特開 2022-185722 基板処理システムおよびその制御方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022185722

(43)【公開日】2022-12-15

(54)【発明の名称】基板処理システムおよびその制御方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20221208BHJP

   H01L 21/027 20060101ALI20221208BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 501

H01L21/30 502G

H01L21/30 541Z

【審査請求】未請求

【請求項の数】13

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021093509

(22)【出願日】2021-06-03

(71)【出願人】

【識別番号】000001007

【氏名又は名称】キヤノン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100110412

【弁理士】

【氏名又は名称】藤元 亮輔

(74)【代理人】

【識別番号】100104628

【弁理士】

【氏名又は名称】水本 敦也

(74)【代理人】

【識別番号】100121614

【弁理士】

【氏名又は名称】平山 倫也

(72)【発明者】

【氏名】吉岡 泰智

(72)【発明者】

【氏名】川端 宣幸

(72)【発明者】

【氏名】池田 研二

(72)【発明者】

【氏名】安齋 幹人

(72)【発明者】

【氏名】北川 純

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 佑

【テーマコード（参考）】

2H197

5F056

5F146

【Ｆターム（参考）】

2H197AA05

2H197AA24

2H197CA09

2H197CD12

2H197CD43

2H197DA09

2H197DA10

2H197DB20

2H197DC01

2H197EA11

2H197EA25

2H197EB16

2H197HA03

2H197HA04

2H197JA09

5F056CA30

5F146AA31

5F146DB14

5F146DD01

5F146DD06

(57)【要約】

【課題】更新ソフトウェアの機能が正常に動作するか否かを事前に判定することが可能な基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板処理システム（１００）は、基板処理装置（１０）と、入出力装置（４０）と、第１ソフトウェアがインストールされ、入出力装置から出力された第１信号に基づいて基板処理装置を制御し、基板処理装置から出力された第２信号を取得する第１制御装置（２０）と、第２ソフトウェアがインストールされ、第１制御装置と同じ演算処理を行うが基板処理装置を制御しない第２制御装置（３０）と、第１信号を第２制御装置に分配する第１分配器（６０ａ）と、第２信号を第２制御装置に分配する第２分配器（６０ｂ）とを有し、第２制御装置は、第１信号と第２信号とに基づく第３信号を出力する。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板処理装置と、
入出力装置と、
第１ソフトウェアがインストールされ、前記入出力装置から出力された第１信号に基づいて前記基板処理装置を制御し、前記基板処理装置から出力された第２信号を取得する第１制御装置と、
第２ソフトウェアがインストールされ、前記第１制御装置と同じ演算処理を行うが前記基板処理装置を制御しない第２制御装置と、
前記第１信号を前記第２制御装置に分配する第１分配器と、
前記第２信号を前記第２制御装置に分配する第２分配器と、を有し、
前記第２制御装置は、前記第１信号と前記第２信号とに基づいて第３信号を出力することを特徴とする基板処理システム。

【請求項2】

前記第２ソフトウェアは、前記第１ソフトウェアを更新したソフトウェアであることを特徴とする請求項１に記載の基板処理システム。

【請求項3】

前記第２制御装置から前記第３信号を取得する出力装置と、
前記第２信号に基づいて前記第１制御装置から前記入出力装置へ出力された第４信号を前記出力装置に分配する第３分配器と、を更に有することを特徴とする請求項１または２に記載の基板処理システム。

【請求項4】

前記出力装置は、前記第３信号に対応するデータと前記第４信号に対応するデータとを表示することを特徴とする請求項３に記載の基板処理システム。

【請求項5】

前記出力装置は、前記第３信号に対応するデータと前記第４信号に対応するデータとを比較することを特徴とする請求項３に記載の基板処理システム。

【請求項6】

前記出力装置は、前記第３信号に対応するデータと前記第４信号に対応するデータとの差に基づいて、前記第１制御装置にインストールされた前記第１ソフトウェアを前記第２ソフトウェアに更新可能であるか否かを判定することを特徴とする請求項３に記載の基板処理システム。

【請求項7】

前記第３信号に対応するデータと前記第４信号に対応するデータとの前記差は、前記第１ソフトウェアが前記第２ソフトウェアに更新されることに伴う、基板ステージの振動の許容範囲の変更により生じることを特徴とする請求項６に記載の基板処理システム。

