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特開 2022-178875出願番号 特願 2021-85977
成膜装置の制御装置及び制御方法
出願人 東京エレクトロン株式会社（識別番号 219967）
2026年 特許公開件数ランキング 37位 492件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 25位 528件（※）
公報発行日 2022年12月2
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2022-178875 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】回転テーブルに載置された基板を自公転させながら成膜させる際のパラメータの設定を容易にする。
【解決手段】真空容器内に配置され、テーブル面の中心部軸周りに回転させ、これにより前記テーブル面の一部に設けられた載置面の上の基板を公転させるように構成された回転テーブルと、前記載置面の中心部軸周りに回転させ、これにより前記載置面の上の基板を自転させるように構成された載置部と、前記真空容器内にガスを供給するガス供給部と、を有する成膜装置の制御装置であって、前記制御装置は、前記基板の自転を制御する第１パラメータを設定する設定画面を表示させる表示制御部と、設定された前記第１パラメータに基づき前記基板の自転を制御しながら前記基板に膜を形成するプロセス実行部と、を有する制御装置が提供される。
【選択図】図９
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
一の側面によれば、回転テーブルに載置された基板を自公転させながら成膜させる際のパラメータの設定を容易にできる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
選択図 図9出願人が指定した本件の代表的な図
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