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特開2022-184752感光性組成物、それを用いた硬化膜、光学フィルタ、画像表示装置、固体撮像素子、及び赤外線センサ
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022184752
(43)【公開日】2022-12-13
(54)【発明の名称】感光性組成物、それを用いた硬化膜、光学フィルタ、画像表示装置、固体撮像素子、及び赤外線センサ
(51)【国際特許分類】
G03F 7/027 20060101AFI20221206BHJP
G03F 7/004 20060101ALI20221206BHJP
G03F 7/029 20060101ALI20221206BHJP
G02B 5/22 20060101ALI20221206BHJP
G02B 5/20 20060101ALI20221206BHJP
C09B 57/00 20060101ALI20221206BHJP
C09B 47/04 20060101ALI20221206BHJP
【ＦＩ】
G03F7/027 502
G03F7/004 505
G03F7/029
G02B5/22
G02B5/20 101
C09B57/00 X
C09B47/04
C09B57/00 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022077739
(22)【出願日】2022-05-10
(31)【優先権主張番号】P 2021090742
(32)【優先日】2021-05-31
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000222118
【氏名又は名称】東洋インキＳＣホールディングス株式会社
(72)【発明者】
【氏名】吉田 寛之
【テーマコード（参考）】
2H148
2H225
【Ｆターム（参考）】
2H148BE15
2H148BE22
2H148BF16
2H148BG01
2H148BG11
2H148BH02
2H148CA04
2H148CA12
2H148CA19
2H148CA22
2H225AC33
2H225AC35
2H225AC36
2H225AC44
2H225AC46
2H225AC48
2H225AD02
2H225AD06
2H225AD07
2H225AD14
2H225AD15
2H225AD24
2H225AM66P
2H225AM86P
2H225AN37P
2H225AN38P
2H225AN39P
2H225AN42P
2H225AN51P
2H225AN58P
2H225AN82P
2H225AN94P
2H225BA02P
2H225BA12P
2H225BA15P
2H225BA16P
2H225BA32P
2H225BA33P
2H225BA35P
2H225CA15
2H225CA21
2H225CA30
2H225CB05
2H225CC01
2H225CC13
(57)【要約】 （修正有）
【課題】保存安定性に優れ、現像残渣が少なく、かつ優れたパターン形状を有し、異物が少ない硬化膜を形成できる感光性組成物の提供。
【解決手段】近赤外線吸収色素（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び増感剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、前記重合性化合物（Ｂ）１００質量％中、下記一般式で表される重合性化合物（Ｂ１）を５５質量％以上含み、前記光重合開始剤（Ｃ）は、実質的にオキシム化合物を含まない感光性組成物。
【選択図】図１
【解決手段】近赤外線吸収色素（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び増感剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、前記重合性化合物（Ｂ）１００質量％中、下記一般式で表される重合性化合物（Ｂ１）を５５質量％以上含み、前記光重合開始剤（Ｃ）は、実質的にオキシム化合物を含まない感光性組成物。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
近赤外線吸収色素（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び増感剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、
前記重合性化合物（Ｂ）１００質量％中、下記一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）を５５質量％以上含み、
前記光重合開始剤（Ｃ）は、実質的にオキシム化合物を含まない感光性組成物。
一般式（１）
（一般式（１）中、Ｒ１は、それぞれ独立に、水素原子、又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、又は下記一般式（２）で表される基である。）
一般式（２）
（一般式（２）中、Ｌは二価の連結基を表し、＊は一般式（１）の酸素原子と結合する結合手である。）
前記重合性化合物（Ｂ）１００質量％中、下記一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）を５５質量％以上含み、
前記光重合開始剤（Ｃ）は、実質的にオキシム化合物を含まない感光性組成物。
一般式（１）
【化1】
（一般式（１）中、Ｒ１は、それぞれ独立に、水素原子、又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、又は下記一般式（２）で表される基である。）
一般式（２）
【化2】
（一般式（２）中、Ｌは二価の連結基を表し、＊は一般式（１）の酸素原子と結合する結合手である。）
【請求項2】
前記光重合開始剤（Ｃ）が、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、及びビイミダゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項3】
前記増感剤（Ｄ）の含有量が、前記光重合開始剤（Ｃ）１００質量部に対して、１５０～４００質量部である請求項１又は２に記載の感光性組成物。
【請求項4】
前記増感剤（Ｄ）が、ベンゾフェノン化合物（Ｄ１）を含む請求項１または２に記載の感光性組成物。
【請求項5】
更に、バインダ樹脂（Ｅ）を含む請求項１または２に記載の感光性組成物。
【請求項6】
請求項１または２に記載の感光性組成物を硬化して得られる硬化膜。
【請求項7】
請求項６に記載の硬化膜を有する光学フィルタ。
【請求項8】
請求項６に記載の硬化膜を有する画像表示装置。
【請求項9】
請求項６に記載の硬化膜を有する固体撮像素子。
【請求項10】
請求項６に記載の硬化膜を有する赤外線センサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
感光性組成物、それを用いた硬化膜、光学フィルタ、画像表示装置、固体撮像素子、及び赤外線センサに関する。
【背景技術】
【0002】
ビデオカメラ、デジタルカメラ、カメラ機能付き携帯機器等には、カラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子の受光部には、赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用しているため、視感度補正を行うことが必要であり、赤外線カットフィルタ等が配置される。赤外線カットフィルタは、例えば、近赤外線吸収色素を含む組成物を用いて製造される。
【0003】
従来、赤外線カットフィルタは、平坦膜として使用されていたが、近年、赤外線カットフィルタも、フォトリソグラフィー法でパターンを形成する検討がされている。フォトリソグラフィー法でパターンを形成する場合、高感度という理由から光重合開始剤としてオキシム化合物が広く使用されてきた。しかし、近赤外線吸収色素を含む組成物は、活性エネルギー線（ｉ線など）の光を透過しやすいため、フォトマスクを介して露光した場合、マスク周縁の未露光部分も基材などからの反射光や散乱光によって露光されやすく、感度が高いオキシム化合物を使用すると、マスクで覆われた部分の反応が進行しやすい。そのため、現像液への溶解性が低下し、得られるパターンの線幅が太くなり、パターン形状が悪化する問題や現像残渣が生じる問題があった。また、近赤外線吸収色素が顔料の場合、分散することが難しく、感度の高いオキシム化合物を使用すると保存安定性の悪化や、近赤外線吸収色素の凝集物が発生するという問題もあった。
【0004】
上記の問題を解決するために、様々な取り組みがなされている。例えば、特許文献１には、近赤外線領域に吸収極大波長を有するフタロシアニン化合物、バインダ樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む感光性組成物が開示されている。特許文献２には、現像残渣抑制性に優れ、得られるパターンの形状及び耐熱性に優れるパターン形成用組成物として、赤外線吸収性色素と、ガラス転移温度が１５０～３００℃である樹脂を含むパターン形成用組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１０－１６０３８０号公報
【特許文献2】国際公開第２０１９／０５８８８２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかし、特許文献１、２に記載のいずれの組成物も、保存安定性、現像残渣、異物の発生及びパターン形状の全てを一定以上の水準で満たすことはできなかった。
【0007】
本発明は、保存安定性に優れ、現像残渣が少なく、かつ優れたパターン形状を有し、異物が少ない硬化膜を形成できる感光性組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明は、近赤外線吸収色素（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び増感剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、
前記重合性化合物（Ｂ）１００質量％中、下記一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）を５５質量％以上含み、
前記光重合開始剤（Ｃ）は、実質的にオキシム化合物を含まない感光性組成物に関する。
前記重合性化合物（Ｂ）１００質量％中、下記一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）を５５質量％以上含み、
前記光重合開始剤（Ｃ）は、実質的にオキシム化合物を含まない感光性組成物に関する。
【0009】
一般式（１）
【化1】
【0010】
一般式（１）中、Ｒ１は、それぞれ独立に、水素原子、又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、又は下記一般式（２）で表される基である。
【0011】
一般式（２）
【化2】
【0012】
一般式（２）中、Ｌは二価の連結基を表し、＊は一般式（１）の酸素原子と結合する結合手である。
【発明の効果】
【0013】
上記の本発明によれば、保存安定性に優れ、現像残渣が少なく、かつ優れたパターン形状を有し、異物が少ない硬化膜を形成可能な感光性組成物を提供できる。また、本発明は、硬化膜、光学フィルタ、画像表示装置、固体撮像素子、赤外線センサを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下に、本発明の感光性組成物を実施するための形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に制限されるものではなく、課題を解決可能な範囲内で変形して実施できる。
【0016】
本発明において、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリレート」、又は「（メタ）アクリルアミド」とは、特に説明がない限り、それぞれ、「アクリロイル及び／又はメタアクリロイル」、「アクリル及び／又はメタアクリル」、「アクリル酸及び／又はメタアクリル酸」、「アクリレート及び／又はメタクリレート」、又は「アクリルアミド及び／又はメタアクリルアミド」を意味する。また、「Ｃ．Ｉ．」は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ 発行）を意味する。重合性不飽和基は、エチレン性不飽和二重結合である。
本発明における化合物の分子量に関しては、分子量が特定できる低分子化合物については、計算により算出した値、若しくはＥＳＩ－ＭＳ（エレクトロスプレーイオン化質量分析法）により測定した分子量であり、分子量の分布を持つ化合物については、テトラヒドロフランを溶剤とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
単量体は、重合により樹脂を形成する化合物である。単量体は、未反応状態であり、単量体単位は、単量体が重合後に樹脂を形成している状態である。
本発明における化合物の分子量に関しては、分子量が特定できる低分子化合物については、計算により算出した値、若しくはＥＳＩ－ＭＳ（エレクトロスプレーイオン化質量分析法）により測定した分子量であり、分子量の分布を持つ化合物については、テトラヒドロフランを溶剤とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
単量体は、重合により樹脂を形成する化合物である。単量体は、未反応状態であり、単量体単位は、単量体が重合後に樹脂を形成している状態である。
【0017】
＜感光性組成物＞
本発明の一実施形態は、感光性組成物に係わる。本発明の感光性組成物は、近赤外線吸収色素（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び増感剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、
前記重合性化合物（Ｂ）１００質量％中、下記一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）を５５質量％以上含み、
前記光重合開始剤（Ｃ）は、実質的にオキシム化合物を含まないことを特徴とする。
本発明の一実施形態は、感光性組成物に係わる。本発明の感光性組成物は、近赤外線吸収色素（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び増感剤（Ｄ）を含む感光性組成物であって、
前記重合性化合物（Ｂ）１００質量％中、下記一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）を５５質量％以上含み、
前記光重合開始剤（Ｃ）は、実質的にオキシム化合物を含まないことを特徴とする。
【0018】
一般式（１）
【化3】
【0019】
一般式（１）中、Ｒ１は、それぞれ独立に、水素原子、又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、又は下記一般式（２）で表される基である。
【0020】
一般式（２）
【化4】
【0021】
一般式（２）中、Ｌは二価の連結基を表し、＊は一般式（１）の酸素原子と結合する結合手である。
【0022】
上記構成の感光性組成物で、本発明の課題を解決できるメカニズムは明らかではないが、以下のように推測している。
【0023】
一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）は、水酸基又はカルボキシル基を有するため分子間相互作用で分子同士が近くに存在しており、かつ、分子量が小さく立体障害を受け難く、重合性不飽和基同士が近くに存在すると推測する。そのため、反応が速く進み、感度の高いオキシム化合物を含まなくても十分に硬化し、パターン形成時の現像に対して優れた耐性を有する硬化膜が得られ、パターン形状が良好になると推測する。そして、感度の高いオキシム化合物を含まないため、パターンの線幅は太らず、保存安定性にも優れる。また、一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）は、水酸基又はカルボキシル基を有するため、未露光部分はアルカリ現像液に溶解しやすく、現像残渣が少なくなる。さらに、増感剤（Ｄ）を用いることで、活性エネルギー線が吸収され、余分な反応が起こりにくいため、現像残渣が少なく、優れたパターン形状が得られたと推測する。
【0024】
以下、一実施形態の感光性組成物に含まれるか、又は含まれ得る成分を詳細に説明する。
【0025】
［近赤外線吸収色素（Ａ）］
本発明の感光性組成物は、近赤外線吸収色素（Ａ）を含む。
本発明の感光性組成物は、近赤外線吸収色素（Ａ）を含む。
【0026】
近赤外線吸収色素（Ａ）は、波長７００～２，０００ｎｍに極大吸収を有する化合物であり、顔料（近赤外線吸収顔料ともいう）であってもよく、染料（近赤外線吸収染料ともいう）であってもよい。また、近赤外線吸収顔料と近赤外線吸収染料を併用してもよい。耐熱性の観点から、近赤外線吸収顔料が好ましい。
本発明において、近赤外線吸収顔料は、２５℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００ｇに対する溶解度が、２ｇ未満であることが好ましく、１ｇ未満であることがより好ましく、０．５ｇ以下であることが特に好ましい。
本発明において、近赤外線吸収顔料は、２５℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００ｇに対する溶解度が、２ｇ未満であることが好ましく、１ｇ未満であることがより好ましく、０．５ｇ以下であることが特に好ましい。
【0027】
近赤外線吸収色素（Ａ）は、例えば、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、インジゴ化合物、インモニウム化合物、アントラキノン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物等が挙げられる。これらの中でも、耐光性、耐熱性の観点から、ナフタロシアニン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、インジゴ化合物からなる群から選ばれる１種以上を含むことが好ましく、ナフタロシアニン化合物、インジゴ化合物がより好ましい。また、保存安定性、異物の抑制の観点から、スクアリリウム化合物、インジゴ化合物を含むことが好ましい。
【0028】
シアニン化合物は、国際公開第２００６／００６５７３号、国際公開第２０１０／０７３８５７号、特開２０１３－２４１５９８号公報、特開２０１６－１１３５０１号公報、特開２０１６－１１３５０４号公報等；フタロシアニン化合物は、特開平４－２３８６８号公報、特開平０６－１９２５８４号公報、特開２０００－６３６９１号公報、国際公開第２０１４／２０８５１４号等；ナフタロシアニン化合物は、特開平１１－１５２４１４号公報、特開２０００－８６９１９号公報、特開２００９－２９９５５号公報、国際公開第２０１８／１８６４９０号等；インジゴ化合物は、特開２０１３－２３０４１２号公報等；インモニウム化合物は、特開２００５－３３６１５０号公報、特開２００７－１９７４９２号公報、特開２００８－８８４２６号公報等；アントラキノン化合物は、特開昭６２－９０３号公報、特開平１－１７２４５８号公報等；ピロロピロール化合物は、特開２００９－２６３６１４号公報、特開２０１０－９０３１３号公報、特開２０１１－０６８７３１号公報；スクアリリウム化合物は、特開２０１１－１３２３６１号公報、特開２０１６－１４２８９１号公報、国際公開第２０１７／１３５３５９号、国際公開第２０１８／２２５８３７号、特開２０１９－００１９８７号公報、国際公開第２０２０／０５４７１８号等；クロコニウム化合物は、国際公開第２０１９／０２１７６７号等に記載の化合物が挙げられる。
【0029】
（スクアリリウム化合物）
スクアリリウム化合物は、下記一般式（３）で表される化合物が好ましい。
スクアリリウム化合物は、下記一般式（３）で表される化合物が好ましい。
【0030】
一般式（３）
【化5】
【0031】
一般式（３）中、Ｒ１～Ｒ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、－ＯＲ１０、－ＣＯＲ１１、－ＣＯＯＲ１２、－ＯＣＯＲ１３、－ＮＲ１４Ｒ１５、－ＮＨＣＯＲ１６、－ＣＯＮＲ１７Ｒ１８、－ＮＨＣＯＮＲ１９Ｒ２０、－ＮＨＣＯＯＲ２１、－ＳＲ２２、－ＳＯ２Ｒ２３、－ＳＯ２ＯＲ２４、－ＮＨＳＯ２Ｒ２５、－ＳＯ２ＮＲ２６Ｒ２７、－Ｂ（ＯＲ２８）２、および－ＮＨＢＲ２９Ｒ３０を表す。Ｒ１０～Ｒ３０は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、およびアラルキル基を表す。なお、－ＣＯＯＲ１２のＲ１２が水素の場合（すなわち、カルボキシル基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボネート基）、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ２ＯＲ２４のＲ２４が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。また、Ｒ１とＲ２、Ｒ３とＲ４はお互いに結合して環を形成しても良い。
【0032】
「置換基」としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、
－ＯＲ１００、－ＣＯＲ１０１、－ＣＯＯＲ１０２、－ＯＣＯＲ１０３、－ＮＲ１０４Ｒ１０５、－ＮＨＣＯＲ１０６、－ＣＯＮＲ１０７Ｒ１０８、－ＮＨＣＯＮＲ１０９Ｒ１１０、－ＮＨＣＯＯＲ１１１、－ＳＲ１１２、－ＳＯ２Ｒ１１３、－ＳＯ２ＯＲ１１４、－ＮＨＳＯ２Ｒ１１５または－ＳＯ２ＮＲ１１６Ｒ１１７が挙げられる。
Ｒ１００～Ｒ１１７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、またはアラルキル基を表す。なお、－ＣＯＯＲ１０２のＲ１０２が水素の場合（すなわち、カルボキシル基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボネート基）、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ２ＯＲ１１４のＲ１１４が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。
－ＯＲ１００、－ＣＯＲ１０１、－ＣＯＯＲ１０２、－ＯＣＯＲ１０３、－ＮＲ１０４Ｒ１０５、－ＮＨＣＯＲ１０６、－ＣＯＮＲ１０７Ｒ１０８、－ＮＨＣＯＮＲ１０９Ｒ１１０、－ＮＨＣＯＯＲ１１１、－ＳＲ１１２、－ＳＯ２Ｒ１１３、－ＳＯ２ＯＲ１１４、－ＮＨＳＯ２Ｒ１１５または－ＳＯ２ＮＲ１１６Ｒ１１７が挙げられる。
Ｒ１００～Ｒ１１７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、またはアラルキル基を表す。なお、－ＣＯＯＲ１０２のＲ１０２が水素の場合（すなわち、カルボキシル基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボネート基）、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ２ＯＲ１１４のＲ１１４が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。
【0033】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１２がさらに好ましく、１～８が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでも良い。
アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がさらに好ましく、２～８が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでも良い。
アルキニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がさらに好ましく、２～８が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでも良い。
アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１５がさらに好ましく、６～１０が特に好ましい。
アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がさらに好ましく、７～２５が特に好ましい。
ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がさらに好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環が特に好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子、または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がさらに好ましく、３～１２が特に好ましい。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、およびアラルキル基は置換基を有していても良く、無置換であっても良い。置換基としては上述した「置換基」が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１２がさらに好ましく、１～８が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでも良い。
アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がさらに好ましく、２～８が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでも良い。
アルキニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がさらに好ましく、２～８が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでも良い。
アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１５がさらに好ましく、６～１０が特に好ましい。
アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がさらに好ましく、７～２５が特に好ましい。
ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がさらに好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環が特に好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子、または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がさらに好ましく、３～１２が特に好ましい。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、およびアラルキル基は置換基を有していても良く、無置換であっても良い。置換基としては上述した「置換基」が挙げられる。
【0034】
スクアリリウム化合物は、耐光性、耐熱性の観点から、下記一般式（４）で表される化合物がより好ましい。
【0035】
一般式（４）
【化6】
【0036】
一般式（４）中、Ｒ５～Ｒ８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、－ＯＲ５０、－ＣＯＲ５１、－ＣＯＯＲ５２、－ＯＣＯＲ５３、－ＮＲ５４Ｒ５５、－ＮＨＣＯＲ５６、－ＣＯＮＲ５７Ｒ５８、－ＮＨＣＯＮＲ５９Ｒ６０、－ＮＨＣＯＯＲ６１、－ＳＲ６２、－ＳＯ２Ｒ６３、－ＳＯ２ＯＲ６４、－ＮＨＳＯ２Ｒ６５または－ＳＯ２ＮＲ６６Ｒ６７、－Ｂ（ＯＲ６８）２、および－ＮＨＢＲ６９Ｒ７０を表す。Ｒ５０～Ｒ７０は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、およびアラルキル基を表す。なお、－ＣＯＯＲ５２のＲ５２が水素の場合（すなわち、カルボキシル基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボネート基）、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ２ＯＲ６４のＲ６４が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。また、Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８はお互いに結合して環を形成しても良い。
【0037】
「置換基」は、上述の「置換基」と同様の意義である。
【0038】
以下、一般式（４）で表される化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0039】
