特開 2022-173997 アルコール類の製造方法、及び、組成物

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022173997

(43)【公開日】2022-11-22

(54)【発明の名称】アルコール類の製造方法、及び、組成物

(51)【国際特許分類】

   C07C 29/147 20060101AFI20221115BHJP

   C07C 31/38 20060101ALI20221115BHJP

   C07C 49/17 20060101ALI20221115BHJP

   C07C 45/61 20060101ALI20221115BHJP

【ＦＩ】

C07C29/147

C07C31/38

C07C49/17 E

C07C45/61

【審査請求】有

【請求項の数】19

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022065236

(22)【出願日】2022-04-11

(11)【特許番号】

(45)【特許公報発行日】2022-11-10

(31)【優先権主張番号】P 2021079979

(32)【優先日】2021-05-10

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(71)【出願人】

【識別番号】000002853

【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000914

【氏名又は名称】弁理士法人ＷｉｓｅＰｌｕｓ

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 悠希

(72)【発明者】

【氏名】尾形 明俊

(72)【発明者】

【氏名】吉山 麻子

(72)【発明者】

【氏名】松浦 誠

(72)【発明者】

【氏名】黒木 克親

(72)【発明者】

【氏名】岸川 洋介

【テーマコード（参考）】

4H006

【Ｆターム（参考）】

4H006AA02

4H006AC41

4H006BB14

4H006BB31

4H006BC10

4H006BE23

4H006FE11

4H006FE71

4H006FE74

4H006FG26

4H006FG28

4H006FG29

(57)【要約】

【課題】溶媒使用量を低減でき、環境負荷やコストを低減でき、高濃度、高収率でアルコール類を得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物（１）と水素化金属化合物とを、水及び炭素数３以上のプロトン性溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒の存在下かつ、化合物（１）の濃度が１．０ｍｍｏｌ／ｇ（化合物（１）物質量／全溶媒量）以上である条件下で反応させて、一般式（２）で表される化合物（２）を得る工程（１）を含むことを特徴とするアルコール類の製造方法。
【選択図】なし

【特許請求の範囲】

【請求項1】

一般式（１）：

【化1】

（式中、Ａ^１～Ｄ^１はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ａ）：

【化2】

（式中、Ｒ^１は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基、又は、下記一般式（Ｂ）：

【化3】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基であり、Ｒ^２は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基である。但し、Ａ^１～Ｄ^１の全てが一般式（Ａ）で表される置換基ではない。また、Ａ^１～Ｄ^１のうち少なくとも一つは一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される置換基であり、Ａ^１～Ｄ^１のうち１～３個が一般式（Ａ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素であって、Ａ^１～Ｄ^１のうち２又は３個が一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される置換基である場合はＲ^１及びＲ^２は、それぞれ任意の位置の一つ以上の炭素において互いに結合していてもよい）で表される化合物（１）と
水素化金属化合物とを、
水及び炭素数３以上のプロトン性溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒の存在下かつ、化合物（１）の濃度が１．０ｍｍｏｌ／ｇ（化合物（１）物質量／全溶媒量）以上である条件下で反応させて、下記一般式（２）：

【化4】

（式中、Ａ^２～Ｄ^２はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｃ）：

【化5】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｄ）：

【化6】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^２～Ｄ^２の全てが一般式（Ｃ）で表される置換基ではない。また、Ａ^２～Ｄ^２のうち少なくとも一つは一般式（Ｃ）又は（Ｄ）で表される置換基であり、Ａ^２～Ｄ^２のうち１～３個が一般式（Ｃ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である）で表される化合物（２）を得る工程（１）を含むことを特徴とするアルコール類の製造方法。

【請求項2】

炭素数３以上のプロトン性溶媒が、ｎ－プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、ｓｅｃ－ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ｎ－ペンチルアルコール、ｓｅｃ－ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、及び、ネオペンチルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１記載の製造方法。

【請求項3】

水素化金属化合物が、水素化ホウ素化合物、及び、水素化アルミニウム化合物からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項4】

水素化金属化合物が、水素化ホウ素リチウム、水素化アミノホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化トリ（ｓｅｃ－ブチル）ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化トリ（ｓｅｃ－ブチル）ホウ素カリウム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ビス（２－メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ホウ素ニッケル、及び、ジボランからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項5】

水素化金属化合物が、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、及び、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウムからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項6】

水素化金属化合物の使用量が、前記化合物（１）中のエステル基に対して１．２当量以下である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項7】

Ｘ、Ｙ、及び、Ｚがそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよい炭素数１～５の炭化水素基である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項8】

ｎが０～３であり、Ｘ、Ｙ、及び、Ｚがそれぞれ独立して水素又はフッ素である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項9】

Ｒ^１又はＲ^２が、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよく、その構造中にエーテル結合を含んでもよい、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、２－メチルペンチル基、又は、ヘプチル基である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項10】

更に、工程（１）で得られた前記化合物（２）を含む反応液に酸を加えてｐＨ３以下にしてから抽出操作を行い、得られた抽出液を水洗して金属化合物を除く精製工程（２）、又は、工程（１）で得られた前記化合物（２）を含む反応液に酸を加えてｐＨ３以下にしてから下層に沈降した溶液を水洗して金属化合物を除く精製工程（３）を含む請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項11】

一般式（２）：

【化7】

（式中、Ａ^２～Ｄ^２はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｃ）：

【化8】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｄ）：

【化9】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^２～Ｄ^２の全てが一般式（Ｃ）で表される置換基ではない。また、Ａ^２～Ｄ^２のうち少なくとも一つは一般式（Ｃ）又は（Ｄ）で表される置換基であり、Ａ^２～Ｄ^２のうち１～３個が一般式（Ｃ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である）で表される化合物（２）と、
金属化合物と、
下記一般式（３）：

【化10】

（式中、Ａ^３～Ｄ^３はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｅ）：

【化11】

（式中、Ｒ^１は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基、又は、下記一般式（Ｆ）：

【化12】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基であり、Ｒ^２は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基である。但し、Ａ^３～Ｄ^３の全てが一般式（Ｅ）で表される置換基ではない。また、Ａ^３～Ｄ^３のうち少なくとも一つは一般式（Ｅ）又は（Ｆ）で表される置換基であり、Ａ^３～Ｄ^３のうち１～３個が一般式（Ｅ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素であって、Ａ^３～Ｄ^３のうち２又は３個が一般式（Ｅ）又は（Ｆ）で表される置換基である場合はＲ^１及びＲ^２は、それぞれ任意の位置の一つ以上の炭素において互いに結合していてもよい）で表される化合物（３）、及び、下記一般式（４）：

【化13】

（式中、Ａ^４～Ｄ^４はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｇ）：

【化14】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｈ）：

【化15】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^４～Ｄ^４の全てが一般式（Ｇ）で表される置換基ではない。また、Ａ^４～Ｄ^４のうち少なくとも一つは一般式（Ｇ）又は（Ｈ）で表される置換基であり、Ａ^４～Ｄ^４のうち１～３個が一般式（Ｇ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である）で表される化合物（４）からなる群より選択される少なくとも１種と、を含むことを特徴とする組成物。

【請求項12】

金属化合物を構成する金属元素の含有量が化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下である請求項１１記載の組成物。

【請求項13】

金属化合物を構成する金属元素の含有量が化合物（２）に対して３０００ｐｐｍ以下である請求項１１又は１２記載の組成物。

【請求項14】

化合物（３）の含有量が化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下である請求項１１又は１２記載の組成物。

【請求項15】

化合物（３）の含有量が化合物（２）に対して１０００ｐｐｍ以下である請求項１１又は１２記載の組成物。

【請求項16】

化合物（３）の含有量が化合物（２）に対して３００ｐｐｍ以下である請求項１１又は１２記載の組成物。

【請求項17】

化合物（４）の含有量が化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下である請求項１１又は１２記載の組成物。

【請求項18】

化合物（４）の含有量が化合物（２）に対して１０００ｐｐｍ以下である請求項１１又は１２記載の組成物。

【請求項19】

化合物（４）の含有量が化合物（２）に対して３００ｐｐｍ以下である請求項１１又は１２記載の組成物。

【請求項20】

一般式（２）：

【化16】

（式中、Ａ^２～Ｄ^２はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｃ）：

【化17】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｄ）：

【化18】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^２～Ｄ^２の全てが一般式（Ｃ）で表される置換基ではない。また、Ａ^２～Ｄ^２のうち少なくとも一つは一般式（Ｃ）又は（Ｄ）で表される置換基であり、Ａ^２～Ｄ^２のうち１～３個が一般式（Ｃ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である）で表される化合物（２）と水を含む組成物であって、水の含有量が化合物（２）に対して１５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする組成物。

