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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022056710
(43)【公開日】2022-04-11
(54)【発明の名称】光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法
(51)【国際特許分類】
B29C 59/04 20060101AFI20220404BHJP
G02B 1/118 20150101ALI20220404BHJP
B29L 7/00 20060101ALN20220404BHJP
B29L 11/00 20060101ALN20220404BHJP
【ＦＩ】
B29C59/04 Z
G02B1/118
B29L7:00
B29L11:00
【審査請求】未請求
【請求項の数】13
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2020164599
(22)【出願日】2020-09-30
(71)【出願人】
【識別番号】000108410
【氏名又は名称】デクセリアルズ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000936
【氏名又は名称】特許業務法人青海特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】村本 穣
【テーマコード（参考）】
2K009
4F209
【Ｆターム（参考）】
2K009AA03
2K009BB11
2K009CC21
4F209AA44
4F209AF01
4F209AG01
4F209AG03
4F209AG05
4F209AH73
4F209PA03
4F209PB02
4F209PC08
4F209PN09
4F209PQ01
(57)【要約】
【課題】光学フィルムをハンドリングする際の視認性を向上でき、かつ、光学フィルムの表面に反射防止領域と視認可能領域を同一の加工工程で容易に形成可能にする。
【解決手段】光学フィルム１は、可撓性を有する基材１１と、基材１１の少なくとも一方の表面に積層される樹脂層１２と、を備える。樹脂層１２は、可視光の波長以下のピッチＰで配列された複数の凸部２１または凹部２２からなる微細凹凸構造２０が形成される凹凸パターン領域２と、可視光の波長以上のトラックピッチＰｔで相互に間隔を空けて配列される複数の凸条部３１が形成される帯状のラインマーカー領域３と、を含む。
【選択図】図２
【解決手段】光学フィルム１は、可撓性を有する基材１１と、基材１１の少なくとも一方の表面に積層される樹脂層１２と、を備える。樹脂層１２は、可視光の波長以下のピッチＰで配列された複数の凸部２１または凹部２２からなる微細凹凸構造２０が形成される凹凸パターン領域２と、可視光の波長以上のトラックピッチＰｔで相互に間隔を空けて配列される複数の凸条部３１が形成される帯状のラインマーカー領域３と、を含む。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
可撓性を有する基材と、
前記基材の少なくとも一方の表面に積層される樹脂層と、
を備え、
前記樹脂層は、
可視光の波長以下のピッチで配列された複数の凸部または凹部からなる微細凹凸構造が形成される凹凸パターン領域と、
可視光の波長以上のトラックピッチで相互に間隔を空けて配列される複数の凸条部が形成される帯状のラインマーカー領域と、
を含む、光学フィルム。
前記基材の少なくとも一方の表面に積層される樹脂層と、
を備え、
前記樹脂層は、
可視光の波長以下のピッチで配列された複数の凸部または凹部からなる微細凹凸構造が形成される凹凸パターン領域と、
可視光の波長以上のトラックピッチで相互に間隔を空けて配列される複数の凸条部が形成される帯状のラインマーカー領域と、
を含む、光学フィルム。
【請求項2】
前記複数の凸条部は、前記ラインマーカー領域の長手方向に沿って延びる直線状であり、相互に平行に配列される、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項3】
前記ラインマーカー領域における前記凸条部の周期構造により、前記ラインマーカー領域に入射する光が回折および干渉することによって、波長ごとに分光された視認可能な光が前記ラインマーカー領域から出射される、請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項4】
前記凹凸パターン領域は、前記微細凹凸構造により反射防止機能が付与された透明領域であり、
前記ラインマーカー領域は、前記凸条部の周期構造により回折格子として機能する視認可能領域である、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
前記ラインマーカー領域は、前記凸条部の周期構造により回折格子として機能する視認可能領域である、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項5】
