(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022177872
(43)【公開日】2022-12-02
(54)【発明の名称】防汚層付き光学フィルムの製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 1/18 20150101AFI20221125BHJP
G02B 5/00 20060101ALI20221125BHJP
G02B 1/11 20150101ALI20221125BHJP
B32B 37/00 20060101ALI20221125BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20221125BHJP
【ＦＩ】
G02B1/18
G02B5/00 Z
G02B1/11
B32B37/00
B32B7/023
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021084280
(22)【出願日】2021-05-19
(71)【出願人】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100103517
【弁理士】
【氏名又は名称】岡本 寛之
(74)【代理人】
【識別番号】100149607
【弁理士】
【氏名又は名称】宇田 新一
(72)【発明者】
【氏名】宮本 幸大
(72)【発明者】
【氏名】梨木 智剛
【テーマコード（参考）】
2H042
2K009
4F100
【Ｆターム（参考）】
2H042AA01
2H042AA07
2H042AA26
2K009AA02
2K009AA03
2K009DD02
2K009EE05
4F100AR00B
4F100AR00C
4F100AT00A
4F100BA03
4F100BA08B
4F100BA26B
4F100EA02
4F100EJ99
4F100JL06C
4F100JN00B
4F100JN06B
4F100JN18B
(57)【要約】
【課題】規格外ロスの低減に適した防汚層付き光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ロールトゥロール方式でワークフィルム(ＷＦ)を搬送しながらの防汚層付き光学フィルムの製造方法であり、次の各工程を含む。ＷＦ上への光学機能層の形成後、ＷＦの光学特性を検査して第１結果を得る(第１検査工程)。第１結果が規格内か判定する(第１判定工程)。第１検査工程後、ＷＦ上に防汚層を形成する(第２成膜工程)。その後にＷＦの光学特性を検査して第２結果を得る(第２検査工程)。第２結果が規格内か判定する(第２判定工程)。第１判定工程で規格外と判定した場合、第２成膜工程での防汚層設定厚さを変更すると規格内のＷＦが得られるか判定する(第３判定工程)。そのようなＷＦが得られると判定した場合、前記設定厚さを変更する(第１再設定工程)。第２判定工程で規格外と判定した場合、前記設定厚さを変更する(第２再設定工程)。
【選択図】図１
【解決手段】本発明は、ロールトゥロール方式でワークフィルム(ＷＦ)を搬送しながらの防汚層付き光学フィルムの製造方法であり、次の各工程を含む。ＷＦ上への光学機能層の形成後、ＷＦの光学特性を検査して第１結果を得る(第１検査工程)。第１結果が規格内か判定する(第１判定工程)。第１検査工程後、ＷＦ上に防汚層を形成する(第２成膜工程)。その後にＷＦの光学特性を検査して第２結果を得る(第２検査工程)。第２結果が規格内か判定する(第２判定工程)。第１判定工程で規格外と判定した場合、第２成膜工程での防汚層設定厚さを変更すると規格内のＷＦが得られるか判定する(第３判定工程)。そのようなＷＦが得られると判定した場合、前記設定厚さを変更する(第１再設定工程)。第２判定工程で規格外と判定した場合、前記設定厚さを変更する(第２再設定工程)。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ロールトゥロール方式でワークフィルムを搬送しながら、防汚層付き光学フィルムを製造する方法であって、
前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側に光学機能層を形成する第１成膜工程と、
前記第１成膜工程より後に、前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側の光学特性を検査して第１検査結果を得る第１検査工程と、
前記第１検査結果が第１規格内であるか第１規格外であるかを判定する第１判定工程と、
前記第１検査工程より後に、前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側に防汚層を形成する第２成膜工程と、
前記第２成膜工程より後に、前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側の光学特性を検査して第２検査結果を得る第２検査工程と、
前記第２検査結果が第２規格内であるか第２規格外であるかを判定する第２判定工程と、
前記第１判定工程において前記第１検査結果が前記第１規格外であると判定した場合に、前記第２成膜工程における前記防汚層の設定厚さを規定範囲内で変更することによって、前記第２成膜工程後に前記第２規格を満たすワークフィルムが得られるかどうか、を判定する第３判定工程と、
前記第３判定工程において、前記第２規格を満たすワークフィルムが得られると判定した場合に、前記第２成膜工程で形成される前記防汚層の前記設定厚さを変更する、第１再設定工程と、
前記第２判定工程において前記第２検査結果が前記第２規格外であると判定した場合に、前記第２成膜工程で形成される前記防汚層の前記設定厚さを変更する、第２再設定工程とを含む、防汚層付き光学フィルムの製造方法。
前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側に光学機能層を形成する第１成膜工程と、
前記第１成膜工程より後に、前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側の光学特性を検査して第１検査結果を得る第１検査工程と、
前記第１検査結果が第１規格内であるか第１規格外であるかを判定する第１判定工程と、
前記第１検査工程より後に、前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側に防汚層を形成する第２成膜工程と、
前記第２成膜工程より後に、前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側の光学特性を検査して第２検査結果を得る第２検査工程と、
前記第２検査結果が第２規格内であるか第２規格外であるかを判定する第２判定工程と、
前記第１判定工程において前記第１検査結果が前記第１規格外であると判定した場合に、前記第２成膜工程における前記防汚層の設定厚さを規定範囲内で変更することによって、前記第２成膜工程後に前記第２規格を満たすワークフィルムが得られるかどうか、を判定する第３判定工程と、
前記第３判定工程において、前記第２規格を満たすワークフィルムが得られると判定した場合に、前記第２成膜工程で形成される前記防汚層の前記設定厚さを変更する、第１再設定工程と、
前記第２判定工程において前記第２検査結果が前記第２規格外であると判定した場合に、前記第２成膜工程で形成される前記防汚層の前記設定厚さを変更する、第２再設定工程とを含む、防汚層付き光学フィルムの製造方法。
【請求項2】
前記第３判定工程において、前記第２規格を満たすワークフィルムが得られないと判定した場合に、前記第１成膜工程における前記光学機能層の設定厚さを変更する、第３再設定工程を更に含む、請求項１に記載の防汚層付き光学フィルムの製造方法。
