特開 2022-168463 供給装置、供給方法及び光源

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022168463

(43)【公開日】2022-11-08

(54)【発明の名称】供給装置、供給方法及び光源

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20221031BHJP

   H05G 2/00 20060101ALI20221031BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 503

H05G2/00 K

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021073944

(22)【出願日】2021-04-26

(71)【出願人】

【識別番号】000115902

【氏名又は名称】レーザーテック株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100103894

【弁理士】

【氏名又は名称】家入 健

(74)【代理人】

【識別番号】100129953

【弁理士】

【氏名又は名称】岩瀬 康弘

(72)【発明者】

【氏名】井上 雅貴

(72)【発明者】

【氏名】西澤 正泰

【テーマコード（参考）】

2H197

4C092

【Ｆターム（参考）】

2H197CA10

2H197GA05

2H197GA24

4C092AA06

4C092AA15

4C092AB10

4C092AB12

(57)【要約】

【課題】ＥＵＶ光等の照明光を安定的に生成することができる供給装置、供給方法及び光源を提供する。
【解決手段】本発明に係る供給装置１は、回転軸Ｒ１を囲む内周面１４ａを有する容器１０であって、ターゲット部材５１が溶融された溶融ターゲット５０を保持した容器１０を、回転軸Ｒ１を中心に回転させた場合に、遠心力によって溶融ターゲット５０が内周面１４ａに保持される容器１０と、溶融ターゲット５０にターゲット部材５１を供給する供給ユニット２０と、レーザ光の照射によってプラズマを発生させた溶融ターゲット５０の内周面１４ａにおける位置を監視する監視部３０と、監視部３０が監視した位置に基づいて、ターゲット部材５１の供給量を制御する制御部４０と、を備える。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

回転軸を囲む内周面を有する容器であって、ターゲット部材が溶融された溶融ターゲットを保持した前記容器を、前記回転軸を中心に回転させた場合に、遠心力によって前記溶融ターゲットが前記内周面に保持される前記容器と、
前記溶融ターゲットに前記ターゲット部材を供給する供給ユニットと、
レーザ光の照射によってプラズマを発生させた前記溶融ターゲットの前記内周面における位置を監視する監視部と、
前記監視部が監視した前記位置に基づいて、前記ターゲット部材の供給量を制御する制御部と、
を備えた供給装置。

【請求項2】

前記供給ユニットは、線状の前記ターゲット部材を供給する、
請求項１に記載の供給装置。

【請求項3】

前記供給ユニットは、前記ターゲット部材の融点以上の温度にされたプレートを有し、
前記ターゲット部材を前記プレートに接触させて溶融させ、前記容器内に前記溶融ターゲットを供給する、
請求項１または２に記載の供給装置。

【請求項4】

前記内周面は、内周に沿って形成された溝を有し、
前記溶融ターゲットは、前記溝に保持された、
請求項１～３のいずれか１項に記載の供給装置。

【請求項5】

前記内周面は、内周に沿って形成された溝を有し、
前記溶融ターゲットは、前記溝に保持され、
前記プレートは、前記回転軸を中心軸とする円筒状であり、
前記プレートの外周面は、前記溝を覆う、
請求項３に記載の供給装置。

【請求項6】

回転軸を囲む内周面を有する容器であって、ターゲット部材が溶融された溶融ターゲットを保持した前記容器を、前記回転軸を中心に回転させ、遠心力によって前記溶融ターゲットを前記内周面に保持させるステップと、
前記溶融ターゲットに前記ターゲット部材を供給させるステップと、
レーザ光の照射によってプラズマを発生させた前記溶融ターゲットの前記内周面における位置を監視させるステップと、
監視した前記位置に基づいて、前記ターゲット部材の供給量を制御させるステップと、
を備えた供給方法。

【請求項7】

前記ターゲット部材を供給させるステップにおいて、
線状の前記ターゲット部材を供給させる、
請求項６に記載の供給方法。

【請求項8】

前記ターゲット部材を供給させるステップにおいて、
前記ターゲット部材の融点以上に加熱されたプレートに前記ターゲット部材を接触させて溶融させ、前記容器内に前記溶融ターゲットを供給させる、
請求項６または７に記載の供給方法。

【請求項9】

前記溶融ターゲットを前記内周面に保持させるステップにおいて、
前記内周面は、内周に沿って形成された溝を有し、
前記溶融ターゲットを、前記溝に保持させる、
請求項６～８のいずれか１項に記載の供給方法。