前記凸条部の前記トラックピッチは、５００ｎｍ以上、１ｍｍ以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項6】
前記凸条部の前記トラックピッチは、１μｍ以上、１０μｍ以下である、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項7】
前記凸条部の高さは、前記微細凹凸構造の凸部の高さと実質的に同一である、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項8】
前記ラインマーカー領域において前記凸条部が断続的に形成されており、前記凸条部が形成されていない部分によって、文字、記号またはマーカーのうち少なくともいずれかを含む識別情報が視認可能に表示される、請求項１～７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項9】
前記識別情報は、前記光学フィルムの製造に用いられたロール原盤の周方向の基準位置を表すマーカーを含む、請求項８に記載の光学フィルム。
【請求項10】
前記識別情報は、前記光学フィルムの製造時のロット番号を表す文字または記号を含む、請求項８に記載の光学フィルム。
【請求項11】
前記光学フィルムは、長尺状のフィルムが巻回されたフィルムロールである、請求項１～１０のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項12】
前記光学フィルムは、所定形状を有するフィルムの枚葉品である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項13】
請求項１～１２のいずれか１項に記載の光学フィルムを、ロール原盤を用いて製造する光学フィルムの製造方法であって、
前記ロール原盤の外周面に、前記光学フィルムの前記凹凸パターン領域の前記微細凹凸構造の反転形状を有する原盤微細凹凸構造が形成されている原盤凹凸パターン領域と、前記ロール原盤の全周に渡って帯状に設けられ、前記光学フィルムの前記ラインマーカー領域の前記凸条部の反転形状を有する螺旋状の溝が形成されている原盤ラインマーカー領域と、を含む、前記ロール原盤を準備する工程と、
前記光学フィルムの前記基材の表面に硬化性樹脂からなる樹脂層を塗布する工程と、
前記ロール原盤の前記原盤凹凸パターン領域に形成されている前記原盤微細凹凸構造、および前記原盤ラインマーカー領域に形成されている前記溝を含む転写パターンを、前記光学フィルムの前記樹脂層に転写して、前記光学フィルムの前記凹凸パターン領域の前記微細凹凸構造と前記光学フィルムの前記ラインマーカー領域の前記凸条部を前記樹脂層に一体形成する工程と、
を含む、光学フィルムの製造方法。
前記ロール原盤の外周面に、前記光学フィルムの前記凹凸パターン領域の前記微細凹凸構造の反転形状を有する原盤微細凹凸構造が形成されている原盤凹凸パターン領域と、前記ロール原盤の全周に渡って帯状に設けられ、前記光学フィルムの前記ラインマーカー領域の前記凸条部の反転形状を有する螺旋状の溝が形成されている原盤ラインマーカー領域と、を含む、前記ロール原盤を準備する工程と、
前記光学フィルムの前記基材の表面に硬化性樹脂からなる樹脂層を塗布する工程と、
前記ロール原盤の前記原盤凹凸パターン領域に形成されている前記原盤微細凹凸構造、および前記原盤ラインマーカー領域に形成されている前記溝を含む転写パターンを、前記光学フィルムの前記樹脂層に転写して、前記光学フィルムの前記凹凸パターン領域の前記微細凹凸構造と前記光学フィルムの前記ラインマーカー領域の前記凸条部を前記樹脂層に一体形成する工程と、
を含む、光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、微細加工技術の一つとして、外周面に微細凹凸構造が形成されたロール原盤をフィルムに押し当て、ロール原盤の微細凹凸構造をフィルムに転写するインプリント技術の開発が進められている。このインプリント技術を用いて、例えば、可視光の波長以下の周期（ピッチ）で配列された微細凹凸構造（いわゆるモスアイ構造）を、可撓性を有する透明なプラスチックフィルム（以下、「透明フィルム」という。）の表面に転写することができる。これによって、透明フィルムに反射防止機能を付与して、反射防止機能を有する光学フィルム（以下、「反射防止フィルム」という場合もある。）を製造することができる。
【0003】
この場合、ロール原盤を用いたロール・ツー・ロール（Ｒｏｌｌ－Ｔｏ－Ｒｏｌｌ）方式のインプリント技術を用いることで、微細凹凸構造が転写された反射防止フィルムのフィルムロールを効率よく量産することが可能になる。詳細には、インプリント・プロセスでは、ロールから巻き解かれた長尺状のフィルム基材の表面に硬化性樹脂層を塗布し、当該硬化性樹脂層に対してロール原盤の外周面の微細凹凸構造を転写する。その後、硬化性樹脂層を硬化させることにより、表面に微細凹凸構造が転写された反射防止フィルムが製造され、フィルムロールに巻き取られる。次いで、このフィルムロールから長尺状の反射防止フィルムを送り出して、個片に切断することで、所定形状の反射防止フィルムの枚葉品が得られる。さらに、この枚葉化された反射防止フィルムを、所望形状に切り抜く、あるいは型抜きすることで、例えば、アイシールド、フェイスシールドなどのシールド部材が製造される。
