(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022190398
(43)【公開日】2022-12-26
(54)【発明の名称】防眩性積層体、偏光板及び画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/02 20060101AFI20221219BHJP
G02B 5/30 20060101ALI20221219BHJP
【ＦＩ】
G02B5/02 A
G02B5/30
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021098702
(22)【出願日】2021-06-14
(71)【出願人】
【識別番号】000002897
【氏名又は名称】大日本印刷株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002620
【氏名又は名称】弁理士法人大谷特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】古井 玄
(72)【発明者】
【氏名】成川 隆史
【テーマコード（参考）】
2H042
2H149
【Ｆターム（参考）】
2H042AA15
2H042BA01
2H042BA02
2H042BA19
2H042BA20
2H149AA02
2H149AA18
2H149AA19
2H149AB15
2H149BA02
2H149FC06
(57)【要約】
【課題】鉛筆硬度及び耐屈曲性に優れた防眩性積層体を提供する。
【解決手段】基材上に樹脂層を有する防眩性積層体であって、前記樹脂層は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子を含み、前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材側を第１領域、前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材とは反対側を第２領域と定義した際に、前記第１の粒子の個数基準の７０％以上が前記第２領域に存在し、下記条件１又は条件２を満たす、防眩性積層体。
＜条件１＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の平均傾斜角が５．０度以上２０．０度以下。
＜条件２＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の算術平均高さが０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下。
【選択図】図１
【解決手段】基材上に樹脂層を有する防眩性積層体であって、前記樹脂層は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子を含み、前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材側を第１領域、前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材とは反対側を第２領域と定義した際に、前記第１の粒子の個数基準の７０％以上が前記第２領域に存在し、下記条件１又は条件２を満たす、防眩性積層体。
＜条件１＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の平均傾斜角が５．０度以上２０．０度以下。
＜条件２＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の算術平均高さが０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材上に樹脂層を有する防眩性積層体であって、
前記樹脂層は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子を含み、
前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材側を第１領域、前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材とは反対側を第２領域と定義した際に、前記第１の粒子の個数基準の７０％以上が前記第２領域に存在し、
下記条件１又は条件２を満たす、防眩性積層体。
＜条件１＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の平均傾斜角が５．０度以上２０．０度以下。
＜条件２＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の算術平均高さが０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下。
前記樹脂層は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子を含み、
前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材側を第１領域、前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材とは反対側を第２領域と定義した際に、前記第１の粒子の個数基準の７０％以上が前記第２領域に存在し、
下記条件１又は条件２を満たす、防眩性積層体。
＜条件１＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の平均傾斜角が５．０度以上２０．０度以下。
＜条件２＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の算術平均高さが０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下。
【請求項2】
前記第１の粒子の平均粒子径を示すＤ１と、前記樹脂層の平均厚みを示すｔとが、２．０＜ｔ／Ｄ１＜６．０の関係である、請求項１に記載の防眩性積層体。
【請求項3】
前記第１の粒子が有機粒子である、請求項１又は２に記載の防眩性積層体。
【請求項4】
前記樹脂層が、硬化性樹脂組成物の硬化物を含む、請求項１～３の何れかに記載の防眩性積層体。
【請求項5】
前記基材がアクリル樹脂基材である、請求項１～４の何れかに記載の防眩性積層体。
【請求項6】
偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第１の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第２の透明保護板とを有する偏光板であって、前記第１の透明保護板及び前記第２の透明保護板の少なくとも一方が請求項１～５の何れかに記載の防眩性積層体である、偏光板。
【請求項7】
表示素子上に、請求項１～５の何れかに記載の防眩性積層体を有する、画像表示装置。
【請求項8】
フォルダブルタイプの画像表示装置又はローラブルタイプの画像表示装置である、請求項７に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、防眩性積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
テレビ、ノートＰＣ、デスクトップＰＣのモニター等の画像表示装置の表面には、防眩性を付与するために、防眩性積層体が設置される場合がある。防眩性とは、照明及び人物等の背景の映り込みを抑制する特性である。
【0003】
防眩性積層体は、基材上に表面が凹凸形状である防眩層を有する基本構成からなる。防眩性積層体は、画像表示装置等の表面部材として使用される場合が多いため、人の指及び物等が接触する機会が多い。このため、防眩性積層体は鉛筆硬度が高いことが好ましい。
【0004】
防眩性積層体の鉛筆硬度を高くするため、防眩層の樹脂成分としては、硬化性樹脂組成物の硬化物が好ましく用いられている（例えば、特許文献１～２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特許第６８４０２１５号公報
【特許文献2】国際公開番号ＷＯ２０１８／０７０４２６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
特許文献１～２の防眩性積層体は、防眩層の硬度が高いため、鉛筆硬度は良好である。しかし、特許文献１～２の防眩性積層体は耐屈曲性が不十分な場合があった。具体的には、特許文献１～２の防眩性積層体をフォルダブルタイプの画像表示装置又はローラブルタイプの画像表示装置に適用した場合、防眩性積層体にクラックが生じる場合があった。前述した耐屈曲性は、防眩性積層体の基材としてアクリル樹脂基材を用いた場合に悪化する傾向があった。
【0007】
本開示は、鉛筆硬度及び耐屈曲性に優れた防眩性積層体、並びに、それを用いた偏光板及び画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本開示は、以下の［１］～［３］の防眩性積層体、偏光板及び画像表示装置を提供する。
［１］基材上に樹脂層を有する防眩性積層体であって、
前記樹脂層は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子を含み、
前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材側を第１領域、前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材とは反対側を第２領域と定義した際に、前記第１の粒子の個数基準の７０％以上が前記第２領域に存在し、
下記条件１又は条件２を満たす、防眩性積層体。
＜条件１＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の平均傾斜角が５．０度以上２０．０度以下。
＜条件２＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の算術平均高さが０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下。
［２］偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第１の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第２の透明保護板とを有する偏光板であって、前記第１の透明保護板及び前記第２の透明保護板の少なくとも一方が前記［１］に記載の防眩性積層体である、偏光板。
［３］表示素子上に、前記［１］に記載の防眩性積層体を有する、画像表示装置。
［１］基材上に樹脂層を有する防眩性積層体であって、
前記樹脂層は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子を含み、
前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材側を第１領域、前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材とは反対側を第２領域と定義した際に、前記第１の粒子の個数基準の７０％以上が前記第２領域に存在し、
下記条件１又は条件２を満たす、防眩性積層体。
＜条件１＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の平均傾斜角が５．０度以上２０．０度以下。
＜条件２＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の算術平均高さが０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下。
［２］偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第１の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第２の透明保護板とを有する偏光板であって、前記第１の透明保護板及び前記第２の透明保護板の少なくとも一方が前記［１］に記載の防眩性積層体である、偏光板。
［３］表示素子上に、前記［１］に記載の防眩性積層体を有する、画像表示装置。
【発明の効果】
【0009】
本開示の防眩性積層体は、鉛筆硬度及び耐屈曲性を良好にすることができる。本開示の偏光板及び画像表示装置は、鉛筆硬度及び耐屈曲性に優れた防眩性積層体を有するため、偏光板及び画像表示装置の設計の自由度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本開示の実施形態を説明する。
［防眩性積層体］
本開示の防眩性積層体は、基材上に樹脂層を有し、
前記樹脂層は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子を含み、
前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材側を第１領域、前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材とは反対側を第２領域と定義した際に、前記第１の粒子の個数基準の７０％以上が前記第２領域に存在し、
下記条件１又は条件２を満たす、ものである。
＜条件１＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の平均傾斜角が５．０度以上２０．０度以下。
＜条件２＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の算術平均高さが０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下。
［防眩性積層体］
本開示の防眩性積層体は、基材上に樹脂層を有し、
前記樹脂層は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子を含み、
前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材側を第１領域、前記樹脂層の厚み方向の中心より前記基材とは反対側を第２領域と定義した際に、前記第１の粒子の個数基準の７０％以上が前記第２領域に存在し、
