特開2022-34432易溶性ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体およびその製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022034432
(43)【公開日】2022-03-03
(54)【発明の名称】易溶性ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体およびその製造方法
(51)【国際特許分類】
C07C 25/22 20060101AFI20220224BHJP
C07C 17/12 20060101ALI20220224BHJP
C07C 49/788 20060101ALI20220224BHJP
C07C 15/20 20060101ALI20220224BHJP
C07C 15/56 20060101ALI20220224BHJP
C07C 47/546 20060101ALI20220224BHJP
C07C 69/76 20060101ALI20220224BHJP
C07C 39/12 20060101ALI20220224BHJP
C07C 321/28 20060101ALI20220224BHJP
C07C 309/66 20060101ALI20220224BHJP
C07F 7/08 20060101ALI20220224BHJP
C07D 295/135 20060101ALI20220224BHJP
【ＦＩ】
C07C25/22
C07C17/12
C07C49/788
C07C15/20
C07C15/56
C07C47/546
C07C69/76 A
C07C39/12
C07C321/28
C07C309/66
C07F7/08 C CSP
C07F7/08 Q
C07D295/135
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2020138215
(22)【出願日】2020-08-18
(71)【出願人】
【識別番号】597065329
【氏名又は名称】学校法人 龍谷大学
(74)【代理人】
【識別番号】110000914
【氏名又は名称】特許業務法人 安富国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】岩澤 哲郎
【テーマコード（参考）】
4H006
4H049
【Ｆターム（参考）】
4H006AA01
4H006AA02
4H006AB84
4H006AC30
4H006BB12
4H006BC10
4H006BC19
4H006BE53
4H006BJ50
4H006EA23
4H006FC54
4H006FE13
4H006KC30
4H006TB71
4H049VN01
4H049VP01
4H049VQ02
4H049VQ08
4H049VQ13
4H049VQ49
4H049VR24
4H049VU36
4H049VW02
(57)【要約】
【課題】有機溶媒に溶けやすく、２位と７位、または、１０位と１５位の対称的な２つの位置に選択的にハロゲノ基を有するジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を提供する。
【解決手段】下記化学式
〔化１〕
（式中、Ｒ１はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルカノイル基、アルケノイル基、アルキノイル基であり、Ｒ２はハロゲノ基である。）
で表されるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体。
【選択図】 なし
【解決手段】下記化学式
〔化１〕
で表されるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体。
【選択図】 なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記化学式
（式中、Ｒ１はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルカノイル基、アルケノイル基、アルキノイル基であり、Ｒ２はハロゲノ基である。）
で表されるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体。
【化1】
で表されるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体。
【請求項2】
Ｒ１がアルキル基であり、Ｒ２がブロモ基である、請求項１に記載のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体。
【請求項3】
（１）ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンとアルカノイルハライドをルイス酸の存在下で反応させ、１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを合成する工程、
（２）１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを還元し、１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンを合成する工程、および、
（３）１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンをハロゲン化する工程
を含む２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンの製造方法。
（２）１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを還元し、１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンを合成する工程、および、
（３）１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンをハロゲン化する工程
を含む２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンの製造方法。
【請求項4】
工程（１）で使用するジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンが、芳香環上に置換基を有していない請求項３に記載の２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンの製造方法。
【請求項5】
下記化学式：
、または、
で表されるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体。
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】
【化6】
【化7】
【化8】
【化9】
【化10】
【化11】
【化12】
【化13】
【化14】
【化15】
【化16】
【化17】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンは、機能性材料として有望な材料である。ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン構造の最大の特徴は、非平面性の高いパイ共役系構造にあり、多くの興味がもたれてきた。ここで、非平面性とは、芳香環がらせん状にねじれていることを意味し、らせん構造が薄膜トランジスターの正孔輸送物質や有機発光ダイオードの発光素子として期待されている。特に光量子物性（量子収率・励起寿命）、電子的特性、耐熱性において潜在的価値が高く、高分子材料へ組み込むことが試みられている。
【0003】
しかしながら、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンは、反応性置換基を有しておらず、機能性材料として使用するためには反応性置換基を導入する必要がある。たとえば、ハロゲン、窒素、酸素、硫黄等のヘテロ原子を導入し、該ヘテロ原子を他の置換基に変換後、末端に三員環エーテル、メタクリレート基、末端アルケン等の重合可能な置換基を導入して、重合させたり高分子の側鎖や末端に反応させたりして機能性材料を作製する必要がある。特に、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンの２位と７位、または、１０位と１５位の対称的な２つの位置に選択的にハロゲノ基、特にブロモ基を導入すると、様々な置換基に変換しやすいため、機能性材料の中間体として有用な化合物となることが期待できる。しかしながら、多環式芳香族炭化水素は有機溶媒に溶けにくいという問題がある。
【0004】
非特許文献１には、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンの２位と１０位に水酸基を、６位と１４位にｎ－ヘキシル基を有し、有機溶媒に対する溶解性が改善された化合物が開示されているが、７位と１５位に置換基を有する化合物でも、２つのブロモ基を有する化合物は開示されていない。また、非特許文献２には、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンの７位と１０位にブロモ基を、２位と１５位にｔ－ブチル基を、それぞれ有する化合物が開示されているが、２位と７位、または、１０位と１５位の両方にブロモ基を有する化合物は開示されていない。また、これらの非特許文献に記載の方法では、２位と７位、または、１０位と１５位の対称的な２つの位置に選択的にハロゲノ基を有するジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を合成することはできない。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0005】
【非特許文献1】Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１９，５８，７３８５－７３８９
【非特許文献2】Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ，２０１７，６３６，８－１４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、有機溶媒に溶けやすく、２位と７位、または、１０位と１５位の対称的な２つの位置に選択的にハロゲノ基を有するジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者は、２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンの合成方法を見出し、該化合物が有機溶媒に溶けやすいことを確認し、本発明を完成した。
【0008】
すなわち、本発明は、
下記化学式
（式中、Ｒ１はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルカノイル基、アルケノイル基、アルキノイル基であり、Ｒ２はハロゲノ基である。）
で表されるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体に関する。
下記化学式
【化1】
で表されるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体に関する。
【0009】
上記式において、Ｒ１がアルキル基であり、Ｒ２がブロモ基であることが好ましい。
【0010】
また、本発明は、
（１）ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンとアルカノイルハライドをルイス酸の存在下で反応させ、１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを合成する工程、
（２）１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを還元し、１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンを合成する工程、および、
（３）１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンをハロゲン化する工程
を含む２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンの製造方法に関する。
（１）ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンとアルカノイルハライドをルイス酸の存在下で反応させ、１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを合成する工程、
（２）１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを還元し、１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンを合成する工程、および、
（３）１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンをハロゲン化する工程
を含む２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンの製造方法に関する。
【0011】
工程（１）で使用するジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンが、芳香環上に置換基を有していないことが好ましい。
【0012】
さらに、本発明は、
下記化学式：
、または、
で表されるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体に関する。
下記化学式：
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】
【化6】
【化7】
【化8】
【化9】
【化10】
【化11】
【化12】
【化13】
【化14】
【化15】
【化16】
【化17】
【発明の効果】
【0013】
本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体は、有機溶媒に対する溶解性が高く、特定の位置にハロゲノ基を有するので、多彩かつ多様な官能基の導入が可能となり、クロスカップリング反応やリチウム－ハロゲン交換反応による精密な置換反応を行うことで、新化合物を生み出すことが可能となる。たとえば、該誘導体から、二つのアルキル基、二つのトリフラート基、二つのクロロ基を、それぞれの位置を定めて導入した６置換型のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を合成でき、トリフラート基とクロロ基は様々な官能基に変換することができ、クロスカップリング反応やリチウム－ハロゲン交換反応による精密な置換反応を行うことで、様々な新化合物を生み出すことが可能となる。このように、本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体、および、その製造方法は、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンを基軸とした新しい機能性材料を生み出すきっかけとなる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【図1】（ａ）化合物１２のＯＲＴＥＰ図において、４つの炭素原子（Ｃ０１７、Ｃ０２Ｑ、Ｃ０３Ｗ、Ｃ０３Ｄ）によって決定されるねじれ角度を示す図である。（ｂ）化合物１２のＯＲＴＥＰ図の上面図である。（ｃ）ねじれ角度４７．１３°で記載したブチル基側フィヨルド領域からの側面図（ＣＦ３基は省略）である。（ｄ）ベイエリア領域からの側面図（Ｔｆおよびブチル基のＣ３Ｈ７部位は省略）である。
【発明を実施するための形態】
【0015】
第１の本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体は、
下記化学式
（式中、Ｒ１はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルカノイル基、アルケノイル基、アルキノイル基であり、Ｒ２はハロゲノ基である。）
で表される。
下記化学式
【化18】
で表される。
【0016】
ここで、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンは、下記化学式
で表される化合物である。各炭素の置換位置を図中に示す。
【化19】
【0017】
Ｒ１におけるアルキル基としては、置換基を有していてもよい直鎖状又は分枝状のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は１～１２が好ましく、３～８がより好ましい。例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｎ－ペンチル、２，２－ジメチルプロピル、ｎ－ヘキシル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル等が挙げられ、ｎ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｎ－ペンチル、２，２－ジメチルプロピル、ｎ－ヘキシル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチルが好ましい。アルケニル基は、前記アルキル基の内部または末端に二重結合を有する基であり、アルキニル基は、前記アルキル基の内部または末端に三重結合を有する基である。
