特開 2022-184375 パルセーションダンパー

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022184375

(43)【公開日】2022-12-13

(54)【発明の名称】パルセーションダンパー

(51)【国際特許分類】

   F02M 59/44 20060101AFI20221206BHJP

   F02M 55/00 20060101ALI20221206BHJP

   F16F 9/04 20060101ALI20221206BHJP

   F16F 15/023 20060101ALI20221206BHJP

   F16J 3/02 20060101ALI20221206BHJP

【ＦＩ】

F02M59/44 E

F02M55/00 E

F16F9/04

F16F15/023 Z

F16J3/02 B

F16J3/02 D

【審査請求】未請求

【請求項の数】22

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021092177

(22)【出願日】2021-06-01

(71)【出願人】

【識別番号】391002166

【氏名又は名称】株式会社不二工機

(74)【代理人】

【識別番号】110000062

【氏名又は名称】特許業務法人第一国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】柳屋 秀幸

(72)【発明者】

【氏名】渡辺 悠太

【テーマコード（参考）】

3G066

3J045

3J048

3J069

【Ｆターム（参考）】

3G066AB02

3G066BA29

3G066BA48

3G066BA61

3G066CB18

3G066CD04

3J045AA14

3J045BA04

3J045CA12

3J045CA17

3J045CA20

3J048AA02

3J048AB01

3J048AD05

3J048BE02

3J048EA01

3J069AA27

3J069DD47

(57)【要約】

【課題】内部に封入するガスの選定の自由度が高まるとともに、その再利用が容易になり、安価に製造できるパルセーションダンパーを提供する。
【解決手段】燃料室内に配設されるパルセーションダンパー１０は、上側フランジ部２１を備えた環状のカバー２０と、中央の隆起部３１と、中間フランジ部３２とを備えたダイアフラム３０と、開口５５と、下側フランジ部５１とを備えたベース板５０と、前記ダイアフラム３０と前記ベース板５０との間に配置されたインナーサポート４０と、前記ベース板５０に溶接されて前記開口５５を閉止するプラグ６０と、を有し、前記上側フランジ部２１と前記中間フランジ部３２と前記下側フランジ部５１とが、相互に溶接されており、前記ダイアフラム３０と前記ベース板５０との間の空間ＳＰ１には、大気と異なるガスが充填されている。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

中央の隆起部と、中間フランジ部とを備えたダイアフラムと、
開口と、下側フランジ部とを備えたベース板と、
前記ダイアフラムと前記ベース板との間に配置されたインナーサポートと、
前記ベース板に溶接されて前記開口を閉止するプラグと、を有し、
前記中間フランジ部と前記下側フランジ部とが、相互に溶接されており、
前記開口は、前記ダイアフラムと前記ベース板との間の空間に連通しており、前記空間には大気と異なるガスが充填されている、
ことを特徴とするパルセーションダンパー。

【請求項2】

前記開口を介して前記空間に前記ガスを注入した後に、前記開口は前記プラグにより閉止可能である、
ことを特徴とする請求項１に記載のパルセーションダンパー。

【請求項3】

前記プラグから前記ベース板に向かって印加された押圧力を、前記インナーサポートを介して前記ダイアフラム側から支持可能である、
ことを特徴とする請求項１または２に記載のパルセーションダンパー。

【請求項4】

液圧を受けて変形した前記ダイアフラムが、前記インナーサポートを介して前記ベース板により支持される、
ことを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項5】

前記インナーサポートは、中心側支持部と、前記中心側支持部よりも高さのある周辺側支持部とを有し、前記ダイアフラムは、前記中心側支持部と前記周辺側支持部とに当接可能である、
ことを特徴とする請求項４に記載のパルセーションダンパー。

【請求項6】

前記中心側支持部と前記周辺側支持部の端部に、中心側と周辺側とを結ぶ溝が形成されている、
ことを特徴とする請求項５に記載のパルセーションダンパー。

【請求項7】

前記ベース板は、前記インナーサポートを収容する受け部を有する、
ことを特徴とする請求項１～６のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項8】

前記ベース板の嵌合部と、前記インナーサポートの被嵌合部を嵌合させた、
ことを特徴とする請求項１～７のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項9】

前記ベース板と前記インナーサポートとの分離を抑制する抜け止め部を有する、
ことを特徴とする請求項１～８のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項10】

前記インナーサポートは、径方向に延びる底壁を備え、前記底壁は前記ダイアフラムと前記ベース板とに挟持される、
ことを特徴とする請求項１～９のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項11】

前記ベース板は、中央に配置された前記開口の周囲に円錐部を備え、前記プラグは前記円錐部に当接可能な球または円錐形状を有する、
ことを特徴とする請求項１～１０のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項12】

前記ベース板は、中央以外の位置に配置された前記開口の周囲に円錐部を備え、前記プラグは前記円錐部に当接可能な球または円錐形状を有する、
ことを特徴とする請求項１～１０のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項13】

前記ベース板は、前記開口の周囲に環状隆起部を備え、前記プラグは前記環状隆起部に当接する板状である、
ことを特徴とする請求項１～１０のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項14】

前記プラグは、前記ベース板の前記開口の周囲に当接する環状の突起部を備えた板状である、
ことを特徴とする請求項１～１０のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項15】

前記プラグと前記ベース板とは、プロジェクション溶接により接合されている、
ことを特徴とする請求項１～１４のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項16】