下記条件１又は条件２を満たす、ものである。
＜条件１＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の平均傾斜角が５．０度以上２０．０度以下。
＜条件２＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の算術平均高さが０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下。
【0012】
図１は、本開示の防眩性積層体１００の一実施形態を示す断面図である。
図１の防眩性積層体１００は、基材１０上に樹脂層２０を有している。また、図１の樹脂層２０は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子２３を含有している。また、樹脂層２０の厚み方向の中心より基材１０側を第１領域２１、樹脂層２０の厚み方向の中心より基材１０とは反対側を第２領域２２と定義した際に、図１中の第１の粒子２３は、第２領域２２に存在している。
なお、図１は模式的な断面図である。すなわち、防眩性積層体１００を構成する各層の縮尺、各材料の縮尺、及び表面凹凸の縮尺は、図示しやすくするために模式化したものであり、実際の縮尺とは相違している。図１以外の図も同様に実際の縮尺とは相違している。
図１の防眩性積層体１００は、基材１０上に樹脂層２０を有している。また、図１の樹脂層２０は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子２３を含有している。また、樹脂層２０の厚み方向の中心より基材１０側を第１領域２１、樹脂層２０の厚み方向の中心より基材１０とは反対側を第２領域２２と定義した際に、図１中の第１の粒子２３は、第２領域２２に存在している。
なお、図１は模式的な断面図である。すなわち、防眩性積層体１００を構成する各層の縮尺、各材料の縮尺、及び表面凹凸の縮尺は、図示しやすくするために模式化したものであり、実際の縮尺とは相違している。図１以外の図も同様に実際の縮尺とは相違している。
【0013】
＜基材＞
基材としては、光透過性、平滑性、耐熱性及び機械的強度が良好であることが好ましい。このような基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ－Ｏｌｅｆｉｎ－Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等の樹脂を含む樹脂基材が挙げられる。樹脂基材は、２以上の樹脂基材を貼り合わせたものであってもよい。
樹脂基材は、機械的強度及び寸法安定性を良好にするため、延伸処理されていることが好ましい。
基材としては、光透過性、平滑性、耐熱性及び機械的強度が良好であることが好ましい。このような基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ－Ｏｌｅｆｉｎ－Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等の樹脂を含む樹脂基材が挙げられる。樹脂基材は、２以上の樹脂基材を貼り合わせたものであってもよい。
樹脂基材は、機械的強度及び寸法安定性を良好にするため、延伸処理されていることが好ましい。
【0014】
樹脂基材の中でも、吸湿性が低いため寸法安定性を良好にしやすく、かつ、光学的異方性が低いため視認性を良好にしやすい、アクリル樹脂基材が好ましい。また、アクリル樹脂基材は、樹脂層用塗布液を所定の組成として、かつ、所定の乾燥条件とすることにより、条件１及又は条件２を満たし、かつ、第１の粒子の厚み方向の位置を満たしやすくできる。
アクリル樹脂基材は、硬くて脆いため、アクリル樹脂基材上に硬化性樹脂組成物の硬化物を含む樹脂層を形成すると、耐屈曲性が不十分になる場合がある。本開示の防眩性積層体は、アクリル樹脂基材上に硬化性樹脂組成物の硬化物を含む樹脂層を形成しても、条件１又は条件２を満たすことなどにより、耐屈曲性の低下を抑制し、かつ、鉛筆硬度を維持しやすくできる。
本明細書において、アクリル樹脂とは、アクリル系樹脂及び／又はメタクリル系樹脂を意味する。
アクリル樹脂基材は、硬くて脆いため、アクリル樹脂基材上に硬化性樹脂組成物の硬化物を含む樹脂層を形成すると、耐屈曲性が不十分になる場合がある。本開示の防眩性積層体は、アクリル樹脂基材上に硬化性樹脂組成物の硬化物を含む樹脂層を形成しても、条件１又は条件２を満たすことなどにより、耐屈曲性の低下を抑制し、かつ、鉛筆硬度を維持しやすくできる。
本明細書において、アクリル樹脂とは、アクリル系樹脂及び／又はメタクリル系樹脂を意味する。
【0015】
アクリル樹脂基材が含有するアクリル樹脂としては特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステルを１種又は２種以上組み合わせて重合してなるものが好ましく、より具体的には、（メタ）アクリル酸メチルを用いて得られるものが好ましい。また、アクリル樹脂としては、特開２０００－２３００１６号公報、特開２００１－１５１８１４号公報、特開２００２－１２０３２６号公報、特開２００２－２５４５４４号公報、特開２００５－１４６０８４号公報等に記載のものも挙げられる。アクリル樹脂として、ラクトン環構造を有するアクリル樹脂、イミド環構造を有するアクリル樹脂等の環構造を有するものを用いてもよい。
【0016】
アクリル樹脂は、ガラス転移点（Ｔｇ）が、１００℃以上１５０℃以下であることが好ましく、１０５℃以上１３５℃以下であることがより好ましく、１１０℃以上１３０℃以下であることがさらに好ましい。
アクリル樹脂のガラス転移点が１００℃以上であると、樹脂層を形成する際にアクリル樹脂基材が過度に溶解することを抑制しやすくできる。アクリル樹脂のガラス転移点が１５０℃以下であると、樹脂層を形成する際のアクリル樹脂基材が溶解する度合いをコントロールしやすくできる。
アクリル樹脂のガラス転移点が１００℃以上であると、樹脂層を形成する際にアクリル樹脂基材が過度に溶解することを抑制しやすくできる。アクリル樹脂のガラス転移点が１５０℃以下であると、樹脂層を形成する際のアクリル樹脂基材が溶解する度合いをコントロールしやすくできる。
【0017】
アクリル樹脂基材は、アクリル樹脂以外の樹脂を含んでいてもよいが、アクリル樹脂基材を構成する全樹脂に対するアクリル樹脂の割合が８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることがさらに好ましい。
【0018】
アクリル樹脂基材は、例えば、調湿したアクリル樹脂からなるペレットを溶融押し出し後、冷却しながら、縦方向に延伸し、その後、横方向に延伸することで製造することができる。
溶融押し出し工程では、１軸、２軸、又は２軸以上のスクリューを使用することができ、スクリューの回転方向、回転数、溶融温度は任意に設定できる。
延伸は、延伸後に所望の厚みになるように行うことが好ましい。また、延伸倍率は限定されないが、１．２倍以上４．５倍以下が好ましい。延伸時の温度、湿度は任意に決められる。延伸方法は、一般的な方法でよい。
溶融押し出し工程では、１軸、２軸、又は２軸以上のスクリューを使用することができ、スクリューの回転方向、回転数、溶融温度は任意に設定できる。
延伸は、延伸後に所望の厚みになるように行うことが好ましい。また、延伸倍率は限定されないが、１．２倍以上４．５倍以下が好ましい。延伸時の温度、湿度は任意に決められる。延伸方法は、一般的な方法でよい。
【0019】
基材の平均厚みは、１０μｍ以上が好ましく、２０μｍ以上がより好ましく、３５μｍ以上がさらに好ましい。基材の平均厚みを１０μｍ以上とすることにより、防眩性積層体の取り扱い性を良好にしやすくできる。
基材の平均厚みは、１００μｍ以下が好ましく、８０μｍ以下がより好ましく、６０μｍ以下がさらに好ましい。基材の平均厚みを１００μｍ以下とすることにより、防眩性積層体の耐屈曲性をより良好にしやすくできる。
基材の平均厚みは、１００μｍ以下が好ましく、８０μｍ以下がより好ましく、６０μｍ以下がさらに好ましい。基材の平均厚みを１００μｍ以下とすることにより、防眩性積層体の耐屈曲性をより良好にしやすくできる。
【0020】
上述した基材の平均厚みは、防眩性積層体の完成時の基材の平均厚みを意味する。後述するように、樹脂層用塗布液により基材の一部が溶解することによって、防眩性積層体の完成時の基材の平均厚みは、初期の基材の平均厚みよりも減少する場合がある。このため、初期の基材の平均厚みは、防眩性積層体の完成時の基材の平均厚みよりも厚くすることが好ましい。初期の基材の平均厚みと、防眩性積層体の完成時の基材の平均厚みとの差は、樹脂層の厚み、樹脂層用塗布液の組成、前記塗布液の乾燥条件等により異なるため一概にはいえないが、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上５μｍ以下であることがより好ましい。
【0021】
基材の平均厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）により撮像した防眩性積層体の断面写真の任意の箇所を２０点選び、その平均値により算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ以上３０ｋＶ以下、ＳＴＥＭの倍率は１０００倍以上７０００倍以下とすることが好ましい。
基材の平均厚み、樹脂層の厚み、樹脂層の厚み方向における第１の粒子の位置、基材の樹脂層側の表面の平均傾斜角、基材の樹脂層側の表面の算術平均高さ等を測定するためには、防眩性積層体の断面が露出した測定用のサンプルを作製する必要がある。前記サンプルは、例えば、下記の（Ａ１）～（Ａ２）の工程で作製できる。なお、コントラスト不足で界面等が見え難い場合には、前処理として、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸などで前記サンプルに染色処理を施してもよい。
基材の平均厚み、樹脂層の厚み、樹脂層の厚み方向における第１の粒子の位置、基材の樹脂層側の表面の平均傾斜角、基材の樹脂層側の表面の算術平均高さ等を測定するためには、防眩性積層体の断面が露出した測定用のサンプルを作製する必要がある。前記サンプルは、例えば、下記の（Ａ１）～（Ａ２）の工程で作製できる。なお、コントラスト不足で界面等が見え難い場合には、前処理として、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸などで前記サンプルに染色処理を施してもよい。
【0022】
（Ａ１）防眩性積層体を任意の大きさに切断したカットサンプルを作製した後、前記カットサンプルを樹脂で包埋した包埋サンプルを作製する。カットサンプルの大きさは、例えば、縦１０ｍｍ×横３ｍｍの短冊状とする。包埋用の樹脂はエポキシ樹脂が好ましい。
包埋サンプルは、例えば、シリコン包埋板内にカットサンプルを配置した後に包埋用の樹脂を流し込み、さらに、包埋用の樹脂を硬化させた後、シリコン包埋板から、カットサンプル及びこれを包む包埋用の樹脂を取り出すことにより得ることができる。以下に例示するストルアス社製のエポキシ樹脂の場合、前述した硬化の工程は、常温で１２時間放置して硬化することが好ましい。包埋サンプルの形状はブロック状である。
シリコン包埋板は、例えば、堂阪イーエム社製のものが挙げられる。シリコン包埋板は、シリコンカプセルと称する場合もある。包埋用のエポキシ樹脂は、例えば、ストルアス社製の商品名「エポフィックス」と、同社製の商品名「エポフィックス用硬化剤」とを１０：１．２で混合したものを用いることができる。
包埋サンプルは、例えば、シリコン包埋板内にカットサンプルを配置した後に包埋用の樹脂を流し込み、さらに、包埋用の樹脂を硬化させた後、シリコン包埋板から、カットサンプル及びこれを包む包埋用の樹脂を取り出すことにより得ることができる。以下に例示するストルアス社製のエポキシ樹脂の場合、前述した硬化の工程は、常温で１２時間放置して硬化することが好ましい。包埋サンプルの形状はブロック状である。
シリコン包埋板は、例えば、堂阪イーエム社製のものが挙げられる。シリコン包埋板は、シリコンカプセルと称する場合もある。包埋用のエポキシ樹脂は、例えば、ストルアス社製の商品名「エポフィックス」と、同社製の商品名「エポフィックス用硬化剤」とを１０：１．２で混合したものを用いることができる。
【0023】
（Ａ２）ブロック状の包埋サンプルを垂直に切断し、防眩性積層体の断面が露出してなる、測定用のサンプルを作製する。測定用のサンプルとしては、ブロック状の包埋サンプルから切断された薄い切片の方を用いる（測定のサンプルの条件は後述する。）。包埋サンプルは、カットサンプルの中心を通るように切断することが好ましい。包埋サンプルはダイヤモンドナイフで切断することが好ましい。
包埋サンプルを切断する装置としては、例えば、ライカマイクロシステムズ社製の商品名「ウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７」が挙げられる。包埋サンプルを切断する際は、最初は大まかに切断し（粗トリミング）、最終的には、「SPEED：1.00mm/s」、「FEED：70nm」の条件で精密にトリミングすることが好ましい。
上記のようにブロック状の包埋サンプルから切断された切片のうち、穴等の欠陥がなく、かつ、厚みが６０ｎｍ以上１００ｎｍ以下で均一な切片は、基材の平均厚み、樹脂層の厚み、樹脂層の厚み方向における第１の粒子の位置、基材の樹脂層側の表面の平均傾斜角、基材の樹脂層側の表面の算術平均高さ、第１の粒子の粒子径、無機微粒子の粒子径の測定用サンプルとして用いることができる。
包埋サンプルを切断する装置としては、例えば、ライカマイクロシステムズ社製の商品名「ウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７」が挙げられる。包埋サンプルを切断する際は、最初は大まかに切断し（粗トリミング）、最終的には、「SPEED：1.00mm/s」、「FEED：70nm」の条件で精密にトリミングすることが好ましい。
上記のようにブロック状の包埋サンプルから切断された切片のうち、穴等の欠陥がなく、かつ、厚みが６０ｎｍ以上１００ｎｍ以下で均一な切片は、基材の平均厚み、樹脂層の厚み、樹脂層の厚み方向における第１の粒子の位置、基材の樹脂層側の表面の平均傾斜角、基材の樹脂層側の表面の算術平均高さ、第１の粒子の粒子径、無機微粒子の粒子径の測定用サンプルとして用いることができる。