【0018】
Ｒ１におけるアルカノイル基としては、置換基を有していてもよい直鎖状又は分枝状のアルカノイル基が挙げられる。アルカノイル基の炭素数は１～１２が好ましく、３～８がより好ましい。例えば、メタノイル、エタノイル、プロパノイル、ｎ－ブタノイル、２―メチルプロパノイル、ｎ－ペンタノイル、２，２－ジメチルプロパノイル、ｎ－ヘキサノイル、ｎ－ヘプタノイル、ｎ－オクタノイル、ｎ－ノナノイル、ｎ－デカノイル、ｎ－ウンデカノイル、ｎ－ドデカノイル等が挙げられ、プロパノイル、ｎ－ブタノイル、２―メチルプロパノイル、ｎ－ペンタノイル、２，２－ジメチルプロパノイル、ｎ－ヘキサノイル、ｎ－ヘプタノイル、ｎ－オクタノイルが好ましい。アルケノイル基は、前記アルカノイル基の内部または末端に二重結合を有する基であり、アルキノイル基は、前記アルカノイル基の内部または末端に三重結合を有する基である。
【0019】
Ｒ２におけるハロゲノ基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基が挙げられ、ブロモ基が好ましい。
【0020】
上記誘導体の中でも、Ｒ１がアルキル基であり、Ｒ２がブロモ基である化合物が好ましい。
【0021】
本発明の２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンの製造方法は、
（１）ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンとアルカノイルハライドをルイス酸の存在下で反応させ、１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを合成する工程、
（２）１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを還元し、１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンを合成する工程、および、
（３）１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンをハロゲン化する工程
を含む。
（１）ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンとアルカノイルハライドをルイス酸の存在下で反応させ、１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを合成する工程、
（２）１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを還元し、１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンを合成する工程、および、
（３）１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンをハロゲン化する工程
を含む。
【0022】
工程（１）
工程（１）で使用するジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンとしては、芳香環上に置換基を有していない化合物や、置換基を有する化合物を使用することができるが、立体障害が最も小さいという点で、芳香環上に置換基を有していない化合物が好ましい。置換基としては特に限定されないが、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルスルフィド基、水酸基などが挙げられる。なかでもアルコキシ基が好ましく、アルコキシ基の中でも、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。置換基の置換位置は特に限定されないが、アルキル基、アルカノイル基、ハロゲノ基が導入される２、７、１０、１５位以外の置換位置が挙げられる。
工程（１）で使用するジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンとしては、芳香環上に置換基を有していない化合物や、置換基を有する化合物を使用することができるが、立体障害が最も小さいという点で、芳香環上に置換基を有していない化合物が好ましい。置換基としては特に限定されないが、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルスルフィド基、水酸基などが挙げられる。なかでもアルコキシ基が好ましく、アルコキシ基の中でも、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。置換基の置換位置は特に限定されないが、アルキル基、アルカノイル基、ハロゲノ基が導入される２、７、１０、１５位以外の置換位置が挙げられる。
【0023】
アルカノイルハライドとしては、前述のアルカノイル基に対応する塩化アルカノイルを使用することができ、例えば、プロパノイルクロライド、塩化ブチリルなどが挙げられる。アルカノイルハライドの使用量は、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンに対して２～４当量が好ましく、４当量がより好ましい。２当量未満では、アルカノイル基が一つ入った化合物と二つ入った化合物の混合物となり、４当量を超えると、アルカノイル基がジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンに二つ以上置換されることは無く、過剰の塩化アルカノイルが無駄となる傾向がある。
【0024】
ルイス酸としては、たとえば塩化アルミニウムなどが挙げられる。ルイス酸の使用量は、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンに対して２～４当量が好ましく、４当量がより好ましい。２当量未満では、アルカノイル基が一つ入った化合物と二つ入った化合物の混合物となり、４当量を超えると、アルカノイル基がジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンに二つ以上置換されることは無く、過剰の塩化アルカノイルが無駄となる傾向がある。
【0025】
上記の条件でアシル化反応を行うことにより、１０位と１５位（または２位と７位）に位置選択的にアルカノイル基を導入することができる。
【0026】
工程（２）
１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを還元する方法は特に限定されず、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム等の金属水素化物を用いる還元反応などが挙げられる。反応条件も適宜選択することができる。例えば、水素化ホウ素ナトリウムを使用する場合、塩化アルミニウムを併用して公知の方法で還元すればよい。
１０，１５－ジアルカノイルジベンゾクリセンを還元する方法は特に限定されず、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム等の金属水素化物を用いる還元反応などが挙げられる。反応条件も適宜選択することができる。例えば、水素化ホウ素ナトリウムを使用する場合、塩化アルミニウムを併用して公知の方法で還元すればよい。
【0027】
工程（３）
１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンをハロゲン化する方法は特に限定されず、例えば、１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンを臭素と接触させて臭素化する方法、塩素と接触させて塩素化する方法、ヨウ素と接触させてヨウ素化する方法などが挙げられる。反応条件も適宜選択することができる。
１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンをハロゲン化する方法は特に限定されず、例えば、１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンを臭素と接触させて臭素化する方法、塩素と接触させて塩素化する方法、ヨウ素と接触させてヨウ素化する方法などが挙げられる。反応条件も適宜選択することができる。
【0028】
工程（３）により、式
（式中、Ｒ１ははアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルカノイル基、アルケノイル基、アルキノイル基であり、Ｒ２はハロゲノ基である。）
で表される２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンを得る。
【化20】
で表される２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンを得る。
【0029】
２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンは、有機溶媒への溶解性に優れるため、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を製造する原料として好適である。２つのブロモ基を同一の置換基に変換して対称性を有する誘導体とすることも、異なる置換基に変換して非対称の誘導体とすることも可能である。
【0030】
第２の本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体は、下記化学式：
、または、
で表されることを特徴とする。
【化21】
【化22】
【化23】
【化24】
【化25】
【化26】
【化27】
【化28】
【化29】
【化30】
【化31】
【化32】
【化33】
【化34】
【化35】
【化36】
【0031】
化合物２は、本発明の２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジアルキルジベンゾクリセンの製造方法の工程（１）において、アルカノイルハライドとして塩化ブチリルを使用することにより得ることができる。化合物３は、上記製造方法の工程（２）において化合物２を還元することにより得ることができる。化合物１は、上記製造方法の工程（３）において化合物３を臭素化することにより得ることができる。化合物４は、例えばパラジウム触媒を用いて化合物１とアセチレンをクロスカップリング反応させることにより得ることができる。化合物５は、例えばパラジウム触媒を用いて化合物１とピロリジンをクロスカップリング反応させることにより得ることができる。化合物６は、化合物１のブロモ基を例えばｎ－ブチルリチウムを用いてリチオ化した後、例えばジメチルホルムアミドと反応させることにより得ることができる。化合物７は、化合物１のブロモ基をリチオ化し、次いで例えば二酸化炭素を求電子剤として反応させてジカルボン酸とした後、例えばヨードメタンと反応させることにより得ることができる。化合物８は、化合物１のブロモ基をリチオ化し、次いで例えば塩化ジメチルシランと反応させてビスジメチルシラン体とした後、例えばメタノールと反応させてジメトキシシリル体とし、さらに例えば過酸化水素を用いてフレミング－玉尾酸化することにより得ることができる。
【0032】
化合物９ｂは電子供与性基と電子求引性基を有するいわゆる「プッシュ－プル型」の構造体であり、電子の流れに応答可能な色素材料となりうる。化合物９ｂの原料となる化合物９ａは、化合物１の一方のブロモ基をリチオ化し、次いで例えば二酸化炭素を求電子剤として反応させた後、例えばヨードメタンと反応させることにより得ることができる。なお、一方のブロモ基のみリチオ化するには、ｎ－ブチルリチウムの添加量や反応温度を適宜調節すればよい。化合物９ｂは、例えばパラジウム触媒を用いて化合物９ａをピロリジンとクロスカップリング反応させることにより得ることができる。
【0033】
化合物１０ａは、化合物１の一方のブロモ基をリチオ化した後、例えば塩化トリメチルシリルと反応させることにより得ることができる。化合物１０ｂは、化合物１０ａのブロモ基をリチオ化した後、例えばジメチルジスルフィドを求電子剤として反応させることにより得ることができる。化合物１０ｃは、化合物１０ｂと例えば一塩化ヨウ素を反応させることにより得ることができる。化合物１０ｄは、化合物１０ｃに対しシアン化銅を用いたローゼンムント・フォンブラウン反応を行うことにより得ることができる。
【0034】
化合物１１は、化合物８と例えば一塩化ヨウ素を反応させることにより得ることができる。化合物１２は、例えばトリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ２Ｏ）を用いて化合物１１の水酸基をトリフラート化することにより得ることができる。化合物１２はトリフルオロメチルスルホニル基とクロロ基を持ち合わせていることから、パラジウム触媒クロスカップリング等により、トリフルオロメチルスルホニル基とクロロ基それぞれを選択的にさまざまな置換基に変換しうることが期待できる。
【0035】
本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体は、高分子材料、光機能性材料、電子材料の分野に適用される。具体的には、リソグラフィー用材料、有機ＥＬ用材料、接着剤等の樹脂用材料、スーパーエンジニアリングプラスティック用材料等が挙げられる。特に、薄膜トランジスターの正孔輸送物質や有機発光ダイオードの発光素子や、その前駆体の化合物として応用可能である。また、本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体の製造方法によれば、本発明の化合物を異性体の副生成をほとんど起こすこと無く、選択的かつ簡便に作製することができる。
【実施例0036】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されない。
【0037】
実施例において、禁水反応はアルゴンまたは窒素雰囲気下で行なっており、特に断りのない限り実験は禁水条件で実施した。購入した無水溶媒・試薬は、改めて精製して純度を向上させることなく使用した。薄層クロマトグラフィーとしてＭｅｒｃｋ ｓｉｌｉｃａ ６０Ｆ２５４を使用し、カラムクロマトグラフィーとしてシリカゲル６０Ｎ（関東化学（株）製）を用いた。高分解能質量測定（ＨＲＭＳ）として飛行時間型質量分析法（ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦまたはＬＣＭＳ－ＩＴ－ＴＯＦ）または直接質量分析法（ＤＡＲＴ－ＭＳ）のいずれかを用いた。
【0038】
１Ｈ－ＮＭＲ、１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルについては、５ｍｍのＱＮＰプローブを用い、それぞれ４００ＭＨｚ、１００ＭＨｚで測定した。化学シフト値はδ（ｐｐｍ）で示しており、それぞれの溶媒中での基準値は１Ｈ－ＮＭＲ：ＣＨＣｌ３（７．２６），ＣＨ２Ｃｌ２（５．３２）、ＤＭＳＯ（２．５０）；１３Ｃ－ＮＭＲ：ＣＤＣｌ３（７７．０）、ＤＭＳＯ（３９．５）としている。分裂のパターンは、ｓ：単一線、ｄ：二重線、ｔ：三重線、ｑ：四重線、ｍ：多重線、ｂｒ：幅広線で示す。
【0039】
合成例１（ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンの合成）
【化37】
【0040】
１Ｌフラスコに９－フルオレノン（８０ｇ，４４４ｍｍｏｌ）と亜リン酸トリエチル（１５３ｍＬ，８８８ｍｍｏｌ）を加え、１７５℃で撹拌した。２４時間後、反応溶液を６０℃まで放冷し、水（１６０ｍＬ，８．８８ｍｍｏｌ）を１０分かけて加え、８０℃に昇温し、残っている亜リン酸トリエチルを加水分解させた。さらに１２時間撹拌後、反応溶液を濾取し、メタノール（５００ｍＬ）で洗浄した。得られた固体をメタノール（２５２ｍＬ， ６．２１ｍｏｌ）中で１時間還流し、再度メタノール（４００ｍＬ）を用いて濾取操作を行った。得られたサンプルをロータリーエバポレーターで乾燥させ（７０℃、３０分）、スピロケトン体を４９．７ｇ（収率６５％）の黄色固体として得た。
【0041】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．２０（ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．２Ｈｚ，１Ｈ），８．１０（ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．８１－７．７７（ｍ，３Ｈ），７．４５（ｄｄｄ，Ｊ＝７．８，７．８，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．４１－７．３５（ｍ，３Ｈ），７．１８（ｄｄｄ，Ｊ＝７．６，７．６，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．１８（ｄｄｄ，Ｊ＝７．８，７．８，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．０８（ｄｄｄ，Ｊ＝７．８，７．８，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄｄｄ，Ｊ＝７．８，７．８，１．２Ｈｚ，２Ｈ），６．６１（ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．２Ｈｚ，１Ｈ）ｐｐｍ