前記インナーサポートは、前記ベース板の前記開口と前記ダイアフラムとの間に仕切り壁を有しており、前記開口と前記空間とは、前記ガスが通過する通路を介して連通している、
ことを特徴とする請求項１～５のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項17】

中央の隆起部と、中間フランジ部とを備えたダイアフラムと、
開口と、前記開口の周囲に形成されたベース隆起部と、下側フランジ部とを備えたベース板と、
前記ベース板に溶接されて前記開口を閉止するプラグと、を有し、
前記中間フランジ部と前記下側フランジ部とが、相互に溶接されており、
前記ダイアフラムと前記ベース板との間の空間には、大気と異なるガスが充填されており、
前記ベース隆起部に前記ダイアフラムが当接したときに、前記開口と前記空間とを連通する通路を有する、
ことを特徴とするパルセーションダンパー。

【請求項18】

前記開口を介して前記空間に前記ガスを注入した後に、前記開口は前記プラグにより閉止可能である、
ことを特徴とする請求項１７に記載のパルセーションダンパー。

【請求項19】

前記プラグから前記ベース板に向かって印加された押圧力を、前記ベース隆起部に当接する前記ダイアフラムを介して支持可能である、
ことを特徴とする請求項１７または１８に記載のパルセーションダンパー。

【請求項20】

液圧を受けて変形した前記ダイアフラムが、前記ベース隆起部により支持される、
ことを特徴とする請求項１７～１９のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項21】

前記ベース板は、前記開口の周囲に複数の前記ベース隆起部を備えており、前記ベース隆起部の対向する端部間に前記通路が形成される、
ことを特徴とする請求項１７～２０のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【請求項22】

前記プラグと前記ベース板とは、プロジェクション溶接により接合されている、
ことを特徴とする請求項１７～２１のいずれか一項に記載のパルセーションダンパー。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、パルセーションダンパーに関する。

【背景技術】

【0002】

高圧燃料ポンプにおいて加圧室と連通する燃料室に設けられ、吸入通路から当該加圧室に吸入される流体の脈動を減衰させるパルセーションダンパーが、例えば特許文献１に開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１８－１８９０７３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

パルセーションダンパーは、一般的には、薄肉金属ドーム状のダイアフラムと、フラットなプレートの外周同士を溶接し、内部の空間を密閉して形成される。その内部の空間には不活性ガスが封入されてダイアフラムを内側から支持しており、燃料室内の流体の脈動に応じてダイアフラムが変形しつつ脈動を吸収し、所望の減衰機能を発揮する。

【0005】

ところで、従来のパルセーションダンパーにおいては、以下に述べる製造上の課題がある。従来のパルセーションダンパーにおいて、ダイアフラムとプレートの外周を溶接することによって密閉された内部空間が形成されるため、溶接後に外部から不活性ガスを注入することはできない。そこで、パルセーションダンパーを構成する部品全体を密閉容器で覆い、かかる密閉容器内を不活性ガスで満たし、この不活性ガスの雰囲気中でダイアフラムとプレートの溶接を行っている。

【0006】

このような製造方法によれば、密閉容器内に溶接に必要な装置や治具なども配置しなくてはならず、そのため密閉容器の大型化を招いている。また、この密閉容器内に満たされる不活性ガスも比較的大量となるため、これを回収して再利用するには時間と手間がかかる。さらに、不活性ガスの雰囲気中で比較的長い時間にわたって溶接を行うため、熱の影響を受けにくいガス種の選定が必要になり、さらなるコスト増を招いている。

【0007】

加えて、溶接箇所から発生した多量のヒューム（金属粒子）が不活性ガスに混入することにより、不活性ガスの再利用を困難としている。

【0008】

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、内部に封入するガスの選定の自由度が高まるとともに、その再利用が容易になり、安価に製造できるパルセーションダンパーを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

上記目的を達成するために、本発明のパルセーションダンパーは、
中央の隆起部と、中間フランジ部とを備えたダイアフラムと、
開口と、下側フランジ部とを備えたベース板と、
前記ダイアフラムと前記ベース板との間に配置されたインナーサポートと、
前記ベース板に溶接されて前記開口を閉止するプラグと、を有し、
前記中間フランジ部と前記下側フランジ部とが、相互に溶接されており、
前記開口は、前記ダイアフラムと前記ベース板との間の空間に連通しており、前記空間には大気と異なるガスが充填されている、ことを特徴とする。

【0010】

本発明のパルセーションダンパーは、
中央の隆起部と、中間フランジ部とを備えたダイアフラムと、
開口と、前記開口の周囲に形成されたベース隆起部と、下側フランジ部とを備えたベース板と、
前記ベース板に溶接されて前記開口を閉止するプラグと、を有し、
前記中間フランジ部と前記下側フランジ部とが、相互に溶接されており、
前記ダイアフラムと前記ベース板との間の空間には、大気と異なるガスが充填されており、
前記ベース隆起部に前記ダイアフラムが当接したときに、前記開口と前記空間とを連通する通路を有する、ことを特徴とする。

【発明の効果】

【0011】

本発明によれば、内部に封入するガスの選定の自由度が高まるとともに、その再利用が容易になり、安価に製造できるパルセーションダンパーを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】図１は、本発明の第１の実施形態に係るパルセーションダンパーの分解図である。

