(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022180307
(43)【公開日】2022-12-06
(54)【発明の名称】セルロース系樹脂およびそれを用いた光学フィルム
(51)【国際特許分類】
C08B 11/02 20060101AFI20221129BHJP
G02B 5/30 20060101ALI20221129BHJP
C08L 1/08 20060101ALI20221129BHJP
C08L 33/00 20060101ALI20221129BHJP
C08J 5/18 20060101ALI20221129BHJP
C08B 3/18 20060101ALI20221129BHJP
【ＦＩ】
C08B11/02
G02B5/30
C08L1/08
C08L33/00
C08J5/18 CEP
C08B3/18
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022074177
(22)【出願日】2022-04-28
(31)【優先権主張番号】P 2021087252
(32)【優先日】2021-05-24
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000003300
【氏名又は名称】東ソー株式会社
(72)【発明者】
【氏名】伊藤 正泰
(72)【発明者】
【氏名】小峯 拓也
(72)【発明者】
【氏名】坂下 竜一
【テーマコード（参考）】
2H149
4C090
4F071
4J002
【Ｆターム（参考）】
2H149AA02
2H149AA18
2H149AB06
2H149AB12
2H149AB13
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2H149EA02
2H149FA02Y
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2H149FD07
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2H149FD12
4C090AA08
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4F071AA09
4F071AA31X
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4F071AH19
4F071BA02
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4F071BB07
4F071BC01
4J002AB01W
4J002AB03W
4J002BB21X
4J002BG02X
4J002BJ00X
4J002GP00
(57)【要約】
【課題】 位相差特性および波長分散特性に優れた樹脂組成物を用いたフィルムであって、高温高湿下において白化のない光学フィルムを提供する。
【解決手段】 塩の含有量が０．０３％以下であるセルロ－ス系樹脂。
【選択図】 なし
【解決手段】 塩の含有量が０．０３％以下であるセルロ－ス系樹脂。
【選択図】 なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
塩の含有量が０．０３％以下であるセルロ－ス系樹脂。
【請求項2】
下記式（１）で示される構成単位を有する請求項１に記載のセルロース系樹脂。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１～１２の炭化水素基もしくはアシル基を示す。）
【化1】
【請求項3】
請求項１または２に記載のセルロース系樹脂を５０～９９重量％と、
下記式（２）で示されるケイ皮酸エステル残基単位、下記式（３）で示されるフマル酸エステル残基単位、下記式（４）で示される残基単位からなる群の少なくとも１種の残基単位を有する負の複屈折性を示すエステル系樹脂を１～５０重量％含む組成物。
（式中、Ｒ４は水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｒ５～Ｒ９はそれぞれ独立して水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミド基、アミノ基、水酸基、炭素数１～１２のアルコキシ基、または炭素数１～１２のアルキル基からなる群の１種を示す。Ｙは水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、チオール基からなる群の１種を示す。）
（式中、Ｒ１０、Ｒ１１はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
（式中、Ｒ１２はヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を１つ以上含む５員環複素環残基または６員環複素環残基（前記５員環複素環残基および前記６員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい）を示す。）
下記式（２）で示されるケイ皮酸エステル残基単位、下記式（３）で示されるフマル酸エステル残基単位、下記式（４）で示される残基単位からなる群の少なくとも１種の残基単位を有する負の複屈折性を示すエステル系樹脂を１～５０重量％含む組成物。
【化2】
【化3】
【化4】
【請求項4】
請求項１に記載のセルロース系樹脂を含む光学フィルム。
【請求項5】
請求項３に記載の組成物を含む光学フィルム。
【請求項6】
６５℃相対湿度９０％環境下５００時間後におけるヘーズの増加率が１．０％以下であり、かつ、全光線透過率の低下が２％未満である請求項４又は５に記載の光学フィルム。
【請求項7】
下記式（Ａ）で示される位相差（Ｒｅ）が３０～３００ｎｍで、下記式（Ｂ）で示されるＮｚ係数が０．３～１．３であり、かつ、４５０ｎｍにおける位相差と５５０ｎｍにおける位相差の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０５である請求項４または５に記載の光学フィルム。
Ｒｅ＝（ｎｙ－ｎｘ）×ｄ （Ａ）
Ｎｚ＝（ｎｙ－ｎｚ）／（ｎｙ－ｎｘ） （Ｂ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
Ｒｅ＝（ｎｙ－ｎｘ）×ｄ （Ａ）
Ｎｚ＝（ｎｙ－ｎｚ）／（ｎｙ－ｎｘ） （Ｂ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
【請求項8】
請求項４または５に記載の光学フィルムを備えた偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、セルロース系樹脂およびそれを用いた光学フィルムに関するものである。より詳しくは、位相差特性および波長分散特性並びに耐湿熱性に優れた液晶ディスプレイおよび有機ＥＬ用の光学フィルムに関する。
【背景技術】
【0002】
近年、種々のディスプレイにおいて、表示性能や耐久性に対する要求がより高くなり、応答速度の向上や、表示画像に対して斜め方向から観察した場合のコントラストやカラーバランスといった視野角をより広範囲で補償することが課題となっている。これらの課題を解決すべく、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）方式、またはＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｃｈｉｎｇ）方式の表示素子が開発され、それぞれの液晶方式に応じた、様々な位相差位相差発現性を有する光学補償フィルム材料が要求されている。
【0003】
従来の光学フィルムとしては、セルロース系樹脂、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンなどの延伸フィルムが用いられている。特にセルロースアシレートなどのセルロース系樹脂からなる延伸フィルムは、その透明性、強靭性、プロセス上必要である透湿性や低い波長分散性から、液晶表示装置向けの光学補償フィルムとして広く利用されている。
【0004】
しかしながら、セルロ－ス系樹脂からなる光学フィルムはいくつかの課題がある。例えば、セルロ－ス系樹脂フィルムは延伸条件を調整することで各種ディスプレイにあわせた位相差値を持つ光学補償フィルムに加工されるが、セルロ－ス系樹脂フィルムの一軸または二軸延伸により得られるフィルムの三次元屈折率は、ｎｙ≧ｎｘ＞ｎｚであり、それ以外の３次元屈折率、例えば、ｎｙ＞ｎｚ＞ｎｘや、ｎｙ＝ｎｚ＞ｎｘなどの３次元屈折率を有する光学補償フィルムを製造するためには、フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかけるなど特殊な延伸方法が必要であり屈折率（位相差値）の制御も困難である（例えば、特許文献１～３参照）。ここでｎｘはフィルム面内の進相軸方向（最も屈折率の小さい方向）の屈折率、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向（最も屈折率の大きい方向）の屈折率、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示す。
【0005】
また、セルロ－ス系樹脂フィルムは一般に溶剤キャスト法により製造されるが、キャスト法により成膜したセルロ－ス系樹脂フィルムはフィルム厚み方向に４０ｎｍ程度の面外位相差（Ｒｔｈ）を有するため、ＩＰＳモ－ドの液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどではカラ－シフトが起こるなどの問題がある。ここで面外位相差（Ｒｔｈ）は以下の式で示される位相差値である。
【0006】
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルム（光学補償フィルム）が提案されている（例えば、特許文献４参照）。
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルム（光学補償フィルム）が提案されている（例えば、特許文献４参照）。
【0007】
また、フマル酸エステル系樹脂からなる延伸フィルムの３次元屈折率は、ｎｚ＞ｎｙ＞ｎｘであり、上記３次元屈折率を示す光学フィルムを得るためには他の光学フィルム等との積層等が必要である。
【0008】
そこで、上記３次元屈折率を示す光学補償フィルムとして、樹脂組成物およびそれを用いた光学フィルムが提案されている（例えば、特許文献５～特許文献７参照）。
【0009】
ここで、一般に光学フィルムは反射型液晶表示装置、タッチパネルや有機ＥＬの反射防止層としても用いられるものであり、該用途では、特に長波長域ほど位相差が大きい光学補償フィルム（以下、「逆波長分散フィルム」という）が求められる。例えば、有機ＥＬ用円偏光板の光学フィルムとして逆波長分散フィルムが用いられる場合、位相差は測定波長λの１／４程度が好ましく、４５０ｎｍにおける位相差と５５０ｎｍにおける位相差の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８１に近いことが好ましい。そして、表示装置の薄型化を鑑みた場合、使用される逆波長分散フィルムも薄いことが求められる。上記のような要求特性に対し、種々の光学フィルムが開発されている。
【0010】
上記３次元屈折率を示し、かつ、逆波長分散フィルムとして用いられる位相差フィルム（光学補償フィルム）としてセルロース系樹脂およびフマル酸エステル重合体を含有する位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献８参照）。しかしながら、特許文献８に記載の位相差フィルムは、得られるフィルムの高温高湿環境に対する耐久性に課題を有し、より高温高湿下において安定性の高い光学フィルムが求められている。
【0011】
また、セルロース系樹脂はパルプやコットンリンターを原料に製造されており、原料由来のセルロース繊維や製造過程での不純物等がフィルムの透明性等の品質に影響を与えることが知られている（例えば、特許文献９参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0012】
【特許文献1】特許２８１８９８３号公報
【特許文献2】特開平５－２９７２２３号公報
【特許文献3】特開平５－３２３１２０号公報
【特許文献4】特開２００８－６４８１７号公報
【特許文献5】特開２０１３－２８７４１号公報
【特許文献6】特開２０１４－１２５６０９号公報
【特許文献7】特開２０１４－１２５６１０号公報
【特許文献8】特開２０１５－１５７９２８号公報
【特許文献9】特開２００２－４０２４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0013】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、フィルムとした際に位相差特性および波長分散特性に優れた樹脂であって、該樹脂をフィルムとすると高温高湿下においても白化のない（耐熱耐湿試験後のヘーズの増加が小さい）光学フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0014】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、塩の含有量の少ないセルロース系樹脂をフィルムとすると高温高湿下においても白化を抑制することができ、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。
【0015】
すなわち、本発明は、塩の含有量が０．０３％以下であるセルロ－ス系樹脂に関するものである。
【発明の効果】
【0016】
本発明の樹脂およびそれを用いたフィルムは、高温高湿下においても白化を抑制できることから、偏光板、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等に好適に用いることができ、優れた表示性能および高温高湿下における高い安定性を発揮することができる。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1】エチルセルロースのフィルム密度と分子量の関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0018】
以下に、本発明の内容について詳細に説明する。
【0019】
本発明のセルロース系樹脂は、塩の含有量が０．０３％以下であり、好ましくは０．０２０％以下、特に好ましくは０．０１５％以下である。
【0020】
本発明のセルロース系樹脂は、下記式（１）で示される構成単位を有することが好ましい。
【0021】
【化1】
【0022】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１～１２の炭化水素基もしくはアシル基を示す。）
本発明のセルロ－ス系樹脂としては、例えば、セルロースエーテル、セルロースエーテルエステル等が挙げられる。そして、本発明のセルロース系樹脂は、これらのセルロ－ス系樹脂を１種であってもよく、２種以上含有する組成物であってもよい。
本発明のセルロ－ス系樹脂としては、例えば、セルロースエーテル、セルロースエーテルエステル等が挙げられる。そして、本発明のセルロース系樹脂は、これらのセルロ－ス系樹脂を１種であってもよく、２種以上含有する組成物であってもよい。
【0023】