【請求項8】

前記第３信号に対応するデータと前記第４信号に対応するデータとの前記差は、前記第１ソフトウェアが前記第２ソフトウェアに更新されることに伴う、基板のパターンとマスクのパターンとの位置ズレ算出方法の変更により生じることを特徴とする請求項６に記載の基板処理システム。

【請求項9】

前記第１制御装置および前記第２制御装置は、同一のハードウェア上で動作することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の基板処理システム。

【請求項10】

第１ソフトウェアがインストールされ、入出力装置から出力された第１信号に基づいて基板処理装置を制御し、前記基板処理装置から出力された第２信号を取得する制御部と同じ演算処理を行うが、前記基板処理装置を制御しない制御装置であって、
前記制御装置には、第２ソフトウェアがインストールされており、
前記制御装置は、第１分配器により分配された前記第１信号と第２分配器により分配された前記第２信号とに基づいて、第３信号を出力することを特徴とする制御装置。

【請求項11】

第１ソフトウェアがインストールされた第１制御装置に対して、入出力装置からの第１信号を出力するステップと、
第１分配器により、第２ソフトウェアがインストールされた第２制御装置に対して前記第１信号を分配するステップと、
前記第１信号に基づいて、前記第１制御装置が基板処理装置を制御するステップと、
前記第１信号に基づいて、前記第２制御装置が前記第１制御装置と同じ演算処理を行うが前記基板処理装置を制御しないステップと、
前記第１制御装置に対して、前記基板処理装置からの第２信号を出力するステップと、
第２分配器により、前記第２制御装置に対して前記第２信号を分配するステップと、
前記第１信号と前記第２信号とに基づいて、前記第２制御装置から第３信号を出力するステップと、を有することを特徴とする基板処理システムの制御方法。

【請求項12】

前記第１信号を出力するステップを実行する前に、前記第２制御装置にインストールされた前記第１ソフトウェアを前記第２ソフトウェアに更新するステップを更に有することを特徴とする請求項１１に記載の基板処理システムの制御方法。

【請求項13】

請求項１乃至９のいずれか一項に記載の基板処理システムを用いて基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板処理システムおよびその制御方法に関する。

【背景技術】

【0002】

リソグラフィ装置（基板処理装置）の制御を行うためのソフトウェアは、高精度化や高機能化のために随時改良される必要がある。また、ソフトウェアの改良は、新規開発のリソグラフィ装置だけでなく、既に稼動中のリソグラフィ装置に対しても、新機能の追加やハードウェアの性能を向上させる目的で頻繁に行われる。このため、稼働中のリソグラフィ装置に対するソフトウェアの更新に際して、ソフトウェアが正常に動作せず、ソフトウェアの更新を中止せざるを得ない場合がある。

【0003】

一方、未然にシミュレーター等を使ってソフトウェア更新の可否をテストするには、稼働中の装置と同等の環境情報(構成、データ、運用条件)を入手する必要があるため、困難である。また、稼働中のリソグラフィ装置に対してソフトウェア更新を行った後に、データ検証および精度検証を行うことで品質を保つことはできるが、この方法ではユーザ先のリソグラフィ装置を長時間借用する必要がある。

【0004】

特許文献１には、リソグラフィ装置に制御装置と同じ処理を行う別の制御装置とシミュレーション装置を搭載することで、リソグラフィ装置の稼働停止時間を短縮するリソグラフィシステムが開示されている。特許文献２には、ユーザ先の実データをクラウド上へアップロードすることで、より実際の使用環境に適合したソフトウェアデバッグを実行するエンジニアリングシステムが開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０１９－０６６６９２号公報

【特許文献2】特開２０２０－０５２８１２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

特許文献１に開示されたリソグラフィシステムでは、リソグラフィ装置を制御する制御装置とシミュレーション装置を制御する制御装置は同じ処理を行うが、各制御装置へ入力される入力データは同一と保証されるものではなく、タイミングも異なる。特許文献２に開示されたエンジニアリングシステムでは、アップロードした実データを基にクラウド上のシミュレーションを行う仮想機器によってソフトウェアデバッグを行うため、同一の入力データやタイミングによるテストを行うことができない。したがって、実環境とシミュレーション環境の入力情報の誤差により、事前に行うテストの条件に差異が生じ、更新ソフトウェアの機能が正常に動作しない可能性がある。