【化7】
【化8】
【0040】
（ピロロピロール化合物）
ピロロピロール化合物は、下記一般式（５）で表される化合物が好ましい。
ピロロピロール化合物は、下記一般式（５）で表される化合物が好ましい。
【0041】
一般式（５）
【化9】
【0042】
一般式（５）中、Ｒ１ｘ及びＲ１ｙは、各々独立に、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２及びＲ３は、各々独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ４ｘＲ４ｙ又は金属原子を表し、Ｒ４は、Ｒ１ｘ、Ｒ１ｙ及びＲ３からなる群から選ばれる少なくとも１つと共有結合又は配位結合してもよく、Ｒ４ｘＲ４ｙは各々独立に、置換基を表す。一般式（５）は、特開２００９－２６３６１４号公報、特開２０１１－６８７３１号公報、国際公開第２０１５／１６６８７３号に記載されている。
【0043】
Ｒ１ｘ及びＲ１ｙは、各々独立に、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。また、Ｒ１ｘ及びＲ１ｙが表すアルキル基、アリール基が及びヘテロアリール基は、置換基を有してもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＣＯＲ１１、－ＳＯＲ１２、－ＳＯ２Ｒ１３等が挙げられる。Ｒ１１～Ｒ１３は、各々独立に、炭化水素基又はヘテロアリール基を表す。また、置換基としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落００２０～００２２に記載の置換基が挙げられる。なかでも、置換基としては、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＣＯＲ１１、－ＳＯＲ１２、－ＳＯ２Ｒ１３が好ましい。Ｒ１ｘ及びＲ１ｙで表される基としては、分岐アルキル基を有するアルコキシ基、又は－ＯＣＯＲ１１で表される基を置換基として有するアリール基であることが好ましい。分岐アルキル基の炭素数は、３～３０が好ましく、３～２０がより好ましい。
【0044】
Ｒ２及びＲ３の少なくとも一方は電子吸引性基が好ましく、Ｒ２は電子吸引性基を表し、Ｒ３はヘテロアリール基を表すことがより好ましい。ヘテロアリール基は、５員環又は６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環又は縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２～４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられる。ヘテロアリール基は、窒素原子を１個以上有することが好ましい。一般式（５）における２個のＲ２同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、一般式（５）における２個のＲ３同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【0045】
Ｒ４は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、又は－ＢＲ４ｘＲ４ｙで表される基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、又は－ＢＲ４ｘＲ４ｙで表される基であることがより好ましく、－ＢＲ４ｘＲ４ｙで表される基であることが特に好ましい。Ｒ４ｘＲ４ｙが表す置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基がより好ましく、アリール基が特に好ましい。これらの基は、更に置換基を有してもよい。一般式（５）における２個のＲ４同士は同一または異なっていてもよい。
【0046】
以下、一般式（５）で表される化合物の具体例を示す。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。また、ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落００１６～００５８、特開２０１１－６８７３１号公報の段落００３７～００５２、特開２０１４－１３０３４３号公報の段落００１４～００２７、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落００１０～００３３に記載の化合物が挙げられる。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0047】
【化10】
【0048】
（ナフタロシアニン化合物）
ナフタロシアニン化合物は、下記一般式（６）で表される化合物が好ましい。
ナフタロシアニン化合物は、下記一般式（６）で表される化合物が好ましい。
【0049】
一般式（６）
【化11】
【0050】
一般式（６）中、Ｘ１～Ｘ８、Ｙｌ～Ｙ８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。また、Ｘ１～Ｘ８は、それぞれ独立に、互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成しても良い。ただし、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれか１つ以上は互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する。
Ｚは、下記一般式（７）で示す単量体単位を含む重合体部位、または下記一般式（８）で表すリン化合物部位であり、＊は、Ａｌとの結合手である。
Ｚは、下記一般式（７）で示す単量体単位を含む重合体部位、または下記一般式（８）で表すリン化合物部位であり、＊は、Ａｌとの結合手である。
【0051】
置換基を有してもよいアルキル基の「アルキル基」は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ネオペンチル基、ｎ－へキシル基、ｎ－オクチル基、ステアリル基、２－エチルへキシル基等の直鎖又は分岐アルキル基が挙げられる。「置換基を有するアルキル基」は、例えば、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、２，２－ジブロモエチル基、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル基、２－エトキシエチル基、２－ブトキシエチル基、２－ニトロプロピル基、ベンジル基、４－メチルベンジル基、４－ｔｅｒｔ－プチルベンジル基、４－メトキシベンジル基、４－ニトロベンジル基、２，４－ジクロロベンジル基等が挙げられる。
【0052】
置換基を有してもよいアリール基の「アリール基」は、例えば、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられる。
「置換基を有するアリール基」は、例えば、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ブロモフェニル基、ｐ－ニトロフェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、２，４－ジクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２－アミノフェニル基、２－メチル－４－クロロフェニル基、４－ヒドロキシ－１－ナフチル基、６－メチル－２－ナフチル基、４，５，８－トリクロロ－２－ナフチル基、アントラキノニル基、２－アミノアントラキノニル基等が挙げられる。
「置換基を有するアリール基」は、例えば、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ブロモフェニル基、ｐ－ニトロフェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、２，４－ジクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２－アミノフェニル基、２－メチル－４－クロロフェニル基、４－ヒドロキシ－１－ナフチル基、６－メチル－２－ナフチル基、４，５，８－トリクロロ－２－ナフチル基、アントラキノニル基、２－アミノアントラキノニル基等が挙げられる。
【0053】
置換基を有してもよいシクロアルキル基の「シクロアルキル基」は、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、アダマンチル基等が挙げられる。
「置換基を有するシクロアルキル基」は、例えば、２，５－ジメチルシクロペンチル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル基等が挙げられる。
「置換基を有するシクロアルキル基」は、例えば、２，５－ジメチルシクロペンチル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル基等が挙げられる。
【0054】
置換基を有してもよい複素環基の「複素環基」としては、ピリジル基、ピラジル基、ピペリジノ基、ピラニル基、モルホリノ基、アクリジニル基等が挙げられる。「置換基を有する複素環基」としては、３－メチルピリジル基、Ｎ－メチルピペリジル基、Ｎ－メチルピロリル基等が挙げられる。
【0055】
置換基を有してもよいアルコキシル基の「アルコキシル基」は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、２，３－ジメチル－３－ペンチルオキシ、ｎ－へキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ステアリルオキシ基、２－エチルへキシルオキシ基等の直鎖又は分岐アルコキシル基が挙げられる。
「置換基を有するアルコキシル基」は、例えば、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ基、２，２－ジトリフルオロメチルプロポキシ基、２－エトキシエトキシ基、２－ブトキシエトキシ基、２－ニトロプロポキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
「置換基を有するアルコキシル基」は、例えば、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ基、２，２－ジトリフルオロメチルプロポキシ基、２－エトキシエトキシ基、２－ブトキシエトキシ基、２－ニトロプロポキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
【0056】
置換基を有してもよいアリールオキシ基の「アリールオキシ基」は、例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基、アンスリルオキシ基等が挙げられ、
「置換基を有するアリールオキシ基」は、例えば、ｐ－メチルフェノキシ基、ｐ－ニトロフェノキシ基、ｐ－メトキシフェノキシ基、２，４－ジクロロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、２－メチル－４－クロロフェノキシ基等が挙げられる。
「置換基を有するアリールオキシ基」は、例えば、ｐ－メチルフェノキシ基、ｐ－ニトロフェノキシ基、ｐ－メトキシフェノキシ基、２，４－ジクロロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、２－メチル－４－クロロフェノキシ基等が挙げられる。
【0057】
置換基を有してもよいアルキルチオ基の「アルキルチオ基」は、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアルキルチオ基」は、例えば、メトキシエチルチオ基、アミノエチルチオ基、ベンジルアミノエチルチオ基、メチルカルボニルアミノエチルチオ基、フェニルカルボニルアミノエチルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアルキルチオ基」は、例えば、メトキシエチルチオ基、アミノエチルチオ基、ベンジルアミノエチルチオ基、メチルカルボニルアミノエチルチオ基、フェニルカルボニルアミノエチルチオ基等が挙げられる。
【0058】
置換基を有してもよいアリールチオ基の「アリールチオ基」は、例えば、フェニルチオ基、１－ナフチルチオ基、２－ナフチルチオ基、９－アンスリルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアリールチオ基」は、例えば、クロロフェニルチオ基、トリフルオロメチルフェニルチオ基、シアノフェニルチオ基、ニトロフェニルチオ基、２－アミノフェニルチオ基、２－ヒドロキシフェニルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアリールチオ基」は、例えば、クロロフェニルチオ基、トリフルオロメチルフェニルチオ基、シアノフェニルチオ基、ニトロフェニルチオ基、２－アミノフェニルチオ基、２－ヒドロキシフェニルチオ基等が挙げられる。
【0059】
置換基を有してもよい芳香環の置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基、カルボキシル基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基が挙げられる。
【0060】
一般式（７）
【化12】
【0061】
一般式（７）中、Ｘは、－ＣＯＮＨ－Ｒ２５－、－ＣＯＯ－Ｒ２６－、－ＣＯＮＨ－Ｒ２７－Ｏ－、－ＣＯＯ－Ｒ２８－Ｏ－である。Ｒ２５～Ｒ２８は、炭素原子と炭素原子の間が、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、または－ＮＨＣＯ－で連結されていても良いアルキレン基もしくはアリーレン基を表す。Ｒ３１は水素または、メチル基を表す。＊は、Ａｌとの結合手である。
【0062】
アルキレン基は、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられる。アリーレン基は、例えば、フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン基、ターフェニレン基、アンスリレン基があげられる。
【0063】
一般式（７）で示す単量体単位は、例えば、（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、（２－（メタ）アクリロイルオキシプロピル）アシッドホスフェート、（２－（メタ）アクリロイルオキシイソプロピル）アシッドホスフェート等の単量体を重合することで得られる。また、これら単量体以外の単量体（以下、その他単量体ともいう）を併用し共重合することもできる。
【0064】
その他単量体は、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリル、酸基含有モノマー、熱架橋性基含有モノマー等が挙げられる。
【0065】
重合体部位の重量平均分子量は、５，０００～２０，０００が好ましく、８，０００～１５，０００が好ましい。適度な分子量を有することで光学特性と耐熱性が向上する。
【0066】
重合体部位のガラス転移温度（Ｔｇ）は、－５０～１５０℃が好ましく、２０～８０℃がより好ましい。適度なＴｇにより光学特性が向上する。
【0067】
一般式（８）
【化13】
【0068】
一般式（８）中、Ｒ２９およびＲ３０は、それぞれ独立に、水酸基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシル基または置換基を有してもよいアリールオキシ基を表し、Ｒ２９とＲ３０は、互いに結合して環を形成しても良い。＊は、Ａｌとの結合手である。
【0069】
置換基を有してもよいアルキル基の「アルキル基」、置換基を有してもよいアリール基の「アリール基」、置換基を有してもよいアルコキシル基の「アルコキシル基」、置換基を有してもよいアリールオキシ基の「アリールオキシ基」は、上記一般式（６）の説明で例示したものと同じものがあげられる。
【0070】
一般式（８）は、分散性や色特性の観点から、Ｒ２９とＲ３０のうちの少なくとも１つが、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいアリールオキシ基が好ましく、Ｒ２９とＲ３０がいずれもアリール基、またはアリールオキシ基がより好ましく、Ｒ２９とＲ３０がいずれもフェニル基またはフェノキシ基がさらに好ましい。
【0071】
以下、一般式（６）で表される化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0072】
【化14】
【0073】
【化15】
【0074】
一般式（６）で表される化合物は、耐光性、耐熱性の観点から、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれか２つ以上が互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する化合物を含むことが好ましく、３つ以上が互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する化合物を含むことがより好ましい。
また、保存安定性、異物抑制の観点から、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれかが互いに結合して置換基を有してもよい芳香環の数が異なる化合物を２種以上併用することが好ましい。
また、保存安定性、異物抑制の観点から、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれかが互いに結合して置換基を有してもよい芳香環の数が異なる化合物を２種以上併用することが好ましい。
【0075】
（インジゴ化合物）
インジゴ化合物は、下記一般式（９）で表される化合物、又は一般式（１０）で表される化合物が好ましい。
インジゴ化合物は、下記一般式（９）で表される化合物、又は一般式（１０）で表される化合物が好ましい。
【0076】
【化16】
【0077】
一般式（９）及び一般式（１０）中、Ｘ１～Ｘ４０はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアリールアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基、アミノ基、置換基を有していてもよいアルキルアミノ基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、－ＳＯ３Ｈ；－ＣＯＯＨ；およびこれら酸性基の１価～３価の金属塩；アルキルアンモニウム塩を表す。Ｍは、金属原子を表す。
【0078】
置換基を有してもよいアルキル基の「アルキル基」は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ネオペンチル基、ｎ－へキシル基、ｎ－オクチル基、ステアリル基、２－エチルへキシル基等の直鎖又は分岐アルキル基が挙げられる。「置換基を有するアルキル基」は、例えば、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、２，２－ジブロモエチル基、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル基、２－エトキシエチル基、２－ブトキシエチル基、２－ニトロプロピル基、ベンジル基、４－メチルベンジル基、４－ｔｅｒｔ－プチルベンジル基、４－メトキシベンジル基、４－ニトロベンジル基、２，４－ジクロロベンジル基等が挙げられる。
【0079】
置換基を有してもよいアリール基の「アリール基」は、例えば、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられる。
「置換基を有するアリール基」は、例えば、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ブロモフェニル基、ｐ－ニトロフェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、２，４－ジクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２－アミノフェニル基、２－メチル－４－クロロフェニル基、４－ヒドロキシ－１－ナフチル基、６－メチル－２－ナフチル基、４，５，８－トリクロロ－２－ナフチル基、アントラキノニル基、２－アミノアントラキノニル基等が挙げられる。
「置換基を有するアリール基」は、例えば、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ブロモフェニル基、ｐ－ニトロフェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、２，４－ジクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２－アミノフェニル基、２－メチル－４－クロロフェニル基、４－ヒドロキシ－１－ナフチル基、６－メチル－２－ナフチル基、４，５，８－トリクロロ－２－ナフチル基、アントラキノニル基、２－アミノアントラキノニル基等が挙げられる。
【0080】
置換基を有してもよいアルコキシル基の「アルコキシル基」は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、２，３－ジメチル－３－ペンチルオキシ、ｎ－へキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ステアリルオキシ基、２－エチルへキシルオキシ基等の直鎖又は分岐アルコキシル基が挙げられる。
「置換基を有するアルコキシル基」は、例えば、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ基、２，２－ジトリフルオロメチルプロポキシ基、２－エトキシエトキシ基、２－ブトキシエトキシ基、２－ニトロプロポキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
「置換基を有するアルコキシル基」は、例えば、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ基、２，２－ジトリフルオロメチルプロポキシ基、２－エトキシエトキシ基、２－ブトキシエトキシ基、２－ニトロプロポキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
【0081】
置換基を有してもよいアリールオキシ基の「アリールオキシ基」は、例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基、アンスリルオキシ基等が挙げられ、「置換基を有するアリールオキシ基」は、例えば、ｐ－メチルフェノキシ基、ｐ－ニトロフェノキシ基、ｐ－メトキシフェノキシ基、２，４－ジクロロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、２－メチル－４－クロロフェノキシ基等が挙げられる。
【0082】
「置換基を有してもよいアリールアルキル基」は、例えば、ベンジル基、２－フェニルプロパン－イル基、スチリル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基等が挙げられる。
【0083】
置換基を有してもよいシクロアルキル基の「シクロアルキル基」は、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、アダマンチル基等が挙げられる。「置換基を有するシクロアルキル基」は、例えば、２，５－ジメチルシクロペンチル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル基等が挙げられる。
【0084】
置換基を有してもよいアルキルチオ基の「アルキルチオ基」は、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアルキルチオ基」は、例えば、メトキシエチルチオ基、アミノエチルチオ基、ベンジルアミノエチルチオ基、メチルカルボニルアミノエチルチオ基、フェニルカルボニルアミノエチルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアルキルチオ基」は、例えば、メトキシエチルチオ基、アミノエチルチオ基、ベンジルアミノエチルチオ基、メチルカルボニルアミノエチルチオ基、フェニルカルボニルアミノエチルチオ基等が挙げられる。
【0085】
置換基を有してもよいアリールチオ基の「アリールチオ基」は、例えば、フェニルチオ基、１－ナフチルチオ基、２－ナフチルチオ基、９－アンスリルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアリールチオ基」は、例えば、クロロフェニルチオ基、トリフルオロメチルフェニルチオ基、シアノフェニルチオ基、ニトロフェニルチオ基、２－アミノフェニルチオ基、２－ヒドロキシフェニルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアリールチオ基」は、例えば、クロロフェニルチオ基、トリフルオロメチルフェニルチオ基、シアノフェニルチオ基、ニトロフェニルチオ基、２－アミノフェニルチオ基、２－ヒドロキシフェニルチオ基等が挙げられる。
【0086】
置換基を有していてもよいアルキルアミノ基の「アルキルアミノ基」は、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、ドデシルアミノ基、オクタデシルアミノ基、イソプロピルアミノ基、イソブチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、ｓｅｃ－ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ－ブチルアミノ基、ｓｅｃ－ペンチルアミノ基、ｔｅｒｔ－ペンチルアミノ基、ｔｅｒｔ－オクチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、シクロブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、シクロヘプチルアミノ基、シクロオクチルアミノ基、シクロドデシルアミノ基、１－アダマンタミノ基、２－アダマンタミノ基等が挙げられる。
【0087】
置換基を有していてもよいアリールアミノ基の「アリールアミノ基」は、例えば、アニリノ基、１－ナフチルアミノ基、２－ナフチルアミノ基、ｏ－トルイジノ基、ｍ－トルイジノ基、ｐ－トルイジノ基、２－ビフェニルアミノ基、３－ビフェニルアミノ基、４－ビフェニルアミノ基、１－フルオレンアミノ基、２－フルオレンアミノ基、２－チアゾールアミノ基、ｐ－ターフェニルアミノ基等が挙げられる
【0088】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
【0089】
酸性基としては、－ＳＯ３Ｈ、－ＣＯＯＨが挙げられる。これら酸性基の１価～３価の金属塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩、鉄塩、アルミニウム塩等が挙げられる。また、酸性基のアルキルアンモニウム塩としては、オクチルアミン、ラウリルアミン、ステアリルアミン等の長鎖モノアルキルアミンのアンモニウム塩、パルミチルトリメチルアンモニウム、ラウリルトリメチルアンモニウム、ジラウリルジメチルアンモニウム、ジステアリルジメチルアンモニウム塩等の４級アルキルアンモニウム塩が挙げられる。
【0090】
上記の置換基の内、Ｘ１～Ｘ４０として好ましい置換基としては、水素原子、メチル基、メトキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、－ＳＯ３Ｈが挙げられる。
【0091】
Ｍは、金属原子を表す。金属原子としてはＺｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｂａ等が挙げられる。中でも２価金属原子が好ましく、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｎｉがより好ましい。
【0092】
以下、一般式（９）で表される化合物、又は一般式（１０）で表される化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0093】
【化17】
【0094】
【化18】
【0095】
【化19】
【0096】
【化20】
【0097】
近赤外線吸収色素（Ａ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。２種類以上併用して用いる場合、極大吸収波長の異なる少なくとも２種の化合物を用いることが好ましい。これにより、１種類の近赤外線吸収色素（Ａ）を使用した場合に比べて、吸収スペクトルの波形が広がり、幅広い波長範囲の近赤外線を吸収できる。
【0098】
近赤外線吸収色素（Ａ）の含有量は、近赤外線吸収性の観点から、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～７０質量％が好ましく、１～５０質量％がより好ましい。
