(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022178806
(43)【公開日】2022-12-02
(54)【発明の名称】光コネクタおよびその製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 6/30 20060101AFI20221125BHJP
G02B 6/36 20060101ALI20221125BHJP
G02B 6/32 20060101ALI20221125BHJP
【FI】
G02B6/30
G02B6/36
G02B6/32
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2021085866
(22)【出願日】2021-05-21
(71)【出願人】
【識別番号】000102739
【氏名又は名称】エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100098394
【弁理士】
【氏名又は名称】山川 茂樹
(72)【発明者】
【氏名】河崎 康成
(72)【発明者】
【氏名】小林 潤也
【テーマコード(参考)】
2H036
2H137
【Fターム(参考)】
2H036QA12
2H036QA14
2H036QA49
2H036QA56
2H137AB09
2H137AB15
2H137BA15
2H137BA20
2H137BA55
2H137BC01
2H137BC74
2H137CA15A
2H137CA33
2H137CA49
2H137CC02
2H137CC03
2H137CD33
2H137CD45
2H137EA02
2H137HA01
(57)【要約】 (修正有)
【課題】光ファイバとポリマ導波路の接続損失を、簡易な構成で低減することのできる光コネクタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】光コネクタは、光ファイバ16が搭載される前段ブロック11と、ポリマ導波路17が搭載される後段ブロック12と、前段ブロックと後段ブロックの間に配置され、光ファイバと、ポリマ導波路を接続する自己形成導波路18と、自己形成導波路の周囲に形成されるクラッド部19とを備え、自己形成導波路が、前段ブロックと後段ブロックの間に配置される自己形成導波路材料において、樹脂硬化光の照射により硬化される部分である。
【選択図】
図1C
【特許請求の範囲】
【請求項1】
光ファイバが搭載される前段ブロックと、
ポリマ導波路が搭載される後段ブロックと、
前記前段ブロックと前記後段ブロックの間に配置され、前記光ファイバと、前記ポリマ導波路を接続する自己形成導波路と、
前記自己形成導波路の周囲に形成されるクラッド部と
を備え、
前記自己形成導波路が、前記前段ブロックと前記後段ブロックの間に配置される自己形成導波路材料において、樹脂硬化光の照射により硬化される部分である
ことを特徴とする光コネクタ。
【請求項2】
前記自己形成導波路材料が、前記樹脂硬化光が前記光ファイバ側と前記ポリマ導波路側との両側から照射されるように配置される
ことを特徴とする請求項1に記載の光コネクタ。
【請求項3】
前記前段ブロックと前記後段ブロックとの少なくともいずれか一方に、自己形成導波路保持部を備える
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光コネクタ。
【請求項4】
前記光ファイバと前記ポリマ導波路がそれぞれの光軸が一致しないように配置された場合、前記自己形成導波路が、前記光ファイバと前記ポリマ導波路との間で湾曲する
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の光コネクタ。
【請求項5】
前記前段ブロックの前記自己形成導波路材料と接する面が斜め加工される
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の光コネクタ。
【請求項6】
前記光ファイバがレンズ付き光ファイバである
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の光コネクタ。
【請求項7】
光コネクタの前段ブロックと後段ブロックとを接続する光コネクタの製造方法であって、
前記前段ブロックの接続面と前記後段ブロックの接続面を対向させて配置するステップと、
前記前段ブロックと前記後段ブロックの間の自己形成導波路材料保持部に、自己形成導波路形成材料を注入するステップと、
前記前段ブロックに搭載される光ファイバと、前記後段ブロックに搭載されるポリマ導波路の導波路から樹脂硬化光を出射するステップと、
前記自己形成導波路形成材料に前記樹脂硬化光を照射して光硬化させ、自己形成導波路を形成するステップと、
前記自己形成導波路の周囲にクラッド部を形成するステップと