【0024】
本明細書において、各種の測定及び評価、並びに、測定及び評価のためのサンプリングを実施する雰囲気は、特に断りのない限り、温度２３±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下で測定したものとする。また、測定、評価及びサンプリングを実施前に、対象となる防眩性積層体を前記雰囲気に３０分以上晒すものとする。
【0025】
《条件１、条件２》
本開示の防眩性積層体は、下記の条件１又は条件２を満たすことを要する。本開示の防眩性積層体は、条件１及び条件２の少なくとも一方を満たせば良いが、両方を満たすことが好ましい。
＜条件１＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の平均傾斜角が５．０度以上２０．０度以下。
＜条件２＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の算術平均高さが０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下。
本開示の防眩性積層体は、下記の条件１又は条件２を満たすことを要する。本開示の防眩性積層体は、条件１及び条件２の少なくとも一方を満たせば良いが、両方を満たすことが好ましい。
＜条件１＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の平均傾斜角が５．０度以上２０．０度以下。
＜条件２＞
前記基材の前記樹脂層側の表面の算術平均高さが０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下。
【0026】
－条件１-
基材の平均傾斜角が５．０度未満の場合、基材と樹脂層との密着性が不足することにより、防眩性積層体の屈曲時に界面剥離が生じるため、防眩性積層体の耐屈曲性を良好にすることができない。
基材の平均傾斜角が２０．０度を超えると、樹脂層に基材成分が過度に溶出することを意味する。このため、基材の平均傾斜角が２０．０度を超えると、防眩性積層体の鉛筆硬度を良好にすることができない。また、基材の平均傾斜角が２０．０度を超えると、内部ヘイズが上昇することにより、解像度が低下しやすくなる。
基材の平均傾斜角は、６．０度以上が好ましく、８．０度以上がより好ましく、１０．０度以上がさらに好ましい。基材の平均傾斜角は、１９．５度以下が好ましく、１９．０度以下がより好ましく、１８．５度以下がさらに好ましい。
基材の平均傾斜角が５．０度未満の場合、基材と樹脂層との密着性が不足することにより、防眩性積層体の屈曲時に界面剥離が生じるため、防眩性積層体の耐屈曲性を良好にすることができない。
基材の平均傾斜角が２０．０度を超えると、樹脂層に基材成分が過度に溶出することを意味する。このため、基材の平均傾斜角が２０．０度を超えると、防眩性積層体の鉛筆硬度を良好にすることができない。また、基材の平均傾斜角が２０．０度を超えると、内部ヘイズが上昇することにより、解像度が低下しやすくなる。
基材の平均傾斜角は、６．０度以上が好ましく、８．０度以上がより好ましく、１０．０度以上がさらに好ましい。基材の平均傾斜角は、１９．５度以下が好ましく、１９．０度以下がより好ましく、１８．５度以下がさらに好ましい。
【0027】
基材の平均傾斜角及び基材の算術平均高さは、例えば、以下のように測定することができる。
（１）防眩性積層体の断面写真を、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）で撮像する。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ以上３０ｋＶ以下、ＳＴＥＭの倍率は５０００倍以上１００００倍以下とすることが好ましい。
（２）断面写真の画像から、基材と樹脂層との界面の稜線を取得し、高さデータを取得する。具体的には下記のようにする。基材と樹脂層との界面は、基材の樹脂層側の表面に相当する。
(a)撮影した画像を、オープンソースでパブリックドメインの画像処理ソフトウェアＩｍａｇｅＪ（version 1.52a）にて表示する。
(b)画像中に表示されたスケール表示から、ピクセル当たりの長さを求める。
(c)“FreeHand Selections”を選択して、界面を含むようにROIをつくり、Brightnessを調節して、界面を境に色が明確に異なるようにする。
(d)Process-Smoothを２回かける。
(e)Image-Typeを8bitにする。
(f)“Straight”を選択して、界面に沿って線を引く。
(g)ImageJのPluginであるABSnakeを導入して実行する。その際”Gradient threshold”を10に設定し、Draw colorをRedに設定する。その他の設定はデフォルトのままとする。
(h)目視で、界面がRedでトレースできていることを確認する。不良の場合は、(f)からやり直す。
(i)Image-Adjust-Color Thresholdを実行。Redとそれ以外を分けるようにしきい値を設定する。具体的には、Color spaceをRGBにして、「Red」「Green」及び「Blue」の「Pass」にチェックをつけ、Redの範囲の上下限を最大値(255)にし、「Green」及び「Blue」の範囲の上下限を最小値(0)にする。
(j)Process-Binary-Make Binaryを実行して、界面のトレース線の部分と、前記トレース線以外の部分とで２値化する。
(k)File-Save Asで”Text Image”で２値化されたデータを保存する。
(l)２値化されたデータから、界面を高さデータ点列に変換する。
（３）高さデータ点列から、下記の手順で、平均傾斜角、算術平均高さを算出する。
(m) 最小二乗法の二次回帰により高さデータの中心線を求めて、高さデータから差し引くことで、中心線を０とし上方向を正、下方向を負とするように変換する。中心線の方向をｘ軸、それに垂直な方向（高さ方向）をｙ軸とする。
(n) (b)で求めたピクセル当たりの長さを用いて、高さデータを長さに換算する。
(o)カットオフ波長０．５μｍのガウシャンによるローパスフィルターを適用する。
(p)ｔａｎ－１（（ｙｉ＋１－ｙｉ－１）／２Δｘ）［ｙｉは高さデータ点列のｉ番目の点における高さ、Δｘは隣り合う点のｘ軸方向の距離］により求められる各点の傾斜角度の絶対値の算術平均を算出することにより、平均傾斜角を求める。
(q)各点の高さの絶対値の算術平均を算出することにより、算術平均高さを求める。
（１）防眩性積層体の断面写真を、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）で撮像する。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ以上３０ｋＶ以下、ＳＴＥＭの倍率は５０００倍以上１００００倍以下とすることが好ましい。
（２）断面写真の画像から、基材と樹脂層との界面の稜線を取得し、高さデータを取得する。具体的には下記のようにする。基材と樹脂層との界面は、基材の樹脂層側の表面に相当する。
(a)撮影した画像を、オープンソースでパブリックドメインの画像処理ソフトウェアＩｍａｇｅＪ（version 1.52a）にて表示する。
(b)画像中に表示されたスケール表示から、ピクセル当たりの長さを求める。
(c)“FreeHand Selections”を選択して、界面を含むようにROIをつくり、Brightnessを調節して、界面を境に色が明確に異なるようにする。
(d)Process-Smoothを２回かける。
(e)Image-Typeを8bitにする。
(f)“Straight”を選択して、界面に沿って線を引く。
(g)ImageJのPluginであるABSnakeを導入して実行する。その際”Gradient threshold”を10に設定し、Draw colorをRedに設定する。その他の設定はデフォルトのままとする。
(h)目視で、界面がRedでトレースできていることを確認する。不良の場合は、(f)からやり直す。
(i)Image-Adjust-Color Thresholdを実行。Redとそれ以外を分けるようにしきい値を設定する。具体的には、Color spaceをRGBにして、「Red」「Green」及び「Blue」の「Pass」にチェックをつけ、Redの範囲の上下限を最大値(255)にし、「Green」及び「Blue」の範囲の上下限を最小値(0)にする。
(j)Process-Binary-Make Binaryを実行して、界面のトレース線の部分と、前記トレース線以外の部分とで２値化する。
(k)File-Save Asで”Text Image”で２値化されたデータを保存する。
(l)２値化されたデータから、界面を高さデータ点列に変換する。
（３）高さデータ点列から、下記の手順で、平均傾斜角、算術平均高さを算出する。
(m) 最小二乗法の二次回帰により高さデータの中心線を求めて、高さデータから差し引くことで、中心線を０とし上方向を正、下方向を負とするように変換する。中心線の方向をｘ軸、それに垂直な方向（高さ方向）をｙ軸とする。
(n) (b)で求めたピクセル当たりの長さを用いて、高さデータを長さに換算する。
(o)カットオフ波長０．５μｍのガウシャンによるローパスフィルターを適用する。
(p)ｔａｎ－１（（ｙｉ＋１－ｙｉ－１）／２Δｘ）［ｙｉは高さデータ点列のｉ番目の点における高さ、Δｘは隣り合う点のｘ軸方向の距離］により求められる各点の傾斜角度の絶対値の算術平均を算出することにより、平均傾斜角を求める。
(q)各点の高さの絶対値の算術平均を算出することにより、算術平均高さを求める。
【0028】
－条件２-
基材の算術平均高さが０．１０μｍ未満の場合、基材と樹脂層との密着性が不足することにより、防眩性積層体の屈曲時に界面剥離が生じるため、防眩性積層体の耐屈曲性を良好にすることができない。
基材の算術平均高さが０．４０μｍを超えると、樹脂層に基材成分が過度に溶出することを意味する。このため、基材の算術平均高さが０．４０μｍを超えると、防眩性積層体の鉛筆硬度を良好にすることができない。また、基材の算術平均高さが０．４０μｍを超えると、内部ヘイズが上昇することにより、解像度が低下しやすくなる。
基材の算術平均高さは、０．１５μｍ以上が好ましく、０．２０μｍ以上がより好ましい。基材の算術平均高さは、０．３８μｍ以下がより好ましく、０．３６μｍ以下がさらに好ましい。
基材の算術平均高さが０．１０μｍ未満の場合、基材と樹脂層との密着性が不足することにより、防眩性積層体の屈曲時に界面剥離が生じるため、防眩性積層体の耐屈曲性を良好にすることができない。
基材の算術平均高さが０．４０μｍを超えると、樹脂層に基材成分が過度に溶出することを意味する。このため、基材の算術平均高さが０．４０μｍを超えると、防眩性積層体の鉛筆硬度を良好にすることができない。また、基材の算術平均高さが０．４０μｍを超えると、内部ヘイズが上昇することにより、解像度が低下しやすくなる。
基材の算術平均高さは、０．１５μｍ以上が好ましく、０．２０μｍ以上がより好ましい。基材の算術平均高さは、０．３８μｍ以下がより好ましく、０．３６μｍ以下がさらに好ましい。
【0029】
基材の樹脂層側の表面の平均傾斜角及び算術平均高さを上述した範囲とするためには、基材の一部を樹脂層用塗布液で溶解させることが好ましい。但し、基材を樹脂層用塗布液で溶解する際には、樹脂層用塗布液を所定の組成として、かつ、所定の乾燥条件とすることが好ましい。所定の組成及び所定の乾燥条件については後述する。
【0030】
基材は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤及び可塑剤等の添加剤を含んでもよい。
基材の表面には、密着性向上のために、コロナ放電処理等の物理的な処理又は化学的な処理を施したり、易接着層を形成したりしてもよい。
基材の表面には、密着性向上のために、コロナ放電処理等の物理的な処理又は化学的な処理を施したり、易接着層を形成したりしてもよい。
【0031】
＜樹脂層＞
樹脂層は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子を含むことを要する。
樹脂層が第１の粒子を含まない場合、防眩性積層体に防眩性を付与することができない。
樹脂層は、平均粒子径０．５μｍ以上の第１の粒子を含むことを要する。
樹脂層が第１の粒子を含まない場合、防眩性積層体に防眩性を付与することができない。
【0032】
本開示の防眩性積層体は、樹脂層の厚み方向の中心より基材側を第１領域、樹脂層の厚み方向の中心より基材とは反対側を第２領域と定義した際に、第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在することを要する。
図１及び図２を参照すると、図１中の第１の粒子２３は第２領域２２に存在し、図２中の第１の粒子２３は第１領域２１に存在している。
図１及び図２を参照すると、図１中の第１の粒子２３は第２領域２２に存在し、図２中の第１の粒子２３は第１領域２１に存在している。
【0033】
第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在しないことは、第１の粒子の個数基準の３０％以上が第１領域に存在することになる。
第１領域に存在する第１の粒子は、樹脂層の表面を凹凸形状にしにくいため、後述の比較例２のように防眩性を良好にしにくい。
後述の比較例１のように、第１の粒子の含有量の絶対値が多ければ、第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在しなくても防眩性を良好にすることができる。しかし、この場合、耐屈曲性の低下の原因となる、第１の粒子と樹脂層との界面が増加するため、防眩性積層体の耐屈曲性を良好にすることができない。
第１領域に存在する第１の粒子は、樹脂層の表面を凹凸形状にしにくいため、後述の比較例２のように防眩性を良好にしにくい。
後述の比較例１のように、第１の粒子の含有量の絶対値が多ければ、第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在しなくても防眩性を良好にすることができる。しかし、この場合、耐屈曲性の低下の原因となる、第１の粒子と樹脂層との界面が増加するため、防眩性積層体の耐屈曲性を良好にすることができない。