【請求項3】
前記第１成膜工程では、ドライコーティング法によって前記光学機能層を形成し、前記第２成膜工程では、ドライコーティング法によって前記防汚層を形成する、請求項１または２に記載の防汚層付き光学フィルムの製造方法。
【請求項4】
前記光学機能層が反射防止層である、請求項１から３のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルム。
【請求項5】
前記反射防止層が、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを交互に含む、請求項４に記載の防汚層付き光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、防汚層付き光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶ディスプレイなどのディスプレイにおける画像表示側の外表面には、例えば、所定の光学的機能を有する層（光学機能層）を備える透明な光学フィルムが設けられる。そのような光学フィルムとしては、例えば、反射防止フィルム、透明導電性フィルム、および電磁波遮蔽フィルムが挙げられる。また、光学フィルムの最表面には、例えば、防汚性を有する層（防汚層）が設けられる。このような防汚層付き光学フィルムは、例えば、基材フィルムと、光学機能層と、防汚層とをこの順で備える。防汚層付き光学フィルムに関する技術については、例えば下記の特許文献１に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０２０－５２２２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献１には、防汚層付き光学フィルムの製造方法として、光学機能層と防汚層とを、ロールトゥロール方式での異なるパスラインで形成する方法が、記載されている。その方法は、具体的には、ロールトゥロール方式の第１パスラインにおいて、ドライコーティング法によって長尺の基材フィルム上に光学機能層を形成する工程と、ロールトゥロール方式の第２パスラインにおいて、ウエットコーティング法によって光学機能層上に防汚層を形成する工程とを含む。
【0005】
用途に応じた適切な光学特性を有する防汚層付き光学フィルムを製造するためには、第１パスラインにおいて、光学機能層形成ステップを経たワークフィルム（光学機能層あり，防汚層なし）の光学特性が所定の規格内であるかどうかを、モニタリングする必要がある（第１のモニタリングポイント（ＭＰ）での第１検査）。第１検査において規格外の光学特性が検知された場合、その結果が光学機能層形成ステップにフィードバックされる。これにより、光学特性が所定の規格内に収まるように、光学機能層形成ステップで形成される膜の厚さが所定の範囲内で変更される。第１パスラインを流れるワークフィルムにおいて、前記の変更後の膜厚を有する光学機能層が第１のＭＰに到達するまでに第１のＭＰを通過した領域には、例えば第１のＭＰ直後の位置にて、マーキングされる（第１マーキング）。
【0006】
一方、第２パスラインでは、防汚層形成ステップを経たワークフィルム（光学機能層あり，防汚層あり）の光学特性が所定の規格内であるかどうかを、モニタリングする必要がある（第２のＭＰでの第２検査）。第２パスラインでは、ワークフィルムにおける光学機能層が規格内であることを前提に厚さが設定された防汚層が形成される。そのため、ワークフィルムにおいて、第１検査で規格外の光学特性が検知されて第１マーキングが付された領域では、第２検査でも規格外の光学特性が検知される。そのような第１マーキング領域以外の領域（第１検査で規格内とされた領域）に対する第２検査において、規格外の光学特性が検知された場合、その結果が防汚層形成ステップにフィードバックされる。これにより、光学特性が所定の規格内に収まるように、防汚層形成ステップで形成される膜の厚さが所定の範囲内で変更される。第２パスラインを流れるワークフィルムにおいて、前記の変更後の膜厚を有する防汚層が第２のＭＰに到達するまでに第２のＭＰを通過した領域には、例えば第２のＭＰ直後の位置にて、マーキングされる（第２マーキング）。
【0007】
こうして得られた長尺の防汚層付き光学フィルムにおいて、第１マーキングおよび第２マーキングのいずれか一方でも付された領域は、光学特性が規格外のロス領域であり、用途に応じた適切な光学特性を有しない。
【0008】
本発明は、製造される防汚層付き光学フィルムにおける規格外ロスを低減するのに適した防汚層付き光学フィルムの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明［１］は、ロールトゥロール方式でワークフィルムを搬送しながら、防汚層付き光学フィルムを製造する方法であって、前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側に光学機能層を形成する第１成膜工程と、前記第１成膜工程より後に、前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側の光学特性を検査して第１検査結果を得る第１検査工程と、前記第１検査結果が第１規格内であるか第１規格外であるかを判定する第１判定工程と、前記第１検査工程より後に、前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側に防汚層を形成する第２成膜工程と、前記第２成膜工程より後に、前記ワークフィルムの厚さ方向一方面側の光学特性を検査して第２検査結果を得る第２検査工程と、前記第２検査結果が第２規格内であるか第２規格外であるかを判定する第２判定工程と、前記第１判定工程において前記第１検査結果が前記第１規格外であると判定した場合に、前記第２成膜工程における前記防汚層の設定厚さを規定範囲内で変更することによって、前記第２成膜工程後に前記第２規格を満たすワークフィルムが得られるかどうか、を判定する第３判定工程と、前記第３判定工程において、前記第２規格を満たすワークフィルムが得られると判定した場合に、前記第２成膜工程で形成される前記防汚層の前記設定厚さを変更する、第１再設定工程と、前記第２判定工程において前記第２検査結果が前記第２規格外であると判定した場合に、前記第２成膜工程で形成される前記防汚層の前記設定厚さを変更する、第２再設定工程とを含む、防汚層付き光学フィルムの製造方法を含む。
【0010】
本製造方法では、ロールトゥロール方式での一つのパスラインにおいて、光学機能層と防汚層とがこの順で形成される。そして、本製造方法では、光学機能層と防汚層とが共に形成されたワークフィルムの光学特性が第２規格内となるように、第２成膜工程で形成される防汚層の設定厚さが、フィードバック制御とフィードフォワード制御とで二重に制御される。そのフィードバック制御では、光学機能層に加えて防汚層が形成されているワークフィルムの光学特性が検査される上記第２検査工程後の上記第２判定工程と、上記第２再設定工程とを経て、上記第２成膜工程で形成される防汚層の設定厚さが変更される。前記フィードフォワード制御では、光学機能層が形成されているワークフィルム（防汚層は形成されていない）の光学特性が検査される上記第１検査工程後の上記第１判定工程と、上記第３判定工程と、上記第１再設定工程とを経て、上記第２成膜工程で形成される防汚層の設定厚さが変更される。このようなフィードフォワード制御によると、第１判定工程ではワークフィルムにおいて第１規格外であると判定された領域であっても、第２成膜工程で形成される防汚層の設定厚さの変更により、第２規格内の光学特性を有するワークフィルムを第２成膜工程で得ることが可能である。すなわち、本製造方法では、ワークフィルムにおいて、第１判定工程で光学特性が第１規格外であると判定された領域であっても、前記フィードフォワード制御により、防汚層形成後の光学特性を第２規格内に収めることができる場合がある。このようなフィードフォワード制御が上述のフィードバック制御に加えて実施される防汚層付き光学フィルムの製造方法は、製造される防汚層付き光学フィルムにおける規格外ロスを低減するのに適する。
