IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」

▶ 株式会社ジャパンディスプレイの特許一覧

<>
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図1
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図2
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図3
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図4
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図5
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図6
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図7
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図8
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図9
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図10
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図11
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図12
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図13
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図14
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図15
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図16
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図17
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図18
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図19
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図20
  • 特開-入力支援装置及び入力検出システム 図21
< >
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022189018
(43)【公開日】2022-12-22
(54)【発明の名称】入力支援装置及び入力検出システム
(51)【国際特許分類】
   G06F 3/0362 20130101AFI20221215BHJP
   G06F 3/044 20060101ALI20221215BHJP
   G06F 3/041 20060101ALI20221215BHJP
   H01H 19/14 20060101ALI20221215BHJP
   H01H 36/00 20060101ALI20221215BHJP
【FI】
G06F3/0362 461
G06F3/044 126
G06F3/041 560
H01H19/14
H01H36/00 V
【審査請求】未請求
【請求項の数】11
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2021097343
(22)【出願日】2021-06-10
(71)【出願人】
【識別番号】502356528
【氏名又は名称】株式会社ジャパンディスプレイ
(74)【代理人】
【識別番号】110002147
【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】林 真人
(72)【発明者】
【氏名】柿木 雄飛
(72)【発明者】
【氏名】河野 孝明
【テーマコード(参考)】
5B087
5G046
5G219
【Fターム(参考)】
5B087AB04
5B087BC12
5B087BC13
5B087BC16
5B087BC34
5G046AB01
5G046AC24
5G046AD13
5G219HT02
5G219KS07
5G219RS63
(57)【要約】
【課題】ハウジングと重なる領域の視認性を向上させることができる入力支援装置及び入力検出システムを提供する。
【解決手段】入力支援装置は、複数の検出電極を有する検出装置の上に配置される入力支援装置であって、支持体と、支持体に回転可能に設けられた回転体と、回転体の、検出装置と対向する面に設けられた基板と、基板に設けられた少なくとも1つの電極と、を有し、回転体及び基板の、少なくとも電極と重なる領域は、透光性を有する。また、入力検出システムは、入力支援装置と、複数の検出電極を有する検出装置と、検出装置の上に設けられたカバー部材と、を有し、入力支援装置の支持体は、接着層を介してカバー部材の上に配置される。
【選択図】図2
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の検出電極を有する検出装置の上に配置される入力支援装置であって、
支持体と、
前記支持体に回転可能に設けられた回転体と、
前記回転体の、前記検出装置と対向する面に設けられた基板と、
前記基板に設けられた少なくとも1つの電極と、を有し、
前記回転体及び前記基板の、少なくとも前記電極と重なる領域は、透光性を有する
入力支援装置。
【請求項2】
前記基板に設けられ、前記電極に接続されるコンデンサと、インダクタとを有し、
前記コンデンサは、一対の容量電極と、一対の前記容量電極の間に設けられた絶縁層とを有し、
一対の前記容量電極及び前記絶縁層は、透光性を有する
請求項1に記載の入力支援装置。
【請求項3】
一方の前記容量電極は、前記電極と同層に前記基板と前記絶縁層との間に設けられる
請求項2に記載の入力支援装置。
【請求項4】
前記インダクタは少なくとも1つのコイル部を有し、
前記コイル部は、前記電極と同層に設けられる
請求項2又は請求項3に記載の入力支援装置。
【請求項5】
前記インダクタは、1対のコイル部を有し、
1対の前記コイル部の間に前記絶縁層が設けられ、前記絶縁層に設けられたコンタクトホールを介して、1対の前記コイル部は電気的に接続される
請求項2から請求項4のいずれか1項に記載の入力支援装置。
【請求項6】
前記コイル部は金属材料で形成される
請求項4又は請求項5に記載の入力支援装置。
【請求項7】
前記コンデンサと、前記インダクタとは並列に接続されてLC回路を形成し、
前記電極は、前記LC回路の一端側に接続された第1電極と、前記LC回路の他端側に接続された第2電極と、を含む
請求項2から請求項6のいずれか1項に記載の入力支援装置。
【請求項8】
前記電極は、透光性を有する導電材料である
請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の入力支援装置。
【請求項9】
前記電極は、メッシュ状の金属細線である