１３Ｃ－ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９７．６，１４７．４（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１４２．０，１３８．４，１３５．２，１３０．９，１３０．４，１２９．６，１２８．９，１２８．７（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１２８．６，１２８．４，１２８．３（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１２５．１（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１２４．５，１２３．６，１２０．９（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），６９．０ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：３４５［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３０６８，１６８６（Ｃ＝Ｏ），１６０３，１４７８，１４４７，１２５６，１１３２，７４６，７１８ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２６Ｈ１７Ｏ：３４５．１２７９，Ｆｏｕｎｄ；３４５．１２７６
１３Ｃ－ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９７．６，１４７．４（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１４２．０，１３８．４，１３５．２，１３０．９，１３０．４，１２９．６，１２８．９，１２８．７（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１２８．６，１２８．４，１２８．３（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１２５．１（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１２４．５，１２３．６，１２０．９（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），６９．０ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：３４５［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３０６８，１６８６（Ｃ＝Ｏ），１６０３，１４７８，１４４７，１２５６，１１３２，７４６，７１８ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２６Ｈ１７Ｏ：３４５．１２７９，Ｆｏｕｎｄ；３４５．１２７６
【0042】
得られたスピロケトン体はこれ以上精製することなく、次の反応に供した。５００ｍＬフラスコにスピロケトン（３０ｇ，８７．１ｍｍｏｌ）、トルエン（１３２ｍＬ）、メタノール（２４ｍＬ）を加え、４５℃に昇温した。フラスコにゆっくりと水素化ホウ素ナトリウム（１．３２ｇ，３４．８ｍｍｏｌ）を３０分かけて加え（１８９ｍｇずつ７回に分けて５分ごとに加える）、１時間攪拌した。アセトン（０．６４ｍＬ，８．４ｍｍｏｌ）を用いて反応を停止させ、さらに３０分撹拌した。水（１００ｍＬ×３）を用いて有機層を洗浄後、５００ｍＬフラスコに移し１２０℃に昇温し水の共沸除去を行った。そこにメタンスルホン酸（０．０６ｍＬ，０．８７ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌後、二度目の水の共沸除去を反応溶媒であるトルエンを利用して行い、反応溶液を室温まで降温させると結晶が析出した。その結晶がジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンであり、２３．５ｇ（収率８２％）の黄色結晶として得た。この化合物の物理データは、東京化成工業株式会社の当該商品と完全に一致した。
【0043】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．７２（ｄｄ，Ｊ＝８．０，１．３Ｈｚ，４Ｈ）、８．７１（ｄｄ，Ｊ＝８．０，１．３Ｈｚ，４Ｈ），７．６９（ｄｄｄ，Ｊ＝８．０，８．０，１．３Ｈｚ，４Ｈ），７．６４（ｄｄｄ，Ｊ＝８．０，８．０，１．３Ｈｚ，４Ｈ）ｐｐｍ
１３Ｃ－ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１３０．８，１２９．２，１２８．９，１２７．４，１２６．５（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１２３．６ｐｐｍ
１３Ｃ－ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１３０．８，１２９．２，１２８．９，１２７．４，１２６．５（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１２３．６ｐｐｍ
【0044】
実施例１（２，７－ジハロゲノ－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンの合成）
【化38】
【0045】
工程（１）
１０，１５－ジブタノイルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物２）
アルゴン雰囲気下、２００ｍＬの二つ口フラスコに塩化アルミニウム（８．５３ｇ，６４ｍｍｏｌ）、塩化メチレン（４０ｍＬ）とノルマルブチリルクロリド（６．６９ｍＬ，６４ｍｍｏｌ）を加えた。その溶液を１５分撹拌した後、合成例１で合成したジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（５．２５ｇ，１６ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１時間撹拌後、０℃下で１Ｍ塩酸（１２０ｍＬ）をゆっくり加えて（１０分）反応を停止させた。水層に対して塩化メチレンで抽出操作（４０ｍＬ×３）を行い、合わせた有機層を水（１００ｍＬ×２）と飽和食塩水（１００ｍＬ×１）でそれぞれ洗浄後、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、８．１１ｇの粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒：トルエン／塩化メチレン＝２／１）を行い７．１６ｇの黄色固体を得た。再沈殿操作（塩化メチレン／メタノール＝１／８，ｖ／ｖ）を行い、６．５２ｇ（８７％）の黄色固体を得た後、プロピオニトリルで再結晶操作（１０．７ｍＬ／ｇ）を行い、５．７４ｇ（収率７７％）の化合物２を白黄色結晶として得た。
１０，１５－ジブタノイルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物２）
アルゴン雰囲気下、２００ｍＬの二つ口フラスコに塩化アルミニウム（８．５３ｇ，６４ｍｍｏｌ）、塩化メチレン（４０ｍＬ）とノルマルブチリルクロリド（６．６９ｍＬ，６４ｍｍｏｌ）を加えた。その溶液を１５分撹拌した後、合成例１で合成したジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（５．２５ｇ，１６ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１時間撹拌後、０℃下で１Ｍ塩酸（１２０ｍＬ）をゆっくり加えて（１０分）反応を停止させた。水層に対して塩化メチレンで抽出操作（４０ｍＬ×３）を行い、合わせた有機層を水（１００ｍＬ×２）と飽和食塩水（１００ｍＬ×１）でそれぞれ洗浄後、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、８．１１ｇの粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒：トルエン／塩化メチレン＝２／１）を行い７．１６ｇの黄色固体を得た。再沈殿操作（塩化メチレン／メタノール＝１／８，ｖ／ｖ）を行い、６．５２ｇ（８７％）の黄色固体を得た後、プロピオニトリルで再結晶操作（１０．７ｍＬ／ｇ）を行い、５．７４ｇ（収率７７％）の化合物２を白黄色結晶として得た。
【0046】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．３３（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，２Ｈ），８．８０（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．６９（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），８．６７（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），８．１８（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．６Ｈｚ，２Ｈ），７．７７（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．６９（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．１９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．９１（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．１１（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）２００．４，１３４．９，１３２．２，１３１．６，１３１．５，１３１．３，１２９．５，１２９．４，１２９．０，１２７．９，１２７．５３，１２７．５２，１２５．８，１２４．３，１２４．１，４１．１，１８．３，１４．３ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：４６９［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５６，２９２８，１８７３，１６７８，１５９５，１１８９，７３５ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２９Ｏ２：４６９．２１６８［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：４６９．２１６８
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）２００．４，１３４．９，１３２．２，１３１．６，１３１．５，１３１．３，１２９．５，１２９．４，１２９．０，１２７．９，１２７．５３，１２７．５２，１２５．８，１２４．３，１２４．１，４１．１，１８．３，１４．３ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：４６９［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５６，２９２８，１８７３，１６７８，１５９５，１１８９，７３５ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２９Ｏ２：４６９．２１６８［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：４６９．２１６８
【0047】
工程（２）
１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物３）
アルゴン雰囲気下、３００ｍＬのフラスコに、工程（１）で得た化合物２（３．７５ｇ，８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（８０ｍＬ）、塩化アルミニウム（５．７６ｇ，４３．２ｍｍｏｌ）及び水素化ホウ素ナトリウム（２．９１ｇ，７６．８ｍｍｏｌ）を順に加えた。還流条件下１２時間反応後、室温まで冷却した。さらに冷却し、０℃下で１Ｍ塩酸（１００ｍＬ）を１０分かけて滴下して反応を停止させた。水層に対してトルエンで抽出操作（３０ｍＬ×３）を行い、合わせた有機層を水（１００ｍＬ×１）と飽和食塩水（１００ｍＬ×１）でそれぞれ洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、４．５５ｇの粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒：ヘキサン／塩化メチレン＝１９／１）を行い、２．７４ｇ（収率７８％）の化合物３を白色固体として得た。
１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物３）
アルゴン雰囲気下、３００ｍＬのフラスコに、工程（１）で得た化合物２（３．７５ｇ，８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（８０ｍＬ）、塩化アルミニウム（５．７６ｇ，４３．２ｍｍｏｌ）及び水素化ホウ素ナトリウム（２．９１ｇ，７６．８ｍｍｏｌ）を順に加えた。還流条件下１２時間反応後、室温まで冷却した。さらに冷却し、０℃下で１Ｍ塩酸（１００ｍＬ）を１０分かけて滴下して反応を停止させた。水層に対してトルエンで抽出操作（３０ｍＬ×３）を行い、合わせた有機層を水（１００ｍＬ×１）と飽和食塩水（１００ｍＬ×１）でそれぞれ洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、４．５５ｇの粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒：ヘキサン／塩化メチレン＝１９／１）を行い、２．７４ｇ（収率７８％）の化合物３を白色固体として得た。
【0048】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．７１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），８．６９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），８．６１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），８．４９（ｓ，２Ｈ），７．６８－７．５９（ｍ，４Ｈ），７．４７（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．４Ｈｚ，２Ｈ），２．９１（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．８０（ｔｔ，Ｊ＝７．４，７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．４８（ｔｑ，Ｊ＝７．４，７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．００（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４４．４，１３１．２，１３０．９，１２９．７，１２９．１，１２９．０，１２８．０，１２７．６，１２７．５，１２６．５，１２６．４，１２３．８，１２３．１，３６．３，３４．１，２２．８，１４．４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：４４１［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３０６４，２９５２，２９２５，２８５４，１６１３，１４３４，８２８，７６４ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３３：４４１．２５７７［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：４４１．２６００
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４４．４，１３１．２，１３０．９，１２９．７，１２９．１，１２９．０，１２８．０，１２７．６，１２７．５，１２６．５，１２６．４，１２３．８，１２３．１，３６．３，３４．１，２２．８，１４．４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：４４１［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３０６４，２９５２，２９２５，２８５４，１６１３，１４３４，８２８，７６４ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３３：４４１．２５７７［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：４４１．２６００
【0049】
工程（３）
２，７－ジブロモ－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物１）