【0011】
本発明［２］は、前記第３判定工程において、前記第２規格を満たすワークフィルムが得られないと判定した場合に、前記第１成膜工程における前記光学機能層の設定厚さを変更する、第３再設定工程を更に含む、上記［１］に記載の防汚層付き光学フィルムの製造方法を含む。
【0012】
本製造方法において、光学機能層の厚さに関するこのようなフィードバック制御が実施される構成は、上述の規格外ロスを低減するのに好ましい。
【0013】
本発明［３］は、前記第１成膜工程では、ドライコーティング法によって前記光学機能層を形成し、前記第２成膜工程では、ドライコーティング法によって前記防汚層を形成する、上記［１］または［２］に記載の防汚層付き光学フィルムの製造方法を含む。
【0014】
このような構成は、光学機能層と防汚層とを厚さ精度よく形成するのに好ましく、従って、光学機能層および防汚層の各膜厚を精度よく制御するのに好ましい。
【0015】
本発明［４］は、前記光学機能層が反射防止層である、上記［１］から［３］のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
【0016】
このような構成は、防汚層付き反射防止フィルムを、規格外ロスを低減しつつ製造するのに適する。
【0017】
本発明［５］は、前記反射防止層が、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを交互に含む、上記［４］に記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
【0018】
このような構成は、良好な反射防止特性を有する防汚層付き反射防止フィルムを、規格外ロスを低減しつつ製造するのに適する。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【図1】本発明の防汚層付き光学フィルムの製造方法の一実施形態のフローチャートである。
【図2】本発明の防汚層付き光学フィルムの製造方法の一実施形態を実施するための装置の概略構成図である。
【図3】本発明の光学フィルムの製造方法の一実施形態によって製造される光学フィルムの一例の断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0020】
本発明の防汚層付き光学フィルムの製造方法の一実施形態は、ロールトゥロール方式でワークフィルムを搬送しながら防汚層付き光学フィルムを製造する方法である。本製造方法は、図１に示すように、第１成膜工程Ｓ１、第１検査工程Ｓ２、第１判定工程Ｓ３、第２成膜工程Ｓ４、第２検査工程Ｓ５、第２判定工程Ｓ６、第３判定工程Ｓ７、第１再設定工程Ｓ８、第２再設定工程Ｓ９、および第３再設定工程Ｓ１０を含む。
【0021】
図２に示す装置Ｘは、本発明の防汚層付き光学フィルム製造方法を実施するための光学フィルム製造装置の一例であり、工程Ｓ１～Ｓ１０を一つのパスラインで実施する構成を有する。装置Ｘの構成は、後述のとおりである。
【0022】
図３は、装置Ｘによって製造される光学フィルムＦの断面模式図である。光学フィルムＦは、本発明の防汚層付き光学フィルム製造方法によって製造される防汚層付き光学フィルムの一例である。
【0023】
光学フィルムＦは、透明基材Ｓと、密着層１０と、光学機能層２０と、防汚層３０とを、厚さ方向Ｈに順に備える透明な複合フィルムであり、本実施形態では反射防止フィルムである。また、光学フィルムＦは、厚さ方向Ｈと直交する方向（面方向）に広がるシート形状を有する。
【0024】
透明基材Ｓは、例えば、可撓性を有する透明な樹脂製の基材フィルムである。当該樹脂フィルムの材料としては、好ましくは、透明性と強度とを兼ね備える熱可塑性樹脂が用いられる。そのような熱可塑性樹脂としては、例えば、セルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、およびポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。これら熱可塑性樹脂は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。
【0025】
樹脂フィルムには、１種類または２種類以上の添加剤が含有されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、帯電防止剤、顔料、および着色剤が挙げられる。
【0026】
透明基材Ｓは、その密着層１０側表面に、上述の樹脂フィルムより高硬度のハードコート層を有してもよい。ハードコート層は、例えば、硬化性樹脂を含有する溶液を上述の樹脂フィルム上に塗布して塗膜を形成した後、当該塗膜を乾燥および硬化させることにより、形成できる。また、ハードコート層は、微粒子を含有して防眩性を有する防眩性ハードコート層であってもよい。この場合、ハードコート層形成用の上記溶液に、微粒子を配合する。当該微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、および酸化アンチモンが挙げられる。
【0027】
透明基材Ｓの厚さは、強度の観点から、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、さらに好ましくは２０μｍ以上である。透明基材Ｓの厚さは、取扱い性の観点から、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。透明基材Ｓが上述のハードコート層を有する場合、当該ハードコート層の厚さは、同層の硬度確保の観点からは、好ましくは０.５μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上である。ハードコート層の厚さは、例えば１０μｍ以下である。
【0028】
透明基材Ｓの可視光透過率は、透明性の観点から、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。透明基材Ｓの可視光透過率は、例えば１００％以下である。
【0029】
透明基材Ｓにおける密着層１０側表面は、表面改質処理されていてもよい。表面改質処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、およびカップリング剤処理が挙げられる。
【0030】
密着層１０は、透明基材Ｓと光学機能層２０との間の密着力を確保するための層である。密着層１０の材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、アルミニウム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、ジルコニウム、パラジウム等の金属、これら金属の２種類以上の合金、並びに、これら金属の酸化物が挙げられる。有機層（具体的には透明基材Ｓ）および酸化物層（具体的には、後述の第１高屈折率層２１）の両方に対する密着性と、密着層１０の透明性との両立の観点からは、密着層１０の材料としては、好ましくは酸化シリコン（ＳｉＯｘ）が用いられ、より好ましくは、化学量論組成よりも酸素量の少ないＳｉＯｘが用いられ、さらに好ましくは、ｘが１.２以上１.９以下のＳｉＯｘが用いられる。
