラスセラミック要素１は、特定の動作負荷、特に高い熱機械的応力にさらされる用途で、例えばいわゆるクックプレートとしての調理用機器において、特にガスバーナーまたは発熱用誘導コイルと組み合わせて特に有利に使用することが可能である。
【0085】
図１の正確な縮尺によらない概略側面図からわかるように、ガラスまたはガラスセラミック基材１０の少なくとも１つの主面１１，１２に少なくとも部分的にコーティング２が配置されており、この場合、ここでは下面として形成されている主面１２に配置されている。すなわち、ガラスまたはガラスセラミック要素１は、ガラスまたはガラスセラミック基材１０およびコーティング２が配置された領域１０１を有する。また、コーティング２は、総じて、遮光コーティング、または遮光もしくはシェーディング効果を有するコーティング２と理解および／または呼ばれることもある。
【0086】
ガラスまたはガラスセラミック基材１０の少なくとも１つの面１１，１２でのコーティング２の部分的な配置について、ここではさらに、ガラスまたはガラスセラミック要素１の上面図である図２において説明する。ここでは、図１と同様に、ガラスまたはガラスセラミック基材１０の下面にコーティング２が配置されている。説明したように、ガラスまたはガラスセラミック基材１０は、観察者がガラスまたはガラスセラミック基材１０を通してもコーティング２を知覚できるように、好ましくはガラスまたはガラスセラミック基材１０の厚さ３ｍｍ～４．５ｍｍ、特に好ましくは４ｍｍに対して、ガラスまたはガラスセラミック基材１０が少なくとも２０％、好ましくは少なくとも４０％、好ましくは少なくとも８０％の光透過率を有するように形成されている。したがって、ガラスまたはガラスセラミック要素１は、ここでは、コーティング２が配置された領域１０１と、コーティング２を含まない領域１００とを含む。図２の例示的な図示では、領域１００は、ガラスまたはガラスセラミック基材１０あるいはこれに相応してガラスまたはガラスセラミック要素１のエッジ領域、すなわちコーティング２の周囲に形成されている。総じて、図１および２の例示的な図示に限定されることなく、ガラスまたはガラスセラミック基材１０の実質的に全面にコーティングが施与されていてもよい。実質的に全面に施与されたコーティングとは、少なくとも１つの主面を少なくとも９０％、好ましくは少なくとも９５％覆うコーティングを意味する。特に、コーティング２は、少なくとも１つの主面１１または１２を１００％覆うこともできる。
【0087】
総じて、図１および図２に示すガラスまたはガラスセラミック要素１の実施形態に限定されることなく、ガラスまたはガラスセラミック要素１あるいはガラスまたはガラスセラミック基材１０は、０．０３ｍｍ～１０ｍｍまたはそれ以上、好ましくは０．０３ｍｍ～６ｍｍ、特に０．７ｍｍ～５ｍｍ、特に好ましくは３ｍｍ～５ｍｍの厚さを有することができる。例えば、基材１０は、０．０３ｍｍ～１ｍｍの範囲の厚さを有する薄板ガラスまたは薄板ガラスセラミックとして形成されていてもよいし、１ｍｍ～１０ｍｍまたはさらにはそれ以上の範囲の厚さを有する厚板ガラス基材またはガラスセラミック基材として形成されていてもよい。
【0088】
少なくとも１つの領域１０１における要素１の光透過率は、好ましくは総じて図１の要素１の例示的な図示に限定されず、基材の厚さ３．０ｍｍ～４．５ｍｍ、特に好ましくは４ｍｍについて測定される。基材の厚さあるいは要素の厚さが異なる要素１の光透過率を互いに比較することで、保護範囲内であるか否かを判断することができる。
【0089】
例えば、より厚い要素１あるいは基材１０は、４ｍｍの厚さにまで薄くすることができる。
【0090】
より薄い要素１あるいは基材１０も、積層および場合によっては必要な薄型化によって４ｍｍの厚さにすることで、透過率の物理的測定および対応する光透過率の測定も実施して、これらのより薄い基材１０あるいは要素１が保護周囲内にあるかどうかを判断することができる。ここで、この薄型化あるいは積層は、単に基材の厚さ、すなわちガラスまたはガラスセラミック材料の厚さを調整することのみを目的としており、場合によって行われる薄型化あるいは積層によりコーティング２の厚さを変更してはならないことに留意されたい。
【0091】
少なくとも９０％以上、または少なくとも９５％以上、またはさらには１００％という高い被覆度合いを有するコーティング２の設計が特に有利であり、なぜならば、このようにすると、例えば下に表示要素または操作要素を配置することができる覗き窓を組み込むための複雑な構造化プロセスを省略することができるためである。したがって、このようなコーティング２は、例えばＰＶＤプロセス、例えばスパッタリングプロセスでも非常に容易に製造することができる。また、コーティング２は、ガラスまたはガラスセラミック要素１の異なる領域で異なる厚さで形成されている必要はない。図１に概略的にかつ正確な縮尺によらずに示されている実施形態によれば、コーティング２が一定の厚さを有することが可能である。これは、領域１０１におけるコーティング２の最大厚さに対して、コーティング２の厚さが最大で４０％変動することを意味する。
【0092】
ガラスまたはガラスセラミック要素１のこれらの非常に有利な設計は、ガラスまたはガラスセラミック要素１が、総じて、図１および図２に例示されかつ説明されるガラスまたはガラスセラミック要素１の実施形態に限定されることなく、コーティング２が、金属成分と半金属成分とを含み、かつ１ＭΩ超の表面抵抗を有し、ガラスまたはガラスセラミック要素が、少なくともコーティング２が配置された領域１０１において、好ましくはガラスまたはガラスセラミック基材１０の厚さ４ｍｍに対して０．５％～５％の光透過率を有するように設計されていることによって可能となる。実施形態によれば、表面抵抗は、５ＭΩ超、またはさらには１０ＭΩ超であってよく、その際、ＧΩ範囲の非常に高い表面抵抗も可能である。しかし、好ましくは、表面抵抗は制限され、２５ＧΩ以下、好ましくは１０ＧΩ以下、特に好ましくは１ＧΩ以下、非常に特に好ましくは１００ＭΩ以下である。
【0093】
金属成分として、コーティングは総じて、アルミニウム、チタン、モリブデン、マグネシウム、銀または亜鉛を含むことができる。好ましくは、コーティングは、アルミニウム、チタン、マグネシウム、モリブデン、銀または亜鉛を含み、特に好ましくは、アルミニウム、銀、マグネシウムまたは亜鉛、最も好ましくはアルミニウムを含む。これらの金属は反射率の高い金属であり、組み合わせたり合金化したりしても高い反射率を生じるため好ましい。コーティング２の半金属成分は、ケイ素またはゲルマニウム、好ましくはケイ素であってよい。