【請求項21】

水の含有量が化合物（２）に対して５００ｐｐｍ以下である請求項２０記載の組成物。

【請求項22】

水の含有量が化合物（２）に対して１００ｐｐｍ以下である請求項２０又は２１記載の組成物。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示には、アルコール類の製造方法に関する。本開示はまた、アルコール類を含む組成物にも関する。

【背景技術】

【0002】

アルコール類の製造方法としては、水素化ホウ素化合物や水素化アルミニウム化合物等の水素化金属化合物を用いたエステルの還元による合成が知られている（例えば、特許文献１～５）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１６－２０３４０号公報

【特許文献2】国際公開第２００７／０５８８５２号

【特許文献3】特開２０１４－１６７５９６号公報

【特許文献4】米国特許第５９６９０７４号明細書

【特許文献5】特開２０１８－９０４９２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、溶媒使用量を低減でき、環境負荷やコストを低減でき、高濃度、高収率でアルコール類を得ることができる製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示（１）は、一般式（１）：

【化1】

（式中、Ａ^１～Ｄ^１はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ａ）：

【化2】

（式中、Ｒ^１は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基、又は、下記一般式（Ｂ）：

【化3】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基であり、Ｒ^２は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基である。但し、Ａ^１～Ｄ^１の全てが一般式（Ａ）で表される置換基ではない。また、Ａ^１～Ｄ^１のうち少なくとも一つは一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される置換基であり、Ａ^１～Ｄ^１のうち１～３個が一般式（Ａ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素であって、Ａ^１～Ｄ^１のうち２又は３個が一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される置換基である場合はＲ^１及びＲ^２は、それぞれ任意の位置の一つ以上の炭素において互いに結合していてもよい）で表される化合物（１）と
水素化金属化合物とを、
水及び炭素数３以上のプロトン性溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒の存在下かつ、化合物（１）の濃度が１．０ｍｍｏｌ／ｇ（化合物（１）物質量／全溶媒量）以上である条件下で反応させて、下記一般式（２）：

【化4】

（式中、Ａ^２～Ｄ^２はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｃ）：

【化5】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｄ）：

【化6】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^２～Ｄ^２の全てが一般式（Ｃ）で表される置換基ではない。また、Ａ^２～Ｄ^２のうち少なくとも一つは一般式（Ｃ）又は（Ｄ）で表される置換基であり、Ａ^２～Ｄ^２のうち１～３個が一般式（Ｃ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である）で表される化合物（２）を得る工程（１）を含むことを特徴とするアルコール類の製造方法を提供する。

【0006】

本開示（２）は、上記炭素数３以上のプロトン性溶媒は、ｎ－プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、ｓｅｃ－ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ｎ－ペンチルアルコール、ｓｅｃ－ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、及び、ネオペンチルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種である本開示（１）の製造方法である。

【0007】

本開示（３）は、上記水素化金属化合物は、水素化ホウ素化合物、及び、水素化アルミニウム化合物からなる群より選択される少なくとも１種である本開示（１）又は（２）の製造方法である。本開示（４）は、上記水素化金属化合物が、水素化ホウ素リチウム、水素化アミノホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化トリ（ｓｅｃ－ブチル）ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化トリ（ｓｅｃ－ブチル）ホウ素カリウム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ビス（２－メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ホウ素ニッケル、及び、ジボランからなる群より選択される少なくとも１種である本開示（１）～（３）のいずれかとの任意の組み合わせの製造方法である。本開示（５）は、上記水素化金属化合物が、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、及び、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウムからなる群より選択される少なくとも１種である本開示（１）～（４）のいずれかとの任意の組み合わせの製造方法である。

【0008】

本開示（６）は、上記水素化金属化合物の使用量は、上記化合物（１）中のエステル基に対して１．２当量以下である本開示（１）～（５）のいずれかとの任意の組み合わせの製造方法である。

【0009】

本開示（７）は、Ｘ、Ｙ、及び、Ｚがそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよい炭素数１～５の炭化水素基である本開示（１）～（６）のいずれかとの任意の組み合わせの製造方法である。

【0010】

本開示（８）は、ｎが０～３であり、Ｘ、Ｙ、及び、Ｚがそれぞれ独立して水素又はフッ素である本開示（１）～（７）のいずれかとの任意の組み合わせの製造方法である。

【0011】

本開示（９）は、Ｒ^１又はＲ^２が、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよく、その構造中にエーテル結合を含んでもよい、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、２－メチルペンチル基、又は、ヘプチル基である本開示（１）～（８）のいずれかとの任意の組み合わせの製造方法である。

【0012】

本開示（１０）は、更に、工程（１）で得られた上記化合物（２）を含む反応液に酸を加えてｐＨ３以下にしてから抽出操作を行い、得られた抽出液を水洗して金属化合物を除く精製工程（２）、又は、工程（１）で得られた上記化合物（２）を含む反応液に酸を加えてｐＨ３以下にしてから下層に沈降した溶液を水洗して金属化合物を除く精製工程（３）を含む本開示（１）～（９）のいずれかとの任意の組み合わせの製造方法である。

【0013】

本開示（１１）は、一般式（２）：

【化7】

（式中、Ａ^２～Ｄ^２はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｃ）：

【化8】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｄ）：

【化9】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^２～Ｄ^２の全てが一般式（Ｃ）で表される置換基ではない。また、Ａ^２～Ｄ^２のうち少なくとも一つは一般式（Ｃ）又は（Ｄ）で表される置換基であり、Ａ^２～Ｄ^２のうち１～３個が一般式（Ｃ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である）で表される化合物（２）と、
金属化合物と、
下記一般式（３）：

【化10】

（式中、Ａ^３～Ｄ^３はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｅ）：

【化11】

（式中、Ｒ^１は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基、又は、下記一般式（Ｆ）：

【化12】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基であり、Ｒ^２は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基である。但し、Ａ^３～Ｄ^３の全てが一般式（Ｅ）で表される置換基ではない。また、Ａ^３～Ｄ^３のうち少なくとも一つは一般式（Ｅ）又は（Ｆ）で表される置換基であり、Ａ^３～Ｄ^３のうち１～３個が一般式（Ｅ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素であって、Ａ^３～Ｄ^３のうち２又は３個が一般式（Ｅ）又は（Ｆ）で表される置換基である場合はＲ^１及びＲ^２は、それぞれ任意の位置の一つ以上の炭素において互いに結合していてもよい）で表される化合物（３）、及び、下記一般式（４）：

【化13】

（式中、Ａ^４～Ｄ^４はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｇ）：

【化14】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｈ）：

【化15】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^４～Ｄ^４の全てが一般式（Ｇ）で表される置換基ではない。また、Ａ^４～Ｄ^４のうち少なくとも一つは一般式（Ｇ）又は（Ｈ）で表される置換基であり、Ａ^４～Ｄ^４のうち１～３個が一般式（Ｇ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である）で表される化合物（４）からなる群より選択される少なくとも１種と、を含むことを特徴とする組成物を提供する。

【0014】

本開示（１２）は、上記金属化合物を構成する金属元素の含有量が上記化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下である本開示（１１）の組成物である。本開示（１３）は、金属化合物を構成する金属元素の含有量が上記化合物（２）に対して３０００ｐｐｍ以下である本開示（１１）又は（１２）の組成物である。

【0015】

本開示（１４）は、上記化合物（３）の含有量が上記化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下である本開示（１１）～（１３）のいずれかとの任意の組み合わせの組成物である。本開示（１５）は、上記化合物（３）の含有量が上記化合物（２）に対して１０００ｐｐｍ以下である本開示（１１）～（１４）のいずれかとの任意の組み合わせの組成物である。本開示（１６）は、上記化合物（３）の含有量が上記化合物（２）に対して３００ｐｐｍ以下である本開示（１１）～（１５）のいずれかとの任意の組み合わせの組成物である。

【0016】

本開示（１７）は、上記化合物（４）の含有量が上記化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下である本開示（１１）～（１６）のいずれかとの任意の組み合わせの組成物である。本開示（１８）は、上記化合物（４）の含有量が上記化合物（２）に対して１０００ｐｐｍ以下である本開示（１１）～（１７）のいずれかとの任意の組み合わせの組成物である。本開示（１９）は、上記化合物（４）の含有量が上記化合物（２）に対して３００ｐｐｍ以下である本開示（１１）～（１８）のいずれかとの任意の組み合わせの組成物である。

【0017】

本開示（２０）は、一般式（２）：

【化16】

（式中、Ａ^２～Ｄ^２はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｃ）：

【化17】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｄ）：

【化18】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^２～Ｄ^２の全てが一般式（Ｃ）で表される置換基ではない。また、Ａ^２～Ｄ^２のうち少なくとも一つは一般式（Ｃ）又は（Ｄ）で表される置換基であり、Ａ^２～Ｄ^２のうち１～３個が一般式（Ｃ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である）で表される化合物（２）と水を含む組成物であって、水の含有量が化合物（２）に対して１５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする組成物を提供する。