アルゴン雰囲気下、１００ｍＬフラスコに、工程（２）で得た化合物３（２．２ｇ，５．０ｍｍｏｌ）と塩化メチレン（２０ｍＬ）を加えた。－２０℃下で１５分撹拌後、臭素（０．５１ｍＬ，１０．０ｍｍｏｌ，４．２Ｍ塩化メチレン溶液）を５分かけて滴下した。室温に戻して３０分撹拌後、０℃下で１Ｍチオ硫酸ナトリウム（２０ｍＬ）を滴下して反応を停止させた。水層に対して塩化メチレンで抽出操作（２０ｍＬ×３）を行い、合わせた有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ×１）で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、２．９４ｇの粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒：ヘキサン／トルエン＝９／１）を行い、２．８４ｇの黄色固体を得た。再沈殿操作（塩化メチレン／メタノール＝１／８，ｖ／ｖ）を行い、２．６２ｇの黄白色固体を得た後、プロピオニトリルで再結晶操作（２８．３ｍＬ／ｇ）を行い、２．３４ｇ（収率７８％）の化合物１を白色結晶として得た。
２，７－ジブロモ－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物１）
アルゴン雰囲気下、１００ｍＬフラスコに、工程（２）で得た化合物３（２．２ｇ，５．０ｍｍｏｌ）と塩化メチレン（２０ｍＬ）を加えた。－２０℃下で１５分撹拌後、臭素（０．５１ｍＬ，１０．０ｍｍｏｌ，４．２Ｍ塩化メチレン溶液）を５分かけて滴下した。室温に戻して３０分撹拌後、０℃下で１Ｍチオ硫酸ナトリウム（２０ｍＬ）を滴下して反応を停止させた。水層に対して塩化メチレンで抽出操作（２０ｍＬ×３）を行い、合わせた有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ×１）で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、２．９４ｇの粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒：ヘキサン／トルエン＝９／１）を行い、２．８４ｇの黄色固体を得た。再沈殿操作（塩化メチレン／メタノール＝１／８，ｖ／ｖ）を行い、２．６２ｇの黄白色固体を得た後、プロピオニトリルで再結晶操作（２８．３ｍＬ／ｇ）を行い、２．３４ｇ（収率７８％）の化合物１を白色結晶として得た。
【0050】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．７９（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），８．５６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），８．３８（ｄ，Ｊ＝８．５，２Ｈ），８．３７（ｓ，２Ｈ），７．６６（ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４８（ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ，１Ｈ），２．９０（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．７９（ｔｔ，Ｊ＝７．４，７．４，４Ｈ），１．４８（ｔｑ，Ｊ＝７．４，７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．００（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４１．６，１３１．８，１２９．７，１２９．４，１２９．０，１２８．６，１２７．８，１２７．７，１２７．２，１２７．１，１２６．２，１２４．７，１２２．７，１２０．３，３６．１，３３．８，２２．８，１４．２ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５９９［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，２９２０，２８５３，１４１３，１０８５，９１８，８６３，８１２，５６２ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３１Ｂｒ２：５９９．０７７２［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５９９．０７８８
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３０Ｂｒ２：Ｃ，６８．２４；Ｈ，５．０５．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６７．８８；Ｈ，５．１０
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４１．６，１３１．８，１２９．７，１２９．４，１２９．０，１２８．６，１２７．８，１２７．７，１２７．２，１２７．１，１２６．２，１２４．７，１２２．７，１２０．３，３６．１，３３．８，２２．８，１４．２ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５９９［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，２９２０，２８５３，１４１３，１０８５，９１８，８６３，８１２，５６２ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３１Ｂｒ２：５９９．０７７２［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５９９．０７８８
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３０Ｂｒ２：Ｃ，６８．２４；Ｈ，５．０５．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６７．８８；Ｈ，５．１０
【0051】
＜溶解度測定＞
アルキル基がついていない無置換のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンを１ミリモル溶解させるのに必要な塩化メチレンは１００ミリリットルであった。これに対し、二つのアルキル基をもつ１ミリモルの１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンを溶解させるのに必要な塩化メチレンは３ミリリットルであった。およそ３３倍の溶解度の向上が認められた。
アルキル基がついていない無置換のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンを１ミリモル溶解させるのに必要な塩化メチレンは１００ミリリットルであった。これに対し、二つのアルキル基をもつ１ミリモルの１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンを溶解させるのに必要な塩化メチレンは３ミリリットルであった。およそ３３倍の溶解度の向上が認められた。
【0052】
実施例２
２，７－ジエチニル－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物４）
２，７－ジエチニル－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物４）
【化39】
【0053】
化合物１（２４０ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）をトルエン（３．０ｍＬ）とトリエチルアミン（３．０ｍＬ）に溶解し、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（２８ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（１５．２ｍｇ，０．０８ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２１ｍｇ，０．０８ｍｍｏｌ）及びトリメチルシリルアセチレン（０．３３ｍＬ，２．４ｍｍｏｌ）を加えた。７０℃下で１４時間撹拌後、セライトとフロリジルを用いて濾過し（展開溶媒：トルエン２０ｍＬ）、濾液を除媒濃縮した。得られた反応生成物をトルエン（２０ｍＬ）で希釈し、１００ｍＬの分液漏斗を用いて水（２０ｍＬ×３）と飽和食塩水（２０ｍＬ×３）で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、茶色の粗生成物を３２０ｍｇ得た。
【0054】
この粗生成物にＴＨＦ（４ｍＬ）、メタノール（４ｍＬ）及び炭酸カリウム（５１４ｍｇ，３．７２ｍｍｏｌ）を加え、室温下で１時間撹拌後、薄層クロマトグラフィーで出発原料の消失を確認した。得られた反応生成物をトルエンで希釈し、セライト濾過を行った。飽和塩化アンモニウム水溶液（４０ｍＬ）で反応を停止させ、２００ｍＬの分液漏斗を用いて水（４０ｍＬ×３）と飽和食塩水（４０ｍＬ×３）で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、茶色固体の粗生成物を２１６ｍｇ得た。シリカゲルを用いたカラム精製（展開溶媒：ヘキサン／トルエン＝９／１）を行い、１４３ｍｇ（収率７３％）の化合物４を橙色固体として得た。
【0055】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．８２（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，２Ｈ），８．５５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），８．５０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），８．４３（ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．６Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．４Ｈｚ，２Ｈ），３．２６（ｓ，２Ｈ），２．９０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，４Ｈ），１．７９（ｔｑ，Ｊ＝７．５，７．５Ｈｚ，４Ｈ），１．４９（ｔｑ，Ｊ＝７．５，７．５Ｈｚ，４Ｈ），１．０１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４２．２，１３０．５４，１３０．５２，１２９．７，１２９．６，１２９．４，１２９．２，１２８．７，１２８．１，１２８．０，１２７．５，１２５．６，１２３．２，１１９．８，８４．６，７８．２，３６．３，３４．１，２２．９，１４．４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：４８９
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３２８４，２９５２，２９２４，２８４８，２０９７，１６１０，１４５６，１４２４，８２０，５９０ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ３３：４８９．２５８２［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ；４８９．２５８３
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ３２：Ｃ，９３．４０；Ｈ，６．６０．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，９３．３９；Ｈ，６．７１
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４２．２，１３０．５４，１３０．５２，１２９．７，１２９．６，１２９．４，１２９．２，１２８．７，１２８．１，１２８．０，１２７．５，１２５．６，１２３．２，１１９．８，８４．６，７８．２，３６．３，３４．１，２２．９，１４．４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：４８９
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３２８４，２９５２，２９２４，２８４８，２０９７，１６１０，１４５６，１４２４，８２０，５９０ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ３３：４８９．２５８２［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ；４８９．２５８３
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ３２：Ｃ，９３．４０；Ｈ，６．６０．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，９３．３９；Ｈ，６．７１
【0056】
実施例３
２，７－ジ（１－ピロリジニル）－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物５）
２，７－ジ（１－ピロリジニル）－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物５）
【化40】
【0057】
シュレンク管にトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（７３ｍｇ，０．０８ｍｍｏｌ）、２，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）－１，１－ビナフチル（１４９ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）とナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド（２３１ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加えた後に、アルゴンガスを充填した。トルエン（１６ｍＬ）を加え、１５分間撹拌した。その後、化合物１（４７９ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）を加えてさらに１分間撹拌し、ピロリジン（０．２６ｍＬ，３．２ｍｍｏｌ）を加えた。９０℃までゆっくり昇温し、１４時間撹拌後に降温して反応を停止させ、セライトとフロリジルを用いて濾過した。得られた粗生成物を、シリカゲルを用いた濾過カラムで精製し（展開溶媒：ヘキサン／塩化メチレン＝４／１）、３８２ｍｇ（収率８３％）の化合物５を橙色がかった黄色固体として得た。
【0058】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．３９（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），８．６８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．５８（ｄｄ，Ｊ＝８．４，８．４Ｈｚ，２Ｈ），８．５５（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ），８．４５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．１Ｈｚ，２Ｈ），６．９９（ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．３Ｈｚ，１Ｈ），４．０６（ｓ，３Ｈ），３．５７（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，４Ｈ），２．９３－２．８９（ｍ，４Ｈ），２．１４（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，４Ｈ），１．８３－１．７４（ｍ，４Ｈ），１．０２－０．９８（ｍ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１６７．８，１４６．７，１４１．５，１４０．９，１３２．８，１３２．６，１３１．４，１３０．４，１３０．２，１３０．１，１２９．３２，１２３．２８，１２８．８，１２８．２，１２８．０，１２７．８，１２７．４，１２７．０，１２６．９，１２６．３，１２６．２，１２６．０，１２３．４，１２３．２，１２０．１，１１３．５，１０３．７，５２．５，４８．１，３６．４，３６．３，３４．３，３４．２，２５．８，２２．９１，２２．９０，１４．３７，１４．３６ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴＴＯＦ）ｍ／ｚ：５７９［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４９，２９２５，２８５３，１７１８，１６０６，１３６７，１２３６，１１１３，８０６，７６３ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４７Ｎ２：５７９．３７３９［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５７９．３７２１
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４６Ｎ２：Ｃ，８７．１５；Ｈ，８．０１；Ｎ，４．８４．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８７．１３；Ｈ，８．１６；Ｎ，４．７９