【0094】
ガラスまたはガラスセラミック要素１の構造としては、図１に例示するように、ガラスまたはガラスセラミック基材１０の下面（ここでは面１２）にコーティングが配置されていることが好ましい。なぜならば、こうすることで、一実施形態によれば１０００ｎｍ未満の厚さを有する非常に薄いコーティング２が機械的攻撃から保護されるためである。これは、例えば、特にガラスまたはガラスセラミック要素１をいわゆるクックトップとして使用する場合に有利である。なぜならば、この場合、ガラスまたはガラスセラミック要素１の上面は、例えば調理器具との接触によってますます機械的攻撃にさらされるためである。非常に薄いコーティング２は、このように少なくとも部分的に迅速に摩耗し、その結果シェーディング効果を失うおそれがある。好ましくは、コーティング２は、１０００ｎｍよりもさらに薄く、例えば、５００ｎｍ未満の厚さを有する。さらに小さな、例えば２００ｎｍまたはさらにはそれよりも小さな層厚も可能であり、これらが好ましい場合もある。なぜならば、このような非常に薄い層は、製造時のプロセス時間の短縮を意味すると同時に、コーティングの厳密な設計によっては、領域１０１における例えばわずか０．５％という低い光透過率や例えば５％という高い光透過率を可能にするためである。つまり、非常に高解像度の表示要素、例えば高解像度ディスプレイを、適切に設計された非常に薄いコーティング２の下方で、特に高い光透過率で有利に使用することができる。しかし、有利には、コーティングは少なくとも２０ｎｍの厚さであることが望ましい。
【0095】
一実施形態によれば、コーティング２は、５５０ｎｍの波長で０．１より大きい吸収係数ｋを有するように設計されている。ｋの値が大きいことが有利であり、ｋは、例えば１より大きくてもよく、例えば約２であってもよいし、さらには２より大きくてもよい。５５０ｎｍでの屈折率値ｎは、例えば２より大きくてもよい。例えば金属で形成されたコーティング２では、５５０ｎｍでのｎが２未満であり、ｋが２より大きい場合に有利である。非金属または（部分的に）セラミックコーティング２の実施形態によれば、５５０ｎｍでのｎが２より大きく、ｋが０．１より大きく３未満であると有利である場合がある。このような場合、吸収性であると同時に高い表面抵抗をも有するコーティング２を有利に得ることができるため、コーティング２が配置された少なくとも１つの領域１０１において０．５％～５％の調整可能な光透過率を有するガラスまたはガラスセラミック要素１が得られる。
【0096】
さらなる実施形態によれば、コーティング２は、反射性、特に鏡面性となるように形成されている。すなわち、本実施形態によれば、コーティング２は、反射性、特に高反射性のメタリック調のコーティングとして設計形成されていてよい。
【0097】
さらなる実施形態によれば、ガラスまたはガラスセラミック要素１は、少なくともコーティング２が配置された領域１０１において、ＣＩＥＬ＊ａ＊ｂ＊系における色度点であって、Ｌ＊が５５より大きい値を有し、ａ＊、ｂ＊がそれぞれ－１２～＋１２、好ましくは－１０～＋１０、特に好ましくは－５～＋５の範囲にある色度点を有する。Ｌ＊の値は、例えば６０以上、特にさらには６２＊以上であってもよい。色度点は、色度計による色度測定において、ガラスまたはガラスセラミック基材１０の、色度計と反対側の主面上にコーティング２が配置された状態で測定されることが好ましい。言い換えれば、色度測定は、ガラスまたはガラスセラミック要素１を通して行われることが好ましく、したがって、図１に例示される要素１の実施形態では、色度計は主面１１上に配置されている。測定は、黒色トラップに対する反射で行われる。
【0098】
有利な実施形態によれば、コーティング２は、タッチ操作が可能であり、なおかつ反射性を有するように形成されている。特に、本実施形態によれば、コーティング２は、コーティング２が鏡面反射性であると同時にタッチ操作も可能であるように設計されていてよい。こうすることで、メタリックな優美さとタッチ操作可能性とを兼ね備えることができる。このことは、従来では不可能であった。例えば、反射コーティングは、独国特許出願公開第１０２０１３１０４７０２号明細書に記載されているように、従来では金属材料を用いてのみ可能であった。しかし、独国特許出願公開第１０２０１３１０４７０２号明細書による金属材料は導電性であり、いわゆる静電容量方式のタッチ操作を用いるには表面抵抗が低すぎるため、これはタッチ操作可能なものではなかった。
【0099】
さらなる実施形態によれば、コーティング２は、１０重量％未満、好ましくは５重量％未満、特に好ましくは２重量％未満の水素を含む。一般に、水素はコーティング２の耐熱性を低下させるため、これは有利なことである。したがって、コーティング２の水素含有量は制限されるべきであり、上述のとおり１０重量％未満であることが好ましい。
【0100】
一実施形態によれば、コーティング２は、金属で形成されていてよい。金属での形成とは、総じて、コーティングの非金属の含有量が限られており、好ましくは合計で４重量％未満であることを意味する。好ましくは、コーティング２の酸素Ｏおよび／または窒素Ｎの元素の含有量は、合計で４重量％未満であり、好ましくはそれぞれ２重量％未満である。
【0101】
総じて、上述の実施形態に限定されることなく、コーティングは、例えば組成ＡｘＢｙを有することができ、ここで、Ａは、例えばアルミニウム、チタン、モリブデン、マグネシウム、銀または亜鉛、好ましくはアルミニウム、チタン、マグネシウム、モリブデン、銀または亜鉛、特に好ましくはアルミニウム、銀、マグネシウムまたは亜鉛、最も好ましくはアルミニウムなどの高反射率の少なくとも１つの金属であり、Ｂは、例えばケイ素またはゲルマニウムなどの少なくとも１つの半金属である。
【0102】
本実施形態によれば、コーティング２は、好ましくは、半金属成分としてケイ素Ｓｉを含む。金属成分あるいは金属は、好ましくはアルミニウムＡｌであるかまたはこれを含む。非常に特に好ましくは、本実施形態によるコーティングは、コーティング中の金属成分および半金属成分の総含有量に対して７０重量％超のケイ素の含有量と３０重量％未満のＡｌの含有量とを有する。
【0103】
