特開 2022-178127 アンチグレア基板の評価方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022178127

(43)【公開日】2022-12-02

(54)【発明の名称】アンチグレア基板の評価方法

(51)【国際特許分類】

   G01N 21/896 20060101AFI20221125BHJP

【ＦＩ】

G01N21/896

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021084688

(22)【出願日】2021-05-19

(71)【出願人】

【識別番号】000232243

【氏名又は名称】日本電気硝子株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001232

【氏名又は名称】弁理士法人大阪フロント特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】齊藤 隆義

【テーマコード（参考）】

2G051

【Ｆターム（参考）】

2G051AA41

2G051AB07

2G051BA20

2G051BB01

2G051BC05

2G051CA04

2G051CA06

2G051CB01

2G051CB05

2G051CD06

2G051EC04

(57)【要約】

【課題】アンチグレア面におけるムラを簡便にかつ確実に判別することができる、アンチグレア基板の評価方法を提供する。
【解決手段】透明基板２の表面２ａにアンチグレア処理が施されてなる、アンチグレア基板１において、アンチグレア面１ａにおけるムラを判別するための評価方法であって、アンチグレア基板１のアンチグレア面１ａ側において、光源を移動させつつ連続的に光照射し、アンチグレア面１ａ側から反射した正反射成分及び拡散反射成分を分離して連続的に画像撮影し、正反射成分及び／又は拡散反射成分の画像を取得する工程と、連続的に撮影された正反射成分及び／又は拡散反射成分の画像を用いて、アンチグレア面１ａにおけるムラを評価する工程と、を備える、アンチグレア基板１の評価方法。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

透明基板の表面にアンチグレア処理が施されてなる、アンチグレア基板において、アンチグレア面におけるムラを判別するための評価方法であって、
前記アンチグレア基板の前記アンチグレア面側において、光源を移動させつつ連続的に光照射し、前記アンチグレア面側から反射した正反射成分及び拡散反射成分を分離して連続的に画像撮影し、前記正反射成分及び／又は前記拡散反射成分の画像を取得する工程と、
連続的に撮影された前記正反射成分及び／又は前記拡散反射成分の画像を用いて、前記アンチグレア面におけるムラを評価する工程と、
を備える、アンチグレア基板の評価方法。

【請求項2】

前記光照射に際し、ライン光源を移動させつつ連続的に光照射する、請求項１に記載のアンチグレア基板の評価方法。

【請求項3】

前記アンチグレア基板の面方向と直交する方向を法線方向としたときに、前記法線方向に対して斜め方向から、カメラにより連続的に画像撮影し、前記正反射成分及び／又は前記拡散反射成分の画像を得る、請求項１又は２に記載のアンチグレア基板の評価方法。

【請求項4】

前記連続的に画像撮影された前記正反射成分及び／又は前記拡散反射成分の画像について、合成処理を行うことにより、前記アンチグレア面全体の正反射像及び拡散反射像を取得し、該正反射像及び拡散反射像を用いて、前記アンチグレア面におけるムラを評価する、請求項１～３のいずれか１項に記載のアンチグレア基板の評価方法。

【請求項5】

前記正反射像及び拡散反射像について、フーリエ変換処理を行うことにより、空間周波数スペクトルを取得し、該空間周波数スペクトルを用いて、前記アンチグレア面におけるムラを評価する、請求項４に記載のアンチグレア基板の評価方法。

【請求項6】

前記アンチグレア基板が、前記透明基板と、前記透明基板の表面上に設けられたアンチグレア層とを備える、請求項１～５のいずれか１項に記載のアンチグレア基板の評価方法。

【請求項7】

前記アンチグレア層が、前記透明基板の表面上に、スプレーコート法によりコーティング液を塗布することによって形成されてなる、請求項６に記載のアンチグレア基板の評価方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板の表面にアンチグレア処理が施されてなる、アンチグレア基板の評価方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、携帯電話機、タブレット端末、テレビ、あるいはデジタルサイネージ等のディスプレイにおいては、室内照明（蛍光灯等）や太陽光等の外光により反射像が表示面に映り込むことによって視認性が低下することがある。このような外光による映り込みを抑える処理としては、アンチグレア処理や反射防止処理が知られている。