【0007】

そこで本発明は、更新ソフトウェアの機能が正常に動作するか否かを事前に判定することが可能な基板処理システム、制御装置、基板処理システムの制御方法、および物品の制御方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明の一側面としての基板処理システムは、基板処理装置と、入出力装置と、第１ソフトウェアがインストールされ、前記入出力装置から出力された第１信号に基づいて前記基板処理装置を制御し、前記基板処理装置から出力された第２信号を取得する第１制御装置と、第２ソフトウェアがインストールされ、前記第１制御装置と同じ演算処理を行うが前記基板処理装置を制御しない第２制御装置と、前記第１信号を前記第２制御装置に分配する第１分配器と、前記第２信号を前記第２制御装置に分配する第２分配器とを有し、前記第２制御装置は、前記第１信号と前記第２信号とに基づく第３信号を出力する。

【0009】

本発明の他の目的及び特徴は、以下の実施形態において説明される。

【発明の効果】

【0010】

本発明によれば、更新ソフトウェアの機能が正常に動作するか否かを事前に判定することが可能な基板処理システム、制御装置、基板処理システムの制御方法、および物品の制御方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】本実施形態における基板処理装置の構成図である。

【図2】本実施形態における基板処理システムの構成図である。

【図3】本実施形態における制御装置の構成図である。

【図4】本実施形態における制御装置の処理を示すフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。

【0013】

本実施形態では、基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置（基板処理装置）として、マスクを介して基板にパターンを露光する露光装置を例に説明するが、本実施形態は他の基板処理装置にも適用可能である。例えば、モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置や、荷電粒子線を基板に照射して当該基板にパターンを形成する描画装置などの基板処理装置においても本実施形態を適用しうる。また、感光媒体を基板の表面上に塗布する塗布装置、パターンが転写された感光媒体を現像する現像装置などの基板処理装置においても本実施形態を適用しうる。また、成膜装置（ＣＶＤ装置等）、加工装置（レーザー加工装置等）、検査装置（オーバーレイ検査装置等）、計測装置（マーク計測装置等）などの基板処理装置においても本実施形態を適用しうる。

【0014】

まず、図１を参照して、本実施形態における露光装置（基板処理装置）１０について説明する。図１は、露光装置１０の構成図である。露光装置１０は、露光光源１１、照明光学系１２、計測用カメラ１３、マスクステージ１５、投影光学系１６、および基板ステージ１８を有する。マスクステージ１５にはマスク１４が搭載され、基板ステージ１８には基板１７が搭載される。制御装置２０は、露光装置１０の計測用カメラ１３、マスクステージ１５、および基板ステージ１８を制御する。露光装置１０は、マスク１４に描画されたパターンを、投影光学系１６を介して基板１７上に露光する。この際、制御装置２０は、既にパターンが形成された基板１７上のパターンとマスク１４上のパターンとを高精度に位置合わせする必要がある。このため、計測用カメラ１３で計測したパターンの位置ズレをマスクステージ１５または基板ステージ１８をＸＹθの２次元平面で制御しながら露光処理を実施する。

【0015】

次に、図２を参照して、本実施形態におけるリソグラフィシステム（基板処理システム）１００について説明する。図２は、リソグラフィシステム１００の構成図である。

【0016】

リソグラフィシステム１００は、露光装置１０、露光装置１０を制御する制御装置（第１制御装置、制御部）２０、制御装置２０と同じ演算処理を行う制御装置（第２制御装置）３０、および制御装置２０に対して入出力を行う入出力装置４０を有する。またリソグラフィシステム１００は、分配器（第１分配器）６０ａおよび分配器（第２分配器）６０ｂを有する。分配器６０ａは、入出力装置４０からの入力情報（第１信号）を制御装置３０に対して送信（分配）する。分配器６０ｂは、露光装置１０からの出力情報（第２信号）を制御装置３０に対して送信（分配）する。またリソグラフィシステム１００は、制御装置３０から出力されたデータ（第３信号）を処理する出力装置５０、および、制御装置２０から出力されたデータ（第４信号）を入出力装置４０および出力装置５０へ分配する分配器（第３分配器）６０ｃを有する。

