(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022167981
(43)【公開日】2022-11-04
(54)【発明の名称】枠体および蒸着マスク
(51)【国際特許分類】
C23C 14/04 20060101AFI20221027BHJP
H01L 51/50 20060101ALI20221027BHJP
H05B 33/10 20060101ALI20221027BHJP
【ＦＩ】
C23C14/04 A
H05B33/14 A
H05B33/10
【審査請求】有
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022134603
(22)【出願日】2022-08-26
(62)【分割の表示】P 2018144174の分割
【原出願日】2018-07-31
(71)【出願人】
【識別番号】000005810
【氏名又は名称】マクセル株式会社
(72)【発明者】
【氏名】石川 樹一郎
(72)【発明者】
【氏名】田丸 裕仁
(57)【要約】
【課題】マスク本体の収縮に起因する枠体の撓み変形を抑制することを目的とする。
【解決手段】マスク本体２を支持するために用いられる枠体である。相対的に引張強度が高く変形し難い難変形部と、相対的に引張強度が低く変形し易い易変形部とを含む。少なくとも難変形部に、引張強度を低下させるための強度低下部１４が形成されている。強度低下部１４が切欠孔からなる。
【選択図】図４
【解決手段】マスク本体２を支持するために用いられる枠体である。相対的に引張強度が高く変形し難い難変形部と、相対的に引張強度が低く変形し易い易変形部とを含む。少なくとも難変形部に、引張強度を低下させるための強度低下部１４が形成されている。強度低下部１４が切欠孔からなる。
【選択図】図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
マスク本体（２）を支持するために用いられる枠体であって、
相対的に引張強度が高く変形し難い難変形部と、相対的に引張強度が低く変形し易い易変形部とを含み、
少なくとも前記難変形部に、引張強度を低下させるための強度低下部（１４）が形成されており、
前記強度低下部（１４）が切欠孔からなることを特徴とする枠体。
相対的に引張強度が高く変形し難い難変形部と、相対的に引張強度が低く変形し易い易変形部とを含み、
少なくとも前記難変形部に、引張強度を低下させるための強度低下部（１４）が形成されており、
前記強度低下部（１４）が切欠孔からなることを特徴とする枠体。
【請求項2】
前記切欠孔が貫通状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の枠体。
【請求項3】
前記切欠孔に閉塞体（１９）が設けられていることを特徴とする請求項２に記載の枠体。
【請求項4】
前記閉塞体（１９）が別体で形成されていることを特徴とする請求項３に記載の枠体。
【請求項5】
周回状に形成される外周枠（１２）と、該外周枠（１２）内にマスク開口（５）を区画する格子枠（１３）とを備え、
前記外周枠（１２）が矩形枠状に形成され、
前記外周枠（１２）の四隅の少なくとも一箇所に前記切欠孔（１４）が形成されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の枠体。
前記外周枠（１２）が矩形枠状に形成され、
前記外周枠（１２）の四隅の少なくとも一箇所に前記切欠孔（１４）が形成されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の枠体。
【請求項6】
多数の蒸着通孔を所定パターンで設けられるマスク本体（２）と、請求項１ないし５のいずれかに記載の枠体とを備えることを特徴とする蒸着マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、マスク本体を支持するために用いられる枠体と、当該枠体を備える蒸着マスクに関する。本発明に係る枠体および蒸着マスクは、例えば、有機ＥＬ素子の発光層を形成する際に好適に使用される。
【背景技術】
【0002】
表示装置を有するスマートフォンやタブレット端末などのモバイル機器において、機器
の軽量化および駆動時間の長時間化を目的として、液晶ディスプレイに替えて、より軽量
で消費電力が小さな有機ＥＬディスプレイの採用が始まっている。有機ＥＬディスプレイ
は、蒸着マスク法により、基板（蒸着対象）上に有機ＥＬ素子の発光層（蒸着層）を形成
することで製造される。
の軽量化および駆動時間の長時間化を目的として、液晶ディスプレイに替えて、より軽量
で消費電力が小さな有機ＥＬディスプレイの採用が始まっている。有機ＥＬディスプレイ
は、蒸着マスク法により、基板（蒸着対象）上に有機ＥＬ素子の発光層（蒸着層）を形成
することで製造される。
【0003】
蒸着マスク法に用いられる蒸着マスクは、例えば本出願人が先に提案した特許文献１に
開示されている。かかる特許文献１では、マトリクス状に配置される複数のマスク本体と
、各マスク本体を囲むように配置される補強用の枠体と、両者を不離一体的に接合する金
属層とで蒸着マスクを構成している。この蒸着マスクは、母型上に電鋳法により複数のマ
スク本体を形成する第１の電鋳工程と、母型上に枠体を配する枠体配設工程と、電鋳法に
より金属層を形成して各マスク本体と枠体を接合する第２の電鋳工程と、母型から複数の
マスク本体と枠体と金属層を一体に剥離する剥離工程などを経て製造される。
開示されている。かかる特許文献１では、マトリクス状に配置される複数のマスク本体と
、各マスク本体を囲むように配置される補強用の枠体と、両者を不離一体的に接合する金
属層とで蒸着マスクを構成している。この蒸着マスクは、母型上に電鋳法により複数のマ
スク本体を形成する第１の電鋳工程と、母型上に枠体を配する枠体配設工程と、電鋳法に
より金属層を形成して各マスク本体と枠体を接合する第２の電鋳工程と、母型から複数の
マスク本体と枠体と金属層を一体に剥離する剥離工程などを経て製造される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０１７－２１０６３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
多くの場合、母型から剥離した蒸着マスクのマスク本体には、内方へ収縮しようとする
応力が作用する。これは、マスク本体を形成する第１の電鋳工程における電鋳槽の液温（
特許文献１では４０～５０℃）が、常温よりも高いことなどに起因するものである。マス
ク本体が収縮しようとすることにより、枠体には金属層を介して引張応力が作用する。こ
こで、枠体の各部の引張強度は同一ではなく、相対的に変形し易い部分と変形し難い部分
