特開 2022-189790出願番号特願 2022-93724
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

出願人住友化学株式会社（識別番号 2093）

2026年特許公開件数ランキング 38位 419件（※）

2026年特許取得件数ランキング 55位 296件（※）

公報発行日　2022年12月22

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2022-189790　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

【課題】良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。

［Ｒ^１～Ｒ^３は＊－Ｏ－ＣＯ－Ｒ^１０又は＊－Ｏ－Ｌ^１０－ＣＯ－Ｏ－Ｒ^１０等を表す。Ｌ^１０はアルカンジイル基を、Ｒ^１０は塩基不安定基を表す。Ｒ^４～Ｒ^９はハロゲン原子等を表す。Ａ^１～Ａ^３は炭化水素基を表す。ｍ１～ｍ９は特定の整数を表す。］
【選択図】なし

本発明は、の塩を含有するレジスト組成物から形成されたレジストパターンよりも、ＣＤ均一性（ＣＤＵ）が良好なレジストパターンを形成する塩を提供することを課題とする。

本発明は、以下の発明を含む。［１］式（Ｉ）で表される塩を含有する酸発生剤。 TIFF 2022189790000004.tif 60 159 ［式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２及び・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

本発明の塩を含有するレジスト組成物を用いることにより、良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）でレジストパターンを製造することができる。

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