【請求項10】

前記溶融ターゲットを前記内周面に保持させるステップにおいて、
前記内周面は、内周に沿って形成された溝を有し、
前記溶融ターゲットを、前記溝に保持させ、
前記ターゲット部材を供給させるステップにおいて、
前記プレートは、前記回転軸を中心軸とする円筒状であり、
前記プレートの外周面で、前記溝を覆わせる、
請求項８に記載の供給方法。

【請求項11】

請求項１～５のいずれか１項の供給装置と、
前記溶融ターゲットに前記レーザ光を照射させるレーザ光源と、
前記プラズマから生成されたＥＵＶ光を取り出す光学部材と、
を備えた光源。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、供給装置、供給方法及び光源に関するものであり、例えば、ＥＵＶ光を生成するための供給装置、供給方法及び光源に関する。

【背景技術】

【0002】

高輝度ＥＵＶ光源における連続的なターゲット供給方法として、液滴（ドロップレット）を利用する方法、及び、透明な基板にターゲット薄膜を蒸着し、基板側からレーザを照射して飛ばす方法、溶融ターゲット池に固体ボール落とす方法等が用いられている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０２１－００１９２４号公報

【特許文献2】特開２０２１－０４３３６１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ドロップレット、薄膜を用いる方法では、飛翔中のターゲット挙動の制御が困難であり、装置が複雑化するという問題がある。また、ターゲット溶融池に固体ターゲットのボールを落とす方法は、溶融池の温度低下や不完全溶融を引き起こし、ひいては、ターゲット凝固による流路スタックを発生させる。このため、光源としての安定性や信頼性、メンテナンス性に問題がある。

【0005】

また、回転子による遠心力で容器壁面に溶融ターゲット膜を形成するＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）光源では、発光とともにターゲットがデブリとして飛散して減少するため、ターゲット膜厚が経時変化する。よって、レーザ焦点位置を固定していた場合に、レーザ焦点とターゲット表面の位置ずれが生じる。よって、生成されるＥＵＶ光の光量の低下を引き起こすという問題がある

【0006】

本発明の目的は、このような問題を解決するためになされたものであり、ＥＵＶ光等の照明光を安定的に生成することができる供給装置、供給方法及び光源を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明に係る供給装置は、回転軸を囲む内周面を有する容器であって、ターゲット部材が溶融された溶融ターゲットを保持した前記容器を、前記回転軸を中心に回転させた場合に、遠心力によって前記溶融ターゲットが前記内周面に保持される前記容器と、前記溶融ターゲットに前記ターゲット部材を供給する供給ユニットと、レーザ光の照射によってプラズマを発生させた前記溶融ターゲットの前記内周面における位置を監視する監視部と、前記監視部が監視した前記位置に基づいて、前記ターゲット部材の供給量を制御する制御部と、を備える。

【0008】

また、上記供給装置では、前記供給ユニットは、線状の前記ターゲット部材を供給してもよい。

【0009】

さらに、上記供給装置では、前記供給ユニットは、前記ターゲット部材の融点以上の温度にされたプレートを有し、前記ターゲット部材を前記プレートに接触させて溶融させ、前記容器内に前記溶融ターゲットを供給してもよい。

【0010】

上記供給装置では、前記内周面は、内周に沿って形成された溝を有し、前記溶融ターゲットは、前記溝に保持されてもよい。

【0011】

また、上記供給装置では、前記内周面は、内周に沿って形成された溝を有し、前記溶融ターゲットは、前記溝に保持され、前記プレートは、前記回転軸を中心軸とする円筒状であり、前記プレートの外周面は、前記溝を覆ってもよい。

【0012】

本発明に係る供給方法は、回転軸を囲む内周面を有する容器であって、ターゲット部材が溶融された溶融ターゲットを保持した前記容器を、前記回転軸を中心に回転させ、遠心力によって前記溶融ターゲットを前記内周面に保持させるステップと、前記溶融ターゲットに前記ターゲット部材を供給させるステップと、レーザ光の照射によってプラズマを発生させた前記溶融ターゲットの前記内周面における位置を監視させるステップと、監視した前記位置に基づいて、前記ターゲット部材の供給量を制御させるステップとを備える。