【0004】
例えば、特許文献１には、外科手術時等の非常に強度の高い照明システム下でも、反射光が少なく、かつ防曇性能を有するアイシールドが開示されている。この特許文献１のアイシールドは、可撓性を有する透明フィルムからなり、当該透明フィルムの両面に、反射防止特性を有するモスアイ構造が形成されている。これにより、透明フィルムの光線透過率（波長５５０ｎｍ）を９８．５％以上として、強度の高い照明下でも反射光が少ない透明なアイシールドを提供できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１４－１５５６８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、上記特許文献１に記載のように高透過率を有する反射防止フィルムは、ハンドリング時の視認性が低いという問題があった。即ち、上記のように反射防止フィルムの透明度が高く、その反射光が少ないと、ユーザは、透明な反射防止フィルムを視認することができない、または困難となる。このため、当該反射防止フィルムの枚葉品をハンドリングする時（例えば、アイシールドの持ち運び、着脱時等）に、うまく取り扱うことができなかったり、落とした反射防止フィルムを見つけることが困難であったり、という不便さがある。このため、従来では、反射防止フィルムのうち透明な領域が大半を占めつつ、その一部に視認可能な領域を形成して、ユーザによる反射防止フィルムのハンドリング性を向上することが希求されていた。
【0007】
一方、反射防止フィルムの製造工程において、上記反射防止機能を付与するための微細凹凸構造の転写工程以外に、反射防止フィルムの一部に視認可能な領域を形成するための別工程を追加してしまうと、工程数の増加により反射防止フィルムの生産性が低下するという問題がある。したがって、転写工程とは別の工程を追加することなく、反射防止フィルムの一部に視認可能な領域を容易に形成可能にすることも希求されていた。
【0008】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、光学フィルムをハンドリングする際の視認性を向上でき、かつ、光学フィルムの表面に反射防止領域と視認可能領域を同一の加工工程で容易に形成可能にすることにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、
可撓性を有する基材と、
前記基材の少なくとも一方の表面に積層される樹脂層と、
を備え、
前記樹脂層は、
可視光の波長以下のピッチで配列された複数の凸部または凹部からなる微細凹凸構造が形成される凹凸パターン領域と、
可視光の波長以上のトラックピッチで相互に間隔を空けて配列される複数の凸条部が形成される帯状のラインマーカー領域と、
を含む、光学フィルムが提供される。
可撓性を有する基材と、
前記基材の少なくとも一方の表面に積層される樹脂層と、
を備え、
前記樹脂層は、
可視光の波長以下のピッチで配列された複数の凸部または凹部からなる微細凹凸構造が形成される凹凸パターン領域と、
可視光の波長以上のトラックピッチで相互に間隔を空けて配列される複数の凸条部が形成される帯状のラインマーカー領域と、
を含む、光学フィルムが提供される。
【0010】
前記複数の凸条部は、前記ラインマーカー領域の長手方向に沿って延びる直線状であり、相互に平行に配列されるようにしてもよい。
【0011】
前記ラインマーカー領域における前記凸条部の周期構造により、前記ラインマーカー領域に入射する光が回折および干渉することによって、波長ごとに分光された視認可能な光が前記ラインマーカー領域から出射されるようにしてもよい。
【0012】
前記凹凸パターン領域は、前記微細凹凸構造により反射防止機能が付与された透明領域であり、
前記ラインマーカー領域は、前記凸条部の周期構造により回折格子として機能する視認可能領域であるようにしてもよい。
前記ラインマーカー領域は、前記凸条部の周期構造により回折格子として機能する視認可能領域であるようにしてもよい。
【0013】
前記凸条部の前記トラックピッチは、５００ｎｍ以上、１ｍｍ以下であるようにしてもよい。
【0014】
前記凸条部の前記トラックピッチは、１μｍ以上、１０μｍ以下であるようにしてもよい。
【0015】
前記凸条部の高さは、前記微細凹凸構造の凸部の高さと実質的に同一であるようにしてもよい。
【0016】
前記ラインマーカー領域において前記凸条部が断続的に形成されており、前記凸条部が形成されていない部分によって、文字、記号またはマーカーのうち少なくともいずれかを含む識別情報が視認可能に表示されるようにしてもよい。
【0017】
前記識別情報は、前記光学フィルムの製造に用いられたロール原盤の周方向の基準位置を表すマーカーを含むようにしてもよい。
【0018】