を備える光コネクタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光ファイバや光導波路などを接続する光コネクタおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
ポリマ導波路や光ファイバテープ心線等の光導波路を光ファイバ等の光部品に接続する光導波路用コネクタとして、MT(mechanically Transferable)型光コネクタ(以下、「MTコネクタ」という。)が用いられている。MTコネクタ同士を接続する場合、それぞれのMTコネクタの光ファイバのコア同士がガイドピンにより位置合わせすることができ、シングルモード接続に必要なサブミクロンレベルでの高精度で接続できる。
【0003】
非特許文献1に、光ファイバとポリマ導波路とを接続する光コネクタが開示されている。この光コネクタ20では、
図4Aに示すように、MTコネクタ21とPMTコネクタ22が、ガイドピン24を介して接続され、クランプバネ28で固定される。ここで、PMTコネクタ22は、PMTフェルールにポリマ導波路が固定され、その端面が研磨され他の光コネクタとの接続面になるよう構成される。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
【非特許文献1】Y. Hatakeyama et.al.,"PMT connectors for multi-channel film waveguides", Proc. of SPIE Vol. 7213 72130V-1 - V-9.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、PMTコネクタ22は、
図4Bに示すように、光ファイバが固定されているMTコネクタ21とPMTコネクタ22を接続する際に、光ファイバが固定されているMTコネクタ21の光ファイバ26とPMTコネクタ22のポリマ導波路の導波路27間での光軸ずれが生じやすく、光軸合わせが困難であった。
【0006】
詳細には、MTコネクタ21に搭載される光ファイバ26では、コアの中心と、クラッドの外形(外周)すなわち光ファイバの外形との間の精度が1μm未満(サブミクロン)であり、シングルモード接続に必要となる精度を有するので、コアの位置を光ファイバの外形(寸法精度)により決めることができる。
【0007】
一方、PMTコネクタ22に搭載されるポリマ導波路の導波路27の位置の精度は、PMTコネクタ22におけるポリマ導波路27の固定部の寸法精度(公差)により決まる。ここで、固定部の寸法精度(公差)が10μm程度なので、ポリマ導波路の導波路27の位置をポリマ導波路固定部の外形(寸法精度)により高精度で決めることは困難である。
【0008】
その結果、PMTコネクタ22にポリマ導波路を組み込む場合に、シングルモード接続に必要な高精度で、MTコネクタ21の光ファイバとPMTコネクタ22のポリマ導波路を接続することは困難である。
【0009】
そこで、高精度でMTコネクタの光ファイバとPMTコネクタのポリマ導波路を接続するために、PMTコネクタにポリマ導波路位置決め機構(スリットなど)を形成するなど特別な加工を行う必要があり、時間、コストを要するので問題があった。
【課題を解決するための手段】
【0010】
上述したような課題を解決するために、本発明に係る光コネクタは、光ファイバが搭載される前段ブロックと、ポリマ導波路が搭載される後段ブロックと、前記前段ブロックと前記後段ブロックの間に配置され、前記光ファイバと、前記ポリマ導波路を接続する自己形成導波路と、前記自己形成導波路の周囲に形成されるクラッド部とを備え、前記自己形成導波路が、前記前段ブロックと前記後段ブロックの間に配置される自己形成導波路材料において、樹脂硬化光の照射により硬化される部分であることを特徴とする。
【0011】
また、本発明に係る光コネクタは、前記自己形成導波路材料が、前記樹脂硬化光が前記光ファイバ側と前記ポリマ導波路側との両側から照射されるように配置されてもよい。
【0012】
また、本発明に係る光コネクタは、前記前段ブロックと前記後段ブロックとの少なくともいずれか一方に、自己形成導波路保持部を備えてもよい。
【0013】
また、本発明に係る光コネクタは、前記光ファイバと前記ポリマ導波路がそれぞれの光軸が一致しないように配置された場合、前記自己形成導波路が、前記光ファイバと前記ポリマ導波路との間で湾曲してもよい。
【0014】
また、本発明に係る光コネクタは、前記前段ブロックの前記自己形成導波路材料と接する面が斜め加工されてもよい。
【0015】
また、本発明に係る光コネクタは、前記光ファイバがレンズ付き光ファイバであってもよい。
【0016】