例えば、コーティング２は、ＡｌＳｉ系コーティングとして形成されていてよい。このようなコーティングは、（それぞれ金属および半金属成分の総重量に対して）少なくとも約７０重量％、好ましくは最大で９９重量％のケイ素含有量から１ＭΩ超の表面抵抗を有し、これで商業的に使用されている大半のタッチセンサを動作させることができる。ここでは、表面抵抗を高く設定するためにケイ素の半導体特性あるいは半金属特性が有利であるため、コーティング２は、可能な限り電気絶縁性を有するように形成されている。しかし、純ケイ素のコーティングは、様々な理由から有用ではない。なぜならば、一方では、こうすると反射で十分に高い輝度を得ることができず、他方では、ケイ素の半導体特性あるいは半金属特性により、このような系は、強度のアーキングなどのプロセスの欠点を伴うスパッタリングなどのプロセスで製造することができるためである。したがって、ここではアルミニウムの含有量が可能な限り高くなるように調整することが有利である。これは、例えば、アルミニウムおよびケイ素を含むスパッタリングターゲットを提供することで実現できる。驚くべきことに、このようなターゲットや相応してそれから得られるコーティングにおけるアルミニウム含有量が、例えば最大でほぼ３０重量％と高いにもかかわらず、なおも十分に高い表面抵抗を達成することが可能であることが判明した。従来は、例えば独国特許出願公開第１０２００７０３０５０３号明細書では、例えばケイ素ターゲットにホウ素をドープすることで、アルミニウムの含有量を可能な限り低く抑えるか、または必要に応じてさらには回避すべきであることが前提とされていた。
【0104】
さらなる実施形態によれば、コーティング２は、非金属で形成されていてよい。非金属での形成とは、コーティングの（部分的に）セラミックまたはセラミックでの形成をも意味し得る。コーティングまたは材料の非金属または（部分的に）セラミックでの形成は、この場合、少なくとも４重量％の非金属を含むコーティングの場合について想定されている。コーティング２が非金属で形成されている場合、好ましくは、半金属成分はケイ素であるかあるいはケイ素を含み、金属成分はアルミニウムであるかあるいはアルミニウムを含む。特に好ましくは、コーティングは、酸素および／または窒素の元素を含み、例えば窒素混和物の場合、コーティング２の窒素含有量は、好ましくは４重量％超であり、かつ／または例えば酸素混和物の場合、コーティングの酸素含有量は、好ましくは１０重量％超である。非金属で形成されたコーティング２の非常に特に好ましい変形例によれば、コーティング２のケイ素含有量は４０重量％超であり、コーティング２のアルミニウム含有量は６０重量％未満である。
【0105】
どちらの場合も、それぞれの他のガスの残留物が層内に存在する可能性がある。これは、基材および／または輸送媒体を通じてこれらのガスが随伴するためである。しかし典型的には、それぞれの他のガスの割合は、コーティング２に対して４重量％未満、好ましくは２重量％未満の範囲である。
【0106】
このような非金属によるコーティング２の形成は、例えば、マグネトロンスパッタリングプロセスでの製造時に追加の反応ガス、例えば酸素Ｏ２または窒素Ｎ２を反応ガスとして使用することによって達成することができる。これにより、一般式ＡｗＢｘＯｙＮｚの窒化物もしくは酸化物、または総じて酸窒化物の化合物が形成される。この場合も、Ａは、アルミニウム、チタン、モリブデン、マグネシウム、銀または亜鉛、好ましくはアルミニウム、チタン、マグネシウム、モリブデン、銀または亜鉛、特に好ましくはアルミニウム、銀、マグネシウムまたは亜鉛、最も好ましくはアルミニウムなどの高反射率の少なくとも１つの金属である、Ｂは、例えばケイ素またはゲルマニウムなどの少なくとも１つの半金属である。しかし、重量での、窒素Ｎもしくは酸素Ｏの含有量、または酸素Ｏと窒素Ｎの含有量の合計は、これらのコーティング材料において、成分Ａおよび／またはＢの含有量の合計よりも常に低い。コーティングは、例えば窒化アルミニウムケイ素ＡｌＳｉＮｘもしくは酸化アルミニウムケイ素ＡｌＳｉＯｙとして、または総じては酸窒化アルミニウムケイ素ＡｌＳｉｚＯｙＮｘとして形成されていてよく、コーティングにおけるアルミニウムおよびケイ素の正確な含有量は、それぞれ可変であり得る。特に、コーティング２が、重量または物質量にかかわらず等しい割合でアルミニウムおよびケイ素を含むことのみが想定されているわけではない。厳密な設計によっては、コーティング２は総じて、窒化物としての形成においても、酸化物としての形成においても、酸窒化物としての形成においても、ケイ素よりもアルミニウムを多く含んでもよいし、その逆であってもよい。したがって、可能な限り高い反射率を達成するために、コーティング２のアルミニウム含有量を増加させることが有利である場合がある。一方で、コーティング２のタッチ操作可能性は、コーティング２のケイ素含有量を増加させることによって有利に向上させることができる。
【0107】
一実施形態によれば、サブストイキオメトリの酸化物、窒化物または酸窒化物が形成されるように、プロセスが運転される。ここで、サブストイキオメトリの窒化物系が特に有利である。これは、窒素を若干加えることで、アルミニウムおよびケイ素がコーティング組織により強固に組み込まれ、熱負荷下でのコーティングの劣化が起こりにくくなるためである。特に、こうすることで、熱負荷時または熱負荷後でも表面抵抗（あるいは導電率）が規定限度値内に収まる。
【0108】
サブストイキオメトリの化合物、例えば酸化物、窒化物または酸窒化物とは、本明細書では、非金属が金属および／または半金属成分に対して過少量で添加されているため、金属および／または半金属成分が完全に酸化せず、かつ／または１つ以上の成分のすべての原子が同じ酸化数で存在しているわけではなく、または存在する必要がないことを意味する。
【0109】
サブストイキオメトリの酸化物、窒化物または酸窒化物とは、本明細書では特に、それぞれ重量割合で、窒化物中の窒素Ｎの含有量、あるいは酸化物中の酸素Ｏの含有量、あるいは酸窒化物中の酸素Ｏおよび窒素Ｎの含有量の合計が、コーティング２の半金属および／または金属成分の割合よりも常に小さいことを意味する。
【0110】