【0099】
［重合性化合物（Ｂ）］
（一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１））
本発明の感光性組成物は、重合性化合物（Ｂ）を含み、重合性化合物（Ｂ）１００質量％中、下記一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）を５５質量％以上含む。
（一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１））
本発明の感光性組成物は、重合性化合物（Ｂ）を含み、重合性化合物（Ｂ）１００質量％中、下記一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）を５５質量％以上含む。
【0100】
一般式（１）
【化21】
【0101】
一般式（１）中、Ｒ１は、それぞれ独立に、水素原子、又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、又は下記一般式（２）で表される基である。
【0102】
一般式（２）
【化22】
【0103】
一般式（２）中、Ｌは二価の連結基を表し、＊は一般式（１）の酸素原子と結合する結合手である。
【0104】
一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）の製造方法は、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。例えば、一般式（１）において、Ｘが水素原子である重合性化合物は、酸性触媒の存在下に、（メタ）アクリル酸とペンタエリスリトールとを加熱・撹拌することで製造できる。
酸性触媒としては、例えば、硫酸、パラトルエンスルホン酸及びメタンスルホン酸等が挙げられる。また、反応温度は、適宜設定すればよいが、好ましい反応温度は７０～１４０℃である。
酸性触媒としては、例えば、硫酸、パラトルエンスルホン酸及びメタンスルホン酸等が挙げられる。また、反応温度は、適宜設定すればよいが、好ましい反応温度は７０～１４０℃である。
【0105】
反応に際しては、エステル化反応で生成する水との溶解度が低い有機溶剤を使用し、水を共沸させながら脱水を促進することが好ましい。有機溶剤としては、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレン、ヘキサン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。また、有機溶剤は、反応後に減圧蒸留により除去することが好ましい。
【0106】
また、一般式（１）において、Ｘが一般式（２）で表される基である重合性化合物は、例えば、上記（メタ）アクリル酸とペンタエリスリトールとの反応で得られたＸが水素原子である重合性化合物と酸無水物を、触媒の存在下、６０～１１０℃で１～２０時間反応させることで製造できる。
一般式（２）のＬは、二価の連結基であり、具体的には、酸無水物のカルボキシル基を除いた残基である。
酸無水物としては、例えば、無水コハク酸、ドデセニルコハク酸無水物、オクテニルコハク酸無水物、無水マレイン酸、無水グルタミン酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラメチレン無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等が挙げられる。なかでも、無水コハク酸、オクテニルコハク酸無水物、無水マレイン酸、無水フタル酸が好ましく、無水コハク酸、オクテニルコハク酸無水物がより好ましい。
触媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド等が挙げられる。
一般式（２）のＬは、二価の連結基であり、具体的には、酸無水物のカルボキシル基を除いた残基である。
酸無水物としては、例えば、無水コハク酸、ドデセニルコハク酸無水物、オクテニルコハク酸無水物、無水マレイン酸、無水グルタミン酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラメチレン無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等が挙げられる。なかでも、無水コハク酸、オクテニルコハク酸無水物、無水マレイン酸、無水フタル酸が好ましく、無水コハク酸、オクテニルコハク酸無水物がより好ましい。
触媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド等が挙げられる。
【0107】
一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）の含有量は、パターン形状の観点から、重合性化合物（Ｂ）１００質量％中、６５質量％以上が好ましい。
【0108】
一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）は、現像残渣、パターン形状の観点から、Ｘが一般式（２）で表される基である化合物がより好ましい。
【0109】
以下、一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0110】
【化23】
【0111】
【化24】
【0112】
（その他重合性化合物（Ｂ２））
重合性化合物（Ｂ）は、一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）以外の重合性化合物（Ｂ２）（以下、その他重合性化合物（Ｂ２）ともいう）を含有できる。
重合性化合物（Ｂ）は、一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１）以外の重合性化合物（Ｂ２）（以下、その他重合性化合物（Ｂ２）ともいう）を含有できる。
【0113】
その他重合性化合物（Ｂ２）は、特に制限はなく、公知のものを使用できる。例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、β－カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、９，９－ビス［４－（２－アクリロイルオキシエチルオキシ）フェニル］フルオレン、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、メチロール化メラミンの（メタ）アクリル酸エステル、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。
【0114】
その他重合性化合物（Ｂ２）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0115】
［光重合開始剤（Ｃ）］
本発明の感光性組成物は、光重合開始剤（Ｃ）を含む。
本発明の感光性組成物は、光重合開始剤（Ｃ）を含む。
【0116】
本発明に用いられる光重合開始剤（Ｃ）は、実質的にオキシム化合物を含まなければ特に制限はなく、公知のものを使用できる。なお、実質的に含まないとは、光重合開始剤（Ｃ）１００質量％中、０．１質量％以下であり、好ましくは０．０５質量％以下であり、より好ましくは０．０１質量％以下である。
【0117】
オキシム化合物以外の化合物としては、例えば、４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチル－ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－フェニル－プロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－（ジメチルアミノ）－１－［４－（４－モルホリノ）フェニル］－２－（フェニルメチル）－１－ブタノン、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン、１－（９，９－ジブチル－９Ｈ－フルオレン－２－イル）－２－メチル－２－モルフォリン－４－イル－プロパン－１－オン等のアルキルフェノン化合物；
２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ピペロニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－スチリル－ｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシ－ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（ピペロニル）－６－トリアジン、又は２，４－トリクロロメチル－（４’－メトキシスチリル）－６－トリアジン等のトリアジン化合物；
２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、又はジフェニル－２，４，６－トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物；
２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－ブロモフェニル））４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ，ｐ－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ｍ－メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２’－ビス（ｏ，ｏ’－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－ニトロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－メチルフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール等のビイミダゾール化合物；
９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン化合物；ボレート化合物；カルバゾール化合物；チタノセン化合物等が挙げられる。
また、特表２０１９－５０７１０８号公報、特表２０１９－５２８３３１号公報に記載の化合物等が挙げられる。
これらの中でも、パターン形状の観点から、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、及びビイミダゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、アルキルフェノン化合物を含むことがより好ましい。
２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ピペロニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－スチリル－ｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシ－ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（ピペロニル）－６－トリアジン、又は２，４－トリクロロメチル－（４’－メトキシスチリル）－６－トリアジン等のトリアジン化合物；
２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、又はジフェニル－２，４，６－トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物；
２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－ブロモフェニル））４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ，ｐ－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ｍ－メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２’－ビス（ｏ，ｏ’－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－ニトロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－メチルフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール等のビイミダゾール化合物；
９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン化合物；ボレート化合物；カルバゾール化合物；チタノセン化合物等が挙げられる。
また、特表２０１９－５０７１０８号公報、特表２０１９－５２８３３１号公報に記載の化合物等が挙げられる。
これらの中でも、パターン形状の観点から、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、及びビイミダゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、アルキルフェノン化合物を含むことがより好ましい。
【0118】
光重合開始剤（Ｃ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0119】
光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、近赤外線吸収色素（Ａ）１００質量部に対して、現像残渣、パターン形状の観点から、１～２０質量部であることが好ましく、３～１５質量部であることがより好ましい。
【0120】
［増感剤（Ｄ）］
本発明の感光性組成物は、増感剤（Ｄ）を含む。
本発明の感光性組成物は、増感剤（Ｄ）を含む。
【0121】
増感剤（Ｄ）は、例えば、カルコン化合物、ジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される１，２－ジケトン化合物、ベンゾイン化合物、フルオレン化合物、ナフトキノン化合物、アントラキノン化合物、キサンテン化合物、チオキサンテン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、クマリン化合物、ケトクマリン化合物、シアニン化合物、メロシアニン化合物、オキソノール化合物等のポリメチン色素、アクリジン化合物、アジン化合物、チアジン化合物、オキサジン化合物、インドリン化合物、アズレン化合物、アズレニウム化合物、スクアリリウム化合物、ポルフィリン化合物、テトラフェニルポルフィリン化合物、トリアリールメタン化合物、テトラベンゾポルフィリン化合物、テトラピラジノポルフィラジン化合物、フタロシアニン化合物、テトラアザポルフィラジン化合物、テトラキノキサリロポルフィラジン化合物、ナフタロシアニン化合物、サブフタロシアニン化合物、ピリリウム化合物、チオピリリウム化合物、テトラフィリン化合物、アヌレン化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、チオスピロピラン化合物、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体、又はベンゾフェノン化合物等が挙げられる。これらの中でも、現像残渣、パターン形状の観点から、ベンゾフェノン化合物（Ｄ１）、又はチオキサントン化合物（Ｄ２）が好ましく、ベンゾフェノン化合物（Ｄ１）がより好ましい。
【0122】
（ベンゾフェノン化合物（Ｄ１））
ベンゾフェノン化合物（Ｄ１）は、例えば、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２－アミノベンゾフェノン等が挙げられる。これらの中でも、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
ベンゾフェノン化合物（Ｄ１）は、例えば、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２－アミノベンゾフェノン等が挙げられる。これらの中でも、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【0123】
（チオキサントン化合物（Ｄ２））
チオキサントン化合物（Ｄ２）は、例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン等が挙げられる。これらの中でも、２，４－ジエチルチオキサントンが好ましい。
チオキサントン化合物（Ｄ２）は、例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン等が挙げられる。これらの中でも、２，４－ジエチルチオキサントンが好ましい。
【0124】
増感剤（Ｄ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0125】
増感剤（Ｄ）の含有量は、現像残渣、パターン形状の観点から、光重合開始剤（Ｃ）１００質量部に対して、１５０～４００質量部が好ましく、２００～３００質量部がより好ましい。
【0126】
［バインダ樹脂（Ｅ）］
本発明の感光性組成物は、パターン形状の観点から、バインダ樹脂（Ｅ）を含むことが好ましい。
本発明の感光性組成物は、パターン形状の観点から、バインダ樹脂（Ｅ）を含むことが好ましい。
【0127】
バインダ樹脂（Ｅ）は、特に制限がなく、公知の樹脂を用いることができる。例えば、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、環状オレフィン樹脂等が挙げられる。
【0128】
バインダ樹脂（Ｅ）は、現像残渣、パターン形状の観点から、酸基を有することが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基等が挙げられる。これらの中でも、カルボキシル基が好ましい。
【0129】
バインダ樹脂（Ｅ）は、側鎖に酸基を有する樹脂が好ましい。具体的には、アクリル酸共重合体、メタクリル酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂、ヒドロキシ基を有する樹脂に酸無水物を付加させた樹脂等が挙げられる。なかでも、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体との共重合体が好ましい。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（ＥＯ）変性クレゾールアクリレート、ｎ－ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート、フェノールのＥＯ変性（メタ）アクリレート、パラクミルフェノールのＥＯ又はプロピレンオキサイド（ＰＯ）変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノールのＥＯ変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノールのＰＯ変性（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－グリシドキシエチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、及び３，４－エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、又はアクリロイルモルホリン等の（メタ）アクリルアミド類；
スチレン、又はα－メチルスチレン等のスチレン類；
エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、又はイソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；
酢酸ビニル、又はプロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニル類；
シクロヘキシルマレイミド、フェニルマレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、１，２－ビスマレイミドエタン１，６－ビスマレイミドヘキサン、３－マレイミドプロピオン酸、６，７－メチレンジオキシ－４－メチル－３－マレイミドクマリン、４，４’－ビスマレイミドジフェニルメタン、ビス（３－エチル－５－メチル－４－マレイミドフェニル）メタン、Ｎ，Ｎ’－１，３－フェニレンジマレイミド、Ｎ，Ｎ’－１，４－フェニレンジマレイミド、Ｎ－（１－ピレニル）マレイミド、Ｎ－（２，４，６－トリクロロフェニル）マレイミド、Ｎ－（４－アミノフェニル）マレイミド、Ｎ－（４－ニトロフェニル）マレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－ブロモメチル－２，３－ジクロロマレイミド、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドベンゾエート、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドプロピオナート、Ｎ－スクシンイミジル－４－マレイミドブチラート、Ｎ－スクシンイミジル－６－マレイミドヘキサノアート、Ｎ－［４－（２－ベンゾイミダゾリル）フェニル］マレイミド、９－マレイミドアクリジン等のＮ－置換マレイミド類；
ジメチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジエチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｎ－プロピル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（イソプロピル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（２－エチルヘキシル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート等が挙げられる。これらの単量体は、単独または２種以上併用して使用できる。
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、又はアクリロイルモルホリン等の（メタ）アクリルアミド類；
スチレン、又はα－メチルスチレン等のスチレン類；
エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、又はイソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；
酢酸ビニル、又はプロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニル類；
シクロヘキシルマレイミド、フェニルマレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、１，２－ビスマレイミドエタン１，６－ビスマレイミドヘキサン、３－マレイミドプロピオン酸、６，７－メチレンジオキシ－４－メチル－３－マレイミドクマリン、４，４’－ビスマレイミドジフェニルメタン、ビス（３－エチル－５－メチル－４－マレイミドフェニル）メタン、Ｎ，Ｎ’－１，３－フェニレンジマレイミド、Ｎ，Ｎ’－１，４－フェニレンジマレイミド、Ｎ－（１－ピレニル）マレイミド、Ｎ－（２，４，６－トリクロロフェニル）マレイミド、Ｎ－（４－アミノフェニル）マレイミド、Ｎ－（４－ニトロフェニル）マレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－ブロモメチル－２，３－ジクロロマレイミド、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドベンゾエート、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドプロピオナート、Ｎ－スクシンイミジル－４－マレイミドブチラート、Ｎ－スクシンイミジル－６－マレイミドヘキサノアート、Ｎ－［４－（２－ベンゾイミダゾリル）フェニル］マレイミド、９－マレイミドアクリジン等のＮ－置換マレイミド類；
ジメチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジエチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｎ－プロピル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（イソプロピル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（２－エチルヘキシル）－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート等が挙げられる。これらの単量体は、単独または２種以上併用して使用できる。
【0130】
バインダ樹脂（Ｅ）は、パターン形状の観点から、重合性不飽和基を有することがより好ましい。重合性不飽和基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。重合性不飽和基は、熱で離脱する化合物（ブロック剤）で保護されていてもよい。重合性不飽和基を導入する方法は、例えば、樹脂（前駆体）の酸基、水酸基、エポキシ基等と結合可能な官能基及び重合性不飽和基を有する化合物（変性化合物）を反応させる方法が挙げられる。
官能基及び重合性不飽和基を有する化合物は、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－グリシドキシエチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、又は１，１－ビス〔メタアクリロイルオキシ〕エチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ－、ｍ－、ｐ－ビニル安息香酸、マロン酸－２－［［［［（２－メチル－１－オキソ－２－プロペニル）オキシ］エチル］アミノ］カルボニル］－１，３－ジエチルエステル等が挙げられる。
官能基及び重合性不飽和基を有する化合物は、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－グリシドキシエチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、又は１，１－ビス〔メタアクリロイルオキシ〕エチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ－、ｍ－、ｐ－ビニル安息香酸、マロン酸－２－［［［［（２－メチル－１－オキソ－２－プロペニル）オキシ］エチル］アミノ］カルボニル］－１，３－ジエチルエステル等が挙げられる。
【0131】
バインダ樹脂（Ｅ）は、重合性不飽和基を導入する際に、樹脂（前駆体）の酸基と官能基及び重合性不飽和基を有する化合物（変性化合物）との反応によって生じた水酸基に、さらに多塩基酸無水物（変性化合物）を反応させることもできる。
多塩基酸無水物は、例えば、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等が挙げられる。
多塩基酸無水物は、例えば、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等が挙げられる。
【0132】
バインダ樹脂（Ｅ）のガラス転移温度は、現像残渣、パターン形状の観点から、－１０～１４０℃が好ましく、０～１２０℃がより好ましく、１０～１００℃が特に好ましい。
【0133】
ガラス転移温度（以下、Ｔｇともいう）は、実測によって得られる測定Ｔｇを適用できる。具体的には、測定Ｔｇは、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって測定された値を用いることができる。
ただし、樹脂の分解等により測定が困難な場合は、下記式で求められる計算Ｔｇを適用する。
１／Ｔｇ＝Ｗ１／Ｔｇ１＋Ｗ２／Ｔｇ２＋・・・・・＋Ｗｎ／Ｔｇｎ
ここで、計算対象となる樹脂は、Ｗ１～Ｗｎまでのｎ種の単量体成分が共重合しているとし、Ｗｎはｎ番目の単量体の質量分率、Ｔｇｎはｎ番目の単量体の単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。なお、各単量体の単独重合体（以下、ホモポリマーともいう）のガラス転移温度の値は、Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｊ．Ｉｍｍｅｒｇｕｔ，Ｅ．Ｈ．編集「Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，Ｔｈｉｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ ｗｉｌｅｙ ＆ ｓｏｎｓ，１９８９」に示された値を使用する。
ただし、樹脂の分解等により測定が困難な場合は、下記式で求められる計算Ｔｇを適用する。
１／Ｔｇ＝Ｗ１／Ｔｇ１＋Ｗ２／Ｔｇ２＋・・・・・＋Ｗｎ／Ｔｇｎ