【0017】

制御装置２０は、入出力装置４０からの操作情報および露光装置１０の制御結果を入力し、露光装置１０を制御するための制御命令および入出力装置４０で表示するための表示情報を出力する。制御装置３０は、入出力装置４０からの操作情報および露光装置１０の制御結果を入力し、露光装置１０を制御するための制御命令および出力装置５０で表示するための表示情報を出力する。なお、露光装置１０は制御装置２０から出力される制御命令に従って制御されるが、制御装置３０から出力される制御命令は露光装置１０に入力されない。すなわち制御装置３０は制御装置２０と同一の演算処理を行うが、露光装置１０は制御装置３０からの制御命令に従って実際に制御されるものではない。

【0018】

次に、図３を参照して、本実施形態における制御装置２０、３０のハードウェア構成について説明する。図３は、制御装置２０、３０の構成図である。制御装置２０、３０はそれぞれ同じ構成を有する。

【0019】

制御装置２０、３０は、パーソナルコンピュータまたはワークステーションなどのコンピュータ装置により構成される。ＣＰＵ２１は、制御装置２０、３０の全体の制御を司る中央処理装置である。ＲＡＭ２２は、主記憶装置として機能するメモリである。ＲＯＭ２３は、起動プログラムやデータを記憶しているメモリである。ＨＤＤ２４は、ハードディスク装置であり、オペレーティングシステム２５、制御パラメータ２６、および制御プログラム（制御ソフトウェア）２７を含む。制御パラメータ２６は、露光を行うためのパラメータであり、マスクステージ１５や基板ステージ１８の駆動量などを含む。制御プログラム２７は、制御パラメータ２６に応じた振る舞いがプログラミングされている。また制御プログラム２７は、露光装置１０の性能向上のために更新されてもよい。本実施形態において、更新前の旧制御プログラム（旧ソフトウェア）を第１制御プログラム（第１ソフトウェア）、更新された制御プログラム（更新されたソフトウェア）を第２制御プログラム（第２ソフトウェア）とする。

【0020】

制御装置２０が露光装置１０を制御する場合、制御装置２０は、オペレーティングシステム２５上で動作する制御プログラム２７により、露光装置１０への制御指示（制御命令）を行う。通信部２８は、分配器６０ａ、６０ｂと通信するためのインターフェースを含み、分配器６０ａ、６０ｂに対して入出力を行う。なお制御装置２０、３０は、同一のハードウェア上で動作してもよい。

【0021】

入出力装置４０は、露光装置１０の操作および制御装置２０からの表示情報に応じて表示を行うための装置である。入出力装置４０は、ホストコンピュータや露光装置１０に備え付けの操作端末などである。出力装置５０は、制御装置３０からの表示情報に応じて表示を行うための装置である。出力装置５０は、ホストコンピュータや露光装置１０に備え付けの操作端末などである。なお、出力装置５０は入出力装置４０と同一であってもよい。また出力装置５０は、分配器６０ｃにより分配された制御装置２０の処理結果と制御装置３０の処理結果とを比較し、比較結果を表示することができる。

【0022】

分配器６０ａおよび分配器６０ｂは、入出力装置４０からの操作情報、および露光装置１０からの制御結果を、制御装置２０、３０へブロードキャスト（分配）するための装置である。分配器６０ｃは、制御装置２０から出力されたデータを入出力装置４０と出力装置５０とへ分配するための装置である。分配器６０ａ、６０ｂ、６０ｃは、例えばネットワークハブである。ブロードキャストは、例えば、制御装置２０、３０とネットワークハブとをＬＡＮケーブルにより接続して実現可能である。これにより、制御装置２０、３０は、通信部２８を介して同一のデータを同一のタイミングで取得することができる。また、分配器６０ａ、６０ｂは、制御装置３０の制御プログラム２７が更新されたことを契機として、ブロードキャストを開始してもよい。

【0023】

次に、図４を参照して、リソグラフィシステム１００における制御装置２０、３０の処理、すなわち入出力装置４０からの操作情報を制御装置２０、３０へブロードキャストし、出力データを比較する方法について説明する。図４は、制御装置２０、３０の処理を示すフローチャートである。

【0024】

まずステップＳ１０１において、制御装置３０は、制御装置３０の外部から新規制御プログラムを読み込み、制御装置３０の制御プログラム２７を更新する。なお、新規制御プログラムは、露光装置１０の製造ベンダにより光磁気ディスクなどの記録媒体に格納して提供されることが一般的であるが、これに限定されるものではない。インターネットなどのネットワークを介して制御プログラム２７を新規制御プログラムに更新してもよい。

