(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022175514
(43)【公開日】2022-11-25
(54)【発明の名称】除染液供給装置
(51)【国際特許分類】
B01J 4/02 20060101AFI20221117BHJP
【ＦＩ】
B01J4/02 B
【審査請求】未請求
【請求項の数】4
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021081934
(22)【出願日】2021-05-13
(71)【出願人】
【識別番号】000253019
【氏名又は名称】澁谷工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100156199
【弁理士】
【氏名又は名称】神崎 真
(72)【発明者】
【氏名】渡辺 壮馬
(72)【発明者】
【氏名】広沢 祐介
(72)【発明者】
【氏名】竹田 圭一
(72)【発明者】
【氏名】湯上 昇
(72)【発明者】
【氏名】橋本 克紀
【テーマコード（参考）】
4G068
【Ｆターム（参考）】
4G068AA02
4G068AA04
4G068AB15
4G068AC01
4G068AC14
4G068AD21
4G068AE05
4G068AF01
(57)【要約】 （修正有）
【課題】複数の除染ガス発生装置に正確な量の除染液を供給する除染液供給装置を提供する。
【解決手段】給液ユニットＵ１～Ｕ３を備えており、各給液ユニットＵ１～Ｕ３は、主貯溜タンク５から送液された除染液Ｗを一時貯溜する副貯溜タンク１５と、副貯溜タンク１５に貯溜される除染液Ｗの重量を計測する重量計１６を備えており、ポンプＰ１が作動されると、主供給通路７と分岐通路１１～１３を介して主貯溜タンク５から各副貯溜タンク１５へ除染液Ｗの供給が開始され、各重量計１６による計測重量が作業室に応じて予め設定された所定重量となるとポンプＰ１の作動が停止され、各副貯溜タンク１５内に所定量の除染液Ｗが供給され、各副貯溜タンク１５内の所定量の除染液Ｗは給液通路１８を介して除染ガス発生装置２に供給される、除染液供給装置。
【選択図】図１
【解決手段】給液ユニットＵ１～Ｕ３を備えており、各給液ユニットＵ１～Ｕ３は、主貯溜タンク５から送液された除染液Ｗを一時貯溜する副貯溜タンク１５と、副貯溜タンク１５に貯溜される除染液Ｗの重量を計測する重量計１６を備えており、ポンプＰ１が作動されると、主供給通路７と分岐通路１１～１３を介して主貯溜タンク５から各副貯溜タンク１５へ除染液Ｗの供給が開始され、各重量計１６による計測重量が作業室に応じて予め設定された所定重量となるとポンプＰ１の作動が停止され、各副貯溜タンク１５内に所定量の除染液Ｗが供給され、各副貯溜タンク１５内の所定量の除染液Ｗは給液通路１８を介して除染ガス発生装置２に供給される、除染液供給装置。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
除染液を貯留する主貯留容器と、上記主貯溜容器内の除染液を、複数の除染ガスを発生させる除染ガス発生装置に供給するために分岐して設けられた複数の分岐通路と、上記主貯溜容器から除染ガス発生装置へと除染液を供給する送液機構とを備えた除染液供給装置において、
各分岐通路の下流に、上記主貯溜容器から送液された除染液を貯溜する副貯溜容器と、上記副貯溜容器に貯溜される除染液の量を検出する検出機構とを備え、
上記送液機構は、上記検出機構による検出結果に基づいて上記副貯溜容器に貯溜される除染液が予め設定された所定の設定量となるように除染液を供給するとともに、上記副貯留容器に供給された除染液を除染ガス発生装置に供給することを特徴とする除染液供給装置。
各分岐通路の下流に、上記主貯溜容器から送液された除染液を貯溜する副貯溜容器と、上記副貯溜容器に貯溜される除染液の量を検出する検出機構とを備え、
上記送液機構は、上記検出機構による検出結果に基づいて上記副貯溜容器に貯溜される除染液が予め設定された所定の設定量となるように除染液を供給するとともに、上記副貯留容器に供給された除染液を除染ガス発生装置に供給することを特徴とする除染液供給装置。
【請求項2】
上記検出機構は、上記副貯溜容器に貯溜される除染液の重量を検出する重量計であることを特徴とする請求項１に記載の除染液供給装置。
【請求項3】
上記各副貯溜容器内に貯溜された除染液を各除染ガス発生装置に供給する給液通路には、上記副貯留容器に供給された除染液を循環させる循環通路が設けられることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の除染液供給装置。
【請求項4】
上記循環通路に接続された外気通路と、上記外気通路を開閉させる開閉弁を備え、上記開閉弁が開放されて上記外気通路を介して循環通路に大気が導入されることによって、上記循環通路内の除染液が上記副貯溜容器に戻されることを特徴とする請求項３に記載の除染液供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は除染液供給装置に関し、より詳しくは、例えばアイソレータシステムにおいて複数の除染ガス発生装置に正確な量の除染液を供給可能な除染液供給装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、アイソレータシステムは、除染ガスを発生させるための除染ガス発生装置（蒸発器）と、この除染ガス発生装置に除染液を供給する除染液供給装置とを備えており、除染ガスとして過酸化水素ガス等を使用してアイソレータ内の除染が行われる。
また、従来、アイソレータシステムとして、各作業室に対応する複数の除染ガス発生装置を備え、この複数の除染ガス発生装置に除染液を供給する除染液供給装置が提案されている（例えば特許文献１）。
また、従来、アイソレータシステムとして、各作業室に対応する複数の除染ガス発生装置を備え、この複数の除染ガス発生装置に除染液を供給する除染液供給装置が提案されている（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１８－１１８１８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上記特許文献１の除染液供給装置においては、主供給通路とそれから分岐した複数の分岐通路とを備え、主供給通路に除染液を貯溜する貯溜容器（タンク）が接続されるとともに、各分岐通路の下流側の端部に除染ガス発生装置（蒸発器）が接続されている。そして、各分岐通路に送液機構（ポンプ）が設けられており、該送液機構の稼働や運転速度を制御することによって、上記貯溜容器から各作業室用の除染ガス発生装置に好適な量の除染液を供給するようになっている。
しかしながら、特許文献１の装置においては、各分岐通路に設けられたポンプの稼働台数や組み合わせが変わるとポンプ同士の相互作用も変わってしまい、ポンプの回転数が同じであっても各除染ガス発生装置に対して予定した送液量の除染液を供給できないという問題があった。そのため、同時に稼働させる分岐通路のポンプの台数や組み合わせごとに回転数の調整が必要となり、その調整作業が煩雑で多大な労力を要していた。
しかしながら、特許文献１の装置においては、各分岐通路に設けられたポンプの稼働台数や組み合わせが変わるとポンプ同士の相互作用も変わってしまい、ポンプの回転数が同じであっても各除染ガス発生装置に対して予定した送液量の除染液を供給できないという問題があった。そのため、同時に稼働させる分岐通路のポンプの台数や組み合わせごとに回転数の調整が必要となり、その調整作業が煩雑で多大な労力を要していた。
【課題を解決するための手段】
【0005】