【0003】

下記の特許文献１には、アンチグレア処理された透明基体において、定量化された防眩性指標値や、ぎらつき指標値を取得し、透明基体の光学特性を評価する方法が開示されている。

【0004】

また、下記の特許文献２には、防眩フィルムのムラ測定方法が開示されている。特許文献２では、固体撮像素子により撮像された物体の画像に対し多重解像度解析をおこなうことにより画像を周波数毎の成分に分解するステップと、周波数毎に分解された成分に視覚系の周波数毎の感度を掛け合わせるステップとを備える、ムラ測定方法が記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】国際公開第２０１５－１７４１３２号

【特許文献2】特開２００９－２２９３９１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

ところで、基板上にアンチグレア膜を形成する際には、基板上の汚れ等に起因して、形成されたアンチグレア膜の凹凸構造に形状バラつきが生じることがあり、その結果形成されたアンチグレア膜には、ムラが生じることがある。このようなアンチグレア膜におけるムラは、目視により観察することができるが、角度を変えて観察するなどの工夫をしないと、ムラを確認できない場合があり、煩雑な作業が必要となる。また、このような方法では、見落としもあり、ムラを確実に評価することが難しいという問題もある。従って、アンチグレア面におけるムラを、簡便、迅速、かつ正確に評価する方法が求められている。しかしながら、特許文献１や特許文献２の評価方法では、特に、形成されるアンチグレア面の面積が大きくなると、ムラを正確に評価できないという問題がある。

【0007】

本発明の目的は、アンチグレア面におけるムラを簡便にかつ確実に判別することができる、アンチグレア基板の評価方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明に係るアンチグレア基板の評価方法は、透明基板の表面にアンチグレア処理が施されてなる、アンチグレア基板において、アンチグレア面におけるムラを判別するための評価方法であって、前記アンチグレア基板の前記アンチグレア面側において、光源を移動させつつ連続的に光照射し、前記アンチグレア面側から反射した正反射成分及び拡散反射成分を分離して連続的に画像撮影し、前記正反射成分及び／又は前記拡散反射成分の画像を取得する工程と、連続的に撮影された前記正反射成分及び／又は前記拡散反射成分の画像を用いて、前記アンチグレア面におけるムラを評価する工程と、を備えることを特徴としている。

【0009】

本発明においては、前記光照射に際し、ライン光源を移動させつつ連続的に光照射することが好ましい。

【0010】

本発明においては、前記アンチグレア基板の面方向と直交する方向を法線方向としたときに、前記法線方向に対して斜め方向から、カメラにより連続的に画像撮影し、前記正反射成分及び／又は前記拡散反射成分の画像を得ることが好ましい。

【0011】

本発明においては、前記連続的に画像撮影された前記正反射成分及び／又は前記拡散反射成分の画像について、合成処理を行うことにより、前記アンチグレア面全体の正反射像及び前記拡散反射像を取得し、該正反射像及び拡散反射像を用いて、前記アンチグレア面におけるムラを評価することが好ましい。

【0012】

本発明においては、前記正反射像及び拡散反射像について、フーリエ変換処理を行うことにより、空間周波数スペクトルを取得し、該空間周波数スペクトルを用いて、前記アンチグレア面におけるムラを評価することが好ましい。

【0013】

本発明においては、前記アンチグレア基板が、透明基板と、前記透明基板の表面上に設けられたアンチグレア層とを備えることが好ましい。

【0014】

本発明においては、前記アンチグレア層が、前記透明基板の表面上に、スプレーコート法によりコーティング液を塗布することによって形成されてなることが好ましい。

【発明の効果】

【0015】

本発明によれば、アンチグレア面におけるムラを簡便にかつ確実に判別することができる、アンチグレア基板の評価方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】図１は、本発明に係るアンチグレア基板の評価方法で用いる一例としてのアンチグレア基板を説明するための模式的断面図である。