前記識別情報は、前記光学フィルムの製造時のロット番号を表す文字または記号を含むようにしてもよい。
【0019】
前記光学フィルムは、長尺状のフィルムが巻回されたフィルムロールであるようにしてもよい。
【0020】
前記光学フィルムは、所定形状を有するフィルムの枚葉品であるようにしてもよい。
【0021】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、
前記光学フィルムを、ロール原盤を用いて製造する光学フィルムの製造方法であって、
前記ロール原盤の外周面に、前記光学フィルムの前記凹凸パターン領域の前記微細凹凸構造の反転形状を有する原盤微細凹凸構造が形成されている原盤凹凸パターン領域と、前記ロール原盤の全周に渡って帯状に設けられ、前記光学フィルムの前記ラインマーカー領域の前記凸条部の反転形状を有する螺旋状の溝が形成されている原盤ラインマーカー領域と、を含む、前記ロール原盤を準備する工程と、
前記光学フィルムの前記基材の表面に硬化性樹脂からなる樹脂層を塗布する工程と、
前記ロール原盤の前記原盤凹凸パターン領域に形成されている前記原盤微細凹凸構造、および前記原盤ラインマーカー領域に形成されている前記溝を含む転写パターンを、前記光学フィルムの前記樹脂層に転写して、前記光学フィルムの前記凹凸パターン領域の前記微細凹凸構造と前記光学フィルムの前記ラインマーカー領域の前記凸条部を前記樹脂層に一体形成する工程と、
を含む、光学フィルムの製造方法が提供される。
前記光学フィルムを、ロール原盤を用いて製造する光学フィルムの製造方法であって、
前記ロール原盤の外周面に、前記光学フィルムの前記凹凸パターン領域の前記微細凹凸構造の反転形状を有する原盤微細凹凸構造が形成されている原盤凹凸パターン領域と、前記ロール原盤の全周に渡って帯状に設けられ、前記光学フィルムの前記ラインマーカー領域の前記凸条部の反転形状を有する螺旋状の溝が形成されている原盤ラインマーカー領域と、を含む、前記ロール原盤を準備する工程と、
前記光学フィルムの前記基材の表面に硬化性樹脂からなる樹脂層を塗布する工程と、
前記ロール原盤の前記原盤凹凸パターン領域に形成されている前記原盤微細凹凸構造、および前記原盤ラインマーカー領域に形成されている前記溝を含む転写パターンを、前記光学フィルムの前記樹脂層に転写して、前記光学フィルムの前記凹凸パターン領域の前記微細凹凸構造と前記光学フィルムの前記ラインマーカー領域の前記凸条部を前記樹脂層に一体形成する工程と、
を含む、光学フィルムの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【0022】
以上説明したように本発明によれば、光学フィルムをハンドリングする際の視認性を向上でき、かつ、光学フィルムの表面に反射防止領域と視認可能領域を同一の加工工程で容易に形成可能になる。
【図面の簡単な説明】
【0023】
【図1】本発明の一実施形態に係る光学フィルムのフィルムロールを示す斜視図である。
【図2】同実施形態に係る光学フィルムを示す部分拡大断面図である。
【図3】同実施形態に係る光学フィルムを示す部分拡大斜視図である。
【図4】同実施形態に係る光学フィルムにおける微細凹凸構造の例を示す平面図である。
【図5】同実施形態に係るロール原盤を模式的に示す斜視図である。
【図6】同実施形態に係るロール原盤の製造に用いられる露光装置の構成を示すブロック図である。
【図7】同実施形態に係るロール原盤の露光方法を概略的に示す模式図である。
【図8】同実施形態に係る露光信号と露光パターンとの対応関係を示す説明図である。
【図9】同実施形態に係るロール原盤の製造方法を示す工程図である。
【図10】同実施形態に係るロール原盤の製造方法を示す工程図である。
【図11】同実施形態に係る光学フィルムの製造方法を示す工程図である。
【図12】同実施形態に係る光学フィルムの製造方法を示す工程図である。
【図13】同実施形態に係る転写装置の構成を示す模式図である。
【図14】同実施形態に係る光学フィルムから複数枚のアイシールドを打ち抜き加工する例を示す平面図である。
【図15】同実施形態に係る光学フィルムとロール原盤の欠陥と、マーカーを示す説明図である。
【図16】同実施形態に係る光学フィルムのラインマーカー領域に形成されたマーカー、抜き文字を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0024】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易にするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。
【0025】
[１．光学フィルムの構成]
[１．１．光学フィルムの概略構成］
まず、図１～図３を参照して、本発明の一実施形態に係る光学フィルム１の概略構成について説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム１のフィルムロールを示す斜視図である。図２は、本実施形態に係る光学フィルム１を示す部分拡大断面図であり、図１のＡ－Ａ線における部分拡大断面を示している。図３は、本実施形態に係る光学フィルム１を示す部分拡大斜視図である。