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１６７．８，１４６．７，１４１．５，１４０．９，１３２．８，１３２．６，１３１．４，１３０．４，１３０．２，１３０．１，１２９．３２，１２３．２８，１２８．８，１２８．２，１２８．０，１２７．８，１２７．４，１２７．０，１２６．９，１２６．３，１２６．２，１２６．０，１２３．４，１２３．２，１２０．１，１１３．５，１０３．７，５２．５，４８．１，３６．４，３６．３，３４．３，３４．２，２５．８，２２．９１，２２．９０，１４．３７，１４．３６ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴＴＯＦ）ｍ／ｚ：５７９［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４９，２９２５，２８５３，１７１８，１６０６，１３６７，１２３６，１１１３，８０６，７６３ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４７Ｎ２：５７９．３７３９［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５７９．３７２１
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４６Ｎ２：Ｃ，８７．１５；Ｈ，８．０１；Ｎ，４．８４．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８７．１３；Ｈ，８．１６；Ｎ，４．７９
【0059】
実施例４
２，７－ジホルミル－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物６）
２，７－ジホルミル－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物６）
【化41】
【0060】
アルゴン雰囲気下、化合物１（２４０ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液にノルマルブチルリチウム（０．６ｍＬ，０．９６ｍｍｏｌ，１．５９Ｍヘキサン溶液）を－７８℃下で３分間かけて滴下した。－７８℃で３０分間撹拌後、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（０．６ｍＬ，８ｍｍｏｌ）を加えた。０℃まで昇温して１０分間撹拌後に１Ｍ塩酸で反応を停止させた。水層に対してトルエンで抽出操作（２０ｍＬ×３）を行い、飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、淡黄色固体の粗生成物を得た。シリカゲルを用いたカラム精製操作（展開溶媒：ヘキサン／塩化メチレン＝１／４）を行い１６８ｍｇ（収率８４％）の化合物６を淡黄色固体として得た。
【0061】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１０．１８（ｓ，２Ｈ），８．９７（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，２Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，２Ｈ），８．３２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），８．２８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．８４（ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．５Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．５Ｈｚ，２Ｈ），２．８４（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．７６（ｔ，Ｊ＝７．４，７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．４８（ｔｑ，Ｊ＝７．４，７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．０２（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９２．２，１４３．２，１３３．８，１３３．２，１３２．５，１３１．２，１３０．５，１２９．４，１２９．１，１２８．４，１２７．２，１２６．８，１２５．９，１２４．９，１２３．１，３６．３，３４．０，２２．９，１４．３ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：４９７［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，２９２４，２８５３，２７１８，１６８９，１５９５，１１９１，８２３ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ３３Ｏ２：４９７．２４７５［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：４９７．２４６８
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９２．２，１４３．２，１３３．８，１３３．２，１３２．５，１３１．２，１３０．５，１２９．４，１２９．１，１２８．４，１２７．２，１２６．８，１２５．９，１２４．９，１２３．１，３６．３，３４．０，２２．９，１４．３ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：４９７［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，２９２４，２８５３，２７１８，１６８９，１５９５，１１９１，８２３ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ３３Ｏ２：４９７．２４７５［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：４９７．２４６８
【0062】
実施例５
２，７－ジ（メトキシカルボニル）－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物７）
２，７－ジ（メトキシカルボニル）－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物７）
【化42】
【0063】
アルゴン雰囲気下、化合物１（１２０ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（４ｍＬ）溶液にノルマルブチルリチウム（０．３０ｍＬ，１．５９Ｍのヘキサン溶液）を－７８℃下で３分間かけて滴下した。３０分間撹拌後、二酸化炭素を５分間、開放系を保って（安全を確保して）、吹き込んだ。室温まで昇温した後、１時間撹拌後、１Ｍ塩酸（１０ｍＬ）で反応を停止させた。得られたサンプルをトルエンで希釈し、水層に対してトルエンで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝及び真空乾燥して、粗生成物を得た。
【0064】
次に、アルゴン雰囲気下、得られた粗生成物（９１ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２．２ｍＬ）溶液に炭酸リチウム（１２６ｍｇ，１．７ｍｍｏｌ）を室温下で加えた。５分間撹拌後、ヨウ化メチル（０．１１ｍＬ，１．７ｍｍｏｌ）を１分間かけて滴下した。室温で２０時間撹拌後、１Ｍ塩酸（１０ｍＬ）で反応停止操作を行った。得られたサンプルをトルエンで希釈し、水層に対してトルエンで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、８５ｍｇの粗生成物を得た。シリカゲルを用いたカラム精製操作（展開溶媒：ヘキサン／塩化メチレン＝１／１）を行い、７４ｍｇ（収率７８％）の化合物７を黄白色固体として得た。
【0065】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．４１（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，２Ｈ），８．６５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．６０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），８．５８（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，２Ｈ），８．２２（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５２（ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．３Ｈｚ，２Ｈ），４．０７（ｓ，６Ｈ），２．９４（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，４Ｈ），１．８０（ｔｔ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ，４Ｈ），１．４９（ｔｑ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ，４Ｈ），１．０１（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１６７．５，１４２．６，１３２．３，１３１．３，１３１．２，１３０．２，１２９．３，１２８．６，１２８．１，１２７．５，１２７．２，１２６．７，１２５．９，１２５．０，１２３．２，５２．６，３６．３，３４．１，２２．９，１４．３ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５５７
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４９，２９５２，２８５３，１７１８，１６０６，１４２７，１２７２，１２４９，１１０５，７６３ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄｆｏｒＣ３８Ｈ３７Ｏ４：５５７．２６９２［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ；５５７．２６８１
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ３６Ｏ４：Ｃ，８１．９９；Ｈ，６．５２．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８２．３０；Ｈ，６．７０
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１６７．５，１４２．６，１３２．３，１３１．３，１３１．２，１３０．２，１２９．３，１２８．６，１２８．１，１２７．５，１２７．２，１２６．７，１２５．９，１２５．０，１２３．２，５２．６，３６．３，３４．１，２２．９，１４．３ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５５７
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４９，２９５２，２８５３，１７１８，１６０６，１４２７，１２７２，１２４９，１１０５，７６３ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄｆｏｒＣ３８Ｈ３７Ｏ４：５５７．２６９２［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ；５５７．２６８１
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ３６Ｏ４：Ｃ，８１．９９；Ｈ，６．５２．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８２．３０；Ｈ，６．７０
【0066】
実施例６
２，７－ジヒドロキシ－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物８）
２，７－ジヒドロキシ－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物８）
【化43】
【0067】
アルゴン雰囲気下、化合物１（１．９１ｇ，３．２ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（６４ｍＬ）溶液にノルマルブチルリチウム（４．８ｍＬ，１．５９Ｍのヘキサン溶液）を－７８℃下４分間かけて滴下した。３０分間撹拌後、塩化ジメチルシラン（１．３２ｍＬ，１９．２ｍｍｏｌ）を２０秒かけて加えた。室温で１時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液（４８ｍＬ）を用いて反応を停止させた。得られたサンプルをトルエンで希釈し、水層に対してトルエンで抽出操作（２０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄（３０ｍＬ）し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、粗生成物を得た。シリカゲルを用いたカラム精製操作（展開溶媒：ヘキサンのみ）を行い、ビスジメチルシラン体１．５ｇ（収率７８％）を白色固体として得た。
【0068】
アルゴン雰囲気下、ビスジメチルシラン体（４．３０ｇ，７．７２ｍｍｏｌ）をトルエン（７２ｍＬ）とメタノール（７２ｍＬ）に溶解し、１０ｗｔ％パラジウム／炭素（８２１ｍｇ，０．７７ｍｍｏｌ）を室温下で加えた。５分間撹拌後、セライト濾過（溶媒：トルエン）し、除媒濃縮を行った。残渣であるジメトキシシラン体にテトラヒドロフラン（７２ｍＬ）、メタノール（７２ｍＬ）、炭酸水素カリウム（１．５５ｇ，１５．４ｍｍｏｌ）及びフッ化カリウム（８９７ｍｇ，１５．４ｍｍｏｌ）を加えた。３０％過酸化水素水（１０．５ｍＬ，９２．７ｍｍｏｌ）を室温下で５分間かけて滴下し、室温で４時間撹拌後、１Ｍ塩酸（２００ｍＬ）で反応を停止させ、水層に対してトルエンで抽出操作（５０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、４．８７ｇの茶色固体の粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル＝４／１）を行い２．６ｇ（収率７２％）の化合物８を緑色固体として得た。
【0069】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．５９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），８．５０（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），８．３４（ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，２Ｈ），８．０７（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，２Ｈ），７．４５（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．４Ｈｚ，２Ｈ），７．１４（ｄｄ，Ｊ＝８．９，２．６Ｈｚ，２Ｈ），５．０４（Ｓ，２Ｈ），２．８８（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，４Ｈ），１．７８（ｔｔ，Ｊ＝７．６，７．６Ｈｚ，４Ｈ），１．４６（ｔｑ，Ｊ＝７．６，７．６Ｈｚ，４Ｈ），０．９９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１５４．１，１４０．９，１３２．７，１３１．０，１３０．１，１２８．９，１２８．０，１２７．８，１２６．７，１２４．９，１２４．２，１２３．２，１１５．８，１０８．６，３６．２，３４．１，２２．８，１４．３ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：４７３
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３２９６，２９２０，２８５３，１６１４，１４３７，１２６０，１１７２，８１２ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３３Ｏ２：４７３．２４８１［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ；４７３．２４７６
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３２Ｏ２：Ｃ，８６．４０；Ｈ，６．８２．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８６．４１；Ｈ，６．６４