ここで、計算対象となる樹脂は、Ｗ１～Ｗｎまでのｎ種の単量体成分が共重合しているとし、Ｗｎはｎ番目の単量体の質量分率、Ｔｇｎはｎ番目の単量体の単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。なお、各単量体の単独重合体（以下、ホモポリマーともいう）のガラス転移温度の値は、Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｊ．Ｉｍｍｅｒｇｕｔ，Ｅ．Ｈ．編集「Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，Ｔｈｉｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ ｗｉｌｅｙ ＆ ｓｏｎｓ，１９８９」に示された値を使用する。
【0134】
バインダ樹脂（Ｅ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、現像残渣、パターン形状の観点から、２，０００～５０，０００が好ましく、３，０００～４０，０００がより好ましい。
【0135】
バインダ樹脂（Ｅ）の酸価は、現像残渣、パターン形状の観点から、４０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０～１８０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。
【0136】
バインダ樹脂（Ｅ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0137】
バインダ樹脂（Ｅ）の含有量は、近赤外線吸収色素（Ａ）１００質量部に対して、５～５００質量部が好ましく、１０～４００質量部がより好ましい。
【0138】
［着色剤（Ｆ）］
本発明の感光性組成物は、着色剤（Ｆ）を含有できる。
本発明の感光性組成物は、着色剤（Ｆ）を含有できる。
【0139】
着色剤（Ｆ）は、顔料及び染料のいずれでもよく、併用できる。
【0140】
（顔料）
顔料は、カラーインデックスにおいてピグメントに分類されている化合物が好ましい。
赤色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１，２，３，４，５，６，７，８，９，１２，１４，１５，１６，１７，２１，２２，２３，３１，３２，３７，３８，４１，４７，４８，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５０：１，５２：１，５２：２，５３，５３：１，５３：２，５３：３，５７，５７：１，５７：２，５８：４，６０，６３，６３：１，６３：２，６４，６４：１，６８，６９，８１，８１：１，８１：２，８１：３，８１：４，８３，８８，９０：１，１０１，１０１：１，１０４，１０８，１０８：１，１０９，１１２，１１３，１１４，１２２，１２３，１４４，１４６，１４７，１４９，１５１，１６６，１６８，１６９，１７０，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８１，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，１９３，１９４，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１４，２１６，２２０，２２１，２２４，２３０，２３１，２３２，２３３，２３５，２３６，２３７，２３８，２３９，２４２，２４３，２４５，２４７，２４９，２５０，２５１，２５３，２５４，２５５，２５６，２５７，２５８，２５９，２６０，２６２，２６３，２６４，２６５，２６６，２６７，２６８，２６９，２７０，２７１，２７２，２７３，２７４，２７５，２７６，２７７，２７８，２７９，２８０，２８１，２８２，２８３，２８４，２８５，２８６，２８７，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性、耐光性、及び透過率の観点から、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１，１２２，１７７，２２４，２４２，２６９，２５４，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７，２５４，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料がさらに好ましい。
顔料は、カラーインデックスにおいてピグメントに分類されている化合物が好ましい。
赤色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１，２，３，４，５，６，７，８，９，１２，１４，１５，１６，１７，２１，２２，２３，３１，３２，３７，３８，４１，４７，４８，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５０：１，５２：１，５２：２，５３，５３：１，５３：２，５３：３，５７，５７：１，５７：２，５８：４，６０，６３，６３：１，６３：２，６４，６４：１，６８，６９，８１，８１：１，８１：２，８１：３，８１：４，８３，８８，９０：１，１０１，１０１：１，１０４，１０８，１０８：１，１０９，１１２，１１３，１１４，１２２，１２３，１４４，１４６，１４７，１４９，１５１，１６６，１６８，１６９，１７０，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８１，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，１９３，１９４，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１４，２１６，２２０，２２１，２２４，２３０，２３１，２３２，２３３，２３５，２３６，２３７，２３８，２３９，２４２，２４３，２４５，２４７，２４９，２５０，２５１，２５３，２５４，２５５，２５６，２５７，２５８，２５９，２６０，２６２，２６３，２６４，２６５，２６６，２６７，２６８，２６９，２７０，２７１，２７２，２７３，２７４，２７５，２７６，２７７，２７８，２７９，２８０，２８１，２８２，２８３，２８４，２８５，２８６，２８７，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性、耐光性、及び透過率の観点から、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１，１２２，１７７，２２４，２４２，２６９，２５４，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７，２５４，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料がさらに好ましい。
【0141】
橙色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６，３８，４３，６４，７１，７３等が挙げられる。
【0142】
黄色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１，２，３，４，５，６，１０，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２６，１２７，１２８，１２９，１３８，１３９，１４７，１５０，１５１，１５２、１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９２，１９３，１９４，１９６，１９８，１９９，２１３，２１４，２３１，２３３、特開２０１２－２２６１１０号公報、特開２０１４－１２８３８号公報、特開２０１６－１８０１００号公報、特開２０１７－１７１９１２号公報、特開２０１７－１７１９１３号公報、特開２０１７－１７１９１４号公報に記載された顔料等が挙げられる。これらの中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８，１３９，１５０，１８５，２３１，２３３、特開２０１２－２２６１１０号公報、特開２０１４－１２８３８号公報に記載された顔料が好ましい。
【0143】
緑色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１，２，４，７，８，１０，１３，１４，１５，１７，１８，１９，２６，３６，３７，４５，４８，５０，５１，５４，５５，５８，５９，６２，６３等が挙げられる。これらの中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、５８、５９、６２、６３が好ましい。
【0144】
青色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１，１：２，９，１４，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，１７，１９，２５，２７，２８，２９，３３，３５，３６，５６，５６：１，６０，６１，６１：１，６２，６３，６６，６７，６８，７１，７２，７３，７４，７５，７６，７８，７９等が挙げられる。これらの中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６が好ましい。
【0145】
紫色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１，１：１，２，２：２，３，３：１，３：３，５，５：１，１４，１５，１６，１９，２３，２５，２７，２９，３１，３２，３７，３９，４２，４４，４７，４９，５０等が挙げられる。これらの中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９，２３が好ましい。
【0146】
黒色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１，６，７，１２，２０，３１等が挙げられる。また、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、及び紫色顔料から選ばれる少なくとも２種以上の顔料を用いて黒色としてもよい。
【0147】
顔料の中で無機顔料は、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄（ＩＩＩ））、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、合成鉄黒等が挙げられる。
【0148】
（染料）
染料は、例えば、酸性染料、直接染料、塩基性染料、造塩染料、油溶性染料、分散染料、反応染料、媒染染料、建染染料、硫化染料等が挙げられる。また、これらの誘導体や、染料をレーキ化したレーキ顔料も挙げられる。
染料は、例えば、酸性染料、直接染料、塩基性染料、造塩染料、油溶性染料、分散染料、反応染料、媒染染料、建染染料、硫化染料等が挙げられる。また、これらの誘導体や、染料をレーキ化したレーキ顔料も挙げられる。
【0149】
酸性染料は、スルホン酸やカルボン酸等の酸性基を有することが好ましい。また、酸性染料と、四級アンモニウム塩化合物、三級アミン化合物、二級アミン化合物、または一級アミン化合物等の含窒素化合物との塩である造塩化合物が好ましい。また、これらの官能基を有する樹脂成分と酸性染料との塩である造塩化合物も好ましい。また、造塩化合物は、スルホンアミド化してスルホン酸アミド化合物に変性することで耐性（耐光性、耐溶剤性）に優れた感光性組成物を得やすい。
また、酸性染料とオニウム塩基を有する化合物との造塩化合物も、耐性（耐光性、溶剤耐性）に優れるため好ましい。なお、オニウム塩基を有する化合物は、カチオン性基を有する樹脂が好ましい。
また、酸性染料とオニウム塩基を有する化合物との造塩化合物も、耐性（耐光性、溶剤耐性）に優れるため好ましい。なお、オニウム塩基を有する化合物は、カチオン性基を有する樹脂が好ましい。
【0150】
塩基性染料は、そのままでも使用できるが、有機酸や過塩素酸またはその金属塩と塩を形成する造塩化合物が好ましい。塩基性染料の造塩化合物は、耐性（耐光性、耐溶剤性）や、顔料との親和性が優れているため好ましい。また、塩基性染料の造塩化合物で、カウンタイオンとしてはたらくアニオン成分は、有機スルホン酸、有機硫酸、フッ素基含有リンアニオン化合物、フッ素基含有ホウ素アニオン化合物、シアノ基含有窒素アニオン化合物、ハロゲン化炭化水素基を有する有機酸の共役塩基を有するアニオン化合物、酸性染料とを造塩した造塩化合物が好ましい。なお、造塩化合物は、分子中に重合性不飽和基を含有すると耐性がより向上する。
【0151】
染料の化学構造は、例えば、アゾ系染料、ジスアゾ系染料、アゾメチン系染料（インドアニリン系染料、インドフェノール系染料など）、ジピロメテン系染料、キノン系染料（ベンゾキノン系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、アントラピリドン系染料など）、カルボニウム系染料（ジフェニルメタン系染料、トリフェニルメタン系染料、キサンテン系染料、アクリジン系染料など）、キノンイミン系染料（オキサジン系染料、チアジン系染料など）、アジン系染料、ポリメチン系染料（オキソノール系染料、メロシアニン系染料、アリーリデン系染料、スチリル系染料、シアニン系染料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料など）、キノフタロン系染料、フタロシアニン系染料、サブフタロシアニン系染料、ペリノン系染料、インジゴ系染料、チオインジゴ系染料、キノリン系染料、ニトロ系染料、ニトロソ系染料、ローダミン系染料、及びそれらの金属錯体系染料等から選ばれる染料に由来する色素構造が挙げられる。
【0152】
これらの中でも、色相、色分離性、色むらなどの色特性の観点から、アゾ系染料、キサンテン系染料、シアニン系染料、トリフェニルメタン系染料、アントラキノン系染料、ジピロメテン系染料、スクアリリウム系染料、キノフタロン系染料、フタロシアニン系染料、サブフタロシアニン系染料から選ばれる色素に由来する色素構造が好ましく、キサンテン系染料、シアニン系染料、トリフェニルメタン系染料、アントラキノン系染料、ジピロメテン系染料、フタロシアニン系染料から選ばれる色素に由来する色素構造がより好ましい。
【0153】
着色剤（Ｆ）は、単独、または２種類以上を併用して使用することができる。
【0154】
着色剤（Ｆ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、１０質量％以下が好ましい。
【0155】
（顔料の微細化）
有機顔料は、微細化して用いることが好ましい。微細化方法は、特に限定されるものではなく、例えば、湿式磨砕、乾式磨砕、溶解析出法いずれも使用できる。これらの中でも、湿式磨砕の１種であるニーダー法によるソルトミリング処理が好ましい。微細化顔料のＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）により求められる平均一次粒子径は、５～９０ｎｍが好ましい。なお、分散性、コントラスト比の観点から、平均一次粒子径は１０～７０ｎｍがより好ましい。
有機顔料は、微細化して用いることが好ましい。微細化方法は、特に限定されるものではなく、例えば、湿式磨砕、乾式磨砕、溶解析出法いずれも使用できる。これらの中でも、湿式磨砕の１種であるニーダー法によるソルトミリング処理が好ましい。微細化顔料のＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）により求められる平均一次粒子径は、５～９０ｎｍが好ましい。なお、分散性、コントラスト比の観点から、平均一次粒子径は１０～７０ｎｍがより好ましい。
【0156】
ソルトミリング処理には、必要に応じて樹脂を添加してもよい。前記樹脂の種類は特に限定されず、天然樹脂、変性天然樹脂、合成樹脂、天然樹脂で変性された合成樹脂等が挙げられる。これらの中でも、室温で固体であり、水不溶性であることが好ましく、かつ上記有機溶剤に一部可溶であることが好ましい。樹脂の添加量は、顔料１００質量部に対して、２～２００質量部が好ましい。
【0157】
［分散樹脂（Ｇ）］
本発明の感光性組成物は、分散樹脂（Ｇ）を含有できる。
本発明の感光性組成物は、分散樹脂（Ｇ）を含有できる。
【0158】
分散樹脂（Ｇ）は、近赤外線吸収色素（Ａ）に親和性が高い吸着基を有している樹脂が好ましい。吸着基は、塩基性基、及び酸性基のうち１種以上有していることが好ましい。
【0159】
塩基性基は、例えば、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、４級アンモニウム塩基、及び含窒素複素環など窒素原子を含有する基等が挙げられる。
【0160】
酸性基は、例えば、カルボキシル基、リン酸基、及びスルホン酸基等が挙げられる。
【0161】
分散樹脂（Ｇ）の樹脂種は、例えば、ウレタン樹脂、ポリアクリレート等のポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸（部分）アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、水酸基含有ポリカルボン酸エステルや、これらの変性物、ポリ（低級アルキレンイミン）と遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応により形成されたアミドやその塩等、（メタ）アクリル酸－スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸－（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン－マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加化合物、リン酸エステル系等が挙げられる。
【0162】
分散樹脂（Ｇ）の構造は、例えば、ランダム構造、ブロック構造、グラフト構造、くし型構造、及び星型構造等が挙げられる。これらの中でも、分散安定性の観点から、ブロック構造、又はくし型構造が好ましい。
【0163】
分散樹脂（Ｇ）の市販品は、例えば、ビックケミー・ジャパン社製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋ－１０１，１０３，１０７，１０８，１１０，１１１，１１６，１３０，１４０，１５４，１６１，１６２，１６３，１６４，１６５，１６６，１６７，１６８，１７０，１７１，１７４，１８０，１８１，１８２，１８３，１８４，１８５，１９０，２０００，２００１，２００９，２０１０，２０２０，２０２５，２０５０，２０７０，２０９５，２１５０，２１５５，２１６３，２１６４、またはＡｎｔｉ－Ｔｅｒｒａ－Ｕ２０３，２０４、またはＢＹＫ－Ｐ１０４，Ｐ１０４Ｓ，２２０Ｓ、またはＬａｃｔｉｍｏｎ、Ｌａｃｔｉｍｏｎ－ＷＳ、またはＢｙｋｕｍｅｎ等、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥ－３０００，９０００，１３０００，１３２４０，１３６５０，１３９４０，１６０００，１７０００，１８０００，２００００，２１０００，２４０００，２６０００，２７０００，２８０００，３１８４５，３２０００，３２５００，３２５５０，３３５００，３２６００，３４７５０，３５１００，３６６００，３８５００，４１０００，４１０９０，５３０９５，５５０００，５６０００，７６５００等、ＢＡＳＦジャパン社製のＥＦＫＡ－４６，４７，４８，４５２，４００８，４００９，４０１０，４０１５，４０２０，４０４７，４０５０，４０５５，４０６０，４０８０，４４００，４４０１，４４０２，４４０３，４４０６，４４０８，４３００，４３１０，４３２０，４３３０，４３４０，４５０，４５１，４５３，４５４０，４５５０，４５６０，４８００，５０１０，５０６５，５０６６，５０７０，７５００，７５５４，１１０１，１２０，１５０，１５０１，１５０２，１５０３等、味の素ファインテクノ社製のアジスーパーＰＡ１１１，ＰＢ７１１，ＰＢ８２１，ＰＢ８２２，ＰＢ８２４等、特開２００８－０２９９０１号公報、特開２００９－１５５４０６号公報、特開２０１０－１８５９３４号公報、特開２０１１－１５７４１６号公報、国際公開第２００８／００７７７６号、特開２００８－０２９９０１号公報、特開２００９－１５５４０６号公報、特開２０１０－１８５９３４号公報、特開２０１１－１５７４１６号公報、特開２００９－２５１４８１号公報、特開２００７－２３１９５号公報、特開１９９６－１４３６５１号公報等に記載の樹脂が挙げられる。
【0164】
分散樹脂（Ｇ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0165】
分散樹脂（Ｇ）の含有量は、保存安定性の観点から、近赤外線吸収色素（Ａ）１００質量部に対して、３～２００質量部が好ましく、５～１００質量部がより好ましい。
【0166】
［色素誘導体（Ｈ）］
本発明の感光性組成物は、色素誘導体（Ｈ）を含有できる。
本発明の感光性組成物は、色素誘導体（Ｈ）を含有できる。
【0167】
色素誘導体（Ｈ）は、特に制限はなく、有機色素残基に酸性基、塩基性基、中性基などを有する色素誘導体が挙げられる。色素誘導体（Ｈ）は、例えば、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基などの酸性置換基を有する化合物、およびこれらのアミン塩や、スルホンアミド基や末端に３級アミノ基などの塩基性置換基を有する化合物、フェニル基やフタルイミドアルキル基などの中性置換基を有する化合物が挙げられる。
有機色素は、例えば、ピロロピロール系化合物、アントラキノン系化合物、キナクリドン系化合物、ジオキサジン系化合物、ペリノン系化合物、ペリレン系化合物、チアジンインジゴ系化合物、トリアジン系化合物、ベンズイミダゾロン系化合物、ベンゾイソインドール等のインドール系化合物、イソインドリン系化合物、イソインドリノン系化合物、キノフタロン系化合物、ナフトール系化合物、スレン系化合物、金属錯体系化合物、アゾ、ジスアゾ、ポリアゾ等のアゾ系化合物、スクアリリウム化合物等が挙げられる。
有機色素は、例えば、ピロロピロール系化合物、アントラキノン系化合物、キナクリドン系化合物、ジオキサジン系化合物、ペリノン系化合物、ペリレン系化合物、チアジンインジゴ系化合物、トリアジン系化合物、ベンズイミダゾロン系化合物、ベンゾイソインドール等のインドール系化合物、イソインドリン系化合物、イソインドリノン系化合物、キノフタロン系化合物、ナフトール系化合物、スレン系化合物、金属錯体系化合物、アゾ、ジスアゾ、ポリアゾ等のアゾ系化合物、スクアリリウム化合物等が挙げられる。
【0168】
具体的には、ピロロピロール系色素誘導体としては、特開２００１－２２０５２０号公報、国際公開第２００９／０８１９３０号、国際公開第２０１１／０５２６１７号、国際公開第２０１２／１０２３９９号、特開２０１７－１５６３９７号公報、国際公開２０１７／１４６０９２号、フタロシアニン系色素誘導体としては、特開２００７－２２６１６１号公報、国際公開第２０１６／１６３３５１号、特開２０１７－１６５８２０号公報、特許第５７５３２６６号公報、アントラキノン系色素誘導体としては、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０９－２７２８１２号公報、特開平１０－２４５５０１号公報、特開平１０－２６５６９７号公報、特開２００７－０７９０９４号公報、国際公開第２００９／０２５３２５号、キナクリドン系色素誘導体としては、特開昭４８－５４１２８号公報、特開平０３－９９６１号公報、特開２０００－２７３３８３号公報、ジオキサジン系色素誘導体としては、特開２０１１－１６２６６２号公報、チアジンインジゴ系色素誘導体としては、特開２００７－３１４７８５号公報、トリアジン系色素誘導体としては、特開昭６１－２４６２６１号公報、特開平１１－１９９７９６号公報、特開２００３－１６５９２２号公報、特開２００３－１６８２０８号公報、特開２００４－２１７８４２号公報、特開２００７－３１４６８１号公報、ベンゾイソインドール系色素誘導体としては、特開２００９－５７４７８号公報、キノフタロン系色素誘導体としては、特開２００３－１６７１１２号公報、特開２００６－２９１１９４号公報、特開２００８－３１２８１号公報、特開２０１２－２２６１１０号公報、ナフトール系色素誘導体としては、特開２０１２－２０８３２９号公報、特開２０１４－５４３９号公報、アゾ系色素誘導体としては、特開２００１－１７２５２０号公報、特開２０１２－１７２０９２号公報、スクアリリウム系色素誘導体としては、国際公開２０１８／２３０３８７号に記載の化合物等が挙げられる。
酸性置換基としては、特開２００４－３０７８５４号公報、塩基性置換基としては、特開２００２－２０１３７７号公報、特開２００３－１７１５９４号公報、特開２００５－１８１３８３号公報、特開２００５－２１３４０４号公報等に記載の公知の色素誘導体が挙げられる。なお、これらの文献には、色素誘導体を誘導体、顔料誘導体、分散剤、顔料分散剤若しくは単に化合物などと記載している場合があるが、前記した有機色素残基に酸性基、塩基性基、中性基などの置換基を有する化合物は、色素誘導体と同義である。
酸性置換基としては、特開２００４－３０７８５４号公報、塩基性置換基としては、特開２００２－２０１３７７号公報、特開２００３－１７１５９４号公報、特開２００５－１８１３８３号公報、特開２００５－２１３４０４号公報等に記載の公知の色素誘導体が挙げられる。なお、これらの文献には、色素誘導体を誘導体、顔料誘導体、分散剤、顔料分散剤若しくは単に化合物などと記載している場合があるが、前記した有機色素残基に酸性基、塩基性基、中性基などの置換基を有する化合物は、色素誘導体と同義である。
【0169】
色素誘導体（Ｈ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0170】
［熱硬化性化合物（Ｉ）］
本発明の感光性組成物は、熱硬化性化合物（Ｉ）を含有できる。これにより、加熱工程で熱硬化性化合物（Ｉ）が反応し、架橋密度が高まるため耐熱性が向上する。
本発明の感光性組成物は、熱硬化性化合物（Ｉ）を含有できる。これにより、加熱工程で熱硬化性化合物（Ｉ）が反応し、架橋密度が高まるため耐熱性が向上する。
【0171】
熱硬化性化合物（Ｉ）は、低分子化合物や、樹脂のような高分子量化合物でもよい。熱硬化性化合物（Ｉ）は、例えば、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ベンゾグアナミン化合物、ロジン変性マレイン酸化合物、ロジン変性フマル酸化合物、メラミン化合物、尿素化合物、及びフェノール化合物が挙げられる。これらの中でもエポキシ化合物およびオキセタン化合物が好ましい。
【0172】
（エポキシ化合物（Ｉ１））
エポキシ化合物（Ｉ１）は、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ビフェノール、ビスフェノールＡＤ等）、フェノール類（フェノール、アルキル置換フェノール、芳香族置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、アルキル置換ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等）と各種アルデヒド（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アルキルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アルキル置換ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ナフトアルデヒド、グルタルアルデヒド、フタルアルデヒド、クロトンアルデヒド、シンナムアルデヒド等）との重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物（ジシクロペンタジエン、テルペン類、ビニルシクロヘキセン、ノールボルナジエン、ビニルノールボルネン、テトラヒドロインデン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロペニルビフェニル、ブタジエン、イソプレン等）との重合物、フェノール類とケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン等）との重縮合物、フェノール類と芳香族ジメタノール類（ベンゼンジメタノール、α，α，α’，α’－ベンゼンジメタノール、ビフェニルジメタノール、α，α，α’，α’－ビフェニルジメタノール等）との重縮合物、フェノール類と芳香族ジクロロメチル類（α，α’－ジクロロキシレン、ビスクロロメチルビフェニル等）との重縮合物、ビスフェノール類と各種アルデヒドの重縮合物、アルコール類等をグリシジル化したグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられる。