本発明のセルロ－ス系樹脂は、耐湿熱性に優れ、機械特性や製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が５×１０３～３×１０５であることが好ましく、１×１０４～２．５×１０５が特に好ましい。湿熱試験後の白化の分子量依存性について、分子量の増加に伴い密度が低下する傾向があり、分子量増加により低温域での自由体積が増加、凝集力が低下し、これにより高分子量ほど湿熱試験後の白化が促進されると推測している。エチルセルロースのフィルム密度と分子量の関係を図１に示す。
【0024】
本発明のセルロ－ス系樹脂は、後述する負の複屈折性を示すエステル系樹脂との相溶性に優れ、かつ面内位相差Ｒｅが大きく、更に延伸加工性に優れるため、セルロースエーテルが好ましい。
【0025】
以下、本発明のセルロ－ス系樹脂として好ましいセルロースエーテルについて説明する。
【0026】
セルロースエーテルは、β－グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコース単位の２位、３位および６位の水酸基の一部または全部をエーテル化したポリマーである。本発明のセルロースエーテルとしては、例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース等のアルキルセルロース；ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース；ベンジルセルロース、トリチルセルロース等のアラルキルセルロース；シアノエチルセルロース等のシアノアルキルセルロース；カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース等のカルボキシアルキルセルロース；カルボキシメチルメチルセルロース、カルボキシメチルエチルセルロース等のカルボキシアルキルアルキルセルロース；アミノエチルセルロース等のアミノアルキルセルロース等が挙げられる。
【0027】
該セルロースエーテルにおけるセルロースの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度（エーテル化度）は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロースの水酸基がエーテル化している割合（１００％のエーテル化は置換度３）を意味し、溶解性、相溶性、延伸加工性の点から、エ－テル基の全置換度ＤＳは、好ましくは１．５～３．０（１．５≦ＤＳ≦３．０）であり、さらに好ましくは１．８～２．８である。
【0028】
本発明のセルロース系樹脂がセルロースエーテルである場合、前記式（１）におけるＲ１～Ｒ３は、水素原子または炭素数１～１２の炭化水素基である。セルロースエーテルは、溶解性、相溶性の点から、炭素数１～１２の炭化水素基を有することが好ましい。炭素数１～１２の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デカニル基、ドデカニル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、フェノニル基、ベンジル基、ナフチル基等を挙げることができる。これらの中でも、溶解性、相溶性の点から、炭素数１～５のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基が好ましい。本発明で用いるセルロ－ス系ポリマーのエーテル基は１種類だけでもよいし、２種類以上のエーテル基を有していてもよい。また、エーテル基の他にエステル基を有していてもよい。
【0029】
セルロースエーテルは一般に、木材又はコットンより得たセルロースパルプをアルカリ分解し、アルカリ分解したセルロ－スパルプをエーテル化することで合成される。アルカリとしては、リチウム，カリウム，ナトリウムなどのアルカリ金属の水酸化物やアンモニアなどが利用できる。前記アルカリ類は一般に、水溶液として使用される。そして、アルカリ性にされたセルロ－スパルプは、セルロースエーテルの種類に応じて用いられるエーテル化剤と接触されることによりエーテル化されるものである。エーテル化剤としては、例えば、塩化メチル、塩化エチル等のハロゲン化アルキル；ベンジルクロライド、トリチルクロライド等のハロゲン化アラルキル；モノクロロ酢酸、モノクロロプロピオン酸等のハロカルボン酸；エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイド等が挙げられ、これらのエ－テル化剤は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【0030】
なお、セルロースエーテルは一般にエーテル化反応終了後、粘度調整や中和処理のため塩化水素、臭化水素、塩酸、及び硫酸等で処理される。この反応、中和工程を経たセルロースエーテルは副生成物である塩を多く含むため、反応後に樹脂を水等で洗浄することで樹脂に含有する塩を低減しセルロースエーテルを得る。
【0031】
例えば、エチルセルロースを製造するためのアルカリとして水酸化ナトリウム、エーテル化剤として塩化エチル、粘度調整や中和処理のため塩化水素を用いた場合は副生成物である塩化ナトリウムを含む。
【0032】
本発明のセルロース系樹脂は、β－グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコース単位の２位、３位および６位の水酸基の一部または全部をアシル基によりエステル化したポリマーであってもよく、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等が挙げられる。
【0033】
アシル化度は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度３）を意味し、アシル基の全置換度ＤＳは、好ましくは１．５≦ＤＳ≦３．０であり、さらに好ましくは１．８～２．８である。セルロース系樹脂は、炭素数２～１２のアシル基を置換基として有することが好ましい。炭素数２～１２のアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、イソブタノイル基、ｔ－ブチリル基、シクロヘキサンカルボニル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基等を挙げることができる。これらの中でも、炭素数２～５のアシル基であるアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンチル基が特に好ましい。本発明で用いるセルロース系樹脂に用いられるアシル基は１種類だけでもよいし、２種類以上のアシル基が使用されていてもよい。
【0034】
セルロース系樹脂のアシル化において、アシル化剤としては、酸無水物や酸クロライドを用いた場合、反応溶媒である有機溶媒としては、有機酸、例えば、酢酸、メチレンクロライド等が使用される。触媒としては、アシル化剤が酸無水物である場合には、硫酸のようなプロトン性触媒が好ましく用いられ、アシル化剤が酸クロライド（例えば、プロピオニルクロライド）である場合には、塩基性化合物が好ましく用いられる。最も一般的なセルロースの混合脂肪酸エステルの工業的合成方法は、セルロースをアセチル基および他のアシル基に対応する脂肪酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸等）またはそれらの酸無水物を含む混合有機酸成分でアシル化する方法である。
【0035】
セルロースエステルの製造方法は、一般に、まずセルロース材料であるパルプなどを解砕し、硫酸触媒を含むか含まない酢酸、プロピオン酸、酪酸等の有機酸を添加する前処理工程を経て、酢酸、プロピオン酸、酪酸等の有機酸、無水酢酸、硫酸触媒を添加してアシル化をする。アシル化反応後、酢酸マグネシウム水溶液などの中和剤を添加し、加水分解させる。その後多量の水、希酢酸水溶液等を添加してセルロースエステルを沈殿、洗浄、乾燥させてセルロースエステルを得る。
【0036】
本発明における塩とは、陰イオンと陽イオンが電気的に結合して中性の有効荷電を有するイオン性物質であれば特に限定はされないが、例えばナトリウム、カリウムおよびセシウム塩等の金属塩；カルシウムおよびマグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩；トリエチルアミン、グアニジンおよびＮ－置換グアニジン塩、アセトアミジンおよびＮ－置換アセトアミジン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、およびＮ，Ｎ’－ジベンジルエチレンジアミン塩、イミダゾール塩等の有機アミン塩；塩酸塩、臭化水素塩、硫酸塩、リン酸塩などの無機酸塩；トリフルオロ酢酸塩およびマレイン酸塩等の有機酸塩；メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ－トルエンスルホン酸塩、カンファースルホン酸塩およびナフタレンスルホン酸塩等のスルホン酸塩；アルギニン酸塩、アラニン酸塩、アスパラギン酸塩およびグルタミン酸塩等のアミノ酸塩；ならびにグルクロン酸塩およびガラクチュロン酸塩などの炭化水素塩が挙げられる。ナトリウム塩、アンモニウム塩、カリウム塩としては、例えば、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム、および塩化カリウム；酢酸ナトリウム、酢酸アンモニウム、および酢酸カリウム；酪酸ナトリウム、酪酸アンモニウム、および酪酸カリウム；クエン酸ナトリウム、クエン酸アンモニウム、およびクエン酸カリウム；リン酸ナトリウム、リン酸アンモニウム、およびリン酸カリウム；フッ化ナトリウム、フッ化アンモニウム、およびフッ化カリウム；臭化ナトリウム、臭化アンモニウム、および臭化カリウム；ならびにヨウ化ナトリウム、ヨウ化アンモニウム、およびヨウ化カリウム）等が挙げられる。塩は塩化ナトリウム、塩化アンモニウム、塩化カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸アンモニウム、酢酸カリウム、酪酸ナトリウムおよび酪酸カリウムからなる群の１種であることが好ましい。これら塩はセルロース系樹脂中に含まれる合計量が所定量以下であれば単独でも２種以上含まれていても良い。
【0037】
次に、本発明の一つの態様である樹脂組成物について説明する。
【0038】
本発明は、前記セルロース系樹脂を５０～９９重量％と、下記式（２）で示されるケイ皮酸エステル残基単位、下記式（３）で示されるフマル酸エステル残基単位、下記式（４）で示される残基単位を有する負の複屈折性を示すエステル系樹脂を１～５０重量％含む組成物であり、好ましくは前記セルロース系樹脂を６０～９０重量％と、下記式（２）で示されるケイ皮酸エステル残基単位、下記式（３）で示されるフマル酸エステル残基単位、下記式（４）で示される残基単位を有する負の複屈折性を示すエステル系樹脂を１０～４０重量％含む組成物である。
【0039】
【化2】
【0040】
（式中、Ｒ４は水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｒ５～Ｒ９は水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミド基、アミノ基、水酸基、炭素数１～１２のアルキル基または炭素数１～１２のアルコキシ基からなる群の１種を示す。Ｙは水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、チオール基からなる群の１種を示す。）
【0041】
【化3】
【0042】
（式中、Ｒ１０、Ｒ１１はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
【0043】
【化4】
【0044】
（式中、Ｒ１２はヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を１つ以上含む５員環複素環残基または６員環複素環残基（前記５員環複素環残基および前記６員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい）を示す。）
前記エステル系樹脂は、負の複屈折性を示す。これは前記式（２）、前記式（３）、前記式（４）からなる群の１種で示される残基単位を含むことに起因する。
前記エステル系樹脂は、負の複屈折性を示す。これは前記式（２）、前記式（３）、前記式（４）からなる群の１種で示される残基単位を含むことに起因する。
【0045】
ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。
【0046】
負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向の垂直方向が進相軸方向となるものである。つまり、一軸延伸すると延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向の垂直方向）なるものを正の複屈折を示す樹脂、一軸延伸すると延伸軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向）なるものを負の複屈折を示す樹脂という。そして、エステル系樹脂における負の複屈折性の発現性が大きいことによりフィルムの薄膜化が図れる。
【0047】
式（２）におけるＲ４は、水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示す。炭素数１～１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロキル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、エチルヘキシル基等が挙げられる。
【0048】
式（２）におけるＲ５～Ｒ９はそれぞれ独立して、水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミノ基、水酸基、炭素数１～１２のアルキル基または炭素数１～１２のアルコキシ基からなる群の１種を示す。
【0049】
式（２）におけるＹとしては、水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、チオール基からなる群の１種を示す。
【0050】