【0031】
密着層１０の厚さは、透明基材Ｓと光学機能層２０との間の密着力の確保と、密着層１０の透明性との両立の観点から、例えば１ｎｍ以上であり、また、例えば１０ｎｍ以下である。
【0032】
光学機能層２０は、本実施形態では、外光の反射強度を抑制するための反射防止層である。光学機能層２０は、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを、厚さ方向Ｈに交互に有する。反射防止層では、同層に含まれる複数の薄層（高屈折率層，低屈折率層）における複数の界面での反射光間の干渉作用により、正味の反射光強度を減衰させる。また、反射防止層では、各薄層の光学膜厚（屈折率と厚さとの積）の調整により、反射光強度を減衰させる干渉作用を発現させることができる。このような反射防止層としての光学機能層２０は、本実施形態において具体的には、第１高屈折率層２１と、第１低屈折率層２２と、第２高屈折率層２３と、第２低屈折率層２４とを、厚さ方向Ｈ一方側に向かって順に有する。
【0033】
第１高屈折率層２１および第２高屈折率層２３は、それぞれ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が好ましくは１.９以上の高屈折率層材料からなる。高屈折率と可視光の低吸収性との両立の観点から、高屈折率材料としては、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン、酸化ジルコニウム、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、およびアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）が挙げられ、好ましくは酸化ニオブが用いられる。第１高屈折率層２１の厚さは、好ましくは３ｎｍ以上、より好ましくは８ｎｍ以上であり、また、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下である。第２高屈折率層２３の厚さは、好ましくは１０ｎｍ以上、より好ましくは２０ｎｍ以上であり、また、好ましくは２００ｎｍ以下、より好ましくは１５０ｎｍ以下である。
【0034】
第１低屈折率層２２および第２低屈折率層２４は、それぞれ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が好ましくは１.６以下の低屈折率層材料からなる。低屈折率と可視光の低吸収性との両立の観点から、低屈折率材料としては、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）およびフッ化マグネシウムが挙げられ、好ましくは二酸化ケイ素が用いられる。第２低屈折率層２４の材料としては、第２低屈折率層２４と防汚層３０との密着性確保の観点からも、好ましくは二酸化ケイ素が用いられる。第１低屈折率層２２の厚さは、好ましくは８ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上であり、また、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは４０ｎｍ以下である。第２低屈折率層２４の厚さは、好ましくは３０ｎｍ以上、より好ましくは５０ｎｍ以上であり、また、好ましくは１５０ｎｍ以下、より好ましくは１２０ｎｍ以下である。
【0035】
防汚層３０は、光学フィルムＦにおける防汚機能を有する層であり、光学機能層２０の厚さ方向Ｈ一方面上に配置されている。防汚層３０の防汚機能には、光学フィルムＦの露出面（透明基材Ｓとは反対側における表面）に対する手脂などの汚染物質の付着の抑制機能、および、付着した汚染物質を除去しやすくする機能が含まれる。
【0036】
防汚層３０の材料としては、例えば、フッ素基含有の有機化合物が挙げられる。フッ素基含有の有機化合物としては、好ましくは、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物が用いられる。パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物としては、例えば、下記の一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
【0037】
Ｒ１－Ｒ２－Ｘ－(ＣＨ２)ｍ－Ｓｉ(ＯＲ３)３ （１）
【0038】
一般式（１）において、Ｒ１は、アルキル基における一つ以上の水素原子がフッ素原子に置換された、直鎖状または分岐状のフッ化アルキル基（炭素数は例えば１以上２０以下）を表し、好ましくは、アルキル基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換されたパーフルオロアルキル基を表す。
【0039】
Ｒ２は、パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）基の繰り返し構造を少なくとも一つ含む構造を表し、好ましくは、ＰＦＰＥ基の繰り返し構造を二つ含む構造を表す。ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造、および、分岐状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造が挙げられる。直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、－(ＯＣｎＦ２ｎ)ｐ－で表される構造（ｎは、１以上２０以下の整数を表し、ｐは、１以上５０以下の整数を表す。以下同じ）が挙げられる。分岐状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、－(ＯＣ(ＣＦ３)２)ｐ－で表される構造、および、－(ＯＣＦ２ＣＦ(ＣＦ３)ＣＦ２)ｐ－で表される構造が挙げられる。ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、好ましくは、直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造が挙げられ、より好ましくは、－(ＯＣＦ２)ｐ－および－(ＯＣ２Ｆ４)ｐ－が挙げられる。
【0040】
Ｒ３は、炭素数１以上４以下アルキル基を表し、好ましくはメチル基を表す。
【0041】
Ｘは、エーテル基、カルボニル基、アミノ基、またはアミド基を表し、好ましくはエーテル基を表す。
【0042】
ｍは、１以上の整数を表す。また、ｍは、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、更に好ましくは５以下の整数を表す。
【0043】
このようなパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物のうち、好ましくは、下記の一般式（２）に示される化合物が用いられる。
【0044】
ＣＦ３－(ＯＣＦ２)ｑ－(ＯＣ２Ｆ４)ｒ－Ｏ－(ＣＨ２)３－Ｓｉ(ＯＣＨ３)３ （２）
【0045】
一般式（２）において、ｑは、１以上５０以下の整数を表し、ｒは、１以上５０以下の整数を表す。
【0046】
また、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。
【0047】
防汚層３０の厚さは、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは２ｎｍ以上、さらに好ましくは３ｎｍ以上である。防汚層３０の厚さは、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以下である。