エポキシ化合物（Ｉ１）は、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ビフェノール、ビスフェノールＡＤ等）、フェノール類（フェノール、アルキル置換フェノール、芳香族置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、アルキル置換ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等）と各種アルデヒド（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アルキルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アルキル置換ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ナフトアルデヒド、グルタルアルデヒド、フタルアルデヒド、クロトンアルデヒド、シンナムアルデヒド等）との重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物（ジシクロペンタジエン、テルペン類、ビニルシクロヘキセン、ノールボルナジエン、ビニルノールボルネン、テトラヒドロインデン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロペニルビフェニル、ブタジエン、イソプレン等）との重合物、フェノール類とケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン等）との重縮合物、フェノール類と芳香族ジメタノール類（ベンゼンジメタノール、α，α，α’，α’－ベンゼンジメタノール、ビフェニルジメタノール、α，α，α’，α’－ビフェニルジメタノール等）との重縮合物、フェノール類と芳香族ジクロロメチル類（α，α’－ジクロロキシレン、ビスクロロメチルビフェニル等）との重縮合物、ビスフェノール類と各種アルデヒドの重縮合物、アルコール類等をグリシジル化したグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられる。
【0173】
市販品は、例えば、油化シェルエポキシ社製のエピコート８０７，８１５，８２５，８２７，８２８，１９０Ｐ，１９１Ｐ、三井化学社製のＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ、日本化薬社製のＥＰＰＮ－２０１，５０１Ｈ，５０２Ｈ、ＥＯＣＮ－１０２Ｓ，１０３Ｓ，１０４Ｓ，１０２０ジャパンエポキシレジン社製のエピコート１００４，１２５６、ＪＥＲ１０３２Ｈ６０，１５７Ｓ６５，１５７Ｓ７０，１５２，１５４、ダイセル化学工業社製のセロキサイド２０２１、ＥＨＰＥ－３１５０、ナガセケムテックス社製のデナコールＥＸ－２１１，２１２，２５２，３１３，３１４，３２１，４１１，４２１，５１２，５２１，６１１，６１２，６１４，６１４Ｂ，６２２，７１１，７２１、日産化学工業社製のＴＥＰＩＣ－Ｌ，Ｈ，Ｓ等が挙げられる。
【0174】
エポキシ化合物（Ｉ１）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～５０質量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましい。
【0175】
（オキセタン化合物（Ｉ２））
オキセタン化合物（Ｉ２）は、オキセタン基を有する公知の化合物である。オキセタン化合物は、１官能オキセタン化合物、２官能オキセタン化合物、３官能以上のオキセタン化合物が挙げられる。
オキセタン化合物（Ｉ２）は、オキセタン基を有する公知の化合物である。オキセタン化合物は、１官能オキセタン化合物、２官能オキセタン化合物、３官能以上のオキセタン化合物が挙げられる。
【0176】
１官能オキセタン化合物は、例えば、（３－エチルオキセタン－３－イル）メチルアクリレート、 （３－エチルオキセタン－３－イル）メチルメタクリレート、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－メタクリロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－｛［３－（トリエトキシシリル）プロポキシ］メチル｝オキセタン等が挙げられる。
【0177】
市販品は、例えば、大阪有機化学工業社製のＯＸＥ－１０，３０、東亞合成社製のＯＸＴ－１０１，２１２等が挙げられる。
【0178】
２官能オキセタン化合物は、例えば、４，４’－ビス［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル）、１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン、１，４－ビス｛［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、ジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテル、ジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテル３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－フェノキシメチル）オキセタン、３，７－ビス（３－オキセタニル）－５－オキサ－ノナン、１，２－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコ－スビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、１，４－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ポリエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、エチレンオキシド（ＥＯ）変性ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、プロピレンオキシド（ＰＯ）変性ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＦ（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。
【0179】
市販品は、例えば、宇部興産社製のＯＸＢＰ、ＯＸＴＰ、東亞合成社製ＯＸＴ－１２１，２２１等が挙げられる。
【0180】
３官能以上のオキセタン化合物は、例えば、ペンタエリスリトールトリス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサ（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジトリメチロ－ルプロパンテトラキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、オキセタン基を含有する樹脂（例えば、特許第３７８３４６２号記載のオキセタン変性フェノールノボラック樹脂等）や前述のＯＸＥ－３０のような（メタ）アクリルモノマーをラジカル重合させて得られる重合体が挙げられる。
【0181】
オキセタン化合物（Ｉ２）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～５０質量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましい。
【0182】
メラミン化合物は、メラミン環構造を有する化合物である。メラミン化合物は、メチロール型やエーテル型の化合物が好ましく、メラミン環１個当たりのメチロール基および／またはエーテル基数が平均５．０以上のメラミン化合物がより好ましい。適度にメチロール基やエーテル基数を有すると過不足ない耐熱性が得やすい。
【0183】
市販品は、例えば、三和ケミカル社製の二カラックＭＷ－３０ＨＭ，ＭＷ－３９０，ＭＷ－１００ＬＭ，ＭＸ－７５０ＬＭ，ＭＷ－３０Ｍ，ＭＷ－３０，ＭＷ－２２，ＭＳ－２１，ＭＳ－１１，ＭＷ－２４Ｘ，ＭＳ－００１，ＭＸ－００２，ＭＸ－７３０，ＭＸ－７５０，ＭＸ－７０８，ＭＸ－７０６，ＭＸ－０４２，ＭＸ－４５，ＭＸ－５００，ＭＸ－５２０，ＭＸ－４３，ＭＸ－４１７，ＭＸ－４１０、日本サイテックインダストリーズ社製のサイメル２３２，２３５，２３６，２３８，２８５，３００，３０１，３０３，３５０，３７０等が挙げられる。
【0184】
これらの中でもメラミン環１個当たりのメチロール基、及び／又は、エーテル基数が平均５．０以上である、三和ケミカル社製のニカラックＭＷ－３０ＨＭ、ＭＷ－３９０、ＭＷ－１００ＬＭ、ＭＸ－７５０ＬＭ、ＭＷ－３０Ｍ、ＭＷ－３０、ＭＷ－２２、ＭＳ－２１、ＭＳ－１１、ＭＷ－２４Ｘ、ＭＸ－４５、日本サイテックインダストリーズ社製のサイメル２３２，２３５，２３６，２３８，３００，３０１，３０３，３５０等は、架橋密度を高められる面で好ましい。
【0185】
熱硬化性化合物（Ｉ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0186】
［硬化剤（硬化促進剤）］
本発明の感光性組成物は、熱硬化性化合物（Ｉ）の硬化を補助するため、硬化剤（硬化促進剤）を併用できる。硬化剤は、例えば、アミン系化合物、酸無水物、活性エステル、カルボン酸系化合物、スルホン酸系化合物等が挙げられる。硬化剤は、例えば、アミン化合物（例えば、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、４－（ジメチルアミノ）－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、４－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、４－メチル－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン等）、４級アンモニウム塩化合物（例えば、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等）、ブロックイソシアネート化合物（例えば、ジメチルアミン等）、イミダゾール誘導体二環式アミジン化合物及びその塩（例えば、イミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、４－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－（２－シアノエチル）－２－エチル－４－メチルイミダゾール等）、リン化合物（例えば、トリフェニルホスフィン等）、Ｓ－トリアジン誘導体（例えば、２，４－ジアミノ－６－メタクリロイルオキシエチル－Ｓ－トリアジン、２－ビニル－２，４－ジアミノ－Ｓ－トリアジン、２－ビニル－４，６－ジアミノ－Ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２，４－ジアミノ－６－メタクリロイルオキシエチル－Ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物等）等が挙げられる。
本発明の感光性組成物は、熱硬化性化合物（Ｉ）の硬化を補助するため、硬化剤（硬化促進剤）を併用できる。硬化剤は、例えば、アミン系化合物、酸無水物、活性エステル、カルボン酸系化合物、スルホン酸系化合物等が挙げられる。硬化剤は、例えば、アミン化合物（例えば、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、４－（ジメチルアミノ）－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、４－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、４－メチル－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン等）、４級アンモニウム塩化合物（例えば、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等）、ブロックイソシアネート化合物（例えば、ジメチルアミン等）、イミダゾール誘導体二環式アミジン化合物及びその塩（例えば、イミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、４－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－（２－シアノエチル）－２－エチル－４－メチルイミダゾール等）、リン化合物（例えば、トリフェニルホスフィン等）、Ｓ－トリアジン誘導体（例えば、２，４－ジアミノ－６－メタクリロイルオキシエチル－Ｓ－トリアジン、２－ビニル－２，４－ジアミノ－Ｓ－トリアジン、２－ビニル－４，６－ジアミノ－Ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２，４－ジアミノ－６－メタクリロイルオキシエチル－Ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物等）等が挙げられる。
【0187】
硬化剤は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0188】
硬化剤の含有量は、熱硬化性化合物（Ｉ）１００質量部に対して、０．０１～１５質量部が好ましい。
【0189】
［チオール系連鎖移動剤（Ｊ）］
本発明の感光性組成物は、チオール系連鎖移動剤（Ｊ）を含有できる。チオール系連鎖移動剤（Ｊ）は、光重合開始剤（Ｃ）と併用すると光照射後のラジカル重合の際、酸素による重合阻害を受けにくいチイルラジカルが発生し、感光性組成物の光感度が向上する。
本発明の感光性組成物は、チオール系連鎖移動剤（Ｊ）を含有できる。チオール系連鎖移動剤（Ｊ）は、光重合開始剤（Ｃ）と併用すると光照射後のラジカル重合の際、酸素による重合阻害を受けにくいチイルラジカルが発生し、感光性組成物の光感度が向上する。
【0190】
チオール系連鎖移動剤（Ｊ）は、チオール基（ＳＨ基）を２以上有する多官能チオールが好ましく、４以上有する多官能チオールがより好ましい。官能基数が増えると膜の表面から最深部まで光硬化し易くなる。
【0191】
多官能チオールは、例えば、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４－ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロ－ルプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロ－ルプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６－トリメルカプト－ｓ－トリアジン、２－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－４，６－ジメルカプト－ｓ－トリアジンなどが挙げられ、好ましくは、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート等が挙げられる。
【0192】
チオール系連鎖移動剤（Ｊ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0193】
チオール系連鎖移動剤（Ｊ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量部に対して、１～１０質量部が好ましく、２～８質量部がより好ましい。適量含有すると光感度が向上し、硬化膜の表面にシワが発生し難くなる。
【0194】
［重合禁止剤（Ｋ）］
本発明の感光性組成物は、重合禁止剤（Ｋ）を含有できる。
本発明の感光性組成物は、重合禁止剤（Ｋ）を含有できる。
【0195】
重合禁止剤（Ｋ）は、例えば、カテコール、レゾールシノール、１，４－ヒドロキノン、２－メチルカテコール、３－メチルカテコール、４－メチルカテコール、２－エチルカテコール、３－エチルカテコール、４－エチルカテコール、２－プロピルカテコール、３－プロピルカテコール、４－プロピルカテコール、２－ｎ－ブチルカテコール、３－ｎ－ブチルカテコール、４－ｎ－ブチルカテコール、２－ｔ－ブチルカテコール、３－ｔ－ブチルカテコール、４－ｔ－ブチルカテコール、３，５－ジ－ｔ－ブチルカテコール等のアルキルカテコール系化合物、２－メチルレゾールシノール、４－メチルレゾールシノール、２－エチルレゾールシノール、４－エチルレゾールシノール、２－プロピルレゾールシノール、４－プロピルレゾールシノール、２－ｎ－ブチルレゾールシノール、４－ｎ－ブチルレゾールシノール、２－ｔ－ブチルレゾールシノール、４－ｔ－ブチルレゾールシノール等のアルキルレゾールシノール系化合物、メチルヒドロキノン、エチルヒドロキノン、プロピルヒドロキノン、ｔ－ブチルヒドロキノン、２，５－ジ－ｔ－ブチルヒドロキノン等のアルキルヒドロキノン系化合物、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリベンジルホスフィン等のホスフィン化合物、トリオクチルホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイドなどのホスフィンオキサイド化合物、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト等のホスファイト化合物、ピロガロール、フロログルシン等が挙げられる。
【0196】
重合禁止剤（Ｋ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．０１～０．４質量％が好ましい。
【0197】
［紫外線吸収剤（Ｌ）］
本発明の感光性組成物は、紫外線吸収剤（Ｌ）を含有できる。
本発明の感光性組成物は、紫外線吸収剤（Ｌ）を含有できる。
【0198】
紫外線吸収剤（Ｌ）は、紫外線吸収機能を有する有機化合物であり、ベンゾトリアゾール系有機化合物、トリアジン系有機化合物、ベンゾフェノン系有機化合物、サリチル酸エステル系有機化合物、シアノアクリレート系有機化合物、及びサリシレート系有機化合物等が挙げられる。
【0199】
ベンゾトリアゾール系有機化合物は、例えば、２－（５メチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α， α－ジメチルベンジル）フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（３－ｔブチル－５－メチル－２－ヒドロキシフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、５質量％の２－メトキシ－１－メチルエチルアセテートと９５質量％のベンゼンプロパン酸，３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ，Ｃ７－９側鎖及び直鎖アルキルエステルの混合物、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－６－（１－メチル－１－フェニルエチル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール、メチル ３－（３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－５－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール、２，２’－メチレンビス［６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール］、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－ｐ－クレゾール、２－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－６－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２－（３，５－ジ－ｔ－アミル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－５－［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、オクチル－３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）フェニル］プロピオネート、２－エチルヘキシル－３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）フェニル］プロピオネートが挙げられる。
【0200】
市販品は、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ，ＰＳ，２３４，３２６，３２９，３８４－２，９００，９２８，９９－２，１１３０、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＬＡ－２９，ＬＡ－３１ＲＧ，ＬＡ－３２，ＬＡ－３６、ケミプロ化成社製のＫＥＭＩＳＯＲＢ７１，７３，７４，７９，２７９、大塚化学社製のＲＵＶＡ－９３等が挙げられる。
【0201】
トリアジン系有機化合物は、例えば、２，４－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－６－（２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－［３－（ドデシルオキシ）－２－ヒドロキシプロポキシ］フェノール、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジンと（２－エチルヘキシル）－グリシド酸エステルの反応生成物、２，４－ビス「２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル」－６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［２－（２－エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］フェノール、２，４，６－トリス（２－ヒドロキシ－４－ヘキシルオキシ－３－メチルフェニル）－１，３，５－トリアジン等が挙げられる。
【0202】
市販品は、例えば、ケミプロ化成社製のＫＥＭＩＳＯＲＢ １０２、ＢＡＳＦジャパン社製のＴＩＮＵＶＩＮ ４００，４０５，４６０，４７７，４７９，１５７７ＥＤ、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＬＡ－４６，ＬＡ－Ｆ７０、サンケミカル社製のＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ－１１６４等が挙げられる。
【0203】
ベンゾフェノン系有機化合物は、例えば、２，４－ジ－ヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン５－スルホン酸－３水温、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクトキシベンゾフェノーン、２，２’－ジ－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、４－ドデシロキシ－２－ヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクタデシロキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－２’－カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【0204】
市販品は、例えば、ケミプロ化成社製のＫＥＭＩＳＯＲＢ １０，１１，１１Ｓ，１２，１１１、シプロ化成社製のＳＥＥＳＯＲＢ １０１，１０７、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブ１４１３、サンケミカル社製のＵＶ－１２等が挙げられる。
【0205】
サリチル酸エステル系有機化合物は、例えば、サリチル酸フェニル、サリチル酸ｐ－オクチルフェニル、サリチル酸ｐ－ｔｅｒｔブチルフェニル等が挙げられる。
【0206】
紫外線吸収剤（Ｌ）の含有量は、光重合開始剤（Ｄ）と紫外線吸収剤（Ｌ）との合計１００質量％中、５～７０質量％が好ましい。
【0207】
［酸化防止剤（Ｍ）］
本発明の感光性組成物は、酸化防止剤（Ｍ）を含有できる。酸化防止剤（Ｍ）は、感光性組成物中の光重合開始剤（Ｃ）や熱硬化性化合物（Ｉ）が、熱硬化やＩＴＯアニール時の熱工程による酸化で黄変することを防ぐ。特に、感光性組成物の近赤外線吸収色素（Ａ）濃度が高い場合、相対的に重合性化合物（Ｂ）の含有量が減少するため、光重合開始剤（Ｃ）の増量や、熱硬化性化合物の配合で対応すると硬化膜が黄変し易い。そのため、酸化防止剤（Ｍ）を含むことで、加熱工程時の酸化による硬化膜の黄変を防止する。酸化防止剤（Ｍ）は、ハロゲン原子を含有しない化合物が好ましい。
本発明の感光性組成物は、酸化防止剤（Ｍ）を含有できる。酸化防止剤（Ｍ）は、感光性組成物中の光重合開始剤（Ｃ）や熱硬化性化合物（Ｉ）が、熱硬化やＩＴＯアニール時の熱工程による酸化で黄変することを防ぐ。特に、感光性組成物の近赤外線吸収色素（Ａ）濃度が高い場合、相対的に重合性化合物（Ｂ）の含有量が減少するため、光重合開始剤（Ｃ）の増量や、熱硬化性化合物の配合で対応すると硬化膜が黄変し易い。そのため、酸化防止剤（Ｍ）を含むことで、加熱工程時の酸化による硬化膜の黄変を防止する。酸化防止剤（Ｍ）は、ハロゲン原子を含有しない化合物が好ましい。
【0208】
酸化防止剤（Ｍ）は、例えば、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、リン系、イオウ系、およびヒドロキシルアミン系の化合物等が挙げられる。これらの中でも、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤が好ましい。
【0209】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、例えば、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、１，１，３－トリス－（２’－メチル－４’－ヒドロキシ－５’－ｔ－ブチルフェニル）－ブタン、４，４’－ブチリデン－ビス－（２－ｔ－ブチル－５－メチルフェノール）、３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリル、ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，９－ビス［２－［３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ］－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルメチル）－２，４，６－トリメチルベンゼン、１，３，５－トリス（３－ヒドロキシ－４－ｔ－ブチル－２，６－ジメチルベンジル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、２，２’－メチレンビス（６－ｔ－ブチル－４－エチルフェノール）、２，２’－チオジエチルビス－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）－プロピオネート、Ｎ，Ｎ－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナムアミド）、ｉ－オクチル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、４，６－ビス（ドデシルチオメチル）－ｏ－クレゾール、３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩、４，６－ビス（オクチルチオメチル）－ｏ－クレゾール、ビス［３－（３－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）プロピオン酸］エチレンビスオキシビスエチレン、１，６－ヘキサンジオ－ルビス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、２，２’－チオ－ビス－（６－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール）、２，５－ジ－ｔ－アミル－ヒドロキノン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－ノニルフェノール、２，２’－イソブチリデン－ビス－（４，６－ジメチル－フェノール）、２，２’－メチレン－ビス－（６－（１－メチル－シクロヘキシル）－ｐ－クレゾール）、２，４－ジメチル－６－（１－メチル－シクロヘキシル）－フェノール等が挙げられる。
【0210】
市販品は、例えば、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＡＯ－２０，ＡＯ－３０，ＡＯ－４０，ＡＯ－５０，ＡＯ－６０，ＡＯ－８０，ＡＯ－３３０、ケミプロ社製のＫＥＭＩＮＯＸ１０１，１７９，７６，９４２５、ＢＡＳＦジャパン社製のＩＲＧＡＮＯＸ１０１０，１０３５，１０７６，１０９８，１１３５，１３３０，１７２６，１４２５ＷＬ，１５２０Ｌ，２４５，２５９，３１１４，５０５７，５６５、サンケミカル社製のサイアノックスＣＹ－１７９０，ＣＹ－２７７７等が挙げられる。
【0211】