【0025】

続いてステップＳ１０２において、ユーザは、入出力装置４０を介して操作情報を入力する（操作入力）。操作情報の入力は、露光装置１０に備え付けの操作端末を介して行われることが一般的である。続いてステップＳ１０３において、分配器６０ａは、入出力装置４０からの操作情報を、制御装置２０、３０へブロードキャストする。続いてステップＳ１０４およびステップＳ１０５において、制御装置２０、３０は、同一のタイミングで、操作入力に応じた処理を開始する。

【0026】

続いてステップＳ１０６において、制御装置２０は、露光装置１０へ制御命令を出力する。一方、制御装置３０は、実際には露光装置１０を制御しないため、制御命令を出力しない。続いてステップＳ１０７において、露光装置１０は、ステップＳ１０６にて制御装置２０から出力された制御命令に従って処理を行う（制御命令に従って制御される）。続いてステップＳ１０８において、露光装置１０は、制御結果を出力する。続いてステップＳ１０９において、分配器６０ｂは、露光装置１０から出力された制御結果を、制御装置２０、３０へブロードキャストする。続いてステップＳ１１０およびステップＳ１１１において、制御装置２０、３０は、同一のタイミングで、制御結果に応じた処理を開始する。

【0027】

続いてステップＳ１１２およびステップＳ１１３において、制御装置２０、３０は、入出力装置４０および出力装置５０へ処理結果を出力する。続いてステップＳ１１４において、分配器６０ｃは、制御装置２０からの処理結果を、入出力装置４０および出力装置５０へ送信する。続いてステップＳ１１５において、入出力装置４０は、処理結果を表示する。ステップＳ１１６において、出力装置５０は、制御装置２０の処理結果と制御装置３０の処理結果とを比較し、比較結果を表示する。

【0028】

ここで出力装置５０は、例えば、制御装置２０の出力と制御装置３０の出力との差異が想定した差異と一致するかを判定する。制御装置２０、３０に対しては、ブロードキャストによる入力を行っているため、運用条件によって発生する出力の差異は発生せず、制御プログラム２７の処理に依存した出力の差異のみが発生する。出力装置５０での比較結果が想定した差異である場合、新規制御プログラムの処理は妥当であり、ソフトウェアの更新が正常に実施可能であると考えられる。このため制御装置２０は、制御装置２０の外部から新規制御プログラムを読み込み、制御プログラム２７を更新できると判定される。出力装置５０による比較結果が想定した差異と一致しない場合、新規制御プログラムまたは制御パラメータの少なくとも一方を修正する必要があると判定される。

【0029】

一例として、基板ステージ１８の振動が露光結果に影響を与えてしまう現象を解決するため、新規制御プログラムへの更新に伴い、基板ステージ１８の振動（振動の規格判定）の許容範囲を変更する（例えば狭める）ようにしてもよい。基板ステージ１８には多数の制御パラメータ２６があり、また露光装置１０によって制御パラメータ２６の値が大きく異なるため。このため、新規制御プログラムを更新した場合の効果は、リソグラフィシステム１００に応じて異なる。

【0030】

また、別の一例として、基板１７上のパターンとマスク１４上のパターンとの位置合わせ精度を高めるため、新規制御プログラムへの更新に伴い、計測用カメラ１３で計測したパターンの位置ズレ算出方法を変更してもよい。基板１７上のパターンとマスク１４上のパターンは、ユーザの生産プロセスに応じて異なる。このため、新規制御プログラムを更新した場合の効果は、生産プロセスに応じて異なる。

【0031】

つまり、これらの例においては、新規制御プログラムの更新が期待通りの結果をもたらさない可能性がある。場合によっては、エラーが発生し動作できなくなり、露光装置１０の稼働率が落ちる可能性や、精度が低下して不良が発生する可能性がある。

【0032】

そこで本実施形態において、新規制御プログラムは、光磁気ディスクの記録媒体に格納して保存されている。制御装置３０は、光磁気ディスクを読み込むことにより、制御装置３０の制御プログラム２７を更新する。そして、リソグラフィシステム１００に備え付けの操作端末から露光を実行する操作を行う。このとき、制御装置２０および制御装置３０の制御パラメータ２６は、前記現象の発生したものと同一とする。

【0033】

露光が終了すると、露光装置１０から出力された制御結果が分配器６０ｂによって制御装置２０、３０へブロードキャスト（分配）され、制御装置２０、３０が処理を行う。制御装置２０の処理結果は、分配器６０ｃにより出力装置５０へ送信される。このため出力装置５０は、制御装置２０の処理結果と制御装置３０の出力結果とを比較することができる。