【0018】

本開示（２１）は、上記水の含有量が上記化合物（２）に対して５００ｐｐｍ以下である本開示（２０）の組成物である。本開示（２２）は、上記水の含有量が上記化合物（２）に対して１００ｐｐｍ以下である本開示（２０）又は（２１）の組成物である。

【発明の効果】

【0019】

本開示の製造方法で得られるアルコール類を医農薬や高機能材料として使用する際には機能影響が生じることがないように不純物を減らすことも求められているため、上記構成を有することにより、高純度で溶媒使用量を低減でき、環境負荷やコストを低減でき、高濃度、高収率でアルコール類を得ることができる。

【発明を実施するための形態】

【0020】

従来、エステルからの還元によってアルコール類を製造する際には、反応暴走を抑制するために原料を希釈した条件で実施する必要があったため、低濃度でしかアルコール類を得ることができなかった。また反応中間体であるヘミアセタールやアルデヒドとの混合物が得られ、分離が困難になるという課題があった。本発明者等が鋭意検討したところ、溶媒として嵩高いプロトン性溶媒又は水及びその混合溶媒を用い、安全性が高く工業的にも利用可能な水素化金属化合物を少量で使用することで、短い反応時間により、原料を希釈することなく、高濃度、高収率でアルコール類を合成できることを見出し、本開示の製造方法の開発に至った。
以下に、本開示のアルコール類の製造方法を詳細に説明する。

【0021】

本開示のアルコール類の製造方法は、一般式（１）で表される化合物（１）と水素化金属化合物とを、水及び炭素数３以上のプロトン性溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒の存在下かつ、化合物（１）の濃度が１．０ｍｍｏｌ／ｇ（化合物（１）物質量／全溶媒量）以上である条件下で反応させて、下記一般式（２）で表される化合物（２）を得る工程（１）を含む。

【0022】

上記化合物（１）は、一般式（１）：

【化19】

（式中、Ａ^１～Ｄ^１はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ａ）：

【化20】

（式中、Ｒ^１は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基、又は、下記一般式（Ｂ）：

【化21】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基であり、Ｒ^２は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基である。但し、Ａ^１～Ｄ^１の全てが一般式（Ａ）で表される置換基ではない。また、Ａ^１～Ｄ^１のうち少なくとも一つは一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される置換基であり、Ａ^１～Ｄ^１のうち１～３個が一般式（Ａ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素であって、Ａ^１～Ｄ^１のうち２又は３個が一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される置換基である場合はＲ^１及びＲ^２は、それぞれ任意の位置の一つ以上の炭素において互いに結合していてもよい）で表される。

【0023】

上記環状構造としては、ベンゼン環等の芳香族環やシクロヘキサン等の非芳香族環等が挙げられる。上記多重結合としては、二重結合又は三重結合が挙げられる。上記一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基としては、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよく、その構造中にカルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、２－メチルペンチル基及び、ヘプチル基等が挙げられる。

【0024】

ｎは０～５であり、より高濃度、高収率でアルコール類を得ることができることから、０～３が好ましい。

【0025】

より高濃度、高収率でアルコール類を得ることができることから、Ｘ、Ｙ、及び、Ｚは、それぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよい炭素数１～５の炭化水素基であることが好ましく、水素、又は、フッ素であることがより好ましい。

【0026】

より高濃度、高収率でアルコール類を得ることができることから、ｎは０～３であり、Ｘ、Ｙ、及び、Ｚはそれぞれ独立して水素、又は、フッ素であることが好ましい。

【0027】

Ｒ^１又はＲ^２は、より高濃度、高収率でアルコール類を得ることができることから、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよく、その構造中にエーテル結合を含んでもよい、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、２－メチルペンチル基、又は、ヘプチル基であることが好ましく、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよく、その構造中にエーテル結合を含んでもよい、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、２－メチルペンチル基、又は、ヘプチル基がより好ましく、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよく、その構造中にエーテル結合を含んでもよい、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、又は、２－メチルペンチル基が更に好ましい。

【0028】

上記一般式（Ａ）で表される置換基は、より高濃度、高収率でアルコール類を得ることができることから、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ－ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ－ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ｎ－ペントキシカルボニル基、ｓｅｃ－ペントキシカルボニル基、イソペントキシカルボニル基、ネオペントキシカルボニル基、ヘキトキシカルボニル基、ヘプトキシカルボニル基、２－メトキシエトキシカルボニル基、２－（２－メトキシエトキシ）エトキシカルボニル基、２－プロポキシプロポキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル基、パーフルオロエトキシカルボニル基、パーフルオロ－ｎ－プロポキシカルボニル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－ｎ－プロポキシカルボニル基、パーフルオロイソプロポキシカルボニル基、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロイソプロポキシカルボニル基、パーフルオロ－２－エトキシプロポキシカルボニル基、パーフルオロ－２－プロポキシプロポキシカルボニル基、パーフルオロ－２－ブトキシプロポキシカルボニル基、パーフルオロ－２－エトキシブトキシカルボニル基、パーフルオロ－２－プロポキシブトキシカルボニル基、又は、パーフルオロ－２－ブトキシブトキシカルボニル基が好ましく、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、２－メトキシエトキシカルボニル基、２－プロポキシプロポキシカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－ｎ－プロポキシカルボニル基、パーフルオロ－２－エトキシプロポキシカルボニル基、又は、パーフルオロ－２－プロポキシプロポキシカルボニル基がより好ましい。

【0029】

上記一般式（Ｂ）で表される置換基は、より高濃度、高収率でアルコール類を得ることができることから、

【化22】

【化23】

【化24】

【化25】

【化26】

【化27】

【化28】

が好ましい。

【0030】

上記Ａ^１～Ｄ^１の全てが、上記一般式（Ａ）で表される置換基ではない。また、上記Ａ^１～Ｄ^１のうち少なくとも一つは、上記一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される置換基であり、上記Ａ^１～Ｄ^１のうち１～３個が、上記一般式（Ａ）で表される置換基である場合は、残りの置換基のうち一つ以上がフッ素であって、上記Ａ^１～Ｄ^１のうち２又は３個が、上記一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される置換基である場合は、上記Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ任意の位置の一つ以上の炭素において互いに結合していてもよい。

【0031】

上記Ａ^１～Ｄ^１のうち１～２個が、上記一般式（Ａ）で表される置換基であり、上記Ａ^１～Ｄ^１のうち１～２個が、フッ素であることが好ましい。上記Ａ^１～Ｄ^１の好適な組み合わせとしては、上記Ａ^１～Ｄ^１のうち１個が上記一般式（Ａ）で表される置換基であり、上記Ａ^１～Ｄ^１のうち１個が上記一般式（Ｂ）で表される置換基であり、残りの２つの置換基がフッ素である組み合わせ、上記Ａ^１～Ｄ^１のうち２個が上記一般式（Ａ）で表される置換基であり、上記Ａ^１～Ｄ^１のうち１個がフッ素であり、残りの１つの置換基が水素である組み合わせ、又は、上記Ａ^１～Ｄ^１のうち１個が上記一般式（Ａ）で表される置換基であり、上記Ａ^１～Ｄ^１のうち１個がフッ素であり、残りの２つの置換基が一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である組み合わせが好ましい。

【0032】

上記化合物（１）としては、具体的には、２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（トリフルオロメチル）プロパン酸メチル、トリフルオロ酢酸－２，２，２－トリフルオロエチル、２－フルオロ－３－オキソブタン酸－２，２，２－トリフルオロエチル、３，３，３－トリフルオロ－２－ヒドロキシ－２－トリフルオロメチルプロパン酸メチル、２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２－トリフルオロアリロキシ）プロパン酸メチル、２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２，２－テトラフルオロ－２－（１，２，２－トリフルオロビニロキシ）エトキシ）プロパン酸メチル、フルオロマロン酸ジメチル、フルオロマロン酸ジエチル、テトラフルオロコハク酸ジメチル、テトラフルオロコハク酸ジエチル、ヘキサフルオログルタル酸ジメチル、ヘキサフルオログルタル酸ジエチル、オクタフルオロアジピン酸ジメチル、オクタフルオロアジピン酸ジエチル等が挙げられる。

【0033】

上記水素化金属化合物は、より高濃度、高収率でアルコール類を得ることができることから、水素化ホウ素化合物、及び、水素化アルミニウム化合物からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、水素化ホウ素リチウム、水素化アミノホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化トリ（ｓｅｃ－ブチル）ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化トリ（ｓｅｃ－ブチル）ホウ素カリウム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ビス（２－メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ホウ素ニッケル、及び、ジボランからなる群より選択される少なくとも１種であることがより好ましく、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、及び、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウムからなる群より選択される少なくとも１種であることが更に好ましい。