が存在する。枠体の変形量が各部で異なると、枠体が内向きに撓み変形するおそれがある
。
応力が作用する。これは、マスク本体を形成する第１の電鋳工程における電鋳槽の液温（
特許文献１では４０～５０℃）が、常温よりも高いことなどに起因するものである。マス
ク本体が収縮しようとすることにより、枠体には金属層を介して引張応力が作用する。こ
こで、枠体の各部の引張強度は同一ではなく、相対的に変形し易い部分と変形し難い部分
が存在する。枠体の変形量が各部で異なると、枠体が内向きに撓み変形するおそれがある
。
【0006】
本発明は、マスク本体を支持する枠体、並びに当該枠体を備える蒸着マスクにおいて、マスク本体の収縮に起因する枠体の撓み変形を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明に係る蒸着マスクは、多数独立の蒸着通孔９からなる蒸着パターンを備えるマス
ク本体２と、マスク本体２が配置されるマスク開口５を有する補強用の枠体３と、各マス
ク本体２と枠体３を不離一体的に接合する金属層４とを備える。枠体３は、相対的に引張
強度が高く変形し難い難変形部と、相対的に引張強度が低く変形し易い易変形部とを含み
、枠体３の少なくとも難変形部に、引張強度を低下させるための強度低下部１４が形成さ
れていることを特徴とする。
ク本体２と、マスク本体２が配置されるマスク開口５を有する補強用の枠体３と、各マス
ク本体２と枠体３を不離一体的に接合する金属層４とを備える。枠体３は、相対的に引張
強度が高く変形し難い難変形部と、相対的に引張強度が低く変形し易い易変形部とを含み
、枠体３の少なくとも難変形部に、引張強度を低下させるための強度低下部１４が形成さ
れていることを特徴とする。
【0008】
枠体３が、周回状に形成される外周枠１２と、外周枠１２内に複数のマスク開口５を区
画する格子枠１３とを備えており、外周枠１２の難変形部に強度低下部１４が形成されて
いる形態を採ることができる。
画する格子枠１３とを備えており、外周枠１２の難変形部に強度低下部１４が形成されて
いる形態を採ることができる。
【0009】
外周枠１２を矩形枠状に形成し、外周枠１２の四隅のそれぞれに強度低下部１４を形成
することができる。
することができる。
【0010】
外周枠１２の難変形部から易変形部にかけて、面積が徐々に小さくなる強度低下部１４
を形成することができる。
を形成することができる。
【0011】
強度低下部１４が切欠孔からなる形態を採ることができる。この場合は、強度低下部１
４の開口縁どうしを繋ぐ桟４７を、枠体３と一体に設けることができる。
４の開口縁どうしを繋ぐ桟４７を、枠体３と一体に設けることができる。
【0012】
強度低下部１４を平面視において多角形状に形成し、強度低下部１４の各コーナー部分
をＲ状に形成することができる。
をＲ状に形成することができる。
【0013】
強度低下部１４に閉塞体１９が設けられており、閉塞体１９が強度低下部１４の周囲に
対して引張応力を作用させる形態を採ることができる。
対して引張応力を作用させる形態を採ることができる。
【発明の効果】
【0014】
本発明では、蒸着マスク１の枠体３のうち相対的に引張強度が高く変形し難い難変形部
に、引張強度を低下させるための強度低下部１４を形成した。これによれば、枠体３の難
変形部の引張強度を低下させて、枠体３の各部の引張強度の均一化を図ることができる。
換言すれば、マスク本体２の収縮により生じる引張応力が、枠体３の易変形部に集中する
のを避けて、枠体３の全体に分散させることができ、これにより、枠体３の撓み変形を抑
制することができる。
に、引張強度を低下させるための強度低下部１４を形成した。これによれば、枠体３の難
変形部の引張強度を低下させて、枠体３の各部の引張強度の均一化を図ることができる。
換言すれば、マスク本体２の収縮により生じる引張応力が、枠体３の易変形部に集中する
のを避けて、枠体３の全体に分散させることができ、これにより、枠体３の撓み変形を抑
制することができる。
【0015】
枠体３が、周回状に形成される外周枠１２と、外周枠１２内にマスク開口５を区画する
格子枠１３とを備える形態を採ることができる。このうち格子枠１３の各部は、隣り合う
２個のマスク開口５に挟まれており、収縮する２枚のマスク本体２により両側から引張ら
れるが、引張応力が互いに打ち消されるため殆ど変形しない。一方、外周枠１２の各部は
、１個のマスク開口５のみに隣接しており、１枚のマスク本体２により一方のみから引張
られるため、格子枠１３に比べて変形し易い。そこで本発明では、外周枠１２の難変形部
に強度低下部１４を形成した。これによれば、外周枠１２の全周にわたって引張強度を均
一化させて、外周枠１２の内向きの撓み変形を抑制することができるので、枠体３ひいて
は蒸着マスク１の全体の外形を良好に保つことができる。
格子枠１３とを備える形態を採ることができる。このうち格子枠１３の各部は、隣り合う
２個のマスク開口５に挟まれており、収縮する２枚のマスク本体２により両側から引張ら
れるが、引張応力が互いに打ち消されるため殆ど変形しない。一方、外周枠１２の各部は
、１個のマスク開口５のみに隣接しており、１枚のマスク本体２により一方のみから引張
られるため、格子枠１３に比べて変形し易い。そこで本発明では、外周枠１２の難変形部
に強度低下部１４を形成した。これによれば、外周枠１２の全周にわたって引張強度を均
一化させて、外周枠１２の内向きの撓み変形を抑制することができるので、枠体３ひいて
は蒸着マスク１の全体の外形を良好に保つことができる。
【0016】
矩形枠状の外周枠１２の四隅のそれぞれに強度低下部１４を形成すると、外周枠１２の
うち特に引張強度が高く変形し難い四隅の引張強度を確実に低下させて、外周枠１２の各
辺部の内向きの撓み変形を抑制することができる。
うち特に引張強度が高く変形し難い四隅の引張強度を確実に低下させて、外周枠１２の各
辺部の内向きの撓み変形を抑制することができる。
【0017】
外周枠１２の難変形部から易変形部にかけて、面積が徐々に小さくなる強度低下部１４
を形成すると、外周枠１２の各部の引張強度をその全周にわたってより正確に均一化させ
ることができ、これにより外周枠１２の撓み変形をより確実に防止することができる。
を形成すると、外周枠１２の各部の引張強度をその全周にわたってより正確に均一化させ
ることができ、これにより外周枠１２の撓み変形をより確実に防止することができる。
【0018】
切欠孔からなる強度低下部１４によれば、これを枠体３に対して容易に設けることがで
きる。この場合に、強度低下部１４の開口縁どうしを繋ぐ桟４７を枠体３と一体に設ける
と、強度低下部１４の周囲の部分の引張強度を補強して、当該部分の引張強度が低下し過
ぎるのを避けることができる。また、桟４７の隣接ピッチや太さを変更することにより、