【0048】
防汚層３０の表面３１（露出表面）の純水接触角は、好ましくは１００度以上、より好ましくは１０２度以上、さらに好ましくは１０５度以上である。純水接触角は、例えば、１２０度以下である。純水接触角は、防汚層３０の表面に直径２ｍｍ以下の水滴を形成して、防汚層３０表面に対する当該水滴の接触角を測定することにより、求められる。
【0049】
図２に示す装置Ｘは、ロールトゥロール方式でワークフィルムＷを搬送しながら本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置であって、繰出し室Ｒ１と、巻取り室Ｒ２と、複数の工程室と、制御部（図示略）とを備える。制御部は、動作制御部と演算処理部とを含む。
【0050】
繰出し室Ｒ１は、ワークフィルムＷを繰り出すための繰出しローラー１０１を備える。繰出しローラー１０１には、ロール状の長尺の透明基材Ｓが、ワークフィルムＷとして設置される。また、繰出し室Ｒ１内には、必要に応じて、ワークフィルムＷをガイドするための所定数のガイドローラーＧが設けられる。
【0051】
巻取り室Ｒ２は、ワークフィルムＷを巻き取るための巻取りローラー１０２を備える。また、巻取り室Ｒ２内には、必要に応じて、ワークフィルムＷをガイドするための所定数のガイドローラーＧが設けられる。
【0052】
複数の工程室は、繰出し室Ｒ１と巻取り室Ｒ２との間で順次に連なり、第１成膜室Ｃ１と、接続室Ｃ２と、プラズマ処理室Ｃ３と、第２成膜室Ｃ４と、検査室Ｃ５とを含む。
【0053】
第１成膜室Ｃ１は、ワークフィルムＷの搬送方向Ｄ（図２において矢印で表す）において繰出し室Ｒ１の次に配置され、上流側に配置された第１分室Ｃ１ａと、下流側に配置された第２分室Ｃ１ｂとを備える。また、第１成膜室Ｃ１は、図示しない真空ポンプと接続されており、室内を所定の真空度に調節可能に構成されている。第１成膜室Ｃ１において、後述の第１成膜工程Ｓ１が実施される。
【0054】
第１分室Ｃ１ａは、第１成膜ローラー１０３と、スパッタ室２０１～２０５とを備える。第１成膜ローラー１０３は、繰出し室Ｒ１から繰り出されたワークフィルムＷを第１分室Ｃ１ａ内で搬送するためのメインガイドローラーである。スパッタ室２０１～２０５は、それぞれ、第１分室Ｃ１ａ内で区画された空間である。スパッタ室２０１～２０５は、第１成膜ローラー１０３の周方向に沿って配置され、それぞれ、第１成膜ローラー１０３に向かって開口している。スパッタ室２０１～２０５のそれぞれには、カソード（カソード２１１～２１５）が設けられている。各カソードには、第１成膜ローラー１０３に対面するように、成膜材料供給材としてのターゲット（図示略）が配置されている。スパッタ室２０１～２０５のそれぞれには、ターゲットに電圧を印加してグロー放電を発生させるための電源（図示略）が設けられている。電源としては、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＭＦ電源およびＲＦ電源が挙げられる。第１分室Ｃ１ａ内には、必要に応じて、ワークフィルムＷをガイドするための所定数のガイドローラーＧが設けられる。また、第１分室Ｃ１ａには、室内に不活性ガスを導入するための流量調節バルブ付ライン（図示略）と、室内に反応性ガスを導入するための流量調節バルブ付ライン（図示略）とが、接続されている。
【0055】
第２分室Ｃ１ｂは、第２成膜ローラー１０４と、スパッタ室２０６～２１０とを備える。第２成膜ローラー１０４は、ワークフィルムＷを第２分室Ｃ１ｂ内で搬送するためのメインガイドローラーである。スパッタ室２０６～２１０は、それぞれ、第２分室Ｃ２ｂ内で区画された空間である。スパッタ室２０６～２１０は、第２成膜ローラー１０４の周方向に沿って配置され、それぞれ、第２成膜ローラー１０４に向かって開口している。スパッタ室２０６～２１０のそれぞれには、カソード（カソード２１６～２２０）が設けられている。各カソードには、第２成膜ローラー１０４に対面するように、成膜材料供給材としてのターゲット（図示略）が配置されている。スパッタ室２０６～２１０のそれぞれには、ターゲットに電圧を印加してグロー放電を発生させるための電源（図示略）が設けられている。電源としては、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＭＦ電源およびＲＦ電源が挙げられる。第２分室Ｃ１ｂ内には、必要に応じて、ワークフィルムＷをガイドするための所定数のガイドローラーＧが設けられる。また、第２分室Ｃ１ｂには、室内に不活性ガスを導入するための流量調節バルブ付ライン（図示略）と、室内に反応性ガスを導入するための流量調節バルブ付ライン（図示略）とが、接続されている。
【0056】
第２分室Ｃ１ｂは、同室内での搬送方向Ｄ下流端に、第１光学検査部３０１を備える。第１光学検査部３０１は、第２成膜ローラー１０４を経たワークフィルムＷの光学特性をモニタリングする。
【0057】
第１光学検査部３０１は、例えば、少なくとも一つの光学検査ユニットを備える。光学検査ユニットは、例えば、ワークフィルムＷに対する光照射手段としての光源と、ワークフィルムＷを透過する光を検出して電気信号に変換する第１光検出部と、ワークフィルムＷにて反射する光を検出して電気信号に変換する第２光検出部とを備える。光源は、照射光の波長を所定範囲内で変化させることができる。第１および第２光検出部は、それぞれ、変換した電気信号を装置Ｘの制御部に出力する。このような第１光学検査部３０１は、制御部の動作制御部によって制御される。また、制御部の演算処理部では、例えば、第１および第２光検出部からの電気信号に基づき、特定波長におけるワークフィルムＷの透過率および反射率が導出され、また、反射率のピーク波長が導出される。これら導出結果に基づき、演算処理部では、所定の光学特性が同定される。このような第１光学検査部３０１において、後述の第１検査工程Ｓ２が実施される。
【0058】
第１光学検査部３０１においては、ワークフィルムＷの幅方向における複数箇所にてワークフィルムＷの光学特性を測定できるように構成されている。具体的には、第１光学検査部３０１では、ワークフィルムＷの幅方向における複数箇所に光学検査ユニットが設けられる。或いは、第１光学検査部３０１は、光学検査ユニットを備えてワークフィルムＷの幅方向に移動可能な可動ヘッドを備える。
【0059】
接続室Ｃ２は、ワークフィルムＷの搬送方向Ｄにおいて、第１成膜室Ｃ１の次に配置され、且つプラズマ処理室Ｃ３の前に配置されている。接続室Ｃ２は、図示しない真空ポンプと接続されており、室内圧力を調節可能に構成されている。装置Ｘの稼働時には、接続室Ｃ２内の圧力は、第１成膜室Ｃ１内の圧力と、プラズマ処理室Ｃ３内の圧力との間の所定の圧力に維持される。これにより、第１成膜室Ｃ１とプラズマ処理室Ｃ３との間の差圧が確保される。また、接続室Ｃ２内には、必要に応じて、ワークフィルムＷをガイドするための所定数のガイドローラー（図示略）が設けられてもよい。
【0060】
プラズマ処理室Ｃ３は、搬送方向Ｄにおいて接続室Ｃ２の次に配置されている。プラズマ処理室Ｃ３では、ワークフィルムＷの表面がプラズマ処理される。
【0061】
第２成膜室Ｃ４は、搬送方向Ｄにおいて、第１成膜室Ｃ１より下流に配置され、プラズマ処理室Ｃ３の次に配置されている。第２成膜室Ｃ４は、本実施形態では真空蒸着室である。第２成膜室Ｃ４は、本実施形態では、室内に配置された材料保持部３０２と、少なくとも一つの排気口３０３と、排気ポンプ３０４（室内減圧手段）と、開度を制御可能な蒸着量調整用バルブ（図示略）とを備える。また、第２成膜室Ｃ４内には、必要に応じて、ワークフィルムＷをガイドするための所定数のガイドローラーＧが設けられる。このような第２成膜室Ｃ４において、後述の第２成膜工程Ｓ４が実施される。