【0034】

より高濃度、高収率でアルコール類を得ることができることから、上記水素化金属化合物の使用量は、化合物（１）中のエステル基に対して２．５当量未満であることが好ましく、１．５当量以下であることがより好ましく、１．２当量以下であることが更に好ましい。

【0035】

工程（１）は、水及び炭素数３以上のプロトン性溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒の存在下かつ、化合物（１）の濃度が１．０ｍｍｏｌ／ｇ（化合物（１）物質量／全溶媒量）以上である条件下で行われる。

【0036】

上記プロトン性溶媒は、炭素数が３以上である。上記プロトン性溶媒の炭素数が上記範囲内であることにより、アルコール類を製造する際に、原料が高濃度であっても反応暴走を抑制することができる。炭素数は１５以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、５以下であることが更に好ましい。また、より高濃度、高収率でアルコール類を得ることができることから、上記プロトン性溶媒は、２級又は３級アルコールが好ましい。
上記プロトン性溶媒としては、ｎ－プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、ｓｅｃ－ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ｎ－ペンチルアルコール、ｓｅｃ－ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、及び、ネオペンチルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、より高濃度、高収率でアルコール類を得ることができることから、イソプロピルアルコール、及び、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種であることがより好ましい。

【0037】

上記工程（１）においては、水や上記炭素数３以上のプロトン性溶媒以外に、他の溶媒を含んでいてもよい。上記他の溶媒としては、ジエチルエーテル、メチル－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ヘプタフルオロメチルエーテル、ノナフルオロブチルメチルエーテル、ノナフルオロブチルエチルエーテル等の直鎖状モノエーテル類、モノグライム、ジグライム、トリグライム、テトラグライム等のグライム類、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等の環状エーテル類、フッ素化オイル類等が挙げられる。

【0038】

上記化合物（１）の濃度は、全溶媒量に対して、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上である。ここで、全溶媒量とは、水、炭素数が３以上のプロトン性溶媒、及び、他の溶媒の質量の合計である。上記化合物（１）の濃度が、上記範囲内であることにより、溶媒使用量を低減でき、環境負荷やコストを低減でき、高濃度、高収率でアルコール類を得ることができる。より高濃度、高収率でアルコール類を得ることができることから、上記化合物（１）の濃度は、全溶媒量に対して、１．２ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、１．４ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましい。また、反応液の高粘度化を防ぐために、１０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましく、５ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましい。

【0039】

上記工程（１）において、全溶媒量の８０質量％以上が上記水及び炭素数が３以上のプロトン性溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒であることが好ましく、９０質量％以上が上記水及び炭素数が３以上のプロトン性溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒であることがより好ましく、９５質量％以上が上記水及び炭素数が３以上のプロトン性溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒であることが更に好ましい。また、全溶媒量の８０質量％以上が上記炭素数が３以上のプロトン性溶媒であることが好ましく、９０質量％以上が上記炭素数が３以上のプロトン性溶媒であることがより好ましく、９５質量％以上が上記炭素数が３以上のプロトン性溶媒であることが更に好ましい。

【0040】

上記化合物（２）は、下記一般式（２）：

【化29】

（式中、Ａ^２～Ｄ^２はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｃ）：

【化30】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｄ）：

【化31】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^２～Ｄ^２の全てが一般式（Ｃ）で表される置換基ではない。また、Ａ^２～Ｄ^２のうち少なくとも一つは一般式（Ｃ）又は（Ｄ）で表される置換基であり、Ａ^２～Ｄ^２のうち１～３個が一般式（Ｃ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である）で表される。

【0041】

ｎ、Ｘ、Ｙ、及び、Ｚは、上記一般式（Ｂ）において説明したとおりである。

【0042】

上記一般式（Ｄ）で表される置換基は、

【化32】

が好ましい。

【0043】

上記Ａ^２～Ｄ^２の全てが、上記一般式（Ｃ）で表される置換基ではない。また、上記Ａ^２～Ｄ^２のうち少なくとも一つは、上記一般式（Ｃ）又は（Ｄ）で表される置換基であり、上記Ａ^２～Ｄ^２のうち１～３個が一般式（Ｃ）で表される置換基である場合は、残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である。

【0044】

上記Ａ^２～Ｄ^２のうち１～２個が、上記一般式（Ｃ）で表される置換基であり、上記Ａ^２～Ｄ^２のうち１～２個が、フッ素であることが好ましい。上記Ａ^２～Ｄ^２の好適な組み合わせとして、上記Ａ^２～Ｄ^２のうち１個が上記一般式（Ｃ）で表される置換基であり、上記Ａ^２～Ｄ^２のうち１個が上記一般式（Ｄ）で表される置換基であり、残りの２つの置換基がフッ素である組み合わせ、上記Ａ^２～Ｄ^２のうち２個が上記一般式（Ｃ）で表される置換基であり、上記Ａ^２～Ｄ^２のうち１個がフッ素であり、残りの１つの置換基が水素である組み合わせ、又は、上記Ａ^２～Ｄ^２のうち１個が上記一般式（Ａ）で表される置換基であり、上記Ａ^２～Ｄ^２のうち１個がフッ素であり、残りの２つの置換基が一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である組み合わせが好ましい。

【0045】

上記化合物（２）としては、２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（トリフルオロエチル）プロパン－１－オール、２，２，２－トリフルオロエタノール、３－フルオロ－４－ヒドロキシブタン－２－オン、２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２－トリフルオロアリロキシ）プロパン－１－オール、２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２，２－テトラフルオロ－２－（１，２，２－トリフルオロビニロキシ）エトキシ）プロパン－１－オール、３，３，３－トリフルオロ－２－（トリフルオロメチル）プロパン－１，２－ジオール、２－フルオロプロパン－１，３－ジオール、２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオール、２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロペンタン－１，５－ジオール、２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロヘキサン－１，６－ジオール等が挙げられる。

【0046】

上記工程（１）における温度は特に限定されないが、１００℃以下であってもよく、８５～０℃であることが好ましい。

【0047】

上記工程（１）に要する時間は特に限定されないが、通常、０．１～１２０分であり、１５～９０分であることが好ましい。

【0048】

本開示の製造方法は、更に、工程（１）で得られた上記化合物（２）を含む反応液に酸を加えてｐＨ３以下にしてから抽出操作を行い、得られた抽出液を水洗して金属化合物を除く精製工程（２）、又は、工程（１）で得られた上記化合物（２）を含む反応液に酸を加えてｐＨ３以下にしてから下層に沈降した溶液を水洗して金属化合物を除く精製工程（３）を含むことが好ましい。

【0049】

上記酸としては、塩酸、フッ酸、臭酸、硫酸、硝酸等が挙げられる。

【0050】

上記金属化合物は、上記工程（１）において、上記水素化金属化合物が酸化されたものであり、ホウ素化合物及びアルミニウム化合物からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、ホウ酸、水酸化アルミニウム等が挙げられる。

【0051】

上記工程（２）及び（３）における温度は特に限定されないが、５０℃以下であってもよく、３０～０℃であることが好ましい。

【0052】

上記工程（２）及び（３）に要する時間は特に限定されないが、通常、０．１～１２０分であり、１０～６０分であることが好ましい。

【0053】

本開示の製造方法は、化合物（２）の収率が３０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、７０％以上であることが更に好ましい。上記収率は、化合物（２）の物質量／化合物（１）の物質量で算出する。

【0054】

本開示はまた、上記製造方法により得られる組成物を提供する。本開示はまた、上記化合物（２）と、上記金属化合物と、一般式（３）で表される化合物（３）、及び、一般式（４）で表される化合物（４）からなる群より選択される少なくとも１種と、を含むことを特徴とする組成物（以下「本開示の第１の組成物」ともいう）を提供する。本開示の第１の組成物は、上記製造方法により得ることができる。

【0055】

本開示の第１の組成物において、上記化合物（２）及び上記金属化合物は、上記製造方法において説明したとおりである。

【0056】

本開示の第１の組成物において、上記化合物（３）は、下記一般式（３）：

【化33】

（式中、Ａ^３～Ｄ^３はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｅ）：

【化34】

（式中、Ｒ^１は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基、又は、下記一般式（Ｆ）：

【化35】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基であり、Ｒ^２は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基である。但し、Ａ^３～Ｄ^３の全てが一般式（Ｅ）で表される置換基ではない。また、Ａ^３～Ｄ^３のうち少なくとも一つは一般式（Ｅ）又は（Ｆ）で表される置換基であり、Ａ^３～Ｄ^３のうち１～３個が一般式（Ｅ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素であって、Ａ^３～Ｄ^３のうち２又は３個が一般式（Ｅ）又は（Ｆ）で表される置換基である場合は、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ任意の位置の一つ以上の炭素において互いに結合していてもよい）で表される。