上述した事情に鑑み、本発明は、除染液を貯留する主貯留容器と、上記主貯溜容器内の除染液を、複数の除染ガスを発生させる除染ガス発生装置に供給するために分岐して設けられた複数の分岐通路と、上記主貯溜容器から除染ガス発生装置へと除染液を供給する送液機構とを備えた除染液供給装置において、
各分岐通路の下流に、上記主貯溜容器から送液された除染液を貯溜する副貯溜容器と、上記副貯溜容器に貯溜される除染液の量を検出する検出機構とを備え、
上記送液機構は、上記検出機構による検出結果に基づいて上記副貯溜容器に貯溜される除染液が予め設定された所定の設定量となるように除染液を供給するとともに、上記副貯留容器に供給された除染液を除染ガス発生装置に供給することを特徴とするものである。
各分岐通路の下流に、上記主貯溜容器から送液された除染液を貯溜する副貯溜容器と、上記副貯溜容器に貯溜される除染液の量を検出する検出機構とを備え、
上記送液機構は、上記検出機構による検出結果に基づいて上記副貯溜容器に貯溜される除染液が予め設定された所定の設定量となるように除染液を供給するとともに、上記副貯留容器に供給された除染液を除染ガス発生装置に供給することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【0006】
このような構成によれば、各除染ガス発生装置に所定の設定量の除染液を正確に送液することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、図示第１の実施例について本発明を説明すると、図１は細胞の培養を行うアイソレータシステム１の要部を示したものである。このアイソレータシステム１は、図示しない複数の無菌作業室毎に設けられた合計３台の除染ガス発生装置２（蒸発器）と、これらの除染ガス発生装置２に除染液Ｗを供給する除染液供給装置３と、除染液供給装置３の構成要素の作動を制御する制御装置４とを備えている。
除染液供給装置３は、除染液Ｗ（過酸化水素水）を貯溜する主貯溜タンク５と、除染液Ｗを貯溜した主貯溜タンク５の重量を計測する重量計６と、主供給通路７から３つに分岐した分岐通路１１～１３と、分岐通路１１～１３に接続されて除染液Ｗを除染ガス発生装置２に供給するための給液ユニットＵ１～Ｕ３とを備えている。
除染液供給装置３は、除染液Ｗ（過酸化水素水）を貯溜する主貯溜タンク５と、除染液Ｗを貯溜した主貯溜タンク５の重量を計測する重量計６と、主供給通路７から３つに分岐した分岐通路１１～１３と、分岐通路１１～１３に接続されて除染液Ｗを除染ガス発生装置２に供給するための給液ユニットＵ１～Ｕ３とを備えている。
【0009】
主貯溜タンク５には所要量の除染液Ｗが貯溜されており、除染液Ｗの重量は重量計６によって計測されて、常時制御装置４へ伝達されるようになっている。主供給通路７の上流端７Ａは、主貯溜タンク５内の除染液Ｗに浸漬されており、主供給通路７の下流端７Ｂは、給液ユニットＵ１～Ｕ３に対応して３つの分岐通路１１～１３に分岐している。
主供給通路７の途中に外気通路１４の一端が接続されており、この外気通路１４の他端は大気に解放されている。外気通路１４の途中には大気開放弁Ｖ１が設けられるとともに、該大気開放弁Ｖ１の隣接上流位置に大気中の異物を除去するためのフィルタＦ１が設けられている。大気開放弁Ｖ１の作動は制御装置４によって制御されるようになっており、除染液Ｗの送液時には閉鎖されて所要時に制御装置４が大気開放弁Ｖ１を開放させると、外気通路１４を介して主供給通路７に浄化された大気を導入することができる。その際には、主供給通路７内に溜まった除染液Ｗが主貯溜タンク５及び後述の副貯溜タンク１５に戻されるようになっている。
各分岐通路１１～１３の途中には、ポンプＰ１が設けられるとともにポンプＰ１よりも上流側の位置に常閉の開閉弁Ｖ２が設けられている。これらポンプＰ１、開閉弁Ｖ２の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。各分岐通路１１～１３の下流端１１Ａ～１３Ａは、各給液ユニットＵ１～Ｕ３が備える副貯溜タンク１５に接続されている。
所要時に制御装置４が開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させると、主貯溜タンク５内の除染液Ｗが主供給通路７と各分岐通路１１～１３を介して各給液ユニットＵ１～Ｕ３の副貯溜タンク１５に給液されるようになっている。
主供給通路７の途中に外気通路１４の一端が接続されており、この外気通路１４の他端は大気に解放されている。外気通路１４の途中には大気開放弁Ｖ１が設けられるとともに、該大気開放弁Ｖ１の隣接上流位置に大気中の異物を除去するためのフィルタＦ１が設けられている。大気開放弁Ｖ１の作動は制御装置４によって制御されるようになっており、除染液Ｗの送液時には閉鎖されて所要時に制御装置４が大気開放弁Ｖ１を開放させると、外気通路１４を介して主供給通路７に浄化された大気を導入することができる。その際には、主供給通路７内に溜まった除染液Ｗが主貯溜タンク５及び後述の副貯溜タンク１５に戻されるようになっている。
各分岐通路１１～１３の途中には、ポンプＰ１が設けられるとともにポンプＰ１よりも上流側の位置に常閉の開閉弁Ｖ２が設けられている。これらポンプＰ１、開閉弁Ｖ２の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。各分岐通路１１～１３の下流端１１Ａ～１３Ａは、各給液ユニットＵ１～Ｕ３が備える副貯溜タンク１５に接続されている。
所要時に制御装置４が開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させると、主貯溜タンク５内の除染液Ｗが主供給通路７と各分岐通路１１～１３を介して各給液ユニットＵ１～Ｕ３の副貯溜タンク１５に給液されるようになっている。
【0010】
第１の給液ユニットＵ１は、主貯溜タンク５から主供給通路７と分岐通路１１を介して給送された除染液Ｗを一時貯溜する副貯溜タンク１５と、この副貯溜タンク１５の重量（貯溜される除染液Ｗの重量）を計測する重量計１６と、副貯溜タンク１５と除染ガス発生装置２とを接続する給液通路１８と、給液通路１８内の除染液Ｗを副貯溜タンク１５に戻すための戻し通路１９を備えている。
制御装置４が、所要時に開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させて、主貯溜タンク５から主供給通路７、分岐通路１１を介して副貯溜タンク１５に除染液Ｗが供給される際には、該副貯溜タンク１５の重量が重量計１６によって計測されて、制御装置４に伝達されるようになっている。それにより、制御装置４は、主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５に供給されて貯溜された除染液Ｗの量を認識できるようになっている。そして、制御装置４は、重量計１６による計測重量を認識することで、作業室に応じて予め設定された除染ガス発生装置２に供給すべき除染液Ｗの液量に応じて、ポンプＰ１の稼働や運転速度を制御するようになっている。これにより、副貯溜タンク１５内に設定量の除染液Ｗを貯溜させるようになっている。
制御装置４が、所要時に開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させて、主貯溜タンク５から主供給通路７、分岐通路１１を介して副貯溜タンク１５に除染液Ｗが供給される際には、該副貯溜タンク１５の重量が重量計１６によって計測されて、制御装置４に伝達されるようになっている。それにより、制御装置４は、主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５に供給されて貯溜された除染液Ｗの量を認識できるようになっている。そして、制御装置４は、重量計１６による計測重量を認識することで、作業室に応じて予め設定された除染ガス発生装置２に供給すべき除染液Ｗの液量に応じて、ポンプＰ１の稼働や運転速度を制御するようになっている。これにより、副貯溜タンク１５内に設定量の除染液Ｗを貯溜させるようになっている。