請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の入力支援装置。
【請求項10】
請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の入力支援装置と、
複数の検出電極を有する検出装置と、
前記検出装置の上に設けられたカバー部材と、を有し、
前記入力支援装置の前記支持体は、接着層を介して前記カバー部材の上に配置される
入力検出システム。
【請求項11】
前記支持体は、環状であり、
前記基板及び少なくとも1つの前記電極は、前記支持体に囲まれた領域に配置され、
前記回転体に設けられた前記基板及び少なくとも1つの前記電極と対向し、前記接着層の上に設けられた保護層を有する
請求項10に記載の入力検出システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、入力支援装置及び入力検出システムに関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献1には、静電容量方式のタッチパネルと、タッチパネル上に置かれ、タッチパネルへの入力操作を支援する入力支援装置(特許文献1では、入力装置と表記)が記載されている。特許文献1の入力支援装置は回転自在に設けられたノブと、ノブに保持された導体と、を備える。導体はタッチパネルと対向して配置されて、タッチパネルは導体の位置情報に基づいてノブの回転情報及び押圧情報を検出する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2020-64827号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
入力支援装置がタッチパネル上に配置されると、入力支援装置のハウジングと重なる部分の表示領域が隠れてしまい、操作者から視認することができない。例えば、入力支援装置の操作に対する応答内容を表す表示は、入力支援装置と重ならない領域に表示する必要があり、表示の制約が大きくなる場合がある。
【0005】
本発明は、ハウジングと重なる領域の視認性を向上させることができる入力支援装置及び入力検出システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の一態様の入力支援装置は、複数の検出電極を有する検出装置の上に配置される入力支援装置であって、支持体と、前記支持体に回転可能に設けられた回転体と、前記回転体の、前記検出装置と対向する面に設けられた基板と、前記基板に設けられた少なくとも1つの電極と、を有し、前記回転体及び前記基板の、少なくとも前記電極と重なる領域は、透光性を有する。
【0007】
本発明の一態様の入力検出システムは、入力支援装置と、複数の検出電極を有する検出装置と、前記検出装置の上に設けられたカバー部材と、を有し、前記入力支援装置の前記支持体は、接着層を介して前記カバー部材の上に配置される。
【図面の簡単な説明】
【0008】
図1図1は、第1実施形態に係る入力検出システムを模式的に示す斜視図である。
図2図2は、図1のII-II’断面図である。
図3図3は、表示装置が有するアレイ基板を模式的に示す平面図である。
図4図4は、入力支援装置の検出方法を説明するための説明図である。
図5図5は、入力支援装置の検出方法を説明するためのタイミング波形図である。
図6図6は、入力支援装置が装着された表示装置を模式的に示す平面図である。
図7図7は、入力支援装置の回転体と、第1電極及び第2電極の構成を模式的に示す平面図である。
図8図8は、入力支援装置の支持体の構成を模式的に示す分解斜視図である。
図9図9は、第1変形例に係る入力支援装置の、第1電極及び第2電極の構成を模式的に示す平面図である。
図10図10は、第2変形例に係る入力支援装置の、第1電極及び第2電極の構成を模式的に示す平面図である。
図11図11は、第1実施形態に係る入力支援装置の、第1電極、第2電極及びLC回路の構成を模式的に示す説明図である。
図12図12は、第1実施形態に係る入力支援装置の、透光性基板、第1電極、第2電極及びLC回路の構成を模式的に示す分解斜視図である。
図13図13は、第1実施形態に係る入力支援装置の、透光性基板、第1電極、第2電極及びLC回路の構成を模式的に示す平面図である。
図14図14は、第3変形例に係る入力支援装置の、第1電極、第2電極及びLC回路の構成を模式的に示す平面図である。
図15図15は、第4変形例に係る入力支援装置の構成を模式的に示す平面図である。
図16図16は、第5変形例に係る入力支援装置の構成を模式的に示す平面図である。
図17図17は、第6変形例に係る入力支援装置の構成を模式的に示す平面図である。
図18図18は、第2実施形態に係る入力検出システムの概略断面構造を表す断面図である。
図19図19は、第2実施形態に係る入力検出システムのアレイ基板を模式的に示す平面図である。
図20図20は、第3実施形態に係る入力検出システムの概略断面構造を表す断面図である。
図21図21は、第3実施形態に係る入力検出システムが有する検出装置を模式的に示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本開示が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、本開示の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本開示の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本開示と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【0010】
本明細書及び特許請求の範囲において、ある構造体の上に他の構造体を配置する態様を表現するにあたり、単に「上に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある構造体に接するように、直上に他の構造体を配置する場合と、ある構造体の上方に、さらに別の構造体を介して他の構造体を配置する場合との両方を含むものとする。
【0011】
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係る入力検出システムを模式的に示す斜視図である。図2は、図1のII-II’断面図である。図1及び図2に示すように、入力検出システム1は、表示装置2と、入力支援装置3と、を有する。
【0012】
ここで、表示装置2の平面(上面111a)の一方向を第1方向Dxとし、第1方向Dxと直交する方向を第2方向Dyとする。これに限定されず、第2方向Dyは第1方向Dxに対して90°以外の角度で交差していてもよい。また、第1方向Dx及び第2方向Dyに直交する第3方向Dzは、アレイ基板SUB1の厚み方向である。
【0013】
表示装置2は、例えば、液晶表示装置(LCD:Liquid Crystal Display)である。ただし、これに限定されず、表示装置2は、例えば、有機ELディスプレイパネル(OLED:Organic Light Emitting Diode)や無機ELディスプレイ(マイクロLED、ミニLED)であってもよい。或いは、表示装置2は、表示素子として電気泳動素子を用いた電気泳動型表示パネル(EPD:Electrophoretic Display)であってもよい。
【0014】