【0057】

Ｒ^１、Ｒ^２、ｎ、Ｘ、Ｙ、及び、Ｚは、上記一般式（Ａ）及び（Ｂ）において説明したとおりである。

【0058】

上記一般式（Ｅ）で表される置換基は、

【化36】

【化37】

が好ましく、

【化38】

がより好ましい。

【0059】

上記一般式（Ｆ）で表される置換基は、

【化39】

【化40】

【化41】

【化42】

【化43】

【化44】

が好ましく、

【化45】

【化46】

【化47】

がより好ましい。

【0060】

上記Ａ^３～Ｄ^３の全てが、上記一般式（Ｅ）で表される置換基ではない。また、上記Ａ^３～Ｄ^３のうち少なくとも一つは、上記一般式（Ｅ）又は（Ｆ）で表される置換基であり、上記Ａ^３～Ｄ^３のうち１～３個が、上記一般式（Ｅ）で表される置換基である場合は、残りの置換基のうち一つ以上がフッ素であって、上記Ａ^３～Ｄ^３のうち２又は３個が、上記一般式（Ｅ）又は（Ｆ）で表される置換基である場合は、上記Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ任意の位置の一つ以上の炭素において互いに結合していてもよい。

【0061】

上記化合物（３）としては、具体的には、

【化48】

等が挙げられる。

【0062】

本開示の第１の組成物において、上記化合物（４）は、下記一般式（４）：

【化49】

（式中、Ａ^４～Ｄ^４はそれぞれ独立して、水素、フッ素、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｇ）：

【化50】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｈ）：

【化51】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^４～Ｄ^４の全てが一般式（Ｇ）で表される置換基ではない。また、Ａ^４～Ｄ^４のうち少なくとも一つは一般式（Ｇ）又は（Ｈ）で表される置換基であり、Ａ^４～Ｄ^４のうち１～３個が一般式（Ｇ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である）で表される。

【0063】

ｎ、Ｘ、Ｙ、及び、Ｚは、上記一般式（Ｂ）において説明したとおりである。

【0064】

上記一般式（Ｈ）で表される置換基は、

【化52】

が好ましい。

【0065】

上記Ａ^４～Ｄ^４の全てが、上記一般式（Ｇ）で表される置換基ではない。また、上記Ａ^４～Ｄ^４のうち少なくとも一つは、上記一般式（Ｇ）又は（Ｈ）で表される置換基であり、上記Ａ^４～Ｄ^４のうち１～３個が、上記一般式（Ｇ）で表される置換基である場合は、残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である。

【0066】

上記化合物（４）としては、具体的には、

【化53】

等が挙げられる。

【0067】

本開示の第１の組成物において、上記金属化合物を構成する金属元素の含有量が、上記化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下であることが好ましく、３０００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、２０００ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。上記金属化合物を構成する金属元素の含有量の下限は、特に限定されないが、０．００１ｐｐｍであってよい。上記金属化合物を構成する金属元素の含有量は、元素分析により測定できる。

【0068】

本開示の第１の組成物において、上記化合物（３）の含有量が、上記化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、３００ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。上記化合物（３）の含有量の下限は、特に限定されないが、０．００１ｐｐｍであってよい。上記化合物（３）の含有量は、^１９Ｆ―ＮＭＲ、^１Ｈ―ＮＭＲ、ＧＣ又はＬＣにより測定できる。

【0069】

本開示の第１の組成物において、上記化合物（４）の含有量が、上記化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、３００ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。上記化合物（４）の含有量の下限は、特に限定されないが、０．００１ｐｐｍであってよい。上記化合物（４）の含有量は、^１９Ｆ―ＮＭＲ、^１Ｈ―ＮＭＲ、ＧＣ又はＬＣにより測定できる。

【0070】

本開示の第１の組成物は、更に水を含んでいてもよい。本開示の第１の組成物において、水の含有量は、上記化合物（２）に対して１５００ｐｐｍ以下であることが好ましく、５００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。上記水の含有量の下限は、特に限定されないが、０．１ｐｐｍであってよい。上記水の含有量は、カールフィッシャー法により測定できる。

【0071】

本開示はまた、上記化合物（２）と水を含み、水の含有量が上記化合物（２）に対して１５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする組成物（以下「本開示の第２の組成物」ともいう）を提供する。本開示の第２の組成物は、上記製造方法により得ることができる。

【0072】

本開示の第２の組成物において、上記化合物（２）は、上記製造方法において説明したとおりである。

【0073】

本開示の第２の組成物において、上記水の含有量は、上記化合物（２）に対して５００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。上記水の含有量の下限は、特に限定されないが、０．１ｐｐｍであってよい。上記水の含有量は、カールフィッシャー法により測定できる。

【0074】

本開示の第２の組成物は、上記化合物（２）と水以外に、上記金属化合物、上記化合物（３）及び上記化合物（４）を含んでいてもよい。本開示の第２の組成物において、上記金属化合物は、上記製造方法において説明したとおりであり、上記化合物（３）及び上記化合物（４）は、本開示の第１の組成物において説明したとおりである。

【0075】

本開示の第２の組成物において、上記金属化合物を構成する金属元素の含有量が、上記化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下であることが好ましく、３０００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、２０００ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。上記金属化合物を構成する金属元素の含有量の下限は、特に限定されないが、０．００１ｐｐｍであってよい。上記金属化合物を構成する金属元素の含有量は、元素分析により測定できる。

【0076】

本開示の第２の組成物において、上記化合物（３）の含有量が、上記化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下であることが好ましく、３０００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１０００ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、３００ｐｐｍ以下であることが更により好ましい。上記化合物（３）の含有量の下限は、特に限定されないが、０．００１ｐｐｍであってよい。上記化合物（３）の含有量は、^１９Ｆ―ＮＭＲ、^１Ｈ―ＮＭＲ、ＧＣ又はＬＣにより測定できる。

【0077】

本開示の第２の組成物において、上記化合物（４）の含有量が、上記化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下であることが好ましく、３０００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１０００ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、３００ｐｐｍ以下であることが更により好ましい。上記化合物（４）の含有量の下限は、特に限定されないが、０．００１ｐｐｍであってよい。上記化合物（４）の含有量は、^１９Ｆ―ＮＭＲ、^１Ｈ―ＮＭＲ、ＧＣ又はＬＣにより測定できる。

【0078】

本開示の第１及び第２の組成物は、レンズ、プリズム、ディスプレイ材料、光ファイバー、光導波路材、コーティング材、反射防止用塗料、光応答性塗料、接着剤、３次元造形材料、レジスト材、基盤回路用封止剤、被覆材、シーラント、包装材、キャパシタ・電池用バインダー、キャパシタ・電池用添加剤、インキ、エアゾール製剤、分散剤、酸発生剤等の含フッ素材料、又は、その原材料として好適に用いることができる。

【実施例0079】

つぎに本開示を実施例をあげて説明するが、本開示はかかる実施例のみに限定されるものではない。

【0080】

比較例１：２－フルオロプロパン－１，３－ジオールの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．４２ｇ）、メタノール（ＭｅＯＨ）（１．０ｇ）を入れ、化合物（１－１）フルオロマロン酸ジエチル（１．０g）を滴下した。その後反応熱による還流条件下で０．５時間攪拌した。０．５時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へ酢酸エチル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層を酢酸エチル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られた酢酸エチル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られた酢酸エチル溶液を濃縮したが目的の化合物（２－１）２－フルオロプロパン－１，３－ジオールは得られなかった。結果を表１に示す。

【0081】

実施例１：２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオールの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．３５ｇ）、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール（ｔ－ＢｕＯＨ）（１．０ｇ）を入れ、化合物（１－２）テトラフルオロコハク酸ジメチル（１．０g）を滴下した。その後反応熱による還流条件下で０．５時間攪拌した。０．５時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へ酢酸エチル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層を酢酸エチル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られた酢酸エチル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られた酢酸エチル溶液を濃縮することで化合物（２－２）２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオール（０．６５ｇ、収率８７％）、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ジメトキシブタン－１，４－ジオール＋２，２，３，３－テトラフルオロ－４－ヒドロキシ－４－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して合計１４２ｐｐｍ）、２，２，３，３－テトラフルオロ－４－オキソブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して４０ｐｐｍ）、水（化合物（２－２）に対して４３３ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0082】

実施例２：２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオールの製造
実施例１の反応熱を氷水浴で冷却し、内温を５０℃以下に制御した以外は実施例１と同様にして実験を行い、化合物（２－２）２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオール（０．６４ｇ、収率８６％）、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ジメトキシブタン－１，４－ジオール＋２，２，３，３－テトラフルオロ－４－ヒドロキシ－４－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して合計１２５ｐｐｍ）、２，２，３，３－テトラフルオロ－４－オキソブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して１０２ｐｐｍ）、ホウ素化合物（ホウ素化合物を構成するホウ素は化合物（２－２）に対して１６００ｐｐｍ）、水（化合物（２－２）に対して２１１ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0083】