【0011】
給液通路１８における上流端１８Ａは、上記副貯溜タンク１５内に挿入されており、給液通路１８の下流端１８Ｂは除染ガス発生装置２内に鉛直下方に向けて挿入されている。
除染ガス発生装置２に近い位置の給液通路１８の途中には三方切換え弁Ｖ３が設けられており、それよりも上流側となる給液通路１８の途中にポンプＰ２が設けられている。三方切換え弁Ｖ３には、戻し通路１９の上流端１９Ｂが接続されており、戻し通路１９の下流端１９Ａは副貯溜タンク１５内に鉛直下方に向けて挿入されている。これら三方切換え弁Ｖ３とポンプＰ２の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。
この三方切換え弁Ｖ３は、その前後の給液通路１８を連通させ、かつ給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂとの連通を阻止する第１位置と、三方切換え弁Ｖ３の前後の給液通路１８の連通を阻止し、かつ三方切換え弁Ｖ３の隣接上流側の給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂとを連通させる第２位置とに切り換えられるようになっている。最初の状態では、三方切換え弁Ｖ３は第１位置に位置している。
そして、三方切換え弁Ｖ３が第１位置にある状態で制御装置４によってポンプＰ２が作動されると、該ポンプＰ２によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが吸引されて給液通路１８を介して除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。
他方、三方切換え弁Ｖ３が第２位置に切り換えられた状態で、制御装置４によってポンプＰ２が作動されると、該ポンプＰ２によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが吸引されて給液通路１８を介して三方切換え弁Ｖ３の位置まで給送され、次に該三方切換え弁Ｖ３を流通した後に戻し通路１９に送液されて、さらに、その下流端１９Ａから副貯溜タンク１５内に除染液Ｗが戻されるようになっている。
このように、三方切換え弁Ｖ３が第２位置にある状態でポンプＰ２が作動されると、戻し通路１９、及び三方切換え弁Ｖ３よりも上流側の給液通路１８を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが循環されるようになっている。この戻し通路１９と、三方切換え弁Ｖ３よりも上流側の給液通路１８とによって循環通路２０が構成されている。
ポンプＰ２の隣接上流側となる給液通路１８には、外気通路２２の一端が接続されており、この外気通路２２の他端は大気に解放されている。外気通路２２の途中には常閉の大気開放弁Ｖ４が設けられるとともに、該大気開放弁Ｖ４の隣接上流位置に大気中の異物を除去するフィルタＦ２が設けられている。大気開放弁Ｖ４の作動は制御装置４によって制御されるようになっており、所要時に制御装置４が大気開放弁Ｖ４を開放させると、外気通路２２を介して給液通路１８に浄化した大気を導入することができる。その際には循環通路２０内に溜まった除染液Ｗが給液通路１８の上流端１８Ａと戻し通路１９の下流端１９Ａから副貯溜タンク１５に戻されるようになっている。
また、三方切換え弁Ｖ３とポンプＰ２の間の給液通路１８には、液検知センサＳ１が設けられており、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８には液漏れセンサＳ２が設けられている。
液検知センサＳ１は、給液通路１８内に除染液Ｗが存在するか否かを検知するようになっており、液検知センサＳ１による検知結果は、制御装置４に入力されるようになっている。また、液漏れセンサＳ２は、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８における除染液Ｗの液漏れの有無を検出できるようになっており、液漏れセンサＳ２による検出結果は制御装置４に入力されるようになっている。
制御装置４は、液検知センサＳ１による検出結果によって給液通路１８内における除染液Ｗの有無を認識することができるとともに、液漏れセンサＳ２による検出結果によって、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８での除染液Ｗの液漏れの有無を認識できるようになっている。第１の給液ユニットＵ１は以上のように構成されている。
除染ガス発生装置２に近い位置の給液通路１８の途中には三方切換え弁Ｖ３が設けられており、それよりも上流側となる給液通路１８の途中にポンプＰ２が設けられている。三方切換え弁Ｖ３には、戻し通路１９の上流端１９Ｂが接続されており、戻し通路１９の下流端１９Ａは副貯溜タンク１５内に鉛直下方に向けて挿入されている。これら三方切換え弁Ｖ３とポンプＰ２の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。
この三方切換え弁Ｖ３は、その前後の給液通路１８を連通させ、かつ給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂとの連通を阻止する第１位置と、三方切換え弁Ｖ３の前後の給液通路１８の連通を阻止し、かつ三方切換え弁Ｖ３の隣接上流側の給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂとを連通させる第２位置とに切り換えられるようになっている。最初の状態では、三方切換え弁Ｖ３は第１位置に位置している。
そして、三方切換え弁Ｖ３が第１位置にある状態で制御装置４によってポンプＰ２が作動されると、該ポンプＰ２によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが吸引されて給液通路１８を介して除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。
他方、三方切換え弁Ｖ３が第２位置に切り換えられた状態で、制御装置４によってポンプＰ２が作動されると、該ポンプＰ２によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが吸引されて給液通路１８を介して三方切換え弁Ｖ３の位置まで給送され、次に該三方切換え弁Ｖ３を流通した後に戻し通路１９に送液されて、さらに、その下流端１９Ａから副貯溜タンク１５内に除染液Ｗが戻されるようになっている。
このように、三方切換え弁Ｖ３が第２位置にある状態でポンプＰ２が作動されると、戻し通路１９、及び三方切換え弁Ｖ３よりも上流側の給液通路１８を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが循環されるようになっている。この戻し通路１９と、三方切換え弁Ｖ３よりも上流側の給液通路１８とによって循環通路２０が構成されている。
ポンプＰ２の隣接上流側となる給液通路１８には、外気通路２２の一端が接続されており、この外気通路２２の他端は大気に解放されている。外気通路２２の途中には常閉の大気開放弁Ｖ４が設けられるとともに、該大気開放弁Ｖ４の隣接上流位置に大気中の異物を除去するフィルタＦ２が設けられている。大気開放弁Ｖ４の作動は制御装置４によって制御されるようになっており、所要時に制御装置４が大気開放弁Ｖ４を開放させると、外気通路２２を介して給液通路１８に浄化した大気を導入することができる。その際には循環通路２０内に溜まった除染液Ｗが給液通路１８の上流端１８Ａと戻し通路１９の下流端１９Ａから副貯溜タンク１５に戻されるようになっている。