具体的な式（２）で表される残基単位としては、例えば、ケイ皮酸メチル残基、ケイ皮酸エチル残基、ケイ皮酸イソプロピル残基、ケイ皮酸ｎ－プロピル残基、ケイ皮酸ｎ－ブチル残基、ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、ケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、ケイ皮酸２－エチルヘキシル残基等のケイ皮酸エステル残基単位；ケイ皮酸残基単位；４－メトキシケイ皮酸メチル残基、４－メトキシケイ皮酸エチル残基、４－メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－メトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－メトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－メトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－メトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－エトキシケイ皮酸メチル残基、４－エトキシケイ皮酸エチル残基、４－エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－エトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－エトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－エトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－エトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸メチル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸エチル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基等の４－アルコキシケイ皮酸エステル残基単位；４－アルコキシケイ皮酸残基単位；３－メトキシケイ皮酸メチル残基、３－メトキシケイ皮酸エチル残基、３－メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－メトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－メトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－メトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－メトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、３－エトキシケイ皮酸メチル残基、３－エトキシケイ皮酸エチル残基、３－エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－エトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－エトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－エトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－エトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸メチル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸エチル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸３－エチルヘキシル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基等の３－アルコキシケイ皮酸残基エステル単位；３－アルコキシケイ皮酸残基単位；２－メトキシケイ皮酸メチル残基、２－メトキシケイ皮酸エチル残基、２－メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－メトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－メトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－メトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－メトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－エトキシケイ皮酸メチル残基、２－エトキシケイ皮酸エチル残基、２－エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－エトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－エトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－エトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－エトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸メチル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸エチル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基から選ばれるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位等の２－アルコキシケイ皮酸エステル残基単位；２－アルコキシケイ皮酸残基単位；４－メチルケイ皮酸メチル残基、４－メチルケイ皮酸エチル残基、４－メチルケイ皮酸イソプロピル残基、４－メチルケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－メチルシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－メチルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－メチルケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－メチルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－エチルケイ皮酸メチル残基、４－エチルケイ皮酸エチル残基、４－エチルケイ皮酸イソプロピル残基、４－エチルケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－エチルシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－エチルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－エチルケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－エチルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－イソプロピルケイ皮酸メチル残基、４－イソプロピルケイ皮酸エチル残基、４－イソプロピルケイ皮酸イソプロピル残基、４－イソプロピルケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－イソプロピルシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－イソプロピルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－イソプロピルケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－イソプロピルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｎ－プロピルケイ皮酸メチル残基、４－ｎ－プロピルケイ皮酸エチル残基、４－ｎ－プロピルケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｎ－プロピルケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｎ－プロピルシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｎ－プロピルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｎ－プロピルケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｎ－プロピルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｎ－ブチルケイ皮酸メチル残基、４－ｎ－ブチルケイ皮酸エチル残基、４－ｎ－ブチルケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｎ－ブチルケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｎ－ブチルシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｎ－ブチルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｎ－ブチルケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｎ－ブチルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｓｅｃ－ブチルケイ皮酸メチル残基、４－ｓｅｃ－ブチルケイ皮酸エチル残基、４－ｓｅｃ－ブチルケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｓｅｃ－ブチルケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｓｅｃ－ブチルシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｓｅｃ－ブチルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｓｅｃ－ブチルケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｓｅｃ－ブチルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｔｅｒｔ－ブチルケイ皮酸メチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブチルケイ皮酸エチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブチルケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｔｅｒｔ－ブチルケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｔｅｒｔ－ブチルシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブチルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブチルケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブチルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基等のアルキルケイ皮酸エステル残基単位；アルキルケイ皮酸残基単位；４－ニトロケイ皮酸メチル残基単位、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位、４－ニトロケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ニトロケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ニトロケ
イ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－ニトロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－ニトロケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－ニトロケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のニトロケイ皮酸エステル残基単位；ニトロケイ皮酸残基単位；４－ブロモケイ皮酸メチル残基単位、４－ブロモケイ皮酸エチル残基単位、４－ブロモケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ブロモケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ブロモケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－ブロモケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－ブロモケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－ブロモケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のブロモケイ皮酸エステル残基単位；ブロモケイ皮酸残基単位；４－ヨードケイ皮酸メチル残基単位、４－ヨードケイ皮酸エチル残基単位、４－ヨードケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ヨードケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ヨードケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－ヨードケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－ヨードケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－ヨードケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のヨードケイ皮酸エステル残基単位；ヨードケイ皮酸残基単位；４－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－シアノケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－シアノケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－シアノケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のシアノケイ皮酸エステル残基単位；シアノケイ皮酸残基単位；４－スルホン酸ケイ皮酸メチル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸エチル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のスルホン酸ケイ皮酸エステル残基単位；スルホン酸ケイ皮酸残基単位；４－カルボン酸ケイ皮酸エチル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のカルボン酸ケイ皮酸エステル残基単位；カルボン酸ケイ皮酸残基単位；４－フェニルケイ皮酸メチル残基単位、４－フェニルケイ皮酸エチル残基単位、４－フェニルケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－フェニルケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－フェニルケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－フェニルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－フェニルケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－フェニルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のフェニル経ケイ皮酸エステル残基単位；フェニル経ケイ皮酸残基単位；α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－２，４－ジヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位等のα－シアノ－ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位；α－シアノ－４－カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－４－カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－２，３－ジカルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－２，３－ジカルボキシケイ皮酸エチル残基単位等のα－シアノ－カルボキシケイ皮酸エステル残基単位；α－シアノ－２－カルボキシ－３－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－２－カルボキシ－３－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位等のα－シアノ－カルボキシ－ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位；ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｎ－プロピル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位；カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジｎ－プロピル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のカルボキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位が挙げられ、その中でもケイ皮酸エステル残基単位、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位、α－シアノ－ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位が好ましく、特に好ましくはα－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮イソブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、である。
イ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－ニトロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－ニトロケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－ニトロケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のニトロケイ皮酸エステル残基単位；ニトロケイ皮酸残基単位；４－ブロモケイ皮酸メチル残基単位、４－ブロモケイ皮酸エチル残基単位、４－ブロモケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ブロモケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ブロモケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－ブロモケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－ブロモケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－ブロモケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のブロモケイ皮酸エステル残基単位；ブロモケイ皮酸残基単位；４－ヨードケイ皮酸メチル残基単位、４－ヨードケイ皮酸エチル残基単位、４－ヨードケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－ヨードケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－ヨードケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－ヨードケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－ヨードケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－ヨードケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のヨードケイ皮酸エステル残基単位；ヨードケイ皮酸残基単位；４－シアノケイ皮酸メチル残基単位、４－シアノケイ皮酸エチル残基単位、４－シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－シアノケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－シアノケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－シアノケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のシアノケイ皮酸エステル残基単位；シアノケイ皮酸残基単位；４－スルホン酸ケイ皮酸メチル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸エチル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－スルホン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のスルホン酸ケイ皮酸エステル残基単位；スルホン酸ケイ皮酸残基単位；４－カルボン酸ケイ皮酸エチル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－カルボン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のカルボン酸ケイ皮酸エステル残基単位；カルボン酸ケイ皮酸残基単位；４－フェニルケイ皮酸メチル残基単位、４－フェニルケイ皮酸エチル残基単位、４－フェニルケイ皮酸イソプロピル残基単位、４－フェニルケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４－フェニルケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４－フェニルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４－フェニルケイ皮酸ｔａｒｔ－ブチル残基単位、４－フェニルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位等のフェニル経ケイ皮酸エステル残基単位；フェニル経ケイ皮酸残基単位；α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－２，４－ジヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位等のα－シアノ－ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位；α－シアノ－４－カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－４－カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－２，３－ジカルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－２，３－ジカルボキシケイ皮酸エチル残基単位等のα－シアノ－カルボキシケイ皮酸エステル残基単位；α－シアノ－２－カルボキシ－３－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－２－カルボキシ－３－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位等のα－シアノ－カルボキシ－ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位；ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｎ－プロピル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位；カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジｎ－プロピル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のカルボキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位が挙げられ、その中でもケイ皮酸エステル残基単位、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位、α－シアノ－ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位が好ましく、特に好ましくはα－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮イソブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｔ－ブチル残基単位、である。
【0051】
エステル系樹脂において、式（２）で表される残基単位は前記例示における残基単位を１種含んでいてもよく、２種以上の複数種含んでもよい。
【0052】
式（３）におけるＲ１０、Ｒ１１はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示す。炭素数１～１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロキル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、エチルヘキシル基等が挙げられる。
【0053】
具体的な式（３）で表される残基単位としては、例えば、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－プロピル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－ｓｅｃ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－２－エチルヘキシル残基単位、フマル酸モノシクロプロピル残基単位、フマル酸モノシクロペンチル残基単位、フマル酸モノシクロヘキシル残基単位等のフマル酸モノエステル残基単位；フマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジ－ｎ－プロピル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジ－ｎ－ブチル残基単位、フマル酸ジ－ｓｅｃ－ブチル残基単位、フマル酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、フマル酸ジ－２－エチルヘキシル残基単位、フマル酸ジシクロプロピル残基単位、フマル酸ジシクロブチル残基単位、フマル酸ジシクロペンチル残基単位、フマル酸ジシクロヘキシル残基単位、フマル酸ビス（１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロピル）残基単位、フマル酸ビス（２，２，２－トリフルオロエチル）等のフマル酸ジエステル残基単位等が挙げられる。
【0054】
これらの中でも、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノイソプロピル、フマル酸モノ－ｔｅｒｔ－ブチル、フマル酸モノ－ｎ－ブチル、フマル酸モノイソブチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル、フマル酸ジ－ｎ－ブチル、フマル酸ジイソブチル等が好ましい。
【0055】
エステル系樹脂において、式（３）で表される残基単位は前記例示における残基単位を１種含んでいてもよく、２種以上の複数種含んでもよい。
【0056】
式（４）におけるＲ１２は、ヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を１つ以上含む５員環複素環残基または６員環複素環残基（前記５員環複素環残基および前記６員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい）を示す。
【0057】
具体的な式（４）で表される残基単位としては、例えば、１－ビニルピロール残基単位、２－ビニルピロール残基単位、１－ビニルインドール残基単位、９－ビニルカルバゾール残基単位、２－ビニルキノリン残基単位、４－ビニルキノリン残基単位、Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位、Ｎ－ビニルスクシンイミド残基単位、２－ビニルフラン残基単位、２－ビニルベンゾフラン残基単位、スチレン残基単位、２－ビニルナフタレン残基単位が好ましく、９－ビニルカルバゾール残基単位、Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位がさらに好ましい。
【0058】
エステル系樹脂は、前記式（２）、（３）および（４）以外に、以下の式（５）で表される残基単位を有していてもよい。
【0059】
【化5】
【0060】
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、または炭素数３～６の環状アルキル基からなる群の１種を示す。）
Ｒ１３、Ｒ１４における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。
Ｒ１３、Ｒ１４における炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。
【0061】
Ｒ１３、Ｒ１４における炭素数３～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。
【0062】
Ｒ１３、Ｒ１４における炭素数３～６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【0063】