また、本発明に係る光コネクタの製造方法は、光コネクタの前段ブロックと後段ブロックとを接続する光コネクタの製造方法であって、前記前段ブロックの接続面と前記後段ブロックの接続面を対向させて配置するステップと、前記前段ブロックと前記後段ブロックの間の自己形成導波路材料保持部に、自己形成導波路形成材料を注入するステップと、前記前段ブロックに搭載される光ファイバと、前記後段ブロックに搭載されるポリマ導波路の導波路から樹脂硬化光を出射するステップと、前記自己形成導波路形成材料に前記樹脂硬化光を照射して光硬化させ、自己形成導波路を形成するステップと、前記自己形成導波路の周囲にクラッド部を形成するステップとを備える。
【発明の効果】
【0017】
本発明によれば、ポリマ導波路が低損失、高精度で簡易に接続される光コネクタおよびその製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【
図1A】
図1Aは、本発明の第1の実施の形態に係る光コネクタの鳥瞰透視図である。
【
図1B】
図1Bは、本発明の第1の実施の形態に係る光コネクタの鳥瞰上面図である。
【
図1C】
図1Cは、本発明の第1の実施の形態に係る光コネクタのIC-IC’断面図である。
【
図2】
図2は、本発明の第1の実施の形態に係る光コネクタの接続前の鳥瞰透視図である。
【
図3】
図3は、本発明の第1の実施の形態に係る光コネクタの製造方法を説明するための図である。
【
図4B】
図4Bは、従来の光コネクタのIVC-IVC’断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
<第1の実施の形態>
本発明の第1の実施の形態に係る光コネクタについて
図1A~
図2を参照して説明する。
図1A、B、Cそれぞれに、本実施の形態に係る光コネクタ10の鳥瞰透視図、上面透視図、IC-IC’断面図を示す。また、
図2に、光コネクタ10の接続前の状態を示す。
【0020】
<光コネクタの構成>
光コネクタ10は、前段ブロック11と、後段ブロック12と、ポリマ導波路13と、自己形成導波路材料保持部14と自己形成導波路部15とを備える。
【0021】
前段ブロック11は、単数もしくは複数の光ファイバ16が搭載され、他の光コネクタと接続される端面が研磨されている。他の光コネクタと接続される端面と反対側の面は0°もしくは斜めに研磨されてもよいし、光ファイバの0°もしくは斜めの劈開面などでもよい。ここで、前段ブロック11における斜めに研磨される角度および光ファイバの斜めの劈開面の角度は、通常8°程度であり、10°以内であることが望ましい。前段ブロック11は、サブミクロンの精度で、搭載される光ファイバ16を他コネクタの光ファイバと低損失で接続させる。
【0022】
後段ブロック12は、ポリマ導波路13が固定されるポリマ導波路固定部を有する。ポリマ導波路13は後段ブロック12に10μm程度の精度で固定される。ポリマ導波路13の端面は、例えばダイシング加工などにより形成される。ポリマ導波路13は、例えば接着剤などで固定されるが、ポリマ導波路コア部と接着剤硬化後の屈折率が近いものを使用すれば、ポリマ導波路13の端面部に接着剤が回り込んでもよい。
【0023】
また、後段ブロック12は、
図2に示すように、自己形成導波路材料保持部14を有する。自己形成導波路材料保持部14は、後段ブロック12において前段ブロック11との接続面に形成される凹部であり、側壁と底面を有する。自己形成導波路の形成において自己形成導波路材料保持部14に自己形成導波路材料(例えば光硬化性樹脂)が注入される(後述)。
【0024】
本実施の形態では、後段ブロック12に自己形成導波路材料保持部14を形成したが、前段ブロック11に形成してもよく、前段ブロック11と後段ブロック12の両方に形成してもよい。
【0025】
自己形成導波路部15は、自己形成導波路18と、自己形成導波路18の周囲のクラッド部19とを有し、前段ブロック11と、後段ブロック12との間に形成される。
【0026】
自己形成導波路18は、光硬化性樹脂において樹脂硬化光が照射され屈折率が変化した部分に形成される。樹脂硬化光は、光硬化性樹脂を硬化するための光である。自己形成導波路18は、
図1Cに示すように、前段ブロック11の光ファイバ16と、後段ブロックのポリマ導波路の導波路17とを接続する。
【0027】
クラッド部19は、自己形成導波路18を覆うように、前段ブロック11と後段ブロック12との間に、例えば、クラッド剤が塗布され形成される。その結果、自己形成導波路18の周囲にクラッド部19が配置される。
【0028】
本実施の形態では、自己形成導波路18の材料(以下、「自己形成導波路材料」という。)としては光硬化性樹脂を用いる例を示したが、光照射によって屈折率が変化する材料であればよい。
【0029】
このように、前段ブロック11の光ファイバ16と、後段ブロックのポリマ導波路の導波路17とを、自己形成導波路18によって低損失で接続できる。
【0030】
<光コネクタの製造方法>
本実施の形態に係る光コネクタ10の製造方法を、