【0034】

制御装置２０は、更新前の制御プログラム２７で処理を行うが、制御装置３０は、更新後の制御プログラム（新規制御プログラム）２７で処理を行う。このため、出力装置５０が処理結果の比較を行うと、例えば、基板ステージ１８の振動の規格判定結果についての差分や、パターンの位置ズレ結果についての差分が出力される。

【0035】

これらの差分は、新規制御プログラムの処理が妥当であることを示し、実際に露光装置１０を制御する制御装置２０の制御プログラム２７を正常に更新可能であると判定することができる。また、例えば、処理結果の比較の結果、差分が生じていない場合、新規制御プログラムは妥当ではないため、修正が必要であるか、または制御パラメータ２６の変更が必要である。または、新規制御プログラムは、リソグラフィシステム１００の本機種や本ユーザの生産プロセスでは使用できないと判定される。この際、制御装置２０は、更新前の制御プログラム２７で処理を行い露光装置１０を制御して生産を行っているため、エラーが発生し動作できなくなり、露光装置１０の稼働率が落ちることや精度が低下し不良が発生することなどの問題は生じない。

【0036】

以上のように、基板処理システム（リソグラフィシステム１００）は、基板処理装置（露光装置１０）、入出力装置４０、第１制御装置（制御装置２０）、第２制御装置（制御装置３０）、第１分配器（分配器６０ａ）、および第２分配器（分配器６０ｂ）を有する。第１制御装置は、第１ソフトウェア（更新前の制御プログラム）がインストールされ、入出力装置から出力された第１信号に基づいて基板処理装置を制御し、基板処理装置から出力された第２信号を取得する。第２制御装置は、第２ソフトウェア（更新後の制御プログラム）がインストールされ、第１制御装置と同じ演算処理を行うが基板処理装置を制御しない。第１分配器は、第１信号を第２制御装置に分配する。第２分配器は、第２信号を第２制御装置に分配する。第２制御装置は、第１信号と第２信号とに基づいて第３信号を出力する。

【0037】

好ましくは、基板処理システムは、出力装置５０および第３分配器（分配器６０ｃ）を有する。出力装置は、第２制御装置から第３信号を取得する。第３分配器は、第２信号に基づいて第１制御装置から入出力装置へ出力された第４信号を出力装置に分配する。

【0038】

好ましくは、出力装置は、第３信号に対応するデータと第４信号に対応するデータとを表示する。ユーザは、出力装置に表示された第３信号に対応するデータと第４信号に対応するデータとを比較して、ソフトウェア更新の可否を判定することができる。

【0039】

好ましくは、出力装置は、第３信号に対応するデータと第４信号に対応するデータとを比較する。ユーザは、出力装置による比較結果に基づいて、ソフトウェア更新の可否を判定することができる。

【0040】

好ましくは、出力装置は、第３信号に対応するデータと第４信号に対応するデータとの差に基づいて、第１制御装置にインストールされた第１ソフトウェアを第２ソフトウェアに更新可能であるか否かを判定する。この構成によれば、ソフトウェア更新の可否を出力装置が判定することができる。より好ましくは、第３信号に対応するデータと第４信号に対応するデータとの差は、ソフトウェアの更新に伴う、基板ステージの振動の許容範囲の変更、または基板のパターンとマスクのパターンとの位置ズレ算出方法の変更により生じる。

【0041】

＜物品の製造方法の実施形態＞
本実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子やフラットパネルディスプレイ等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、上述した基板処理システム（リソグラフィシステム１００）を用いて基板を処理する工程と、かかる工程で処理された基板から物品を製造する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、周知の工程（露光、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

【0042】

本実施形態によれば、更新ソフトウェアの機能が正常に動作するか否かを事前に判定することが可能な基板処理システム、制御装置、基板処理システムの制御方法、および物品の製造方法を提供することができる。

【0043】

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。

【符号の説明】

【0044】

１０ 露光装置（基板処理装置）
２０ 制御装置（第１制御装置）
３０ 制御装置（第２制御装置）
４０ 入出力装置
６０ａ：分配器（第１分配器）
６０ｂ：分配器（第２分配器）
１００ リソグラフィシステム（基板処理システム）

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】