表示装置2は、駆動電極Txと検出電極Rxと(図3参照)を有し、相互静電容量方式のタッチパネル(検出装置)としての機能を備えた検出機能付き表示装置である。本実施形態では、表示装置2が有する電極及び配線の一部が、タッチパネル(検出装置)の電極(駆動電極Tx)及び配線に共用される。
【0015】
図1に示すように、表示装置2は、アレイ基板SUB1と、対向基板SUB2と、第1偏光板PL1と、第2偏光板PL2と、カバー部材111と、接着層112(図2参照)と、を備えている。第3方向Dzにおいて、第1偏光板PL1、アレイ基板SUB1、対向基板SUB2、第2偏光板PL2、接着層112、カバー部材111の順に積層される。
【0016】
アレイ基板SUB1は、複数の画素PXを駆動するための駆動回路基板である。アレイ基板SUB1は、基体として第1基板10を有する。駆動電極Txは、アレイ基板SUB1上に設けられる。また、アレイ基板SUB1は、第1基板10に設けられたトランジスタや、走査線GL、画素信号線SL(図3参照)等の各種配線を有する。対向基板SUB2は、アレイ基板SUB1と対向して設けられる。表示機能層である液晶層は、アレイ基板SUB1と対向基板SUB2との間に設けられる。また、検出電極Rxは、対向基板SUB2上に設けられる。
【0017】
図1に示すように、表示装置2において、表示領域DAの外側に周辺領域BEが設けられている。表示領域DAは、四角形状に形成されているが、表示領域DAの外形の形状は限定されない。例えば、表示領域DAには、角部が曲線状に設けられた略四角形状であってもよく、切り欠きがあってもよく、あるいは表示領域DAが他の多角形状に形成されてもよいし、表示領域DAが円形状あるいは楕円形状などの他の形状に形成されてもよい。
【0018】
表示領域DAは、画像を表示させるための領域であり、複数の画素PX(図3参照)が設けられる領域である。周辺領域BEは、アレイ基板SUB1の外周よりも内側で、かつ、表示領域DAよりも外側の領域を示す。なお、周辺領域BEは表示領域DAを囲う枠状であってもよく、その場合、周辺領域BEは額縁領域ともいえる。
【0019】
図2に示すように、アレイ基板SUB1の張出部には、表示IC(Integrated Circuit)50及び配線基板114が接続されている。表示IC50は、表示装置2の表示及びタッチ検出を制御する制御回路等を含む。また、この例に限らず、表示IC50は、配線基板114に実装されていてもよい。表示IC50の配置は、これに限定されず、例えばモジュール外部の制御基板やフレキシブル基板上に備えられていてもよい。
【0020】
対向基板SUB2には、配線基板115が接続される。検出IC51は配線基板115に実装される。検出IC51は、検出回路55(図4参照)を含み、検出電極Rxから検出信号Vdetが供給される。検出IC51は、検出信号Vdetに基づいて、入力支援装置3及び指Fg等の被検出体を検出することができる。検出IC51の配置は、これに限定されず、例えばモジュール外部の制御基板やフレキシブル基板上に備えられていてもよい。
【0021】
配線基板114及び配線基板115は、例えばフレキシブル配線基板(FPC:Flexible Printed Circuits)によって構成される。
【0022】
本明細書では、表示IC50及び検出IC51を、区別して説明する必要が無い場合には、単に制御回路と表す場合がある。また、表示IC50に含まれる回路、機能の一部が、検出IC51に設けられていてもよいし、検出IC51に含まれる回路、機能の一部が、表示IC50に設けられていてもよい。また、制御回路は、表示IC50及び検出IC51とは別に形成された回路素子や配線、例えばアレイ基板SUB1上に形成された回路素子や配線を含んでもよい。
【0023】
図1及び図2に示すように、入力支援装置3は、カバー部材111の上面111aに配置(装着)して使用される。ユーザは、表示装置2の表示領域DA上に配置された入力支援装置3を操作することで、表示装置2への入力操作を行うことができる。入力支援装置3は、例えばロータリーノブであり、表示装置2の上面111aから見たときの平面視で円形状である。表示装置2は、入力支援装置3の平面内での位置や、回転軸AXを中心とした回転操作RTを検出することができる。つまり、本実施形態では、表示領域DAは、複数の駆動電極Tx及び複数の検出電極Rx(図3参照)が設けられた領域であり、検出領域を兼ねる。
【0024】
図2に示すように、入力支援装置3は、ハウジング30と、透光性基板23と、第1電極31と、第2電極32と、LC回路35(図4参照)と、を含む。ハウジング30は、少なくとも一部が透光性を有しており、例えば、透光性の樹脂材料で形成される。あるいは、ハウジング30は、金属材料と樹脂材料とが組み合わされて形成された構成であってもよい。
【0025】
入力支援装置3のハウジング30は、回転体21と、支持体22と、を有する。支持体22は、透光性基板23、第1電極31及び第2電極32を囲む環状の部材であり、カバー部材111の上に設けられる。具体的には、カバー部材111の上に接着層25を介して保護フィルム26(保護層)が設けられる。支持体22は、接着層27を介して保護フィルム26に固定される。これにより、支持体22は、カバー部材111上での位置が固定される。
【0026】
接着層25、27は、支持体22をカバー部材111の上に取り付け可能であればどのような部材であってもよく、一例として、両面テープや、粘着性を有するシリコンシート等であってもよい。例えばシリコンシートの粘着性は、両面テープ等の接着層に比べて弱い。このため、接着層25、27としてシリコンシート等の粘着シートを用いた場合には、入力支援装置3は、カバー部材111の上に取り外し可能に設けられる。
【0027】
回転体21は、支持体22に回転可能に支持される。より詳細には、回転体21は、操作部21aと、座部21bと、フランジ部21cとを有する。操作部21aは、支持体22及び支持体22の開口を覆って設けられ、操作者の指Fg等が接して回転体21への操作が行われる部材である。座部21bは、操作部21aの下面(表示装置2のカバー部材111と対向する面)に設けられ、支持体22で囲まれた領域に突出する。
【0028】
フランジ部21cは、座部21bの側面に設けられ、径方向外側に突出する環状の部材である。フランジ部21cは、支持体22の内周面に設けられた溝部22aと噛み合う。このような構成により、指Fg等により操作部21aが操作された場合に、回転体21は支持体22に支持されるとともに、回転軸を中心に回転可能に設けられる。
【0029】
透光性基板23は、座部21bの下面21dに接着層24を介して貼り合わされる。透光性基板23は、例えば透光性を有するガラス基板や樹脂基板である。接着層24も、透光性を有する材料で形成される。また、第1電極31及び第2電極32は、透光性基板23に設けられる。すなわち、透光性基板23、第1電極31及び第2電極32は、回転体21の、表示装置2と対向する面に設けられ、回転体21とともに回転する。また、透光性基板23が回転体21の座部21bに設けられることにより、第1電極31及び第2電極32と、表示装置2側の駆動電極Tx及び検出電極Rx(図3)との距離を小さくすることができる。
【0030】
透光性基板23、第1電極31及び第2電極32は、支持体22と回転体21と表示装置2のカバー部材111とで囲まれた領域に配置される。保護フィルム26は、支持体22と接着層25との間に設けられるとともに、支持体22で囲まれた領域にも設けられる。これにより、透光性基板23、第1電極31及び第2電極32は、保護フィルム26と対向して配置される。回転体21が操作され、透光性基板23、第1電極31及び第2電極32が回転した際に、透光性基板23、第1電極31及び第2電極32とカバー部材111との接触を抑制することができる。これにより、透光性基板23、第1電極31及び第2電極32の破損を抑制することができる。