窒化物コーティング２として、あるいは少なくとも大部分が窒化物コーティング２として形成されているコーティング２におけるケイ素とアルミニウムとの重量比が１：１である場合、コーティング２における窒素の含有量が５重量％以上で、少なくとも１ＭΩ、好ましくは少なくとも５ＭΩ、特に好ましくは少なくとも１０ＭΩの十分に高い表面抵抗が達成された。ここで、コーティング２の組成は、好ましくは５ｋｅＶの加速電圧でＥＤＸによって求めることができ、その際、好ましくは数回の測定、例えば５回の測定が行われ、得られた測定点の平均値が示される。コーティング２の残留酸素量は約１重量％であり、この値はそれぞれの装置条件に依存するため、正確に設定し定義することは困難である。したがって、本開示において、窒化物のまたは窒化物となるように形成された、あるいは少なくとも大部分が窒化物である（または大部分が窒化物となるように形成された）コーティング２とは、その製造時に酸素が不可避の微量でのみ存在するコーティング２を意味する。スパッタリングなどのＰＶＤプロセスでコーティング２が得られた場合、これは、例えば、反応ガスとして酸素を添加しないプロセスや、酸化性（部分的に）セラミックターゲットを使用しないプロセスである。ここで、不可避の微量の酸素とは、上記で説明したように製造プロセスによって異なり、通常は４重量％を超えることはない。
【0111】
酸化物となるように形成されたコーティング２の場合、コーティング２中のアルミニウムとケイ素との厳密な比に応じて、酸素の最小含有量を１０重量％以上とすることによって十分に高い表面抵抗を得ることができる。窒化物のまたは大部分が窒化物であるコーティングの場合にも、コーティング２中のアルミニウム対ケイ素の比により、窒素あるいは酸素の異なる限界含有量が、十分な表面抵抗を得るために十分であるかまたは必要になる場合がある。
【0112】
ここで、金属でのコーティング２の形成と、非金属または（部分的に）セラミックでのコーティング２の形成との双方により、ガラスまたはガラスセラミック要素１の有利な特性を実現することができる。したがって特に、主面（または面）１１，１２のうちの少なくとも一方に少なくとも部分的にコーティング２を有し、少なくともコーティング２を有する領域１０１において、好ましくはガラスまたはガラスセラミック要素１の厚さ４ｍｍに対して０．５％～５％の光透過率を有し、かつコーティングが１ＭΩ超、好ましくは５ＭΩ超、特に好ましくはさらに１０ＭΩ超の表面抵抗を有するガラスまたはガラスセラミック要素１を提供することが可能である。
【0113】
図３は、一実施形態によるガラスまたはガラスセラミック要素１の、正確な縮尺によらない概略斜視図であり、ここでは、ガラスまたはガラスセラミック要素１は、コーティング２が上向きになるように配置されている。しかし、総じて、例示的な実施形態に限定されることなく、コーティングが、ガラスまたはガラスセラミック要素１あるいはガラスまたはガラスセラミック基材１０の主面（または面）に配置されており、この主面（または面）が、動作上、ガラスまたはガラスセラミック要素１の下面または裏面として形成されていると有利である場合がある。なぜならば、こうすることでコーティング２は、例えばクックトップとして使用されるガラスまたはガラスセラミック要素１の上面での調理器具の動きによる機械的攻撃から、基材１０によって保護されるためである。コーティング２は、ここでは、ガラスまたはガラスセラミック基材１０の主面あるいは面の全面に施与されている。
【0114】
一実施形態によれば、図４に概略的にかつ正確な縮尺によらずに示されているように、ガラスまたはガラスセラミック要素１がさらなるコーティング３を含むことが提供され得る。このさらなるコーティング３は、少なくとも１つの主面１１，１２、ここでは主面１２上に、ガラスまたはガラスセラミック基材１０とコーティング２との間に少なくとも部分的に配置されている。図４の概略図では、ガラスまたはガラスセラミック要素１あるいはガラスまたはガラスセラミック基材１０の主面１２は下向きであり、すなわち下面として形成されている。さらなるコーティング３は、主面１２上に、ここでは基材１０上に直接、さらにはコーティング２が配置されたガラスまたはガラスセラミック要素１の領域１０１内に配置されている。ただし、ここではさらなるコーティング３とコーティング２とは完全に重なってはいない。しかし、総じて、図４に示す実施形態に限定されることなく、さらなるコーティング３とコーティング２とが完全に重なるように配置されていること、すなわち、さらなるコーティング３も、基材１０の少なくとも１つの主面（ここでは、主面あるいは面１２）とコーティング２との間で、領域１０１全体に配置されていることも可能である。コーティングのうちの一方、例えばコーティング２またはさらなるコーティング３における無コーティング部は、例えばマスキングによって、特にいわゆるマスキングシートによって実施し、または得ることが可能である。これは特に、物理的または化学的気相成長法により得られるコーティングの場合に該当する。しかし、無コーティング部を例えば印刷プロセスによって得ることも可能であり、これは例えば、さらなるコーティング３などのコーティングが、顔料入りエナメル層の形態で実施されている場合に可能である。なぜならば、印刷プロセスを用いることで、施与プロセスにおいて直接、無コーティング領域とコーティングされた領域との形態でコーティングの横方向の構造化を得ることができるためである。このさらなるコーティング３が少なくとも１つの主面１１上に配置されている場合、それは例えば、特に顔料入りエナメルをベースとする上面装飾として、または特にスパッタリングされたＡｌｘＳｉｙＮｚ層をベースとする引掻傷防止層として、またはこれらの２つの組み合わせとして機能することができる。
【0115】
さらなるコーティング３の厳密な種類および設計によって、これは異なる機能を発揮することができる。また、基材１０とコーティング２との間に複数のさらなるコーティング３を配置することも可能である。
【0116】
例えば、さらなるコーティング３は、ＳｉＯ２を含むかまたはそれから構成される、あるいは総じて酸化ケイ素から構成される単層として設計されていてよい。このように単層とすることで鏡面効果を高めることができるため、これによりＬ＊値をさらに大きくすることができる。有利には、この場合、さらなるコーティング３は、コーティング２と完全に互いに覆うように設計されており、すなわち、さらなるコーティング３も、さらなるコーティング２が設けられたガラスまたはガラスセラミック要素１の全領域に配置されている。このようにして、必要に応じてガラスまたはガラスセラミック要素１の色度点を変更することも可能である。特に、このようにして、ガラスまたはガラスセラミック基材１０の起こり得る色かぶりを補正または補償することさえ可能である。このことは、ガラスセラミック基材では特に重要であり得る。なぜならば、ガラスセラミック基材は、工業的にはバッチ中の不純物に起因する微量の鉄分によって若干の黄色かぶりを示すことがしばしばあるためである。これは、色調整層として設計されたさらなるコーティング３によって補償することができる。特に、さらなるコーティング３が層系として、例えば複数の材料層を含む光学層系として設計されていることも総じて可能である。しかし、経済的な理由から、コーティング３が単層として設計されていると有利である場合がある。