枠体３の各部の引張強度を容易に調整することができる。
きる。この場合に、強度低下部１４の開口縁どうしを繋ぐ桟４７を枠体３と一体に設ける
と、強度低下部１４の周囲の部分の引張強度を補強して、当該部分の引張強度が低下し過
ぎるのを避けることができる。また、桟４７の隣接ピッチや太さを変更することにより、
枠体３の各部の引張強度を容易に調整することができる。
【0019】
強度低下部１４を多角形状の切欠孔としたうえで、その各コーナー部分をＲ状に形成す
ると、応力がコーナー部分の一点に集中するのを避けることができるので、コーナー部分
から亀裂が生じるなどの枠体３の破損を防止することができる。
ると、応力がコーナー部分の一点に集中するのを避けることができるので、コーナー部分
から亀裂が生じるなどの枠体３の破損を防止することができる。
【0020】
強度低下部１４の周囲に対して引張応力を作用させる閉塞体１９を設けると、枠体３の
各部の引張強度のさらなる均一化を図って、枠体３の外形をより良好に保つことができる
。
各部の引張強度のさらなる均一化を図って、枠体３の外形をより良好に保つことができる
。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】本発明の実施例１に係る蒸着マスクの全体を示す斜視図である。
【図3】実施例１に係る蒸着マスクの要部を示す平面図である。
【図4】実施例１に係る蒸着マスクの枠体の平面図である。
【図5】実施例１に係る蒸着マスクの製造方法の前段を示す説明図である。
【図6】実施例１に係る蒸着マスクの製造方法の中段を示す説明図である。
【図7】実施例１に係る蒸着マスクの製造方法の後段を示す説明図である。
【図8】本発明の実施例２に係る蒸着マスクの全体を示す斜視図である。
【図9】実施例２に係る蒸着マスクの枠体の平面図である。
【図10】本発明の実施例３に係る蒸着マスクの枠体の要部を示す平面図である。
【図11】本発明の実施例４に係る蒸着マスクの縦断面図である。
【図12】実施例４に係る蒸着マスクを用いた蒸着工程の説明図である。
【図13】本発明の実施例５に係る蒸着マスクの縦断面図である。
【図14】本発明の実施例６に係る蒸着マスクの縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0022】
（実施例１） 図１から図７に、本発明に係る蒸着マスクの実施例１を示す。なお、本実
施例の各図における厚みや幅などの寸法は、実際の様子を示したものではなく、それぞれ
模式的に示したものである。以下の各実施例の図においても同様である。
施例の各図における厚みや幅などの寸法は、実際の様子を示したものではなく、それぞれ
模式的に示したものである。以下の各実施例の図においても同様である。
【0023】
図１および図２に示すように蒸着マスク１は、マトリクス状に配置される複数（本実施
例では９枚）のマスク本体２と、各マスク本体２を囲むように配置される補強用の枠体３
と、両者２・３を不離一体的に接合する金属層４とを含む。枠体３は、マスク本体２と同
数のマスク開口５を備える（図４参照）。各マスク開口５はマスク本体２よりも一回り大
きく形成されており、各マスク開口５にマスク本体２が１枚ずつ配置されている。金属層
４は、マスク本体２の周縁部とマスク開口５の開口縁部との間隙部分などに形成されて、
マスク本体２と枠体３を接合している。
例では９枚）のマスク本体２と、各マスク本体２を囲むように配置される補強用の枠体３
と、両者２・３を不離一体的に接合する金属層４とを含む。枠体３は、マスク本体２と同
数のマスク開口５を備える（図４参照）。各マスク開口５はマスク本体２よりも一回り大
きく形成されており、各マスク開口５にマスク本体２が１枚ずつ配置されている。金属層
４は、マスク本体２の周縁部とマスク開口５の開口縁部との間隙部分などに形成されて、
マスク本体２と枠体３を接合している。
【0024】
各マスク本体２は、四隅が丸められた長方形状に形成されており、その面積の過半を占
める内側のパターン形成領域７と、同領域７を囲む外側の接合領域８とを備える。パター
ン形成領域７には、多数独立の蒸着通孔９からなる蒸着パターンが形成されており、接合
領域８には、マスク本体２の各辺に沿って二列に並ぶ多数個の接合通孔１０が形成されて
いる（図３参照）。このマスク本体２は、ニッケルからなる電着金属を素材として電鋳法
で形成される。本実施例では各マスク本体２の厚みを８μｍに設定した。なおマスク本体
２は、ニッケル以外にニッケルコバルト等のニッケル合金、銅、その他の電着金属を素材
として形成することができる。さらにマスク本体２は、二層以上の積層構造であってもよ
く、具体的には例えば、光沢めっき層からなる上層と、無光沢めっき層からなる下層とを
有するマスク本体２を形成し、各層の厚み比率を例えば上層：下層＝５：７に設定するこ
とができる。
める内側のパターン形成領域７と、同領域７を囲む外側の接合領域８とを備える。パター
ン形成領域７には、多数独立の蒸着通孔９からなる蒸着パターンが形成されており、接合
領域８には、マスク本体２の各辺に沿って二列に並ぶ多数個の接合通孔１０が形成されて
いる（図３参照）。このマスク本体２は、ニッケルからなる電着金属を素材として電鋳法
で形成される。本実施例では各マスク本体２の厚みを８μｍに設定した。なおマスク本体
２は、ニッケル以外にニッケルコバルト等のニッケル合金、銅、その他の電着金属を素材
として形成することができる。さらにマスク本体２は、二層以上の積層構造であってもよ
く、具体的には例えば、光沢めっき層からなる上層と、無光沢めっき層からなる下層とを
有するマスク本体２を形成し、各層の厚み比率を例えば上層：下層＝５：７に設定するこ
とができる。
【0025】
図４に示すように枠体３は、矩形枠状の外周枠１２と、外周枠１２内にマスク開口５を
区画する格子枠１３とを備える。外周枠１２の四隅には、Ｌ字状の切欠孔からなる強度低
下部１４がそれぞれ形成されている。外周枠１２のうち最も引張強度が高い部分である四
隅に強度低下部１４を形成して、四隅の引張強度を低下させることにより、外周枠１２の
全周にわたって引張強度の均一化を図ることができる（その意義については後述する）。
切欠孔からなる強度低下部１４の各コーナー部分はＲ状に形成することが好ましい。
区画する格子枠１３とを備える。外周枠１２の四隅には、Ｌ字状の切欠孔からなる強度低
下部１４がそれぞれ形成されている。外周枠１２のうち最も引張強度が高い部分である四
隅に強度低下部１４を形成して、四隅の引張強度を低下させることにより、外周枠１２の
全周にわたって引張強度の均一化を図ることができる（その意義については後述する）。
切欠孔からなる強度低下部１４の各コーナー部分はＲ状に形成することが好ましい。