【図2】図２（ａ）及び（ｂ）は、本発明に係るアンチグレア基板の評価方法で用いる一例としてのアンチグレア基板の製造方法を説明するための模式的断面図である。

【図3】図３は、本発明に係るアンチグレア基板の評価方法を説明するためのフローチャートである。

【図4】図４は、本発明に係るアンチグレア基板の評価方法における測定原理を説明するための模式図である。

【図5】図５は、本発明で用いるアンチグレア基板に映り込んだ反射像を示す画像である。

【図6】図６は、実験例１～３において、ライン光源及びカメラを設置した位置を説明するための模式図である。

【図7】図７は、図３に示すフローチャートのステップＳ２において、カメラにより連続的に画像撮影することによって得られた画像を示す図である。

【図8】図８は、図７に示す画像を台形補正することにより得られた画像を示す図である。

【図9】図９は、図８に示す画像をグレースケールに変換することにより得られた画像を示す図である。

【図10】図１０は、図９に示す画像をフィルタ処理することにより得られた画像を示す図である。

【図11】図１１は、図１０に示す画像における明るさ分布の中心点を説明するための図である。

【図12】図１２は、図１０に示す画像におけるライン光源の位置を説明するための図である。

【図13】図１３は、図８の画像における正反射成分及び拡散反射成分のエリアを説明するための図である。

【図14】図１４は、合成した正反射像画像を示す図である。

【図15】図１５は、合成した拡散反射像画像を示す図である。

【図16】図１６は、実験例１で得られた拡散反射像の空間周波数スペクトル像を示す図である。

【図17】図１７は、実験例２で得られた拡散反射像の空間周波数スペクトル像を示す図である。

【図18】図１８は、実験例３で得られた拡散反射像の空間周波数スペクトル像を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。

【0018】

図１は、本発明に係るアンチグレア基板の評価方法で用いる一例としてのアンチグレア基板を説明するための模式的断面図である。

【0019】

図１に示すように、アンチグレア基板１は、透明基板２と、アンチグレア層３とを備える。透明基板２の表面２ａ上に、アンチグレア層３が設けられている。アンチグレア層３は、外光の映り込み等を抑制する、いわゆる防眩効果を付与するために設けられている。このように、本実施形態のアンチグレア基板１では、透明基板２の表面２ａ上にアンチグレア層３が設けられることにより、アンチグレア処理がなされている。

【0020】

図２（ａ）及び（ｂ）は、本発明に係るアンチグレア基板の評価方法で用いる一例としてのアンチグレア基板の製造方法を説明するための模式的断面図である。

【0021】

本実施形態の製造方法では、まず、透明基板２を用意する。次に、透明基板２の表面２ａ上に、スプレーコート法によりコーティング液を塗布する。それによって、透明基板２の表面２ａ上にアンチグレア層３を形成し、アンチグレア基板１を得ることができる。

【0022】

本実施形態の評価方法は、上記のようなアンチグレア基板１のアンチグレア面１ａにおけるムラを判別するための評価方法である。

【0023】

本実施形態の評価方法では、まず、アンチグレア基板１のアンチグレア面１ａ側において、光源を移動させつつ連続的に光照射する。次に、アンチグレア面１ａ側から反射した正反射成分及び拡散反射成分を分離して連続的に画像撮影する。それによって、正反射成分及び／又は拡散反射成分の画像を取得する。次に、連続的に撮影された正反射成分及び／又は拡散反射成分の画像を用いて、アンチグレア面１ａにおけるムラを評価する。なお、本明細書において、「正反射成分及び／又は拡散反射成分」とは、「正反射成分及び拡散反射成分のうち少なくとも一方」のことをいうものとする。

【0024】

本実施形態の評価方法は、上記の構成を備えるので、アンチグレア面１ａにおけるムラを簡便にかつ確実に判別することができる。なお、この点については、以下のように説明することができる。

【0025】

従来、基板上にアンチグレア膜を形成する際には、基板上の汚れ等に起因して、形成されたアンチグレア膜の凹凸構造に形状バラつきが生じることがあり、その結果アンチグレア膜には、ムラが生じることがあった。このようなアンチグレア膜におけるムラは、目視により観察することができるが、角度を変えて観察するなどの工夫をしないと、ムラを確認できない場合があり、煩雑な作業が必要となっていた。また、このような方法では、見落としもあり、ムラを確実に評価することが難しいという問題もあった。従って、アンチグレア面におけるムラを、簡便、迅速、かつ正確に評価する方法が求められていた。