【0117】
代替的または追加的に、さらなるコーティング３は、ガラスまたはガラスセラミックからの元素の拡散を防ぐように設計されていてよい。すなわち、上記のような色調整および／または反射率の増加の代替として、さらなるコーティング３は、拡散バリアとして機能するように設計されていてもよい。特に、一実施形態によれば、さらなるコーティング３は、基材からのアルカリ金属あるいはアルカリ金属イオンの溶出に対する拡散バリアとして機能するように設計されていてもよい。これにより、ガラスまたはガラスセラミック基材１０および相応してガラスまたはガラスセラミック要素１の耐用年数を有利に延長させることができる。
【0118】
上記のようなさらなるコーティング３に対して代替的または追加的に、ガラスまたはガラスセラミック要素１は、カバー層４を含むことができる。これは、図５のガラスまたはガラスセラミック要素１の正確な縮尺によらない概略断面図に例示的に示されている。ここで、図３のガラスまたはガラスセラミック要素１はさらに、コーティング２上に少なくとも部分的に配置されるカバー層４を含む。
【0119】
図５に概略的に示すように、カバー層４は、コーティング２を完全に覆わないように設計されていてよい。さらに、図５にも概略的に示すように、カバー層４およびさらなるコーティング３も同様に、ガラスまたはガラスセラミック基材１０の主面（または面）の部分的に重なる領域にのみ施与されていることも可能である。しかし、総じて、図５に示す特定の実施形態に限定されることなく、カバー層４がコーティング２を完全に覆うことも可能である。さらに、総じて、図５の特定の実施形態に限定されることなく、さらなるコーティング３およびカバー層４も完全に重なる領域で施与されていることも可能である。特に、さらなるコーティング（または、適切な場合には、複数のさらなるコーティング）３、コーティング２およびカバー層４が、基材１０の１つの面（例えば、主面１２）の全面に施与されている設計も考えられる。
【0120】
ここで、カバー層４がコーティング２を完全に覆っていると、特に有利である場合がある。例えば、このような層４は、コーティング２の酸化または腐食に対する保護として機能することができる。特に、コーティング２がセラミックで、ただしサブイキオメトリでかつ／もしくは窒化物で形成されている場合、コーティング２が金属で形成されている場合、および／または総じてガラスまたはガラスセラミック要素１を調理用途で、特に、特別に高い温度が生じ得る用途で用いる場合には、酸素バリアとしてのコーティング層の形成が特に有利となり得る。さらに、コーティング２は半透明コーティングとして形成されているため、カバー層４は、領域１０１におけるガラスまたはガラスセラミック要素１の色度点をわずかに変更あるいは調整する役割も果たすことができる。
【0121】
総じて、さらなるコーティング３および／またはカバー層４は、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、ＳｉＯＮ、ＳｉＮｘ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＳｎＯｘ、ＭｇＯｘ、ＺｎＯ、ＺｒＯｘ、ＹＯｘ、ＭｏＯｘ、ＨｆＯｘおよび／またはこれらの物質の混合物を含むかまたはそれからなることができる。さらに、多孔質コーティングも代替的または追加的に考えられ、かつ／またはさらなるコーティング３および／もしくはカバー層４は、フッ化物、例えばＭｇＦ２を含むことができる。
【0122】
好ましくは、コーティング２は、総じて非晶質となるように形成されている。非晶質、特にＸ線非晶質コーティングとしてのコーティング２のこのような形成は、コーティング２の高い耐久性が望まれる場合に特に有利であり得る。したがって、特にガラスまたはガラスセラミック要素１が動作上高温にさらされる用途では、コーティング２のこのような非晶質の形成は有利であり得るが、コーティングが腐食性環境にさらされる可能性がある用途にも有利である。したがって、このような非晶質の設計は、特にガラスまたはガラスセラミック要素１を家庭用電化製品および／または加熱器具に使用する場合に有利であり得る。なぜならば、このような非晶質となるように形成されたコーティングには特に、コーティング２への腐食性物質の移動が起こり得る結晶面の形態の界面が存在しないためである。このように、コーティング２によって、基材１０の腐食を少なくとも低減することもできる。一実施形態によれば、コーティング２は、非晶質となるように形成されており、特に無構造および／またはＸ線非晶質のモルフォロジーを有する。無構造のモルフォロジーとは、コーティング２が粒界および／または例えば成長構造などの他の構造を含まず、均質に形成されていることを意味する。本開示では、非晶質とは特に、Ｘ線非晶質をも意味する。換言すれば、一実施形態によるコーティング２は、結晶質となるようには形成されていない。
【0123】
さらなる好ましい実施形態によれば、ガラスまたはガラスセラミック要素１は、高い耐熱性を有する。ガラスまたはガラスセラミック要素１の高い耐熱性は、特に光学特性の安定性、特に光透過率および／または色度点の安定性において示され、これは以下のように定義される：
－ ガラスまたはガラスセラミック要素１に３９０℃で８０時間熱負荷をかけた後、熱負荷後と熱負荷前の領域１０１におけるガラスまたはガラスセラミック要素１の光透過率の差は、絶対値で最大５％、好ましくは絶対値で最大３％であり、かつ／または
－ ガラスまたはガラスセラミック要素１に３９０℃で８０時間熱負荷をかけた後、領域１０１におけるガラスまたはガラスセラミック要素１の色度点の差ΔＥは、最大で２０、好ましくは最大で１０、特に好ましくは最大で５、非常に特に好ましくは最大で２であり、ここで、ΔＥは、以下：
のように求められ、ここで、色度点ＥｖＴは、熱負荷前の領域１０１におけるガラスまたはガラスセラミック要素１の色度点を指し、色度座標ａ＊
ｖＴ、ｂ＊
ｖＴ、Ｌ＊
ｖＴによって与えられ、色度点ＥｎＴは、熱負荷後の領域１０１におけるガラスまたはガラスセラミック要素１の色度点であり、色度座標ａ＊