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１５４．１，１４０．９，１３２．７，１３１．０，１３０．１，１２８．９，１２８．０，１２７．８，１２６．７，１２４．９，１２４．２，１２３．２，１１５．８，１０８．６，３６．２，３４．１，２２．８，１４．３ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：４７３
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３２９６，２９２０，２８５３，１６１４，１４３７，１２６０，１１７２，８１２ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３３Ｏ２：４７３．２４８１［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ；４７３．２４７６
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３２Ｏ２：Ｃ，８６．４０；Ｈ，６．８２．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８６．４１；Ｈ，６．６４
【0070】
実施例７
【化44】
【0071】
ａ）２－ブロモ－７－メトキシカルボニル－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物９ａ）
アルゴン雰囲気下、化合物１（２９９ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（２．５ｍＬ）溶液にノルマルブチルリチウム（０．３５ｍＬ，０．５５ｍｍｏｌ，１．５９Ｍのヘキサン溶液）を－７８℃下３分間かけて滴下した。３０分間撹拌後、開放系を保ちながら二酸化炭素を５分間吹き込んだ。室温まで昇温後、１時間撹拌し、０℃下１Ｍ塩酸（１０ｍＬ）を用いて反応を停止させた。得られたサンプルをトルエンで希釈し、水層に対してトルエンで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄（１０ｍＬ）し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、粗生成物を得た。アルゴン雰囲気下、この粗生成物（２７８ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３．５ｍＬ）溶液に炭酸リチウム（１８５ｍｇ，２．５ｍｍｏｌ）を室温下で加えた。５分間撹拌後、ヨウ化メチル（０．１５ｍＬ，２．５ｍｍｏｌ）を１分間かけて滴下した。室温下１３時間撹拌後、１Ｍ塩酸（１０ｍＬ）を加えて反応を停止させた。得られたサンプルをトルエンで希釈し、水層に対してトルエンで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄（２０ｍＬ）し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、２６５ｍｇの粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製操作（展開溶媒：ヘキサン／塩化メチレン＝２／１）を行い、１８５ｍｇ（収率６４％）の化合物９ａを白黄色固体として得た。
アルゴン雰囲気下、化合物１（２９９ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（２．５ｍＬ）溶液にノルマルブチルリチウム（０．３５ｍＬ，０．５５ｍｍｏｌ，１．５９Ｍのヘキサン溶液）を－７８℃下３分間かけて滴下した。３０分間撹拌後、開放系を保ちながら二酸化炭素を５分間吹き込んだ。室温まで昇温後、１時間撹拌し、０℃下１Ｍ塩酸（１０ｍＬ）を用いて反応を停止させた。得られたサンプルをトルエンで希釈し、水層に対してトルエンで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄（１０ｍＬ）し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、粗生成物を得た。アルゴン雰囲気下、この粗生成物（２７８ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３．５ｍＬ）溶液に炭酸リチウム（１８５ｍｇ，２．５ｍｍｏｌ）を室温下で加えた。５分間撹拌後、ヨウ化メチル（０．１５ｍＬ，２．５ｍｍｏｌ）を１分間かけて滴下した。室温下１３時間撹拌後、１Ｍ塩酸（１０ｍＬ）を加えて反応を停止させた。得られたサンプルをトルエンで希釈し、水層に対してトルエンで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄（２０ｍＬ）し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、２６５ｍｇの粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製操作（展開溶媒：ヘキサン／塩化メチレン＝２／１）を行い、１８５ｍｇ（収率６４％）の化合物９ａを白黄色固体として得た。
【0072】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．４０（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），８．８０（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），８．６０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），８．５９（ｓ，１Ｈ），８．４６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．３９（ｓ，１Ｈ），８．２１（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．７１（ｄｄ，Ｊ＝１．９，８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），４．０６（ｓ，３Ｈ），２．９３（ｍ，４Ｈ），１．８４（ｔｑ，Ｊ＝７．８，７．８Ｈｚ，４Ｈ），１．５５（ｔｑ，Ｊ＝７．８，７．８Ｈｚ，４Ｈ），１．０１（ｍ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４９．５，１２９．４，１２９．３，１２１．４，１２１．２，１２０．３，１１９．６（ｔｈｒｅｅ ｐｅａｋｓ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１１９．３，１１９．２，１１８．９，１１８．７，１１８．３，１１８．１，１１８．０，１１７．８，１１７．４４，１１７．４０（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１１６．８，１１６．７，１１６．３，１１５．６，１１４．１，１１４．０，１１２．１，５７．６，４４．５，４２．８，４２．７，３３．８３，３３．７９，２７．０ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５７７［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４８，２９２４，２８４８，１７１７，１６０６，１４２４，１２４３，８１６，７６４ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ３３Ｂｒ２Ｏ：５７７．１７４２［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５７７．１７４６
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４９．５，１２９．４，１２９．３，１２１．４，１２１．２，１２０．３，１１９．６（ｔｈｒｅｅ ｐｅａｋｓ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１１９．３，１１９．２，１１８．９，１１８．７，１１８．３，１１８．１，１１８．０，１１７．８，１１７．４４，１１７．４０（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１１６．８，１１６．７，１１６．３，１１５．６，１１４．１，１１４．０，１１２．１，５７．６，４４．５，４２．８，４２．７，３３．８３，３３．７９，２７．０ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５７７［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４８，２９２４，２８４８，１７１７，１６０６，１４２４，１２４３，８１６，７６４ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ３３Ｂｒ２Ｏ：５７７．１７４２［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５７７．１７４６
【0073】
ｂ）２－（１－ピロリジニル）－７－メトキシカルボニル－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物９ｂ）
乾燥させたシュレンク管にトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（１８ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）、２，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）－１，１－ビナフチル（３７ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）及びナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド（３８ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）を加え、容器にアルゴンを充填した。トルエン（３ｍＬ）を加え、１５分間撹拌後、化合物９ａ（１１６ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）を加えてさらに１分間撹拌し、ピロリジン（０．０５ｍＬ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた。８０℃で２時間撹拌し、セライトとフロリジルを用いて濾過した。得られた粗生成物にシリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒：ヘキサン／塩化メチレン＝２／１）を行い、７２ｍｇ（収率６３％）の化合物９ｂを黄色固体として得た。
乾燥させたシュレンク管にトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（１８ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）、２，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）－１，１－ビナフチル（３７ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）及びナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド（３８ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）を加え、容器にアルゴンを充填した。トルエン（３ｍＬ）を加え、１５分間撹拌後、化合物９ａ（１１６ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）を加えてさらに１分間撹拌し、ピロリジン（０．０５ｍＬ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた。８０℃で２時間撹拌し、セライトとフロリジルを用いて濾過した。得られた粗生成物にシリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒：ヘキサン／塩化メチレン＝２／１）を行い、７２ｍｇ（収率６３％）の化合物９ｂを黄色固体として得た。
【0074】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．３９（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），８．６８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．５８（ｄｄ，Ｊ＝８．４，８．４Ｈｚ，２Ｈ），８．５５（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ），８．４５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．１Ｈｚ，２Ｈ），６．９９（ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．３Ｈｚ，１Ｈ），４．０６（ｓ，３Ｈ），３．５７（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，４Ｈ），２．９３－２．８９（ｍ，４Ｈ），２．１４（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，４Ｈ），１．８３－１．７４（ｍ，４Ｈ），１．０２－０．９８（ｍ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１６７．８，１４６．７，１４１．５，１４０．９，１３２．８，１３２．６，１３１．４，１３０．４，１３０．２，１３０．１，１２９．３２，１２３．２８，１２８．８，１２８．２，１２８．０，１２７．８，１２７．４，１２７．０，１２６．９，１２６．３，１２６．２，１２６．０，１２３．４，１２３．２，１２０．１，１１３．５，１０３．７，５２．５，４８．１，３６．４，３６．３，３４．３，３４．２，２５．８，２２．９１，２２．９０，１４．３７，１４．３６ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５６８［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４９，２９２５，２８５３，１７１８，１６０６，１３６７，１２３６，１１１３，８０６，７６３ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４０Ｈ４２ＮＯ２：５６８．３２１６［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５６８．３２２４
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１６７．８，１４６．７，１４１．５，１４０．９，１３２．８，１３２．６，１３１．４，１３０．４，１３０．２，１３０．１，１２９．３２，１２３．２８，１２８．８，１２８．２，１２８．０，１２７．８，１２７．４，１２７．０，１２６．９，１２６．３，１２６．２，１２６．０，１２３．４，１２３．２，１２０．１，１１３．５，１０３．７，５２．５，４８．１，３６．４，３６．３，３４．３，３４．２，２５．８，２２．９１，２２．９０，１４．３７，１４．３６ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５６８［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４９，２９２５，２８５３，１７１８，１６０６，１３６７，１２３６，１１１３，８０６，７６３ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４０Ｈ４２ＮＯ２：５６８．３２１６［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５６８．３２２４
【0075】
実施例８
【化45】
【0076】
ａ）２－ブロモ－７－トリメチルシリル－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物１０ａ）
アルゴン雰囲気下、化合物１（７１８ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（８ｍＬ）溶液にノルマルブチルリチウム（０．８３ｍＬ，１．３２ｍｍｏｌ，１．５９Ｍのヘキサン溶液）を－７８℃下５分かけて滴下した。－７８℃で３０分間撹拌後、塩化トリメチルシリル（０．４６ｍＬ，３．６ｍｍｏｌ）を５分かけて加えた。－７８℃下２時間撹拌後、０℃下でメタノールを加えて反応を停止させ、除媒濃縮を行った。得られた残渣をトルエン溶媒で希釈したものを５０ｍＬ分液漏斗に移し、水（１０ｍＬ）と飽和食塩水（１０ｍＬ）で洗浄後、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、緑色がかった黄色の固体として粗生成物を６８３ｍｇ得た。シリカゲルを用いたカラム精製操作（展開溶媒：ヘキサン／トルエン＝１９／１）を行い、５２９ｍｇ（収率７５％）の化合物１０ａを白色固体として得た。