【図2】図２は、自由状態におけるパルセーションダンパーの縦断面図である。

【図3】図３は、最大加圧時におけるパルセーションダンパーの縦断面図である。

【図4】図４は、組立装置を用いたパルセーションダンパーの組立工程の一部を示す断面図である。

【図5】図５は、第１の実施形態の変形例にかかるパルセーションダンパーを示す図２と同様な縦断面図である。

【図6】図６は、第１の実施形態の別な変形例にかかるパルセーションダンパーを示す図２と同様な縦断面図である。

【図7】図７は、第１の実施形態のさらに別な変形例にかかるパルセーションダンパーを示す図２と同様な縦断面図である。

【図8】図８は、本発明の第２の実施形態に係るパルセーションダンパーの分解図である。

【図9】図９は、自由状態におけるパルセーションダンパーの縦断面図である。

【図10】図１０は、第２の実施形態の変形例にかかるパルセーションダンパーを示す図２と同様な縦断面図である。

【図11】図１１は、本発明の第３の実施形態に係るパルセーションダンパーの分解図である。

【図12】図１２は、自由状態におけるパルセーションダンパーの縦断面図である。

【図13】図１３は、本発明の第４の実施形態に係るパルセーションダンパーの分解図である。

【図14】図１４は、自由状態におけるパルセーションダンパーの縦断面図である。

【図15】図１５は、最大加圧時におけるパルセーションダンパーの縦断面図である。

【図16】図１６は、本発明の第５の実施形態に係るパルセーションダンパーの分解図である。

【図17】図１７は、パルセーションダンパーのインナーサポートを下面側から見た斜視図である。

【図18】図１８は、自由状態におけるパルセーションダンパーの縦断面図である。

【図19】図１９は、最大加圧時におけるパルセーションダンパーの縦断面図である。

【図20】図２０は、本発明の第６の実施形態に係るパルセーションダンパーの分解図である。

【図21】図２１は、自由状態におけるパルセーションダンパーの縦断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。

【0014】

［第１の実施形態］
図１は、本発明の第１の実施形態に係るパルセーションダンパー１０の分解図である。図２は、自由状態におけるパルセーションダンパー１０の縦断面図であり、図３は、最大加圧時におけるパルセーションダンパー１０の縦断面図である。

【0015】

パルセーションダンパー１０は、カバー２０と、ダイアフラム３０と、インナーサポート４０と、ベース板５０とを、この順序で重ねてなり、ベース板５０の中央には、金属球であるプラグ６０が固着されている。パルセーションダンパー１０の軸線をＬとする。ここでは、カバー２０側を上方とし、ベース板５０側を下方とする。

【0016】

カバー２０は、金属薄板にプレス加工を行うことにより円形状に形成されており、環状の上側フランジ部２１と、上側フランジ部２１の内周に連接された円筒部２２と、円筒部２２の上端に連接された環状部２３とを有する。円筒部２２には、内外周を連通する小穴２４が周方向に等間隔に配設されている。

【0017】

ダイアフラム３０は、カバー２０の板厚より薄いステンレス鋼板にプレス加工を行うことにより形成されており、上方に向かってドーム状に隆起した中央の円形隆起部３１と、外周の中間フランジ部３２とを連設してなる。ダイアフラム３０の外径は、カバー２０の外径に略等しい。

【0018】

樹脂またはゴム製のインナーサポート４０は、環状の底壁部４１と、底壁部４１の内縁に連接され上方に向かって延在する内側円筒部(中心側支持部ともいう)４２と、底壁部４１の外縁に連接され上方に向かって延在する外側円筒部(周辺側支持部ともいう)４３とを有する。インナーサポート４０の素材は、樹脂やゴムに限られず、例えば金属を用いてもよい。

【0019】

内側円筒部４２と外側円筒部４３とは同軸に配設され、底壁部４１の上面を基準に、内側円筒部４２の高さは、外側円筒部４３の高さより低くなっている。また、内側円筒部４２及び外側円筒部４３の上端面は、中心に向かうにつれて高さが低くなるテーパー形状、すなわち中心に向かって低くなるテーパー形状を有していると好ましい。

【0020】

図１に示すように、底壁部４１には、軽量化等を図るべく肉抜き用の円形開口４４が、周方向に等間隔に４つ形成されている。また、内側円筒部４２の上縁には、連通用の溝４５が径方向にわたって、周方向に等間隔に４本形成され、外側円筒部４３の上縁にも、径方向にわたって、周方向に等間隔に連通用の溝４６が４本形成されている。本実施形態では、溝４５、４６の軸線回りの回転位相を一致させているが、相互にずらしてもよい。また、溝４５、４６の本数は限定されない。

【0021】

ベース板５０は、ダイアフラム３０の板厚より厚い金属板にプレス加工を行うことにより円形状に形成されている。具体的に、ベース板５０は、下側フランジ部５１と、下側フランジ部５１の内周に連接され下方に向かって延在する短円筒部５２と、短円筒部５２の下端に連接された平坦部５３と、平坦部５３の中央に形成され上方に突出する円錐部５４とからなる。短円筒部５２と平坦部５３とで、受け部を構成する。円錐部５４の中央には、開口５５が形成されている。

【0022】

短円筒部５２の内径は、インナーサポート４０の外側円筒部４３の外径に略等しい。また円錐部５４の最大外径は、インナーサポート４０の内側円筒部４２の内径より小さく、かつ平坦部５３を基準に、円錐部５４の高さは内側円筒部４２の高さより低くなっている。ベース板５０の外径は、ダイアフラム３０の外径に略等しい。