ｎＴ、ｂ＊
ｎＴ、Ｌ＊
ｎＴによって与えられ、好ましくはそれぞれ、黒色トラップに対する測定で、特にＫｏｎｉｃａ－Ｍｉｎｏｌｔａ社製分光光度計ＣＭ－７００ｄを使用して測定される。
－ ガラスまたはガラスセラミック要素１に３９０℃で８０時間熱負荷をかけた後、熱負荷後と熱負荷前の領域１０１におけるガラスまたはガラスセラミック要素１の光透過率の差は、絶対値で最大５％、好ましくは絶対値で最大３％であり、かつ／または
－ ガラスまたはガラスセラミック要素１に３９０℃で８０時間熱負荷をかけた後、領域１０１におけるガラスまたはガラスセラミック要素１の色度点の差ΔＥは、最大で２０、好ましくは最大で１０、特に好ましくは最大で５、非常に特に好ましくは最大で２であり、ここで、ΔＥは、以下：
【数1】
【0124】
領域１０１におけるガラスまたはガラスセラミック要素１の光透過率の差が絶対値で最大５％であることは、ここでは、光透過率が最大５％変動し得ることを意味する。つまりこれは、熱負荷前の領域１０１における光透過率が５％であれば、熱負荷後は０％～１０％となり得ることを意味する。ただし、好ましくは、この差は５％未満であり、最大で３％である。
【0125】
さらなる実施形態によれば、コーティング２は、５５０ｎｍの波長で、少なくとも２以上の屈折率値ｎおよび／または少なくとも０．１以上の吸収係数を有する。
【0126】
一実施形態によれば、ガラスまたはガラスセラミック要素１は、ガラス要素として形成されており、コーティング２が配置された領域１０１において、０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％、好ましくは０．５～３．５％、特に好ましくは０．５～１．５％の光透過率を有する。
【0127】
さらなる実施形態によれば、ガラスまたはガラスセラミック要素１は、ガラスセラミック要素として形成されており、コーティング２が配置された領域１０１において、０．５％～１０％、好ましくは０．５％～５％、特に好ましくは２％～５％の光透過率を有する。
【0128】
図６は、さらなる実施形態を、概略的にかつ正確な縮尺によらずに示す。ガラスまたはガラスセラミック要素１は、ここでは、コーティング２に加えて、少なくとも１つの主面、ここではガラスまたはガラスセラミック基材１０の下面として設計されている主面（または面）１２上に構造化層５を含むように設計されている。この構造化層５は、例えば、構造化層５が主面、ここでは主面１２の領域５０１において少なくとも部分的に施与されるように、スクリーン印刷またはインクジェット印刷によって横方向に構造的に施与することができるセラミックコーティングとすることができる。
【0129】
例えば、構造化層５は、図６に例として示すように、領域５０１においてグリッドの形態で施与されていてよい。この構造化層５は、特に、スクリーン印刷またはインクジェット印刷などの印刷プロセスによって施与することができる、澄明ないしごくわずかに拡散性である無色のコーティング、例えばガラス融液ベースのコーティングであってよい。無色のコーティングは、顔料や染料を含まないゾル－ゲルコーティングであってもよく、同様に、印刷、吹付け、または浸漬などの従来のコーティングプロセスによって、例えばスクリーン印刷やインクジェット印刷によって施与可能であり得る。しかし、構造化層５は、所望の光学的印象を得るために、顔料、特に効果顔料および／または染料を含有することもできる。顔料および／または染料を添加することで、反射および光散乱の挙動に加え、コーティングの透過率にも狙いどおりに影響を与えることができる。
【0130】
ここで、図６に概略的に示されているものとは異なり、領域５０１におけるコーティング２の表面が平滑でなく、構造化層５の凸部に相当するレリーフを有し、すなわち、構造化層５の凸部に少なくとも部分的に従うこともできる。総じて、図６に示すガラスまたはガラスセラミック要素１の例に限定されることなく、このような構造化層５を１つ以上のコーティング３および／またはカバー層４と組み合わせることが可能である。特に、構造化層５は、基材１０あるいは基材１０の少なくとも１つの主面または面とコーティング２との間に配置されており、好ましくは基材に直接隣接して配置されている。特に、１つ以上の任意のさらなるコーティング３が存在する場合であっても、構造化層５は、基材１０に直接隣接する最下コーティングとして形成されていてよい。その場合、１つ以上のさらなるコーティング３およびコーティング２、ならびに任意のカバー層４は、構造化層５の上方に配置されている。
【0131】
しかし、図６の概略的でかつ正確な縮尺によらない図から逸脱して、構造化層５が、ガラスまたはガラスセラミック基材１０の、コーティング２と反対側の面１１に配置されていることも可能であり、またさらに好ましい場合がある。このようにして、観察者の視覚的知覚において、構造化層５がコーティング２上で鏡面化することにより生じる３Ｄ効果が得られる。このようにすると、ガラスまたはガラスセラミック基材１０の表面欠陥が隠蔽されるため、この効果は有利になり得る。したがって、ガラスまたはガラスセラミック基材１０上のコーティングをこのように配置することで、プロセスステップの特に好ましいシーケンスの選択が可能となる。例えば、最初に構造化層５の印刷を行い、次いで基材１０をセラミック化し、したがってガラスセラミックに変換するか、あるいは基材１０を熱強化に供することができ、その際、構造化層５の焼成を前述の熱ステップ中に行うことができる。最後に、さらなるステップでスパッタリングによりコーティング２を施与することができる。
【0132】
さらに、構造化層５が基材１０の両面に存在し、その際、例えば、構造化層が一方の面に他方の面とは異なるパターンで施与されていることも総じて可能であり、好ましい場合がある。構造化層５が基材１０の下面に存在する場合、さらに上面にもさらなる層、例えば、装飾、調理ゾーンマーク、ドットパターン、ロゴなどが施与されていてよい。
【0133】
このような構造化層５は、例えば安全上の理由からガラスまたはガラスセラミック要素１を備えた機器の操作者または使用者の過度の眩惑を防止するために、コーティング２の過度の鏡面効果を防止したい場合に特に有利であり得る。
【0134】
このような構造化層５は、例えば、このように設計されたガラスまたはガラスセラミック要素１がブラッシュステンレス鋼表面のような印象を与えるように、追加で審美的効果を有することも可能である。
【0135】
