特開2022-170710レーザリソグラフィ装置によってリソグラフィ材料内に三次元構造を作製する方法

発明の名称　レーザリソグラフィ装置によってリソグラフィ材料内に三次元構造を作製する方法

出願人　ナノスクライブ　ゲーエムベーハー　（識別番号 511206401）

　　　　特許公開件数ランキング 14556 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 4134 位（1件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2022-170710

公報発行日　2022年11月10

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2022-170710

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