【0031】
また、図2では、第1電極31及び第2電極32は、透光性基板23の下面側に設けられている。ただし、これに限定されず、第1電極31及び第2電極32は、透光性基板23の上面側、すなわち、透光性基板23と回転体21(座部21b)との間に設けられていてもよい。
【0032】
なお、図2ではLC回路35(図4参照)を省略して示しているが、LC回路35も第1電極31及び第2電極32とともに透光性基板23に設けられる。LC回路35、第1電極31及び第2電極32の詳細な構成については、図7から図14で後述する。
【0033】
なお、図1では、入力支援装置3の他の例として、複数の入力支援装置3A、3B、3Cを示している。入力支援装置3Aは、ロータリーノブであり、入力支援装置3よりも小さい平面形状(径)を有するつまみ状に形成される。入力支援装置3Bは、スライダであり、つまみを平面内で変位させることで入力操作を行うことができる。入力支援装置3Bは、平面視で、棒状である。入力支援装置3Cは、ボタン又は入力キーであり、入力支援装置3Cをタッチ、又は押し込み操作を行うことで入力操作を行うことができる。入力検出システム1は、複数の入力支援装置3、3A、3B、3Cの全てが装着されている場合に限定されず、複数の入力支援装置3、3A、3B、3Cの少なくとも1つ以上が設けられていればよい。以下の説明では、入力支援装置3について説明する。ただし、入力支援装置3についての説明は、他の入力支援装置3A、3B、3Cにも適用できる。
【0034】
図3は、表示装置が有するアレイ基板を模式的に示す平面図である。なお、図3では、駆動電極Txと検出電極Rxとの関係を説明するために、対向基板SUB2に設けられた検出電極Rxの一部を模式的に示している。図3に示すように、画素PX(副画素SPX)は、表示領域DAにマトリクス状に配置されている。画素信号線SL及び走査線GLは、複数の副画素SPXに対応して設けられる。画素信号線SLは、周辺領域BEに設けられた表示IC50等の制御回路に接続される。走査線駆動回路52は、周辺領域BEのうち、第2方向Dyに沿って延在する領域に設けられる。走査線GLは、走査線駆動回路52に接続される。走査線駆動回路52は、各画素PX(副画素SPX)を駆動する走査信号を走査線GLに供給する回路である。
【0035】
複数の駆動電極Txは、それぞれ第2方向Dyに延在し、第1方向Dxに配列される。複数の駆動電極Txは、それぞれ接続配線53Aを介して駆動電極走査回路56及び表示IC50に接続される。また、複数の検出電極Rxは、それぞれ第1方向Dxに延在し、第2方向Dyに配列される。複数の検出電極Rxは、それぞれ接続配線53Bを介して検出IC51に接続される。複数の駆動電極Txと複数の検出電極Rxとは、平面視で交差して設けられる。複数の駆動電極Txと複数の検出電極Rxとの交差部分にそれぞれ静電容量が形成される。検出IC51は、複数の駆動電極Txと複数の検出電極Rxとの間の相互静電容量の変化に応じて出力される検出信号Vdetに基づいて、被検出体を検出することができる。
【0036】
図3では、図面を見やすくするために、一部の駆動電極Tx、検出電極Rx及び一部の画素PX(副画素SPX)のみ示しているが、駆動電極Tx、検出電極Rx及び画素PXは、表示領域DAの全体に配置される。すなわち、1つの駆動電極Txに重なって複数の画素PXが配置される。また、1つの駆動電極Txは、複数の画素信号線SLと重なって配置される。
【0037】
駆動電極Txは、表示時に画素電極(図示は省略する)との間で電界を形成するための共通電極CEとしての機能と、タッチ検出時に検出電極Rxとの間で電界を形成して入力支援装置3及び指Fg等の被検出体を検出する駆動電極Txとしての機能と、を兼ねる。具体的には、表示の際に、表示IC50は、所定の固定電位からなる表示駆動信号VCOMを駆動電極Txに供給する。また、検出IC51が備える駆動制御回路75は、駆動電極走査回路56に制御信号を出力し、駆動電極走査回路56はパルス波からなる検出駆動信号VDを複数の駆動電極Txに順次供給する。
【0038】
次に、図4図5を参照して、入力支援装置3の検出方法について説明する。図4は、入力支援装置の検出方法を説明するための説明図である。図4に示すように、第1電極31、第2電極32及びLC回路35は、ハウジング30の内部に設けられる。LC回路35は、コンデンサ33とインダクタ34とが並列に接続されたLC共振回路を構成する。第1電極31は、LC回路35の一端側(コンデンサ33とインダクタ34の一端側の接続部N1)に接続される。第2電極32は、LC回路35の他端側(コンデンサ33とインダクタ34の他端側の接続部N2)に接続される。表示装置2は、LC回路35のLC共振を利用して、第1電極31及び第2電極32の位置を検出することができる。
【0039】
入力支援装置3の第1電極31及び第2電極32は、それぞれ、検出期間のあるタイミングではアレイ基板SUB1の駆動電極Tx及び対向基板SUB2の検出電極Rxと対向する。
【0040】
入力支援装置3は、複数の駆動電極Tx及び複数の検出電極Rxと重なって配置される。第1電極31と、一方の駆動電極Tx(図4中左の駆動電極Tx)との間に容量C1が形成される。一方の駆動電極Txは、基準電位(例えば、基準電位Vdc)に接続される。第2電極32と、他方の駆動電極Tx(図4中右の駆動電極Tx)との間に容量C2が形成される。他方の駆動電極Txは、スイッチ素子54Bを介して電源電位Vdd又は基準電位(例えば、基準電位Vdc)に接続される。
【0041】
また、第2電極32と、第2電極32に対向する検出電極Rxとの間に容量C3が形成される。第1電極31と、第1電極31に対向する検出電極Rxとの間に容量C4が形成される。さらに、駆動電極Txと検出電極Rxとの間にも相互静電容量Cmが形成される。
【0042】
複数の検出電極Rx(図4中右の検出電極Rx及び図4中左の検出電極Rx)は、それぞれスイッチ素子54Aを介して検出回路55又は別のノード58に接続される。ノード58は、例えば基準電位GND(例えば、グランド電位)に接続される。また、複数の検出電極Rxにそれぞれ接続された複数のスイッチ素子54Aは、同期してオン、オフが切り換えられるように制御される。
【0043】
また、当該ノード58は、基準電位GNDに代えて、後述の検出信号増幅部61の非反転入力部に接続される配線に接続されてもよい。これによって、検出電極Rxが当該ノード58に接続されたときには、当該検出電極Rxの出力側電位は、検出信号増幅部61の非反転入力部の電位と同じになる。また、当該ノード58が、フローティング電極に接続する、又はハイインピーダンス(Hi-z)回路に接続する、あるいは、スイッチ素子54Aをノード58にも接続させないこととし、検出回路55に接続されている以外の期間においては検出電極Rxをフローティング状態に設定する構成も採用可能である。
【0044】
検出回路55は、検出IC51内に設けられた信号処理回路であり、検出電極Rxから出力された検出信号Vdet(図5参照)を受け取って、所定の信号処理を行って出力信号Voを出力する回路である。検出回路55は、検出信号増幅部61、容量素子62及びリセットスイッチ63を有する。これに限定されず、検出回路55は、さらに、検出信号増幅部61から出力されるアナログ信号をデジタル信号に変換するA/D変換回路(図示しない)等を有していてもよい。