[１．１．光学フィルムの概略構成］
まず、図１～図３を参照して、本発明の一実施形態に係る光学フィルム１の概略構成について説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム１のフィルムロールを示す斜視図である。図２は、本実施形態に係る光学フィルム１を示す部分拡大断面図であり、図１のＡ－Ａ線における部分拡大断面を示している。図３は、本実施形態に係る光学フィルム１を示す部分拡大斜視図である。
【0026】
図１～図３に示すように、本実施形態に係る光学フィルム１は、反射防止機能を有する透明な光学フィルム（反射防止フィルム）であり、可視光に対して透明性を有している。例えば、光学フィルム１は、その表面に反射防止特性を有する微細凹凸構造２０が形成されたモスアイフィルムである。なお、本実施形態では、主に、光学フィルム１の一方の表面に微細凹凸構造２０等の構造体が形成される例について説明するが、光学フィルム１の両方の表面（表裏両面）に微細凹凸構造２０の構造体が形成されてもよい。
【0027】
一般に、透明フィルムの表面に周期的な凹凸構造を設けた場合、当該凹凸構造を光が透過するときには回折が発生し、透過光の直進成分が大幅に減少する。しかし、凹凸構造のピッチが透過する可視光の波長よりも短い場合には、回折は発生せず、凹凸構造のピッチや深さなどに対応する波長の光に対して有効な反射防止効果を得ることができる。このような、可視光の波長以下のピッチを有する微細凹凸構造２０は、モスアイ構造とも称される。
【0028】
光学フィルム１の表面に微細凹凸構造２０を形成することで、光学フィルム１と空気との界面での反射を有効に抑えることができる。例えば、光学フィルム１をアイシールドまたはフェイスシールドに用いる場合、外光の反射を抑制し、使用者の視界を良好に保つことが求められる。この観点では、光学フィルム１の屈折率ｎは、１．４０以上、２．００以下であることが好ましく、１．４３以上２．００以下であることがより好ましい。また、光学フィルム１において、波長５５０ｎｍの光の透過率は、９４．０％以上であることが好ましく、９８．０％以上、特に９８．５％以上であることがより好ましい。
【0029】
図１の例の光学フィルム１は、可撓性を有する長尺状のフィルムがロール状に巻回されたフィルムロールとなっている。しかし、本発明の光学フィルムは、かかる例に限定されず、所定形状（例えば所定寸法の矩形状）を有する平坦なフィルムの枚葉品であってもよい。フィルムロールから巻き解かれた光学フィルム１に対して、裁断加工または打ち抜き加工等の成形加工を施すことにより、光学フィルム１の製品（枚葉品）が得られる。
【0030】
【0031】
凹凸パターン領域２は、微細凹凸構造２０により反射防止機能が付与された透明領域（反射防止領域）である。凹凸パターン領域２には、可視光の波長以下（例えば３５０ｎｍ以下）のピッチＰで配列された複数の凸部２１および凹部２２からなる微細凹凸構造２０が形成されている。このため、光学フィルム１の凹凸パターン領域２では、反射率は非常に低く、光線透過率が高い。このため、ユーザは、光学フィルム１のうち透明な凹凸パターン領域２を、肉眼により視認しにくい。
【0032】
一方、ラインマーカー領域３は、ユーザにとって視認可能な不透明領域（視認可能領域）である。ラインマーカー領域３には、上記凹凸パターン領域２のような微細凹凸構造２０が形成されておらず、反射防止機能が付与されていない。ラインマーカー領域３には、相互に間隔を空けて平行に配列される複数の凸条部３１が形成されている。各々の凸条部３１は、ラインマーカー領域３の長手方向に沿って延びる直線状の凸部である。複数の凸条部３１が、可視光の波長以上のマイクロメートルサイズ（例えば５００ｎｍ以上、１ｍｍ以下）のトラックピッチＰｔで周期的に配列されている。かかる周期構造を有する凸条部３１が形成されたラインマーカー領域３は、可視光を回折させる回折格子として機能する。
【0033】
このようなラインマーカー領域３における複数の凸条部３１の周期構造により、ラインマーカー領域３に入射する光が回折および干渉する。このため、ラインマーカー領域３から出射する光（透過光、反射光）は、波長ごと（色ごと）に分光された拡散光となり、ユーザに視認可能な虹色の光となる。このように、ラインマーカー領域３は、回折格子機能を有する視認可能領域であり、虹色の拡散光を出射する。この結果、ラインマーカー領域３は、複数の凸条部３１の周期構造により回折格子として機能する視認可能領域となる。
【0034】
凹凸パターン領域２は、光学フィルム１の表面のうち大半の領域を占める。一方、ラインマーカー領域３は、光学フィルム１において所定方向（例えば帯状の光学フィルム１の長手方向）に延びる帯状の領域である。ラインマーカー領域３は、光学フィルム１の表面のうち一部の狭い領域に部分的に配置される。
【0035】