【0034】
第１の粒子が第２領域に存在する割合は、個数基準で７５％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【0035】
本明細書において、樹脂層の厚み方向における第１の粒子が存在する位置は、下記（１）～（５）の手法で判別するものとする。
（１）走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）により、防眩性積層体の断面写真を撮像する。 ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ以上３０ｋＶ以下、ＳＴＥＭの倍率は１０００倍以上７０００倍以下とすることが好ましい。
（２）断面写真に基づき、樹脂層の基材側の表面の稜線の標高の平均Ｘ１、樹脂層の基材とは反対側の表面の稜線の標高の平均Ｘ２を算出する（図１の符号Ｘ１及びＸ２参照）。
（３）Ｘ１及びＸ２の標高の中間を、樹脂層の厚み方向の中心Ｍと定義する（図１の符号Ｍ参照）。
（４）断面写真に基づき、樹脂層の厚み方向の中心より基材側の第１領域に存在する第１の粒子、及び、樹脂層の厚み方向の中心より基材とは反対側の第２領域に存在する第１の粒子、の個数をカウントする。樹脂層の厚み方向の中心を跨いで、第１領域及び第２領域の両方に存在している第１の粒子は、各領域の面積割合に応じて、各領域に個数を割り振る。例えば、第１領域の面積割合が４０％で第２領域の面積割合が６０％の第１の粒子は、第１領域に０．４個を割り振り、第２領域に０．６個を割り振る。
（５）数値の信頼性を高めるために、複数の断面写真を取得し、第１の粒子の合計数を５０以上とした上で、第１領域及び第２領域に存在する第１の粒子の個数基準の割合を算出する。
（１）走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）により、防眩性積層体の断面写真を撮像する。 ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ以上３０ｋＶ以下、ＳＴＥＭの倍率は１０００倍以上７０００倍以下とすることが好ましい。
（２）断面写真に基づき、樹脂層の基材側の表面の稜線の標高の平均Ｘ１、樹脂層の基材とは反対側の表面の稜線の標高の平均Ｘ２を算出する（図１の符号Ｘ１及びＸ２参照）。
（３）Ｘ１及びＸ２の標高の中間を、樹脂層の厚み方向の中心Ｍと定義する（図１の符号Ｍ参照）。
（４）断面写真に基づき、樹脂層の厚み方向の中心より基材側の第１領域に存在する第１の粒子、及び、樹脂層の厚み方向の中心より基材とは反対側の第２領域に存在する第１の粒子、の個数をカウントする。樹脂層の厚み方向の中心を跨いで、第１領域及び第２領域の両方に存在している第１の粒子は、各領域の面積割合に応じて、各領域に個数を割り振る。例えば、第１領域の面積割合が４０％で第２領域の面積割合が６０％の第１の粒子は、第１領域に０．４個を割り振り、第２領域に０．６個を割り振る。
（５）数値の信頼性を高めるために、複数の断面写真を取得し、第１の粒子の合計数を５０以上とした上で、第１領域及び第２領域に存在する第１の粒子の個数基準の割合を算出する。
【0036】
樹脂層は、例えば、基材上に、第１の粒子、樹脂となる成分、及び溶媒を含む樹脂層用塗布液を塗布、乾燥し、必要に応じて硬化することにより形成することができる。樹脂層用塗布液は、さらに、必要に応じて、無機微粒子、添加剤を含有してもよい。
上記の手法の場合、樹脂層用塗布液が基材の一部を溶解することにより、基材の樹脂層側の表面を凹凸化する。基材から溶出した成分は、樹脂層用塗布液と混合し、樹脂層の構成成分となる。
上記の手法では、樹脂層用塗布液を所定の組成として、かつ、所定の乾燥条件とすることが肝要である。所定の組成及び所定の乾燥条件については後述する。
基材上に樹脂層用塗布液を塗布する方法は特に制限されず、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の汎用の塗布方法が挙げられる。
樹脂層用塗布液を硬化する際には、紫外線及び電子線等の電離放射線を照射することが好ましい。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯及びメタルハライドランプ灯等が挙げられる。また、紫外線の波長としては、１９０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長域が好ましい。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種の電子線加速器が挙げられる。
上記の手法の場合、樹脂層用塗布液が基材の一部を溶解することにより、基材の樹脂層側の表面を凹凸化する。基材から溶出した成分は、樹脂層用塗布液と混合し、樹脂層の構成成分となる。
上記の手法では、樹脂層用塗布液を所定の組成として、かつ、所定の乾燥条件とすることが肝要である。所定の組成及び所定の乾燥条件については後述する。
基材上に樹脂層用塗布液を塗布する方法は特に制限されず、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の汎用の塗布方法が挙げられる。
樹脂層用塗布液を硬化する際には、紫外線及び電子線等の電離放射線を照射することが好ましい。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯及びメタルハライドランプ灯等が挙げられる。また、紫外線の波長としては、１９０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長域が好ましい。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種の電子線加速器が挙げられる。
【0037】
樹脂層の平均厚みは、下限は、６．０μｍ以上が好ましく、７．０μｍ以上がより好ましく、８．０μｍ以上がさらに好ましく、上限は、１５．０μｍ以下が好ましく、１４．０μｍ以下がより好ましく、１３．０μｍ以下がさらに好ましい。
樹脂層の平均厚みを６．０μｍ以上とすることにより、鉛筆硬度を良好にしやすくできる。樹脂層の平均厚みを１５．０μｍ以下とすることにより、耐屈曲性の低下を抑制しやすくできる。
樹脂層の平均厚みを６．０μｍ以上とすることにより、鉛筆硬度を良好にしやすくできる。樹脂層の平均厚みを１５．０μｍ以下とすることにより、耐屈曲性の低下を抑制しやすくできる。
【0038】
樹脂層の平均厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）により撮像した防眩性積層体の断面写真の任意の箇所を２０点選び、その平均値により算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ以上３０ｋＶ以下、ＳＴＥＭの倍率は１０００倍以上７０００倍以下とすることが好ましい。
【0039】
《第１の粒子》
第１の粒子は、平均粒子径が０．５μｍ以上の粒子である。平均粒子径が０．５μｍ未満の場合、樹脂層の表面に凹凸形状を形成することが困難であり、防眩性を良好にすることができない。
第１の粒子は、平均粒子径が０．５μｍ以上の粒子である。平均粒子径が０．５μｍ未満の場合、樹脂層の表面に凹凸形状を形成することが困難であり、防眩性を良好にすることができない。
【0040】
第１の粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル－スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン－メラミン－ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等の樹脂の１種以上から形成される有機粒子；シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等の無機物の１種以上から形成される無機粒子；が挙げられる。これらの中でも、有機粒子は、分散安定性に優れ、かつ、比重が比較的小さいため、第１の粒子が厚み方向の位置の条件を満たしやすくできる点で好ましい。
【0041】
第１の粒子の含有量は、樹脂層用塗布液の樹脂成分１００質量部に対して、下限は、０．５質量部以上であることが好ましく、１．０質量部以上であることがより好ましく、１．５質量部以上であることがさらに好ましく、上限は、１０．０質量部以下であることが好ましく、５．０質量部以下であることがより好ましく、３．０質量部以下であることがさらに好ましい。
第１の粒子の含有量を０．５質量部以上とすることにより、防眩性を良好にしやすくできる。また、第１の粒子の含有量を１０．０質量部以下とすることにより、耐屈曲性の低下を抑制しやすくできる。
第１の粒子の含有量を０．５質量部以上とすることにより、防眩性を良好にしやすくできる。また、第１の粒子の含有量を１０．０質量部以下とすることにより、耐屈曲性の低下を抑制しやすくできる。
【0042】
第１の粒子の平均粒子径は、０．８μｍ以上であることが好ましく、１．０μｍ以上であることがより好ましい。
第１の粒子が厚み方向の位置の条件を満たしやすくするために、第１の粒子の平均粒子径は、３．０μｍ以下であることが好ましく、２．７μｍ以下であることがより好ましく、２．５μｍ以下であることがさらに好ましい。
第１の粒子が厚み方向の位置の条件を満たしやすくするために、第１の粒子の平均粒子径は、３．０μｍ以下であることが好ましく、２．７μｍ以下であることがより好ましく、２．５μｍ以下であることがさらに好ましい。
【0043】
第１の粒子の平均粒子径は、例えば、以下の（Ｂ１）～（Ｂ３）の作業により算出できる。
（Ｂ１）光学顕微鏡にて防眩性積層体の透過観察画像を撮像する。倍率は５００倍以上２０００倍以下が好ましい。
（Ｂ２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（Ｂ３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子の平均粒子径とする。
ただし、光学的に第１の粒子が観察できないときは、以下の（Ｂ４）～（Ｂ６）により第１の粒子の平均粒子径を算出する。
（Ｂ４）防眩性積層体から、第１の粒子の中心を通る断面となるような切片をミクロトームにて作製する。切片の厚さは６０ｎｍ～１００ｎｍが好ましい。１つの第１の粒子につき連続で複数の切片を作製し、各切片から（Ｂ５）の作業により算出した粒子径が極大となる切片を、第１の粒子の中心を通る断面となる切片とすることができる。
（Ｂ５）得られた切片を走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）にて観察して粒子径を算出する。粒子径の算出方法は（Ｂ２）と同様とする。倍率は５０００倍以上２００００倍以下が好ましい。
（Ｂ６）（Ｂ４）～（Ｂ５）の作業を２０個分の粒子に対して行って、２０個分の粒子径の数平均から得られる値を第１の粒子の平均粒子径とする。
（Ｂ１）光学顕微鏡にて防眩性積層体の透過観察画像を撮像する。倍率は５００倍以上２０００倍以下が好ましい。
（Ｂ２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（Ｂ３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子の平均粒子径とする。
ただし、光学的に第１の粒子が観察できないときは、以下の（Ｂ４）～（Ｂ６）により第１の粒子の平均粒子径を算出する。
（Ｂ４）防眩性積層体から、第１の粒子の中心を通る断面となるような切片をミクロトームにて作製する。切片の厚さは６０ｎｍ～１００ｎｍが好ましい。１つの第１の粒子につき連続で複数の切片を作製し、各切片から（Ｂ５）の作業により算出した粒子径が極大となる切片を、第１の粒子の中心を通る断面となる切片とすることができる。
（Ｂ５）得られた切片を走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）にて観察して粒子径を算出する。粒子径の算出方法は（Ｂ２）と同様とする。倍率は５０００倍以上２００００倍以下が好ましい。
（Ｂ６）（Ｂ４）～（Ｂ５）の作業を２０個分の粒子に対して行って、２０個分の粒子径の数平均から得られる値を第１の粒子の平均粒子径とする。
【0044】
第１の粒子の平均粒子径を示すＤ１と、樹脂層の平均厚みを示すｔとは、２．０＜ｔ／Ｄ１＜６．０の関係の関係であることが好ましい。
ｔ／Ｄ１を６．０未満とすることにより、第１の粒子によって、防眩性積層体の表面に凹凸形状を付与しやすくできるため、防眩性を良好にしやすくできる。ｔ／Ｄ１を２．０超とすることにより、第１の粒子が樹脂層の表面から突出することによって耐屈曲性が低下することを抑制しやすくできる。
ｔ／Ｄ１は、下限は、２．５以上がより好ましく、３．５以上がさらに好ましく、上限は、５．０以下がより好ましく、４．５以下がさらに好ましい。
ｔ／Ｄ１を６．０未満とすることにより、第１の粒子によって、防眩性積層体の表面に凹凸形状を付与しやすくできるため、防眩性を良好にしやすくできる。ｔ／Ｄ１を２．０超とすることにより、第１の粒子が樹脂層の表面から突出することによって耐屈曲性が低下することを抑制しやすくできる。
ｔ／Ｄ１は、下限は、２．５以上がより好ましく、３．５以上がさらに好ましく、上限は、５．０以下がより好ましく、４．５以下がさらに好ましい。
【0045】
ｔ－Ｄ１は、下限は、耐屈曲性が低下することを抑制しやすくするため、２．０μｍ以上であることが好ましく、３．０μｍ以上であることがより好ましく、４．０μｍ以上であることがさらに好ましく、上限は、防眩性を良好にしやすくするため、１０μｍ以下であることが好ましく、８．０μｍ以下であることがより好ましく、７．０μｍ以下であることがさらに好ましい。
【0046】
《無機微粒子》
樹脂層は、無機微粒子を含んでいてもよい。樹脂層が比較的比重の大きい無機微粒子を含むことにより、第１の粒子が樹脂層の下方に沈みにくくなるため、第１の粒子が厚み方向の位置の条件を満たしやすくできる。また、無機微粒子は、第１の粒子の分散性を高め、耐屈曲性の低下を抑制しやすくできる。
本明細書において、無機微粒子とは、平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の無機粒子を意味する。