【0026】

しかしながら、照明の正反射像を撮像素子で捉え、画像処理によりアンチグレア面におけるムラを評価する方法では、アンチグレア面の面積が大きくなると、ムラを正確に評価できないという問題があった。特に、アンチグレア基板を１０インチ以上のディスプレイにおけるカバー部材に用いたときにその傾向は顕著であった。

【0027】

この点につき、本発明者は、アンチグレア面における形状バラつきにより生じるムラは、正反射成分で観察すると確認できるものと、拡散反射成分で観察すると確認できるものがあり、正反射成分と拡散反射成分の強度は相反する特性を有することから、これらの２つの成分が混ざった状態で観察すると、それぞれの特徴の認識が難しくなることを見出した。

【0028】

そして、本発明者は、正反射成分及び拡散反射成分を分離して連続的に画像撮影することにより、正反射成分及び／又は拡散反射成分の画像を取得して評価すれば、角度を変えて観察するなどの工夫をせずとも、ムラを確実に確認できることを見出した。

【0029】

従って、本実施形態に係るアンチグレア基板１の評価方法によれば、アンチグレア面１ａにおけるムラを簡便にかつ正確に判別することができる。

【0030】

以下、アンチグレア基板１のような本発明のアンチグレア基板の評価方法について、より具体的に説明する。

【0031】

（アンチグレア基板の評価方法の詳細）
図３は、本発明に係るアンチグレア基板の評価方法を説明するためのフローチャートである。図４は、本発明に係るアンチグレア基板の評価方法における測定原理を説明するための模式図である。図５は、本発明で用いるアンチグレア基板に映り込んだ反射像を示す画像である。

【0032】

以下、本発明に係るアンチグレア基板の評価方法について、図３に示すステップＳ１～Ｓ５の順に説明する。

【0033】

ステップＳ１；
図４に示すように、本実施形態に係るアンチグレア基板の評価方法では、まず、アンチグレア基板１を黒板ガラス１１に貼り合わせる。アンチグレア基板１を黒板ガラス１１に貼り合わせる方法としては、特に限定されず、例えば、アンチグレア基板１と屈折率が近い液体により貼り合わせることができる。次に、図４に示すように、測定用のカメラ１２の視野にアンチグレア基板１を配置する。カメラ１２の位置は、特に限定されないが、本実施形態のようにアンチグレア基板１の斜め上方に配置することが望ましい。なお、カメラ１２の位置は、アンチグレア基板１の大きさに合わせて適宜決定することができる。

【0034】

次に、図４に示すように、アンチグレア基板１の上方にライン光源１３を配置し、アンチグレア基板１にライン光源１３のラインを映り込ませる。本実施形態では、ライン光源１３として、蛍光灯を用いている。もっとも、本発明においては、蛍光灯以外の光源を用いてもよいが、ライン光源を用いることが好ましく、蛍光灯を用いることがより好ましい。アンチグレア基板１にライン光源１３のラインを映り込ませることにより、反射像として、図５に示すような正反射像及び拡散反射像（散乱光像）を観察することができる。

【0035】

ステップＳ２；
次に、図４及び図５に示すように、ライン光源１３をアンチグレア基板１上においてスキャンさせ、正反射成分及び拡散反射成分をそれぞれ分離して連続的に撮影する。具体的には、ライン光源１３を移動させつつ連続的に光照射し、アンチグレア面１ａ側から反射した正反射成分及び拡散反射成分を分離して、カメラ１２により連続的に画像撮影する。

【0036】

ステップＳ３；
次に、連続的に撮影された正反射成分及び拡散反射成分それぞれの画像について、合成処理を行うことにより、アンチグレア基板１全体の正反射像及び拡散反射像を得る。この際、ライン光源１３の位置は、カメラ画像の光量分布から認識することができる。

【0037】

また、アンチグレア基板１全体の正反射像は、連続撮影画像の反射光強度の高い部分を合成して得ることができる。正反射像エリアは、ライン光源１３、カメラ１２、アンチグレア基板１のそれぞれの位置から計算する。ライン光源１３が動いた場合、常に明るいデータを上書きしていくことで合成する。