【0045】
図5は、入力支援装置の検出方法を説明するためのタイミング波形図である。図4及び図5に示すように、スイッチ素子54Bの動作により、他方の駆動電極Tx(図4右側の駆動電極Tx)には、交流矩形波である検出駆動信号VDが供給される。より具体的には、スイッチ素子54Bの切り替え動作により高レベル電位の電源電位Vddと、低レベル電位の基準電位Vdcとが所定の周波数で交互に繰り返し印加されることによって検出駆動信号VDが形成され、他方の駆動電極Txに供給される。他方の駆動電極Txの電位V3は、検出駆動信号VDに応じて変化する。
【0046】
ここで、検出駆動信号VDに同期して繰り返される期間を、第1期間P1及び第2期間P2とする。第1期間P1は、他方の駆動電極Txが電源電位Vddに接続される期間(スイッチ素子54Bが当該他方の駆動電極Txと電源電位Vddとを接続している期間)である。第2期間P2は、他方の駆動電極Txが基準電位Vdcに接続される期間(スイッチ素子54Bが当該他方の駆動電極Txと基準電位(接地電位)とを接続している期間)である。電源電位Vddは例えば基準電位Vdcよりも高い電位とされる。なお、図5中には、1回の電源電位Vddの入力と1回の基準電位Vdcの入力との組み合わせによって検出駆動信号VDが形成されているが、これらが交互に複数回繰り返されることにより形成される信号も検出駆動信号VDと見做せることは当然である。
【0047】
検出電極Rxは、相互静電容量Cmに基づいて検出信号Vdetを出力する。具体的には、上述したように、一方の駆動電極Tx(図4左側の駆動電極Tx)は、第1期間P1及び第2期間P2ともに基準電位(例えば、基準電位Vdc)に接続されている。これにより、第1期間P1では、第1電極31及び第2電極32に、異なる電位の信号が供給される。
【0048】
相互静電容量Cmに基づいた電位の変化が検出信号Vdetとして、検出電極Rxから検出回路55に出力される。検出信号増幅部61は、検出電極Rxから供給された検出信号Vdetを増幅する。検出信号増幅部61の非反転入力部には、固定された電位を有する基準電圧が入力され、反転入力端子には、検出電極Rxが接続される。本実施形態では、基準電圧として一方の駆動電極Txと同じ信号が入力される。また、検出回路55は、リセットスイッチ63をオンにすることで、容量素子62の電荷をリセットすることができる。
【0049】
さらに、検出駆動信号VDは、LC回路35の共振周波数と同じ周波数を有する。本実施例においては、例えば、スイッチ素子54Bの切り替え動作を当該共振周波数に基づいて行うことで共振周波数を有する検出駆動信号VDが形成される。このため、他方の駆動電極Txと重なる第2電極32も共振周波数で駆動され、LC回路35の共振が発生する。そして、検出期間内で第1期間P1及び第2期間P2が繰り返されるにしたがって、検出信号Vdetの振幅が大きくなる。図5に示すように、第1期間P1が複数回繰り返されるにしたがって、検出信号Vdetの振幅が大きくなり、検出回路55からの出力信号Voの電位は、大きくなるように変化する。
【0050】
また、LC回路35の共振により、第1電極31に発生する波形は、第2電極32に発生する波形と異なり、第1電極31と第2電極32とで、互いに極性が反転するように変化する。具体的には、第1期間P1のそれぞれで、第1電極31の電位は大きくなるように変化し、第2電極32の電位は小さくなるように変化する。第2期間P2のそれぞれで、第1電極31の電位は小さくなるように変化し、第2電極32の電位は大きくなるように変化する。
【0051】
これにより、第1電極31と重畳する検出電極Rxから出力される検出信号Vdet及び出力信号Vo(図示しない)と、第2電極32と重畳する検出電極Rxから出力される検出信号Vdet及び出力信号Voと、は極性が異なる。入力検出システム1は、極性が異なる検出信号Vdetの検出値Sに基づいて、入力支援装置3の各種情報を検出してもよい。
【0052】
一方、入力支援装置3とは異なる指Fg等の被検出体が、上面111a(図1参照)に接触又は近接した場合には、相互静電容量Cmの変化に応じて、検出信号Vdetが変化する。つまり、指Fg等の検出では、共振が生じないため、図5に示すような検出信号Vdetの振幅の経時的な変化が生じない。また、指Fg等の検出では、同じ極性の検出信号Vdetの信号値が検出される。このように、入力検出システム1は、LC回路35のLC共振を利用して、被検出体が、指Fgであるか、入力支援装置3であるかを判定することができる。
【0053】
次に入力支援装置3の詳細な構成について説明する。図6は、入力支援装置が装着された表示装置を模式的に示す平面図である。図6に示すように、一方の入力支援装置3-1(図6左側の入力支援装置3)は、エアコン等の温度調整用のノブとして表示領域DAに設けられる。他方の入力支援装置3-2(図6右側の入力支援装置3)は、音量調整用のノブとして表示領域DAに設けられる。以下の説明では、一方の入力支援装置3-1及び他方の入力支援装置3-2を区別しないで単に入力支援装置3と表す。すなわち、入力支援装置3についての説明は、一方の入力支援装置3-1及び他方の入力支援装置3-2に適用できる。また、一方の入力支援装置3-1及び他方の入力支援装置3-2はあくまで例示であり、表示装置2には、1つ又は3つ以上の入力支援装置3が設けられていてもよい。
【0054】
本実施形態の入力支援装置3において、ハウジング30(回転体21)、透光性基板23、第1電極31及び第2電極32は、透光性を有している。操作者は、入力支援装置3の各部材を透過して表示装置2の表示画像を視認することができる。言い換えると、表示装置2は、入力支援装置3の操作(例えば設定温度、設定音量等)に対応する表示を、入力支援装置3と重なる領域に表示することができる。
【0055】
なお、図6では、ハウジング30の支持体22の図示を省略しているが、支持体22も透光性を有して形成される。より好ましくは、入力支援装置3は、全ての部材が透光性を有しており、平面視で入力支援装置3の全体と重なる部分の表示を視認できることが望ましい。ただし、これに限定されず、ハウジング30の一部の領域、あるいは、LC回路35を構成する素子の一部が非透光に形成されていてもよい。
【0056】
図7は、入力支援装置の回転体と、第1電極及び第2電極の構成を模式的に示す平面図である。図7は、回転体21の下面21d側から見たときの平面図を示す。なお、図7から図10では、説明を分かりやすくするために、LC回路35(図11から図14参照)の図示は省略して示す。図7に示すように、ハウジング30の回転体21及び透光性基板23は、いずれも円形状である。第1電極31及び第2電極32は、透光性基板23の中心(回転軸)を挟んで反対側に配置される。第1電極31及び第2電極32は、いずれも円形状であり、同じ形状、面積を有する。
【0057】
ただし、これに限定されず、第1電極31及び第2電極32は、四角形状、多角形状等、他の形状でもよい。また、第1電極31及び第2電極32は、互いに異なる形状、面積を有していてもよい。
【0058】