図１の例では、ラインマーカー領域３は、長尺状の光学フィルム１の長手方向（Ｘ方向）に沿って直線的に延びる帯状である。また、２本のラインマーカー領域３、３が、光学フィルム１の幅方向（Ｙ方向）の両端部付近に配置され、それぞれのラインマーカー領域３、３が光学フィルム１の長手方向（Ｘ方向）に沿って直線的に延びている。この細長い２本のラインマーカー領域３、３に挟まれるようにして、凹凸パターン領域２が配置されている。このように、図１の例では、光学フィルム１の幅方向（Ｙ方向）の中央部に幅広の凹凸パターン領域２が配置され、当該凹凸パターン領域２の幅方向（Ｙ方向）の両側に、帯状の２本のラインマーカー領域３、３が配置されている。
【0036】
しかし、凹凸パターン領域２とラインマーカー領域３の配置パターンは、図１の例に限定されず、多様に変更可能である。例えば、ラインマーカー領域３は、１本だけ配置されてもよいし、３本以上配置されてもよい。ラインマーカー領域３は、直線的な帯状でなくても、湾曲した帯状、ジグザグの帯状など、任意の線状の帯状であってもよい。また、ラインマーカー領域３は、帯状でなくでも、点線状、破線状、ドット状、環状、円形、楕円形、多角形など、任意の形状であってよい。
【0037】
ただし、光学フィルム１の透明領域を広く確保するためには、凹凸パターン領域２の面積は、ラインマーカー領域３の面積よりも大きいことが好ましい。また、凹凸パターン領域２は、光学フィルム１の幅方向の中央側に配置され、ラインマーカー領域３は、光学フィルム１の幅方向の端部側に配置されることが好ましい。
【0038】
以上のように、本実施形態に係る光学フィルム１は、ラインマーカー付きの透明フィルムである。光学フィルム１は、可視光の波長以下のピッチＰで配列される微細凹凸構造２０が形成された凹凸パターン領域２に隣接して、ロール周方向に帯状に延びるラインマーカー領域３を有する。即ち、光学フィルム１には、透明で視認しにくい凹凸パターン領域２に加えて、不透明で視認容易なラインマーカー領域３が設けられている。
【0039】
したがって、ユーザは、透明な凹凸パターン領域２を透過する光を視認するのは困難であるが、回折格子として機能するラインマーカー領域３から出射される虹色の拡散光を、容易に視認可能である。よって、ユーザは、光学フィルム１のうちラインマーカー領域３からの虹色の拡散光を視認することによって、光学フィルム１の存在やその位置、大きさ、向きなどを認識できる。この結果、光学フィルム１を用いた透明な製品、例えば、アイシールドやフェイスシールドなどのシールド製品が、ユーザにとって容易に視認可能となる。したがって、当該製品をハンドリングする際の肉眼による視認性を向上させ、ユーザの利便性を向上させることができる。
【0040】
【0041】
図２、図３に示すように、光学フィルム１は、可撓性を有する透明な基材１１と、基材１１の少なくとも一方の表面に積層される透明な樹脂層１２とを備える。このように、本実施形態に係る光学フィルム１は、少なくとも基材１１と樹脂層１２を含む２層構造を有する。しかし、かかる例に限定されず、基材１１と樹脂層１２の間に、密着性を高めるための密着層（図示せず。）等の別の中間層を設けて、３層以上の多層構造としてもよい。また、基材１１の表裏両面に樹脂層１２、１２を設けて、３層以上の多層構造としてもよい。また、樹脂層１２の表面上に被覆層などを追加してもよい。
【0042】
基材１１は、可撓性を有する透明なフィルム基材である。基材１１は、１枚のシート状の透明部材で構成されてもよいし、複数枚のシート状の透明部材の貼り合せにより構成されてもよい。基材１１の厚さは、光学フィルム１の用途に応じて適宜選択され、用途に応じた可撓性や剛性、厚み等を付与することが好ましい。
【0043】
基材１１の材料としては、例えば、透明性を有するプラスチック材料、またはガラス材料などが挙げられる。詳細には、基材１１のプラスチック材料としては、例えば、メチルメタクリレート（共）重合体、ポリカーボネート、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート－スチレン共重合体、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、ガラス等が挙げられる。また、基材１１のガラス材料としては、例えば、ソーダライムガラス、鉛ガラス、硬質ガラス、石英ガラス、液晶化ガラス等が挙げられる。しかし、基材１１の材料は、上記で例示した材料に特に限定されるものではない。
【0044】
基材１１としてプラスチック材料を用いる場合、プラスチック材料の表面の表面エネルギー、塗布性、すべり性、平面性などをより改善するために、表面処理により下塗り層（図示せず。）をさらに設けるようにしてもよい。この下塗り層としては、例えば、オルガノアルコキシメタル化合物、ポリエステル、アクリル変性ポリエステル、ポリウレタンなどが挙げられる。また、下塗り層を設けるのと同等の効果を得るために、基材１１の表面に対してコロナ放電処理、ＵＶ照射処理などを行うようにしてもよい。
【0045】