実施例３：２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオールの製造
実施例２のｔ－ＢｕＯＨの使用量を１．５ｇに変更した以外は実施例２と同様にして実験を行い、化合物（２－２）２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオール（０．６３ｇ、収率８５％）、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ジメトキシブタン－１，４－ジオール＋２，２，３，３－テトラフルオロ－４－ヒドロキシ－４－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して合計９８ｐｐｍ）、２，２，３，３－テトラフルオロ－４－オキソブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して９１ｐｐｍ）、水（化合物（２－２）に対して２２６ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0084】

実施例４：２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオールの製造
実施例２のｔ－ＢｕＯＨの使用量を３．０ｇに変更した以外は実施例２と同様にして実験を行い、化合物（２－２）２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオール（０．６４ｇ、収率８６％）、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ジメトキシブタン－１，４－ジオール＋２，２，３，３－テトラフルオロ－４－ヒドロキシ－４－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して合計１６９ｐｐｍ）、２，２，３，３－テトラフルオロ－４－オキソブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して３０ｐｐｍ）、水（化合物（２－２）に対して７５ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0085】

実施例５：２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオールの製造
実施例１のｔ－ＢｕＯＨ（１．０ｇ）をイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）（１．０ｇ）に変更した以外は実施例１と同様にして実験を行い、化合物（２－２）２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオール（０．６４ｇ、収率８５％）、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ジメトキシブタン－１，４－ジオール＋２，２，３，３－テトラフルオロ－４－ヒドロキシ－４－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して合計１９０ｐｐｍ）、２，２，３，３－テトラフルオロ－４－オキソブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して７０ｐｐｍ）、水（化合物（２－２）に対して２０４ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0086】

実施例６：２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオールの製造
実施例１のｔ－ＢｕＯＨ（１．０ｇ）をｎ－ブチルアルコール（ｎ－ＢｕＯＨ）（１．０ｇ）に変更した以外は実施例１と同様にして実験を行い、化合物（２－２）２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオール（０．５３ｇ、収率７１％）、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ジメトキシブタン－１，４－ジオール＋２，２，３，３－テトラフルオロ－４－ヒドロキシ－４－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して合計２２１ｐｐｍ）、２，２，３，３－テトラフルオロ－４－オキソブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して３４ｐｐｍ）、水（化合物（２－２）に対して１２７ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0087】

実施例７：２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオールの製造
実施例２のｔ－ＢｕＯＨ（１．０ｇ）をｔ－ＢｕＯＨ（０．９ｇ）＋水（０．１ｇ）に変更した以外は実施例２と同様にして実験を行い、化合物（２－２）２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオール（０．５６ｇ、収率７５％）、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ジメトキシブタン－１，４－ジオール＋２，２，３，３－テトラフルオロ－４－ヒドロキシ－４－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して合計７０ｐｐｍ）、２，２，３，３－テトラフルオロ－４－オキソブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して１２ｐｐｍ）、水（化合物（２－２）に対して２４６ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0088】

実施例８：２－フルオロプロパン－１，３－ジオールの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．４２ｇ）、ＩＰＡ（１．０ｇ）を入れ、化合物（１－１）フルオロマロン酸ジエチル（１．０g）を滴下した。その後反応熱による還流条件下で０．５時間攪拌した。０．５時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へ酢酸エチル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層を酢酸エチル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られた酢酸エチル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られた酢酸エチル溶液を濃縮することで化合物（２－１）２－フルオロプロパン－１，３－ジオール（０．１８ｇ、収率３４％）、１，３－ジメトキシ－２－フルオロプロパン－１，３－ジオール＋３－エトキシ－２－フルオロ－３－ヒドロキシプロパン酸エチル（化合物（２－１）に対して合計２０９ｐｐｍ）、２－フルオロ－３－オキソプロパン酸エチル（化合物（２－１）に対して９８ｐｐｍ）、水（化合物（２－１）に対して１２５ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0089】

実施例９：２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロペンタン－１，５－ジオールの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．２８ｇ）、ＩＰＡ（１．０ｇ）を入れ、化合物（１－３）ヘキサフルオログルタル酸ジメチル（１．０g）を滴下した。その後反応熱による還流条件下で０．５時間攪拌した。０．５時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へ酢酸エチル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層を酢酸エチル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られた酢酸エチル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られた酢酸エチル溶液を濃縮することで化合物（２－３）２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロペンタン－１，５－ジオール（０．７６ｇ、収率９７％）、２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロ－１，５－ジメトキシブタン－１，５－ジオール＋２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロ－５－ヒドロキシ－５－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－３）に対して合計２７０ｐｐｍ）、２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロ－５－オキソブタン酸メチル（化合物（２－３）に対して９８ｐｐｍ）、水（化合物（２－３）に対して１７６ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0090】

実施例１０：２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロペンタン－１，５－ジオールの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．２６ｇ）、ＩＰＡ（１．０ｇ）を入れ、化合物（１－４）ヘキサフルオログルタル酸ジエチル（１．０g）を滴下した。その後反応熱による還流条件下で０．５時間攪拌した。０．５時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へ酢酸エチル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層を酢酸エチル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られた酢酸エチル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られた酢酸エチル溶液を濃縮することで化合物（２－４）２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロペンタン－１，５－ジオール（０．６２ｇ、収率８６％）、２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロ－１，５－ジメトキシブタン－１，５－ジオール＋２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロ－５－ヒドロキシ－５－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－４）に対して合計１３１ｐｐｍ）、２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロ－５－オキソブタン酸メチル（化合物（２－４）に対して１６ｐｐｍ）、水（化合物（２－４）に対して２３８ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0091】

実施例１１：２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロヘキサン－１，６－ジオールの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．２４ｇ）、ＩＰＡ（１．０ｇ）を入れ、化合物（１－５）オクタフルオロアジピン酸ジメチル（１．０g）を滴下した。その後反応熱による還流条件下で０．５時間攪拌した。０．５時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へ酢酸エチル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層を酢酸エチル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られた酢酸エチル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られた酢酸エチル溶液を濃縮することで化合物（２－５）２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロヘキサン－１，６－ジオール（０．７６ｇ、収率９３％）、２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロ－１，６－ジメトキシブタン－１，６－ジオール＋２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロ－６－ヒドロキシ－６－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－５）に対して合計１８４ｐｐｍ）、２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロ－６－オキソブタン酸メチル（化合物（２－５）に対して１１１ｐｐｍ）、水（化合物（２－５）に対して３１４ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0092】

実施例１２：２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（トリフルオロエチル）プロパン－１－オールの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．１７ｇ）、ＩＰＡ（１．０ｇ）を入れ、化合物（１－６）２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（トリフルオロメチル）プロパン酸メチル（１．０g）を滴下した。その後反応熱による還流条件下で０．５時間攪拌した。０．５時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へ酢酸エチル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層を酢酸エチル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られた酢酸エチル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られた酢酸エチル溶液を濃縮することで化合物（２－６）２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（トリフルオロエチル）プロパン－１－オール（０．７６ｇ、収率８７％）、２，３，３，３－テトラフルオロ－１－メトキシ－２－（トリフルオロメチル）プロパン－１－オール（化合物（２－６）に対して１１４ｐｐｍ）、２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（トリフルオロメチル）プロパナール（化合物（２－６）に対して４１ｐｐｍ）、水（化合物（２－６）に対して６７ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0093】

実施例１３：２，２，２－トリフルオロエタノールの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．１９ｇ）、ＩＰＡ（１．０ｇ）を入れ、化合物（１－７）トリフルオロ酢酸－２，２，２－トリフルオロエチル（１．０g）を滴下した。その後反応熱による還流条件下で０．５時間攪拌した。０．５時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へ酢酸エチル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層を酢酸エチル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られた酢酸エチル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られた酢酸エチル溶液をＧＣ分析し、化合物（２－７）２，２，２－トリフルオロエタノール（０．４５ｇ、収率８８％）、２，２，２－トリフルオロ－１－（２，２，２－トリフルオロエトキシ）エタン－１－オール（化合物（２－７）に対して２８６ｐｐｍ）、２，２，２－トリフルオロアセトアルデヒド（化合物（２－７）に対して１９２ｐｐｍ）、水（化合物（２－７）に対して２４ｐｐｍ）を含む組成物が得られたことを確認した。結果を表１に示す。