【0023】

（パルセーションダンパーの組立）
図４は、組立装置を用いたパルセーションダンパー１０の組立工程の一部を示す断面図である。図４において、組立装置全体はチャンバＣＢで覆われており、チャンバＣＢ内部に不活性ガスが注入されるが、従来技術のチャンバより小型化されている。

【0024】

組立装置の上方押圧部材８２は、インナーサポート４０の外側円筒部４３より小径である中実円筒形状を有しており、その下面は外周に対して中央側が下方に突出した曲面となっている。ただし、上方押圧部材８２の下面形状は平面であってもよい。また、上方押圧部材８２は、インナーサポート４０の外側円筒部４３より大径であってもよい。上方押圧部材８２は、不図示の移動装置によりチャンバＣＢに対して上下方向に移動可能に支持されており、また不図示の溶接用電源の一方の電極に接続されている。

【0025】

パルセーションダンパー１０の組立について、説明する。図１を参照して、まずベース板５０の平坦部５３上にインナーサポート４０を接着または溶着する。これによりベース板５０に対してインナーサポート４０が容易に移動しなくなるため、パルセーションダンパー１０の動作時の異音などを抑制できる。このとき、短円筒部５２が外側円筒部４３の下端に嵌合することにより、ベース板５０に対してインナーサポート４０が同軸に位置決めされる。かかる状態で、円錐部５４は内側円筒部４２内に位置することとなる。

【0026】

次に、ベース板５０の下側フランジ部５１の上に、ダイアフラム３０の中間フランジ部３２と、カバー２０の上側フランジ部２１を重ねて、不図示の治具で挟むことにより密着させ、密着した部位を大気中で全周にわたって溶接して固着する。このときダイアフラム３０の内側は大気であるため、溶接方法は特に制限されない。溶接方法としては、例えばＴＩＧ溶接、レーザー溶接、プラズマ溶接などを採用できるが、これらに限定されることはない。また溶接中にヒュームが発生したとしても、簡素な吸引具を用いて吸引することで、その飛散を抑制できる。

【0027】

以上の工程で、カバー２０とダイアフラム３０とベース板５０とが一体化された中間生成体７０が形成される。中間生成体７０においては、ダイアフラム３０とベース板５０との間の空間ＳＰ１内にインナーサポート４０が配置されている。ただし、空間ＳＰ１は、ベース板５０の開口５５を介して外部と連通している。

【0028】

次に、形成された中間生成体７０を、図４（ａ）に示すように、チャンバＣＢ内に設置する。中間生成体７０は、不図示の治具で下方から支持される。このとき、上方押圧部材８２は、中間生成体７０より上方に離間させた状態で待機させる。

【0029】

次に、図４（ｂ）に示すように、上方から中間生成体７０に向かって上方押圧部材８２を接近させ、カバー２０の環状部２３を通過させて、その下端をダイアフラム３０の円形隆起部３１の中央に当接させ、さらに押圧する。押圧された円形隆起部３１は弾性変形するが、円形隆起部３１が内側円筒部４２の上端に当接した時点で、上方押圧部材８２の下降が停止される。

【0030】

このとき、円形隆起部３１の周辺側も、外側円筒部４３の上端に当接させると好ましい。円形隆起部３１が内側円筒部４２及び外側円筒部４３の上端に当接した状態では、ダイアフラム３０に生じる応力は、塑性変形を生じさせるほど増大しない。本実施形態では、パルセーションダンパー１０の実使用時に作用する応力を想定して、内側円筒部４２及び外側円筒部４３の高さを設定している。また、内側円筒部４２及び外側円筒部４３の高さの設定のみならず、上方押圧部材８２及び外側円筒部４３の先端の形状も設定している。また、円形隆起部３１が当接した場合でも、連通用の溝４５、４６(図１参照)は開放された状態を維持する。

【0031】

かかる状態で、密閉したチャンバＣＢ内に、大気とは成分が異なる不活性ガス（例えば窒素）を注入する。不活性ガスは、開口５５を介して、インナーサポート４０の内側円筒部４２内へと進入する。内側円筒部４２内へ進入した不活性ガスは、連通用の溝４５を介して底壁部４１の上方の空間へと進入し、さらに連通用の溝４６を介して外側円筒部４３の径方向外側の空間へと至る。これにより空間ＳＰ１全体にわたって、不活性ガスが充填されることとなる。

【0032】

インナーサポート４０を利用して、ダイアフラム３０に所与の初期変形を与えた状態で、内部に所定圧の不活性ガスを充填することにより、パルセーションダンパー１０に安定した減衰性能を発揮させることができる。なお、ダイアフラム３０に初期変形を与えた状態は、自由状態時と比較してダイアフラム３０の内容積が小さくなる分、充填される不活性ガスの圧力は比較的高圧となる。

【0033】

その後、図４（ｃ）に示すように、不図示の治具を用いて、円錐部５４内にてプラグ６０を当接させて押圧力を付与し、すなわち鍛圧を印加する。このとき、プラグ６０を介して鍛圧を受けるベース板５０の上面は、インナーサポート４０及びダイアフラム３０を介して上方押圧部材８２によって支持されている。このため、印加された鍛圧によりベース板５０が塑性変形したり、内部容積が減少するなどの不具合を抑制できる。

【0034】

かかる状態を維持しつつ、ベース板５０とプラグ６０のプロジェクション溶接を行う。具体的には、鍛圧を印加したまま、外部の溶接用電源から上方押圧部材８２とプラグ６０の間に大電流を流す。これにより、円錐部５４とプラグ６０の当接部で抵抗発熱が生じ、当接部が溶融して固着する。