【0013】

また、上記供給方法では、前記ターゲット部材を供給させるステップにおいて、線状の前記ターゲット部材を供給させてもよい。

【0014】

さらに、上記供給方法では、前記ターゲット部材を供給させるステップにおいて、前記ターゲット部材の融点以上に加熱されたプレートに前記ターゲット部材を接触させて溶融させ、前記容器内に前記溶融ターゲットを供給させてもよい。

【0015】

上記供給方法では、前記溶融ターゲットを前記内周面に保持させるステップにおいて、前記内周面は、内周に沿って形成された溝を有し、前記溶融ターゲットを、前記溝に保持させてもよい。

【0016】

また、上記供給方法では、前記溶融ターゲットを前記内周面に保持させるステップにおいて、前記内周面は、内周に沿って形成された溝を有し、前記溶融ターゲットを、前記溝に保持させ、前記ターゲット部材を供給させるステップにおいて、前記プレートは、前記回転軸を中心軸とする円筒状であり、前記プレートの外周面で前記溝を覆わせてもよい。

【0017】

本発明に係る光源は、上記供給装置と、前記溶融ターゲットに前記レーザ光を照射させるレーザ光源と、前記プラズマから生成されたＥＵＶ光を取り出す光学部材とを備える。

【発明の効果】

【0018】

本発明によれば、ＥＵＶ光等の照明光を安定的に生成することができる供給装置、供給方法及び光源を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】実施形態１に係る供給装置を例示した構成図である。

【図2】実施形態１の容器を例示した断面図である。

【図3】実施形態１に係る供給ユニットを例示した斜視図である。

【図4】実施形態１に係るプレートを例示した斜視図である。

【図5】実施形態１の別の例に係るプレートを例示した斜視図である。

【図6】実施形態１の別の例に係るプレートを例示した断面図である。

【図7】実施形態１に係る供給方法を例示したフローチャート図である。

【図8】実施形態２に係る光源を例示した構成図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、本実施形態の具体的構成について図面を参照して説明する。以下の説明は、本発明の好適な実施の形態を示すものであって、本発明の範囲が以下の実施の形態に限定されるものではない。以下の説明において、同一の符号が付されたものは実質的に同様の内容を示している。

【0021】

（実施形態１）
実施形態１に係る供給装置及び供給方法を説明する。本実施形態の供給装置及び供給方法は、溶融ターゲットを保持した容器に、ターゲット部材を供給する。まず、＜供給装置＞を説明する。その後、＜供給方法＞を説明する。

【0022】

＜供給装置＞
図１は、実施形態１に係る供給装置を例示した構成図である。図１に示すように、供給装置１は、容器１０、供給ユニット２０、監視部３０、及び、制御部４０を備えている。図１では、一部の構成を断面図で示している。

【0023】

容器１０は、溶融ターゲット５０を保持する。容器１０は、例えば、坩堝であり、内部で、金属を溶融させることができる。容器１０は、例えば、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、炭化シリコン（ＳｉＣ）、グラファイト（Ｃ）等のような溶融ターゲット５０と反応しにくい材料を含んでいる。

【0024】

溶融ターゲット５０は、レーザ光の照射によりプラズマを発生する。溶融ターゲット５０は、ターゲット部材５１が溶融されたものである。ターゲット部材５１は、例えば、インジウムスズ（ＩｎＳｎ）、スズ（Ｓｎ）、インジウム（Ｉｎ）、リチウム（Ｌｉ）、ガリウム（Ｇａ）等の少なくともいずれかを含む材料またはそれらの材料を含む合金である。なお、ターゲット部材５１は、溶融した溶融ターゲット５０がレーザ光の照射によりプラズマを発生するものであれば、上記材料に限らない。容器１０は、チャンバーＣＨ内に配置されている。チャンバーＣＨ内は、例えば、真空等に減圧されてもよいし、所定のガスを充填されてもよい。

【0025】

容器１０は、回転軸Ｒ１を有し、回転軸Ｒ１を中心にして回転する。例えば、容器１０には、回転軸Ｒ１と同軸に延びた棒状のシャフト１１が接続されている。シャフト１１が回転軸Ｒ１を中心にして回転することにより、回転力が容器１０に伝達する。よって、容器１０は、回転軸Ｒ１を中心にして回転する。

【0026】

シャフト１１は、回転モータ１２に接続されている。回転モータ１２は、シャフト１１に対して回転軸Ｒ１を中心にして回転する動力を伝達する。これにより、回転モータ１２は、シャフト１１を介して回転軸Ｒ１を中心にして容器１０を回転させる。