【0062】
材料保持部３０２には、第２成膜室Ｃ４内を搬送されるワークフィルムＷに対面するように、成膜材料供給材（図示略）が配置されている。材料保持部３０２には、成膜材料供給材を加熱する手段として、抵抗加熱手段が内蔵されていてもよいし、高周波誘導加熱手段が内蔵されていてもよいし、電子ビーム加熱手段が設けられていてもよい。
【0063】
排気口３０３は、第２成膜室Ｃ４の壁部に設けられている。排気ポンプ３０４は、第２成膜室Ｃ４内を減圧するためのユニットであり、排気口３０３に連結されている。排気ポンプ３０４としては、例えば、油回転ポンプ、ドライポンプ、ルーツポンプ、拡散ポンプ、クライオポンプ、および、これらの組み合わせが挙げられる。
【0064】
検査室Ｃ５は、搬送方向Ｄにおいて第２成膜室Ｃ４の次に配置されている。また、検査室Ｃ５は、搬送方向Ｄにおいて巻取り室Ｒ２の上流側一つ前に配置されている。すなわち、検査室Ｃ５は、搬送方向Ｄにおける第２成膜室Ｃ４と巻取り室Ｒ２との間に配置されている。また、検査室Ｃ５は、第２成膜室Ｃ４を経たワークフィルムＷの光学特性をモニタリングするための第２光学検査部３０５を備える。
【0065】
第２光学検査部３０５は、例えば、少なくとも一つの光学検査ユニットを備える。第２光学検査部３０５における光学検査ユニットの構成は、第１光学検査部３０１における光学検査ユニットの上述の構成と同じである。また、第２光学検査部３０５においては、第１光学検査部３０１におけるのと同様に、ワークフィルムＷの幅方向における複数箇所にてワークフィルムＷの光学特性を測定できるように構成されている。このような第２光学検査部３０５は、制御部の動作制御部によって制御される。また、制御部の演算処理部では、例えば、第２光学検査部３０５における第１および第２光検出部からの電気信号に基づき、特定波長におけるワークフィルムＷの透過率および反射率が導出され、また、反射率のピーク波長が導出される。このような第２光学検査部３０５において、後述の第２検査工程Ｓ５が実施される。
【0066】
装置Ｘは、本実施形態では、第２成膜室Ｃ４とプラズマ処理室Ｃ３との間に、当該両室の差圧を調整する気密搬送機構３１０を備える。気密搬送機構３１０は、プラズマ処理室Ｃ３と第２成膜室Ｃ４との間の気密性を維持しつつワークフィルムＷをプラズマ処理室Ｃ３から第２成膜室Ｃ４へと搬送するよう構成されている。このような気密搬送機構３１０としては、例えば、特開２０００－２２５３３１号公報、特開平３－３１４７４号公報、特開昭６３－７２９７２号公報、および特開昭６２－７０５７５号公報に記載の各気密搬送機構が用いられる（後記の気密搬送機構３２０についても同様である）。
【0067】
装置Ｘは、本実施形態では、第２成膜室Ｃ４と検査室Ｃ５との間に、当該両室の差圧を調整する気密搬送機構３２０を備える。気密搬送機構３２０は、第２成膜室Ｃ４と検査室Ｃ５との間の気密性を維持しつつワークフィルムを第２成膜室Ｃ４から検査室Ｃ５へと搬送するよう構成されている。
【0068】
本発明の光学フィルムの製造方法の一実施形態は、例えば、以上のような構成の装置Ｘによって実施できる。装置Ｘでは、繰出し室Ｒ１から巻取り室Ｒ２まで、ロールトゥロール方式でワークフィルムＷを搬送しながら、各工程が実施される。具体的には、次のとおりである。
【0069】
繰出し室Ｒ１からは、ワークフィルムＷとして透明基材Ｓが繰り出される。ワークフィルムＷは、繰出し室Ｒ１から繰り出された後、順次に連なる複数の工程室にわたって搬送され、巻取り室Ｒ２にて巻き取られる。その搬送速度は、例えば０.４ｍ／分以上であり、また、例えば１０ｍ／分以下である。
【0070】
本実施形態では、繰出し室Ｒ１から繰り出されたワークフィルムＷの厚さ方向一方面側に、第１成膜室Ｃ１のスパッタ室２０１において、まず、密着層１０が形成される。密着層１０は、ドライコーティング法としてのスパッタリング法によって形成される。
【0071】
スパッタリング法では、スパッタ室内に真空条件下でガスを導入しつつ、カソード上に配置されたターゲットにマイナスの電圧を印加する。これにより、グロー放電を発生させてガス原子をイオン化し、当該ガスイオンを高速でターゲット表面に衝突させ、ターゲット表面からターゲット材料を弾き出し、弾き出たターゲット材料を所定面上（本実施形態ではワークフィルムＷ上）に堆積させる。金属酸化物層を形成するには、成膜速度の観点から、反応性スパッタリングが好ましい。反応性スパッタリングでは、上述のガスとして、アルゴンなどの不活性ガスと酸素（反応性ガス）との混合ガスを用い、ターゲットとして金属ターゲットを用いる。
【0072】
密着層１０としては、例えばＩＴＯ層が形成される。その場合、例えば、カソード２１１上に配置されるターゲットとしてＩＴＯターゲットを用い、スパッタ室２０１にアルゴンおよび酸素を導入しながら反応性スパッタリングを実施する。アルゴンと酸素との流量比（ｓｃｃｍ）の調整により、ＩＴＯに含まれる酸素の割合を調整できる。また、本工程実施中のスパッタ室２０１内の圧力は、例えば０.１Ｐａ以上であり、また、例えば１.０Ｐａ以下、好ましくは０.７Ｐａ以下である（後記の他のスパッタ室２０２～２１０内の圧力についても同様である）。
【0073】
次に、第１成膜室Ｃ１において、ワークフィルムＷの厚さ方向一方面側に光学機能層２０が形成される（第１成膜工程Ｓ１）。本工程は、第１成膜室Ｃ１におけるスパッタ室２０２～２１０にて実施される。本工程では、ワークフィルムＷにおいて上述の密着層形成工程を経た箇所の上（即ち、密着層１０上）に、ドライコーティング法としてのスパッタリング法によって光学機能層２０が形成される。本実施形態では、第１成膜工程Ｓ１は、以下の第１高屈折率層形成工程、第１低屈折率層形成工程、第２高屈折率層形成工程、および第２低屈折率層形成工程を、この順で含む。
【0074】
第１高屈折率層形成工程は、スパッタ室２０２にて実施される。本工程では、ワークフィルムＷにおける密着層１０上に第１高屈折率層２１が形成される。本工程では、第１高屈折率層２１として、例えばＮｂ２Ｏ５層が形成される。その場合、例えば、カソード２１２上に配置されるターゲットとしてＮｂターゲットを用い、スパッタ室２０２にアルゴンおよび酸素を導入しながら反応性スパッタリングを実施する。本工程で形成される第１高屈折率層２１の光学膜厚（屈折率と厚さの積）は、例えば２０ｎｍ以上であり、また、例えば５５ｎｍ以下である。光学膜厚は、例えば、反応性スパッタリングにおける導入酸素の流量調整により、調整できる（第１低屈折率層２２、第２高屈折率層２３および第２低屈折率層２４の各光学膜厚についても同様である）。
【0075】
第１低屈折率層形成工程は、スパッタ室２０３にて実施される。本工程では、ワークフィルムＷにおける第１高屈折率層２１上に第１低屈折率層２２が形成される。本工程では、第１低屈折率層２２として、例えばＳｉＯ２層が形成される。その場合、例えば、カソード２１３上に配置されるターゲットとしてＳｉターゲットを用い、スパッタ室２０３にアルゴンおよび酸素を導入しながら反応性スパッタリングを実施する。本工程で形成される第１低屈折率層２２の光学膜厚は、例えば１５ｎｍ以上であり、また、例えば７０ｎｍ以下である。
【0076】
第２高屈折率層形成工程は、スパッタ室２０４～２０７にて実施される。本工程では、ワークフィルムＷにおける第１低屈折率層２２上に第２高屈折率層２３が形成される。本工程では、第２高屈折率層２３として、例えばＮｂ２Ｏ５層が形成される。その場合、例えば、カソード２１４～２１７上に配置される各ターゲットとしてＮｂターゲットを用い、スパッタ室２０４～２０７にアルゴンおよび酸素を導入しながら反応性スパッタリングを実施する。スパッタ室２０４～２０７のそれぞれにおいてＮｂ２Ｏ５薄膜が積層形成されて、第２高屈折率層２３が形成される。本工程で形成される第２高屈折率層２３の光学膜厚は、例えば６０ｎｍ以上であり、また、例えば３３０ｎｍ以下である。