アルゴン雰囲気下、化合物１（７１８ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（８ｍＬ）溶液にノルマルブチルリチウム（０．８３ｍＬ，１．３２ｍｍｏｌ，１．５９Ｍのヘキサン溶液）を－７８℃下５分かけて滴下した。－７８℃で３０分間撹拌後、塩化トリメチルシリル（０．４６ｍＬ，３．６ｍｍｏｌ）を５分かけて加えた。－７８℃下２時間撹拌後、０℃下でメタノールを加えて反応を停止させ、除媒濃縮を行った。得られた残渣をトルエン溶媒で希釈したものを５０ｍＬ分液漏斗に移し、水（１０ｍＬ）と飽和食塩水（１０ｍＬ）で洗浄後、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、緑色がかった黄色の固体として粗生成物を６８３ｍｇ得た。シリカゲルを用いたカラム精製操作（展開溶媒：ヘキサン／トルエン＝１９／１）を行い、５２９ｍｇ（収率７５％）の化合物１０ａを白色固体として得た。
【0077】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．８４（ｓ，１Ｈ），８．８０（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），８．５７（ｄ，Ｊ＝８．５，２Ｈ），８．５４－８．５０（ｍ，３Ｈ），８．３８（ｓ，１Ｈ），７．７４（ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６７（ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．９Ｈｚ，１Ｈ），７．４９－７．４６（ｍ，２Ｈ），２．９２（ｔｔ，Ｊ＝７．８，７．８Ｈｚ，４Ｈ），１．８２－１．７７（ｍ，４Ｈ），１．５３－１．４４（ｍ，４Ｈ），１．０１（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，６Ｈ），０．４６（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４２．２，１４２．１，１３８．９，１３２．８，１３１．７，１３１．５，１３０．９，１３０．２４，１３０．２３，１２９．９，１２９．８，１２９．５，１２９．４，１２９．３，１２８．７，１２８．６，１２８．５，１２８．１３，１２８．０８，１２７．９，１２７．８，１２６．８，１２６．３，１２３．４１，１２３．３５，１２０．９，３６．６１，３６．５５，３４．４４，３４．４１，２３．１（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１４．６（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），－０．３４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５９０
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５５，２９２４，２８４８，１２４３，８３５，８１６，７５２ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３７Ｈ４０ＢｒＳｉ：５９０．２００４［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５９０．２０１０
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３７Ｈ３９ＢｒＳｉ：Ｃ，７５．１１；Ｈ，６．６４．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，７５．１１；Ｈ，６．５３
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４２．２，１４２．１，１３８．９，１３２．８，１３１．７，１３１．５，１３０．９，１３０．２４，１３０．２３，１２９．９，１２９．８，１２９．５，１２９．４，１２９．３，１２８．７，１２８．６，１２８．５，１２８．１３，１２８．０８，１２７．９，１２７．８，１２６．８，１２６．３，１２３．４１，１２３．３５，１２０．９，３６．６１，３６．５５，３４．４４，３４．４１，２３．１（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１４．６（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），－０．３４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５９０
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５５，２９２４，２８４８，１２４３，８３５，８１６，７５２ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３７Ｈ４０ＢｒＳｉ：５９０．２００４［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５９０．２０１０
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３７Ｈ３９ＢｒＳｉ：Ｃ，７５．１１；Ｈ，６．６４．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，７５．１１；Ｈ，６．５３
【0078】
ｂ）２－メチルチオ－７－トリメチルシリル－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物１０ｂ）
アルゴン雰囲気下、化合物１０ａ（５９２ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液にノルマルブチルリチウム（０．６９ｍＬ，１．１ｍｍｏｌ，１．５９Ｍのヘキサン溶液）を－７８℃下３分かけて滴下した。－７８℃下で３０分間撹拌後、ジメチルジスルフィド（０．４６ｍＬ，３．６ｍｍｏｌ）を１分間かけて加えた。室温で２時間撹拌後、メタノールを加えて反応停止操作を行った。水層に対してトルエンで抽出操作（２０ｍＬ×３）を行い、飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、粗生成物を得た。シリカゲルを用いたカラム精製操作（展開溶媒：ヘキサン／トルエン＝１９／１）を行い、３６０ｍｇ（収率６４％）の化合物１０ｂを黄白色固体として得た。
アルゴン雰囲気下、化合物１０ａ（５９２ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液にノルマルブチルリチウム（０．６９ｍＬ，１．１ｍｍｏｌ，１．５９Ｍのヘキサン溶液）を－７８℃下３分かけて滴下した。－７８℃下で３０分間撹拌後、ジメチルジスルフィド（０．４６ｍＬ，３．６ｍｍｏｌ）を１分間かけて加えた。室温で２時間撹拌後、メタノールを加えて反応停止操作を行った。水層に対してトルエンで抽出操作（２０ｍＬ×３）を行い、飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、粗生成物を得た。シリカゲルを用いたカラム精製操作（展開溶媒：ヘキサン／トルエン＝１９／１）を行い、３６０ｍｇ（収率６４％）の化合物１０ｂを黄白色固体として得た。
【0079】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．８６（ｓ，１Ｈ），８．６２－８．５８（ｍ，４Ｈ），８．５５（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），８．５１（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），８．４３（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．１Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄｄ，Ｊ＝８．６，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．４７（ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．６Ｈｚ，２Ｈ），２．９３（ｔｔ，Ｊ＝７．４，７．４Ｈｚ，４Ｈ），２．７２（ｓ，３Ｈ），１．８２－１．８０（ｍ，４Ｈ），１．５４－１．４７（ｍ，４Ｈ），１．０５－１．０１（ｍ，６Ｈ），０．４８（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４１．７，１４１．６，１３８．４，１３６．６，１３１．４，１３１．３，１３１．２，１３０．５，１３０．０，１２９．９，
１２９．６，１２９．３，１２９．２，１２９．０，１２８．１，１２８．０，１２７．９４，１２７．９０，１２７．８，１２７．６，１２７．４，１２６．５，１２５．６，１２３．２，１２３．１，１２１．５，３６．３８，３６．３６，３４．２４，３４．２１，２２．８９，２２．８８，１６．７（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１４．４，－０．５５ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５５９
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，２９２１，２８５３，１４２３，１２４４，８１４ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ４２ＳＳｉ：５５９．２８５５，Ｆｏｕｎｄ；５５９．２８２７［ＭＨ］＋
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４１．７，１４１．６，１３８．４，１３６．６，１３１．４，１３１．３，１３１．２，１３０．５，１３０．０，１２９．９，
１２９．６，１２９．３，１２９．２，１２９．０，１２８．１，１２８．０，１２７．９４，１２７．９０，１２７．８，１２７．６，１２７．４，１２６．５，１２５．６，１２３．２，１２３．１，１２１．５，３６．３８，３６．３６，３４．２４，３４．２１，２２．８９，２２．８８，１６．７（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１４．４，－０．５５ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５５９
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，２９２１，２８５３，１４２３，１２４４，８１４ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ４２ＳＳｉ：５５９．２８５５，Ｆｏｕｎｄ；５５９．２８２７［ＭＨ］＋
【0080】
ｃ）２－メチルチオ－７－ヨード－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物１０ｃ）
アルゴン雰囲気下、化合物１０ｂ（１５０ｍｇ，０．２７ｍｍｏｌ）の無水塩化メチレン（２．３ｍＬ）溶液に一塩化ヨウ素（０．２８ｍＬ，１Ｍ塩化メチレン溶液）を０℃下３分かけて滴下した。０℃下で３０分間、さらに室温下で１時間撹拌後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）を加えて０℃下で反応を停止させた。水層に対してトルエンで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行い、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、１５５ｍｇ（収率９４％）の化合物１０ｃを淡黄色固体として得た。
アルゴン雰囲気下、化合物１０ｂ（１５０ｍｇ，０．２７ｍｍｏｌ）の無水塩化メチレン（２．３ｍＬ）溶液に一塩化ヨウ素（０．２８ｍＬ，１Ｍ塩化メチレン溶液）を０℃下３分かけて滴下した。０℃下で３０分間、さらに室温下で１時間撹拌後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）を加えて０℃下で反応を停止させた。水層に対してトルエンで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行い、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、１５５ｍｇ（収率９４％）の化合物１０ｃを淡黄色固体として得た。
【0081】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．００（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），８．５８（ｄｄ，Ｊ＝８．８，１．８Ｈｚ，２Ｈ），８．５２（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），８．４６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．４１（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），８．３０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄｄ，Ｊ＝８．８，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５２－７．４６（ｍ，３Ｈ），２．９０（ｔｔ，Ｊ＝７．４，７．４Ｈｚ，４Ｈ），２．７０（ｓ，３Ｈ），１．７９（ｔｔ，Ｊ＝７．４，７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．４８（ｔｑ，Ｊ＝７．４，７．４Ｈｚ，４Ｈ），１．０２－０．９８（ｍ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４１．９，１４１．８，１３６．８，１３５．１，１３２．９，１３２．７，１３１．３，１３０．５，１３０．４８，１２９．６，１２９．２，１２９．１，１２９．０，１２８．６，１２８．２，１２８．０，１２７．９，１２７．７５，１２７．７２，１２６．８，１２５．８，１２５．４，１２３．２，１２３．１，１２１．４，９２．３，３６．３４，３６．３３，３４．２０，３４．１７，２２．９２，２２．９０，１６．５０，１６．４９，１４．４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：６１３
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，２９２０，２８４８，１４１６，８１２，５８２ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３５Ｈ３４ＩＳ：６１３．１４２６［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ；６１３．１４１２
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４１．９，１４１．８，１３６．８，１３５．１，１３２．９，１３２．７，１３１．３，１３０．５，１３０．４８，１２９．６，１２９．２，１２９．１，１２９．０，１２８．６，１２８．２，１２８．０，１２７．９，１２７．７５，１２７．７２，１２６．８，１２５．８，１２５．４，１２３．２，１２３．１，１２１．４，９２．３，３６．３４，３６．３３，３４．２０，３４．１７，２２．９２，２２．９０，１６．５０，１６．４９，１４．４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：６１３
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，２９２０，２８４８，１４１６，８１２，５８２ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３５Ｈ３４ＩＳ：６１３．１４２６［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ；６１３．１４１２
【0082】
ｄ）２－メチルチオ－７－シアノ－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物１０ｄ）
アルゴン雰囲気下、化合物１０ｃ（１３２ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）の無水Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）溶液に室温下でシアン化銅（３０ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）を加えた。１３５℃に昇温し８時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加えて反応を停止させ、水層に対してトルエンで抽出操作（１５ｍＬ×３）を行い、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄した。芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、９１ｍｇ（収率８１％）の化合物１０ｄを白黄色固体として得た。