【0094】

実施例１４：３－フルオロ－４－ヒドロキシブタン－２－オンの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．１９ｇ）、ＩＰＡ（１．０ｇ）を入れ、化合物（１－８）２－フルオロ－３－オキソブタン酸－２，２，２－トリフルオロエチル（１．０g）を滴下した。その後反応熱による還流条件下で０．５時間攪拌した。０．５時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へ酢酸エチル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層を酢酸エチル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られた酢酸エチル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られた酢酸エチル溶液を濃縮することで化合物（２－８）３－フルオロ－４－ヒドロキシブタン－２－オン（０．３０ｇ、収率５７％）、３－フルオロ－４－ヒドロキシ－４－（２，２，２－トリフルオロエトキシ）ブタン－２－オン（化合物（２－８）に対して２６７ｐｐｍ）、２－フルオロ－３－オキソブタナール（化合物（２－８）に対して１７６ｐｐｍ）、水（化合物（２－８）に対して８４ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0095】

実施例１５：３，３，３－トリフルオロ－２－（トリフルオロメチル）プロパン－１，２－ジオールの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．１２ｇ）、水（３．０ｇ）を入れ、化合物（１－９）３，３，３－トリフルオロ－２－ヒドロキシ－２－トリフルオロメチルプロパン酸メチル（１．０g）を３０℃以下で滴下した。その後室温下（ＲＴ）で３時間攪拌した。３時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へジイソプロピルエーテル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層をジイソプロピルエーテル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られたジイソプロピルエーテル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られたジイソプロピルエーテル溶液を濃縮することで化合物（２－９）３，３，３－トリフルオロ－２－（トリフルオロメチル）プロパン－１，２－ジオール（０．７１ｇ、収率８１％）、３，３，３－トリフルオロ－１－メトキシ－２－トリフルオロメチルプロパン－１，２－ジオール（化合物（２－９）に対して１６７ｐｐｍ）、３，３，３－トリフルオロ－２ーヒドロキシ－２－トリフルオロメチルプロパナール（化合物（２－９）に対して１１９ｐｐｍ）、水（化合物（２－９）に対して２６０ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0096】

実施例１６：３，３，３－トリフルオロ－２－（トリフルオロメチル）プロパン－１，２－ジオールの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．１４ｇ）、ＩＰＡ（１．０ｇ）を入れ、化合物（１－１０）２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２－トリフルオロアリロキシ）プロパン酸メチル（１．０g）を滴下した。その後反応熱による還流条件下で０．５時間攪拌した。０．５時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へ酢酸エチル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層を酢酸エチル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られた酢酸エチル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られた酢酸エチル溶液を濃縮することで化合物（２－１０）２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２－トリフルオロアリロキシ）プロパン－１－オール（０．７０ｇ、収率７８％）、２，３，３，３－テトラフルオロ－１－メトキシ－２－（１，１，２－トリフルオロアリロキシ）プロパン－１－オール（化合物（２－１０）に対して７６ｐｐｍ）、２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２－トリフルオロアリロキシ）プロパナール（化合物（２－１０）に対して２１１ｐｐｍ）、水（化合物（２－１０）に対して３０９ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0097】

実施例１７：２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２，２－テトラフルオロ－２－（１，２，２－トリフルオロビニロキシ）エトキシ）プロパン－１－オールの製造
反応器に水素化ホウ素ナトリウム（０．１０ｇ）、ＩＰＡ（１．０ｇ）を入れ、化合物（１－１１）２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２，２－テトラフルオロ－２－（１，２，２－トリフルオロビニロキシ）エトキシ）プロパン酸メチル（１．０g）を滴下した。その後反応熱による還流条件下で０．５時間攪拌した。０．５時間後、１Ｎ塩酸（９ｍＬ）を加えてｐＨを３以下とした。この溶液へ酢酸エチル（２ｇ）を加えて抽出し、さらに分液した水層を酢酸エチル（２ｇ×２回）にて抽出し、蒸留水（２ｇ）を加えて洗浄、分液した。得られた酢酸エチル溶液は硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、得られた酢酸エチル溶液を濃縮することで化合物（２－１１）２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２，２－テトラフルオロ－２－（１，２，２－トリフルオロビニロキシ）エトキシ）プロパン－１－オール（０．７２ｇ、収率７８％）、２，３，３，３－テトラフルオロ－１－メトキシ－２－（１，１，２，２－テトラフルオロ－２－（１，２，２－トリフルオロビニロキシ）エトキシ）プロパン－１－オール（化合物（２－１１）に対して１３５ｐｐｍ）、２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２，２－テトラフルオロ－２－（１，２，２－トリフルオロビニロキシ）エトキシ）プロパナール（化合物（２－１１）に対して１４ｐｐｍ）、水（化合物（２－１１）に対して９３ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0098】

実施例１８：２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオールの製造
実施例２のスケールを１００倍にし、攪拌時間を１．５時間に変更した以外は実施例２と同様にして実験を行い、化合物（２－２）２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオール（６４．７ｇ、収率８７％）、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ジメトキシブタン－１，４－ジオール＋２，２，３，３－テトラフルオロ－４－ヒドロキシ－４－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－１）に対して合計８４ｐｐｍ）、２，２，３，３－テトラフルオロ－４－オキソブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して３１ｐｐｍ）、ホウ素化合物（ホウ素化合物を構成するホウ素は化合物（２－２）に対して２６００ｐｐｍ）、水（化合物（２－２）に対して８９ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0099】

実施例１９：３，３，３－トリフルオロ－２－（トリフルオロメチル）プロパン－１，２－ジオールの製造
実施例１５のスケールを１５０倍にし、攪拌時間を１８．０時間に変更した以外は実施例１５と同様にして実験を行い、化合物（２－９）３，３，３－トリフルオロ－２－（トリフルオロメチル）プロパン－１，２－ジオール（１１２ｇ、収率８５％）、３，３，３－トリフルオロ－１－メトキシ－２－トリフルオロメチルプロパン－１，２－ジオール（化合物（２－９）に対して１９ｐｐｍ）、３，３，３－トリフルオロ－２ーヒドロキシ－２－トリフルオロメチルプロパナール（化合物（２－９）に対して１３ｐｐｍ）、水（化合物（２－９）に対して２８ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0100】

実施例２０：２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオールの製造
実施例１の水素化ホウ素ナトリウム（０．３５ｇ）をシアノ水素化ホウ素ナトリウム（０．６９ｇ）に変更した以外は実施例１と同様にして実験を行い、化合物（２－２）２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオール（０．６０ｇ、収率８１％）、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ジメトキシブタン－１，４－ジオール＋２，２，３，３－テトラフルオロ－４－ヒドロキシ－４－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して合計１５６ｐｐｍ）、２，２，３，３－テトラフルオロ－４－オキソブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して２８ｐｐｍ）、水（化合物（２－２）に対して１００ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0101】

実施例２１：２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオールの製造
実施例１の水素化ホウ素ナトリウム（０．３５ｇ）を水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム（２．３３ｇ）に変更した以外は実施例１と同様にして実験を行い、化合物（２－２）２，２，３，３－テトラフルオロブタン－１，４－ジオール（０．５２ｇ、収率７０％）、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ジメトキシブタン－１，４－ジオール＋２，２，３，３－テトラフルオロ－４－ヒドロキシ－４－メトキシブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して合計２０７ｐｐｍ）、２，２，３，３－テトラフルオロ－４－オキソブタン酸メチル（化合物（２－２）に対して５２ｐｐｍ）、水（化合物（２－２）に対して１６３ｐｐｍ）を含む組成物を得た。結果を表１に示す。

【0102】

【表1】

【手続補正書】

【提出日】2022-08-10

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【請求項1】

一般式（１）：

【化1】

（式中、Ａ^１～Ｄ^１はそれぞれ独立して、水素、フッ素、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ａ）：

【化2】

（式中、Ｒ^１は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基、又は、下記一般式（Ｂ）：

【化3】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよい炭素数１～５の炭化水素基であり、Ｒ^２は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基である。但し、Ａ^１～Ｄ^１の全てが一般式（Ａ）で表される置換基ではない。また、Ａ^１～Ｄ^１のうち少なくとも一つは一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される置換基であり、Ａ^１～Ｄ^１のうち１又は２個が一般式（Ａ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素であって、Ａ^１～Ｄ^１のうち２又は３個が一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表される置換基である場合はＲ^１及びＲ^２は、それぞれ任意の位置の一つ以上の炭素において互いに結合していてもよい。Ａ ^１ ～Ｄ ^１ の組み合わせは、Ａ ^１ ～Ｄ ^１ のうち１個が一般式（Ａ）で表される置換基であり、Ａ ^１ ～Ｄ ^１ のうち１個が一般式（Ｂ）で表される置換基であり、残りの２つの置換基がフッ素である組み合わせ、Ａ ^１ ～Ｄ ^１ のうち２個が一般式（Ａ）で表される置換基であり、Ａ ^１ ～Ｄ ^１ のうち１個がフッ素であり、残りの１つの置換基が水素である組み合わせ、又は、Ａ ^１ ～Ｄ ^１ のうち１個が一般式（Ａ）で表される置換基であり、Ａ ^１ ～Ｄ ^１ のうち１個がフッ素であり、残りの２つの置換基が一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である組み合わせである。）で表される化合物（１）と
水素化金属化合物とを、
水及び炭素数３以上のプロトン性溶媒からなる群より選択される少なくとも１種の溶媒の存在下かつ、化合物（１）の濃度が１．０ｍｍｏｌ／ｇ（化合物（１）物質量／全溶媒量）以上である条件下で反応させて、下記一般式（２）：