【0038】

また、アンチグレア基板１全体の拡散反射像は、連続撮影画像の反射光強度の高い成分以外の成分を合成して得ることができる。拡散反射像エリアは、正反射像エリアより一定距離離れたエリアとして求めることができる。

【0039】

ステップＳ４；
得られたそれぞれの画像に対し、フーリエ変換処理を行うことにより、正反射像及び拡散反射像の空間周波数スペクトルを得る。

【0040】

ステップＳ５；
得られた画像または空間周波数スペクトルを評価し、アンチグレア面１ａにおけるムラを評価する。なお、アンチグレア面１ａにおけるムラは、ステップＳ２で得られた画像を用いて評価してもよいし、ステップＳ３で得られた画像を用いて評価してもよい。また、アンチグレア面１ａにおけるムラは、ステップＳ４で得られた空間周波数スペクトルを用いて評価してもよい。従って、ステップＳ３やステップＳ４は行わなくともよい。いずれの場合においても、正反射成分及び拡散反射成分それぞれの画像を取得して評価しているので、アンチグレア面１ａにおけるムラを簡便にかつ正確に判別することができる。なお、得られた空間周波数スペクトルにおいて、アンチグレア面１ａにおけるムラは、模様の有無により確認することができる。特に、アンチグレア面１ａにおけるムラに周期性がある場合、周期性のあるパターン模様が観察される。そのため、ステップＳ１～Ｓ５の全てを行う場合、アンチグレア面１ａにおけるムラを定量的に評価することも可能となる。

【0041】

以下、本発明に係るアンチグレア基板の評価方法の具体例について、実験例１～３を参照して説明する。

【0042】

実験例１～３では、上述したステップＳ１～Ｓ５を行い、アンチグレア基板１の評価を行った。実験例１～２では、目視によりアンチグレア面１ａのムラが観察されたアンチグレア基板１を用いた。また、実験例３では、目視によりアンチグレア面１ａのムラが観察されなかったアンチグレア基板１を用いた。なお、アンチグレア基板１は、その寸法が、１５０ｍｍ×２５０ｍｍ×１ｍｍのものを用いた。

【0043】

図６は、実験例１～３において、ライン光源及びカメラを設置した位置を説明するための模式図である。図６に示すように、ライン光源１３は、黒板ガラス１１から１２０ｍｍの高さに設置した。ライン光源１３としては、蛍光灯（１０Ｗ、長さ：３００ｍｍ、スリット幅：５ｍｍ）を用いた。また、カメラ１２は、黒板ガラス１１から３８０ｍｍの高さに設置した。また、カメラ１２は、法線方向に対して４０°傾斜した方向から測定するように配置した。なお、法線方向は、アンチグレア基板１の面方向に直交する方向である。カメラとしては、ホーザン社製、Ｌ－３８５を用いた（レンズ：焦点距離６ｍｍ、ｆ値１．４）。

【0044】

図７は、図３に示すフローチャートのステップＳ２において、カメラ１２により連続的に画像撮影することによって得られた画像を示す図である。このカメラ画像のサイズは、１０２４ピクセル×７６８ピクセルとした。また、カメラ画像は、アンチグレア基板１に対して、斜め上方より撮影しているため、台形補正を行ない、図８に示す画像を得た。なお、ライン光源１３のスキャンは、アンチグレア基板１のアンチグレア面１ａにおける中心から開始して１往復行なった。

【0045】

また、得られた画像において、ライン光源１３の位置検出、正反射像の合成、拡散反射像の合成、空間周波数スペクトルの解析は、以下のようにして行った。なお、画像処理は、画像処理ライブラリ（ＯｐｅｎＣＶ４）を用いて行った。

【0046】

ライン光源の位置検出；
ライン光源１３を位置検出するに際しては、まず、図８に示す画像を、図９に示すグレースケール画像に変換した。次に、アンチグレアムラによる濃淡や、ゴミなどによるノイズを除去するフィルタ処理を行ない、図１０に示す画像を得た。フィルタ処理に際しては、画像の膨張×３回、画像の縮小×３回（構造要素：３ピクセル×３ピクセル）行い、閾値７０でカットした。次に、図１１に示すように、図１０に示す画像の画像幅×１／３の縦ラインＸ１と、画像幅×２／３の縦ラインＸ２における明るさ分布の中心点（明るさ中心位置）を求めた。次に、図１２に示すように、求めた明るさ分布の中心点を結ぶ直線を求め、この直線の位置をライン光源１３の位置（ライン光源位置）とした。