【0035】

本実施形態によれば、ベース板５０の変形が上方押圧部材８２の支持によって抑制されるため、プラグ６０のプロジェクション溶接を精度よく実行することができ、それにより開口５５が確実に閉止されて、空間ＳＰ１内の不活性ガスが密封状態で保存される。

【0036】

プロジェクション溶接であれば、短時間の発熱に留まるため不活性ガスの選定の自由度が高まるとともに、発生するヒュームの量も少なく、回収した不活性ガスの再利用も容易になる。ただし、円錐部５４とプラグ６０との溶接は、プロジェクション溶接に限られない。

【0037】

最終的に、上方押圧部材８２を上昇させて、完成したパルセーションダンパー１０を、チャンバＣＢから取り外すことができる。

【0038】

（パルセーションダンパーの動作）
パルセーションダンパー１０は、図示しない燃料ポンプの加圧室に連通する燃料室に配置される。燃料室内の燃料が、カバー２０の環状部２３の内側や小穴２４を介してダイアフラム３０の外表面に接している。燃料ポンプ動作時において、燃料の脈動（圧力変動）がダイアフラム３０に伝達され、それに応じてダイアフラム３０が弾性変形することで脈動低減効果が発揮される。燃料圧が正常範囲にある限り、ダイアフラム３０はインナーサポート４０に当接せず、脈動低減効果が妨げられることがない。

【0039】

これに対し、燃料室の燃料圧が正常範囲を超えて過大となったとき、図３に示すように、ダイアフラム３０はインナーサポート４０の内側円筒部４２及び外側円筒部４３の上端に当接するため、それ以上の変形が阻止される。これによりダイアフラム３０が塑性変形することを抑止できる。その後、燃料圧が正常範囲に戻れば、ダイアフラム３０の弾性変形が可能になるため、脈動低減効果を継続して発揮することができる。

【0040】

本実施形態によれば、パルセーションダンパー１０にインナーサポート４０を設けることにより、組立時における鍛圧を支持することができ、また使用時におけるダイアフラム３０の過剰な変形を抑制できる。

【0041】

［第１の実施形態の変形例１］
図５は、第１の実施形態の変形例にかかるパルセーションダンパー１０Ａを示す図２と同様な縦断面図である。上記実施形態と同様な構成については、同じ符号を付して重複説明を省略する。

【0042】

図５に示すパルセーションダンパー１０Ａにおいて、金属製のプラグ６０Ａは、円錐形状を有している。プラグ６０Ａが円錐形状を有しているため、プロジェクション溶接時に鍛圧を受けることで、プラグ６０Ａの外周面がベース板５０の円錐部５４の下面に密着する。これによりプラグ６０Ａと円錐部５４との溶接範囲が拡大し、不活性ガスの封止を確実に行うことができる。

【0043】

［第１の実施形態の変形例２］
図６は、第１の実施形態の別な変形例にかかるパルセーションダンパー１０Ｂを示す図２と同様な縦断面図である。上記実施形態と同様な構成については、同じ符号を付して重複説明を省略する。

【0044】

図６に示すパルセーションダンパー１０Ｂにおいて、ベース板５０Ｂには、平坦部５３Ｂの中央に円錐部が設けられておらず、開口５５Ｂのみが形成されている。また、金属製のプラグ６０Ｂは円板形状を有し、その上面外周に環状の突起部６０Ｂａを備える。

【0045】

プロジェクション溶接時に鍛圧を受けたとき、プラグ６０の突起部６０Ｂａが、平坦部５３Ｂの下面において開口５５Ｂの周囲に全周で当接し、さらに溶接により当接部が接合される。これにより開口５５Ｂの周囲を確実に溶接できる。

【0046】

［第１の実施形態の変形例３］
図７は、第１の実施形態のさらに別な変形例にかかるパルセーションダンパー１０Ｃを示す図２と同様な縦断面図である。上記実施形態と同様な構成については、同じ符号を付して重複説明を省略する。

【0047】

図７に示すパルセーションダンパー１０Ｃにおいて、ベース板５０Ｃも、平坦部５３Ｃの中央に円錐部を有しない。その代わりにベース板５０Ｃは、開口５５Ｃの周囲において下方に突出する環状隆起部５６Ｃを備える。環状隆起部５６Ｃは、例えばベース板５０Ｃに対しプレス成形を行う際に、開口５５Ｃの周囲における平坦部５３Ｃの上面を、環状の型で押圧することで同時に形成できる。

【0048】

また、本変形例のプラグ６０Ｃは、単純な金属製の円板である。プロジェクション溶接時に鍛圧を受けたプラグ６０Ｃが、開口５５Ｃの周囲にわたって平坦部５３Ｃの下面から突出した環状隆起部５６Ｃに当接し、さらに溶接により当接部が接合される。これにより開口５５Ｃの周囲を確実に溶接できる。また、本変形例では個々の部品が簡素化されるため、コスト削減を図れる。

【0049】

［第２の実施形態］
図８は、本発明の第２の実施形態に係るパルセーションダンパー１０Ｄの分解図である。図９は、自由状態におけるパルセーションダンパー１０Ｄの縦断面図である。上記実施形態と同様な構成については、同じ符号を付して重複説明を省略する。

【0050】

第１の実施形態においては、ベース板とインナーサポートとを接着または溶着しているが、第２の実施形態によれば、ベース板５０Ｄとインナーサポート４０Ｄとを、より確実に位置決め固定することができる。

