住友化学株式会社
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（
2025年：第38位 622件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第54位 331件
（
2025年：第58位 437件）
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住友化学株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7933672 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2026年10月13日 | |
| 特許 7933671 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2026年10月13日 | |
| 特許 7933518 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2026年10月13日 | |
| 特許 7933516 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2026年10月13日 | |
| 特許 7933502 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2026年10月13日 | |
| 特許 7933486 | 偏光板の製造方法 | 2026年10月13日 | |
| 特許 7932712 | スパッタリングターゲット材及びスパッタリングターゲット材の製造方法 | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7932914 | ポリイミド系フィルム | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7933190 | スパッタリングターゲット | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7932948 | 再生樹脂組成物 | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7932250 | 偏光板の製造方法 | 2026年10月 8日 | |
| 特許 7931920 | 窒化物半導体基板 | 2026年10月 7日 | |
| 特許 7931607 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2026年10月 7日 | |
| 特許 7929103 | 円偏光板およびそれを用いる有機ＥＬ表示装置 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7929310 | 位相差層積層体、偏光積層体、及び画像表示装置 | 2026年10月 2日 |
333 件中 1-15 件を表示
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7933672 7933671 7933518 7933516 7933502 7933486 7932712 7932914 7933190 7932948 7932250 7931920 7931607 7929103 7929310
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