【0027】

容器１０は、例えば、一方の開口部が閉じた円筒形状である。容器１０の閉じた部分を底部１３という。容器１０の円筒状の部分を円筒部１４という。容器１０の回転軸Ｒ１は、例えば、鉛直方向に延びている。底部１３が下方に位置し、開いた開口部１５が上方に位置している。底部１３の内側の面を底面１３ａと呼ぶ。底部１３の外側の面を下面１３ｂと呼ぶ。下面１３ｂは、底面１３ａの反対側の面である。回転軸Ｒ１が鉛直方向に延び、開口部１５が上方に位置している場合には、底面１３ａは上方を向き、下面１３ｂは下方を向いている。シャフト１１は、底部１３の下面１３ｂに接続している。

【0028】

容器１０の近傍にヒータ１７を備えてもよい。ヒータ１７の加熱によって、容器１０内に、溶融ターゲット５０を形成することができる。ヒータ１７は、例えば、容器１０の底部１３の下方に配置されている。

【0029】

円筒部１４の内側の壁面を内周面１４ａという。円筒部１４の外側の面を外周面１４ｂという。外周面１４ｂは、内周面１４ａの反対側の面である。内周面１４ａは、回転軸Ｒ１を囲んでいる。よって、容器１０は、回転軸Ｒ１を囲む内周面１４ａを有している。溶融ターゲット５０を保持した容器１０を、回転軸Ｒ１を中心に回転させた場合には、遠心力によって溶融ターゲット５０が内周面１４ａに保持される。例えば、溶融ターゲット５０は、遠心力によって内周面１４ａにへばりつく。これにより、溶融ターゲット５０は、内周面１４ａ上に配置される。

【0030】

図２は、実施形態１の容器１０を例示した断面図である。図２に示すように、回転軸Ｒ１を囲むように形成された内周面１４ａは、回転軸Ｒ１との距離が一定の円筒状の部分を含んでもよい。なお、内周面１４ａは、回転軸Ｒ１との距離が変化する傾斜面を含んでもよい。例えば、内周面１４ａは、底面１３ａとの接続部分で角Ｒが設けられてもよい。

【0031】

また、容器１０の内周面１４ａは、内周に沿って形成された溝１６を有してもよい。溝１６は、例えば、内周面１４ａと、回転軸Ｒ１に直交する面との交線に沿って形成されている。溝１６は、内周面１４ａにおいて、回転軸Ｒ１から遠ざかる方向に凹んでいる。

【0032】

内周面１４ａが溝１６を有している場合には、溶融ターゲット５０は、溝１６に保持されてもよい。溶融ターゲット５０を溝１６に保持することにより、溶融ターゲット５０の移動を制限することができるので、溶融ターゲット５０の液面の乱れを抑制することができる。また、溶融ターゲット５０の量を溝１６内に制限することができるので、必要なターゲット部材５１の量を低減することができる。なお、溶融ターゲット５０の一部は、溝１６の外部に位置してもよい。

【0033】

図３は、実施形態１に係る供給ユニット２０を例示した斜視図である。図３に示すように、供給ユニット２０は、容器１０に保持された溶融ターゲット５０にターゲット部材５１を供給する。ターゲット部材５１は、線状でもよい。線状のターゲット部材５１は、ボビン２１に巻かれて保持されてもよい。供給ユニット２０は、線状のターゲット部材５１をボビン２１から容器１０内の溶融ターゲット５０に供給する。例えば、供給ユニット２０の繰り出し部２４は、線状のターゲット部材５１を、内周面１４ａの溶融ターゲット５０まで繰り出す。線状のターゲット部材５１を供給することにより、連続供給することができる。よって、ターゲット部材５１を容器１０に供給するために供給装置１を停止させる必要がない。

【0034】

図４は、実施形態１に係るプレートを例示した斜視図である。図４に示すように、供給ユニット２０は、プレート２２を有してもよい。プレート２２は、例えば、板状である。プレート２２は、容器１０内に配置されている。プレート２２は、例えば、内周面１４ａに対向して配置されている。プレート２２は、ターゲット部材５１の融点以上の温度にされている。例えば、プレート２２は、ヒータ等の加熱部材により、ターゲット部材５１の融点以上の温度にされてもよいし、容器１０及び容器１０内の溶融ターゲット５０の輻射熱により、ターゲット部材５１の融点以上の温度にされてもよい。