【0051】

そのため図８、９に示すように、本実施形態のベース板５０Ｄには、嵌合円筒部５４Ｄが設けられている。また、嵌合円筒部５４Ｄと平坦部５３Ｄとの連接部には、プラグ６０と溶接される短円錐部５４Ｄａが形成されており、これに対応してインナーサポート４０Ｄには、内側円筒部４２Ｄの下端内周に、下方に向かって拡径したテーパー形状の面取り部４２Ｄａが形成されている。面取り部４２Ｄａは、嵌合円筒部５４Ｄを内側円筒部４２Ｄに挿入する際の案内として機能する。ここで、内側円筒部４２Ｄが被嵌合部を構成し、嵌合円筒部５４Ｄが嵌合部を構成する。また嵌合円筒部５４Ｄの内周が、開口５５Ｄを構成する。

【0052】

嵌合円筒部５４Ｄの外径は、内側円筒部４２Ｄの内径よりわずかに大きくなっている。したがって、嵌合円筒部５４Ｄを内側円筒部４２Ｄに嵌合させることで、内側円筒部４２Ｄが拡径するように弾性変形し、その弾性力で嵌合円筒部５４Ｄを締め付けることにより、両者の確実な固定を実現できる。なお、第１の実施形態と同様に、ベース板５０Ｄとインナーサポート４０Ｄとの接着または溶着を併用してもよい。

【0053】

［第２の実施形態の変形例］
図１０は、第２の実施形態の変形例にかかるパルセーションダンパー１０Ｅを示す図２と同様な縦断面図である。上記実施形態と同様な構成については、同じ符号を付して重複説明を省略する。

【0054】

図１０に示すパルセーションダンパー１０Ｅにおいて、ベース板５０Ｅは、嵌合円筒部の代わりに、上方に向かって拡径する逆円錐部５４Ｅを備える。逆円錐部５４Ｅは、短円錐部５４Ｅａの上端に連接するようにして配設され、その最小内径部により開口５５Ｅが形成される。また、これに対応してインナーサポート４０Ｅには、内側円筒部４２Ｅの下端内周に、全周にわたって内向きに突出した環状凸部４２Ｅａが形成されている。短円錐部５４Ｅａと環状凸部４２Ｅａとで、抜け止め部を構成する。

【0055】

逆円錐部５４Ｅの上端の最大外径は、環状凸部４２Ｅａの最小内径より大きくなっている。ベース板５０Ｅとインナーサポート４０Ｅとの組付時において、逆円錐部５４Ｅを内側円筒部４２Ｅに挿入する際に、環状凸部４２Ｅａが弾性変形して逆円錐部５４Ｅの進入を許容し、また逆円錐部５４Ｅの上端が通過した後に、環状凸部４２Ｅａが弾性変形から復帰する。これにより、逆円錐部５４Ｅが内側円筒部４２Ｅから抜け出ることが阻止され、ベース板５０Ｅとインナーサポート４０Ｅとの連結が強化される。組付後において、環状凸部４２Ｅａが、逆円錐部５４Ｅ及び短円錐部５４Ｅａの外周に密着すると、ガタ付きが抑制されるので好ましい。なお、第１の実施形態と同様に、ベース板５０Ｅとインナーサポート４０Ｅとの接着または溶着を併用してもよい。

【0056】

［第３の実施形態］
図１１は、本発明の第３の実施形態に係るパルセーションダンパー１０Ｆの分解図である。図１２は、自由状態におけるパルセーションダンパー１０Ｆの縦断面図である。上記実施形態と同様な構成については、同じ符号を付して重複説明を省略する。

【0057】

本実施形態によれば、ダイアフラム３０を用いてインナーサポート４０Ｆを固定することができる。

【0058】

本実施形態において、ベース板５０Ｆの短円筒部５２Ｆの内径及び平坦部５３Ｆの外径は、ダイアフラム３０の中間フランジ部３２の内径より大きく、また、ベース板５０Ｆの短円筒部５２Ｆの内径及び平坦部５３Ｆの外径は、カバー２０の円筒部２２の内径よりも大きくなっている。これに対向してインナーサポート４０Ｆの底壁部４１Ｆは、外側円筒部４３の下端から径方向外側にはみ出して形成されており、底壁部４１Ｆの外径は、短円筒部５２Ｆの内径に略一致している。また、底壁部４１Ｆの厚みは、短円筒部５２Ｆの高さと同じである。ただし、底壁部４１Ｆの厚みは、短円筒部５２Ｆの高さと同じであることが好ましい。

【0059】

ベース板５０Ｆとインナーサポート４０Ｆとを組み付けるとき、底壁部４１Ｆを平坦部５３Ｆに載置すると、底壁部４１Ｆの外周が短円筒部５２Ｆの内周に対して、ほぼ隙間なく密着する。その後、カバー２０とダイアフラム３０とベース板５０Ｆとを溶接すると、図１２に示すように、ダイアフラム３０の中間フランジ部３２の下面に、底壁部４１Ｆの外周近傍上面が当接することとなる。

【0060】

このため、インナーサポート４０Ｆは、全周にわたってダイアフラム３０とベース板５０Ｆとにより挟持されて固定されることとなり、それによりベース板５０Ｆとインナーサポート４０Ｆとが強固に連結される。なお、第１の実施形態と同様に、ベース板５０Ｆとインナーサポート４０Ｆとの接着または溶着を併用してもよい。