【0047】

正反射像の合成；
図１３に示すように、上記のようにして求めたライン光源１３の位置直線における幅３ピクセル分を正反射成分とし、図８における台形補正後の画像より正反射成分を抽出した。抽出した正反射成分を図１４に示す正反射像画像に上書きした。上書きの条件は、元画像の各画素において抽出した正反射成分画素が明るい場合とした。

【0048】

拡散反射像の合成；
図１３に示すように、上記のようにして求めたライン光源１３の位置直線より２０ピクセル分をカメラ側に平行移動させ、線幅を６ピクセルとした範囲を拡散反射成分とし、図８における台形補正後の画像より拡散反射成分を抽出した。抽出した拡散反射成分を図１５に示す拡散反射像画像に上書きした。上書きの条件は、元画像の各画素において抽出した拡散反射成分画素が明るい場合とした。

【0049】

空間周波数スペクトルの解析；
図１４で得られた正反射像画像及び図１５で得られた拡散反射像画像について、画像解析ソフト（ＩｍａｇｅＪ）を用いて、フーリエ変換を行い、空間周波数スペクトル像を得た。

【0050】

図１６は、実験例１で得られた拡散反射像の空間周波数スペクトル像を示す図である。図１７は、実験例２で得られた拡散反射像の空間周波数スペクトル像を示す図である。また、図１８は、実験例３で得られた拡散反射像の空間周波数スペクトル像を示す図である。

【0051】

図１６及び図１７に示すように、目視によりアンチグレア面１ａのムラが観察されたアンチグレア基板１を用いた場合、周期性のあるパターン模様が観察された。他方、図１８に示すように、目視によりアンチグレア面１ａのムラが観察されなかったアンチグレア基板１を用いた場合、模様は観察されなかった。

【0052】

以下、アンチグレア基板１のような本発明のアンチグレア基板の評価方法で用いるアンチグレア基板について、より具体的に説明する。

【0053】

（アンチグレア基板の詳細）
本発明で用いるアンチグレア基板は、上記実施形態で説明したように、透明基板の表面上にアンチグレア層が設けられることにより、アンチグレア処理が施されていてもよい。

【0054】

透明基板の材料としては、ガラス、セラミックス、ガラスセラミックス、樹脂等の透明材料が挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。この場合、透明基板には、風冷強化、化学強化等の強化処理がなされていてもよい。セラミックスとしてはサファイヤ等が挙げられる。また、樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリメタクリル酸メチル等が挙げられる。

【0055】

透明基板の形状は、特に限定されず、例えば、略矩形板状とすることができる。透明基板は、略円板状等の形状を有していてもよい。

【0056】

透明基板の厚みは、特に限定されず、光透過率などに応じて適宜設定することができる。透明基板の厚みは、例えば、０．１ｍｍ～３ｍｍ程度とすることができる。

【0057】

また、透明基板は、表面に機能層を有するものであってもよい。機能層としては、アンダーコート層、密着改善層、保護層、着色層等が挙げられる。

【0058】

アンチグレア層としては、例えば、無機膜を用いることができる。このようなアンチグレア層は、透明基板上に、コーティング液を塗布し、乾燥させることにより形成することができる。塗布方法としては、上記実施形態のように、スプレーコート法を用いることができる。もっとも、塗布方法は、スピンコート法のような他の塗布方法であってもよい。

【0059】

コーティング液としては、例えば、ゾル状の無機塗料が挙げられる。この場合、スプレーコート法やスピンコート法などのコーティング法によってゾル状の無機塗料を塗布し、乾燥させることにより、ゾル－ゲル法によって成膜することができる。

【0060】

ゾル状の無機塗料は、例えば、シリカ前駆体により構成することができる。もっとも、無機塗料は、例えば、アルミナ前駆体、ジルコニア前駆体、チタニア前駆体等により構成されていてもよい。これらの前駆体は、１種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。また、無機塗料の溶媒としては、例えば、水、アルコール等を用いることができる。