式（５）におけるＲ１３、Ｒ１４としては、光の波長４５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）と光の波長５５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が小さくなることから、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、３－ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソへキシル基、ネオへキシル基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基がさらに好ましい。
【0064】
式（５）で表される残基単位は、アクリル樹脂残基単位であることが好ましい。式（５）で表されるアクリル樹脂残基単位の具体的な例示として、アクリル酸残基単位、メタクリル酸残基単位、２－エチルアクリル酸残基単位、２－プロピルアクリル酸残基単位、２－イソプロピルアクリル酸残基単位、２－ペンチルアクリル酸残基単位、２－ヘキシルアクリル酸残基単位、アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ｎ－プロピル残基単位、アクリル酸イソプロピル残基単位、アクリル酸ｎ－ブチル残基単位、アクリル酸イソブチル残基単位、アクリル酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、アクリル酸ｎ－ペンチル残基単位、アクリル酸イソペンチル残基単位、アクリル酸ｓｅｃ－ペンチル残基単位、アクリル酸３－ペンチル残基単位、アクリル酸ネオペンチル残基単位、アクリル酸ｎ－へキシル残基単位、アクリル酸イソへキシル残基単位、アクリル酸ネオへキシル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ｎ－プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ｎ－ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、メタクリル酸ｎ－ペンチル残基単位、メタクリル酸イソペンチル残基単位、メタクリル酸ｓｅｃ－ペンチル残基単位、メタクリル酸３－ペンチル残基単位、メタクリル酸ネオペンチル残基単位、メタクリル酸ｎ－へキシル残基単位、メタクリル酸イソへキシル残基単位、メタクリル酸ネオへキシル残基単位、２－エチルアクリル酸メチル残基単位、２－エチルアクリル酸エチル残基単位、２－エチルアクリル酸ｎ－プロピル残基単位、２－エチルアクリル酸イソプロピル残基単位、２－エチルアクリル酸ｎ－ブチル残基単位、２－エチルアクリル酸イソブチル残基単位、２－エチルアクリル酸ｓｅｃ－ブチル残基単位等が挙げられる。
【0065】
このなかでも、光の波長４５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）と光の波長５５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が小さくなることから、アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ｎ－プロピル残基単位、アクリル酸イソプロピル残基単位、アクリル酸ｎ－ブチル残基単位、アクリル酸イソブチル残基単位、アクリル酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ｎ－プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ｎ－ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ｎ－プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ｎ－ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸ｓｅｃ－ブチル残基単位が好ましく、アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ｎ－プロピル残基単位、アクリル酸イソプロピル残基単位、アクリル酸ｎ－ブチル残基単位、アクリル酸イソブチル残基単位、アクリル酸ｓｅｃ－ブチル残基単位がさらに好ましい。
【0066】
エステル系樹脂において、前記式（２）のケイ皮酸エステル残基単位と前記式（４）を含む場合、前記式（２）のケイ皮酸エステル残基単位に係る単量体成分は、全単量体成分の合計１００ｍｏｌ％に対し２１ｍｏｌ％以上５０ｍｏｌ％以下を含むことが好ましい。式（４）で表される残基単位は全単量体成分の合計１００ｍｏｌ％に対し２１ｍｏｌ％以上６５ｍｏｌ％以下を含むことが好ましい。
【0067】
エステル系樹脂が式（２）及び式（３）の残基単位を含む場合、式（２）に係る単量体成分は、式（２）と式（３）の合計１００ｍｏｌ％に対し２１ｍｏｌ％以上７０ｍｏｌ％以下含むことが好ましく、３５ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下含むことが好ましい。
【0068】
エステル系樹脂が式（２）、式（４）及び式（５）の残基単位を含む場合、各残基単位成分の含有量は
式（２） ２１ｍｏｌ％以上４９ｍｏｌ％以下
式（４） ３５ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下
式（５） １ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下
であることが好ましい。これにより、本発明の樹脂組成物をフィルムとして使用する際の位相差特性がより優れる。
式（２） ２１ｍｏｌ％以上４９ｍｏｌ％以下
式（４） ３５ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下
式（５） １ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下
であることが好ましい。これにより、本発明の樹脂組成物をフィルムとして使用する際の位相差特性がより優れる。
【0069】
ここで、エステル系樹脂の組成比は、１Ｈ－ＮＭＲにより測定することができる。
【0070】
エステル系樹脂は、前記式（２）～（５）以外の単量体残基単位を含有してもよい。そのような単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基、α－メチルスチレン残基などのスチレン類残基；アクリル酸残基；アクリル酸エステル残基；メタクリル酸残基；メタクリル酸エステル残基；酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基などのビニルエステル類残基；メチルビニルエ－テル残基、エチルビニルエ－テル残基、ブチルビニルエ－テル残基などのビニルエ－テル残基；Ｎ－メチルマレイミド残基、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド残基、Ｎ－フェニルマレイミド残基などのＮ－置換マレイミド残基；アクリロニトリル残基；メタクリロニトリル残基；エチレン残基、プロピレン残基などのオレフィン類残基等の１種または２種以上を挙げることができる。
【0071】
エステル系樹脂は、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が３×１０３～５×１０６のものであることが好ましく、５×１０３～１×１０６であることがさらに好ましい。
【0072】
エステル系樹脂の製造方法としては、該樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。
【0073】
ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
【0074】
本発明のセルロース系樹脂は、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマ－、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。
【0075】
本発明のセルロース系樹脂は、熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダ－ドフェノ－ル系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
【0076】
本発明のセルロース系樹脂は、耐候性を高めるためヒンダ－ドアミン系光安定剤や紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾ－ル、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエ－ト系吸収剤等が挙げられる。
【0077】
本発明において、セルロース系樹脂と、式（２）で示されるケイ皮酸エステル残基単位、式（３）で示されるフマル酸エステル残基単位、式（４）で示される残基単位からなる群の少なくとも１種の残基単位を有する負の複屈折性を示すエステル系樹脂を含む組成物の製造方法として、セルロース系樹脂と前記エステル系樹脂をブレンドすることにより製造することができ、該ブレンドの方法としては、溶融ブレンド、溶液ブレンド等の方法を用いることができる。溶融ブレンド法とは、加熱により樹脂を溶融させて混練することにより製造する方法である。溶液ブレンド法とは樹脂を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、樹脂等を溶解できる溶剤であればいかなる溶剤であっても構わないが、製膜工程にて、残溶剤が残りにくい様、溶剤の沸点は２００℃以下が好ましく、１７０℃以下がより好ましい。
【0078】
該溶剤としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；フェノール、バラクロロフエノールなどのフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、メシチレン、１，２－ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドンなどのケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒；ｔ－ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２－メチル－２，４－ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒；二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブなどを単独または混合した溶媒が挙げられる。
【0079】
本発明の一つの態様である光学フィルムについて説明する。
【0080】
本発明の光学フィルムは、前記セルロース系樹脂を含む。前記セルロース系樹脂と、前記負の位相差を示すエステル系樹脂の組成物であることが好ましい。
【0081】
本発明のセルロース系樹脂を用いたフィルムの製造方法としては、如何なる方法を用いてもよいが、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液（一般にはド－プと称する。）を支持基材上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させてフィルムを得る方法である。塗工方法は特に制限されず、通常の方法を採用できる。例えば、Ｔダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、スロットダイ法、リップコーター法、リバースグラビアコート法、マイクログラビア法、スピンコート法、刷毛塗り法、ロールコート法、フレキソ印刷法などがあげられる。また、用いられる支持基材としては、特に制限はないが、例えばポリエステルやポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンやポリプロピレン、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロースやポリビニルアルコール、ポリイミドやポリアリレート、ポリスルホンやポリエーテルスルホン、エポキシ系樹脂等からなる高分子基材、ガラス板や石英基板などのガラス基材、アルミやステンレスやフェロタイプ等の金属基材、セラミックス基板などの無機基材等が挙げられる。上記基材として好ましくは、高分子基材または金属基材である。
【0082】
本発明のセルロース系樹脂を用いた光学フィルムを製造する際の樹脂溶液の粘度は、各成分の分子量、濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは１００～３００００ｃｐｓ、さらに好ましくは３００～２００００ｃｐｓである。
【0083】
塗工溶液の乾燥工程における、乾燥方法は特に制限されず、通常の加熱手段を採用できる。例えば、熱風器、加熱ロール、遠赤外線ヒーター等があげられる。
【0084】
本発明のセルロース系樹脂を用いたフィルムの製造方法では、乾燥温度が１段のみの条件でも構わないし、外観保持や乾燥時間短縮のため、１段階目に低温で乾燥し、２段階目以降に高温で乾燥するような多段階乾燥でも構わない。
【0085】
本発明においてセルロース系樹脂、負の複屈折性を示すエステル系樹脂の濃度は、溶解、製膜が可能な限り特に限定されない。セルロース系樹脂、負の複屈折性を示すエステル系樹脂の溶解を実施する方法は、溶解する段階で所定の濃度になるように実施してもよく、また予め低濃度溶液として作製した後に濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予めセルロース系樹脂及び負の複屈折性を示すエステル系樹脂の高濃度の樹脂溶液とした後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度の樹脂溶液としてもよい。
【0086】
本発明の樹脂を用いた光学フィルムの製造方法は、位相差を発現する方法として特に制約はないが、セルロース系樹脂の分子鎖を効果的に配向させ高い位相差を発現させるため、一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。延伸する方法としては、ロール延伸による縦一軸延伸法やテンター延伸による横一軸延伸法や斜め延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。
【0087】
延伸する前の未延伸フィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、５～２００μｍが好ましく、１０～１５０μｍがさらに好ましく、２０～１２０μｍが特に好ましい。
【0088】
また、延伸後の光学フィルムの厚みは、画像表示装置の薄型化のため、５～１００μｍが好ましく、５～６０μｍがさらに好ましい。
【0089】
延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは５０～２００℃、さらに好ましくは１００～２００℃である。一軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、１．０５～４．０倍が好ましく、１．１～３．５倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、光学特性に優れることから長さ方向には１．０５～４．０倍が好ましく、１．１～３．５倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率等により位相差を制御することができる。