ヒンダードアミン系酸化防止剤は、例えば、テトラキス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－１，２，３，４－ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）１，２，３，４－ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１－ウンデカノキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）カルボネート、１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジルメタクリレート、２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジルメタクリレート、コハク酸ジメチルと１－（２－ヒドロキシエチル）－４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ［［６－［（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ］－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］］、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジンエタノールと３，５，５－トリメチルヘキサン酸のエステル、Ｎ，Ｎ’－４，７－テトラキス〔４，６－ビス｛Ｎ－ブチル－Ｎ－（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）アミノ｝－１，３，５－トリアジン－２－イル〕－４，７－ジアザデカン－１，１０－ジアミン、デカン二酸ビス（２，２，６，６－テトラメチル－１－（オクチルオキシ）－４－ピペリジニル）エステル，１，１－ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピリペリジル）［［３，５－ビス（１，１ジメチルエチル）－４－ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネートメチル１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピリペリジルセバケート、ポリ［［６－モルホリノ－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］］、２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル－Ｃ１２－２１およびＣ１８不飽和脂肪酸エステル、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－１，６－ヘキサメチレンジアミン、２－メチル－２－（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）アミノ－Ｎ－（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）プロピオンアミド等が挙げられる。
【0212】
市販品は、例えば、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＬＡ－５２，ＬＡ－５７，ＬＡ－６３Ｐ，ＬＡ－６８，ＬＡ－７２，ＬＡ－７７Ｙ，ＬＡ－７７Ｇ，ＬＡ－８１，ＬＡ－８２，ＬＡ－８７，ＬＡ－４０２Ｆ，ＬＡ－５０２ＸＰ、ケミプロ化成社製のＫＡＭＩＳＴＡＢ２９，６２，７７，９４、ＢＡＳＦジャパン社製のＴｉｎｕｖｉｎ１１１ＦＤＬ，１２３，１４４，２４９，２９２，５１００、サンケミカル社製のサイアソ－ブＵＶ－３３４６，ＵＶ－３５２９，ＵＶ－３８５３等が挙げられる。
【0213】
リン系酸化防止剤は、例えば、ジ（２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、２，２’－メチレンビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）２－エチルヘキシルホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、テトラ（Ｃ１２～Ｃ１５アルキル）－４，４’－イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、ジフェニルモノ（２－エチルヘキシル）ホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、トリス（イソデシル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－４，４－ビフェニルジフォスホニト、トリス（トリデシル）ホスファイト、フェニルイソオクチルホスファイト、フェニルイソデシルホスファイト、フェニルジ（トリデシル）ホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、ジフェニルトリデシルホスファイト、４，４’－イソプロピリデンジフェノールアルキルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリスジノニルフェニルホスファイト、トリス（ビフェニル）ホスファイト、ジ（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、テトラトリデシル４，４’－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサトリデシル１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジルホスファイトジエチルエステル、ソジウムビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、ソジウム－２，２－メチレン－ビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－ホスファイト、１，３－ビス（ジフェノキシフォスフォニロキシ）－ベンゼン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジｔ－ブチル－６－メチルフェニル）等が挙げられる。
【0214】
市販品は、例えば、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＰＥＰ－３６，ＰＥＰ－８，ＨＰ－１０，２１１２，１１７８，１５００，Ｃ，１３５Ａ，３０１０，ＴＰＰ、ＢＡＳＦジャパン社製のＩＲＧＡＦＯＳ１６８、クラリアントケミカルズ社製のＨｏｓｔａｎｏｘＰ－ＥＰＱ等が挙げられる。
【0215】
イオウ系酸化防止剤は、例えば、２，２－ビス｛〔３－（ドデシルチオ）－１－オキソプロポキシ〕メチル｝プロパン－１，３－ジイルビス〔３－（ドデシルチオ）プロピオネート〕、３，３’－チオビスプロピオン酸ジトリデシル、２，２－チオ－ジエチレンビス〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４－ビス〔（オクチルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール、２，４－ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール等が挙げられる。
【0216】
市販品は、例えば、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＡＯ－４１２Ｓ，ＡＯ－５０３、ケミプロ化成社製のＫＥＭＩＮＯＸＰＬＳ等が挙げられる。
【0217】
酸化防止剤（Ｍ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0218】
酸化防止剤（Ｍ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～５．０質量％が好ましい。
【0219】
［レベリング剤（Ｎ）］
本発明の感光性組成物は、レベリング剤（Ｎ）を含有できる。これにより、塗工時の基板に対する濡れ性、及び乾燥性がより向上する。レベリング剤（Ｎ）は、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。
本発明の感光性組成物は、レベリング剤（Ｎ）を含有できる。これにより、塗工時の基板に対する濡れ性、及び乾燥性がより向上する。レベリング剤（Ｎ）は、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。
【0220】
シリコーン系界面活性剤は、例えば、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマーや、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
【0221】
市販品は、例えば、ビックケミー社製のＢＹＫ－３００，３０６，３１０，３１３，３１５Ｎ，３２０，３２２，３２３，３３０，３３１，３３３，３４２，３４５，３４６，３４７，３４８，３４９，３７０，３７７，３７８，３４５５，ＵＶ３５１０，３５７０、東レ・ダウコ－ニング社製のＦＺ－７００２，２１１０，２１２２，２１２３，２１９１，５６０９、信越化学工業社製のＸ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、ＫＦ－３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１等が挙げられる。
【0222】
フッ素系界面活性剤は、例えば、フルオロカーボン鎖を有する界面活性剤又はレベリング剤が挙げられる。
【0223】
市販品は、例えば、ＡＧＣセイミケミカル社製のサーフロンＳ－２４２，２４３，４２０，６１１，６５１，３８６、ＤＩＣ社製のメガファックＦ－２５３，４７７，５５１，５５２，５５５，５５８，５６０，５７０，５７５，５７６、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１、住友スリーエム社製のＦＣ－４４３０，４４３２、三菱マテリアル電子化成社製のＥＦ－ＰＰ３１Ｎ０９、ＥＦ－ＰＰ３３Ｇ１、ＥＦ－ＰＰ３２Ｃ１、ネオス社製フタージェントの６０２Ａ等が挙げられる。
【0224】
ノニオン性界面活性剤は、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンミリステルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシフェニレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレントリベンジルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシアルキレンアルケニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテ－ト、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート、ソルビタンセスキオレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテ－ト、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンソルビタントリイソステアレート、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット、グリセロ－ルモノステアレート、グリセロ－ルモノオレート、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ポリエチレングリコールモノオレート、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミド、アルキルイミダゾリン等が挙げられる。
【0225】
市販品は、例えば、花王社製のエマルゲン１０３，１０４Ｐ，１０６，１０８，１０９Ｐ，１２０，１２３Ｐ，１３０Ｋ，１４７，１５０，２１０Ｐ，２２０，３０６Ｐ，３２０Ｐ，３５０，４０４，４０８，４０９ＰＶ，４２０，４３０，７０５，７０７，７０９，１１０８，１１１８Ｓ－７０，１１３５Ｓ－７０，１１５０Ｓ－６０，２０２０Ｇ－ＨＡ，２０２５Ｇ，ＬＳ－１０６，ＬＳ－１１０，ＬＳ－１１４，ＭＳ－１１０，Ａ－６０，Ａ－９０，Ｂ－６６，ＰＰ－２９０、ラテムルＰＤ－４２０，ＰＤ－４３０，ＰＤ－４３０Ｓ，ＰＤ－４５０、レオドールＳＰ－Ｌ１０，ＳＰ－Ｐ１０，ＳＰ－Ｓ１０Ｖ，ＳＰ－Ｓ２０，ＳＰ－Ｓ３０Ｖ，ＳＰ－Ｏ１０Ｖ，ＳＰ－Ｏ３０Ｖ、スーパーＳＰ－Ｌ１０，ＡＳ－１０Ｖ，ＡＯ－１０Ｖ，ＡＯ－１５Ｖ，ＴＷ－Ｌ１２０，ＴＷ－Ｌ１０６，ＴＷ－Ｐ１２０，ＴＷ－Ｓ１２０Ｖ，ＴＷ－Ｓ３２０Ｖ，ＴＷ－Ｏ１２０Ｖ，ＴＷ－Ｏ１０６Ｖ，ＴＷ－ＩＳ３９９Ｃ、スーパーＴＷ－Ｌ１２０，４３０Ｖ，４４０Ｖ，４６０Ｖ，ＭＳ－５０，ＭＳ－６０，ＭＯ－６０，ＭＳ－１６５Ｖ、エマノーン１１１２，３１９９Ｖ，３２９９Ｖ，３２９９ＲＶ，４１１０，ＣＨ－２５，ＣＨ－４０，ＣＨ－６０（Ｋ），アミ－ト１０２，１０５，１０５Ａ，３０２，３２０、アミノーンＰＫ－０２Ｓ、Ｌ－０２、ホモゲノールＬ－９５、ＡＤＥＫＡ社製のアデカプルロニック（登録商標）Ｌ－２３，３１，４４，６１，６２，６４，７１，７２，１０１，１２１、ＴＲ－７０１，７０２，７０４，９１３Ｒ、共栄社化学社製の（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフロ－Ｎｏ．７５，Ｎｏ．９０，Ｎｏ．９５等が挙げられる。
【0226】
カチオン性界面活性剤は、例えばアルキルアミン塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライドなどのアルキル４級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物が挙げられる。
【0227】
市販品は、例えば、花王社製のアセタミン２４、コータミン２４Ｐ、６０Ｗ、８６Ｐコンク等が挙げられる。
【0228】
アニオン性界面活性剤は、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン－アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン－アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル等が挙げられる。
【0229】
市販品は、例えば、ネオス社製のフタージェント１００，１５０、ＡＤＥＫＡ社製のアデカホープＹＥＳ－２５、アデカコールＴＳ－２３０Ｅ，ＰＳ－４４０Ｅ，ＥＣ－８６００等が挙げられる。
【0230】
両性界面活性剤は、例えば、ラウリン酸アミドプロピルベタイン、ラウリルベタイン、コカミドプロピルベタイン、ステアリルベタイン、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン等のアルキルベタイン、ラウリルジメチルアミンオキサイド等のアルキルアミンオキサイド等が挙げられる。
【0231】
市販品は、花王社製のアンヒトール２０ＡＢ，２０ＢＳ，２４Ｂ，５５ＡＢ，８６Ｂ，２０Ｙ－Ｂ，２０Ｎ等が挙げられる。
【0232】
レベリング剤（Ｎ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0233】
レベリング剤（Ｎ）の含有量は、感光性組成物の不揮発分１００質量％中、０．００１～２．０質量％が好ましく、０．００５～１．０質量％がより好ましい。適量含有すると感光性組成物の塗工性と密着性のバランスがより向上する。
【0234】
［貯蔵安定剤（Ｏ）］
本発明の感光性組成物は、貯蔵安定剤（Ｏ）を含有できる。これにより、感光性組成物の経時粘度が安定化する。貯蔵安定剤（Ｏ）は、例えば、ベンジルトリメチルクロライド、ジエチルヒドロキシアミンなどの４級アンモニウムクロライド、乳酸、シュウ酸などの有機酸およびそのメチルエーテル、ｔ－ブチルピロカテコール、テトラエチルホスフィン、テトラフェニルなどの有機ホスフィン、亜リン酸塩等が挙げられる。
本発明の感光性組成物は、貯蔵安定剤（Ｏ）を含有できる。これにより、感光性組成物の経時粘度が安定化する。貯蔵安定剤（Ｏ）は、例えば、ベンジルトリメチルクロライド、ジエチルヒドロキシアミンなどの４級アンモニウムクロライド、乳酸、シュウ酸などの有機酸およびそのメチルエーテル、ｔ－ブチルピロカテコール、テトラエチルホスフィン、テトラフェニルなどの有機ホスフィン、亜リン酸塩等が挙げられる。
【0235】
貯蔵安定剤（Ｏ）の含有量は、近赤外線吸収色素（Ａ）１００質量部に対して、０．１～１０質量部が好ましい。
【0236】
［密着向上剤（Ｐ）］
本発明の感光性組成物は、密着向上剤（Ｐ）を含有できる。これにより、硬化膜と基材の密着性が向上する。また、フォトリソグラフィー法で幅が狭いパターンを形成し易くなる。
本発明の感光性組成物は、密着向上剤（Ｐ）を含有できる。これにより、硬化膜と基材の密着性が向上する。また、フォトリソグラフィー法で幅が狭いパターンを形成し易くなる。
【0237】
密着向上剤（Ｐ）は、例えば、シランカップリング剤等が挙げられる。シランカップリング剤は、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のビニルシラン類、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリルシラン類、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシシラン類、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩等のアミノシラン類、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト類、ｐ－スチリルトリメトキシシラン等のスチリル類、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイド類、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド等のスルフィド類、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート類などのシランカップリング剤が挙げられる。
【0238】
密着向上剤（Ｐ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0239】
密着向上剤（Ｐ）の含有量は、近赤外線吸収色素（Ａ）１００質量部に対して、０．０１～１０質量部が好ましく、０．０５～５質量部がより好ましい。
【0240】
［有機溶剤（Ｑ）］
本発明の感光性組成物は、有機溶剤（Ｑ）を含有できる。
本発明の感光性組成物は、有機溶剤（Ｑ）を含有できる。
【0241】
有機溶剤（Ｑ）は、例えば、１，２，３－トリクロロプロパン、１－メトキシ－２－プロパノール、乳酸エチル、１，３－ブタンジオール、１，３－ブチレングリコール、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，４－ジオキサン、２－ヘプタノーン、２－メチル－１，３－プロパンジオール、３，５，５－トリメチル－２－シクロヘキセン－１－オン、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノン、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－メチル－１，３－ブタンジオール、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、３－メトキシ－３－メチルブチルアセテート、３－メトキシブタノール、３－メトキシブチルアセテート、４－ヘプタノーン、ｍ－キシレン、ｍ－ジエチルベンゼン、ｍ－ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ｎ－ブチルアルコール、ｎ－ブチルベンゼン、ｎ－プロピルアセテート、Ｎ－メチルピロリドン、ｏ－キシレン、ｏ－クロロトールエン、ｏ－ジエチルベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン、ｐ－クロロトールエン、ｐ－ジエチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチルベンゼン、γ－ブチロラクトン、イソブチルアルコール、イソホロン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノールアセテート、シクロヘキサノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、トリアセチン、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ベンジルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノール、酢酸ｎ－アミル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸プロピル、二塩基酸エステル等が挙げられる。これらの中でも、顔料の分散性、アルカリ可溶樹脂の溶解性の観点から、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールアセテート類、ベンジルアルコール、ダイアセトンアルコール等のアルコール類やシクロヘキサノン等のケトン類が好ましい。
【0242】
有機溶剤（Ｑ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0243】
［感光性組成物の製造方法］
本発明の感光性組成物は、例えば、近赤外線吸収色素（Ａ）、分散樹脂（Ｇ）、及び有機溶剤（Ｑ）等を加えて分散処理を行うことで、分散体を製造する。その後、前記分散体に、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、増感剤（Ｄ）、及びバインダ樹（Ｅ）等を配合し混合することで製造できる。なお、各材料を配合するタイミングは、任意である。また、分散工程を複数回行うこともできる。
本発明の感光性組成物は、例えば、近赤外線吸収色素（Ａ）、分散樹脂（Ｇ）、及び有機溶剤（Ｑ）等を加えて分散処理を行うことで、分散体を製造する。その後、前記分散体に、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、増感剤（Ｄ）、及びバインダ樹（Ｅ）等を配合し混合することで製造できる。なお、各材料を配合するタイミングは、任意である。また、分散工程を複数回行うこともできる。
【0244】
分散処理を行う分散機は、例えば、２本ロールミル、３本ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、アニュラー型ビーズミル、又はアトライター等が挙げられる。
【0245】
分散体中の近赤外線吸収色素（Ａ）の平均分散粒子径（二次粒子径）は、３０～２００ｎｍが好ましく、４０～２００ｎｍがより好ましい。適度な粒子径を有すると分散安定性が高い感光性組成物が得やすい。
【0246】
平均分散粒子径（二次粒子径）の測定方法は、例えば、動的光散乱法（ＦＦＴパワ－スペクトール法）を採用した日機装社のマイクロトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０を用い、粒子透過性を吸収モード、粒子形状を非球形とし、Ｄ５０粒子径を平均径とする。測定用の希釈溶剤は分散に使用した有機溶剤をそれぞれ用い、超音波で処理したサンプルについてサンプル調整直後に測定するとバラツキが少ない結果が得られやすく好ましい。
【0247】
感光性組成物は、遠心分離、焼結フィルタやメンブレンフィルタによる濾過等の手段にて、５μｍ以上の粗大粒子、好ましくは１μｍ以上の粗大粒子、さらに好ましくは０．５μｍ以上の粗大粒子、および混入した塵の除去を行うことが好ましい。本発明の感光性組成物は、実質的に０．５μｍ以上の粒子を含まないことが好ましく、０．３μｍ以下の粒子を含まないことがより好ましい。
【0248】
＜硬化膜＞
本発明の硬化膜は、本発明の感光性組成物を用いて形成された膜を露光などの処理で硬化して得られる。硬化膜は、パターンを形成した膜が好ましいが、平坦膜であってもよい。
本発明の硬化膜は、本発明の感光性組成物を用いて形成された膜を露光などの処理で硬化して得られる。硬化膜は、パターンを形成した膜が好ましいが、平坦膜であってもよい。
【0249】
［硬化膜の製造方法］
硬化膜の製造方法は、特に限定されず、例えば、基板上に感光性組成物を塗布し組成物の層を形成する工程（１）、前記層に、マスクを介してパターン状に露光する工程（２）、未露光部分をアルカリ現像しパターン状の硬化膜を形成する工程（３）、前記パターンを加熱処理（ポストベーク）する工程（４）を行い作製できる。
硬化膜の製造方法は、特に限定されず、例えば、基板上に感光性組成物を塗布し組成物の層を形成する工程（１）、前記層に、マスクを介してパターン状に露光する工程（２）、未露光部分をアルカリ現像しパターン状の硬化膜を形成する工程（３）、前記パターンを加熱処理（ポストベーク）する工程（４）を行い作製できる。
【0250】
以下、硬化膜の製造方法を詳細に説明する。
（工程（１））
組成物の層を形成する工程（１）は、感光性組成物を基板上に、例えば、回転塗布、ロール塗布、スリット塗布、流延塗布、またはインクジェット塗布等の方法で塗布し、必要に応じてオーブン、ホットプレート等を用いて、５０～１２０℃の温度で１０～１２０秒乾燥（プリベーク）する。
前記基板は、例えば、ガラス基板、シリコン基板等が挙げられる。シリコン基板は、例えば、表面にＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の撮像素子が形成されていてもよい。また、基板上には、必要に応じて、上部との層との密着改良、物質の拡散防止、基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
層の膜厚は、乾燥後０．０５～１０．０μｍとなるように塗布することが好ましく、０．３～５μｍとなるように塗布することがより好ましい。
（工程（１））
組成物の層を形成する工程（１）は、感光性組成物を基板上に、例えば、回転塗布、ロール塗布、スリット塗布、流延塗布、またはインクジェット塗布等の方法で塗布し、必要に応じてオーブン、ホットプレート等を用いて、５０～１２０℃の温度で１０～１２０秒乾燥（プリベーク）する。
前記基板は、例えば、ガラス基板、シリコン基板等が挙げられる。シリコン基板は、例えば、表面にＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の撮像素子が形成されていてもよい。また、基板上には、必要に応じて、上部との層との密着改良、物質の拡散防止、基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
層の膜厚は、乾燥後０．０５～１０．０μｍとなるように塗布することが好ましく、０．３～５μｍとなるように塗布することがより好ましい。
【0251】
（工程（２））
露光工程は、工程（１）で得られた層を、例えば、ステッパー等の露光装置を用い、マスクを介して特定のパターンを露光する。これにより硬化膜が得られる。
露光に用いる放射線は、例えば、ｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）などが挙げられる。
また、露光に際しては、光を連続的に照射して露光してもよく、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光（パルス露光）してもよい
露光工程は、工程（１）で得られた層を、例えば、ステッパー等の露光装置を用い、マスクを介して特定のパターンを露光する。これにより硬化膜が得られる。
露光に用いる放射線は、例えば、ｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）などが挙げられる。
また、露光に際しては、光を連続的に照射して露光してもよく、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光（パルス露光）してもよい
【0252】
（工程（３））
工程（２）で得られた硬化膜は、アルカリ現像処理を行うことで、未露光部分の組成物の層がアルカリ水溶液に溶出し、硬化部分のみが残りパターン状の硬化膜が得られる。
現像液は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム，硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－〔５．４．０〕－７－ウンデセン等のアルカリ性化合物が挙げられる。
現像液の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。
アルカリ現像液のｐＨは、１１～１３が好ましく、１１．５～１２．５がより好ましい。適度なｐＨで使用するとパターンの荒れや剥離を抑制し、現像後の残膜率が向上する。
工程（２）で得られた硬化膜は、アルカリ現像処理を行うことで、未露光部分の組成物の層がアルカリ水溶液に溶出し、硬化部分のみが残りパターン状の硬化膜が得られる。
現像液は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム，硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－〔５．４．０〕－７－ウンデセン等のアルカリ性化合物が挙げられる。
現像液の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。