【0061】

シリカ前駆体としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン等のアルコキシシラン、アルコキシシランの加水分解縮合物（ゾルゲルシリカ）、シラザン等が挙げられる。防眩効果をより一層高める観点からは、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン等のアルコキシシラン、それらの加水分解縮合物であることが好ましく、テトラエトキシシランの加水分解縮合物であることがより好ましい。

【0062】

アルミナ前駆体としては、アルミニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシドの加水分解縮合物、水溶性アルミニウム塩、アルミニウムキレート等が挙げられる。

【0063】

ジルコニア前駆体としては、ジルコニウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドの加水分解縮合物等が挙げられる。

【0064】

チタニア前駆体としては、チタンアルコキシド、チタンアルコキシドの加水分解縮合物等が挙げられる。

【0065】

また、無機塗料は、他の無機粒子を含んでいてもよい。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子、ジルコニア粒子、チタニア粒子、ハフニア粒子、イットリア粒子等が挙げられる。

【0066】

アンチグレア層の平均厚みは、特に限定されない。もっとも、防眩効果をより一層高める観点から、アンチグレア層の平均厚みは、０．１μｍ以上、２μｍ以下であることが好ましく、０．１５μｍ以上、１．７５μｍ以下であることがより好ましく、０．２μｍ以上、１μｍ以下であることがさらに好ましい。

【0067】

アンチグレア層の二乗平均平方根高さ（Ｒｑ）は、特に限定されない。もっとも、防眩効果をより一層高める観点から、アンチグレア層の二乗平均平方根高さ（Ｒｑ）は、３０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、８０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

【0068】

また、アンチグレア基板では、上記のようなアンチグレア層が必ずしも設けられていなくともよい。例えば、透明基板の表面をエッチングすることにより、アンチグレア処理を施し、それによってアンチグレア基板が形成されていてもよい。また、透明基板の表面にフロスト処理、サンドブラスト処理、ウェットブラスト処理等の表面処理を施すことにより、アンチグレア処理を施し、それによってアンチグレア基板が形成されていてもよい。上記のいずれの方法においても、透明基板上の汚れ等に起因して、形成されたアンチグレア面の凹凸構造に形状バラつきが生じることがあるので、本発明の効果を享受することができる。

【0069】

フロスト処理は、例えば、フッ化水素とフッ化アンモニウムの混合溶液に、透明基板を浸漬し、浸漬面を化学的に表面処理することにより、透明基板の表面に凹凸を形成する処理方法である。特に、フッ化水素等の薬液を用いたフロスト処理は、被処理体表面におけるマイクロクラックが生じ難く、機械的強度の低下が生じにくいため、好ましい。

【0070】

サンドブラスト処理は、例えば、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を加圧空気で透明基板の表面に吹きつけることにより、透明基板の表面に凹凸を形成する処理方法である。また、このようにして凹凸を作製した後に、表面形状を整えるために、透明基板表面を化学的にエッチングすることが一般的に行われている。このようにすることで、サンドブラスト処理等で生じたクラックを除去できる。エッチングとしては、フッ化水素を主成分とする溶液に、被処理体である透明基板を浸漬する方法が好ましく用いられる。

【0071】

ウェットブラスト処理は、アルミナなどの個体粒子にて構成される砥粒と、水などの液体とを均一に撹拌してスラリーとしたものを、圧縮エアーを用いて噴射ノズルから透明基板の表面に高速で噴射することにより、透明基板の表面に凹凸を形成する処理方法である。ウェットブラスト処理により透明基板の表面に形成される凹凸面の表面粗さは、主にスラリーに含まれる砥粒の粒度分布と、スラリーを透明基板に噴射する際の噴射圧力とにより調整することができる。ウェットブラスト処理においては、スラリーを透明基板に噴射した場合、液体が砥粒を透明基板まで運ぶため、サンドブラスト処理に比べて微細な砥粒を使用することができるとともに、砥粒がワークに衝突する際の衝撃が小さくなり、精密な加工を行うことが可能である。

【符号の説明】

【0072】

１…アンチグレア基板
１ａ…アンチグレア面
２…透明基板
２ａ…表面
３…アンチグレア層
１１…黒板ガラス
１２…カメラ
１３…ライン光源

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】