無機微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
樹脂層は、無機微粒子を含んでいてもよい。樹脂層が比較的比重の大きい無機微粒子を含むことにより、第１の粒子が樹脂層の下方に沈みにくくなるため、第１の粒子が厚み方向の位置の条件を満たしやすくできる。また、無機微粒子は、第１の粒子の分散性を高め、耐屈曲性の低下を抑制しやすくできる。
本明細書において、無機微粒子とは、平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の無機粒子を意味する。
無機微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【0047】
無機微粒子の平均粒子径は、以下の（Ｃ１）～（Ｃ３）の作業により算出できる。
（Ｃ１）防眩性積層体の断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ以上３０ｋＶ以下、倍率は５万倍以上３０万倍以下とすることが好ましい。
（Ｃ２）観察画像から任意の１０個の無機微粒子を抽出し、個々の無機微粒子の粒子径を算出する。粒子径は、無機微粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（Ｃ３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を無機微粒子の平均粒子径とする。
（Ｃ１）防眩性積層体の断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ以上３０ｋＶ以下、倍率は５万倍以上３０万倍以下とすることが好ましい。
（Ｃ２）観察画像から任意の１０個の無機微粒子を抽出し、個々の無機微粒子の粒子径を算出する。粒子径は、無機微粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（Ｃ３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を無機微粒子の平均粒子径とする。
【0048】
無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる微粒子が挙げられる。これらの中でも、内部ヘイズの発生を抑制しやすいシリカが好適である。
【0049】
無機微粒子の含有量は、樹脂層用塗布液の樹脂成分１００質量部に対して、下限は、０．１質量部以上であることが好ましく、０．５質量部以上であることがより好ましく、０．７質量部以上であることがさらに好ましく、上限は、５．０質量部以下であることが好ましく、３．０質量部以下であることがより好ましく、２．０質量部以下であることがさらに好ましい。
無機微粒子の含有量を０．１質量部以上とすることにより、第１の粒子が厚み方向の位置の条件を満たしやすくできる。また、無機微粒子の含有量を５．０質量部以下とすることにより、第１の粒子が樹脂層の上方に過度に浮かぶことを抑制できるため、耐屈曲性の低下を抑制しやすくできる。
無機微粒子の含有量を０．１質量部以上とすることにより、第１の粒子が厚み方向の位置の条件を満たしやすくできる。また、無機微粒子の含有量を５．０質量部以下とすることにより、第１の粒子が樹脂層の上方に過度に浮かぶことを抑制できるため、耐屈曲性の低下を抑制しやすくできる。
【0050】
《樹脂成分》
樹脂層は、樹脂成分として、硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。樹脂層が硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことにより、防眩性積層体の鉛筆硬度を良好にしやすくできる。
樹脂層は、樹脂成分として、硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。樹脂層が硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことにより、防眩性積層体の鉛筆硬度を良好にしやすくできる。
【0051】
樹脂層用塗布液の樹脂成分の全量に対する硬化性樹脂組成物の割合は、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることがさらに好ましく、１００質量％であることが最も好ましい。
【0052】
硬化性樹脂組成物の硬化物としては、熱硬化性樹脂組成物の硬化物及び電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物が挙げられる。これらの中でも、鉛筆硬度を高くしやすく、かつ、未硬化の組成物の状態において基材を溶解しやすい、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物が好ましい。
【0053】
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
【0054】
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましい。
電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線又は電子線が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
本明細書において、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクロイル基を示す。また、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを示す。
電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線又は電子線が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
本明細書において、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクロイル基を示す。また、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを示す。
【0055】
電離放射線硬化性化合物としては、電離放射線硬化性官能基を１つ有する単官能の電離放射線硬化性化合物、電離放射線硬化性官能基を２つ以上有する多官能の電離放射線硬化性化合物のいずれも用いることができる。また、電離放射線硬化性化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
基材の一部を溶解し、かつ、鉛筆硬度を高くし、かつ、硬化収縮を抑制しやすくするためには、電離放射線硬化性化合物として、下記（ａ）～（ｃ）の混合物を用いることが好ましい。下記（ａ）～（ｃ）は、電離放射線硬化性官能基としてエチレン性不飽和結合基を有する化合物であることが好ましく、（メタ）アクリレート系化合物であることがより好ましい。（メタ）アクリレート系化合物は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等により分子骨格の一部を変性したものも使用することができる。
（ａ）単官能の電離放射線硬化性モノマー
（ｂ）多官能の電離放射線硬化性モノマー
（ｃ）多官能の電離放射線硬化性オリゴマー
基材の一部を溶解し、かつ、鉛筆硬度を高くし、かつ、硬化収縮を抑制しやすくするためには、電離放射線硬化性化合物として、下記（ａ）～（ｃ）の混合物を用いることが好ましい。下記（ａ）～（ｃ）は、電離放射線硬化性官能基としてエチレン性不飽和結合基を有する化合物であることが好ましく、（メタ）アクリレート系化合物であることがより好ましい。（メタ）アクリレート系化合物は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等により分子骨格の一部を変性したものも使用することができる。
（ａ）単官能の電離放射線硬化性モノマー
（ｂ）多官能の電離放射線硬化性モノマー
（ｃ）多官能の電離放射線硬化性オリゴマー
【0056】
電離放射線硬化性化合物として、（ａ）の単官能の電離放射線硬化性モノマーを含むことにより、基材の一部を溶解しやすくすることができるため、条件１又は条件２を満たしやすくできる。また、（ａ）の単官能の電離放射線硬化性モノマーを含むことにより、基材から溶出した成分を樹脂層用塗布液の成分に相溶させやすくできるため、樹脂層の物理特性を良好にしやすくできる。
但し、（ａ）の単官能の電離放射線硬化性モノマーの量が多過ぎると、基材を過度に溶解してしまうため、基材の強度が低下したり、防眩性積層体の鉛筆硬度が低下する場合がある。
電離放射線硬化性化合物として、（ｂ）の多官能の電離放射線硬化性モノマーを含むことにより、防眩性積層体の鉛筆硬度を良好にしやすくできる。但し、（ｂ）の多官能の電離放射線硬化性モノマーの量が多過ぎると、樹脂層の硬度が高くなり過ぎて、防眩性積層体の耐屈曲性が低下する場合がある。
電離放射線硬化性化合物として、（ｃ）の多官能の電離放射線硬化性オリゴマーを含むことにより、防眩性積層体の鉛筆硬度を維持しつつ、硬化収縮を抑制しやすくできる。但し、（ｃ）の多官能の電離放射線硬化性オリゴマーの量が多過ぎると、防眩性積層体の鉛筆硬度が低下する場合がある。
但し、（ａ）の単官能の電離放射線硬化性モノマーの量が多過ぎると、基材を過度に溶解してしまうため、基材の強度が低下したり、防眩性積層体の鉛筆硬度が低下する場合がある。
電離放射線硬化性化合物として、（ｂ）の多官能の電離放射線硬化性モノマーを含むことにより、防眩性積層体の鉛筆硬度を良好にしやすくできる。但し、（ｂ）の多官能の電離放射線硬化性モノマーの量が多過ぎると、樹脂層の硬度が高くなり過ぎて、防眩性積層体の耐屈曲性が低下する場合がある。
電離放射線硬化性化合物として、（ｃ）の多官能の電離放射線硬化性オリゴマーを含むことにより、防眩性積層体の鉛筆硬度を維持しつつ、硬化収縮を抑制しやすくできる。但し、（ｃ）の多官能の電離放射線硬化性オリゴマーの量が多過ぎると、防眩性積層体の鉛筆硬度が低下する場合がある。
【0057】
電離放射線硬化性化合物の総量に対する、（ａ）の単官能の電離放射線硬化性モノマーの量は、１０質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１３質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以上２５質量％以下であることがさらに好ましい。
電離放射線硬化性化合物の総量に対する、（ｂ）の多官能の電離放射線硬化性モノマーの量は、５質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１５質量％以下であることがより好ましく、７質量％以上１３質量％以下であることがさらに好ましい。
電離放射線硬化性化合物の総量に対する、（ｃ）多官能の電離放射線硬化性オリゴマーの量は、５０質量％以上８５質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、６５質量％以上７５質量％以下であることがさらに好ましい。
電離放射線硬化性化合物の総量に対する、（ｂ）の多官能の電離放射線硬化性モノマーの量は、５質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１５質量％以下であることがより好ましく、７質量％以上１３質量％以下であることがさらに好ましい。
電離放射線硬化性化合物の総量に対する、（ｃ）多官能の電離放射線硬化性オリゴマーの量は、５０質量％以上８５質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、６５質量％以上７５質量％以下であることがさらに好ましい。
【0058】
（ａ）の単官能の電離放射線硬化性モノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する単官能モノマーは、基材との密着性を良好にしやすいため好ましい。
【0059】
（ｂ）の多官能の電離放射線硬化性モノマーのうち、２官能の電離放射線硬化性モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。３官能以上の電離放射線硬化性モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
（ｂ）の多官能の電離放射線硬化性モノマーの官能基数は、鉛筆硬度を高くしつつ硬化収縮を抑制するため、３以上５以下であることが好ましく、３以上４以下であることがより好ましく、３であることがさらに好ましい。
（ｂ）の多官能の電離放射線硬化性モノマーの官能基数は、鉛筆硬度を高くしつつ硬化収縮を抑制するため、３以上５以下であることが好ましく、３以上４以下であることがより好ましく、３であることがさらに好ましい。
【0060】
（ｃ）の多官能の電離放射線硬化性オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
【0061】
（ｃ）の多官能の電離放射線硬化性オリゴマーの官能基数は、鉛筆硬度を維持しつつ硬化収縮を抑制するため、４以上８以下であることが好ましく、５以上７以下であることがより好ましく、６であることがさらに好ましい。
（ｃ）の多官能の電離放射線硬化性オリゴマーの重量平均分子量は、鉛筆硬度を維持しつつ硬化収縮を抑制するため、１０００～５０００であることが好ましく、１１００～３５００であることがより好ましく、１２００～２０００であることがさらに好ましい。
本明細書において、重量平均分子量は、ＧＰＣ分析によって測定され、かつ標準ポリスチレンで換算された平均分子量である。
（ｃ）の多官能の電離放射線硬化性オリゴマーの重量平均分子量は、鉛筆硬度を維持しつつ硬化収縮を抑制するため、１０００～５０００であることが好ましく、１１００～３５００であることがより好ましく、１２００～２０００であることがさらに好ましい。
本明細書において、重量平均分子量は、ＧＰＣ分析によって測定され、かつ標準ポリスチレンで換算された平均分子量である。
【0062】
電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサントン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサントン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