【化4】

（式中、Ａ^２～Ｄ^２はそれぞれ独立して、水素、フッ素、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｃ）：

【化5】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｄ）：

【化6】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよい炭素数１～５の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^２～Ｄ^２の全てが一般式（Ｃ）で表される置換基ではない。また、Ａ^２～Ｄ^２のうち少なくとも一つは一般式（Ｃ）又は（Ｄ）で表される置換基であり、Ａ^２～Ｄ^２のうち１又は２個が一般式（Ｃ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である。Ａ ^２ ～Ｄ ^２ の組み合わせは、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個が一般式（Ｃ）で表される置換基であり、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個が一般式（Ｄ）で表される置換基であり、残りの２つの置換基がフッ素である組み合わせ、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち２個が一般式（Ｃ）で表される置換基であり、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個がフッ素であり、残りの１つの置換基が水素である組み合わせ、又は、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個が一般式（Ｃ）で表される置換基であり、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個がフッ素であり、残りの２つの置換基が一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である組み合わせである。）で表される化合物（２）を得る工程（１）を含むことを特徴とするアルコール類の製造方法。

【請求項2】

炭素数３以上のプロトン性溶媒が、ｎ－プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、ｓｅｃ－ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ｎ－ペンチルアルコール、ｓｅｃ－ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、及び、ネオペンチルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１記載の製造方法。

【請求項3】

水素化金属化合物が、水素化ホウ素化合物、及び、水素化アルミニウム化合物からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項4】

水素化金属化合物が、水素化ホウ素リチウム、水素化アミノホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化トリ（ｓｅｃ－ブチル）ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化トリ（ｓｅｃ－ブチル）ホウ素カリウム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ビス（２－メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ホウ素ニッケル、及び、ジボランからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項5】

水素化金属化合物が、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、及び、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウムからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項6】

水素化金属化合物の使用量が、前記化合物（１）中のエステル基に対して１．２当量以下である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項7】

ｎが０～３であり、Ｘ、Ｙ、及び、Ｚがそれぞれ独立して水素又はフッ素である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項8】

Ｒ^１又はＲ^２が、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよく、その構造中にエーテル結合を含んでもよい、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、２－メチルペンチル基、又は、ヘプチル基である請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項9】

更に、工程（１）で得られた前記化合物（２）を含む反応液に酸を加えてｐＨ３以下にしてから抽出操作を行い、得られた抽出液を水洗して金属化合物を除く精製工程（２）、又は、工程（１）で得られた前記化合物（２）を含む反応液に酸を加えてｐＨ３以下にしてから下層に沈降した溶液を水洗して金属化合物を除く精製工程（３）を含む請求項１又は２記載の製造方法。

【請求項10】

一般式（２）：

【化7】

（式中、Ａ^２～Ｄ^２はそれぞれ独立して、水素、フッ素、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｃ）：

【化8】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｄ）：

【化9】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよい炭素数１～５の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^２～Ｄ^２の全てが一般式（Ｃ）で表される置換基ではない。また、Ａ^２～Ｄ^２のうち少なくとも一つは一般式（Ｃ）又は（Ｄ）で表される置換基であり、Ａ^２～Ｄ^２のうち１～３個が一般式（Ｃ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である。Ａ ^２ ～Ｄ ^２ の組み合わせは、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個が一般式（Ｃ）で表される置換基であり、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個が一般式（Ｄ）で表される置換基であり、残りの２つの置換基がフッ素である組み合わせ、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち２個が一般式（Ｃ）で表される置換基であり、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個がフッ素であり、残りの１つの置換基が水素である組み合わせ、又は、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個が一般式（Ｃ）で表される置換基であり、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個がフッ素であり、残りの２つの置換基が一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である組み合わせである。）で表される化合物（２）と、
金属化合物と、
下記一般式（３）：

【化10】

（式中、Ａ^３～Ｄ^３はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｅ）：

【化11】

（式中、Ｒ^１は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基、又は、下記一般式（Ｆ）：

【化12】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよい炭素数１～５の炭化水素基であり、Ｒ^２は一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、又は、水素である。）で表される置換基である。但し、Ａ^３～Ｄ^３の全てが一般式（Ｅ）で表される置換基ではない。また、Ａ^３～Ｄ^３のうち少なくとも一つは一般式（Ｅ）又は（Ｆ）で表される置換基であり、Ａ^３～Ｄ^３のうち１～３個が一般式（Ｅ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素であって、Ａ^３～Ｄ^３のうち２又は３個が一般式（Ｅ）又は（Ｆ）で表される置換基である場合はＲ^１及びＲ^２は、それぞれ任意の位置の一つ以上の炭素において互いに結合していてもよい）で表される化合物（３）、及び、下記一般式（４）：

【化13】

（式中、Ａ^４～Ｄ^４はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ヒドロキシ基、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｇ）：

【化14】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｈ）：

【化15】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよい炭素数１～５の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^４～Ｄ^４の全てが一般式（Ｇ）で表される置換基ではない。また、Ａ^４～Ｄ^４のうち少なくとも一つは一般式（Ｇ）又は（Ｈ）で表される置換基であり、Ａ^４～Ｄ^４のうち１～３個が一般式（Ｇ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である）で表される化合物（４）からなる群より選択される少なくとも１種と、を含み、
化合物（３）の含有量が化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下であり、
化合物（４）の含有量が化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下であることを特徴とする組成物。

【請求項11】

金属化合物を構成する金属元素の含有量が化合物（２）に対して１００００ｐｐｍ以下である請求項１０記載の組成物。

【請求項12】

金属化合物を構成する金属元素の含有量が化合物（２）に対して３０００ｐｐｍ以下である請求項１０又は１１記載の組成物。

【請求項13】

化合物（３）の含有量が化合物（２）に対して１０００ｐｐｍ以下である請求項１０又は１１記載の組成物。

【請求項14】

化合物（３）の含有量が化合物（２）に対して３００ｐｐｍ以下である請求項１０又は１１記載の組成物。

【請求項15】

化合物（４）の含有量が化合物（２）に対して１０００ｐｐｍ以下である請求項１０又は１１記載の組成物。

【請求項16】

化合物（４）の含有量が化合物（２）に対して３００ｐｐｍ以下である請求項１０又は１１記載の組成物。

【請求項17】

一般式（２）：

【化16】

（式中、Ａ^２～Ｄ^２はそれぞれ独立して、水素、フッ素、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基、下記一般式（Ｃ）：

【化17】

で表される置換基、又は、下記一般式（Ｄ）：

【化18】

（式中、ｎは０～５であり、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立して水素、フッ素、又は、一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である。）で表される置換基である。但し、Ａ^２～Ｄ^２の全てが一般式（Ｃ）で表される置換基ではない。また、Ａ^２～Ｄ^２のうち少なくとも一つは一般式（Ｃ）又は（Ｄ）で表される置換基であり、Ａ^２～Ｄ^２のうち１又は２個が一般式（Ｃ）で表される置換基である場合は残りの置換基のうち一つ以上がフッ素である。Ａ ^２ ～Ｄ ^２ の組み合わせは、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個が一般式（Ｃ）で表される置換基であり、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個が一般式（Ｄ）で表される置換基であり、残りの２つの置換基がフッ素である組み合わせ、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち２個が一般式（Ｃ）で表される置換基であり、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個がフッ素であり、残りの１つの置換基が水素である組み合わせ、又は、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個が一般式（Ｃ）で表される置換基であり、Ａ ^２ ～Ｄ ^２ のうち１個がフッ素であり、残りの２つの置換基が一つ以上の水素がフッ素に置換されていてもよくその構造中に環状構造、多重結合、カルボニル基、又は、エーテル結合を含んでもよい炭素数１～１０の炭化水素基である組み合わせである。）で表される化合物（２）と水を含む組成物であって、水の含有量が化合物（２）に対して１５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする組成物。

【請求項18】

水の含有量が化合物（２）に対して５００ｐｐｍ以下である請求項１７記載の組成物。

【請求項19】

水の含有量が化合物（２）に対して１００ｐｐｍ以下である請求項１７又は１８記載の組成物。