【0026】
図２に拡大して示すように、枠体３は積層構造となっており、同一形状の上枠１５と下
枠１６を接着層１７で貼り合わせて構成される。上枠１５と下枠１６は、ニッケル－鉄合
金であるインバー材からなる低熱線膨張係数の金属板材で形成されている。本実施例では
、上枠１５と下枠１６の厚み寸法をそれぞれ０．５ｍｍに設定して、枠体３をマスク本体
２よりも十分に肉厚に形成した。なお上枠１５と下枠１６は、上記のインバー材以外に、
ニッケル－鉄－コバルト合金であるスーパーインバー材などで形成してもよく、上枠１５
と下枠１６の厚み寸法は異なっていてもよい。また枠体３は、上枠１５と下枠１６の二層
構造以外に、三層以上の積層構造や単層構造であってもよく、また、特許文献１に開示さ
れた四層構造（上枠１５と下枠１６を備える枠体３を２つ重ねて貼り合わせた四層構造）
を採用してもよい。接着層１７としては、シート状の未硬化感光性ドライフィルムレジス
トや、市販されている種々の接着剤などを用いることができる。
枠１６を接着層１７で貼り合わせて構成される。上枠１５と下枠１６は、ニッケル－鉄合
金であるインバー材からなる低熱線膨張係数の金属板材で形成されている。本実施例では
、上枠１５と下枠１６の厚み寸法をそれぞれ０．５ｍｍに設定して、枠体３をマスク本体
２よりも十分に肉厚に形成した。なお上枠１５と下枠１６は、上記のインバー材以外に、
ニッケル－鉄－コバルト合金であるスーパーインバー材などで形成してもよく、上枠１５
と下枠１６の厚み寸法は異なっていてもよい。また枠体３は、上枠１５と下枠１６の二層
構造以外に、三層以上の積層構造や単層構造であってもよく、また、特許文献１に開示さ
れた四層構造（上枠１５と下枠１６を備える枠体３を２つ重ねて貼り合わせた四層構造）
を採用してもよい。接着層１７としては、シート状の未硬化感光性ドライフィルムレジス
トや、市販されている種々の接着剤などを用いることができる。
【0027】
枠体３の各強度低下部１４には、これより一回り小さいＬ字シート状の閉塞体１９が配
置されている。閉塞体１９は、通孔を持たない内側の閉塞領域２０と、同領域２０を囲む
外側の接合領域２１とを備えており、マスク本体２と同様に金属層４を介して枠体３に不
離一体的に接合されている。閉塞体１９の接合領域２１にも、マスク本体２の接合領域８
と同様に、二列に並ぶ多数個の接合通孔２２が形成されている。なお、蒸着マスクの製造
工程において、閉塞体１９はマスク本体２と同時に、同本体２と同一の素材で同一の厚み
に形成される（詳細は後述する）。
置されている。閉塞体１９は、通孔を持たない内側の閉塞領域２０と、同領域２０を囲む
外側の接合領域２１とを備えており、マスク本体２と同様に金属層４を介して枠体３に不
離一体的に接合されている。閉塞体１９の接合領域２１にも、マスク本体２の接合領域８
と同様に、二列に並ぶ多数個の接合通孔２２が形成されている。なお、蒸着マスクの製造
工程において、閉塞体１９はマスク本体２と同時に、同本体２と同一の素材で同一の厚み
に形成される（詳細は後述する）。
【0028】
金属層４は、後述する電鋳法によって、枠体３の表面からマスク本体２と閉塞体１９の
接合領域８・２１にわたって連続して形成される。金属層４は接合通孔１０・２２内にも
形成されており、これによりマスク本体２と閉塞体１９に対する金属層４の接合強度が向
上する。本実施例ではニッケルを素材として金属層４を形成したが、これ以外にニッケル
コバルト等のニッケル合金や、その他の電着金属を素材として形成することができる。な
お本発明において、金属層４を枠体３の上面に形成することは必須ではなく、少なくとも
枠体３の側面（マスク開口５の内周面）に金属層４が形成されていればよい。
接合領域８・２１にわたって連続して形成される。金属層４は接合通孔１０・２２内にも
形成されており、これによりマスク本体２と閉塞体１９に対する金属層４の接合強度が向
上する。本実施例ではニッケルを素材として金属層４を形成したが、これ以外にニッケル
コバルト等のニッケル合金や、その他の電着金属を素材として形成することができる。な
お本発明において、金属層４を枠体３の上面に形成することは必須ではなく、少なくとも
枠体３の側面（マスク開口５の内周面）に金属層４が形成されていればよい。
【0029】
本実施例に係る蒸着マスク１の製造方法の一例を図５から図７に示す。まず図５（ａ）
に示すように、導電性を有する例えばステンレスや真ちゅう製の母型２４の表面に、ネガ
タイプのフォトレジスト層２５を形成する。次いで、フォトレジスト層２５の上に、ガラ
スマスクからなるパターンフィルム２６を密着させ、パターンニング前段体２７を得る。
パターンフィルム２６には、マスク本体２の蒸着通孔９に対応する透光孔２６ａと、同本
体２の接合通孔１０に対応する透光孔２６ｂと、閉塞体１９の接合通孔２２に対応する透
光孔２６ｃとが形成されている。さらにパターンフィルム２６には、１枚のマスク本体２
に対応する一群の透光孔２６ａ・２６ｂを囲む平面視で矩形枠状の透光溝２６ｄと、１枚
の閉塞体１９に対応する一群の透光孔２６ｃを囲む平面視で中空Ｌ字状の透光溝２６ｅと
が形成されている。矩形枠状の透光溝２６ｄの内周縁はマスク本体２の外郭線に一致し、
中空Ｌ字状の透光溝２６ｅの内周縁は閉塞体１９の外郭線に一致する。
に示すように、導電性を有する例えばステンレスや真ちゅう製の母型２４の表面に、ネガ
タイプのフォトレジスト層２５を形成する。次いで、フォトレジスト層２５の上に、ガラ
スマスクからなるパターンフィルム２６を密着させ、パターンニング前段体２７を得る。
パターンフィルム２６には、マスク本体２の蒸着通孔９に対応する透光孔２６ａと、同本
体２の接合通孔１０に対応する透光孔２６ｂと、閉塞体１９の接合通孔２２に対応する透
光孔２６ｃとが形成されている。さらにパターンフィルム２６には、１枚のマスク本体２
に対応する一群の透光孔２６ａ・２６ｂを囲む平面視で矩形枠状の透光溝２６ｄと、１枚
の閉塞体１９に対応する一群の透光孔２６ｃを囲む平面視で中空Ｌ字状の透光溝２６ｅと
が形成されている。矩形枠状の透光溝２６ｄの内周縁はマスク本体２の外郭線に一致し、
中空Ｌ字状の透光溝２６ｅの内周縁は閉塞体１９の外郭線に一致する。
【0030】
次いで、得られたパターンニング前段体２７と、紫外線ランプ２８を備える紫外線照射
装置の炉内とを、露光作業時の炉内温度にそれぞれ予熱する。予熱が完了したら、パター
ンニング前段体２７を紫外線照射装置の炉内に収容し、紫外線ランプ２８で紫外線光を照
射することにより、パターンフィルム２６を介してフォトレジスト層２５を露光する。露
光後のパターンニング前段体２７を取り出し、フォトレジスト層２５からパターンフィル
ム２６を取り外し、フォトレジスト層２５の未露光部分を溶解除去（現像）することによ