【0063】
《添加剤》
樹脂層用塗布液は、必要に応じて、レベリング剤、屈折率調整剤、帯電防止剤、防汚剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、粘度調整剤及び熱重合開始剤等の添加剤を含んでいてもよい。
樹脂層用塗布液は、必要に応じて、レベリング剤、屈折率調整剤、帯電防止剤、防汚剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、粘度調整剤及び熱重合開始剤等の添加剤を含んでいてもよい。
【0064】
《溶媒》
樹脂層用塗布液は、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒としては、基材を溶解し得る溶媒を選択することが好ましい。但し、基材を過度に溶解すると、基材の強度が低下するため、基材の種類に応じて、適切な溶媒を選択することが好ましい。溶媒は、Ｈａｎｓｅｎ溶解度パラメータの３成分のうち、極性成分であるδｐが７．０（Ｊ／ｃｍ３）０．５以上１０．０（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下である溶媒を含むことが好ましい。δｐが７．０（Ｊ／ｃｍ３）０．５以上であることで、基材を溶解させやすくすることができ、１０．０（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下であることで、溶解させすぎないようにすることができる。トルエン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）のδｐ［（Ｊ／ｃｍ３）０．５］の値は下記の通りである。
（［トルエン:1.4、ＩＰＡ:6.1、ＭＥＫ:9.0、MIBK:6.1］）
また、溶媒は、基材の溶解性だけではなく、溶媒に固有の蒸発速度を考慮して選択することが好ましい。溶媒の蒸発速度が遅い場合、基材を過度に溶解しやすいためである。溶媒が蒸発する速度は、乾燥条件によっても制御できる。例えば、乾燥温度を高くすれば溶媒が蒸発する速度は速くなる。また、乾燥風速を速くすれば溶媒が蒸発する速度は速くなる。
以上のことから、基材の溶解性、蒸発速度、乾燥条件を考慮して、溶媒を選択することが好ましい。
樹脂層用塗布液は、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒としては、基材を溶解し得る溶媒を選択することが好ましい。但し、基材を過度に溶解すると、基材の強度が低下するため、基材の種類に応じて、適切な溶媒を選択することが好ましい。溶媒は、Ｈａｎｓｅｎ溶解度パラメータの３成分のうち、極性成分であるδｐが７．０（Ｊ／ｃｍ３）０．５以上１０．０（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下である溶媒を含むことが好ましい。δｐが７．０（Ｊ／ｃｍ３）０．５以上であることで、基材を溶解させやすくすることができ、１０．０（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下であることで、溶解させすぎないようにすることができる。トルエン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）のδｐ［（Ｊ／ｃｍ３）０．５］の値は下記の通りである。
（［トルエン:1.4、ＩＰＡ:6.1、ＭＥＫ:9.0、MIBK:6.1］）
また、溶媒は、基材の溶解性だけではなく、溶媒に固有の蒸発速度を考慮して選択することが好ましい。溶媒の蒸発速度が遅い場合、基材を過度に溶解しやすいためである。溶媒が蒸発する速度は、乾燥条件によっても制御できる。例えば、乾燥温度を高くすれば溶媒が蒸発する速度は速くなる。また、乾燥風速を速くすれば溶媒が蒸発する速度は速くなる。
以上のことから、基材の溶解性、蒸発速度、乾燥条件を考慮して、溶媒を選択することが好ましい。
【0065】
溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート等のグリコールエーテル類；セロソルブアセテート類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；等が挙げられる。溶媒は、１種単独でもよいし、２種以上の混合物であってもよい。
【0066】
アクリル樹脂基材は溶媒に溶解しやすい。このため、基材としてアクリル樹脂基材を用いる場合、溶媒に固有の蒸発速度が速い溶媒を主成分とすることが好ましい。主成分とは、溶媒の全量の５０質量％以上であることを意味し、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、最も好ましくは１００質量％である。
本明細書において、蒸発速度が速い溶媒は、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした際に、蒸発速度が１００以上の溶媒を意味する。蒸発速度が速い溶媒の蒸発速度は、１２０以上４５０以下であることがより好ましく、１４０以上４００以下であることがさらに好ましい。
蒸発速度が速い溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール（蒸発速度１５０）、メチルイソブチルケトン（蒸発速度１６０）、トルエン（蒸発速度２００）、メチルエチルケトン（蒸発速度３７０）が挙げられる。
本明細書において、蒸発速度が速い溶媒は、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした際に、蒸発速度が１００以上の溶媒を意味する。蒸発速度が速い溶媒の蒸発速度は、１２０以上４５０以下であることがより好ましく、１４０以上４００以下であることがさらに好ましい。
蒸発速度が速い溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール（蒸発速度１５０）、メチルイソブチルケトン（蒸発速度１６０）、トルエン（蒸発速度２００）、メチルエチルケトン（蒸発速度３７０）が挙げられる。
【0067】
さらに、溶媒は、分子量が小さく、極性が高い溶媒を含むことが好ましい。極性が高い溶媒は、Ｈａｎｓｅｎ溶解度パラメータのδｐが上述した範囲の溶媒が好ましい。分子量が小さく、極性が高く、かつ、上述した蒸発速度の溶媒を含むことにより、アクリル樹脂基材を適切に溶解しやすくできる。かかる溶媒としては、メチルエチルケトンが挙げられる。
メチルエチルケトンの量は、条件１又は条件２を満たしやすくするため、溶媒の全量の２０質量％以上４０質量％以下であることが好ましい。
メチルエチルケトンの量は、条件１又は条件２を満たしやすくするため、溶媒の全量の２０質量％以上４０質量％以下であることが好ましい。
【0068】
《乾燥条件》
樹脂層用塗布液から樹脂層を形成する際には、乾燥条件を制御することが好ましい。
また、本開示の防眩性積層体は、樹脂層用塗布液を２段階で乾燥することが好ましい。具体的には、１段階目の乾燥は乾燥の強度を弱くし、２段階目の乾燥は乾燥の強度を強くすることが好ましい。１段階目の強度の弱い乾燥時に、基材の溶解が進み、かつ、基材から溶出した成分と、樹脂層用塗布液の成分とが混合した混合物が形成され、かつ、前記混合物の対流時間を長くできるため、第１の粒子の厚み方向の位置の条件を満たしやすくできる。また、１段階目の乾燥の強度を弱くすることで、基材から溶出した成分と、樹脂層用塗布液の成分とが混合しやすくなり、樹脂層を単一の層にしやすくできる。そして、２段階目で強度の強い乾燥を実施することにより、基材が過度に溶解することを抑制できるため、基材の平均傾斜角及び基材の算術平均高さが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
樹脂層用塗布液から樹脂層を形成する際には、乾燥条件を制御することが好ましい。
また、本開示の防眩性積層体は、樹脂層用塗布液を２段階で乾燥することが好ましい。具体的には、１段階目の乾燥は乾燥の強度を弱くし、２段階目の乾燥は乾燥の強度を強くすることが好ましい。１段階目の強度の弱い乾燥時に、基材の溶解が進み、かつ、基材から溶出した成分と、樹脂層用塗布液の成分とが混合した混合物が形成され、かつ、前記混合物の対流時間を長くできるため、第１の粒子の厚み方向の位置の条件を満たしやすくできる。また、１段階目の乾燥の強度を弱くすることで、基材から溶出した成分と、樹脂層用塗布液の成分とが混合しやすくなり、樹脂層を単一の層にしやすくできる。そして、２段階目で強度の強い乾燥を実施することにより、基材が過度に溶解することを抑制できるため、基材の平均傾斜角及び基材の算術平均高さが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
【0069】
乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。乾燥温度及び風速の好ましい範囲は、樹脂層用塗布液の組成により異なるため一概にはいえないが、下記の条件とすることが好ましい。
＜１段階目の乾燥＞
乾燥温度は６５℃以上８５℃以下が好ましく、乾燥風速は０．５ｍ／ｓ以上２ｍ／ｓ以下が好ましい。乾燥時間は２０秒以上４０秒以下が好ましい。
＜２段階目の乾燥＞
乾燥温度は６５℃以上８５℃以下が好ましく、乾燥風速は１５ｍ／ｓ以上２５ｍ／ｓ以下が好ましい。乾燥時間は２０秒以上４０秒以下が好ましい。
＜１段階目の乾燥＞
乾燥温度は６５℃以上８５℃以下が好ましく、乾燥風速は０．５ｍ／ｓ以上２ｍ／ｓ以下が好ましい。乾燥時間は２０秒以上４０秒以下が好ましい。
＜２段階目の乾燥＞
乾燥温度は６５℃以上８５℃以下が好ましく、乾燥風速は１５ｍ／ｓ以上２５ｍ／ｓ以下が好ましい。乾燥時間は２０秒以上４０秒以下が好ましい。
【0070】
樹脂層用塗布液により基材の一部を溶解させ、かつ、基材から溶出した成分と樹脂層用塗布液とを十分に混合させやすくするため、電離放射線の照射は塗布液の乾燥後に行うことが好適である。
【0071】
＜その他の層＞
防眩性積層体は、基材及び樹脂層以外の層を有していてもよい。その他の層としては、反射防止層、防汚層及び帯電防止層等が挙げられる。
防眩性積層体は、基材及び樹脂層以外の層を有していてもよい。その他の層としては、反射防止層、防汚層及び帯電防止層等が挙げられる。
【0072】
＜光学特性、表面形状＞
防眩性積層体は、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。
全光線透過率、及び、後述するヘイズを測定する際の光入射面は、基材側とする。
防眩性積層体は、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。
全光線透過率、及び、後述するヘイズを測定する際の光入射面は、基材側とする。
【0073】
防眩性積層体は、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが、０．５％以上であることが好ましく、１．０％以上であることがより好ましく、１．５％以上であることがさらに好ましい。ヘイズを０．５％以上とすることにより、防眩性を良好にしやすくできる。
また、映像の解像度の低下を抑制しやすくするため、防眩性積層体は、ヘイズが２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましく、５％以下であることがさらに好ましい。
また、映像の解像度の低下を抑制しやすくするため、防眩性積層体は、ヘイズが２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましく、５％以下であることがさらに好ましい。
【0074】
防眩性積層体は、防眩性を良好にしやすくするため、樹脂層側の表面のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａが、０．０３μｍ以上であることが好ましく、０．０５μｍ以上であることがより好ましい。また、防眩性積層体は、映像の解像度の低下を抑制しやすくするため、樹脂層側の表面のＲａが０．１２μｍ以下であることが好ましく、０．１０μｍ以下であることがより好ましい。Ｒａは、カットオフ値０．８ｍｍにおける値を意味する。
【0075】
＜大きさ、形状等＞
防眩性積層体は、所定の大きさにカットした枚葉状の形態でもよいし、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態であってもよい。枚葉の大きさは特に限定されないが、最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。“最大径”とは、防眩性積層体の任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、防眩性積層体が長方形の場合は、長方形の対角線が最大径となる。防眩性積層体が円形の場合は、円の直径が最大径となる。
ロール状の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は５００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下、長さは５００ｍ以上５０００ｍ以下程度である。ロール状の形態の防眩性積層体は、画像表示装置等の大きさに合わせて、枚葉状にカットして用いることができる。カットする際、物性が安定しないロール端部は除外することが好ましい。
枚葉の形状も特に限定されず、例えば、三角形、四角形、五角形等の多角形であってもよいし、円形であってもよいし、ランダムな不定形であってもよい。より具体的には、防眩性積層体が四角形状である場合には、縦横比は表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、横：縦＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１、５：４、１１：８等が挙げられる。