【0035】

供給ユニット２０は、ターゲット部材５１をプレート２２に接触させて溶融させ、容器１０内に溶融ターゲット５０を供給してもよい。例えば、プレート２２により溶融した溶融ターゲット５０は、底面１３ａに落下後、遠心力によって内周面１４ａに到達する。これにより、容器１０内の溶融ターゲット５０にターゲット部材５１を接触させなくてもよいので、溶融ターゲット５０の温度低下を抑制することができる。また、振動等の溶融ターゲット５０の液面の乱れを抑制することができる。

【0036】

図５は、実施形態１の別の例に係るプレートを例示した斜視図である。図６は、実施形態１の別の例に係るプレートを例示した断面図である。図５及び図６に示すように、プレート２３は、回転軸Ｒ１を中心軸とする円筒状でもよい。そして、プレート２３の外周面２３ｂは、溝１６を覆ってもよい。これにより、溶融ターゲット５０を保温し、溶融ターゲット５０の状態を安定化させることができる。また、レーザ光を照射してプラズマを発生させた場合のデブリの飛散を抑制することができる。なお、プレート２３は、レーザ光の照射及び生成されたＥＵＶ光の取り出しのために、一部が除去されてもよい。

【0037】

図１及び図２に示すように、監視部３０は、レーザ光の照射によってプラズマを発生させた溶融ターゲット５０の内周面１４ａにおける位置を監視する。監視部３０は、例えば、変位計である。監視部３０は、内周面１４ａに対向して配置されている。監視部３０は、内周面１４ａ上に位置する溶融ターゲット５０の位置を監視する。例えば、監視部３０は、溶融ターゲット５０の回転軸Ｒ１に向いた表面との距離を測定することにより、内周面１４ａにおける位置を監視する。

【0038】

制御部４０は、監視部３０が監視した溶融ターゲット５０の内周面１４ａにおける位置を取得する。そして、制御部４０は、取得した溶融ターゲット５０の内周面１４ａにおける位置に基づいて、ターゲット部材５１の供給量を制御する。例えば、制御部４０は、溶融ターゲット５０の量が減少することにより、溶融ターゲット５０の内周面１４ａにおける位置が変化した場合には、ターゲット部材５１の供給量が大きくなるように制御する。一方、制御部４０は、溶融ターゲット５０の量が所定の量を維持することにより、溶融ターゲット５０の内周面１４ａにおける位置が変化していない場合には、ターゲット部材５１の供給量を停止するように制御する。制御部４０は、例えば、情報処理を行うパーソナルコンピュータ、マイコン等である。

【0039】

＜供給方法＞
次に、ターゲット部材５１の供給方法を説明する。図７は、実施形態１に係る供給方法を例示したフローチャート図である。

【0040】

図７のステップＳ１１に示すように、遠心力によって溶融ターゲット５０を内周面１４ａに保持させる。具体的には、回転軸Ｒ１を囲む内周面１４ａを有する容器１０であって、ターゲット部材５１が溶融された溶融ターゲット５０を保持した容器１０を、回転軸Ｒ１を中心に回転させる。このようにして、遠心力によって溶融ターゲット５０を内周面１４ａに保持させる。なお、溶融ターゲット５０を内周面１４ａに保持させる際に、内周面１４ａは、内周に沿って形成された溝１６を有してもよい。そして、溶融ターゲット５０を、溝１６に保持させてもよい。

【0041】

次に、ステップＳ１２に示すように、溶融ターゲット５０にターゲット部材５１を供給する。例えば、供給ユニット２０に、ターゲット部材５１を供給させる際に、線状のターゲット部材５１を供給させる。また、供給ユニット２０に、ターゲット部材５１を供給させる際に、ターゲット部材５１の融点以上に加熱されたプレート２２にターゲット部材５１を接触させて溶融させ、容器１０内に溶融ターゲット５０を供給させてもよい。

【0042】

なお、溶融ターゲット５０を、溝１６に保持させた場合には、プレート２３は、回転軸Ｒ１を中心軸とする円筒状でもよい。そして、プレート２３の外周面２３ｂで、溝１６を覆わせてもよい。

【0043】

次に、ステップＳ１３に示すように、溶融ターゲット５０の内周面１４ａにおける位置を監視させる。例えば、監視部３０に、レーザ光の照射によってプラズマを発生させた溶融ターゲット５０の内周面１４ａにおける位置を監視させる。