図3を参照して説明する。
図3は、光コネクタ10の製造工程を示す光コネクタの側方断面図である。
【0031】
初めに、前段ブロック11の接続面と後段ブロック12の接続面を対向させ接続させるように配置する。ここで、自己形成導波路材料保持部14が、前段ブロック11と後段ブロック12との間に配置される(ステップS1)。
【0032】
次に、前段ブロック11と後段ブロック12の間の自己形成導波路材料保持部14に、ゲル状もしくは液体状の自己形成導波路形成材料、例えば光硬化性樹脂29を注入(配置)する(ステップS2)。
【0033】
次に、前段ブロック11の光ファイバ16と、後段ブロック12のポリマ導波路の導波路17から樹脂硬化光30を出射する(ステップS3)。
【0034】
これにより、光硬化性樹脂29の両側から樹脂硬化光30を照射して光硬化させ、自己形成導波路18を形成する(ステップS4)。
【0035】
ここで、光硬化性樹脂29は、樹脂硬化光30が照射される部分から順次硬化する。その結果、前段ブロック11の光ファイバ16と、後段ブロック12のポリマ導波路の導波路17との両方から樹脂硬化光30が出射される場合、例えば、光ファイバ16およびポリマ導波路の導波路17の光軸方向と垂直方向に光軸ずれが生じても、その光軸ずれを補償するような湾曲する自己形成導波路18が形成される。
【0036】
このように、光ファイバ16とポリマ導波路17のそれぞれの光軸が一致しない場合、すなわち光軸ずれがある場合でも、低損失な光接続を実現することが可能である。
【0037】
次に、エタノールなどの洗浄液によって、未硬化の光硬化性樹脂を除去する。
【0038】
最後に、クラッド剤を自己形成導波路18の周囲に注入することで、自己形成導波路のクラッド部19を形成する(ステップS5)。
【0039】
このように、本実施の形態に係る光コネクタ10は、前段ブロック11と後段ブロック12の間に、自己形成導波路部15を形成することにより製造できる。
【0040】
本実施の形態においては、クラッド部を形成する際に、未硬化の光硬化性樹脂を洗い流した後にクラッド材を注入する例を示したが、これに限らない。光硬化性樹脂に光照射して自己形成導波路18を形成した後に、引き続き熱処理を施し、自己形成導波路周囲の未硬化の光硬化性樹脂を硬化させてクラッド部としてもよいし、自己形成導波路のコア部を硬化させた光と異なる波長の樹脂硬化光を照射し光硬化性樹脂を硬化させクラッド部としてもよい。
【0041】
本実施に係る光コネクタによれば、高い寸法精度(サブミクロンレベル)を有し低損失のシングルモード接続が可能な前段ブロックと、低い寸法精度(10μm程度)の後段ブロックとの寸法精度ギャップを自己形成導波路で補正(補償)することにより、前段ブロックと後段ブロックが接続する光コネクタにおいて低損失のシングルモード接続を実現できる。
【0042】
また、光コネクタの内部に自己形成導波路材料保持部を有するため、容易に自己形成導波路の形成し、自己形成導波路コアに対するクラッドを形成することができる。
【0043】
また、自己形成導波路材料保持部により、自己形成導波路部に光コネクタ接続に要する外力が加わらないので、光コネクタとしての信頼性を確保できる。
【0044】
また、本実施の形態に係る光コネクタによれば、ポリマ導波路に位置決め機構(スリット)などの特殊加工を施すことなく、簡易に低損失のシングルモード接続の光コネクタを実現できる。
【0045】
また、本実施の形態に係る光コネクタによれば、前段ブロックの光ファイバと自己形成導波路が斜め接続することにより低反射での接続を実現できる。
【0046】
<変形例>
第1の実施の形態の変形例に係る光コネクタでは、前段ブロックに搭載される光ファイバにレンズ付きのファイバを用いる。
【0047】
通常の光ファイバを用いる場合には、光コネクタを他の光コネクタと接続するときに、ファイバ光の結合効率を維持するために、バネ等の弾性機構を用いて、それぞれの光コネクタを押圧して密着させる必要がある。
【0048】
本変形例に係る光コネクタによれば、レンズによりファイバ光を結合でき、それぞれの光コネクタを押圧して密着させなくても結合効率を維持できる。したがって、バネ等の弾性機構が不要となり、簡易な構成で他のコネクタと低損失で接続できる。
【0049】
本発明の実施の形態では、光コネクタの構成、製造方法などにおいて、各構成部の構造、寸法、材料等の一例を示したが、これに限らない。光コネクタの機能を発揮し効果を奏するものであればよい。
【産業上の利用可能性】
【0050】
本発明は、光通信等において光導波路を光部品に接続する光コネクタに適用することができる。
【符号の説明】
【0051】
10 光コネクタ
11 前段ブロック
12 後段ブロック
13 ポリマ導波路
14 自己形成導波路材料保持部
15 自己形成導波路部
16 光ファイバコア
17 ポリマ導波路コア
18 自己形成導波路
19 クラッド部