また、三方切換え弁Ｖ３とポンプＰ２の間の給液通路１８には、液検知センサＳ１が設けられており、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８には液漏れセンサＳ２が設けられている。
液検知センサＳ１は、給液通路１８内に除染液Ｗが存在するか否かを検知するようになっており、液検知センサＳ１による検知結果は、制御装置４に入力されるようになっている。また、液漏れセンサＳ２は、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８における除染液Ｗの液漏れの有無を検出できるようになっており、液漏れセンサＳ２による検出結果は制御装置４に入力されるようになっている。
制御装置４は、液検知センサＳ１による検出結果によって給液通路１８内における除染液Ｗの有無を認識することができるとともに、液漏れセンサＳ２による検出結果によって、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８での除染液Ｗの液漏れの有無を認識できるようになっている。第１の給液ユニットＵ１は以上のように構成されている。
【0012】
第２の給液ユニットＵ２及び第３の給液ユニットＵ３の構成は、上記第１の給液ユニットＵ１と同じ構成となっており、これら給液ユニットＵ２、給液ユニットＵ３の構成要素も制御装置４によって作動を制御されるようになっている。そのため、給液ユニットＵ２、給液ユニットＵ３の構成に関する詳細な説明は省略する。給液ユニットＵ２及び給液ユニットＵ３において、上記給液ユニットＵ１と対応する各部材にはそれぞれ同じ部材番号を付している。
各給液ユニットＵ１～Ｕ３によって除染液Ｗを供給される除染ガス発生装置２はヒータとその上面に載置されたヒータプレートとからなり、除染ガス発生装置２が加熱された状態において給液通路１８Ｂの下流端から除染液Ｗがヒータプレート上に滴下されると、除染液Ｗがヒータプレートによって加熱されて蒸発することで除染ガスを発生させるようになっている。
除染液供給装置３とその給液ユニットＵ１～Ｕ３は以上のように構成されている。
各給液ユニットＵ１～Ｕ３によって除染液Ｗを供給される除染ガス発生装置２はヒータとその上面に載置されたヒータプレートとからなり、除染ガス発生装置２が加熱された状態において給液通路１８Ｂの下流端から除染液Ｗがヒータプレート上に滴下されると、除染液Ｗがヒータプレートによって加熱されて蒸発することで除染ガスを発生させるようになっている。
除染液供給装置３とその給液ユニットＵ１～Ｕ３は以上のように構成されている。
【0013】
以上の構成において、本実施例においては、先ず、第１の給液ユニットＵ１によって主貯溜タンク５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給され、次に第２の給液ユニットＵ２によって主貯溜タンク５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給され、次に第３の給液ユニットＵ３によって主貯溜タンク５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。具体的な処理工程は以下のとおりである。
すなわち、図２に示すように、第１の分岐通路１１の開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させて、主供給通路７と分岐通路１１を介して第１給液ユニットＵ１の重量計１６が予め設定された設定値となるまで除染液Ｗを主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５まで給液する。
ここで第１給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に除染液Ｗが給液され始めると、重量計１６によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの重量が計測されて制御装置４に入力される。それにより、制御装置４は、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの貯溜量を認識することができ、該貯溜量が予め設定された設定値よりも小さい所定重量となったら大気開放弁Ｖ１を開放して主供給通路７及び分岐通路１１を浄化された大気で置換した後にポンプＰ１及び開閉弁Ｖ２の作動を停止させる。これにより、主供給通路７及び分岐通路１１内の所定量の除染液Ｗが副貯溜タンク１５に送液されて給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５内に設定重量の除染液Ｗが正確に貯溜されたことになる（以上、第１工程）。
すなわち、図２に示すように、第１の分岐通路１１の開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させて、主供給通路７と分岐通路１１を介して第１給液ユニットＵ１の重量計１６が予め設定された設定値となるまで除染液Ｗを主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５まで給液する。
ここで第１給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に除染液Ｗが給液され始めると、重量計１６によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの重量が計測されて制御装置４に入力される。それにより、制御装置４は、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの貯溜量を認識することができ、該貯溜量が予め設定された設定値よりも小さい所定重量となったら大気開放弁Ｖ１を開放して主供給通路７及び分岐通路１１を浄化された大気で置換した後にポンプＰ１及び開閉弁Ｖ２の作動を停止させる。これにより、主供給通路７及び分岐通路１１内の所定量の除染液Ｗが副貯溜タンク１５に送液されて給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５内に設定重量の除染液Ｗが正確に貯溜されたことになる（以上、第１工程）。
【0014】
次に、図３に示すように、給液ユニットＵ１のポンプＰ２を作動させるとともに三方切換え弁Ｖ３を第２位置に切り換えると、給液通路１８と戻し通路１９とからなる循環通路２０を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが循環される。これにより、循環通路２０の液漏れ検査が行われる。
つまり、ポンプＰ２よりも上流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分からエアを吸い続けることになるので、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの量が変化せず、重量計１６による計測値は変化しない。この場合、制御装置４は、重量計１６による重量の計測値を基にして液漏れを認識することができる。また、ポンプＰ２よりも下流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分から除染液Ｗが漏れた量だけ副貯溜タンク１５には戻らないので、重量計１６で計測される計測値が徐々に減少する。それにより、制御装置４は、循環通路２０での液漏れを認識することができる。