【0044】

次に、ステップＳ１４に示すように、監視部３０が監視した溶融ターゲット５０の内周面１４ａにおける位置に基づいて、ターゲット部材５１の供給量を制御させる。具体的には、制御部４０に、監視部３０が監視した溶融ターゲット５０の内周面１４ａにおける位置を取得させ、取得させた位置に基づいて、ターゲット部材５１の供給量を制御させる。このようにして、ターゲット部材５１を供給する。

【0045】

次に、本実施形態の効果を説明する。本実施形態のターゲット部材５１の供給装置１及び供給方法は、変位計等の監視部３０によって、容器１０内の溶融ターゲット５０の位置を一定位置に制御する。これにより、溶融ターゲット５０の表面におけるレーザ光の焦点位置を一定にすることができる。よって、ＥＵＶ光等の照明光を安定的に生成することができ、光量を安定化させることができる。

【0046】

また、ターゲット部材５１を線状とすることにより、ボビン２１等を含む供給ユニット２０によって、連続的にターゲット部材５１を容器１０に供給することができる。よって、連続稼働を可能にし、生産性を向上させることができる。また、メンテナンスを容易とすることができ、装置を簡素化することができる。

【0047】

さらに、線状のターゲット部材５１を供給源として使用することで、溶融ターゲット５０の表面位置を連続的に安定化することができ、デブリ飛散による溶融ターゲット５０の減少による照明光の光量変化を抑制することができる。

【0048】

（実施形態２）
次に、実施形態２に係る光源を説明する。本実施形態の光源は、上述した供給装置１を用いて、照明光を取り出す。照明光は、例えば、ＥＵＶ光である。本実施形態の光源は、例えば、検査装置において検査対象を照明する照明光の光源である。また、光源は、露光装置において露光光の光源に用いられてもよい。

【0049】

図８は、実施形態２に係る光源を例示した構成図である。図８に示すように、光源２は、供給装置１、レーザ光源６０、光学部材７０を備えている。供給装置１は、実施形態１の供給装置１と同様のものである。なお、図が煩雑にならないように、実施形態１で説明した供給装置１の構成のいくつかを省略している。また、一部の構成を断面図で示している。

【0050】

レーザ光源６０は、レーザ光を生成する。レーザ光源６０は、生成したレーザ光を溶融ターゲット５０に照射させる。レーザ光源６０は、集光レンズ等の光学部材を介したレーザ光で溶融ターゲット５０を照射してもよい。溶融ターゲット５０は、レーザ光の照射により、プラズマを発生させる。プラズマ中のイオン及び電子が再結合する際に、ＥＵＶ光が生成される。このようにして、溶融ターゲット５０に対して、レーザ光を照射することにより、プラズマからＥＵＶ光を生成する。

【0051】

光学部材７０は、プラズマから生成されたＥＵＶ光を取り出す。光学部材７０は、例えば、ミラーである。ミラーは、平面鏡でもよいし、凹面鏡でもよい。光学部材７０は、溶融ターゲット５０が保持された容器１０の上方に配置されている。光学部材７０は、生成されたＥＵＶ光を反射する。光学部材７０で反射したＥＵＶ光は、光源２の外部に取り出される。

【0052】

本実施形態によれば、光源２は、供給装置１によってターゲット部材５１が供給された溶融ターゲット５０からＥＵＶ光を取り出す。よって、光源２は、照明光として、ＥＵＶ光を安定的に生成させることができる。また、光源２は、連続稼働が可能であり、メンテナンスを簡素化させることができる。これ以外の構成及び効果は、実施形態１の記載に含まれている。

【0053】

以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明はその目的と利点を損なうことのない適宜の変形を含み、更に、上記の実施形態による限定は受けない。また、実施形態１及び２における各構成は、適宜、組み合わせてもよい。

【符号の説明】

【0054】

１ 供給装置
２ 光源
１０ 容器
１１ シャフト
１２ 回転モータ
１３ 底部
１３ａ 底面
１３ｂ 下面
１４ 円筒部
１４ａ 内周面
１４ｂ 外周面
１５ 開口部
１６ 溝
１７ ヒータ
２０ 供給ユニット
２１ ボビン
２２、２３ プレート
２３ｂ 外周面
２４ 繰り出し部
３０ 監視部
４０ 制御部
５０ 溶融ターゲット
５１ ターゲット部材
６０ レーザ光源
７０ 光学部材
ＣＨ チャンバー
Ｒ１ 回転軸

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】