【0090】
本発明の樹脂を用いた光学フィルムにおいては、セルロース樹脂の含有率、含有するセルロース樹脂の総置換度、置換基の２位、３位、及び６位の置換度分布、並びに延伸条件によって位相差を調整することができる。
【0091】
本発明の樹脂を用いた光学フィルムの位相差特性は、目的とする光学フィルムにより異なるものであり、例えば円偏光板位相差フィルム用途では一般に、下記式（Ａ）で示される位相差（Ｒｅ）が好ましくは３０～３００ｎｍ、さらに好ましくは１００～３００ｎｍ、特に好ましくは１２０～２８０ｎｍであって、下記式（Ｂ）で示されるＮｚ係数が好ましくは０．３～１．３、さらに好ましくは０．４～０．８であるもの、すなわち下記式（Ｃ）で示される位相差（Ｒｔｈ）が好ましくは－６０～２４０ｎｍ、さらに好ましくは－３０～９０ｎｍであるもの等が挙げられる。このときの位相差特性は全自動複屈折計（王子計測機器株式会社製、商品名ＫＯＢＲＡ－２１ＡＤＨ）を用い、測定波長５８９ｎｍの条件で測定されるものである。
【0092】
これらは、従来のセルロ－ス系樹脂からなる光学フィルムでは発現が困難な位相差特性を有している。
【0093】
Ｒｅ＝（ｎｙ－ｎｘ）×ｄ （Ａ）
Ｎｚ＝（ｎｙ－ｎｚ）／（ｎｙ－ｎｘ） （Ｂ）
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ （Ｃ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
本発明の光学フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、好ましくは０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０５であり、さらに好ましくは０．７０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０２であり、特に好ましくは０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００である。
Ｎｚ＝（ｎｙ－ｎｚ）／（ｎｙ－ｎｘ） （Ｂ）
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ （Ｃ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
本発明の光学フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、好ましくは０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０５であり、さらに好ましくは０．７０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０２であり、特に好ましくは０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００である。
【0094】
本発明のセルロ－ス系樹脂を使用した場合、単独では、低波長分散の光学フィルムを提供することができる。このフィルムに、延伸方向に対して負の複屈折性を示すエステル系樹脂をブレンドした樹脂組成物は、一般的に逆波長分散性を示す光学フィルムを提供することができるものである。
【0095】
これらの位相差特性および波長分散特性を同時に満足することは、一般にセルロ－ス系樹脂を用いた光学フィルムでは発現が困難であるが、本発明に係る光学フィルムはこれらの特性を同時に満足するものである。
【0096】
本発明の樹脂を用いた光学フィルムは、画像表示装置の光量低下を避けるため、フィルムにしたときの透過率が好ましくは８７％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【0097】
本発明の樹脂を用いた光学フィルムは、ヘーズが好ましくは１．５％以下、さらに好ましくは１．０％以下である。前記範囲にヘーズを制御することにより、位相差フィルムとして表示装置に組み込んだ際に高コントラストの画像が得られる。
【0098】
本発明の樹脂を用いた光学フィルムは、高温高湿度の環境における画面表示装置の光量低下をさけ、高コントラストの画像を維持するため、６５℃相対湿度９０％環境下５００時間後におけるヘーズが１．５％以下であり、透過率が８７％以上であることが好ましく、さらに好ましくはヘーズが１．０％以下で、透過率が９０％以上である。
【0099】
本発明の光学フィルムは、６５℃相対湿度９０％環境下５００時間後におけるヘーズの増加率が１．０％以下であり、かつ、全光線透過率の低下が２％未満であることが好ましい。
【0100】
本発明の樹脂を用いた光学フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、液晶層やハードコート層、ガスバリア層、屈折率を制御した層（低反射層）を積層することも可能である。
【0101】
本発明の光学フィルムは偏光板の部材、すなわち光学フィルムを備えた偏光板として好適に用いることができる。
【0102】
本発明の樹脂を用いた光学フィルムは、液晶表示装置用、有機ＥＬ表示装置用等の用途に用いられる偏光板、光学補償フィルムにおいて、好適に用いられる。また、該偏光板は画像表示装置として好適に用いられる。該光学補償フィルムは、優れた耐湿熱性、位相差特性および波長分散特性を有することを特徴とする。
【実施例0103】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0104】
なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
＜分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、カラムＧＭＨＨＲ－Ｈ）を用い、安定剤含有テトラヒドロフランを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算から算出して求めた。
＜塩化物含有量の測定＞
エチルセルロース中の塩化物の定量法は、日本薬局方に規定されて
いる。
＜分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、カラムＧＭＨＨＲ－Ｈ）を用い、安定剤含有テトラヒドロフランを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算から算出して求めた。
＜塩化物含有量の測定＞
エチルセルロース中の塩化物の定量法は、日本薬局方に規定されて
いる。
【0105】
日本薬局方を参考に、電位差滴定装置（ＨＩＲＡＮＵＭＡ製、ＣＯＭ－１６００）を用いて電位差滴定し、塩化物含有量を求めた。ブランク溶液として７０％濃硝酸：５０ｐｐｍ塩化ナトリウム水溶液＝１：４（体積比）の１０体積％エタノール溶液、サンプル溶液として７０％濃硝酸：５０ｐｐｍ塩化ナトリウム水溶液＝１：４（体積比）の５体積％エタノール溶液（サンプル溶液と同量の７０％濃硝酸：５０ｐｐｍ塩化ナトリウム水溶液＝１：４（体積比）含有）にエチルセルロースを溶解し、エチルセルロース濃度１．０重量％に調整した溶液を用いた。サンプル溶液およびブランク溶液に０．０２ｍｏｌ／Ｌ硝酸銀溶液（Ｆ＝１．０００）を滴定し、塩化物を全て塩化ナトリウムとし、下記式（６）から算出した。
【0106】
塩化ナトリウム含有量（％）＝［（サンプル溶液滴定量（ｍＬ）－ブランク溶液滴定量（ｍＬ））
×０．０２×５８．４５×０．１０］／サンプル重量（ｇ） 式（６）
＜酢酸物、酪酸物含有量の測定＞
酢酸ナトリウムの定量法は、日本薬局方およびＪＩＳ Ｋ ８３７１に規定されており、ＪＩＳ Ｋ ８３７１（２００６年版）に、準拠して測定した。
×０．０２×５８．４５×０．１０］／サンプル重量（ｇ） 式（６）
＜酢酸物、酪酸物含有量の測定＞
酢酸ナトリウムの定量法は、日本薬局方およびＪＩＳ Ｋ ８３７１に規定されており、ＪＩＳ Ｋ ８３７１（２００６年版）に、準拠して測定した。
【0107】
電位差滴定装置（ＨＩＲＡＮＵＭＡ製、ＣＯＭ－１６００）を用いて電位差滴定し、酢酸物含有量を求めた。ブランク溶液として５０ｍＬ酢酸、サンプル溶液として５０ｍＬ酢酸にセルロースシレートを溶解し、セルロースアシレート濃度１．０重量％に調整した溶液を用いた。サンプル溶液およびブランク溶液に０．１ｍｏｌ／Ｌ過塩素酸―酢酸溶液（Ｆ＝１．０００）を滴定し、酢酸物を全て酢酸ナトリウムとし、下記式（７）から算出した。セルロースアセテートブチレートについては、酢酸物または酪酸物を酢酸ナトリウムと酪酸ナトリウムとし、下記式（８）から算出した。
【0108】
酢酸ナトリウム含有量（％）＝［（サンプル溶液滴定量（ｍＬ）－ブランク溶液滴定量（ｍＬ））
×８２．０３×１．００×０．１０］／（サンプル重量（ｇ）×１０） 式（７）
酢酸ナトリウムおよび酪酸ナトリウム含有量（％）＝［（サンプル溶液滴定量（ｍＬ）－ブランク溶液滴定量（ｍＬ））×９９．５３×１．００×０．１０］／（サンプル重量（ｇ）×１０） 式（８）
＜位相差特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）を用いて波長５８９ｎｍの光を用いて位相差フィルムの位相差特性を測定した。
＜全光線透過率およびヘーズの測定＞
作成したフィルムの全光線透過率およびヘーズは、ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名：ＮＤＨ５０００、光源：白色ＬＥＤ（５Ｖ３Ｗ、波長域３８０ｎｍから７８０ｎｍ、全光線透過率およびヘーズ値はこの範囲の総和値））を使用し、全光線透過率の測定はＪＩＳ Ｋ ７３６１－１（１９９７版）に、ヘーズの測定はＪＩＳ－Ｋ ７１３６（２０００年版）に、それぞれ準拠して測定した。
＜耐熱耐湿試験＞
恒温恒湿器（ヤマト科学株式会社製、商品名：ＩＧ４００）を用いて６５℃相対湿度９０％の高温高湿環境下とし、５００時間後の全光線透過率、ヘーズを調べる（以下、「耐湿熱試験」という）ことで耐湿熱性の測定をした。
×８２．０３×１．００×０．１０］／（サンプル重量（ｇ）×１０） 式（７）
酢酸ナトリウムおよび酪酸ナトリウム含有量（％）＝［（サンプル溶液滴定量（ｍＬ）－ブランク溶液滴定量（ｍＬ））×９９．５３×１．００×０．１０］／（サンプル重量（ｇ）×１０） 式（８）
＜位相差特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）を用いて波長５８９ｎｍの光を用いて位相差フィルムの位相差特性を測定した。
＜全光線透過率およびヘーズの測定＞
作成したフィルムの全光線透過率およびヘーズは、ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名：ＮＤＨ５０００、光源：白色ＬＥＤ（５Ｖ３Ｗ、波長域３８０ｎｍから７８０ｎｍ、全光線透過率およびヘーズ値はこの範囲の総和値））を使用し、全光線透過率の測定はＪＩＳ Ｋ ７３６１－１（１９９７版）に、ヘーズの測定はＪＩＳ－Ｋ ７１３６（２０００年版）に、それぞれ準拠して測定した。
＜耐熱耐湿試験＞
恒温恒湿器（ヤマト科学株式会社製、商品名：ＩＧ４００）を用いて６５℃相対湿度９０％の高温高湿環境下とし、５００時間後の全光線透過率、ヘーズを調べる（以下、「耐湿熱試験」という）ことで耐湿熱性の測定をした。
【0109】
合成例１（負の複屈折性を示すエステル系樹脂（１）（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル系樹脂）の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４２ｇ、フマル酸モノエチル７．７ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ－ブチルパーオキシピバレート０．６６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５５℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン２００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を４Ｌのヘキサン中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、負の複屈折性を示すエステル系樹脂（１）２７ｇを得た（収率５４％）。得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（１）の重量平均分子量は９５，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位８２モル％、フマル酸モノエチル残基単位１８モル％であった。
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４２ｇ、フマル酸モノエチル７．７ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ－ブチルパーオキシピバレート０．６６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５５℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン２００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を４Ｌのヘキサン中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、負の複屈折性を示すエステル系樹脂（１）２７ｇを得た（収率５４％）。得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（１）の重量平均分子量は９５，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位８２モル％、フマル酸モノエチル残基単位１８モル％であった。
【0110】
合成例２（負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）（９－ビニルカルバゾール／α―シアノ－４－ヒドロキシ－ケイ皮酸イソブチル／アクリル酸イソブチル）の合成）
容量５０ｍＬのガラスアンプルに９－ビニルカルバゾール５．０ｇ（０．０２０モル）、α－シアノ－４－ヒドロキシ－ケイ皮酸イソブチル３．２ｇ（０．０１３モル）、アクリル酸イソブチル１．７ｇ（０．０１３モル）、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．０９３ｇ（０．０００２２モル）およびエチルセロソルブ２４．６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを４７℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４１ｇを加え、このポリマー溶液を３３０ｇのメタノール／水混合溶剤（重量比８０／２０）中に滴下して析出させ、ろ過した後、ろ過物を４５ｇのメタノール／水混合溶剤（重量比９０／１０）で５回洗浄、ろ過した。得られた樹脂を８０℃で１０時間真空乾燥することにより、負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）９．２ｇを得た（収率：９４％）。得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）の重量平均分子量は２３０，０００であり、残基単位の比率は、９－ビニルカルバゾール残基単位５０モル％、α－シアノ－４－ヒドロキシ－ケイ皮酸イソブチル残基単位２５モル％、アクリル酸イソブチル残基単位２５モル％であった。