基材１１は、例えば、上述の樹脂を伸延、あるいは溶剤に希釈後フィルム状に成膜して乾燥するなどの方法で形成され得る。基材１１の厚さは、光学フィルム１の用途に応じて適宜選択することが好ましく、例えば、１０μｍ以上５００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以上５００μｍ以下、さらに好ましくは５０μｍ以上３００μｍ以下程度である。基材１１の厚さが１０μｍ以上であると、飛来物に対する光学フィルム１の保護性能が向上する。一方、基材１１の厚さが５００μｍ以下であると、光学フィルム１を軽量化でき、また可撓性を有することで湾曲変形できる。よって、光学フィルム１をアイシールド等のシールド部材として用いたときに、装着感が向上する。
【0046】
樹脂層１２は、透明性を有する樹脂製の層であり、基材１１の表面上に積層される。光学フィルム１の内部反射を抑制し、コントラストを向上するために、樹脂層１２の屈折率は、基材１１の屈折率と同様であることが好ましい。また、樹脂層１２は、基材１１と同等の透明性を有することが好ましい。樹脂層１２には、凹凸パターン領域２の微細凹凸構造２０や、ラインマーカー領域３の複数の凸条部３１などの構造物の凹凸パターンが形成される。本実施形態では、微細凹凸構造２０および複数の凸条部３１は、同一の樹脂層１２に対して、同一の工程で同様な加工方法（後述するロール原盤による転写加工）により形成されている。
【0047】
樹脂層１２は、硬化性樹脂で形成される層である。樹脂層１２は、例えば、エネルギー線硬化性樹脂組成物などの硬化性樹脂組成物（転写材料）の硬化物で形成される。樹脂層１２の形成工程では、まず、上記基材１１の表面上に転写材料としてエネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して、当該エネルギー線硬化性樹脂組成物に上記微細凹凸構造２０等の凹凸パターンを転写する。その後に、エネルギー線の照射により硬化性樹脂組成物を硬化させる。これにより、凹凸パターンが転写された樹脂層１２が基材１１の表面上に形成される。
【0048】
エネルギー線硬化性樹脂組成物は、エネルギー線を照射することにより硬化する特性を有する樹脂である。こでこ、エネルギー線は、例えば、紫外線、電子線、赤外線、レーザ光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線など）、マイクロ波、または高周波などであってよい。取り扱いの容易性等の観点から、エネルギー線硬化性樹脂組成物として、例えば、紫外線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。
【0049】
また、エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じてフィラーまたは機能性添加剤などを含んでもよい。例えば、紫外線硬化性樹脂組成物は、アクリレートまたは開始剤を含んでもよく、単官能モノマー、二官能モノマー、多官能モノマー等を含んでもよい。
【0050】
また、エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物は、親水性を有してもよい。このために、エネルギー線硬化性樹脂組成物は、親水性を有する官能基を１種以上含んでいることが好ましい。このような親水性を有する官能基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、およびカルボニル基などが挙げられる。
【0051】
［１．３．凹凸パターン領域の微細凹凸構造の構成］
次に、図２～図４を参照して、本実施形態に係る光学フィルム１の凹凸パターン領域２（反射防止領域）に形成された微細凹凸構造２０の凹凸パターン配列について、より詳細に説明する。図４は、本実施形態に係る光学フィルム１における微細凹凸構造２０の例を示す平面図である。
次に、図２～図４を参照して、本実施形態に係る光学フィルム１の凹凸パターン領域２（反射防止領域）に形成された微細凹凸構造２０の凹凸パターン配列について、より詳細に説明する。図４は、本実施形態に係る光学フィルム１における微細凹凸構造２０の例を示す平面図である。
【0052】
図２～図４に示すように、微細凹凸構造２０（モスアイ構造）は、可視光の波長以下のピッチＰで配列された複数の凸部２１および凹部２２からなる。光学フィルム１の全表面のうち凹凸パターン領域２の樹脂層１２に微細凹凸構造２０を設けることにより、凹凸パターン領域２の表面（ＸＹ平面）が、モスアイ構造の凹凸面となる。
【0053】
微細凹凸構造２０を構成する複数の凸部２１は、光学フィルム１の表面に対して垂直な方向（Ｚ方向）に突出している。凹部２２は、相隣接する複数の凸部２１、２１間に設けられる凹んだ部分である。
【0054】
凸部２１の立体形状は、例えば、錐体状（釣鐘形状、楕円錐台形状等）、半球状、半楕円球状、柱状などの種々の凸形状であってよい。錐体状としては、例えば、頂部が尖った錐体状、頂部が平坦な錐体状、頂部に凸状または凹状の曲面を有する錐体状が挙げられる。頂部に凸状の曲面を有する錐体状としては、例えば、放物面状などの２次曲面状が挙げられる。また、錐体状の錐面を凹状または凸状に湾曲させるようにしてもよい。
【0055】