第1電極31及び第2電極32は、例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透光性の導電材料で形成される。本実施形態では、ハウジング30の回転体21及び透光性基板23の、少なくとも第1電極31及び第2電極32と重なる領域21s、21tは透光性を有する。より具体的には、ハウジング30は、少なくとも領域21s、21tで、第3方向Dzで、操作部21aの表面から、座部21bの下面21dに亘って透光性を有する。これにより、操作者は、第1電極31及び第2電極32と重なる領域で表示装置2の表示(例えば設定温度、設定音量等)を視認することができる。また、第1電極31及び第2電極32と重ならない領域は、操作部21aの表面に着色された樹脂層あるいは金属層が設けられ、遮光領域として形成されてもよい。なお、領域21s、21tの両方が透光性を有する構成に限定されず、領域21s、21tのいずれか一方が透光性を有する構成であってもよい。あるいは、ハウジング30は、領域21s、21tよりも広い領域で透光性を有していてもよく、上述したように、ハウジング30の全体が透光性を有する構成であってもよい。
【0059】
図8は、入力支援装置の支持体の構成を模式的に示す分解斜視図である。図8に示すように、カバー部材111(図2参照)の上に、接着層25、保護フィルム26、接着層27及び支持体22の順に積層される。接着層27及び支持体22は、環状であり、接着層25及び保護フィルム26は、接着層27及び支持体22の開口を覆って円形状に設けられる。
【0060】
接着層25、保護フィルム26、接着層27及び支持体22は、いずれも透光性を有する材料で形成される。ただし、第1電極31及び第2電極32は、支持体22で囲まれた領域に設けられるので、第1電極31及び第2電極32と重なって配置される接着層25及び保護フィルム26が、透光性を有していればよい。接着層27及び支持体22は、非透光性あるいは半透明であってもよい。例えば支持体22は、一部に金属材料を有していてもよい。
【0061】
図9は、第1変形例に係る入力支援装置の、第1電極及び第2電極の構成を模式的に示す平面図である。図9に示すように、第1変形例に係る入力支援装置3aにおいて、第1電極31a及び第2電極32bは、メッシュ状の金属細線で形成される。第1変形例では、上述したITOで形成された第1電極31及び第2電極32よりも光の透過率は低下するものの、操作者は第1電極31a及び第2電極32bを透過して表示装置2の表示を視認することができる。また、第1電極31a及び第2電極32bの抵抗値を抑制できるので、LC回路35に要求される特性に応じて第1電極31a及び第2電極32bの面積や金属細線の配置ピッチ等を設定することができる。
【0062】
図10は、第2変形例に係る入力支援装置の、第1電極及び第2電極の構成を模式的に示す平面図である。図10に示すように、第2変形例に係る入力支援装置3bにおいて、第1電極31b及び第2電極32bは、平面視で異なる形状、面積を有する。第1電極31bは、ハウジング30の内周に沿って円弧状に湾曲する湾曲形状を有する。第2電極32bは、平面視で円形状である。第2電極32bは、第1電極31bの円弧状に沿った一端側と他端側との間に配置される。また、第1電極31bは、第2電極32bよりも大きい面積を有する。すなわち、第1電極31b及び第2電極32bは、重なって配置される駆動電極Txの数が異なる。
【0063】
本変形例においても、ハウジング30の回転体21及び透光性基板23の、透光性を有する領域21s、21tは少なくとも第1電極31b及び第2電極32bと重なる。例えば、領域21sは第1電極31bと重なって円弧状に湾曲する湾曲形状に形成される。ただし、領域21sは第1電極31bと重なる半円形状等、他の形状であってもよい。
【0064】
なお、第1変形例及び第2変形例に示した第1電極31a、31b及び第2電極32a、32bは、あくまで一例であり、適宜変更することができる。たとえば、第2変形例と第1変形例とを組み合わせて、第2変形例に係る第1電極31b及び第2電極32bをメッシュ状の金属細線で形成してもよい。
【0065】
次に、入力支援装置3が有するLC回路35の詳細な構成について説明する。図11は、第1実施形態に係る入力支援装置の、第1電極、第2電極及びLC回路の構成を模式的に示す説明図である。図11に示すように、LC回路35を構成するコンデンサ33及びインダクタ34は、第1電極31と第2電極32との間で並列に接続される。
【0066】
コンデンサ33は、いわゆる平行平板コンデンサであり、一対の容量電極36a、36bと、一対の容量電極36a、36bの間に設けられた絶縁層28(図12参照)と、を有する。一対の容量電極36a、36bは、絶縁層28を介して対向配置される。一方の容量電極36aは、接続部N1を介して第1電極31に接続される。他方の容量電極36bは、接続部N2を介して第2電極32に接続される。コンデンサ33を構成する一対の容量電極36a、36b及び絶縁層28は、透光性を有する。一対の容量電極36a、36bは、例えばITO等の透光性の導電材料で形成される。また、絶縁層28は、透光性の無機絶縁膜あるいは有機絶縁膜で形成される。絶縁層28は、単層に限定されず、複数の絶縁膜が積層されて構成されてもよい。
【0067】
インダクタ34は、1対のコイル部37a、37bを有する。1対のコイル部37aとコイル部37bとは中継部37cを介して直列に接続される。すなわち、一方のコイル部37aの一端側は、接続部N1を介して第1電極31に接続される。一方のコイル部37aの他端側は、中継部37cを介して他方のコイル部37bの一端側に接続される。また、他方のコイル部37bの他端側は接続部N2を介して第2電極32に接続される。
【0068】
1対のコイル部37a、37bは、金属材料で形成された配線が巻き回されてコイルとして構成される。1対のコイル部37a、37bは、コンデンサ33に比べて光の透過率は低いものの、低抵抗の金属材料で形成され、容量電極36a、36bよりも小さい面積とすることができる。
【0069】
図12は、第1実施形態に係る入力支援装置の、透光性基板、第1電極、第2電極及びLC回路の構成を模式的に示す分解斜視図である。図13は、第1実施形態に係る入力支援装置の、透光性基板、第1電極、第2電極及びLC回路の構成を模式的に示す平面図である。なお、図12、13では、第2変形例(図10)にて説明した第1電極31b及び
第2電極32bを有する構成について説明する。ただし、これに限定されず、図12、13の説明は、第1電極31、31a及び第2電極32、32aにも適用できる。
【0070】
図12に示すように、LC回路35、第1電極31b及び第2電極32bは、透光性基板23の上側、すなわち、透光性基板23と回転体21(図2参照)との間に設けられる。コンデンサ33の、一方の容量電極36aと他方の容量電極36bとは絶縁層28を介して異なる層に設けられる。一方の容量電極36aは、第1電極31b及び第2電極32bと同層に、透光性基板23と絶縁層28との間に設けられる。
【0071】
他方の容量電極36bは、絶縁層28の上、すなわち、第1電極31b及び第2電極32bと異なる層に、絶縁層28と回転体21(図2参照)との間に設けられる。他方の容量電極36bと第2電極32bとは、絶縁層28に形成されたコンタクトホールCHを介して接続部38aによって電気的に接続される。
【0072】
インダクタ34の、一方のコイル部37aと、他方のコイル部37bとは絶縁層28を介して異なる層に設けられる。他方のコイル部37bは、第1電極31b及び第2電極32bと同層に、透光性基板23と絶縁層28との間に設けられる。他方のコイル部37bは、接続部38bを介して第2電極32bに接続される。また、インダクタ34の他方のコイル部37bは、コンデンサ33の一方の容量電極36a、第1電極31b及び第2電極32bと同層に設けられる。