防眩性積層体は、所定の大きさにカットした枚葉状の形態でもよいし、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態であってもよい。枚葉の大きさは特に限定されないが、最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。“最大径”とは、防眩性積層体の任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、防眩性積層体が長方形の場合は、長方形の対角線が最大径となる。防眩性積層体が円形の場合は、円の直径が最大径となる。
ロール状の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は５００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下、長さは５００ｍ以上５０００ｍ以下程度である。ロール状の形態の防眩性積層体は、画像表示装置等の大きさに合わせて、枚葉状にカットして用いることができる。カットする際、物性が安定しないロール端部は除外することが好ましい。
枚葉の形状も特に限定されず、例えば、三角形、四角形、五角形等の多角形であってもよいし、円形であってもよいし、ランダムな不定形であってもよい。より具体的には、防眩性積層体が四角形状である場合には、縦横比は表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、横：縦＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１、５：４、１１：８等が挙げられる。
【0076】
［偏光板］
本開示の偏光板は、偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第１の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第２の透明保護板とを有する偏光板であって、前記第１の透明保護板及び前記第２の透明保護板の少なくとも一方が上述した本開示の防眩性積層体である、ものである。
本開示の偏光板は、偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第１の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第２の透明保護板とを有する偏光板であって、前記第１の透明保護板及び前記第２の透明保護板の少なくとも一方が上述した本開示の防眩性積層体である、ものである。
【0077】
偏光板は、例えば、偏光板とλ／４位相差板とを組み合わせることにより反射防止性を付与するために使用される。この場合、画像表示装置の表示素子上にλ／４位相差板を配置し、λ／４位相差板よりも視認者側に偏光板が配置される。
偏光板を液晶表示装置用に用いる場合、偏光板は液晶シャッターの機能を付与するために使用される。この場合、液晶表示装置は、下側偏光板、液晶表示素子、上側偏光板の順に配置され、下側偏光板の偏光子の吸収軸と上側偏光板の偏光子の吸収軸とが直交して配置される。前記構成では、上側偏光板として本開示の偏光板を用いることが好ましい。
偏光板を液晶表示装置用に用いる場合、偏光板は液晶シャッターの機能を付与するために使用される。この場合、液晶表示装置は、下側偏光板、液晶表示素子、上側偏光板の順に配置され、下側偏光板の偏光子の吸収軸と上側偏光板の偏光子の吸収軸とが直交して配置される。前記構成では、上側偏光板として本開示の偏光板を用いることが好ましい。
【0078】
＜透明保護板＞
本開示の偏光板は、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の少なくとも一方が上述した本開示の防眩性積層体である。好ましい実施形態は、第一の透明保護板及び第二の透明保護板のうち、光出射側の透明保護板が上述した本開示の防眩性積層体である実施形態である。防眩性積層体は、防眩性積層体の基材側の面が偏光子側となるように配置することが好ましい。
本開示の偏光板は、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の少なくとも一方が上述した本開示の防眩性積層体である。好ましい実施形態は、第一の透明保護板及び第二の透明保護板のうち、光出射側の透明保護板が上述した本開示の防眩性積層体である実施形態である。防眩性積層体は、防眩性積層体の基材側の面が偏光子側となるように配置することが好ましい。
【0079】
第一の透明保護板及び第二の透明保護板の一方が上述した本開示の防眩性積層体である場合、他方の透明保護板は特に限定されないが、光学的等方性の透明保護板が好ましい。
本明細書において、光学的等方性とは、面内位相差が２０ｎｍ以下のものを指し、好ましくは１０ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下である。アクリルフィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムは、光学的等方性を付与しやすい。
本明細書において、光学的等方性とは、面内位相差が２０ｎｍ以下のものを指し、好ましくは１０ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下である。アクリルフィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムは、光学的等方性を付与しやすい。
【0080】
＜偏光子＞
偏光子としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等のシート型偏光子、平行に並べられた多数の金属ワイヤからなるワイヤーグリッド型偏光子、リオトロピック液晶や二色性ゲスト－ホスト材料を塗布した塗布型偏光子、多層薄膜型偏光子等が挙げられる。これらの偏光子は、透過しない偏光成分を反射する機能を備えた反射型偏光子であってもよい。
偏光子としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等のシート型偏光子、平行に並べられた多数の金属ワイヤからなるワイヤーグリッド型偏光子、リオトロピック液晶や二色性ゲスト－ホスト材料を塗布した塗布型偏光子、多層薄膜型偏光子等が挙げられる。これらの偏光子は、透過しない偏光成分を反射する機能を備えた反射型偏光子であってもよい。
【0081】
＜大きさ、形状等＞
本開示の偏光板の大きさ及び形状の実施形態は、上述した本開示の防眩性積層体の大きさ及び形状の実施形態が挙げられる。
本開示の偏光板の大きさ及び形状の実施形態は、上述した本開示の防眩性積層体の大きさ及び形状の実施形態が挙げられる。
【0082】
［画像表示装置］
本開示の画像表示装置は、表示素子上に上述した本開示の防眩性積層体を有するものである。
本開示の画像表示装置は、表示素子上に上述した本開示の防眩性積層体を有するものである。
【0083】
図３は、本開示の画像表示装置５００の実施形態を示す断面図である。図３の画像表示装置５００は、表示素子２００上に、本開示の防眩性積層体１００を有している。画像表示装置内において、防眩性積層体は、基材側が表示素子側を向くように配置することが好ましい。
【0084】
表示素子としては、液晶表示素子；ＥＬ表示素子（有機ＥＬ表示素子、無機ＥＬ表示素子）；プラズマ表示素子；ＱＤ（Quantum dot）を用いた表示素子；ミニＬＥＤ、マイクロＬＥＤ表示素子等のＬＥＤ表示素子；等が挙げられる。これら表示素子は、表示素子の内部にタッチパネル機能を有していてもよい。
液晶表示素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。表示素子が液晶表示素子である場合、バックライトが必要である。バックライトは、液晶表示素子の防眩性積層体が配置されている側とは反対側に配置される。
液晶表示素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。表示素子が液晶表示素子である場合、バックライトが必要である。バックライトは、液晶表示素子の防眩性積層体が配置されている側とは反対側に配置される。
【0085】
また、本開示の画像表示装置は、表示素子と防眩性積層体との間にタッチパネルを有するタッチパネル付きの画像表示装置であってもよい。この場合、タッチパネル付きの画像表示装置の最表面に防眩性積層体を配置し、かつ、防眩性積層体の基材側が表示素子側を向くように配置することが好ましい。
【0086】
画像表示装置の大きさ特に限定されないが、有効表示領域の最大径が２インチ以上５００インチ以下であることが好ましい。
画像表示装置の有効表示領域とは、画像を表示し得る領域である。例えば、画像表示装置が表示素子を囲う筐体を有する場合、筐体の内側の領域が有効画像領域となる。
有効画像領域の最大径とは、有効画像領域内の任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、有効画像領域が長方形の場合は、長方形の対角線が最大径となる。また、有効画像領域が円形の場合は、円の直径が最大径となる。
画像表示装置の有効表示領域とは、画像を表示し得る領域である。例えば、画像表示装置が表示素子を囲う筐体を有する場合、筐体の内側の領域が有効画像領域となる。
有効画像領域の最大径とは、有効画像領域内の任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、有効画像領域が長方形の場合は、長方形の対角線が最大径となる。また、有効画像領域が円形の場合は、円の直径が最大径となる。
【0087】
本開示の画像表示装置は、防眩性積層体が耐屈曲性に優れるため、フォルダブルタイプの画像表示装置又はローラブルタイプの画像表示装置であることが好ましい。
【実施例0088】
次に、本開示を実施例により更に詳細に説明するが、本開示はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」及び「％」は特に断りのない限り質量基準とする。
【0089】
１．測定及び評価
以下のように、実施例及び比較例の防眩性積層体の測定及び評価を行った。なお、各測定及び評価時の雰囲気は、温度２３±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下とした。また、各測定及び評価の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に３０分以上晒してから測定及び評価を行った。結果を表２に示す。
以下のように、実施例及び比較例の防眩性積層体の測定及び評価を行った。なお、各測定及び評価時の雰囲気は、温度２３±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下とした。また、各測定及び評価の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に３０分以上晒してから測定及び評価を行った。結果を表２に示す。
【0090】
１－１．基材の樹脂層側の表面の平均傾斜角、基材の樹脂層側の表面の算術平均高さ
明細書本文の記載に準じて、実施例及び比較例の防眩性積層体の断面が露出したサンプルを作製した。走査型透過電子顕微鏡により撮像した前記サンプルの断面写真から、明細書本文の記載に準じて、基材の樹脂層側の表面の平均傾斜角、及び、基材の樹脂層側の表面の算術平均高さを算出した。
明細書本文の記載に準じて、実施例及び比較例の防眩性積層体の断面が露出したサンプルを作製した。走査型透過電子顕微鏡により撮像した前記サンプルの断面写真から、明細書本文の記載に準じて、基材の樹脂層側の表面の平均傾斜角、及び、基材の樹脂層側の表面の算術平均高さを算出した。
【0091】
１－２．第１の粒子の位置
明細書本文の記載に準じて、実施例及び比較例の防眩性積層体の断面が露出したサンプルを作製した。走査型透過電子顕微鏡により撮像した前記サンプルの断面写真から、第２領域に存在する第１の粒子の個数基準の割合を算出した。前記割合を算出するにあたり、第１の粒子の合計数が５０を超えるまで複数の断面写真を取得した。
明細書本文の記載に準じて、実施例及び比較例の防眩性積層体の断面が露出したサンプルを作製した。走査型透過電子顕微鏡により撮像した前記サンプルの断面写真から、第２領域に存在する第１の粒子の個数基準の割合を算出した。前記割合を算出するにあたり、第１の粒子の合計数が５０を超えるまで複数の断面写真を取得した。
【0092】
１－３．樹脂層の平均厚み
明細書本文の記載に準じて、実施例及び比較例の防眩性積層体の断面が露出したサンプルを作製した。走査型透過電子顕微鏡により撮像した前記サンプルの断面写真の任意の箇所を２０点選び、その平均値により、樹脂層の平均厚みであるｔを算出した。
明細書本文の記載に準じて、実施例及び比較例の防眩性積層体の断面が露出したサンプルを作製した。走査型透過電子顕微鏡により撮像した前記サンプルの断面写真の任意の箇所を２０点選び、その平均値により、樹脂層の平均厚みであるｔを算出した。
【0093】
１－４．全光線透過率（Ｔｔ）及びヘイズ（Ｈｚ）
実施例及び比較例の防眩性積層体を１０ｃｍ四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。ヘイズメーター（ＨＭ－１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、各サンプルのＪＩＳ Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率、及びＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズを測定した。
なお、光源が安定するよう事前に装置の電源スイッチをＯＮにしてから１５分以上待ち、入口開口（測定サンプルを設置する箇所）に何もセットせずに校正を行い、その後に入口開口に測定サンプルをセットして測定した。光入射面は基材側とした。
実施例及び比較例の防眩性積層体を１０ｃｍ四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。ヘイズメーター（ＨＭ－１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、各サンプルのＪＩＳ Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率、及びＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズを測定した。