り、図５（ｂ）に示すように、母型２４上に一次パターンレジスト２９を形成する。一次
パターンレジスト２９は、パターンフィルム２６の各透光孔２６ａ～２６ｃと各透光溝２
６ｄ・２６ｅに対応するレジスト体２９ａ～２９ｅで構成される。
装置の炉内とを、露光作業時の炉内温度にそれぞれ予熱する。予熱が完了したら、パター
ンニング前段体２７を紫外線照射装置の炉内に収容し、紫外線ランプ２８で紫外線光を照
射することにより、パターンフィルム２６を介してフォトレジスト層２５を露光する。露
光後のパターンニング前段体２７を取り出し、フォトレジスト層２５からパターンフィル
ム２６を取り外し、フォトレジスト層２５の未露光部分を溶解除去（現像）することによ
り、図５（ｂ）に示すように、母型２４上に一次パターンレジスト２９を形成する。一次
パターンレジスト２９は、パターンフィルム２６の各透光孔２６ａ～２６ｃと各透光溝２
６ｄ・２６ｅに対応するレジスト体２９ａ～２９ｅで構成される。
【0031】
次いで、図５（ｃ）に示すように、レジスト体２９ａ～２９ｅで覆われていない母型２
４の表面に電鋳処理を施すことにより、レジスト体２９ａ～２９ｅの高さの範囲内で一次
電鋳層３０を形成する。一次電鋳層３０は、蒸着マスク１の完成品を構成する複数のマス
ク本体２および閉塞体１９と、その完成前に除去される枠体支持部３１とで構成される。
一次電鋳層３０の形成後、図５（ｄ）に示すように、一次パターンレジスト２９を溶解除
去する。これにより、マスク本体２の蒸着通孔９および接合通孔１０と、閉塞体１９の接
合通孔２２とが現れる。
４の表面に電鋳処理を施すことにより、レジスト体２９ａ～２９ｅの高さの範囲内で一次
電鋳層３０を形成する。一次電鋳層３０は、蒸着マスク１の完成品を構成する複数のマス
ク本体２および閉塞体１９と、その完成前に除去される枠体支持部３１とで構成される。
一次電鋳層３０の形成後、図５（ｄ）に示すように、一次パターンレジスト２９を溶解除
去する。これにより、マスク本体２の蒸着通孔９および接合通孔１０と、閉塞体１９の接
合通孔２２とが現れる。
【0032】
次に、マスク本体２と閉塞体１９に対する金属層４の接合強度（密着性）を高めるため
の密着めっき層３４（図２参照）を形成する。マスク本体２においては、接合領域８の上
面および外周面と、接合通孔１０の内周面とに密着めっき層３４を形成する。閉塞体１９
においても、接合領域２１の上面および外周面と、接合通孔２２の内周面とに密着めっき
層３４を形成する。なお密着めっき層３４は、ニッケルや銅などを素材として、ストライ
クめっきや無光沢めっきにより、一次電鋳層３０よりも十分に薄く形成される。
の密着めっき層３４（図２参照）を形成する。マスク本体２においては、接合領域８の上
面および外周面と、接合通孔１０の内周面とに密着めっき層３４を形成する。閉塞体１９
においても、接合領域２１の上面および外周面と、接合通孔２２の内周面とに密着めっき
層３４を形成する。なお密着めっき層３４は、ニッケルや銅などを素材として、ストライ
クめっきや無光沢めっきにより、一次電鋳層３０よりも十分に薄く形成される。
【0033】
密着めっき層３４の形成手順としては、まず図６（ａ）に示すように、一次電鋳層３０
の表面全体にネガタイプのフォトレジスト層３５を形成し、その上にパターンフィルム３
６を密着させる。このパターンフィルム３６は、マスク本体２の接合領域８に対応する矩
形枠状の非透光部３６ａと、閉塞体１９の接合領域２１に対応する中空Ｌ字状の非透光部
３６ｂと、その他の部分を占める透光部３６ｃとを備える。次いで、紫外線ランプ２８で
紫外線光を照射して、パターンフィルム３６を介してフォトレジスト層３５を露光する。
露光後、フォトレジスト層３５からパターンフィルム３６を取り外し、フォトレジスト層
３５の未露光部分を溶解除去（現像）することにより、図６（ｂ）に示すパターンレジス
ト３７を形成する。このパターンレジスト３７は、マスク本体２と閉塞体１９の接合領域
８・２１を露出させる開口３７ａを有する。つまりパターンレジスト３７は、密着めっき
層３４の形成領域を除く一次電鋳層３０の表面全体を覆う。
の表面全体にネガタイプのフォトレジスト層３５を形成し、その上にパターンフィルム３
６を密着させる。このパターンフィルム３６は、マスク本体２の接合領域８に対応する矩
形枠状の非透光部３６ａと、閉塞体１９の接合領域２１に対応する中空Ｌ字状の非透光部
３６ｂと、その他の部分を占める透光部３６ｃとを備える。次いで、紫外線ランプ２８で
紫外線光を照射して、パターンフィルム３６を介してフォトレジスト層３５を露光する。
露光後、フォトレジスト層３５からパターンフィルム３６を取り外し、フォトレジスト層
３５の未露光部分を溶解除去（現像）することにより、図６（ｂ）に示すパターンレジス
ト３７を形成する。このパターンレジスト３７は、マスク本体２と閉塞体１９の接合領域
８・２１を露出させる開口３７ａを有する。つまりパターンレジスト３７は、密着めっき
層３４の形成領域を除く一次電鋳層３０の表面全体を覆う。
【0034】
次いで、開口３７ａに臨む一次電鋳層３０の表面にめっき処理（密着処理）を施すこと
により、図６（ｃ）に拡大して示す密着めっき層３４を形成することができる。なお密着
めっき層３４は、開口３７ａに臨む母型２４の表面にも不可避的に形成されるが、母型２
４上の密着めっき層３４は、後にマスク本体２と閉塞体１９を母型２４から剥離する際の
妨げになるため、その面積をなるべく小さくすることが好ましい。密着めっき層３４の形
成後にパターンレジスト３７を溶解除去すると、図６（ｃ）に示す状態になる。なお、接
合領域８・２１と接合通孔１０・２２に密着めっき層３４を形成するのに代えて、酸浸漬
や電解処理等の活性化処理（密着処理）を施してもよい。これによってもマスク本体２と
閉塞体１９に対する金属層４の接合強度（密着性）を高めることができる。
により、図６（ｃ）に拡大して示す密着めっき層３４を形成することができる。なお密着
めっき層３４は、開口３７ａに臨む母型２４の表面にも不可避的に形成されるが、母型２
４上の密着めっき層３４は、後にマスク本体２と閉塞体１９を母型２４から剥離する際の
妨げになるため、その面積をなるべく小さくすることが好ましい。密着めっき層３４の形
成後にパターンレジスト３７を溶解除去すると、図６（ｃ）に示す状態になる。なお、接
合領域８・２１と接合通孔１０・２２に密着めっき層３４を形成するのに代えて、酸浸漬
や電解処理等の活性化処理（密着処理）を施してもよい。これによってもマスク本体２と
閉塞体１９に対する金属層４の接合強度（密着性）を高めることができる。
【0035】
次に、一次電鋳層３０のマスク本体２と閉塞体１９に対して、枠体３を金属層４で接合
する。具体的にはまず、図７（ａ）に示すように、密着めっき層３４を形成した一次電鋳