【0073】
一方のコイル部37aは、絶縁層28の上、すなわち、第1電極31b及び第2電極32bと異なる層に、絶縁層28と回転体21(図2参照)との間に設けられる。すなわち、1対のコイル部37a、37bの間に絶縁層28が設けられる。絶縁層28に設けられたコンタクトホールCHを介して、中継部37cにより1対のコイル部37a、37bは電気的に接続される。また、一方のコイル部37aは、コンタクトホールCHを介して、接続部38cにより第1電極31bに接続される。また、インダクタ34の一方のコイル部37aは、コンデンサ33の他方の容量電極36bと同層に設けられる。
【0074】
図13に示すように、平面視で、コンデンサ33の、一対の容量電極36a、36bは重なって配置される。上述したように、一対の容量電極36a、36bは透光性の導電材料で形成される。この場合、ハウジング30の回転体21及び透光性基板23の、少なくとも一対の容量電極36a、36bと重なる領域は透光性を有する。操作者は、一対の容量電極36a、36bと重なるハウジング30の中央部の領域で、表示装置2の表示画像を視認することができる。
【0075】
また、平面視で、インダクタ34の一対のコイル部37a、37bは、重なって配置され、透光性基板23の外縁に位置する。この場合、透光性を有する一対の容量電極36a、36bが、入力支援装置3(回転体21)の中央部に位置し、金属材料で形成された一対のコイル部37a、37bは、入力支援装置3(回転体21)の周縁部、すなわち、支持体22と近い位置に配置される。
【0076】
なお、インダクタ34は、一対のコイル部37a、37bを有する構成に限定されず、コイル部37a、37bの一方のみで構成されてもよい。この場合、インダクタ34は、表示装置2の駆動電極Tx及び検出電極Rxから離れた位置の、一方のコイル部37aが設けられ、表示装置2の駆動電極Tx及び検出電極Rxに近い位置の、他方のコイル部37bが設けられない構成とすることがより好ましい。
【0077】
図14は、第3変形例に係る入力支援装置の、第1電極、第2電極及びLC回路の構成を模式的に示す平面図である。図14に示すように、第3変形例に係る入力支援装置3cにおいて、第1電極31bは、コンデンサ33の一方の容量電極36aを兼ねる。すなわち、他方の容量電極36bは、円弧状に湾曲する湾曲形状に設けられ、絶縁層28(図12参照)を介して第1電極31bと対向して配置される。対向する他方の容量電極36bと第1電極31bとの間にコンデンサ33の容量が形成される。
【0078】
このような構成により、第3変形例では、コンデンサ33の一方の容量電極36a及び接続配線を削減することができ、視認性を向上させることができる。
【0079】
上述した第1実施形態では、ハウジング30の回転体21及び透光性基板23の、少なくとも第1電極31及び第2電極32と重なる領域21s、21tあるいはコンデンサ33と重なる領域で透光性を有する構成について説明した。ただし、これに限定されず、ハウジング30の透光性を有する領域は適宜変更することができる。
【0080】
図15は、第4変形例に係る入力支援装置の構成を模式的に示す平面図である。図15に示すように、第4変形例の入力支援装置3dでは、回転体21に複数の透光領域21eが設けられる。複数の透光領域21eは、それぞれ三角形状であり、回転体21の外周に沿って円周上に配列される。複数の透光領域21eの一部は、第1電極31及び第2電極32と重なって設けられる。また、複数の透光領域21eと異なる遮光領域21fは、第1電極31及び第2電極32のそれぞれ一部とも重なって設けられる。上述したように、遮光領域21fは、例えば操作部21aの表面に積層された樹脂層あるいは金属層で形成され、かつ、樹脂層あるいは金属層は、透光領域21eと重なる位置に開口を有するようにパターニングされる。
【0081】
図16は、第5変形例に係る入力支援装置の構成を模式的に示す平面図である。図16に示すように、第5変形例の入力支援装置3eでは、回転体21に1つの透光領域21eが設けられる。また、本変形例では、平面視で、第1電極31は回転体21の中央部に位置し、第2電極32は回転体21の周縁側に位置する。透光領域21eは第1電極31及び第2電極32に跨がって形成され、回転体21の周縁の一端側から、中央部を通って周縁の他端側に延在する。
【0082】
図17は、第6変形例に係る入力支援装置の構成を模式的に示す平面図である。図17に示すように、第6変形例の入力支援装置3fでは、回転体21の第2電極32と重なる領域に、1つの透光領域21eが設けられる。第1電極31と重なる領域は、遮光領域21fで覆われる。また、第6変形例の入力支援装置3eでは、回転体21は、中央部に開口が設けられた円環状である。
【0083】
なお、第4変形例から第6変形例に示す入力支援装置3d、3e、3fは、あくまで一例であり、回転体21に設けられる透光領域21eの数、形状、面積、配置等は適宜変更することができる。
【0084】
以上説明したように、本実施形態の入力支援装置3は、複数の検出電極Rxを有する表示装置2(検出装置)の上に配置される入力支援装置3であって、支持体22と、支持体22に回転可能に設けられた回転体21と、回転体21の、表示装置2と対向する面に設けられた透光性基板23(基板)と、透光性基板23に設けられた少なくとも1つの電極(第1電極31又は第2電極32)と、を有する。回転体21及び透光性基板23の、少なくとも電極(第1電極31又は第2電極32)と重なる領域21s、21tは、透光性を有する。
【0085】
これによれば、操作者は、入力支援装置3の、少なくとも第1電極31及び第2電極32と重なる領域21s、21tを通して表示装置2の表示を視認することができる。したがって、入力支援装置3は、全体が非透光性の材料で形成された場合に比べて、ハウジング30と重なる領域の視認性を向上させることができる。
【0086】
(第2実施形態)
図18は、第2実施形態に係る入力検出システムの概略断面構造を表す断面図である。なお、以下の説明では、上述した実施形態で説明したものと同じ構成要素には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
【0087】
上述した第1実施形態では、駆動電極Txと検出電極Rxとを有する相互静電容量方式のタッチセンサを含む表示装置2の上に入力支援装置3が配置される例を説明したが、これに限定されない。タッチセンサ(表示装置2)は、自己静電容量方式(セルフ方式)であってもよい。
【0088】
図18に示すように、第2実施形態に係る入力検出システム1Aにおいて、表示装置2Aは、アレイ基板SUB1上に設けられた複数の検出電極DEを有する。検出電極DEは、表示における共通電極と、入力支援装置3や指Fg等の被検出体を検出する電極を兼ねる。第2実施形態では、第1実施形態とは異なり、対向基板SUB2には検出電極Rx、検出IC51及び配線基板115(図2参照)は設けられていない。
【0089】
図19は、第2実施形態に係る入力検出システムのアレイ基板を模式的に示す平面図である。図19に示すように、検出電極DEは、アレイ基板SUB1の表示領域DAにマトリクス状に配置されている。配線53Cは、検出電極DEのそれぞれに対応して設けられ、コンタクトホールCNを介して検出電極DEと接続される。複数の配線53Cは、それぞれ第2方向Dyに沿って延在し、第1方向Dxに配列される。配線53Cは、周辺領域BEに設けられた駆動電極走査回路56A及び表示IC50に接続される。画素信号線SLは、周辺領域BEに設けられた表示IC50に接続される。