なお、光源が安定するよう事前に装置の電源スイッチをＯＮにしてから１５分以上待ち、入口開口（測定サンプルを設置する箇所）に何もセットせずに校正を行い、その後に入口開口に測定サンプルをセットして測定した。光入射面は基材側とした。
【0094】
１－５．耐屈曲性
実施例及び比較例の防眩性積層体に対して、ＪＩＳ Ｋ５６００－５－１：１９９９に規定の円筒形マンドレル法による耐屈曲性試験を行った。マンドレルの直径を徐々に小さくし、防眩性積層体に最初に割れが生じたマンドレルの直径を表２に示す。直径５ｍｍ以下が合格レベルである。マンドレルに防眩性積層体を巻き付ける際は、基材側がマンドレル側となるようにした。
実施例及び比較例の防眩性積層体に対して、ＪＩＳ Ｋ５６００－５－１：１９９９に規定の円筒形マンドレル法による耐屈曲性試験を行った。マンドレルの直径を徐々に小さくし、防眩性積層体に最初に割れが生じたマンドレルの直径を表２に示す。直径５ｍｍ以下が合格レベルである。マンドレルに防眩性積層体を巻き付ける際は、基材側がマンドレル側となるようにした。
【0095】
１－６．鉛筆硬度
実施例及び比較例の防眩性積層体を５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさにカットしたサンプルを作製した。ＪＩＳ Ｋ５６００－５－４：１９９９に準拠して、荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒の条件で、前記サンプルの樹脂層上面の鉛筆硬度を測定した。
測定には、東洋精機製作所の鉛筆硬度試験機（品番：ＮＰ型鉛筆引掻塗膜硬度試験機）を用いた。メンディングテープ（スリーエム社、品番「８１０－３－１８」）を用いて、カットしたサンプルの両端部を鉛筆硬度試験機の土台に貼り合わせた。５回の鉛筆硬度試験を行い、３回以上の傷等の外観異常が認められなかった際の硬度を、各サンプルの鉛筆硬度の値とした。例えば、２Ｈの鉛筆を用いて、５回の試験を行い、３回外観異常が生じなければ、その防眩性積層体の鉛筆硬度は２Ｈである。外観異常については、変色は含まず、傷及び凹みについて確認を行った。鉛筆硬度２Ｈ以上が合格レベルである。
実施例及び比較例の防眩性積層体を５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさにカットしたサンプルを作製した。ＪＩＳ Ｋ５６００－５－４：１９９９に準拠して、荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒の条件で、前記サンプルの樹脂層上面の鉛筆硬度を測定した。
測定には、東洋精機製作所の鉛筆硬度試験機（品番：ＮＰ型鉛筆引掻塗膜硬度試験機）を用いた。メンディングテープ（スリーエム社、品番「８１０－３－１８」）を用いて、カットしたサンプルの両端部を鉛筆硬度試験機の土台に貼り合わせた。５回の鉛筆硬度試験を行い、３回以上の傷等の外観異常が認められなかった際の硬度を、各サンプルの鉛筆硬度の値とした。例えば、２Ｈの鉛筆を用いて、５回の試験を行い、３回外観異常が生じなければ、その防眩性積層体の鉛筆硬度は２Ｈである。外観異常については、変色は含まず、傷及び凹みについて確認を行った。鉛筆硬度２Ｈ以上が合格レベルである。
【0096】
１－７．防眩性
実施例及び比較例の防眩性積層体の基材側に、厚み２５μｍの透明粘着剤層（パナック社）、商品名「パナクリーンPD-S1」、屈折率１．４９）を介して、黒色板（クラレ社、商品名「コモグラス DFA2CG 502K（黒）系」、全光線透過率０％、厚み２ｍｍ、屈折率１．４９）を貼り合わせたサンプルを作製した（サンプルの大きさ：縦１０ｃｍ×横１０ｃｍ）。前記サンプルを明室環境下（該サンプルの第一主面上の照度が５００ｌｕｘ以上１０００ｌｕｘ以下。照明：Ｈｆ３２形の直管三波長形昼白色蛍光灯）で該サンプルの第１主面の中心より直線距離５０ｃｍ上方から目視にて、被験者２０人により、観測者自身の映り込みが気にならない程度の防眩性が得られているか否かを下記の基準により評価した。評価時の照明の位置は水平台から鉛直方向２ｍ上方の高さである。被験者は３０歳代の視力０．７以上の健康なものとした。
Ａ：良好と答えた人が１４人以上
Ｂ：良好と答えた人が７人以上１３人以下
Ｃ：良好と答えた人が６人以下
実施例及び比較例の防眩性積層体の基材側に、厚み２５μｍの透明粘着剤層（パナック社）、商品名「パナクリーンPD-S1」、屈折率１．４９）を介して、黒色板（クラレ社、商品名「コモグラス DFA2CG 502K（黒）系」、全光線透過率０％、厚み２ｍｍ、屈折率１．４９）を貼り合わせたサンプルを作製した（サンプルの大きさ：縦１０ｃｍ×横１０ｃｍ）。前記サンプルを明室環境下（該サンプルの第一主面上の照度が５００ｌｕｘ以上１０００ｌｕｘ以下。照明：Ｈｆ３２形の直管三波長形昼白色蛍光灯）で該サンプルの第１主面の中心より直線距離５０ｃｍ上方から目視にて、被験者２０人により、観測者自身の映り込みが気にならない程度の防眩性が得られているか否かを下記の基準により評価した。評価時の照明の位置は水平台から鉛直方向２ｍ上方の高さである。被験者は３０歳代の視力０．７以上の健康なものとした。
Ａ：良好と答えた人が１４人以上
Ｂ：良好と答えた人が７人以上１３人以下
Ｃ：良好と答えた人が６人以下
【0097】
２．防眩性積層体の作製
［実施例１］
（基材の製造）
メタクリル酸メチルおよびアクリル酸メチルの共重合体を２軸押出機を用いて２６０℃で混錬してペレット状組成物（ガラス転移点：１３４℃）を得た。得られたペレット状組成物を、Ｔダイ（Ｔダイ温度：２６０℃）にて溶融押し出し成型し、１３０℃の冷却ロール上に吐出した。次に、延伸温度１４５℃にて、縦方向および横方向に延伸倍率１．５倍で逐次二軸延伸を行った。その後冷却して、厚み４０μｍのアクリル樹脂基材を得た。
（樹脂層の形成）
前記のアクリル樹脂基材上に、表１の実施例１の樹脂層用塗布液をマイヤーバーコーティング法により、６．０ｇ／ｍ２の塗布量で塗布した後、風速１ｍ／ｓ、温度７０℃の温風で３０秒乾燥し、１段階目の乾燥を実施した。さらに、前記塗布液を、風速２０ｍ／ｓ、温度７０℃の温風で３０秒乾燥し、２段階目の乾燥を実施した。次いで、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下にて、積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射することにより、樹脂層塗布液の電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化し、樹脂層を形成し、実施例１の防眩性積層体を得た。本明細書において、塗布量は、乾燥後の塗布量を意味する。
［実施例１］
（基材の製造）
メタクリル酸メチルおよびアクリル酸メチルの共重合体を２軸押出機を用いて２６０℃で混錬してペレット状組成物（ガラス転移点：１３４℃）を得た。得られたペレット状組成物を、Ｔダイ（Ｔダイ温度：２６０℃）にて溶融押し出し成型し、１３０℃の冷却ロール上に吐出した。次に、延伸温度１４５℃にて、縦方向および横方向に延伸倍率１．５倍で逐次二軸延伸を行った。その後冷却して、厚み４０μｍのアクリル樹脂基材を得た。
（樹脂層の形成）
前記のアクリル樹脂基材上に、表１の実施例１の樹脂層用塗布液をマイヤーバーコーティング法により、６．０ｇ／ｍ２の塗布量で塗布した後、風速１ｍ／ｓ、温度７０℃の温風で３０秒乾燥し、１段階目の乾燥を実施した。さらに、前記塗布液を、風速２０ｍ／ｓ、温度７０℃の温風で３０秒乾燥し、２段階目の乾燥を実施した。次いで、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下にて、積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射することにより、樹脂層塗布液の電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化し、樹脂層を形成し、実施例１の防眩性積層体を得た。本明細書において、塗布量は、乾燥後の塗布量を意味する。
【0098】
［実施例２～４］、［比較例１～４］
樹脂層用塗布液の組成、樹脂層用塗布液の塗布量、樹脂層用塗布液の乾燥条件を、表１に記載の組成等に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～４、及び、比較例１～４の防眩性積層体を得た。
樹脂層用塗布液の組成、樹脂層用塗布液の塗布量、樹脂層用塗布液の乾燥条件を、表１に記載の組成等に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～４、及び、比較例１～４の防眩性積層体を得た。
【0099】
【表1】
【0100】
表１中、６官能ウレタンアクリレートオリゴマーは、三菱ケミカル社のウレタンアクリレートオリゴマー（商品名：紫光 ＵＶ－７６００Ｂ、重量平均分子量：１４００）を示し、２官能アクリレートモノマーは、テトラエチレングリコールジアクリレートを示し、３官能アクリレートモノマーは、ペンタエリスリトールトリアクリレートを示し、４官能アクリレートモノマーは、ペンタエリスリトールテトラアクリレートを示し、単官能アクリレートモノマーは、４－ヒドロキシブチルアクリレートを示し、光重合開始剤は、IGM Resins B.V.社の商品名“Omnirad 184”を示す。
【0101】
【表2】
【0102】
表２の結果から、実施例の防眩性積層体は、鉛筆硬度、耐屈曲性及び防眩性が良好であることが確認できる。
一方、比較例１及び２の防眩性積層体は、第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在しないものである。比較例１の防眩性積層体は、第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在しないが、第１の粒子の含有量が多いため、防眩性は合格レベルである。しかし、比較例１の防眩性積層体は、第１の粒子の含有量が多いため、耐屈曲性の低下の原因となる、第１の粒子と樹脂層との界面が増加することにより、防眩性積層体の耐屈曲性の低下を抑制できないものであった。比較例２の防眩性積層体は、第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在せず、第１の粒子の含有量が多くないため、防眩性を良好にできないものであった。比較例１及び２の防眩性積層体は、第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在しない理由は、初期の乾燥の強度が強いことにより、塗布液の対流が十分に生じる前に溶媒が揮発してしまうため、対流により第１の粒子が樹脂層の上方に浮かび上がり難かったと考えられる。
比較例３の光学積層体は、基材の平均傾斜角及び基材の算術平均高さが大きい。すなわち、比較例３の光学積層体は、樹脂層内に基材の成分が多く溶出することにより、樹脂層の硬度が低下し、鉛筆硬度を良好にできないものであった。比較例３の光学積層体は、単官能モノマーの割合が多いため、基材の溶出が過度に進むことにより、基材の平均傾斜角及び基材の算術平均高さが大きくなったと考えられる。
比較例４の光学積層体は、基材の平均傾斜角及び基材の算術平均高さが小さいため、基材と樹脂層との密着性が悪くなることにより、耐屈曲性の低下を抑制できないものであった。比較例４の光学積層体は、単官能モノマーを含まず、かつ、極性の高いメチルエチルケトンを含まないため、基材の溶出が進まず、基材の平均傾斜角及び基材の算術平均高さが小さくなったと考えられる。なお、比較例２の光学積層体も、単官能モノマーを含まず、かつ、極性の高いメチルエチルケトンを含まないが、比較例２の光学積層体は、官能基数の少ない２官能モノマーを多量に含むため、基材を溶解していると考えられる。
一方、比較例１及び２の防眩性積層体は、第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在しないものである。比較例１の防眩性積層体は、第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在しないが、第１の粒子の含有量が多いため、防眩性は合格レベルである。しかし、比較例１の防眩性積層体は、第１の粒子の含有量が多いため、耐屈曲性の低下の原因となる、第１の粒子と樹脂層との界面が増加することにより、防眩性積層体の耐屈曲性の低下を抑制できないものであった。比較例２の防眩性積層体は、第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在せず、第１の粒子の含有量が多くないため、防眩性を良好にできないものであった。比較例１及び２の防眩性積層体は、第１の粒子の個数基準の７０％以上が第２領域に存在しない理由は、初期の乾燥の強度が強いことにより、塗布液の対流が十分に生じる前に溶媒が揮発してしまうため、対流により第１の粒子が樹脂層の上方に浮かび上がり難かったと考えられる。
比較例３の光学積層体は、基材の平均傾斜角及び基材の算術平均高さが大きい。すなわち、比較例３の光学積層体は、樹脂層内に基材の成分が多く溶出することにより、樹脂層の硬度が低下し、鉛筆硬度を良好にできないものであった。比較例３の光学積層体は、単官能モノマーの割合が多いため、基材の溶出が過度に進むことにより、基材の平均傾斜角及び基材の算術平均高さが大きくなったと考えられる。
比較例４の光学積層体は、基材の平均傾斜角及び基材の算術平均高さが小さいため、基材と樹脂層との密着性が悪くなることにより、耐屈曲性の低下を抑制できないものであった。比較例４の光学積層体は、単官能モノマーを含まず、かつ、極性の高いメチルエチルケトンを含まないため、基材の溶出が進まず、基材の平均傾斜角及び基材の算術平均高さが小さくなったと考えられる。なお、比較例２の光学積層体も、単官能モノマーを含まず、かつ、極性の高いメチルエチルケトンを含まないが、比較例２の光学積層体は、官能基数の少ない２官能モノマーを多量に含むため、基材を溶解していると考えられる。
【符号の説明】
【0103】
１０：基材
２０：樹脂層
２１：第１領域
２２：第２領域
２３：第１の粒子
１００：防眩性積層体
２００：表示素子
５００：画像表示装置
２０：樹脂層
２１：第１領域
２２：第２領域
２３：第１の粒子
１００：防眩性積層体
２００：表示素子
５００：画像表示装置
【図1】
【図2】
【図3】