容量５０ｍＬのガラスアンプルに９－ビニルカルバゾール５．０ｇ（０．０２０モル）、α－シアノ－４－ヒドロキシ－ケイ皮酸イソブチル３．２ｇ（０．０１３モル）、アクリル酸イソブチル１．７ｇ（０．０１３モル）、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．０９３ｇ（０．０００２２モル）およびエチルセロソルブ２４．６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを４７℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４１ｇを加え、このポリマー溶液を３３０ｇのメタノール／水混合溶剤（重量比８０／２０）中に滴下して析出させ、ろ過した後、ろ過物を４５ｇのメタノール／水混合溶剤（重量比９０／１０）で５回洗浄、ろ過した。得られた樹脂を８０℃で１０時間真空乾燥することにより、負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）９．２ｇを得た（収率：９４％）。得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）の重量平均分子量は２３０，０００であり、残基単位の比率は、９－ビニルカルバゾール残基単位５０モル％、α－シアノ－４－ヒドロキシ－ケイ皮酸イソブチル残基単位２５モル％、アクリル酸イソブチル残基単位２５モル％であった。
【0111】
実施例１
セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５８，０００、分子量Ｍｗ＝１８１，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５１、塩化ナトリウム含有量０．０８２重量％）５０．０ｇを電気伝導率０．０１ｍＳ／ｍのイオン交換水２５０ｇで５回洗浄後、６０℃にて重量減少のなくなるまで真空乾燥し、塩化ナトリウム含有量を測定したところ、塩化ナトリウム含有量は０．０１３重量％であった。得られた樹脂４０．０ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５８，０００、分子量Ｍｗ＝１８１，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５１、塩化ナトリウム含有量０．０８２重量％）５０．０ｇを電気伝導率０．０１ｍＳ／ｍのイオン交換水２５０ｇで５回洗浄後、６０℃にて重量減少のなくなるまで真空乾燥し、塩化ナトリウム含有量を測定したところ、塩化ナトリウム含有量は０．０１３重量％であった。得られた樹脂４０．０ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
【0112】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１５０℃で２．０倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0113】
得られたフィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に示す。得られたフィルムは光線透過率９３％、ヘーズ０．２％、耐湿熱試験後の光線透過率は９３％、ヘーズは０．４％であり、全光線透過率の低下は０％、ヘーズ増加は０．２％であった。
【0114】
得られたフィルムの光線透過率は高く、ヘーズは低く、耐湿熱性の高いものであった。
【0115】
【表1】
【0116】
実施例２
セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）３００、分子量Ｍｎ＝８７，０００、分子量Ｍｗ＝２６９，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５２、塩化ナトリウム含有量０．０５４重量％）５０．０ｇを電気伝導率０．０１ｍＳ／ｍのイオン交換水２５０ｇで５回洗浄後、６０℃にて重量減少のなくなるまで真空乾燥し、塩化ナトリウム含有量を測定したところ、塩化ナトリウム含有量は０．０１５重量％であった。得られた樹脂４０．０ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）３００、分子量Ｍｎ＝８７，０００、分子量Ｍｗ＝２６９，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５２、塩化ナトリウム含有量０．０５４重量％）５０．０ｇを電気伝導率０．０１ｍＳ／ｍのイオン交換水２５０ｇで５回洗浄後、６０℃にて重量減少のなくなるまで真空乾燥し、塩化ナトリウム含有量を測定したところ、塩化ナトリウム含有量は０．０１５重量％であった。得られた樹脂４０．０ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
【0117】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１５０℃で２．０倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0118】
得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に示す。得られたフィルムは光線透過率９３％、ヘーズ０．３％、耐湿熱試験後の光線透過率は９２％、ヘーズは０．６％であり、全光線透過率の低下は１％、ヘーズ増加は０．３％であった。
【0119】
得られたフィルムの光線透過率は高く、ヘーズは低く、耐湿熱性の高いものであった。
【0120】
実施例３
セルロース系樹脂として、実施例１同様に洗浄処理したエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５８，０００、分子量Ｍｗ＝１８１，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５１、塩化ナトリウム含有量０．０１３重量％）２４．００ｇと、合成例１により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（１）１６．００ｇとをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：６０．００重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：４０．００重量％）。
セルロース系樹脂として、実施例１同様に洗浄処理したエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５８，０００、分子量Ｍｗ＝１８１，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５１、塩化ナトリウム含有量０．０１３重量％）２４．００ｇと、合成例１により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（１）１６．００ｇとをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：６０．００重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：４０．００重量％）。
【0121】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１４０℃で２．０倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0122】
得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、耐湿熱性を測定した。その結果を表１に示す。得られたフィルムは光線透過率９３％、ヘーズ０．３％、耐湿熱試験後の光線透過率は９３％、ヘーズは０．４％であり、全光線透過率の低下は０％、ヘーズ増加は０．１％であった。
【0123】
得られたフィルムの光線透過率は高く、ヘーズは低く、耐湿熱性の高いものであった。
【0124】
実施例４
セルロース系樹脂として、実施例１同様に洗浄処理したエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５８，０００、分子量Ｍｗ＝１８１，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５１、塩化ナトリウム含有量０．０１３重量％）３１．２０ｇと合成例２により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）８．８０ｇとをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：７８．０重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：２２．０重量％）。
セルロース系樹脂として、実施例１同様に洗浄処理したエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５８，０００、分子量Ｍｗ＝１８１，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５１、塩化ナトリウム含有量０．０１３重量％）３１．２０ｇと合成例２により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）８．８０ｇとをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：７８．０重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：２２．０重量％）。
【0125】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１５７℃で２．０倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0126】
得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、耐湿熱性を測定した。その結果を表１に示す。得られたフィルムは光線透過率９３％、ヘーズ０．３％、耐湿熱試験後の光線透過率は９３％、ヘーズは０．５％であり、全光線透過率の低下は０％、ヘーズ増加は０．２％であった。
【0127】
得られたフィルムの光線透過率は高く、ヘーズは低く、耐湿熱性の高いものであった。
【0128】
実施例５
セルロース系樹脂として実施例２同様に洗浄処理したエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）３００、分子量Ｍｎ＝８７，０００、分子量Ｍｗ＝２６９，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５２、塩化ナトリウム含有量０．０１５重量％）３１．２０ｇと合成例２により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）８．８０ｇとをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：７８．０重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：２２．０重量％）。
セルロース系樹脂として実施例２同様に洗浄処理したエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）３００、分子量Ｍｎ＝８７，０００、分子量Ｍｗ＝２６９，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５２、塩化ナトリウム含有量０．０１５重量％）３１．２０ｇと合成例２により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）８．８０ｇとをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：７８．０重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：２２．０重量％）。
【0129】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１５７℃で２．０倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0130】
得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、耐湿熱性を測定した。その結果を表１に示す。得られたフィルムは光線透過率９３％、ヘーズ０．３％、耐湿熱試験後の光線透過率は９２％、ヘーズは０．６％であり、全光線透過率の低下は１％、ヘーズ増加は０．３％であった。
【0131】
得られたフィルムの光線透過率は高く、ヘーズは低く、耐湿熱性の高いものであった。
【0132】
実施例６
セルロース系樹脂としてセルロースアセテートブチレート（シグマアルドリッチ社製 、分子量Ｍｎ＝２７，０００、分子量Ｍｗ＝７３，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７、アセチル置換度ＤＳａｃｅｔｙｌ＝１．０５、ブチル置換度ＤＳｂｕｔｙｌ＝１．７４、酢酸ナトリウムおよび酪酸ナトリウム含有量０．０４２重量％）５０．０ｇを電気伝導率０．０１ｍＳ／ｍのイオン交換水２５０ｇで５回洗浄後、６０℃にて重量減少のなくなるまで真空乾燥し、酢酸ナトリウム含有量を測定したところ、酢酸ナトリウムおよび酪酸ナトリウム含有量は０．０１３重量％であった。得られた樹脂４０．０ｇをトルエン／メタノール＝８／２（重量比）溶液に溶解して３０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１３０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
セルロース系樹脂としてセルロースアセテートブチレート（シグマアルドリッチ社製 、分子量Ｍｎ＝２７，０００、分子量Ｍｗ＝７３，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７、アセチル置換度ＤＳａｃｅｔｙｌ＝１．０５、ブチル置換度ＤＳｂｕｔｙｌ＝１．７４、酢酸ナトリウムおよび酪酸ナトリウム含有量０．０４２重量％）５０．０ｇを電気伝導率０．０１ｍＳ／ｍのイオン交換水２５０ｇで５回洗浄後、６０℃にて重量減少のなくなるまで真空乾燥し、酢酸ナトリウム含有量を測定したところ、酢酸ナトリウムおよび酪酸ナトリウム含有量は０．０１３重量％であった。得られた樹脂４０．０ｇをトルエン／メタノール＝８／２（重量比）溶液に溶解して３０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１３０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