【0061】

［第４の実施形態］
図１３は、本発明の第４の実施形態に係るパルセーションダンパー１０Ｇの分解図である。図１４は、自由状態におけるパルセーションダンパー１０Ｇの縦断面図であり、図１５は、最大加圧時におけるパルセーションダンパー１０Ｇの縦断面図である。上記実施形態と同様な構成については、同じ符号を付して重複説明を省略する。

【0062】

上記実施形態においては、プラグをベース板の中央に配設している。これに対し、本実施の形態では、円錐状のプラグ６０Ｇをベース板５０Ｇの中央以外の位置に配設するものである。なお、円錐状のプラグに代えて、球状のプラグを用いてもよい。

【0063】

図１３、１４において、ベース板５０Ｇは、短円筒部を有しておらず、全体が円形の平坦部５３Ｇから形成されている。したがって、平坦部５３Ｇの外周部により下側フランジ部を構成する。平坦部５３Ｇの中央に、上方に突出するカップ状凸部５８Ｇが形成されている。カップ状凸部５８Ｇが嵌合部を構成し、内側円筒部４２が被嵌合部を構成する。またインナーサポート４０の径方向外側であって、平坦部５３Ｇの外周近傍に、円錐部５４Ｇが形成されている。上述した実施形態と同様に、円錐部５４Ｇの中央に開口５５Ｇが形成されている。

【0064】

ベース板５０Ｇとインナーサポート４０とを組み付けるとき、カップ状凸部５８Ｇを内側円筒部４２に嵌合させることで、両者の位置決め及び固定が行われる。第１の実施形態と同様に、ベース板５０Ｇとインナーサポート４０との接着または溶着を併用してもよい。また、円錐状のプラグ６０Ｇの円錐部５４Ｇに対するプロジェクション溶接は、図４に示す下方押圧部材８２の位置を、円錐部５４Ｇに対応して外周側へと変更した組立装置を用いることで実現できる。

【0065】

ダイアフラム３０の円形隆起部３１は、略平坦な中央部３１ａと、中央部３１ａの外周側と中間フランジ部３２とを接続する断面円弧状の肩部３１ｂとを有する。本実施形態においては、円錐部５４Ｇをダイアフラム３０の円形隆起部３１の肩部３１ｂの下方に配置している。

【0066】

円形隆起部３１の肩部３１ｂ付近は、中央部３１ａに比べて上下方向の剛性が高いため、ダイアフラム３０が燃料圧を受けて変形する際の変形量が比較的少なく、図１５に示すように燃料圧が最大となったときでも、肩部３１ｂの下方に比較的大きな空間が存在する。そこで、円錐部５４Ｇを円形隆起部３１の肩部３１ｂの下方に配置することにより、円錐部５４Ｇに円形隆起部３１が接しない範囲で、円形隆起部３１の高さを極力抑えることができる。このため、パルセーションダンパー１０Ｇの全高を抑えて、その小型化に貢献できる。それに応じて、インナーサポート４０をより薄形にすることができる。

【0067】

［第５の実施形態］
図１６は、本発明の第５の実施形態に係るパルセーションダンパー１０Ｈの分解図である。図１７は、パルセーションダンパー１０Ｈのインナーサポート４０Ｈを下面側から見た斜視図である。図１８は、自由状態におけるパルセーションダンパー１０Ｈの縦断面図であり、図１９は、最大加圧時におけるパルセーションダンパー１０Ｈの縦断面図である。上記実施形態と同様な構成については、同じ符号を付して重複説明を省略する。

【0068】

プラグのプロジェクション溶接時に、溶接箇所よりスパッタ(金属粉)が発生する場合がある。スパッタは微量でも、ダイアフラム３０の内側の空間ＳＰ１に進入することで、ダイアフラム３０と他部品（４０、５０）との間で噛み込みなどによる破損等の不具合が生じるおそれがある。本実施形態では、かかる不具合を抑制することができる。

【0069】

本実施形態においては、図に示すようにインナーサポート４０Ｈに内側円筒部が設けられておらず、代わりに円形頂壁と円錐壁とからなり且つ外側円筒部４３より高さの低い円錐台形部(中心側支持部ともいう)４２Ｈが設けられる。このため、ベース板５０の開口５５は、空間ＳＰ１に対して仕切り壁として機能する円錐台形部４２Ｈによって隔てられている。したがって、開口５５からダイアフラム３０の内側の空間ＳＰ１まで、不活性ガスを供給するルートを確保する必要がある。

【0070】

そこで、本実施形態においては、図１７に示すようにインナーサポート４０Ｈの底壁部４１の下面において、円錐台形部４２Ｈの下端と、４つの円形開口４４とをそれぞれ連通する連通溝４９Ｈを配設している。連通溝４９Ｈの断面最大寸法は、空間ＳＰ１に侵入することを阻止したい異物の外径（例えばφ０．５ｍｍ）より小さいことが望ましい。インナーサポート４０Ｈの下面がベース板５０に当接したときに、連通溝４９Ｈにより不活性ガスが流れる通路を形成することができる。

【0071】

パルセーションダンパー１０Ｈの組立時には、まずベース板５０の上にインナーサポート４０Ｈを接着または溶着し、ベース板５０とダイアフラム３０とカバー２０の外周にフランジ部を溶接して、中間生成体(不図示)を形成する。その後、図４に示す組立装置に中間生成体をセットして、開口５５を介して不活性ガスを注入する。