このようにして、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗを循環通路２０で循環させることにより、循環通路２０における液漏れを検出できるようになっている（以上、第２工程）。
つまり、ポンプＰ２よりも上流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分からエアを吸い続けることになるので、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの量が変化せず、重量計１６による計測値は変化しない。この場合、制御装置４は、重量計１６による重量の計測値を基にして液漏れを認識することができる。また、ポンプＰ２よりも下流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分から除染液Ｗが漏れた量だけ副貯溜タンク１５には戻らないので、重量計１６で計測される計測値が徐々に減少する。それにより、制御装置４は、循環通路２０での液漏れを認識することができる。
このようにして、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗを循環通路２０で循環させることにより、循環通路２０における液漏れを検出できるようになっている（以上、第２工程）。
【0015】
次に、図４に示すように、前述した循環通路２０の液漏れ検査が終了したら、外気通路２２の大気開放弁Ｖ４を開放させた後にポンプＰ２を作動させる。これにより、給液通路１８、戻し通路１９からなる循環通路２０内の除染液Ｗが副貯溜タンク１５内に戻されるようになっている（以上、第３工程）。
【0016】
次に、図５に示すように、この後、大気開放弁Ｖ４を閉鎖するとともに三方切換え弁Ｖ３を第２位置から第１位置に切り換えると、ポンプＰ２の作動によって給液通路１８を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。
なお、除染ガスを発生させる際には、除染ガス発生装置２のヒータ及びヒータプレートは予め所定温度まで加熱されるようになっており、給液通路１８を介しての除染液Ｗの給送時間を短縮するために、ヒータ及びヒータプレートを加熱している間に三方切換え弁Ｖ３の隣接上流位置の給液通路１８内に除染液Ｗが給送されており、該除染液Ｗは液検知センサＳ１で検出されて制御装置４に検出信号が入力されるようになっている。
そして、給液通路１８から除染液Ｗがヒータプレート上に滴下されて供給されると、除染液Ｗが蒸発して除染ガスが発生するようになっている（以上、第４工程）。
以上のようにして、第１の給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に主貯溜タンク５から設定量の除染液Ｗが供給され、その後、副貯溜タンク１５から除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗが供給されるようになっている。
この後、前述した第１の給液ユニットＵ１の場合と同じ処理工程により、第２の給液ユニットＵ２によって設定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。さらにその後、前述した第１の給液ユニットＵ１と同じ処理工程により、第３の給液ユニットＵ３によって設定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。
なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による処理工程を同時併行処理させることも可能であり、その場合においては、上述した作動工程よりも短時間で各除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給することができる。
なお、除染ガスを発生させる際には、除染ガス発生装置２のヒータ及びヒータプレートは予め所定温度まで加熱されるようになっており、給液通路１８を介しての除染液Ｗの給送時間を短縮するために、ヒータ及びヒータプレートを加熱している間に三方切換え弁Ｖ３の隣接上流位置の給液通路１８内に除染液Ｗが給送されており、該除染液Ｗは液検知センサＳ１で検出されて制御装置４に検出信号が入力されるようになっている。
そして、給液通路１８から除染液Ｗがヒータプレート上に滴下されて供給されると、除染液Ｗが蒸発して除染ガスが発生するようになっている（以上、第４工程）。
以上のようにして、第１の給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に主貯溜タンク５から設定量の除染液Ｗが供給され、その後、副貯溜タンク１５から除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗが供給されるようになっている。
この後、前述した第１の給液ユニットＵ１の場合と同じ処理工程により、第２の給液ユニットＵ２によって設定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。さらにその後、前述した第１の給液ユニットＵ１と同じ処理工程により、第３の給液ユニットＵ３によって設定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。
なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による処理工程を同時併行処理させることも可能であり、その場合においては、上述した作動工程よりも短時間で各除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給することができる。
【0017】
以上のように、除染液供給装置３が備える各給液ユニットＵ１～Ｕ３は副貯溜タンク１５と重量計１６を備えており、主貯溜タンク５から各給液ユニットＵ１～Ｕ３の副貯溜タンク１５に除染液Ｗを供給する際には、各重量計１６によって正確に除染液Ｗの重量を計測することができる。したがって、正確に計測された所定重量の除染液Ｗを各除染ガス発生装置２に供給できるので予定した量の除染ガスを確実に発生させることができる。
また、本実施例によれば、副貯溜タンク１５に供給される除染液Ｗの重量が重量計１６によって検出されるので、除染液供給装置３が備える複数のポンプＰ１、Ｐ２の運転速度の調整作業を従来よりも簡略化できる。そのため、前述した従来の除染液供給装置と比較してポンプの運転速度の調整時間を短縮することができる。
また、本実施例によれば、副貯溜タンク１５に供給される除染液Ｗの重量が重量計１６によって検出されるので、除染液供給装置３が備える複数のポンプＰ１、Ｐ２の運転速度の調整作業を従来よりも簡略化できる。そのため、前述した従来の除染液供給装置と比較してポンプの運転速度の調整時間を短縮することができる。
【0018】
次に、図６は本発明の第２実施例を示したものである。この第２実施例は、上述した第１の実施例における各分岐通路１１～１３毎に設けていたポンプＰ１を省略し、その代わりに主供給通路７にポンプＰ１を１台だけ設けたものである。その他の構成は、前述した第１の実施例と同じであり、この第２実施例においては、上記第１の実施例と対応する各構成要素に第１の実施例と同じ部材番号を付している。