層３０の表面全体にネガタイプのフォトレジスト層４０を形成し、その上にパターンフィ
ルム４１を密着させる。このパターンフィルム４１は、マスク本体２のパターン形成領域
７に対応する長方形状の透光孔４１ａと、閉塞体１９の閉塞領域２０に対応するＬ字状の
透光孔４１ｂとを備える。
する。具体的にはまず、図７（ａ）に示すように、密着めっき層３４を形成した一次電鋳
層３０の表面全体にネガタイプのフォトレジスト層４０を形成し、その上にパターンフィ
ルム４１を密着させる。このパターンフィルム４１は、マスク本体２のパターン形成領域
７に対応する長方形状の透光孔４１ａと、閉塞体１９の閉塞領域２０に対応するＬ字状の
透光孔４１ｂとを備える。
【0036】
次いで、紫外線ランプ２８で紫外線光を照射して、パターンフィルム４１を介してフォ
トレジスト層４０を露光する。露光後、フォトレジスト層４０からパターンフィルム４１
を取り外し、フォトレジスト層４０の未露光部分を溶解除去（現像）することにより、図
７（ｂ）に示す二次パターンレジスト４２を形成する。二次パターンレジスト４２は、マ
スク本体２のパターン形成領域７の表面を覆うレジスト体４２ａと、閉塞体１９の閉塞領
域２０の表面を覆うレジスト体４２ｂとで構成される。パターン形成領域７の蒸着通孔９
はレジスト体４２ａで覆われるため、その後の電鋳処理の際に、同通孔９に電鋳液が浸入
することは無い。
トレジスト層４０を露光する。露光後、フォトレジスト層４０からパターンフィルム４１
を取り外し、フォトレジスト層４０の未露光部分を溶解除去（現像）することにより、図
７（ｂ）に示す二次パターンレジスト４２を形成する。二次パターンレジスト４２は、マ
スク本体２のパターン形成領域７の表面を覆うレジスト体４２ａと、閉塞体１９の閉塞領
域２０の表面を覆うレジスト体４２ｂとで構成される。パターン形成領域７の蒸着通孔９
はレジスト体４２ａで覆われるため、その後の電鋳処理の際に、同通孔９に電鋳液が浸入
することは無い。
【0037】
次いで、図７（ｃ）に示すように、一次電鋳層３０の枠体支持部３１の上面の所定の位
置に枠体３を載置する。平面視において枠体支持部３１は枠体３よりも一回り大きく形成
されている。枠体支持部３１で支持される枠体３の下面には、剥離層４４を介して接着層
４５が予め積層されており、この接着層４５によって枠体３は枠体支持部３１に対してズ
レ動き不能に固定される。本実施例では剥離層４４をニッケルで形成し、接着層４５を未
露光のフォトレジスト層で形成した。
置に枠体３を載置する。平面視において枠体支持部３１は枠体３よりも一回り大きく形成
されている。枠体支持部３１で支持される枠体３の下面には、剥離層４４を介して接着層
４５が予め積層されており、この接着層４５によって枠体３は枠体支持部３１に対してズ
レ動き不能に固定される。本実施例では剥離層４４をニッケルで形成し、接着層４５を未
露光のフォトレジスト層で形成した。
【0038】
次いで、図７（ｄ）に示すようにめっき処理を施して、枠体３の表面からマスク本体２
と閉塞体１９の接合領域８・２１にわたって連続する二次電鋳層すなわち金属層４を形成
する。一次電鋳層３０の表面における金属層４は、レジスト体４２ａ・４２ｂの高さの範
囲内で形成する。またこのとき、接合通孔１０・２２内に金属層４を形成することにより
、接合通孔１０・２２の内周面に密着めっき層３４を形成していることと相俟って、マス
ク本体２と閉塞体１９に対する金属層４の接合強度がより向上する。電鋳処理後、母型２
４から一次電鋳層３０および金属層４を剥離し、次いで一次電鋳層３０の枠体支持部３１
を接着層４５および剥離層４４と共に、枠体３および金属層４から剥離する。最後に二次
パターンレジスト４２を除去することにより、図７（ｅ）に示す蒸着マスク１の完成品を
得ることができる。なお、二次パターンレジスト４２の除去は、一次電鋳層３０および金
属層４の剥離前に行っても良いし、枠体支持部３１、接着層４５および剥離層４４の剥離
前に行っても良い。
と閉塞体１９の接合領域８・２１にわたって連続する二次電鋳層すなわち金属層４を形成
する。一次電鋳層３０の表面における金属層４は、レジスト体４２ａ・４２ｂの高さの範
囲内で形成する。またこのとき、接合通孔１０・２２内に金属層４を形成することにより
、接合通孔１０・２２の内周面に密着めっき層３４を形成していることと相俟って、マス
ク本体２と閉塞体１９に対する金属層４の接合強度がより向上する。電鋳処理後、母型２
４から一次電鋳層３０および金属層４を剥離し、次いで一次電鋳層３０の枠体支持部３１
を接着層４５および剥離層４４と共に、枠体３および金属層４から剥離する。最後に二次
パターンレジスト４２を除去することにより、図７（ｅ）に示す蒸着マスク１の完成品を
得ることができる。なお、二次パターンレジスト４２の除去は、一次電鋳層３０および金
属層４の剥離前に行っても良いし、枠体支持部３１、接着層４５および剥離層４４の剥離
前に行っても良い。
【0039】
母型２４から剥離した完成後の蒸着マスク１において、各マスク本体２には内方へ収縮
しようとする応力が作用する。これは、マスク本体２を含む一次電鋳層３０を形成する際
の電鋳槽の液温（例えば４０～５０℃）が、常温よりも高いことなどに起因するものであ
る。各マスク本体２が収縮しようとすることにより、枠体３には金属層４を介して引張応
力が作用する。枠体３のうち格子枠１３の各部は、隣り合う２枚のマスク本体２（マスク
開口５）で両側から挟まれており、該マスク本体２により両側から引張られるが、引張応
力が互いに打ち消されるため殆ど変形しない。一方、外周枠１２の各部は、１枚のマスク
本体２（マスク開口５）にのみ隣接しており、該マスク本体２により一方のみから引張ら
れるため、格子枠１３に比べて変形し易い。
しようとする応力が作用する。これは、マスク本体２を含む一次電鋳層３０を形成する際
の電鋳槽の液温（例えば４０～５０℃）が、常温よりも高いことなどに起因するものであ
る。各マスク本体２が収縮しようとすることにより、枠体３には金属層４を介して引張応
力が作用する。枠体３のうち格子枠１３の各部は、隣り合う２枚のマスク本体２（マスク
開口５）で両側から挟まれており、該マスク本体２により両側から引張られるが、引張応
力が互いに打ち消されるため殆ど変形しない。一方、外周枠１２の各部は、１枚のマスク
本体２（マスク開口５）にのみ隣接しており、該マスク本体２により一方のみから引張ら
れるため、格子枠１３に比べて変形し易い。
【0040】
外周枠１２の各部の引張強度は同一ではなく、特に四隅は相対的に引張強度が高く変形
し難い（難変形部）。外周枠１２の変形量が各部で異なると、各辺部が内向きに撓み変形
するおそれがある。そこで本実施例では、外周枠１２の四隅のそれぞれに、Ｌ字状の切欠
孔からなる強度低下部１４を形成した。これによれば、外周枠１２の四隅の引張強度を低