図７は、例示的な家庭用電化製品および／または加熱器具６０を概略的にかつ正確な縮尺によらずに示しており、これは、ここでは例示的にオーブンおよび調理用機器（コンロまたはクックトップとも呼ばれる）を含むレンジとして形成されている。調理用機器は、特にガスまたは誘導調理用機器であってよい。このような家庭用電化製品および／または加熱器具６０は、総じて、実施形態によるガラスまたはガラスセラミック要素１を含む。総じて、一実施形態による家庭用電化製品および／または加熱器具６０は、少なくとも１つの表示および／もしくは操作要素７０ならびに／またはセンサ８０をさらに含むように設計されていてよい。調理用機器の場合、これは、例えばガスバーナーまたは誘導コイルをさらに含むことができる。ここで、例示的な機器６０は、実施形態による２つのガラスまたはガラスセラミック要素１を含み、すなわち、一方では例えば調理用機器におけるカバープレートとして、またオーブンの覗き窓として含む。コーティング２（ここでは図示せず）はそれぞれ、設置状態でガラスまたはガラスセラミック要素１の、機器６０の使用者または操作者と反対側の面に配置されており、すなわち、調理用機器のカバープレートとして設計された上方の要素１の場合には下面に、また覗き窓として設計された要素１の場合には裏面に配置されている。
【0136】
例示的に、図７ａ）には、スイッチオン状態の第１の表示要素７０を示す。これにより、ガラスまたはガラスセラミック要素を通して表示が視認できる。また、この要素１の左下の領域には操作要素７０が示されており、これは、例えば機器６０を操作するためのタッチエリアとして設計されていてよい。しかし、ここで注目すべきことは、これらの操作要素７０がここでは視認でき、例えば上面の装飾によっても識別できることである。しかし、図２ａ）においてこれらの操作要素７０が明確に視認できるのは、特に例示の目的によるものである。なんといってもガラスまたはガラスセラミック要素１の設計の利点の１つはまさに、こうした操作および／または表示要素７０が特に邪魔な状態で知覚可能である必要がなく、それにより特にいわゆる「デッドフロント効果」を奏することができることにある。
【0137】
このことは、図７ｂ）に概略的にかつ正確な縮尺によらずに示されている。ここでは、表示要素７０はスイッチオフ、すなわち要素１に覆われて視認できない状態であり、上方の要素１の左下の領域にあるさらなる表示要素７０も知覚できない状態である。特に、このようにして要素１を、それらが機器６０の他の構成要素と視覚的な一体性を生じるように、すなわち、その優美さの点で互いに調和しているように設計することも可能である。これは、視覚的に魅力的であるだけでなく、他方では、例えば機器６０の故障時に表示要素７０の視認性を高め、また操作者の安全性をも高めるものである。
【0138】
最後に、図８は、その下面１２にセンサ８０を含むガラスまたはガラスセラミック要素１の設計を、概略的にかつ正確な縮尺によらずに示す。例えば、これは、図７による機器６０の、カバープレートとして設計されたガラスまたはガラスセラミック要素１であってよく、これは、分かりやすくするためにここでは図示していない表示要素あるいは操作要素７０に加えて、例えば温度センサのようなセンサ８０をさらに有している。
【0139】
一実施形態によれば、コーティング２は、無構造および／またはＸ線非晶質のモルフォロジーを有する。無構造のモルフォロジーとは、コーティング２が粒界および／または例えば成長構造などの他の構造を含まず、均質に形成されていることを意味する。
【0140】
一実施形態によれば、要素１は、コーティング２およびガラスまたはガラスセラミック要素１全体が、特に領域１０１において近赤外線の光透過性を有するように設計されているため、センサとの通信を行うことができる。つまり、本実施形態によれば、特に領域１０１におけるガラスまたはガラスセラミック要素１の分光透過率は、８５０ｎｍ～２５００ｎｍの波長域で少なくとも３％（つまり０．０３）である。すなわち、この波長域で測定された透過率値は、特に領域１０１において各波長について常に３％超である。
【0141】
総じて、図に示す実施形態のいずれにも限定されずに、コーティング２は、単層として存在してもよいし、層系の形態で存在してもよい。コーティング２は、複数の層を含む場合には層系であると理解される。層系としてのコーティング２の実施形態を、例示的に、概略的にかつ正確な縮尺によらない図９に示す。
【0142】
図９は、ガラスまたはガラスセラミック要素１のさらなる好ましい実施形態を示す。この特定の実施形態によれば、コーティング２は、層系２０の形態である。特に、層系２０あるいはコーティング２は３層系として形成されていてよく、すなわち、３層を含むかまたは３層からなることができる。
【0143】
したがって、この特定の実施形態によれば、コーティング２を誘電体層によって中断することができ、それにより、層２ａ，２ｂおよび２ｃを含む３層系が得られる。ここで、コーティング２の層２ａおよび２ｃは、総じて、少なくとも１つの金属成分と少なくとも１つの半金属成分とを含むように形成されている。したがって、層２ａ，２ｃは、金属で形成されている場合には一般組成ＡｘＢｙを、また（部分的に）セラミックで形成されている場合には組成ＡＢｘＯｙＮｚを有することができ、ここで、Ａは、総じて金属成分として、またＢは、総じて半金属成分として存在する。特に、層２ａおよび２ｃが、本開示において上述したような実施形態に従って、金属または非金属あるいは（部分的に）セラミックで形成されていることが可能である。ここで、層２ａ，２ｃの組成は、通常の製造公差の範囲内で同一であってもよいし、異なっていてもよい。特に、層２ａ，２ｃのうちの一方が（部分的に）セラミックで形成されていて一方が金属で形成されていることも、層２ａ，２ｃの双方が金属または（部分的に）セラミックで形成されているが、組成が異なることも可能である。ただし、通常は、層２ａ，２ｃの組成が製造公差内で同一であることが製造上の理由から好ましい場合がある。層２ｂ（中間層ともいう）は、総じて誘電体材料を含むことができ、誘電体層または中間層とも呼ぶことができ、その際、さらに層２ｂは、層２ｂの５５０ｎｍでの屈折率値ｎが層２ａ，２ｃの５５０ｎｍでの屈折率値ｎよりも小さく、層２ｂの５５０ｎｍでの吸収係数ｋが層２ａ，２ｃの５５０ｎｍでの吸収係数ｋより小さくなるように構成されていることが好ましい。好ましくは、中間層２ｂは、ＳｉＯ２を含むかまたはＳｉＯ２から構成されていてよい。説明された層系２０としてのコーティング２の層構造によって、すなわち層２ａ，２ｂおよび２ｃから構成されるまたはこれらを含む層構造によって、驚くほど増加したＬ＊値を非常に有利に達成することができ、その際、コーティング２のその他の特性、すなわち特に高い表面抵抗や、可視光および近赤外光における狙いどおりに調整された透過率は維持される。特にこのようにして、Ｌ＊値を最大で７０以上という非常に高い値にすることが可能である。さらに、さらなる細分化を行うことができ、すなわち、層系２０は、さらなる層を含むこともでき、例えば、４層または５層系として設計されていてよい。