【0077】
第２低屈折率層形成工程は、スパッタ室２０８～２１０にて実施される。本工程では、ワークフィルムＷにおける第２高屈折率層２３上に第２低屈折率層２４が形成される。本工程では、第２低屈折率層２４として、例えばＳｉＯ２層が形成される。その場合、例えば、カソード２１８～２２０上に配置される各ターゲットとしてＮｂターゲットを用い、スパッタ室２０８～２１０にアルゴンおよび酸素を導入しながら反応性スパッタリングを実施する。スパッタ室２０８～２１０のそれぞれにおいてＳｉＯ２薄膜が積層形成されて、第２低屈折率層２４が形成される。本工程で形成される第２低屈折率層２４の光学膜厚は、例えば１００ｎｍ以上であり、また、例えば１６０ｎｍ以下である。
【0078】
第１光学検査部３０１では、第１成膜工程Ｓ１を経たワークフィルムＷの光学特性がモニタリングされる（第１検査工程Ｓ２）。本工程では、ワークフィルムＷの厚さ方向一方面側（光学機能層２０が形成された側）の光学特性を検査して第１検査結果を得る。検査される光学特性としては、例えば、反射色相および視感反射率が挙げられる。第１光学検査部３０１の光学検査ユニットと装置Ｘの制御部（動作制御部，演算処理部）との協働により、光学特性が検査される。
【0079】
演算処理部は、第１検査工程Ｓ２で得られる第１検査結果が第１規格内であるか第１規格外であるかを判定する（第１判定工程Ｓ３）。第１検査工程Ｓ２で検査される光学特性が反射色相である場合、第１規格は、反射色相に関して予め設定される範囲である。第１規格としての反射色相範囲は、例えば、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるａ＊値およびｂ＊値の範囲によって規定される。ａ＊値は、例えば０.３以上１.０以下である。ｂ＊値は、例えば－１.０以上１.０以下である。第１検査工程Ｓ２で検査される光学特性が視感反射率である場合、第１規格は、視感反射率に関して予め設定される範囲である。第１規格としての視感反射率範囲は、例えば、ＸＹＺ表色系におけるＹ値（％）の範囲によって規定される。Ｙ値は、例えば０.０％以上０.１５％以下である。第１規格は、反射色相範囲と視感反射率範囲との組み合わせによって規定されてもよい。
【0080】
第１判定工程Ｓ３において第１検査結果が第１規格内であると判定された場合、上述の第２成膜工程Ｓ４における防汚層３０の設定厚さは変更されない。この場合、第２成膜工程Ｓ４では、ワークフィルムＷにおいて第１検査結果が第１規格内であると判定された領域に対し、既に設定されている厚さで防汚層３０が形成される。
【0081】
第１判定工程Ｓ３において第１検査結果が第１規格外であると判定された場合、演算処理部は、第２成膜工程Ｓ４における防汚層３０の設定厚さを規定範囲内で変更することによって、第２成膜工程Ｓ４後に第２規格を満たすワークフィルムＷが得られるかどうかを、判定する（第３判定工程Ｓ７）。第２規格については、後述する。
【0082】
第３判定工程Ｓ７において、第２規格を満たすワークフィルムＷが得られると判定された場合、制御部は、第２成膜工程Ｓ４で形成される防汚層３０の設定厚さを変更する（第１再設定工程Ｓ８）。これ以降、第２成膜工程Ｓ４では、ワークフィルムＷにおいて第１検査結果が第１規格外であると判定された領域に対し、変更後の設定厚さで防汚層３０が形成される（防汚層３０の厚さのフィードフォワード制御）。防汚層３０の厚さの調整方法としては、例えば、上述の蒸着量調整用バルブの開度の制御、および、上述の成膜材料供給材の加熱温度の調整が挙げられる。
【0083】
第３判定工程Ｓ７において、第２規格を満たすワークフィルムＷが得られないと判定された場合、動作制御部は、第１成膜工程Ｓ１における光学機能層２０の設定厚さを変更する（第３再設定工程Ｓ１０）。これ以降、第１成膜工程Ｓ１では、変更後の設定厚さで光学機能層２０が形成される（光学機能層２０の厚さのフィードバック制御）。光学機能層２０の設定厚さの変更には、第１高屈折率層２１、第１低屈折率層２２、第２高屈折率層２３、および第２低屈折率層２４からなる群より選択される少なくとも一つの設定厚さの変更が含まれる。これら厚さの調整方法としては、例えば、スパッタ成膜時における、酸素など反応性ガスの導入量の調整、および、カソードの印加電力の調整が挙げられる。また、装置Ｘ内のパスラインを流れるワークフィルムＷにおいて、前記の変更後の厚さを有する光学機能層２０が第１光学検査部３０１に到達するまでに第１光学検査部３０１を通過した領域には、例えば第１光学検査部３０１直後の位置にて、マーキングされる（図示略）。製造される光学フィルムＦにおいて、このマーキングが付された領域は、光学特性が規格外のロス領域である。
【0084】
第１成膜室Ｃ１の次のプラズマ処理室Ｃ３では、プラズマ処理工程が実施される。プラズマ処理工程では、第１成膜室Ｃ１を経たワークフィルムＷの光学機能層２０表面が、プラズマ処理される。プラズマ処理実施中のプラズマ処理室Ｃ３内の圧力は、例えば１０Ｐａ以下、また、例えば０.１Ｐａ以上である。
【0085】
プラズマ処理室Ｃ３の次の第２成膜室Ｃ４では、防汚層３０が形成される（第２成膜工程Ｓ４）。本工程では、第２成膜室Ｃ４において、ドライコーティング法としての真空蒸着法によって、ワークフィルムＷにおける光学機能層２０上に、設定厚さに基づき防汚層３０が形成される。具体的には、排気ポンプ３０４の稼働によって排気口３０３を介して第２成膜室Ｃ４内を真空に減圧した状態で、材料保持部３０２に配置された成膜材料供給材（図示略）を所定温度に加熱し、真空蒸着法を実施する。
【0086】
本工程で形成される防汚層３０の設定厚さは、第１判定工程Ｓ３において第１検査結果が第１規格内であると判定された場合には、従前の厚さである。設定厚さは、第１再設定工程Ｓ８で変更された場合には、同工程Ｓ８での変更後の厚さである。設定厚さは、後述の第２再設定工程Ｓ９で変更された場合には、同工程Ｓ９での変更後の厚さである。
【0087】
本工程実施中の第２成膜室Ｃ４内の圧力は、例えば０.１Ｐａ以下、好ましくは０.０５Ｐａ以下であり、また、例えば１×１０－５Ｐａ以上である。また、本工程での上記加熱の温度は、例えば２００℃以上であり、また、例えば４００℃以下である。
【0088】
次の検査室Ｃ５における第２光学検査部３０５では、第２成膜工程Ｓ２を経たワークフィルムＷの光学特性がモニタリングされる（第２検査工程Ｓ５）。本工程では、ワークフィルムＷの厚さ方向一方面側（防汚層３０が形成された側）の光学特性を検査して第２検査結果を得る。検査される光学特性としては、例えば、反射色相および視感反射率が挙げられる。第２光学検査部３０５の光学検査ユニットと装置Ｘの制御部（動作制御部，演算処理部）との協働により、光学特性が検査される。
【0089】
演算処理部は、第２検査工程Ｓ５で得られる第２検査結果が第２規格内であるか第２規格外であるかを判定する（第２判定工程Ｓ６）。第２検査工程Ｓ５で検査される光学特性が反射色相である場合、第２規格は、反射色相に関して予め設定される範囲である。第２規格としての反射色相範囲は、例えば、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるａ＊値およびｂ＊値の範囲によって規定される。ａ＊値は、例えば０.３以上１.５以下である。ｂ＊値は、例えば－５.０以上－２.０以下である。第２検査工程Ｓ５で検査される光学特性が視感反射率である場合、第２規格は、視感反射率に関して予め設定される範囲である。第１規格としての視感反射率範囲は、例えば、ＸＹＺ表色系におけるＹ値（％）の範囲によって規定される。Ｙ値は、例えば０.０％以上０.１７％以下である。第２規格は、反射色相範囲と視感反射率範囲との組み合わせによって規定されてもよい。