【0090】
本実施形態では、検出IC51(図3参照)が有する各回路の機能は、表示IC50に含まれる。ただし、これに限定されず、第1実施形態と同様に、表示IC50と別に検出IC51が設けられていてもよい。
【0091】
表示期間に、駆動電極走査回路56Aは、複数の検出電極DEに同時に表示駆動信号VCOMを供給する。検出期間では、駆動電極走査回路56Aは、少なくとも1つ以上の検出電極DEに検出駆動信号VDを供給する。検出電極DEは、自己静電容量の変化に基づいた検出信号Vdetを、表示IC50が有する検出回路55(図4参照)に出力する。これにより、表示IC50は、指Fg又は入力支援装置3を検出する。
【0092】
より具体的には、指Fg等を検出するタッチ検出では、表示IC50(駆動制御回路75)は、複数の検出電極DEに同時に検出駆動信号VDを供給する。入力支援装置3の検出では、表示IC50(駆動制御回路75)は、検出電極DEに順次検出駆動信号VDを供給し、検出電極DEの自己静電容量の変化と、入力支援装置3の共振を利用して、入力支援装置3の位置等を検出する。
【0093】
また、第2実施形態の入力検出システム1Aにおいても、上述した第2実施形態の入力支援装置3及び各変形例の入力支援装置3aから入力支援装置3fを採用することができる。
【0094】
(第3実施形態)
図20は、第3実施形態に係る入力検出システムの概略断面構造を表す断面図である。図20に示すように、第3実施形態に係る入力検出システム1Bは、表示装置2と、検出装置4とを有する。検出装置4は、表示装置2の上に装着された、いわゆるタッチパネルである。検出装置4は、駆動電極Txと検出電極Rxとを有する相互静電容量方式のタッチパネルである。ただしこれに限定されず、検出装置4は、複数の検出電極がマトリクス状に配列された自己静電容量方式のタッチパネルであってもよい。
【0095】
検出装置4は、接着層113を介して表示装置2の上に貼り合わされる。検出装置4は、基板41と、複数の駆動電極Txと、複数の検出電極Rxと、絶縁膜48とを有する。なお、図20では、検出電極Rxの一部(接続部43S)を図示している。複数の駆動電極Tx及び複数の検出電極Rxは、基板41の上に設けられる。複数の駆動電極Txのブリッジ部42Bと複数の検出電極Rxの接続部43Sとは、絶縁膜48によって絶縁される。複数の駆動電極Txと複数の検出電極Rxとの間に相互静電容量が形成される。
【0096】
基板41には、配線基板115が接続される。配線基板115は、例えばフレキシブル配線基板によって構成される。検出IC51は配線基板115に実装される。
【0097】
カバー部材111は、接着層112を介して検出装置4の上に貼り合わされる。カバー部材111は、例えば、ガラス基板、或いは樹脂基板が用いられる。
【0098】
図21は、第3実施形態に係る入力検出システムが有する検出装置を模式的に示す平面図である。図21では、図面を見やすくするために、複数の検出電極Rxの電極部43にハッチングを付けて示している。図21に示すように、複数の駆動電極Tx及び複数の検出電極Rxは、基板41の検出領域(表示領域DAと重なる領域)に設けられる。複数の駆動電極Tx及び複数の検出電極Rxは、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透光性を有する導電材料によって形成されている。
【0099】
複数の駆動電極Txは、複数の電極部42と複数のブリッジ部42Bとを有する。1つの駆動電極Txにおいて、複数の電極部42は第2方向Dyに配列される。ブリッジ部42Bは、第2方向Dyに隣り合う複数の電極部42を接続する。これにより、1つの駆動電極Txは、第2方向Dyに延在する。また、複数の駆動電極Txは、第1方向Dxに配列される。複数の駆動電極Txは、それぞれ接続配線44を介して検出IC51に接続される。
【0100】
複数の検出電極Rxは、複数の電極部43と複数の接続部43Sとを有する。1つの検出電極Rxにおいて、複数の電極部43は第1方向Dxに配列される。接続部43Sは、第1方向Dxに隣り合う複数の電極部43を接続する。これにより、1つの検出電極Rxは、第1方向Dxに延在する。また、複数の検出電極Rxは、第2方向Dyに配列される。複数の検出電極Rxは、それぞれ接続配線45を介して検出IC51に接続される。本実施形態では、検出電極Rxの複数の電極部43は、駆動電極Txの複数の電極部42と同層に設けられる。また、ブリッジ部42Bは、絶縁膜48(図20参照)を介して接続部43Sと異なる層に設けられ、平面視で、接続部43Sと交差して設けられる。
【0101】
また、複数の駆動電極Txの電極部42及び複数の検出電極Rxの電極部43は、それぞれ、四角形状(ひし形)である。ただし、これに限定されず、電極部42、43は、多角形状、円形状等、他の形状であってもよい。
【0102】
検出IC51は、検出回路55及び駆動電極走査回路56Bを含む。駆動電極走査回路56Bは、複数の駆動電極Txのそれぞれに検出駆動信号VDを供給する。複数の検出電極Rxは、検出駆動信号VDが供給された場合の、相互静電容量Cmの変化に基づいて検出信号Vdetを出力する。検出回路55は、複数の駆動電極Txと複数の検出電極Rxとの間の相互静電容量Cmの変化に応じて出力される検出信号Vdetに基づいて、被検出体を検出することができる。
【0103】
本実施形態においても、上述した第1実施形態の駆動方法を採用することができる。また、本実施形態の入力検出システム1Bでは、検出装置4は表示装置2の上に設けられており、表示装置2の表示期間による検出装置4の制約は少ない。すなわち、本実施形態の入力検出システム1Bでは、上述した第1実施形態及び第2実施形態に比べて、検出装置4の駆動の自由度を向上させることができる。
【0104】
また、第3実施形態の入力検出システム1Bにおいても、上述した第1実施形態の入力支援装置3及び各変形例の入力支援装置3aから入力支援装置3fを採用することができる。
【0105】
以上、本発明の好適な実施の形態を説明したが、本発明はこのような実施の形態に限定されるものではない。実施の形態で開示された内容はあくまで一例にすぎず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で行われた適宜の変更についても、当然に本発明の技術的範囲に属する。上述した各実施形態及び各変形例の要旨を逸脱しない範囲で、構成要素の種々の省略、置換及び変更のうち少なくとも1つを行うことができる。
【符号の説明】
【0106】
1、1A、1B 入力検出システム
2、2A 表示装置
3、3a、3b、3c、3d、3e、3f、3A、3B、3C 入力支援装置
4 検出装置
21 回転体
21a 操作部
21b 座部
21c フランジ部
22 支持体
23 透光性基板
24、25、27 接着層
26 保護フィルム
30 ハウジング
31、31a、31b 第1電極
32、32a、32b 第2電極
33 コンデンサ
34 インダクタ
35 LC回路
36a、36b 容量電極
37a、37bコイル部
50 表示IC
51 検出IC
55 検出回路
Rx 検出電極
Tx 駆動電極
DE 検出電極
SUB1 アレイ基板
SUB2 対向基板
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10
図11
図12
図13
図14
図15
図16
図17
図18
図19
図20
図21