下させて、外周枠１２の全周にわたって引張強度の均一化を図ることができる。換言すれ
ば、マスク本体２の収縮により生じる引張応力が、外周枠１２の各辺部の中央（易変形部
）に集中するのを避けて、外周枠１２の全体に分散させることができる。これにより、外
周枠１２の各辺部が内向きに撓み変形することを抑制して、枠体３ひいては蒸着マスク１
の全体の外形を良好に保つことができる。なお本実施例では、マスク本体２と同時に形成
される閉塞体１９にも、内方へ収縮しようとする応力が作用する。この応力は作用する方
が好ましいが、応力がゼロもしくは限りなく小さくなるように閉塞体１９を形成すること
もできる。また必要があれば、閉塞体１９を省略することもできる。この場合、強度低下
部１４としての切欠孔は、有底状のものであっても良い。
し難い（難変形部）。外周枠１２の変形量が各部で異なると、各辺部が内向きに撓み変形
するおそれがある。そこで本実施例では、外周枠１２の四隅のそれぞれに、Ｌ字状の切欠
孔からなる強度低下部１４を形成した。これによれば、外周枠１２の四隅の引張強度を低
下させて、外周枠１２の全周にわたって引張強度の均一化を図ることができる。換言すれ
ば、マスク本体２の収縮により生じる引張応力が、外周枠１２の各辺部の中央（易変形部
）に集中するのを避けて、外周枠１２の全体に分散させることができる。これにより、外
周枠１２の各辺部が内向きに撓み変形することを抑制して、枠体３ひいては蒸着マスク１
の全体の外形を良好に保つことができる。なお本実施例では、マスク本体２と同時に形成
される閉塞体１９にも、内方へ収縮しようとする応力が作用する。この応力は作用する方
が好ましいが、応力がゼロもしくは限りなく小さくなるように閉塞体１９を形成すること
もできる。また必要があれば、閉塞体１９を省略することもできる。この場合、強度低下
部１４としての切欠孔は、有底状のものであっても良い。
【0041】
（実施例２） 図８および図９に、本発明に係る蒸着マスクの実施例２を示す。本実施例
では、枠体３の外周枠１２の全周にわたって複数個の強度低下部１４を形成し、これら強
度低下部１４の開口面積（外周枠１２の周方向の長さ寸法）が、外周枠１２の隅部から辺
部中央にかけて徐々に小さくなるようにした。外周枠１２の隅部は、相対的に引張強度が
高く変形し難い難変形部であり、外周枠１２の辺部中央は、相対的に引張強度が低く変形
し易い易変形部である。本実施例のように、外周枠１２の難変形部から易変形部にかけて
、強度低下部１４の開口面積を徐々に小さくしていくと、外周枠１２の各部の引張強度を
その全周にわたってより正確に均一化させることができ、これにより外周枠１２の各辺部
の撓み変形をより確実に防止することができる。他は実施例１と同じであるので、同じ部
材に同じ符号を付してその説明を省略する。以下の実施例においても同じとする。なお、
外周枠１２の周方向における強度低下部１４の長さ寸法を徐々に小さくするのに代えて、
該周方向に直交する幅方向における強度低下部１４の幅寸法を徐々に小さくする場合にも
、本実施例と同様の作用効果を得ることができる。
では、枠体３の外周枠１２の全周にわたって複数個の強度低下部１４を形成し、これら強
度低下部１４の開口面積（外周枠１２の周方向の長さ寸法）が、外周枠１２の隅部から辺
部中央にかけて徐々に小さくなるようにした。外周枠１２の隅部は、相対的に引張強度が
高く変形し難い難変形部であり、外周枠１２の辺部中央は、相対的に引張強度が低く変形
し易い易変形部である。本実施例のように、外周枠１２の難変形部から易変形部にかけて
、強度低下部１４の開口面積を徐々に小さくしていくと、外周枠１２の各部の引張強度を
その全周にわたってより正確に均一化させることができ、これにより外周枠１２の各辺部
の撓み変形をより確実に防止することができる。他は実施例１と同じであるので、同じ部
材に同じ符号を付してその説明を省略する。以下の実施例においても同じとする。なお、
外周枠１２の周方向における強度低下部１４の長さ寸法を徐々に小さくするのに代えて、
該周方向に直交する幅方向における強度低下部１４の幅寸法を徐々に小さくする場合にも
、本実施例と同様の作用効果を得ることができる。
【0042】
マスク本体２と同一の素材および厚みからなる閉塞体１９は、自らが変形する（ダミー
となる）ことにより、マスク本体２の変形を抑制する作用効果を発揮する。本実施例のよ
うに、マスク本体２を囲むように閉塞体１９の一群を配置すると、マスク本体２の変形を
より的確に抑制できる。なお、各閉塞体１９をマスク本体２と同一の形状および大きさに
形成すると、上記の作用効果が最大限に発揮される。
となる）ことにより、マスク本体２の変形を抑制する作用効果を発揮する。本実施例のよ
うに、マスク本体２を囲むように閉塞体１９の一群を配置すると、マスク本体２の変形を
より的確に抑制できる。なお、各閉塞体１９をマスク本体２と同一の形状および大きさに
形成すると、上記の作用効果が最大限に発揮される。
【0043】
（実施例３） 図１０に、本発明に係る蒸着マスクの実施例３を示す。本実施例では、枠
体３の強度低下部１４の開口縁どうしを繋ぐ複数本の桟４７を、外周枠１２と一体に設け
た。これらの桟４７は、外周枠１２の四隅の引張強度を補強するものであり、強度低下部
１４を形成することで四隅の引張強度が低下し過ぎるのを避けるために設けられている。
本実施例において、強度低下部１４と桟４７を備える外周枠１２の四隅（難変形部）の引
張強度は、外周枠１２の辺部中央（易変形部）の引張強度に略等しい。桟４７は、最初か
ら枠体３と一体に形成してもよく、別体からなる桟４７を枠体３に接合して一体化しても
よい。両者３・４７を別体とする場合、桟４７は枠体３と同じ材質でも異なる材質でも良
い。ただし、桟４７を枠体３とは異なる材質とする場合でも、枠体３と同様にインバー材
やセラミック材などの低熱膨張係数の材質で桟４７を形成することが好ましい。
体３の強度低下部１４の開口縁どうしを繋ぐ複数本の桟４７を、外周枠１２と一体に設け
た。これらの桟４７は、外周枠１２の四隅の引張強度を補強するものであり、強度低下部
１４を形成することで四隅の引張強度が低下し過ぎるのを避けるために設けられている。
本実施例において、強度低下部１４と桟４７を備える外周枠１２の四隅（難変形部）の引
張強度は、外周枠１２の辺部中央（易変形部）の引張強度に略等しい。桟４７は、最初か
ら枠体３と一体に形成してもよく、別体からなる桟４７を枠体３に接合して一体化しても
よい。両者３・４７を別体とする場合、桟４７は枠体３と同じ材質でも異なる材質でも良
い。ただし、桟４７を枠体３とは異なる材質とする場合でも、枠体３と同様にインバー材
やセラミック材などの低熱膨張係数の材質で桟４７を形成することが好ましい。
【0044】
本実施例の別形態として、外周枠１２の全周にわたって強度低下部１４を無端状に形成