【0090】
第２判定工程Ｓ６において第２検査結果が第２規格内であると判定された場合、上述の第２成膜工程Ｓ４における防汚層３０の設定厚さは変更されない。この場合、第２成膜工程Ｓ４では、それまでの設定厚さで防汚層３０が形成される。
【0091】
第２判定工程Ｓ６において第２検査結果が第２規格外であると判定された場合、動作制御部は、第２成膜工程Ｓ４で形成される防汚層３０の設定厚さを変更する（第２再設定工程Ｓ９）。これ以後、第２成膜工程Ｓ４では、変更後の設定厚さで防汚層３０が形成される（防汚層３０の厚さのフィードバック制御）。また、装置Ｘ内のパスラインを流れるワークフィルムＷにおいて、前記の変更後の厚さを有する防汚層３０が第２光学検査部３０５に到達するまでに第２光学検査部３０５を通過した領域には、例えば第２光学検査部３０５直後の位置にて、マーキングされる（図示略）。製造される光学フィルムＦにおいて、このマーキングが付された領域は、光学特性が規格外のロス領域である。
【0092】
検査室Ｃ５を経たワークフィルムＷは、次の巻取り室Ｒ２において、巻取りローラー１０２によって巻き取られる。
【0093】
本製造方法では、装置Ｘ内のパスラインをワークフィルムＷが搬送され続けられる間、上述の一連の工程が繰り返し実施される。これにより、長尺の光学フィルムＦが製造される。
【0094】
本製造方法では、上述のように、ロールトゥロール方式での一つのパスラインにおいて、ワークフィルムＷに対して光学機能層２０と防汚層３０とがこの順で形成される。そして、本製造方法では、光学機能層２０と防汚層３０とが共に形成されたワークフィルムＷの光学特性が第２規格内となるように、第２成膜工程Ｓ４で形成される防汚層３０の設定厚さが、フィードバック制御とフィードフォワード制御とで二重に制御される。
【0095】
防汚層３０の厚さのフィードバック制御では、光学機能層２０に加えて防汚層３０が形成されているワークフィルムＷの光学特性が検査される上記第２検査工程Ｓ５後の上記第２判定工程Ｓ６と、上記第２再設定工程Ｓ９とを経て、第２成膜工程Ｓ４で形成される防汚層３０の設定厚さが変更される。
【0096】
防汚層３０の厚さのフィードフォワード制御では、光学機能層２０が形成されているワークフィルムＷ（防汚層３０は形成されていない）の光学特性が検査される上記第１検査工程Ｓ２後の上記第１判定工程Ｓ３と、上記第３判定工程Ｓ７と、上記第１再設定工程Ｓ８とを経て、第２成膜工程Ｓ４で形成される防汚層３０の設定厚さが変更される。
【0097】
このようなフィードフォワード制御によると、第１判定工程Ｓ３ではワークフィルムＷにおいて第１規格外であると判定された領域であっても、第２成膜工程Ｓ４で形成される防汚層３０の設定厚さの変更により、第２規格内の光学特性を有するワークフィルムＷを第２成膜工程Ｓ４で得ることが可能である。すなわち、本製造方法では、ワークフィルムＷにおいて、第１判定工程Ｓ３で光学特性が第１規格外であると判定された領域であっても、前記フィードフォワード制御により、防汚層３０形成後の光学特性を第２規格内に収めることができる場合がある。このようなフィードフォワード制御が上述のフィードバック制御に加えて実施される本製造方法は、製造される光学フィルムＦにおける規格外ロスを低減するのに適する。
【0098】
また、本製造方法では、第３判定工程Ｓ７にて、第２規格を満たすワークフィルムが得られないと判定された場合に、第３再設定工程Ｓ１０にて、第１成膜工程Ｓ１における光学機能層２０の設定厚さが変更される。光学機能層２０の厚さに関するこのようなフィードバック制御が実施されることは、上述の規格外ロスを低減するのに好ましい。
【0099】
本製造方法では、上述のように、第１成膜工程Ｓ１においてドライコーティング法によって光学機能層２０を形成し、第２成膜工程Ｓ４においてドライコーティング法によって防汚層を形成する。このような構成は、光学機能層２０と防汚層３０とを厚さ精度よく形成するのに好ましく、従って、光学機能層２０および防汚層３０の各膜厚を精度よく制御するのに好ましい。
【0100】
本製造方法は、上述のように、第１検査工程Ｓ２と第２成膜工程Ｓ４との間に、ワークフィルムＷの厚さ方向一方面側をプラズマ処理する工程を含む。このような構成は、防汚層３０の下地（本実施形態では第２低屈折率層２４）に対する防汚層３０の密着性を確保するのに好ましい。
【0101】
本実施形態では、形成される光学機能層２０が反射防止層である。このような構成は、光学フィルムＦとして、防汚層付き反射防止フィルムを、規格外ロスを低減しつつ製造するのに適する。また、反射防止層が、上述のように、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを交互に含む。このような構成は、良好な反射防止特性を有する防汚層付き反射防止フィルムを、規格外ロスを低減しつつ製造するのに適する。
【0102】
本発明の光学フィルムの製造方法では、上述の光学機能層形成工程において、スパッタリング法に代えて、ドライコーティング法に属する他の成膜方法によって光学機能層２０を形成してもよい。当該他の成膜方法としては、例えば、真空蒸着法およびＣＶＤ法が挙げられる。光学機能層２０を他の成膜方法によって形成する場合、装置Ｘは、光学機能層２０の当該他の成膜方法を実施できる所定の成膜室を第１成膜室Ｃ１の代わりに備える。
【0103】
本発明の光学フィルムの製造方法では、上述の防汚層形成工程において、真空蒸着法に代えて、ドライコーティング法に属する他の成膜方法によって防汚層３０を形成してもよい。当該他の成膜方法としては、例えば、スパッタリング法およびＣＶＤ法が挙げられる。防汚層３０を他の成膜方法によって形成する場合、装置Ｘは、防汚層３０の当該他の成膜方法を実施できる所定の成膜室を第２成膜室Ｃ４の代わりに備える。
【0104】
上述の光学フィルムＦは、反射防止フィルム以外の他の光学フィルムであってもよい。当該他の光学フィルムとしては、例えば、透明導電性フィルムおよび電磁波遮蔽フィルムが挙げられる。
【0105】
光学フィルムＦが透明導電性フィルムである場合、当該光学フィルムＦの光学機能層２０は、例えば、第１誘電体薄膜と、ＩＴＯ膜などの透明電極膜と、第２誘電体膜とを厚さ方向に順に備える。このような積層構成を有する光学機能層２０において、可視光透過性と導電性とが両立される。
【0106】
光学フィルムＦが電磁波遮蔽フィルムである場合、当該光学フィルムＦの光学機能層２０は、例えば、電磁波反射能を有する金属薄膜と、金属酸化物膜とを厚さ方向に交互に備える。このような積層構成を有する光学機能層２０において、特定波長の電磁波に対する遮蔽性と可視光透過性とが両立される。
【符号の説明】
【0107】
Ｆ 光学フィルム（防汚層付き光学フィルム）
Ｓ 基材
１０ 密着層
２０ 光学機能層
２１ 第１高屈折率層
２２ 第１低屈折率層
２３ 第２高屈折率層
２４ 第２低屈折率層
３０ 防汚層
Ｘ 装置
Ｒ１ 繰出し室
Ｒ２ 巻取り室
Ｃ１ 第１成膜室
Ｃ１ａ 第１分室
Ｃ１ｂ 第２分室
Ｃ２ 接続室
Ｃ３ プラズマ処理室
Ｃ４ 第２成膜室
Ｃ５ 検査室
３０１ 第１光学検査部
３０５ 第１光学検査部
Ｓ 基材
１０ 密着層
２０ 光学機能層
２１ 第１高屈折率層
２２ 第１低屈折率層
２３ 第２高屈折率層
２４ 第２低屈折率層
３０ 防汚層
Ｘ 装置
Ｒ１ 繰出し室
Ｒ２ 巻取り室
Ｃ１ 第１成膜室
Ｃ１ａ 第１分室
Ｃ１ｂ 第２分室
Ｃ２ 接続室
Ｃ３ プラズマ処理室
Ｃ４ 第２成膜室
Ｃ５ 検査室
３０１ 第１光学検査部
３０５ 第１光学検査部
【図1】
【図2】
【図3】