【0144】
したがって、総じて、実施形態によるガラスまたはガラスセラミック要素１は、コーティング２が、部分層を含む、好ましくは３つの部分層２ａ，２ｂ，２ｃを含む層系２０として形成されており、その際、少なくとも２つの部分層２ａ，２ｃが、少なくとも１つの金属成分と少なくとも１つの半金属成分とを含むように設計されていてよい。これらは、少なくとも１つの中間層２ｂを包囲する。少なくとも１つの中間層２ｂは、誘電体材料を含む。好ましくは、少なくとも１つの中間層２ｂの５５０ｎｍでの屈折率値ｎは、少なくとも２つの他の部分層（２ａ，２ｃ）の５５０ｎｍでの屈折率値ｎよりも小さい。さらに好ましくは、中間層２ｂの５５０ｎｍでの吸収係数ｋは、少なくとも２つの他の部分層（２ａ，２ｃ）の５５０ｎｍでの吸収係数ｋよりも小さい。
【0145】
このような設計では、表面抵抗を１ＭΩ超、光透過率を０．５％～５％に維持しつつ、非常に高いＬ＊値をこのように達成することができるため、特に有利である。
【0146】
さらにこうすることで、透けて見えたときに限りなくニュートラルに近い色度点を達成することが驚くほど容易に可能となる。例えば、単層として形成され、ケイ素の割合が高いコーティング２の場合、特に金属で形成されたコーティング２の場合には、領域１０１におけるコーティングあるいはガラスまたはガラスセラミック要素１の色度点は、しばしば黄色味を帯びている。これは、色度点がずれてしまうため、ディスプレイや例えばＬＥＤなどのその他の表示要素を組み込む場合には不利である。驚くべきことに、この色度点のずれは、コーティング２を上記のように層系２０として実現すること、すなわち層２ａ，２ｃの間に誘電体層２ｂを含んで形成することによって回避できることが判明した。
【0147】
層系２０として実現されるコーティング２を有するこの実施形態によれば、特に、それぞれ＋１５～－１５の範囲、それぞれ好ましくは＋１０～１０の範囲のａ＊値およびｂ＊値を達成することが可能である。
【0148】
層系２０として実現されるコーティング２の具体例によれば、ａ＊値４．６およびｂ＊値８．６を達成することができた。
【0149】
層２ａ，２ｂ，２ｃの層厚は、同じでも異なっていてもよい。層２ａ，２ｂ，２ｃの層厚は、好ましくは、合計で少なくとも５０ｎｍの範囲である。この場合、個々の層２ａ，２ｂ，２ｃの厚さは、２０ｎｍ未満とすることができる。層２ａは、１０ｎｍ～２００ｎｍが好ましく、層２ｂは、２０ｎｍ～３００ｎｍが好ましく、層２ｃは、１０ｎｍ～２００ｎｍが好ましい。
【0150】
最後に、図１１および図１２は、実施形態によるガラスまたはガラスセラミック要素の４つの選択された（部分的に）セラミックの試料６～９について、屈折率値ｎ（図１１）および吸収係数ｋ（図１２）を波長に対して示す。
【0151】
これら４つの試料の層構成は、それぞれアルミニウムとケイ素との重量比であった。これらの試料について得られた表面抵抗、光透過率τｖｉｓ、および色度値の測定値を以下の２つの表にまとめた。表２は、コーティング後に得られた対応する値を示し、表３は、この場合は３９０℃で８０時間の熱負荷後に得られた値を示す。
【0152】
【表2】
【0153】
【表3】
【0154】
さらに、これらの試料の層厚を以下に示す：
試料６：１７６ｎｍ
試料７：１１７ｎｍ
試料８：１００ｎｍ
試料９：１１０ｎｍ
試料６：１７６ｎｍ
試料７：１１７ｎｍ
試料８：１００ｎｍ
試料９：１１０ｎｍ
【0155】
試料６～９は、対応するΔＥ値で示されているように、温度負荷後も色度点の不変性を良好に示すことがわかる。可視光線領域での低い透過率、明色でかつ反射性のメタリックな色の印象、および低い導電性が、これらのコーティングあるいはこれらのコーティングを含むガラスまたはガラスセラミック要素の全体的な印象あるいはプロファイルを完成させている。
【0156】
最後に、以下の２つの表は、金属で形成されたコーティングを含む実施形態によるガラスまたはガラスセラミック要素の例示的な値を示している。ここでも、コーティング後（「蒸着後」）の値と、ここでも同様に３９０℃で８０時間の熱負荷後の値とが示されている。
【0157】
試料１０は、ここでは、Ａｌを２３重量部、ケイ素を７７重量部含むコーティングである。試料１１および１２のコーティングは、コーティング系であり、コーティング２として、金属成分と半金属成分とを含むコーティングとして、ＡｌＳｉ、および例えば酸化に対するバリアとして作用し得るさらなるコーティングを含む。
【0158】
【表4】
【0159】
【表5】
【符号の説明】
【0160】
１ ガラスまたはガラスセラミック要素
１０ ガラスまたはガラスセラミック基材
１１，１２ 要素あるいは基材の面あるいは主面
１００ 要素あるいは基材の、コーティング２でコーティングされていない領域
１０１ 要素あるいは基材の、コーティング２を備えた領域
２ コーティング、遮光コーティング
２ａ，２ｂ，２ｃ 層系の各層
２０ 層系
３ さらなるコーティング
４ カバー層
５ 構造化層
５０１ 構造化層が少なくとも部分的に施与された領域
６０ 家庭用電化製品および／または加熱器具
７０ 表示および／または操作要素
８０ センサ
１０ ガラスまたはガラスセラミック基材
１１，１２ 要素あるいは基材の面あるいは主面
１００ 要素あるいは基材の、コーティング２でコーティングされていない領域
１０１ 要素あるいは基材の、コーティング２を備えた領域
２ コーティング、遮光コーティング
２ａ，２ｂ，２ｃ 層系の各層
２０ 層系
３ さらなるコーティング
４ カバー層
５ 構造化層
５０１ 構造化層が少なくとも部分的に施与された領域
６０ 家庭用電化製品および／または加熱器具
７０ 表示および／または操作要素
８０ センサ
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【外国語明細書】