アルカリ現像液のｐＨは、１１～１３が好ましく、１１．５～１２．５がより好ましい。適度なｐＨで使用するとパターンの荒れや剥離を抑制し、現像後の残膜率が向上する。
【0253】
現像方法は、例えば、ディップ法、スプレー法、パドル法等が挙げられる。現像温度は１５～４０℃が好ましい。なお、アルカリ現像後は、純水で洗浄することが好ましい。
【0254】
（工程（４））
加熱処理（ポストベーク）は、工程（３）で得られたパターン状の硬化膜を加熱により十分に硬化させる。ポストベークの加熱温度は、８０～３００℃が好ましい。また、加熱時間は、２分間～１時間程度が好ましく、３分間～３０分間程度がより好ましい。
基板に耐熱性の低い素材を用いた場合や、発光源として有機エレクトロルミネッセンス素子を有する基板を用いた場合などは、温度は、１５０℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。
加熱処理（ポストベーク）は、工程（３）で得られたパターン状の硬化膜を加熱により十分に硬化させる。ポストベークの加熱温度は、８０～３００℃が好ましい。また、加熱時間は、２分間～１時間程度が好ましく、３分間～３０分間程度がより好ましい。
基板に耐熱性の低い素材を用いた場合や、発光源として有機エレクトロルミネッセンス素子を有する基板を用いた場合などは、温度は、１５０℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。
【0255】
＜光学フィルタ＞
本発明の硬化膜は、光学フィルタに用いることができる。光学フィルタとしては、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ等が挙げられる。本発明の光学フィルタの製造は、上述の硬化膜と同様の方法で製造できる。
本発明の硬化膜は、光学フィルタに用いることができる。光学フィルタとしては、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ等が挙げられる。本発明の光学フィルタの製造は、上述の硬化膜と同様の方法で製造できる。
【0256】
＜画像表示装置＞
本発明の硬化膜は、画像表示装置に用いることができる。画像表示装置に用いる形態は、特に制限されないが、着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることができる。
本発明の硬化膜は、画像表示装置に用いることができる。画像表示装置に用いる形態は、特に制限されないが、着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることができる。
【0257】
本発明の硬化膜とカラーフィルタとを組み合わせて用いる場合、本発明の硬化膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましく、例えば、本発明の硬化膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることができる。積層体において、硬化膜とカラーフィルタは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本発明の硬化膜とカラーフィルタが隣接していない場合、カラーフィルタが形成された基板とは別の基板に、本発明の硬化膜が形成されていてもよい。また、本発明の硬化膜とカラーフィルタとの間に、他の部材（例えば、マイクロレンズや平坦化膜等）が存在してもよい。
【0258】
画像表示装置は、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等が挙げられる。
画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば、「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）、平成元年発行）」等に記載されている。
画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば、「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）、平成元年発行）」等に記載されている。
【0259】
＜固体撮像素子＞
本発明の硬化膜は、固体撮像素子に用いることができる。固体撮像素子に用いる形態は、特に制限されないが、例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ、または有機ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード、およびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオード及び転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の硬化膜を有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であって、本発明の硬化膜の下に集光手段（例えば、マイクロレンズ等）を有する構成であってもよい。
本発明の硬化膜は、固体撮像素子に用いることができる。固体撮像素子に用いる形態は、特に制限されないが、例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ、または有機ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード、およびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオード及び転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の硬化膜を有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であって、本発明の硬化膜の下に集光手段（例えば、マイクロレンズ等）を有する構成であってもよい。
【0260】
＜赤外線センサ＞
本発明の硬化膜は、赤外線センサに用いることができる。赤外線センサに用いる形態は、特に制限されない。図１は、本発明の硬化膜を備えた赤外線センサの構成例を示す概略断面図である。図１に示す赤外線センサは１００、固体撮像素子１１０を備える。
本発明の硬化膜は、赤外線センサに用いることができる。赤外線センサに用いる形態は、特に制限されない。図１は、本発明の硬化膜を備えた赤外線センサの構成例を示す概略断面図である。図１に示す赤外線センサは１００、固体撮像素子１１０を備える。
【0261】
固体撮像素子１１０上に設けられている撮像領域は、赤外線カットフィルタ１１１とカラーフィルタ１１２とを組み合せて構成されている。
【0262】
赤外線カットフィルタ１１１は、本発明の感光性組成物を用いて形成することができ、可視光領域の光（例えば、波長４００～７００ｎｍの光）を透過し、赤外領域の光（例えば、波長８００～１，３００ｎｍの光）を遮蔽する。
【0263】
カラーフィルタ１１２は、可視光領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタ等が用いられる。
【0264】
赤外線透過フィルタ１１３と固体撮像素子１１０との間には、赤外線透過フィルタ１１３を透過した波長の光を透過可能な樹脂膜１１４が配置されている。
【0265】
赤外線透過フィルタ１１３は、可視光遮蔽性を有し、かつ、特定波長の赤外線を透過させるフィルタである。赤外線透過フィルタ１１３は、例えば、波長４００～８３０ｎｍの光を遮光し、波長９００～１，３００ｎｍの光を透過させることが好ましい。
【0266】
カラーフィルタ１１２、及び赤外線透過フィルタ１１３の入射光ｈ側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化膜１１６が形成されている。
【0267】
図１に示す形態では、樹脂膜１１４が配置されているが、樹脂膜１１４に代えて赤外線透過フィルタ１１３を形成してもよい。
【0268】
この赤外線センサによれば、画像情報を同時に取り込めるため、動きを検知する対象を認識したモーションセンシング等が可能である。また、この赤外線センサによれば、距離情報を取得できるため、３Ｄ情報を含んだ画像の撮影等も可能である。更に、この赤外線センサは、生体認証センサとしても使用できる。
【0269】
また、本発明の硬化膜は、マイクロＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）やマイクロＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）などの用途にも用いることができる。特に限定されないが、マイクロＬＥＤおよびマイクロＯＬＥＤに使用される光学フィルタに好適に用いられる。
マイクロＬＥＤおよびマイクロＯＬＥＤの例としては、特表２０１５－５００５６２号公報、および特表２０１４－５３３８９０号公報に記載のものが挙げられる。
マイクロＬＥＤおよびマイクロＯＬＥＤの例としては、特表２０１５－５００５６２号公報、および特表２０１４－５３３８９０号公報に記載のものが挙げられる。
【0270】
また、本発明の硬化膜は、量子ドットディスプレイなどの用途にも用いることができる。特に限定されないが、量子ドットディスプレイに使用される光学フィルタに好適に用いられる。
【実施例0271】
以下、実施例で本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。なお、「部」は「質量部」、「％」は「質量％」である。
また、本発明において、不揮発分もしくは不揮発分濃度は、２３０℃で３０分間オーブン静置後の、質量残分をいう。
また、本発明において、不揮発分もしくは不揮発分濃度は、２３０℃で３０分間オーブン静置後の、質量残分をいう。
【0272】
実施例に先立ち、各測定方法について説明する。
【0273】
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、アミン価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、及びガラス転移温度（Ｔｇ）の測定は、以下の通りである。
【0274】
（樹脂の平均分子量）
樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＲＩ検出器を装備したゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した。装置としてＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）を用い、分離カラムを２本直列に繋ぎ、両方の充填剤には「ＴＳＫ－ＧＥＬ ＳＵＰＥＲ ＨＺＭ－Ｎ」を２連でつなげて使用し、オーブン温度４０℃、溶離液としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液を用い、流速０．３５ｍｌ／ｍｉｎで測定した。サンプルは１質量％の上記溶離液からなる溶剤に溶解し、２０マイクロリットール注入した。分子量は、ポリスチレン換算値である。
樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＲＩ検出器を装備したゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した。装置としてＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）を用い、分離カラムを２本直列に繋ぎ、両方の充填剤には「ＴＳＫ－ＧＥＬ ＳＵＰＥＲ ＨＺＭ－Ｎ」を２連でつなげて使用し、オーブン温度４０℃、溶離液としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液を用い、流速０．３５ｍｌ／ｍｉｎで測定した。サンプルは１質量％の上記溶離液からなる溶剤に溶解し、２０マイクロリットール注入した。分子量は、ポリスチレン換算値である。
【0275】
（樹脂の酸価）
樹脂溶液０．５～１ｇに、アセトン８０ｍｌ及び水１０ｍｌを加えて攪拌して均一に溶解させ、０．１ｍｏｌ／ＬのＫＯＨ水溶液を滴定液として、自動滴定装置（「ＣＯＭ－５５５」平沼産業社製）を用いて滴定し、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を測定した。そして、樹脂溶液の酸価と樹脂溶液の不揮発分濃度から、樹脂の不揮発分あたりの酸価を算出した。
樹脂溶液０．５～１ｇに、アセトン８０ｍｌ及び水１０ｍｌを加えて攪拌して均一に溶解させ、０．１ｍｏｌ／ＬのＫＯＨ水溶液を滴定液として、自動滴定装置（「ＣＯＭ－５５５」平沼産業社製）を用いて滴定し、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を測定した。そして、樹脂溶液の酸価と樹脂溶液の不揮発分濃度から、樹脂の不揮発分あたりの酸価を算出した。
【0276】
（樹脂のアミン価）
樹脂のアミン価は、ＡＳＴＭ Ｄ ２０７４の方法に準拠し、測定した全アミン価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を不揮発分換算した値である。
樹脂のアミン価は、ＡＳＴＭ Ｄ ２０７４の方法に準拠し、測定した全アミン価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を不揮発分換算した値である。
【0277】
（ガラス転移温度）
樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱測定装置を用いて、サンプルパンにサンプルを５ｍｇ秤量し、窒素気流下で－２０～２００℃まで昇温速度１０℃／分で測定した。
樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱測定装置を用いて、サンプルパンにサンプルを５ｍｇ秤量し、窒素気流下で－２０～２００℃まで昇温速度１０℃／分で測定した。
【0278】
＜近赤外線吸収色素（Ａ）の製造＞
（近赤外線吸収色素（Ａ－１））
トルエン４００部に、１，８－ジアミノナフタレン４０．０部、３，５－ジメチルシクロヘキサノン３２．２部、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物０．０８７部を混合し、窒素ガスの雰囲気中で加熱攪拌し、３時間還流させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。反応終了後、トルエンを蒸留して得られた暗茶色固体をアセトンで抽出し、アセトンとエタノールの混合溶媒から再結晶することにより精製した。得られた茶色固体を、トルエン２４０部とｎ－ブタノール１６０部の混合溶媒に溶解させ、３，４－ジヒドロキシ－３－シクロブテン－１，２－ジオン１３．８部を加えて、窒素ガスの雰囲気中で加熱撹拌し、８時間還流反応させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。
反応終了後、溶媒を蒸留し、得られた反応混合物を攪拌しながら、ヘキサン２００部を加えた。得られた黒茶色沈殿物を濾別した後、順次ヘキサン、エタノールおよびアセトンで洗浄を行い、減圧下で乾燥させ、下記化学式（１６）で表される近赤外線吸収色素（Ａ－１）を得た。
得られた近赤外線吸収色素（Ａ－１）５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所製）中に仕込み、６０℃ で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過および水洗をして塩化ナトリウムおよびジエチレングリコールを除いた後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することにより、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－１）を得た。
（近赤外線吸収色素（Ａ－１））
トルエン４００部に、１，８－ジアミノナフタレン４０．０部、３，５－ジメチルシクロヘキサノン３２．２部、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物０．０８７部を混合し、窒素ガスの雰囲気中で加熱攪拌し、３時間還流させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。反応終了後、トルエンを蒸留して得られた暗茶色固体をアセトンで抽出し、アセトンとエタノールの混合溶媒から再結晶することにより精製した。得られた茶色固体を、トルエン２４０部とｎ－ブタノール１６０部の混合溶媒に溶解させ、３，４－ジヒドロキシ－３－シクロブテン－１，２－ジオン１３．８部を加えて、窒素ガスの雰囲気中で加熱撹拌し、８時間還流反応させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。
反応終了後、溶媒を蒸留し、得られた反応混合物を攪拌しながら、ヘキサン２００部を加えた。得られた黒茶色沈殿物を濾別した後、順次ヘキサン、エタノールおよびアセトンで洗浄を行い、減圧下で乾燥させ、下記化学式（１６）で表される近赤外線吸収色素（Ａ－１）を得た。
得られた近赤外線吸収色素（Ａ－１）５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所製）中に仕込み、６０℃ で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過および水洗をして塩化ナトリウムおよびジエチレングリコールを除いた後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することにより、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－１）を得た。
【0279】
化学式（１６）
【化25】
【0280】
（近赤外線吸収色素（Ａ－２））
トルエン４００部に、１，８－ジアミノナフタレン４０．０部、２－ヒドロキシ－９－フルオレノン５０．１部、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物０．０８７部を混合し、窒素ガスの雰囲気中で加熱攪拌し、３時間還流させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により系中から除去した。反応終了後、トルエンを蒸留して得られた暗茶色固体をアセトンで抽出し、アセトンとエタノールの混合溶媒から再結晶することにより精製した。得られた茶色固体を、トルエン２４０部とｎ－ブタノール１６０部の混合溶媒に溶解させ、３，４－ジヒドロキシ－３－シクロブテン－１，２－ジオン１３．８部を加えて、窒素ガスの雰囲気中で加熱撹拌し、８時間還流反応させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により系中から除去した。反応終了後、溶媒を蒸留し、得られた反応混合物を攪拌しながら、ヘキサン２００部を加えた。得られた黒茶色沈殿物を濾別した後、順次ヘキサン、エタノールおよびアセトンで洗浄を行い、減圧下で乾燥させ、下記化学式（１７）で表される近赤外線吸収色素（Ａ－２）を得た。
近赤外線吸収色素（Ａ－１）と同様の方法で、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－２）を得た。
トルエン４００部に、１，８－ジアミノナフタレン４０．０部、２－ヒドロキシ－９－フルオレノン５０．１部、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物０．０８７部を混合し、窒素ガスの雰囲気中で加熱攪拌し、３時間還流させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により系中から除去した。反応終了後、トルエンを蒸留して得られた暗茶色固体をアセトンで抽出し、アセトンとエタノールの混合溶媒から再結晶することにより精製した。得られた茶色固体を、トルエン２４０部とｎ－ブタノール１６０部の混合溶媒に溶解させ、３，４－ジヒドロキシ－３－シクロブテン－１，２－ジオン１３．８部を加えて、窒素ガスの雰囲気中で加熱撹拌し、８時間還流反応させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により系中から除去した。反応終了後、溶媒を蒸留し、得られた反応混合物を攪拌しながら、ヘキサン２００部を加えた。得られた黒茶色沈殿物を濾別した後、順次ヘキサン、エタノールおよびアセトンで洗浄を行い、減圧下で乾燥させ、下記化学式（１７）で表される近赤外線吸収色素（Ａ－２）を得た。
近赤外線吸収色素（Ａ－１）と同様の方法で、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－２）を得た。
【0281】
化学式（１７）
【化26】
【0282】
（近赤外線吸収色素（Ａ－３））
反応容器中で、２，３―ジシアノナフタレン１７８部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と塩化アルミニウム無水物４０部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄し、乾燥して化合物ａを得た。
次いで、反応容器中で、濃硫酸１００部に化合物ａ１０部を氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して化合物ｂを得た。
Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物ｂを少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液をイオン交換水２，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、下記化学式（１８）で表される近赤外線吸収色素（Ａ－３）を得た。
近赤外線吸収色素（Ａ－１）と同様の方法で、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－３）を得た。
反応容器中で、２，３―ジシアノナフタレン１７８部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と塩化アルミニウム無水物４０部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄し、乾燥して化合物ａを得た。
次いで、反応容器中で、濃硫酸１００部に化合物ａ１０部を氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して化合物ｂを得た。
Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物ｂを少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液をイオン交換水２，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、下記化学式（１８）で表される近赤外線吸収色素（Ａ－３）を得た。
近赤外線吸収色素（Ａ－１）と同様の方法で、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－３）を得た。
【0283】
化学式（１８）
【化27】
【0284】
（近赤外線吸収色素（Ａ－４））
国際公開第２０１９／０５８８８２の記載に従い、下記化学式（１９）で表される近赤外線吸収色素（Ａ－４）を得た。
近赤外線吸収色素（Ａ－１）と同様の方法で、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－４）を得た。
国際公開第２０１９／０５８８８２の記載に従い、下記化学式（１９）で表される近赤外線吸収色素（Ａ－４）を得た。
近赤外線吸収色素（Ａ－１）と同様の方法で、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－４）を得た。
【0285】
化学式（１９）
【化28】
【0286】
（近赤外線吸収色素（Ａ－５））
反応容器中で、フタロニトリル２６部、２，３―ジシアノナフタレン１４３部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と三塩化アルミニウム３４部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、イオン交換水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、イオン交換水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄、乾燥して、化合物ｃを得た。
次いで、反応容器中で、濃硫酸１，５００部に１４０部の化合物ｃを氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、化合物ｄを得た。
Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物ｄを少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液をイオン交換水２，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、下記化学式（２０）で表される化合物の混合物（質量比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：１９：５９：１５）である近赤外線吸収色素（Ａ－５）を得た。
近赤外線吸収色素（Ａ－１）と同様の方法で、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－５）を得た。
反応容器中で、フタロニトリル２６部、２，３―ジシアノナフタレン１４３部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と三塩化アルミニウム３４部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、イオン交換水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、イオン交換水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄、乾燥して、化合物ｃを得た。
次いで、反応容器中で、濃硫酸１，５００部に１４０部の化合物ｃを氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、化合物ｄを得た。
Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物ｄを少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液をイオン交換水２，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、下記化学式（２０）で表される化合物の混合物（質量比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：１９：５９：１５）である近赤外線吸収色素（Ａ－５）を得た。
近赤外線吸収色素（Ａ－１）と同様の方法で、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－５）を得た。
【0287】
化学式（２０）
【化29】
【0288】
（近赤外線吸収色素（Ａ－６））
反応容器中で、アニリン１０．７部、ブロモベンゼン１２０部、およびジアザビシクロオクタン２５．７部を加え、攪拌した。その後、四塩化チタンの１ｍｏｌ／１トルエン溶液９５．２部を滴下した。滴下後、インジゴ１０．０部を加え、１０時間還流した。反応終了後、メタノールを加え、濾過し、緑色粉末を得た。これをジクロロメタンと水で分液を行い、有機層を濃縮することで、化合物ｅを１４．６部得た。
反応容器中で、化合物ｅを１３．５部、ビス（２、４－ペンタンジオナト）亜鉛（ＩＩ）を９．０部、とテトラヒドロフラン１２０部を混合攪拌し、昇温後４０℃で５時間攪拌した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５００部へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール５００部で洗浄後、水５００部で洗浄し、乾燥して、下記化学式（２１）で表される化合物の混合物（質量比率は、２量体：３量体：４量体＝８１：１７：２）である近赤外線吸収色素（Ａ－６）を得た。
近赤外線吸収色素（Ａ－１）と同様の方法で、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－６）を得た。
反応容器中で、アニリン１０．７部、ブロモベンゼン１２０部、およびジアザビシクロオクタン２５．７部を加え、攪拌した。その後、四塩化チタンの１ｍｏｌ／１トルエン溶液９５．２部を滴下した。滴下後、インジゴ１０．０部を加え、１０時間還流した。反応終了後、メタノールを加え、濾過し、緑色粉末を得た。これをジクロロメタンと水で分液を行い、有機層を濃縮することで、化合物ｅを１４．６部得た。