するとともに、四隅（難変形部）から辺部中央（易変形部）にかけて、隣接ピッチが徐々
に小さくなるように桟４７を設けることができ、あるいは、隣接ピッチは変えずに桟４７
を徐々に太くすることができる。これらの別形態によれば、先の実施例２と同様の作用効
果を得ることができる。なお、実施例３とその別形態において、桟４７で区切られた部分
の１つ１つを強度低下部１４と解釈することも可能であり、また、実施例２の強度低下部
１４間の非開口部分を桟４７と解釈することも可能である。さらに、枠体３（格子枠１３
）の強度の向上や、枠体３（外周枠１２）の強度低下部１４の周囲の強度の調整を目的と
して、マスク開口５内に桟４７を設けることができる。この場合の桟４７の位置や形状な
どは任意であるが、蒸着の障害とならないように、マスク本体２のパターン形成領域７（
蒸着通孔９）と重ならないようにすることが望ましい。
するとともに、四隅（難変形部）から辺部中央（易変形部）にかけて、隣接ピッチが徐々
に小さくなるように桟４７を設けることができ、あるいは、隣接ピッチは変えずに桟４７
を徐々に太くすることができる。これらの別形態によれば、先の実施例２と同様の作用効
果を得ることができる。なお、実施例３とその別形態において、桟４７で区切られた部分
の１つ１つを強度低下部１４と解釈することも可能であり、また、実施例２の強度低下部
１４間の非開口部分を桟４７と解釈することも可能である。さらに、枠体３（格子枠１３
）の強度の向上や、枠体３（外周枠１２）の強度低下部１４の周囲の強度の調整を目的と
して、マスク開口５内に桟４７を設けることができる。この場合の桟４７の位置や形状な
どは任意であるが、蒸着の障害とならないように、マスク本体２のパターン形成領域７（
蒸着通孔９）と重ならないようにすることが望ましい。
【0045】
（実施例４） 図１１および図１２に、本発明に係る蒸着マスクの実施例４を示す。本実
施例では、枠体３を構成する上枠１５を下枠１６よりも細く形成して、上枠１５のマスク
開口５が下枠１６の同開口５よりも一回り大きくなるようにした。上枠１５の格子枠１３
を構成する縦枠と横枠の幅寸法は、下枠１６の同幅寸法の３分の１に設定されており、上
枠１５と下枠１６を接着層１７で貼り合わせた状態では、上枠１５の縦枠および横枠の幅
寸法Ｗ１と、上枠１５の両側における下枠１６の上面の幅寸法Ｗ２とが等しくなる。
施例では、枠体３を構成する上枠１５を下枠１６よりも細く形成して、上枠１５のマスク
開口５が下枠１６の同開口５よりも一回り大きくなるようにした。上枠１５の格子枠１３
を構成する縦枠と横枠の幅寸法は、下枠１６の同幅寸法の３分の１に設定されており、上
枠１５と下枠１６を接着層１７で貼り合わせた状態では、上枠１５の縦枠および横枠の幅
寸法Ｗ１と、上枠１５の両側における下枠１６の上面の幅寸法Ｗ２とが等しくなる。
【0046】
図１２に示すように、基板（蒸着対象）Ｂ上に蒸着層を形成する蒸着工程において、蒸
着マスク１は上下を反転した状態で基板Ｂの下面に密着配置されて、下から上昇する蒸着
物質を蒸着パターン（蒸着通孔９）に従って通過させる。本実施例のように、上枠１５の
マスク開口５を下枠１６の同開口５よりも一回り大きくしていると、蒸着工程において上
枠１５が下側になるように蒸着マスク１を反転させたとき、上枠１５を覆う金属層４の下
端部が、上昇する蒸着物質にとっての障害物になることを防止することができる。なお、
特許文献１に開示された四層構造（上枠１５と下枠１６を備える枠体３を２つ重ねて貼り
合わせた四層構造）を採用する場合に、本実施例と同様の作用効果を得るためには、一方
の枠体３を構成する上枠１５と下枠１６を、他方の枠体３を構成する上枠１５と下枠１６
よりも細く形成し、細い方の枠体３を太い方の枠体３の上に貼り合わせるとよい。
着マスク１は上下を反転した状態で基板Ｂの下面に密着配置されて、下から上昇する蒸着
物質を蒸着パターン（蒸着通孔９）に従って通過させる。本実施例のように、上枠１５の
マスク開口５を下枠１６の同開口５よりも一回り大きくしていると、蒸着工程において上
枠１５が下側になるように蒸着マスク１を反転させたとき、上枠１５を覆う金属層４の下
端部が、上昇する蒸着物質にとっての障害物になることを防止することができる。なお、
特許文献１に開示された四層構造（上枠１５と下枠１６を備える枠体３を２つ重ねて貼り
合わせた四層構造）を採用する場合に、本実施例と同様の作用効果を得るためには、一方
の枠体３を構成する上枠１５と下枠１６を、他方の枠体３を構成する上枠１５と下枠１６
よりも細く形成し、細い方の枠体３を太い方の枠体３の上に貼り合わせるとよい。
【0047】
（実施例５） 図１３に、本発明に係る蒸着マスクの実施例５を示す。先の実施例１では
、マスク本体２と閉塞体１９の接合領域８・２２の全体（上面および外周面）に密着めっ
き層３４を形成したが、本実施例では、接合領域８・２２の外周縁部を除く上面のみに密
着めっき層３４を部分的に形成した。実施例１に比べて密着めっき層３４の形成領域（母
型２４との接地面積）を小さくした本実施例によれば、母型２４からマスク本体２と閉塞
体１９を比較的容易に剥離することができる。
、マスク本体２と閉塞体１９の接合領域８・２２の全体（上面および外周面）に密着めっ
き層３４を形成したが、本実施例では、接合領域８・２２の外周縁部を除く上面のみに密
着めっき層３４を部分的に形成した。実施例１に比べて密着めっき層３４の形成領域（母
型２４との接地面積）を小さくした本実施例によれば、母型２４からマスク本体２と閉塞
体１９を比較的容易に剥離することができる。
【0048】
（実施例６） 図１４に、本発明に係る蒸着マスクの実施例６を示す。本実施例では、閉
塞体１９の表面全体を金属層４で覆った。密着めっき層３４は、金属層４と閉塞体１９の
接合面の全体に形成されている。閉塞体１９の表面全体に金属層４を形成すると、強度低
下部１４の周囲の強度が上昇するため、これを利用して当該部分の強度を調整することが
できる。
塞体１９の表面全体を金属層４で覆った。密着めっき層３４は、金属層４と閉塞体１９の
接合面の全体に形成されている。閉塞体１９の表面全体に金属層４を形成すると、強度低
下部１４の周囲の強度が上昇するため、これを利用して当該部分の強度を調整することが
できる。
【符号の説明】
【0049】
１ 蒸着マスク
２ マスク本体
３ 枠体
４ 金属層
５ マスク開口
９ 蒸着通孔
１２ 外周枠
１３ 格子枠
１４ 強度低下部
１９ 閉塞体
４７ 桟
２ マスク本体
３ 枠体
４ 金属層
５ マスク開口
９ 蒸着通孔
１２ 外周枠
１３ 格子枠
１４ 強度低下部
１９ 閉塞体
４７ 桟
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