この第２実施例における作動は、前述した第１の実施例の作動と同様であり、先ず、主供給通路７と分岐通路１１を介して第１の給液ユニットＵ１によって設定量の除染液Ｗを除染ガス発生装置２に供給する。次に、第２の給液ユニットＵ２によって除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給し、最後に、第３の給液ユニットＵ３によって除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給するようになっている。なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による第２工程以降の処理工程については同時併行処理させることも可能である。
このような第２実施例によれば、正確に計測された所定重量の除染液Ｗを各除染ガス発生装置２に供給することができる。
また、上記第１実施例と比較してポンプＰ１を２台、減少させることができるので、その分だけ除染液供給装置３の製造コストを下げることができる。しかも、上記第１の実施例と比較して複数のポンプＰ１を作動させた際の相互作用による干渉が生じないので、ポンプ同士の相互作用の調整が容易である。
この第２実施例における作動は、前述した第１の実施例の作動と同様であり、先ず、主供給通路７と分岐通路１１を介して第１の給液ユニットＵ１によって設定量の除染液Ｗを除染ガス発生装置２に供給する。次に、第２の給液ユニットＵ２によって除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給し、最後に、第３の給液ユニットＵ３によって除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給するようになっている。なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による第２工程以降の処理工程については同時併行処理させることも可能である。
このような第２実施例によれば、正確に計測された所定重量の除染液Ｗを各除染ガス発生装置２に供給することができる。
また、上記第１実施例と比較してポンプＰ１を２台、減少させることができるので、その分だけ除染液供給装置３の製造コストを下げることができる。しかも、上記第１の実施例と比較して複数のポンプＰ１を作動させた際の相互作用による干渉が生じないので、ポンプ同士の相互作用の調整が容易である。
【0019】
次に、図７は本発明の第３実施例を示したものであり、この第３実施例は、前述した図１の第１の実施例において、各給液ユニットＵ１～Ｕ３にポンプＰ１を１台だけ設ける構成としたものである。各給液ユニットＵ１～Ｕ３の構成そのものは同じであり、１台のポンプＰ１によって主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５への除染液Ｗの給液と、副貯溜タンク１５から除染ガス発生装置２への給液を行うようになっている。
以下、先ず、第１の給液ユニットＵ１の構成について説明すると、分岐通路１１の下流端１１Ａは副貯溜タンク１５内に挿入されており、分岐通路１１の上流端は主供給通路７に接続されている。
分岐通路１１の途中にポンプＰ１が設けられており、このポンプＰ１よりも上流側となる分岐通路１１に三方切換え弁Ｖ５が設けられるとともに、ポンプＰ１の下流側に三方切換え弁Ｖ６が設けられている。三方切換え弁Ｖ５よりも上流側に開閉弁Ｖ２が設けられている。
上流側の三方切換え弁Ｖ５には、給液通路２４の下流端２４Ａが接続されており、この給液通路２４の上流端２４Ｂは、副貯溜タンク１５内に挿入されている。
ポンプＰ１及び三方切換え弁Ｖ５、Ｖ６と開閉弁Ｖ２の作動は、制御装置４によって制御されるようになっている。三方切換え弁Ｖ５が第１位置にある時には、その前後の分岐通路１１が連通する一方、分岐通路１１と給液通路２４の下流端２４Ａとの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ５が第２位置にある時には、その前後の分岐通路１１の連通が阻止される一方、三方切換え弁Ｖ５より下流の分岐通路１１と給液通路２４の下流端２４Ａが連通するようになっている。
給液通路１８の上流端１８Ａは三方切換え弁Ｖ６に接続されており、給液通路１８の下流端１８Ｂは、除染ガス発生装置２内に挿入されている。給液通路１８の除染ガス発生装置２に近い位置に三方切換え弁Ｖ３が設けられており、その前後に液検知センサＳ１と液漏れセンサＳ２が設けられている。戻し通路１９の上流端１９Ｂが三方切換え弁Ｖ３に接続されており、戻し通路１９の下流端１９Ａは、副貯溜タンク１５内に挿入されている。
三方切換え弁Ｖ６，Ｖ３の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。三方切換え弁Ｖ６が第１位置にある時には、その前後の分岐通路１１が連通する一方、分岐通路１１と給液通路１８の上流端１８Ａとの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ６が第２位置にある時には、その前後の分岐通路１１の連通が阻止されるとともに三方切換え弁Ｖ６の上流となる分岐通路１１と給液通路１８が連通するようになっている。
また、三方切換え弁Ｖ３が第１位置にある時には、その前後の給液通路１８が連通するともに給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ３が第２位置にある時には、その前後の給液通路１８の連通が阻止されるとともに三方切換え弁Ｖ３の上流側となる給液通路１８と戻し通路１９が連通するようになっている。
この第３実施例においては、戻し通路１９と、給液通路２４と、三方切換え弁Ｖ５とＶ６との間の分岐通路１１、及び三方切換え弁Ｖ６とＶ３との間の給液通路１８によって循環通路２０が形成されている。
ポンプＰ１と三方切換え弁Ｖ５の間の分岐通路１１には、外気通路２２が接続されており、この外気通路に大気開放弁Ｖ４とフィルタＦ２が設けられている。所要時に外気開放弁Ｖ４が開放されると、循環通路２０内の除染液Ｗを副貯溜タンク１５に戻すことができるようになっている。この第３実施例における第１の給液ユニットＵ１は以上のように構成されている。
また、この第３実施例における第２の給液ユニットＵ２及び第３の給液ユニットＵ３の構成は、上記第１の給液ユニットＵ１と同じなので、構成に関する詳細な説明は省略する。また、これらの給液ユニットＵ２及び給液ユニットＵ３の構成要素には、給液ユニットＵ１の構成要素と対応する部材に同じ部材番号を付している。
以下、先ず、第１の給液ユニットＵ１の構成について説明すると、分岐通路１１の下流端１１Ａは副貯溜タンク１５内に挿入されており、分岐通路１１の上流端は主供給通路７に接続されている。
分岐通路１１の途中にポンプＰ１が設けられており、このポンプＰ１よりも上流側となる分岐通路１１に三方切換え弁Ｖ５が設けられるとともに、ポンプＰ１の下流側に三方切換え弁Ｖ６が設けられている。三方切換え弁Ｖ５よりも上流側に開閉弁Ｖ２が設けられている。
上流側の三方切換え弁Ｖ５には、給液通路２４の下流端２４Ａが接続されており、この給液通路２４の上流端２４Ｂは、副貯溜タンク１５内に挿入されている。
ポンプＰ１及び三方切換え弁Ｖ５、Ｖ６と開閉弁Ｖ２の作動は、制御装置４によって制御されるようになっている。三方切換え弁Ｖ５が第１位置にある時には、その前後の分岐通路１１が連通する一方、分岐通路１１と給液通路２４の下流端２４Ａとの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ５が第２位置にある時には、その前後の分岐通路１１の連通が阻止される一方、三方切換え弁Ｖ５より下流の分岐通路１１と給液通路２４の下流端２４Ａが連通するようになっている。