アルゴン雰囲気下、化合物１０ｃ（１３２ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）の無水Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）溶液に室温下でシアン化銅（３０ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）を加えた。１３５℃に昇温し８時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加えて反応を停止させ、水層に対してトルエンで抽出操作（１５ｍＬ×３）を行い、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄した。芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、９１ｍｇ（収率８１％）の化合物１０ｄを白黄色固体として得た。
【0083】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．００（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），８．６５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．５８（ｄｄ，Ｊ＝８．６，８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．５２（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），８．４３－８．４１（ｍ，３Ｈ），７．７７（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．５５－７．４８（ｍ，３Ｈ），２．９２（ｔｔ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ，４Ｈ），２．７１（ｓ，３Ｈ），１．７９（ｔｔ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ，４Ｈ），１．４８（ｔｑ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ，４Ｈ），１．０３－０．９９（ｍ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４２．７，１４２．３，１３７．４，１３１．８，１３１．３，１３０．８，１３０．４，１２９．６１，１２９．５７，１２９．４，１２９．３，１２９．１，１２８．８３，１２８．８１，１２８．７，１２８．１，１２８．０，１２７．７，１２７．３，１２６．４，１２５．４，１２５．２，１２３．２，１２３．０，１２１．１，１１９．９，１０９．１，３６．３，３６．２，３４．１，３４．０，２２．８８，２２．８７，１６．３（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１４．４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５１２［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，２９２１，２８５３，２２２４，１５９１，１４１９，８１０ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ３４ＮＳ：５１２．２４０６［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ；５１２．２４０６
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ３３ＮＳ：Ｃ，８４．５０；Ｈ，６．５０；Ｎ，２．７４．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８４．１６；Ｈ，６．４２；Ｎ，２．６８
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４２．７，１４２．３，１３７．４，１３１．８，１３１．３，１３０．８，１３０．４，１２９．６１，１２９．５７，１２９．４，１２９．３，１２９．１，１２８．８３，１２８．８１，１２８．７，１２８．１，１２８．０，１２７．７，１２７．３，１２６．４，１２５．４，１２５．２，１２３．２，１２３．０，１２１．１，１１９．９，１０９．１，３６．３，３６．２，３４．１，３４．０，２２．８８，２２．８７，１６．３（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），１４．４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５１２［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，２９２１，２８５３，２２２４，１５９１，１４１９，８１０ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ３４ＮＳ：５１２．２４０６［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ；５１２．２４０６
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ３３ＮＳ：Ｃ，８４．５０；Ｈ，６．５０；Ｎ，２．７４．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８４．１６；Ｈ，６．４２；Ｎ，２．６８
【0084】
実施例９
【化46】
【0085】
ａ）１，８－ジクロロ－２，７－ジヒドロキシ－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物１１）
アルゴン雰囲気下、化合物８（４７３ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）の無水塩化メチレン（１０ｍＬ）溶液に一塩化ヨウ素（３．６ｍＬ，３．６ｍｍｏｌ，１Ｍ塩化メチレン溶液）を０℃下で１０分かけて滴下した。反応溶液を０℃で１５分間撹拌後、室温に昇温し、さらに２時間撹拌した。１Ｍチオ硫酸ナトリウム（２０ｍＬ）でハロゲン種を分解し、１Ｍ塩酸（３０ｍＬ）で反応停止操作を行った。水層に対して塩化メチレンで抽出操作（１５ｍＬ×３）を行い、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、粗結晶を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製操作（展開溶媒：クロロホルム／酢酸エチル＝１９／１）を行い、５０８ｍｇ（収率９４％）の化合物１１を緑黄色固体として得た。
アルゴン雰囲気下、化合物８（４７３ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）の無水塩化メチレン（１０ｍＬ）溶液に一塩化ヨウ素（３．６ｍＬ，３．６ｍｍｏｌ，１Ｍ塩化メチレン溶液）を０℃下で１０分かけて滴下した。反応溶液を０℃で１５分間撹拌後、室温に昇温し、さらに２時間撹拌した。１Ｍチオ硫酸ナトリウム（２０ｍＬ）でハロゲン種を分解し、１Ｍ塩酸（３０ｍＬ）で反応停止操作を行った。水層に対して塩化メチレンで抽出操作（１５ｍＬ×３）を行い、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、粗結晶を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製操作（展開溶媒：クロロホルム／酢酸エチル＝１９／１）を行い、５０８ｍｇ（収率９４％）の化合物１１を緑黄色固体として得た。
【0086】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．００（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，２Ｈ），８．４９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），８．３２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．３Ｈｚ，２Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ），６．２２（ｓ，２Ｈ），２．８６（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，４Ｈ），１．７６（ｔｔ，Ｊ＝７．６，７．６ｐｐｍ，４Ｈ），１．４６（ｔｑ，Ｊ＝７．６，７．６Ｈｚ，４Ｈ），０．９８（ｔ，Ｊ＝７．６，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１５１．１，１３９．１，１２９．１，１２９．０，１２８．９，１２８．８，１２８．５，１２８．０，１２７．８，１２６．９，１２６．５，１２５．６，１１６．８，１１５．８，３６．２，３４．０，２２．７，１４．４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５３９［Ｍ－Ｈ］－
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３５０６，３３３１，２９５２，２９２０，２８５３，１５９５，１１７９，８１６ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２９Ｃｌ２Ｏ２：５３９．１５４５［Ｍ－Ｈ］－，Ｆｏｕｎｄ：５３９．１５５３
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１５１．１，１３９．１，１２９．１，１２９．０，１２８．９，１２８．８，１２８．５，１２８．０，１２７．８，１２６．９，１２６．５，１２５．６，１１６．８，１１５．８，３６．２，３４．０，２２．７，１４．４ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：５３９［Ｍ－Ｈ］－
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３５０６，３３３１，２９５２，２９２０，２８５３，１５９５，１１７９，８１６ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２９Ｃｌ２Ｏ２：５３９．１５４５［Ｍ－Ｈ］－，Ｆｏｕｎｄ：５３９．１５５３
【0087】
ｂ）１，８－ジクロロ－２，７－ビス（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）－１０，１５－ジブチルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン（化合物１２）
アルゴン雰囲気下、化合物１１（５４１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）の無水塩化メチレン（１５ｍＬ）溶液にトリエチルアミン（０．５ｍＬ，３．６ｍｍｏｌ）を０℃下で滴下した。反応溶液を０℃で１５分間撹拌後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（０．３ｍＬ，１．８ｍｍｏｌ）を２分かけて滴下した。０℃で３０分間撹拌し、水（１５ｍＬ）で反応停止操作を行った。水層に対して塩化メチレンで抽出操作（２０ｍＬ×３）を行い、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄後、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、粗結晶を得た。シリカゲルを用いたカラム精製操作（展開溶媒：ヘキサン／クロロホルム＝１／４）を行い、６０８ｍｇ（収率７５％）の化合物１２を白色固体として得た。
アルゴン雰囲気下、化合物１１（５４１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）の無水塩化メチレン（１５ｍＬ）溶液にトリエチルアミン（０．５ｍＬ，３．６ｍｍｏｌ）を０℃下で滴下した。反応溶液を０℃で１５分間撹拌後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（０．３ｍＬ，１．８ｍｍｏｌ）を２分かけて滴下した。０℃で３０分間撹拌し、水（１５ｍＬ）で反応停止操作を行った。水層に対して塩化メチレンで抽出操作（２０ｍＬ×３）を行い、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄後、芒硝乾燥及び真空乾燥したところ、粗結晶を得た。シリカゲルを用いたカラム精製操作（展開溶媒：ヘキサン／クロロホルム＝１／４）を行い、６０８ｍｇ（収率７５％）の化合物１２を白色固体として得た。
【0088】
アセトン溶媒を用いて化合物１２の単結晶を作製し、Ｘ線結晶構造解析を行った。分子構造を確率レベル５０％で表示したＯＲＴＥＰ図（見やすさを考慮して水素原子は描画されていない）を図１（ａ）～（ｄ）に示す。化合物１２のねじれ角度は４７．１３°であり、非常に大きいことから、非平面性の高いπ共役系化合物であると言える。
【0089】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．０８（ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，２Ｈ），８．５９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），８．４０（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ），７．５６（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．４Ｈｚ，２Ｈ），２．８８（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，４Ｈ），１．７７（ｔｔ，Ｊ＝７．６，７．６Ｈｚ，４Ｈ），１．４６（ｔｑ，Ｊ＝７．６，７．６Ｈｚ，４Ｈ），０．９９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，６Ｈ）ｐｐｍ
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４５．１，１４１．２，１３１．６，１３０．８，１３０．３，１３０．０，１２９．１，１２８．５３，１２８．４９，１２８．４，１２８．１，１２５．８，１２４．４，１２１．０，１１９．１，３６．３，３４．０，２２．７，１４．３ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：８０６［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５６，２９２８，２８５７，１４１５，１２００，１１３３，１０５７，８５４，６０３，５０３ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ２９Ｆ６Ｃｌ２Ｏ６Ｓ２：８０５．０６８７［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：８０５．０６７６
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ２8Ｆ６Ｃｌ２Ｏ６Ｓ２：Ｃ，５３．６７；Ｈ，３．５０．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，５３．６７；Ｈ，３．３９
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１４５．１，１４１．２，１３１．６，１３０．８，１３０．３，１３０．０，１２９．１，１２８．５３，１２８．４９，１２８．４，１２８．１，１２５．８，１２４．４，１２１．０，１１９．１，３６．３，３４．０，２２．７，１４．３ｐｐｍ
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：８０６［ＭＨ］＋
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５６，２９２８，２８５７，１４１５，１２００，１１３３，１０５７，８５４，６０３，５０３ｃｍ－１
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ２９Ｆ６Ｃｌ２Ｏ６Ｓ２：８０５．０６８７［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：８０５．０６７６
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３６Ｈ２8Ｆ６Ｃｌ２Ｏ６Ｓ２：Ｃ，５３．６７；Ｈ，３．５０．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，５３．６７；Ｈ，３．３９
【産業上の利用可能性】
【0090】
本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体の製造方法は、薄膜トランジスターの正孔輸送物質や有機発光ダイオードの発光素子として有用なジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体の製造方法として適用可能である。また、本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体は、薄膜トランジスターの正孔輸送物質や有機発光ダイオードの発光素子に適用可能である。
【図1】