【0072】

開口５５から、円錐台形部４２Ｈと円錐部５４との間の空間ＳＰ３に進入した不活性ガスは、連通溝４９Ｈを通過して円形開口４４に至り、そこから空間ＳＰ１内に充填される。このとき、連通溝４９Ｈの断面が小さいため、空間ＳＰ１内への異物の侵入を阻止することができる。その後、プロジェクション溶接により、プラグ６０をベース板５０に固着することで、パルセーションダンパー１０Ｈが完成する。

【0073】

なお、連通溝４９Ｈを設ける代わりに、インナーサポート４０Ｈの下面に微細な凹凸形状を設けても、空間ＳＰ１内への異物の侵入を阻止しつつ、不活性ガスの通過を許容することができる。微細な凹凸形状は、例えばシボ加工などを施すことで形成できる。

【0074】

本実施形態の円錐台形部４２Ｈの平坦な上面は、外側支持部４３とともに、図１９に示すようにダイアフラム３０の下面に当接可能であるため、組立時における鍛圧を支持する機能と、使用時におけるダイアフラム３０の過剰な変形を抑制する機能とを備える。

【0075】

［第６の実施形態］
図２０は、本発明の第６の実施形態に係るパルセーションダンパー１０Ｉの分解図である。図２１は、自由状態におけるパルセーションダンパー１０Ｉの縦断面図であるが、点線で最大加圧時のダイアフラム３０の変形を示している。上記実施形態と同様な構成については、同じ符号を付して重複説明を省略する。

【0076】

本実施形態のパルセーションダンパー１０Ｉは、インナーサポートを有しない。その代わり、ベース板５０Ｉに、ダイアフラム３０を支持する構造を配設している。

【0077】

本実施形態において、ベース板５０Ｉは、全体が円形の平坦部５３Ｉから形成され、その中央に開口５５Ｉが形成されており、平坦部５３Ｉの外周近傍が下側フランジ部を構成する。平坦部５３Ｉの上面に、開口５５Ｉを囲うようにして、軸線方向に見て半円弧状に隆起した一対の半月隆起部(ベース隆起部ともいう)５９Ｉが形成されている。半月隆起部５９Ｉは、例えばベース板５０Ｉに対しプレス成形を行う際に、開口５５Ｉの周囲における平坦部５３Ｉの下面を、対応する型で押圧することで同時に形成できる。

【0078】

本実施形態においては、図６に示すものと同様な円板状のプラグ６０Ｉを用いているが、例えば第１の実施形態と同様に、ベース板５０Ｉに円錐部を形成して、球状のプラグをプロジェクション溶接してもよい。

【0079】

パルセーションダンパー１０Ｉの組立時に、まずベース板５０Ｉとダイアフラム３０とカバー２０の外周のフランジ部を溶接して、中間生成体(不図示)を形成する。その後、図４に示す組立装置に中間生成体をセットして、中間生成体の上方から上方押圧部材８２を接近させ、カバー２０の環状部２３を通過させて、その下端をダイアフラム３０の円形隆起部３１の中央に当接させ、さらに押圧する。押圧された円形隆起部３１は弾性変形するが、図２１に点線で示すように、円形隆起部３１が半月隆起部５９Ｉの上面に当接した時点で、上方押圧部材８２の下降が停止される。

【0080】

円形隆起部３１が半月隆起部５９Ｉの上面に当接した状態でも、半月隆起部５９Ｉの端部間の隙間(通路ともいう)ＣＬを介して、開口５５Ｉと空間ＳＰ１とは連通可能である。

【0081】

開口５５Ｉを介して、半月隆起部５９Ｉの内側の空間に不活性ガスを注入すると、注入された不活性ガスは、半月隆起部５９Ｉの端部間の隙間ＣＬを通過して、空間ＳＰ１内に充填される。その後、プロジェクション溶接により、プラグ６０Ｉをベース板５０Ｉに固着することで、パルセーションダンパー１０Ｉが完成する。なお、半月隆起部５９Ｉの表面に樹脂等の絶縁体をコーティングしてもよい。これにより、溶接時の意図しない接合の防止やダイアフラム３０との接触による異音の発生を防止できる。

【0082】

本実施形態の半月隆起部５９Ｉは、図２１に点線で示すように変形したダイアフラム３０の中央下面に当接可能であるため、組立時における鍛圧を支持する機能と、使用時におけるダイアフラム３０の過剰な変形を抑制する機能とを備える。

【0083】

本実施形態では、半月隆起部５９Ｉを２つ設けているが、３つ以上設けてもよいし、あるいは軸線方向に見てＣ字状の隆起部を１つ設けてもよい。

【0084】

本発明は、以上の実施形態に限られない。例えば、鍛圧または最大燃料圧を受けたとき、ダイアフラムは、インナーサポートまたはベース板に対して１か所で接してもよいし、３か所以上で接してもよい。

【符号の説明】

【0085】

１０、１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ、１０Ｅ、１０Ｆ、１０Ｇ、１０Ｈ、１０Ｉ パルセーションダンパー
２０ カバー
３０ ダイアフラム
４０、４０Ｄ、４０Ｅ、４０Ｆ、４０Ｈ インナーサポート
５０、５０Ｂ、５０Ｃ、５０Ｄ、５０Ｅ、５０Ｆ、５０Ｇ、５０Ｉ ベース板
６０、６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃ、６０Ｇ、６０Ｉ プラグ
７０ 中間生成体

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】