給液通路１８の上流端１８Ａは三方切換え弁Ｖ６に接続されており、給液通路１８の下流端１８Ｂは、除染ガス発生装置２内に挿入されている。給液通路１８の除染ガス発生装置２に近い位置に三方切換え弁Ｖ３が設けられており、その前後に液検知センサＳ１と液漏れセンサＳ２が設けられている。戻し通路１９の上流端１９Ｂが三方切換え弁Ｖ３に接続されており、戻し通路１９の下流端１９Ａは、副貯溜タンク１５内に挿入されている。
三方切換え弁Ｖ６，Ｖ３の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。三方切換え弁Ｖ６が第１位置にある時には、その前後の分岐通路１１が連通する一方、分岐通路１１と給液通路１８の上流端１８Ａとの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ６が第２位置にある時には、その前後の分岐通路１１の連通が阻止されるとともに三方切換え弁Ｖ６の上流となる分岐通路１１と給液通路１８が連通するようになっている。
また、三方切換え弁Ｖ３が第１位置にある時には、その前後の給液通路１８が連通するともに給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ３が第２位置にある時には、その前後の給液通路１８の連通が阻止されるとともに三方切換え弁Ｖ３の上流側となる給液通路１８と戻し通路１９が連通するようになっている。
この第３実施例においては、戻し通路１９と、給液通路２４と、三方切換え弁Ｖ５とＶ６との間の分岐通路１１、及び三方切換え弁Ｖ６とＶ３との間の給液通路１８によって循環通路２０が形成されている。
ポンプＰ１と三方切換え弁Ｖ５の間の分岐通路１１には、外気通路２２が接続されており、この外気通路に大気開放弁Ｖ４とフィルタＦ２が設けられている。所要時に外気開放弁Ｖ４が開放されると、循環通路２０内の除染液Ｗを副貯溜タンク１５に戻すことができるようになっている。この第３実施例における第１の給液ユニットＵ１は以上のように構成されている。
また、この第３実施例における第２の給液ユニットＵ２及び第３の給液ユニットＵ３の構成は、上記第１の給液ユニットＵ１と同じなので、構成に関する詳細な説明は省略する。また、これらの給液ユニットＵ２及び給液ユニットＵ３の構成要素には、給液ユニットＵ１の構成要素と対応する部材に同じ部材番号を付している。
【0020】
以上の構成において、この第３実施例においては、先ず、第１の給液ユニットＵ１によって主貯溜タンク５から除染ガス発生装置２に除染液Ｗが供給され、次に第２の給液ユニットＵ２によって除染ガス発生装置２に主貯溜タンク５から除染液Ｗが供給され、最後に第３の給液ユニットＵ３によって除染ガス発生装置２に主貯溜タンク５から除染液Ｗが供給されるようになっている。具体的な処理工程は以下のとおりである。
先ず、図８に示すように、給液ユニットＵ１において、開閉弁Ｖ２を開放させてポンプＰ１を作動させるとともに、三方切換え弁Ｖ５，Ｖ６を第１位置に位置させる。これにより、主供給通路７と分岐通路１１を介して重量計１６が各作業室に応じて予め設定された設定重量となるまで除染液Ｗを主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５まで給液する。
副貯溜タンク１５に除染液Ｗが給液され始めると、重量計１６によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの重量が計測されて制御装置４に入力される。それにより、制御装置４は、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの貯溜量を認識することができ、該貯溜量が設定重量よりも小さい所定重量となったら大気開放弁Ｖ１を開放して主供給通路７及び分岐通路１１を浄化された大気で置換した後にポンプＰ１の作動を停止させるとともに開閉弁Ｖ２を閉鎖させる。これにより、主供給通路７及び分岐通路１１内の所定量の除染液Ｗが副貯溜タンク１５に送液されて給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５内に設定量の除染液Ｗが正確に貯溜されたことになる（以上、第１工程）。
次に、図９に示すように、給液ユニットＵ１において、開閉弁Ｖ２の作動を停止させる一方、ポンプＰ１を作動させた状態において、三方切換え弁Ｖ５、Ｖ６、Ｖ３をそれぞれ第２位置に切り換える。これにより、循環通路２０を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが循環されて循環通路２０の液漏れ検査が行われる。
ここで、ポンプＰ１よりも上流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分からエアを吸い続けることになるので、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの量が変化せず、重量計１６による計測値は変化しない。この場合、制御装置４は、重量計１６による重量の計測を基にして液漏れを認識することができる。また、ポンプＰ１よりも下流側となる循環通路２０で液漏れがある場合には、液漏れ部分から除染液Ｗが漏れた量だけ副貯溜タンク１５には戻らないので、重量計１６で計測される計測値が徐々に減少する。それにより、制御装置４は、循環通路２０での液漏れを認識することができる。
このようにして、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗを、循環通路２０を介して循環させることにより、循環通路２０における液漏れを検出することができる（以上、第２工程）。
次に、図１０に示すように、前述した循環通路２０の液漏れ検査が終了したら、外気通路２２の大気開放弁Ｖ４を開放させた後にポンプＰ１を作動させる。これにより、分岐通路１１、給液通路１８、２４、戻し通路１９からなる循環通路２０内の除染液Ｗが副貯溜タンク１５内に戻される（以上、第３工程）。
次に、図１１に示すように、この後、大気開放弁Ｖ４を閉鎖するとともに三方切換え弁Ｖ３を第２位置から第１位置に切り換えると、ポンプＰ１を作動させて給液通路２４、分岐通路１１及び給液通路１８を介して副貯溜タンク１５内の所定重量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。これにより、除染液Ｗが除染ガス発生装置２のヒートプレート上に滴下されて、除染ガスが発生するようになっている。なお、液漏れセンサＳ２によって三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８の液漏れを検出することができる（以上、第４工程）。
以上のようにして、主貯溜タンク５から第１の給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に設定量の除染液Ｗが供給され、その後、副貯溜タンク１５から除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗが供給されて除染ガスが発生するようになっている。
この後、上述した第１の給液ユニットＵ１の場合と同様の処理工程により、第２の給液ユニットＵ２によって所定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。さらに、その後、上記給液ユニットＵ１の場合と同様の処理工程により、第３の給液ユニットＵ３によって所定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による処理工程については同時併行処理させることも可能である。
このような第３実施例によれば、各作業室に応じて設定された除染液Ｗを、給液ユニットＵ１～Ｕ３を介して各除染ガス発生装置２に正確に供給することができる。