【0133】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１３０℃で１．５倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0134】
得られたフィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に示す。得られたフィルムは光線透過率９３％、ヘーズ０．３％、耐湿熱試験後の光線透過率は９３％、ヘーズは０．４％であり、全光線透過率の低下は０％、ヘーズ増加は０．１％であった。
【0135】
得られたフィルムの光線透過率は高く、ヘーズは低く、耐湿熱性の高いものであった。
【0136】
実施例７
セルロース系樹脂として、実施例７同様に洗浄処理したセルロースアセテートブチレート（シグマアルドリッチ社製、分子量Ｍｎ＝２７，０００、分子量Ｍｗ＝７３，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７、アセチル置換度ＤＳａｃｅｔｙｌ＝１．０５、ブチル置換度ＤＳｂｕｔｙｌ＝１．７４、酢酸ナトリウムおよび酪酸ナトリウム含有量０．０１３重量％）３６ｇと合成例２により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）４．００ｇと２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン０．４ｇとをトルエン／メタノール＝８／２（重量比）溶液に溶解して３２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１３０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：８９．１重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：９．９重量％、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン１．０重量％）。
セルロース系樹脂として、実施例７同様に洗浄処理したセルロースアセテートブチレート（シグマアルドリッチ社製、分子量Ｍｎ＝２７，０００、分子量Ｍｗ＝７３，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７、アセチル置換度ＤＳａｃｅｔｙｌ＝１．０５、ブチル置換度ＤＳｂｕｔｙｌ＝１．７４、酢酸ナトリウムおよび酪酸ナトリウム含有量０．０１３重量％）３６ｇと合成例２により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）４．００ｇと２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン０．４ｇとをトルエン／メタノール＝８／２（重量比）溶液に溶解して３２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１３０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：８９．１重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：９．９重量％、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン１．０重量％）。
【0137】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１３０℃で１．５倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0138】
得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、耐湿熱性を測定した。その結果を表１に示す。得られたフィルムは光線透過率９２％、ヘーズ０．７％、耐湿熱試験後の光線透過率は９２％、ヘーズは０．９％であり、全光線透過率の低下は０％、ヘーズ増加は０．２％であった。
【0139】
得られたフィルムの光線透過率は高く、ヘーズは低く、耐湿熱性の高いものであった。
【0140】
比較例１
セルロース系樹脂として実施例１で用いたエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５８，０００、分子量Ｍｗ＝１８１，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５１、塩化ナトリウム含有量０．０８２重量％）をイオン交換水で洗浄せず、樹脂４０．０ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
セルロース系樹脂として実施例１で用いたエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５８，０００、分子量Ｍｗ＝１８１，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５１、塩化ナトリウム含有量０．０８２重量％）をイオン交換水で洗浄せず、樹脂４０．０ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
【0141】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１５０℃で２．０倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0142】
得られたフィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に示す。得られたフィルムは光線透過率９３％、ヘーズ０．３％、耐湿熱試験後の光線透過率は８９％、ヘーズは３．５％であり、全光線透過率の低下は４％、ヘーズ増加は３．２％であった。
【0143】
得られたフィルムの光線透過率は低く、ヘーズは高く、耐湿熱性の低いものであった。
【0144】
【表2】
【0145】
比較例２
セルロース系樹脂として実施例２で用いたエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）３００、分子量Ｍｎ＝８７，０００、分子量Ｍｗ＝２６９，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５２、塩化ナトリウム含有量０．０５４重量％）４０．０ｇをイオン交換水で洗浄せず、トルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
セルロース系樹脂として実施例２で用いたエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）３００、分子量Ｍｎ＝８７，０００、分子量Ｍｗ＝２６９，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５２、塩化ナトリウム含有量０．０５４重量％）４０．０ｇをイオン交換水で洗浄せず、トルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
【0146】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１５０℃で２．０倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0147】
得られたフィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に示す。得られたフィルムは光線透過率９３％、ヘーズ０．３％、耐湿熱試験後の光線透過率は９１％、ヘーズは１．７％であり、全光線透過率の低下は２％、ヘーズ増加は１．４％であった。
【0148】
得られたフィルムの光線透過率は低く、ヘーズは高く、耐湿熱性の低いものであった。
【0149】
比較例３
セルロース系樹脂として比較例１で用いたエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５８，０００、分子量Ｍｗ＝１８１，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５１、塩化ナトリウム含有量０．０８２重量％）２８．００ｇと、合成例１により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（１）１２．００ｇとをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：７０．００重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：３０．００重量％）。
セルロース系樹脂として比較例１で用いたエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５８，０００、分子量Ｍｗ＝１８１，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５１、塩化ナトリウム含有量０．０８２重量％）２８．００ｇと、合成例１により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（１）１２．００ｇとをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：７０．００重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：３０．００重量％）。
【0150】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１４０℃で２．０倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0151】
得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、耐湿熱性を測定した。その結果を表２に示す。得られたフィルムは光線透過率９３％、ヘーズ０．４％、耐湿熱試験後の光線透過率は９１％、ヘーズは１．６％であり、全光線透過率の低下は２％、ヘーズ増加は１．２％であった。
【0152】
得られたフィルムの光線透過率は低く、ヘーズは高く、耐湿熱性の低いものであった。
【0153】
比較例４
セルロース系樹脂として実施例２で用いたエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）３００、分子量Ｍｎ＝８７，０００、分子量Ｍｗ＝２６９，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５２、塩化ナトリウム含有量０．０５４重量％）３１．２０ｇと合成例２により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）８．８０ｇとをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：７８．０重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：２２．０重量％）。
セルロース系樹脂として実施例２で用いたエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）３００、分子量Ｍｎ＝８７，０００、分子量Ｍｗ＝２６９，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．１、全置換度ＤＳ＝２．５２、塩化ナトリウム含有量０．０５４重量％）３１．２０ｇと合成例２により得られた負の複屈折性を示すエステル系樹脂（２）８．８０ｇとをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルム（樹脂組成物）を得た（セルロース系樹脂：７８．０重量％、負の複屈折性を示すエステル系樹脂：２２．０重量％）。
【0154】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１５７℃で２．０倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0155】
得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、耐湿熱性を測定した。その結果を表２に示す。得られたフィルムは光線透過率９３％、ヘーズ０．４％、耐湿熱試験後の光線透過率は９１％、ヘーズは１．６％であり、全光線透過率の低下は２％、ヘーズ増加は１．２％であった。
【0156】
得られたフィルムの光線透過率は低く、ヘーズは高く、耐湿熱性の低いものであった。
【0157】
比較例５
セルロース系樹脂として実施例６で用いたセルロースアセテートブチレート（シグマアルドリッチ社製 、分子量Ｍｎ＝２７，０００、分子量Ｍｗ＝７３，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７、アセチル置換度ＤＳａｃｅｔｙｌ＝１．０５、ブチル置換度ＤＳｂｕｔｙｌ＝１．７４、酢酸ナトリウムおよび酪酸ナトリウム含有量０．０４２重量％）４０．０ｇをイオン交換水で洗浄せず、トルエン／メタノール＝８／２（重量比）溶液に溶解して３０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１３０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
セルロース系樹脂として実施例６で用いたセルロースアセテートブチレート（シグマアルドリッチ社製 、分子量Ｍｎ＝２７，０００、分子量Ｍｗ＝７３，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７、アセチル置換度ＤＳａｃｅｔｙｌ＝１．０５、ブチル置換度ＤＳｂｕｔｙｌ＝１．７４、酢酸ナトリウムおよび酪酸ナトリウム含有量０．０４２重量％）４０．０ｇをイオン交換水で洗浄せず、トルエン／メタノール＝８／２（重量比）溶液に溶解して３０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１３０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。
【0158】
得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出した後、１３０℃で１．５倍に一軸延伸し（延伸後の厚み３０μｍ）、フィルムを得た。
【0159】
得られたフィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に示す。得られたフィルムは光線透過率９３％、ヘーズ０．３％、耐湿熱試験後の光線透過率は９１％、ヘーズは２．０％であり、全光線透過率の低下は２％、ヘーズ増加は１．７％であった。
【0160】
得られたフィルムの光線透過率は低く、ヘーズは高く、耐湿熱性の低いものであった。
【0161】
本発明の実施例１～７で得られるセルロース系樹脂又は該樹脂と負の複屈折率を示すエステル系樹脂を含む組成物を含むフィルムは、耐熱耐湿試験後のヘーズの増加が小さく（白化抑制）、光線透過率の低下が小さく、耐湿熱性が高いことから、光学フィルム、特に光学補償フィルムに好適である。
【図1】