反応容器中で、化合物ｅを１３．５部、ビス（２、４－ペンタンジオナト）亜鉛（ＩＩ）を９．０部、とテトラヒドロフラン１２０部を混合攪拌し、昇温後４０℃で５時間攪拌した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５００部へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール５００部で洗浄後、水５００部で洗浄し、乾燥して、下記化学式（２１）で表される化合物の混合物（質量比率は、２量体：３量体：４量体＝８１：１７：２）である近赤外線吸収色素（Ａ－６）を得た。
近赤外線吸収色素（Ａ－１）と同様の方法で、微細化した近赤外線吸収色素（Ａ－６）を得た。
【0289】
化学式（２１）
【化30】
【0290】
＜バインダ樹脂（Ｅ）の製造＞
（バインダ樹脂（Ｅ－１）溶液）
温度計、冷却管、窒素ガス導入管、単量体滴下管、連鎖移動剤滴下管、及び撹拌装置を取り付けたセパラブルフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、ＰＧＭＡｃともいう）１００部仕込み、反応容器内を窒素置換した後、撹拌しながら９０℃に昇温し、単量体滴下管より、ジメチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート（以下、ＭＤともいう）１０部、メタクリル酸（以下、ＭＡＡともいう）４０部、メタクリル酸ラウリル（以下、ＬＭＡともいう）４８．５部、メタクリル酸メチル（以下、ＭＭＡともいう）１．５部と、重合開始剤としてｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート２部、ＰＧＭＡｃ２９部の混合物と、連鎖移動剤滴下管より、ｎ－ドデカンチオール５．５部、ＰＧＭＡｃ３３部の混合物とを２時間かけて滴下した。滴下終了してから、１時間後に１１０℃まで昇温し、その後３時間反応させ前駆体樹脂を得た。
室温まで冷却した後、酸素／窒素＝５／９５の混合ガスに置換した。次いで、変性化合物として、メタクリル酸グリシジル（以下、ＧＭＡともいう）４１．３部、６－ｔ－ブチル－２，４－キシレノール０．０５部、トリエチルアミン０．４部を仕込み、１１０℃で９時間反応させ重合性不飽和基を導入した。室温まで冷却した後、樹脂溶液約２部をサンプリングして１８０℃、２０分間加熱乾燥して不揮発分を測定し、不揮発分が２０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加してバインダ樹脂（Ｅ－１）溶液を調製した。ガラス転移温度（Ｔｇ）８℃、重量平均分子量（Ｍｗ）１３，４００であった。
（バインダ樹脂（Ｅ－１）溶液）
温度計、冷却管、窒素ガス導入管、単量体滴下管、連鎖移動剤滴下管、及び撹拌装置を取り付けたセパラブルフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、ＰＧＭＡｃともいう）１００部仕込み、反応容器内を窒素置換した後、撹拌しながら９０℃に昇温し、単量体滴下管より、ジメチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート（以下、ＭＤともいう）１０部、メタクリル酸（以下、ＭＡＡともいう）４０部、メタクリル酸ラウリル（以下、ＬＭＡともいう）４８．５部、メタクリル酸メチル（以下、ＭＭＡともいう）１．５部と、重合開始剤としてｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート２部、ＰＧＭＡｃ２９部の混合物と、連鎖移動剤滴下管より、ｎ－ドデカンチオール５．５部、ＰＧＭＡｃ３３部の混合物とを２時間かけて滴下した。滴下終了してから、１時間後に１１０℃まで昇温し、その後３時間反応させ前駆体樹脂を得た。
室温まで冷却した後、酸素／窒素＝５／９５の混合ガスに置換した。次いで、変性化合物として、メタクリル酸グリシジル（以下、ＧＭＡともいう）４１．３部、６－ｔ－ブチル－２，４－キシレノール０．０５部、トリエチルアミン０．４部を仕込み、１１０℃で９時間反応させ重合性不飽和基を導入した。室温まで冷却した後、樹脂溶液約２部をサンプリングして１８０℃、２０分間加熱乾燥して不揮発分を測定し、不揮発分が２０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加してバインダ樹脂（Ｅ－１）溶液を調製した。ガラス転移温度（Ｔｇ）８℃、重量平均分子量（Ｍｗ）１３，４００であった。
【0291】
（バインダ樹脂（Ｅ－２）～（Ｅ－５）溶液）
単量体及び変性化合物の種類と量を変え、不揮発分が２０質量％の表１に記載のバインダ樹脂（Ｅ－２）～（Ｅ－５）溶液を得た。
単量体及び変性化合物の種類と量を変え、不揮発分が２０質量％の表１に記載のバインダ樹脂（Ｅ－２）～（Ｅ－５）溶液を得た。
【0292】
【表1】
【0293】
表１に記載の記号は、以下の通りである。
ＭＤ：ジメチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート
ＢｚＭＩ：Ｎ－ベンジルマレイミド
ＩＢＸＭＡ：メタクリル酸イソボルニル
ＤＣＰＭＡ：メタクリル酸ジシクロペンタニル
ＢｚＭＡ：メタクリル酸ベンジル
ＣＨＭＡ：メタクリル酸シクロヘキシル
２－ＥＨＡ：アクリル酸２－エチルヘキシル
ＧＭＡ：メタクリル酸グリシジル
ＬＭＡ：メタクリル酸ラウリル
ＢＭＡ：メタクリル酸ブチル
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
ＡＡ：アクリル酸
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＴＨＰＡ：テトラヒドロフタル酸無水物
ＭＤ：ジメチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート
ＢｚＭＩ：Ｎ－ベンジルマレイミド
ＩＢＸＭＡ：メタクリル酸イソボルニル
ＤＣＰＭＡ：メタクリル酸ジシクロペンタニル
ＢｚＭＡ：メタクリル酸ベンジル
ＣＨＭＡ：メタクリル酸シクロヘキシル
２－ＥＨＡ：アクリル酸２－エチルヘキシル
ＧＭＡ：メタクリル酸グリシジル
ＬＭＡ：メタクリル酸ラウリル
ＢＭＡ：メタクリル酸ブチル
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
ＡＡ：アクリル酸
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＴＨＰＡ：テトラヒドロフタル酸無水物
【0294】
＜分散樹脂（Ｇ）の製造＞
（分散樹脂（Ｇ－１）溶液）
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応装置に、メチルメタクリレート４０部、ｎーブチルメタクリレート１０部、触媒としてテトラメチルエチレンジアミン１３．２部を仕込み、窒素を流しながら５０℃で１時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、開始剤としてブロモイソ酪酸エチル９．３部、触媒として塩化第一銅５．６部、ＰＧＭＡｃ１００部を仕込み、窒素気流下で、１１０℃まで昇温して第一ブロック（Ｂブロック）の重合を開始した。４時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が９８％以上であることを確認した。次に、この反応装置に、ＰＧＭＡｃ５０部、第二ブロック（Ａブロック）モノマーとしてジメチルアミノエチルメタクリレート４０部、メタクリロイルオキシエチルベンジルジメチルアンモニウムクロライド１０部を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。投入から２時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロック（Ａブロック）の重合転化率が９８％以上であることを確認し、反応溶液を室温まで冷却して重合を停止した。ＧＰＣ測定の結果、ポリマーの質量平均分子量２０，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが１．４であり、反応転化率は９８．５％であった。このようにして、不揮発分当たりのアミン価が１６９．８ｍｇＫＯＨ／ｇの分散樹脂（Ｇ－１）を得た。室温まで冷却した後、約２ｇをサンプリングして１８０℃、２０分間加熱乾燥して不揮発分を測定し、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して分散樹脂（Ｇ－１）溶液を調製した。
（分散樹脂（Ｇ－１）溶液）
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応装置に、メチルメタクリレート４０部、ｎーブチルメタクリレート１０部、触媒としてテトラメチルエチレンジアミン１３．２部を仕込み、窒素を流しながら５０℃で１時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、開始剤としてブロモイソ酪酸エチル９．３部、触媒として塩化第一銅５．６部、ＰＧＭＡｃ１００部を仕込み、窒素気流下で、１１０℃まで昇温して第一ブロック（Ｂブロック）の重合を開始した。４時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が９８％以上であることを確認した。次に、この反応装置に、ＰＧＭＡｃ５０部、第二ブロック（Ａブロック）モノマーとしてジメチルアミノエチルメタクリレート４０部、メタクリロイルオキシエチルベンジルジメチルアンモニウムクロライド１０部を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。投入から２時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロック（Ａブロック）の重合転化率が９８％以上であることを確認し、反応溶液を室温まで冷却して重合を停止した。ＧＰＣ測定の結果、ポリマーの質量平均分子量２０，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが１．４であり、反応転化率は９８．５％であった。このようにして、不揮発分当たりのアミン価が１６９．８ｍｇＫＯＨ／ｇの分散樹脂（Ｇ－１）を得た。室温まで冷却した後、約２ｇをサンプリングして１８０℃、２０分間加熱乾燥して不揮発分を測定し、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して分散樹脂（Ｇ－１）溶液を調製した。
【0295】
＜分散体の製造＞
（分散体１）
下記の原料を均一になるように攪拌混合した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビ－ズを用いて、アイガーミル（アイガージャパン社製「ミニモデルＭ－２５０ ＭＫＩＩ」）で３時間分散した後、孔径１．０μｍのフィルタで濾過し、分散体１を作製した。有機溶剤（Ｑ－１）は、ＰＧＭＡｃである。
近赤外線吸収色素（Ａ－１） ：１５．０部
分散樹脂（Ｇ－１）溶液 ：２０．０部
有機溶剤（Ｑ－１） ：６５．０部
（分散体１）
下記の原料を均一になるように攪拌混合した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビ－ズを用いて、アイガーミル（アイガージャパン社製「ミニモデルＭ－２５０ ＭＫＩＩ」）で３時間分散した後、孔径１．０μｍのフィルタで濾過し、分散体１を作製した。有機溶剤（Ｑ－１）は、ＰＧＭＡｃである。
近赤外線吸収色素（Ａ－１） ：１５．０部
分散樹脂（Ｇ－１）溶液 ：２０．０部
有機溶剤（Ｑ－１） ：６５．０部
【0296】
（分散体２～６）
表２に記載した原料、量を変えた以外は、分散体１と同様にして分散体２～６を作製した。
表２に記載した原料、量を変えた以外は、分散体１と同様にして分散体２～６を作製した。
【0297】
【表2】
【0298】
＜感光性組成物の製造＞
［実施例１］
（感光性組成物１）
以下の原料を混合、攪拌し、孔径１．０μｍのフィルタで濾過して感光性組成物１を得た。
分散体１ ：１０．０部
分散体３ ：２５．０部
バインダ樹脂（Ｅ－３）溶液 ：３０．０部
一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１－１） ： ３．８５部
その他重合性化合物（Ｂ２－２） ： ３．１５部
光重合開始剤（Ｃ－２） ： ０．５部
ベンゾフェノン化合物（Ｄ１－１） ： １．０部
レベリング剤（Ｎ） ： １．０部
有機溶剤（Ｑ） ：２５．５部
［実施例１］
（感光性組成物１）
以下の原料を混合、攪拌し、孔径１．０μｍのフィルタで濾過して感光性組成物１を得た。
分散体１ ：１０．０部
分散体３ ：２５．０部
バインダ樹脂（Ｅ－３）溶液 ：３０．０部
一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１－１） ： ３．８５部
その他重合性化合物（Ｂ２－２） ： ３．１５部
光重合開始剤（Ｃ－２） ： ０．５部
ベンゾフェノン化合物（Ｄ１－１） ： １．０部
レベリング剤（Ｎ） ： １．０部
有機溶剤（Ｑ） ：２５．５部
【0299】
［実施例２～３４、比較例１～６］
（感光性組成物２～３９）
実施例１の感光性組成物１を、表３－１～表３－４に記載した原料、量に変えた以外は、実施例１と同様にして感光性組成物２～３９を作製した。
（感光性組成物２～３９）
実施例１の感光性組成物１を、表３－１～表３－４に記載した原料、量に変えた以外は、実施例１と同様にして感光性組成物２～３９を作製した。
【0300】
【表3-1】
【0301】
【表3-2】
【0302】
【表3-3】
【0303】
【表3-4】
【0304】
表３－１～表３－４に記載したそれぞれの原料については、以下の通りである。
【0305】
［重合性化合物（Ｂ）］
（一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１））
Ｂ１－１：上記化学式（１１）で表される化合物
Ｂ１－２：上記化学式（１２）で表される化合物
Ｂ１－３：上記化学式（１５）で表される化合物
（一般式（１）で表される重合性化合物（Ｂ１））
Ｂ１－１：上記化学式（１１）で表される化合物
Ｂ１－２：上記化学式（１２）で表される化合物
Ｂ１－３：上記化学式（１５）で表される化合物
【0306】
（その他重合性化合物（Ｂ２））
Ｂ２－１：下記化学式で表される化合物
Ｂ２－２：下記化学式で表される化合物
Ｂ２－３：下記化学式で表される化合物
Ｂ２－４：下記化学式で表される化合物
Ｂ２－５：下記化学式で表される化合物
Ｂ２－１：下記化学式で表される化合物
Ｂ２－２：下記化学式で表される化合物
Ｂ２－３：下記化学式で表される化合物
Ｂ２－４：下記化学式で表される化合物
Ｂ２－５：下記化学式で表される化合物
【0307】
【化31】
【0308】
［光重合開始剤（Ｃ）］
Ｃ－１：Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製、アルキルフェノン化合物）
Ｃ－２：Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製、アルキルフェノン化合物）
Ｃ－３：Ｏｍｎｉｒａｄ １８４（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製、アルキルフェノン化合物）
Ｃ－４：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製、アシルホスフィンオキサイド化合物）
Ｃ－５：Ｂ－ＣＩＭ（保土谷化学工業社製、ビイミダゾール化合物）
Ｃ－６：１－（９，９－ジブチル－９Ｈ－フルオレン－２－イル）－２－メチル－２－モルフォリン－４－イル－プロパン－１－オン（アルキルフェノン化合物）
Ｃ－７：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０１（ＢＡＳＦジャパン社製、オキシム化合物）
Ｃ－８：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦジャパン社製、オキシム化合物）
Ｃ－１：Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製、アルキルフェノン化合物）
Ｃ－２：Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製、アルキルフェノン化合物）
Ｃ－３：Ｏｍｎｉｒａｄ １８４（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製、アルキルフェノン化合物）
Ｃ－４：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製、アシルホスフィンオキサイド化合物）
Ｃ－５：Ｂ－ＣＩＭ（保土谷化学工業社製、ビイミダゾール化合物）
Ｃ－６：１－（９，９－ジブチル－９Ｈ－フルオレン－２－イル）－２－メチル－２－モルフォリン－４－イル－プロパン－１－オン（アルキルフェノン化合物）
Ｃ－７：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０１（ＢＡＳＦジャパン社製、オキシム化合物）
Ｃ－８：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦジャパン社製、オキシム化合物）
【0309】
［増感剤（Ｄ）］
（ベンゾフェノン化合物（Ｄ１））
Ｄ１－１：４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
（チオキサントン化合物（Ｄ２））
Ｄ２－１：２，４－ジエチルチオキサントン
（ベンゾフェノン化合物（Ｄ１））
Ｄ１－１：４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
（チオキサントン化合物（Ｄ２））
Ｄ２－１：２，４－ジエチルチオキサントン
【0310】
［レベリング剤（Ｎ）］
Ｎ－１：ＢＹＫ－３３０（ビックケミー社製）
Ｎ－２：メガファックＦ－５５１（ＤＩＣ社製）
以上、（Ｎ－１）、（Ｎ－２）をそれぞれ１部混合し、ＰＧＭＡｃ９８部に溶解させた混合溶液をレベリング剤（Ｎ）とした。
Ｎ－１：ＢＹＫ－３３０（ビックケミー社製）
Ｎ－２：メガファックＦ－５５１（ＤＩＣ社製）
以上、（Ｎ－１）、（Ｎ－２）をそれぞれ１部混合し、ＰＧＭＡｃ９８部に溶解させた混合溶液をレベリング剤（Ｎ）とした。
【0311】
［有機溶剤（Ｑ）］
Ｑ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３０部
Ｑ－２：シクロヘキサノン ３０部
Ｑ－３：３－エトキシプロピオン酸エチル １０部
Ｑ－４：プロピレングリコールモノメチルエーテル １０部
Ｑ－５：シクロヘキサノールアセテート １０部
Ｑ－６：ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート １０部
以上、（Ｑ－１）～（Ｑ－６）をそれぞれ上記質量部にて混合し、有機溶剤（Ｑ）とした。
Ｑ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３０部
Ｑ－２：シクロヘキサノン ３０部
Ｑ－３：３－エトキシプロピオン酸エチル １０部
Ｑ－４：プロピレングリコールモノメチルエーテル １０部
Ｑ－５：シクロヘキサノールアセテート １０部
Ｑ－６：ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート １０部
以上、（Ｑ－１）～（Ｑ－６）をそれぞれ上記質量部にて混合し、有機溶剤（Ｑ）とした。
【0312】
＜感光性組成物の評価＞
得られた感光性組成物１～３９（実施例１～３３、比較例１～６）について、保存安定性、現像残渣、凝集異物、及びパターン形状の評価を下記の方法で行った。評価結果を表４に示す。
得られた感光性組成物１～３９（実施例１～３３、比較例１～６）について、保存安定性、現像残渣、凝集異物、及びパターン形状の評価を下記の方法で行った。評価結果を表４に示す。
【0313】
［保存安定性評価］
得られた感光性組成物を、密閉した容器に入れ４０℃１週間保管し、保管前後の粘度の変化率を下記式で算出し評価した。粘度は、Ｅ型粘度計（東機産業社製「ＥＬＤ型粘度計」）を用いて、２５℃において回転数５０ｒｐｍという条件で測定した。評価基準は、以下の通りであり、２以上が実用可能である。
［経時粘度変化率］＝｜（［初期粘度］－［経時粘度］）／［初期粘度］｜×１００
３：変化率５％未満のもの
２：変化率５％以上１０％未満のもの
１：変化率１０％以上のもの
得られた感光性組成物を、密閉した容器に入れ４０℃１週間保管し、保管前後の粘度の変化率を下記式で算出し評価した。粘度は、Ｅ型粘度計（東機産業社製「ＥＬＤ型粘度計」）を用いて、２５℃において回転数５０ｒｐｍという条件で測定した。評価基準は、以下の通りであり、２以上が実用可能である。
［経時粘度変化率］＝｜（［初期粘度］－［経時粘度］）／［初期粘度］｜×１００
３：変化率５％未満のもの
２：変化率５％以上１０％未満のもの
１：変化率１０％以上のもの
【0314】
［現像残渣評価］
得られた感光性組成物を、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製イーグル２０００）に、スピンコータを用いて乾燥膜厚が２．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートで乾燥した。次いで、超高圧水銀ランプを用い、照度３０ｍＷ／ｃｍ２、４０ｍＪ／ｃｍ２で、１００μｍ幅ストライプパターンのフォトマスクを介して紫外線を露光した。さらに、この基板を室温に冷却後、２３℃の非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％とを含む水系現像液を用いてスプレー現像し、イオン交換水で洗浄して風乾した。得られた基板をクリーンオーブン中で、２３０℃で２０分間ポストベークを行い、基板上にストライプ状のパターンを形成した。
得られた基板を学顕微鏡にて観察し、未露光部に残る残渣の量を画像の２値化処理により評価した。評価基準は、以下の通りであり、２以上が実用可能である。
３：現像残渣が、未露光面積部分の１．５％未満
２：現像残渣が、未露光面積部分の１．５％以上３％未満
１：現像残渣が、未露光面積部分の３％以上
得られた感光性組成物を、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製イーグル２０００）に、スピンコータを用いて乾燥膜厚が２．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートで乾燥した。次いで、超高圧水銀ランプを用い、照度３０ｍＷ／ｃｍ２、４０ｍＪ／ｃｍ２で、１００μｍ幅ストライプパターンのフォトマスクを介して紫外線を露光した。さらに、この基板を室温に冷却後、２３℃の非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％とを含む水系現像液を用いてスプレー現像し、イオン交換水で洗浄して風乾した。得られた基板をクリーンオーブン中で、２３０℃で２０分間ポストベークを行い、基板上にストライプ状のパターンを形成した。
得られた基板を学顕微鏡にて観察し、未露光部に残る残渣の量を画像の２値化処理により評価した。評価基準は、以下の通りであり、２以上が実用可能である。
３：現像残渣が、未露光面積部分の１．５％未満
２：現像残渣が、未露光面積部分の１．５％以上３％未満
１：現像残渣が、未露光面積部分の３％以上
【0315】
［パターン形状評価（１）：直線性］
得られた感光性組成物を、スピンコート法により縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製イーグル２０００）に、乾燥後の膜厚が２．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートで乾燥した。次いで、この基板を室温に冷却後、超高圧水銀灯ランプを用い、１００μｍ幅のストライプパターンのフォトマスクを介して照度３０ｍＷ／ｃｍ２、４０ｍＪ／ｃｍ２で露光した。その後、この基板を２３℃の非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％とを含む水系現像液を用いてスプレー現像した後、イオン交換水で洗浄、風乾し、クリーンオーブン中２３０℃で２０分間加熱しパターン形状評価用基板を得た。
得られたパターン形状評価用基板を、Ｎｉｋｏｎ社製ＥＣＬＩＰＳＥ ＬＶ１００ＰＯＬ Ｍｏｄｅｌ光学顕微鏡を用いて、１０箇所のストライプパターンの線幅の最大と最小部分を測定しその平均を求めることで評価を行った。評価基準は、以下の通りであり、３以上が実用可能である。
５：線幅の最大値と最小値の差が０．５μｍ未満
４：線幅の最大値と最小値の差が０．５μｍ以上、１．０μｍ未満
３：線幅の最大値と最小値の差が１．０μｍ以上、１．５μｍ未満
２：線幅の最大値と最小値の差が１．５μｍ以上、２．０μｍ未満
１：線幅の最大値と最小値の差が２．０μｍ以上
得られた感光性組成物を、スピンコート法により縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製イーグル２０００）に、乾燥後の膜厚が２．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートで乾燥した。次いで、この基板を室温に冷却後、超高圧水銀灯ランプを用い、１００μｍ幅のストライプパターンのフォトマスクを介して照度３０ｍＷ／ｃｍ２、４０ｍＪ／ｃｍ２で露光した。その後、この基板を２３℃の非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％とを含む水系現像液を用いてスプレー現像した後、イオン交換水で洗浄、風乾し、クリーンオーブン中２３０℃で２０分間加熱しパターン形状評価用基板を得た。
得られたパターン形状評価用基板を、Ｎｉｋｏｎ社製ＥＣＬＩＰＳＥ ＬＶ１００ＰＯＬ Ｍｏｄｅｌ光学顕微鏡を用いて、１０箇所のストライプパターンの線幅の最大と最小部分を測定しその平均を求めることで評価を行った。評価基準は、以下の通りであり、３以上が実用可能である。
５：線幅の最大値と最小値の差が０．５μｍ未満
４：線幅の最大値と最小値の差が０．５μｍ以上、１．０μｍ未満
３：線幅の最大値と最小値の差が１．０μｍ以上、１．５μｍ未満
２：線幅の最大値と最小値の差が１．５μｍ以上、２．０μｍ未満
１：線幅の最大値と最小値の差が２．０μｍ以上
【0316】
［パターン形状評価（２）：断面形状］
走査型電子顕微鏡（日立ハイテック社製「Ｓ－３０００Ｈ」）を用いて、パターン形状評価（１）で作成した基板で、パターンの断面形状を確認した。評価は、幅１００μｍのストライプパターンの断面のＳＥＭ画像を取り込み、基材とパターン断面の端部とのテーパー角度を測定することで断面形状評価を行った。評価基準は、以下の通りであり、３以上を実用可能とする。
５：テーパー角度３０度以上５０度未満
４：テーパー角度５０度以上６０度未満
３：テーパー角度３０度未満もしくは６０度以上７０度未満
２：テーパー角度７０度以上９０度未満
１：テーパー角度９０度以上
走査型電子顕微鏡（日立ハイテック社製「Ｓ－３０００Ｈ」）を用いて、パターン形状評価（１）で作成した基板で、パターンの断面形状を確認した。評価は、幅１００μｍのストライプパターンの断面のＳＥＭ画像を取り込み、基材とパターン断面の端部とのテーパー角度を測定することで断面形状評価を行った。評価基準は、以下の通りであり、３以上を実用可能とする。
５：テーパー角度３０度以上５０度未満
４：テーパー角度５０度以上６０度未満
３：テーパー角度３０度未満もしくは６０度以上７０度未満
２：テーパー角度７０度以上９０度未満
１：テーパー角度９０度以上
【0317】
［凝集異物評価］
走査型電子顕微鏡（日立ハイテック社製「Ｓ－３０００Ｈ」）を用いて、パターン形状評価（１）で作成した基板で、パターンの表面観察を行った。凝集体の粒径を５０個計測して平均値を算出し、平均粒径を求めた。評価基準は、以下の通りであり、３以上が実用可能である。
５：凝集体の平均粒径が１００ｎｍ未満
４：凝集体の平均粒径が１００ｎｍ以上３００ｎｍ未満
３：凝集体の平均粒径が３００ｎｍ以上５００ｎｍ未満
２：凝集体の平均粒径が５００ｎｍ以上１，０００ｎｍ未満
１：凝集体の平均粒径が１，０００ｎｍ以上
走査型電子顕微鏡（日立ハイテック社製「Ｓ－３０００Ｈ」）を用いて、パターン形状評価（１）で作成した基板で、パターンの表面観察を行った。凝集体の粒径を５０個計測して平均値を算出し、平均粒径を求めた。評価基準は、以下の通りであり、３以上が実用可能である。
５：凝集体の平均粒径が１００ｎｍ未満
４：凝集体の平均粒径が１００ｎｍ以上３００ｎｍ未満
３：凝集体の平均粒径が３００ｎｍ以上５００ｎｍ未満
２：凝集体の平均粒径が５００ｎｍ以上１，０００ｎｍ未満
１：凝集体の平均粒径が１，０００ｎｍ以上
【0318】
【表4】
【符号の説明】
【0319】
１００ 赤外線センサ
１１０ 固体撮像素子
１１１ 赤外線カットフィルタ
１１２ カラーフィルタ
１１３ 赤外線透過フィルタ
１１４ 樹脂膜
１１５ マイクロレンズ
１１６ 平坦膜
１１０ 固体撮像素子
１１１ 赤外線カットフィルタ
１１２ カラーフィルタ
１１３ 赤外線透過フィルタ
１１４ 樹脂膜
１１５ マイクロレンズ
１１６ 平坦膜
【図1】