また、この第３実施例においては、上記第１の実施例及び第２実施例と比較してポンプＰ１の台数が少ないので、その分だけ除染液供給装置３の製造コストを下げることができる。
先ず、図８に示すように、給液ユニットＵ１において、開閉弁Ｖ２を開放させてポンプＰ１を作動させるとともに、三方切換え弁Ｖ５，Ｖ６を第１位置に位置させる。これにより、主供給通路７と分岐通路１１を介して重量計１６が各作業室に応じて予め設定された設定重量となるまで除染液Ｗを主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５まで給液する。
副貯溜タンク１５に除染液Ｗが給液され始めると、重量計１６によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの重量が計測されて制御装置４に入力される。それにより、制御装置４は、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの貯溜量を認識することができ、該貯溜量が設定重量よりも小さい所定重量となったら大気開放弁Ｖ１を開放して主供給通路７及び分岐通路１１を浄化された大気で置換した後にポンプＰ１の作動を停止させるとともに開閉弁Ｖ２を閉鎖させる。これにより、主供給通路７及び分岐通路１１内の所定量の除染液Ｗが副貯溜タンク１５に送液されて給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５内に設定量の除染液Ｗが正確に貯溜されたことになる（以上、第１工程）。
次に、図９に示すように、給液ユニットＵ１において、開閉弁Ｖ２の作動を停止させる一方、ポンプＰ１を作動させた状態において、三方切換え弁Ｖ５、Ｖ６、Ｖ３をそれぞれ第２位置に切り換える。これにより、循環通路２０を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが循環されて循環通路２０の液漏れ検査が行われる。
ここで、ポンプＰ１よりも上流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分からエアを吸い続けることになるので、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの量が変化せず、重量計１６による計測値は変化しない。この場合、制御装置４は、重量計１６による重量の計測を基にして液漏れを認識することができる。また、ポンプＰ１よりも下流側となる循環通路２０で液漏れがある場合には、液漏れ部分から除染液Ｗが漏れた量だけ副貯溜タンク１５には戻らないので、重量計１６で計測される計測値が徐々に減少する。それにより、制御装置４は、循環通路２０での液漏れを認識することができる。
このようにして、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗを、循環通路２０を介して循環させることにより、循環通路２０における液漏れを検出することができる（以上、第２工程）。
次に、図１０に示すように、前述した循環通路２０の液漏れ検査が終了したら、外気通路２２の大気開放弁Ｖ４を開放させた後にポンプＰ１を作動させる。これにより、分岐通路１１、給液通路１８、２４、戻し通路１９からなる循環通路２０内の除染液Ｗが副貯溜タンク１５内に戻される（以上、第３工程）。
次に、図１１に示すように、この後、大気開放弁Ｖ４を閉鎖するとともに三方切換え弁Ｖ３を第２位置から第１位置に切り換えると、ポンプＰ１を作動させて給液通路２４、分岐通路１１及び給液通路１８を介して副貯溜タンク１５内の所定重量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。これにより、除染液Ｗが除染ガス発生装置２のヒートプレート上に滴下されて、除染ガスが発生するようになっている。なお、液漏れセンサＳ２によって三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８の液漏れを検出することができる（以上、第４工程）。
以上のようにして、主貯溜タンク５から第１の給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に設定量の除染液Ｗが供給され、その後、副貯溜タンク１５から除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗが供給されて除染ガスが発生するようになっている。
この後、上述した第１の給液ユニットＵ１の場合と同様の処理工程により、第２の給液ユニットＵ２によって所定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。さらに、その後、上記給液ユニットＵ１の場合と同様の処理工程により、第３の給液ユニットＵ３によって所定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による処理工程については同時併行処理させることも可能である。
このような第３実施例によれば、各作業室に応じて設定された除染液Ｗを、給液ユニットＵ１～Ｕ３を介して各除染ガス発生装置２に正確に供給することができる。
また、この第３実施例においては、上記第１の実施例及び第２実施例と比較してポンプＰ１の台数が少ないので、その分だけ除染液供給装置３の製造コストを下げることができる。
【0021】
なお、上記各実施例においては、給液ユニットＵ１～Ｕ３の副貯溜タンク１５に検出器として重量計１６を設けているが、これに限定されるものではなく、重量計（天秤、スケール、ロードセル）を用いる以外に、除染液Ｗの液量の検出器として例えばレベルセンサなどにより容積を検出するようにしても良い。
また、上記各実施例においては、主貯溜タンク５に貯留された除染液Ｗを、主供給通路７から３分岐して３つの無菌作業室に対応する３台の除染ガス発生装置２に除染液Ｗを供給しているが、これに限定されるものではなく、２台や４台以上の除染ガス発生装置２に分岐して除染液Ｗを供給するものであっても良い。
また、上記各実施例においては、除染ガス発生装置２として加熱したヒータプレート上に除染液Ｗを滴下して除染ガスを発生させる蒸発器を用いているが、これに限定されるものではなく、他の除染ガス発生装置を用いても良い。
さらに、上記各実施例において、主貯溜タンク５用の重量計６は必ずしも必要とせず、それを省略してもよい。
また、上記各実施例においては、主貯溜タンク５に貯留された除染液Ｗを、主供給通路７から３分岐して３つの無菌作業室に対応する３台の除染ガス発生装置２に除染液Ｗを供給しているが、これに限定されるものではなく、２台や４台以上の除染ガス発生装置２に分岐して除染液Ｗを供給するものであっても良い。
また、上記各実施例においては、除染ガス発生装置２として加熱したヒータプレート上に除染液Ｗを滴下して除染ガスを発生させる蒸発器を用いているが、これに限定されるものではなく、他の除染ガス発生装置を用いても良い。
さらに、上記各実施例において、主貯溜タンク５用の重量計６は必ずしも必要とせず、それを省略してもよい。
【符号の説明】
【0022】
２…除染ガス発生装置 ３…除染液供給装置
５…主貯溜タンク ７…主供給通路
１１～１３…分岐通路 １５…副貯溜タンク
１６…重量計（検出機構） Ｐ１～Ｐ２…ポンプ（送液機構）
Ｕ１～Ｕ３…給液ユニット Ｗ…除染液
５…主貯溜タンク ７…主供給通路
１１～１３…分岐通路 １５…副貯溜タンク
１６…重量計（検出機構） Ｐ１～Ｐ２…ポンプ（送液機構）
Ｕ１～Ｕ３…給液ユニット Ｗ…除染液
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】