また、図４に示すように、光学フィルム１の表面（ＸＹ平面）に凸部２１を投影したときの凸部２１の平面形状（ドット形状）は、例えば円形であるが、かかる例に限定されず、楕円形、長円状など、曲線を有する任意の形状であってよい。
【0056】
なお、凸部２１の立体形状および平面形状は、上記に例示した形状に限定されない。また、上記の円形、楕円形、球状、半球状、半楕円球状などの形状には、数学的に定義される完全な円、楕円、球、半球、半楕円などの形状のみならず、多少の歪みが付与された円、楕円、球、半球、半楕円などの形状も含まれる。また、図２～図４の例では、微細凹凸構造２０の複数の凸部２１は、同一の大きさ、形状および高さＨを有している。しかし、凸部２１の構成はこれに限定されるものではなく、樹脂層１２の表面に２種以上の大きさ、形状および高さを有する凸部２１が形成されていてもよい。
【0057】
微細凹凸構造２０の凸部２１および凹部２２（以下、「微細凹凸構造２０の凹凸」と称する場合もある。）は、樹脂層１２の表面（ＸＹ平面）上に、所定のピッチＰで周期的に配列されている。このように、微細凹凸構造２０は、ＸＹ平面上に複数の凸部２１および凹部２２が周期的に配列された周期構造を有する。ここで、ピッチＰとは、図２、図３に示すように、相互に隣接する凸部２１、２１の間の中心間距離（頂点間距離）、若しくは、相互に隣接する凹部２２、２２の間の中心間距離（底部間距離）である。このように、微細凹凸構造２０の凹凸のピッチＰは、微細凹凸構造２０の周期構造の周期を意味する。
【0058】
なお、微細凹凸構造２０の凹凸のピッチＰは、微細凹凸構造２０の相隣接する凸部２１、２１間または凹部２２、２２間の中心間距離の算術平均値（平均ピッチ、平均周期）であってよい。例えば、微細凹凸構造２０において相隣接する複数の凸部２１、２１の組合せを複数組ピックアップし、各組合せの凸部２１、２１間の中心間距離を測定し、これら測定値の算術平均値（平均ピッチ、平均周期）をピッチＰとして算出することができる。なお、微細凹凸構造２０の凹凸パターンは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、または断面透過型電子顕微鏡（断面ＴＥＭ）などを用いて観察可能である。
【0059】
本実施形態では、可視光の反射防止特性を付与するため、微細凹凸構造２０の凹凸のピッチＰは、可視光の波長以下である。ここで、可視光の波長帯域は３６０ｎｍ～８３０ｎｍであるが、本実施形態に係る微細凹凸構造２０の凹凸は、可視光の波長帯域未満のピッチＰで規則的に配列される。かかる観点から、微細凹凸構造２０の凹凸のピッチＰは、例えば、３５０ｎｍ以下であり、好ましくは２５０ｎｍ以下であり、例えば２００ｎｍ程度であってよい。また、微細凹凸構造２０の凹凸のピッチＰは、例えば、１００ｎｍ以上であり、好ましくは１２０ｎｍ以上であり、より好ましくは１３０ｎｍ以上である。ピッチＰが１００ｎｍ未満である場合、微細凹凸構造２０の形成が困難になる可能性があるため、好ましくない。一方、ピッチＰが３５０ｎｍを超える場合、回折光の強度が大きくなる可能性があり、微細凹凸構造２０の形成された表面で外来光が回折し、反射防止効果が低下する可能性があるため、好ましくない。ピッチＰが３５０ｎｍ以下であれば、微細凹凸構造２０の反射防止特性を向上して、所望の反射防止効果を得ることができる。
【0060】
図２、図３に示すように、微細凹凸構造２０の凸部２１の高さＨ（または凹部２２の深さ）は、特に制限はないが、例えば、１００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下、好ましくは１５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下である。微細凹凸構造２０の凸部２１の高さＨは、微細凹凸構造２０を構成する複数の凸部２１の高さの算術平均値（平均高さ）であってよい。例えば、微細凹凸構造２０を構成する複数の凸部２１の高さをそれぞれ測定し、これら測定値の算術平均値（平均高さ）を高さＨとして算出することができる。
【0061】
微細凹凸構造２０の凸部２１のアスペクト比（高さＨ／配置ピッチＰ）は、好ましくは０．６６以上１．９６以下、より好ましくは０．７６以上１．９６以下である。アスペクト比が０．６６以上であると、低反射特性を向上できる。一方、アスペクト比が１．９６以下であると、微細凹凸構造２０をロール原盤から剥離するときの離型性などを向上できる。
【0062】
微細凹凸構造２０の凸部２１のサイズＤは、図４に示すように、微細凹凸構造２０の凸部２１（または凹部２２）を光学フィルム１の表面（ＸＹ平面）上に投影したときの凸部２１（または凹部２２）の平面形状の大きさ（ドットサイズ）である。例えば、凸部２１の平面形状が円である場合、凹凸のサイズＤは当該円の直径であり、凸部２１の平面形状が楕円である場合、凹凸のサイズＤは当該楕円の長径である。
【0063】
微細凹凸構造２０の凹凸のサイズＤは、後述するロール原盤の製造方法においてロール原盤の外周面に微細凹凸構造の凹凸パターンを露光するときの露光解像度等に応じて、決定される。微細凹凸構造２０の凹凸のサイズＤは、当該凹凸のピッチＰ以下（例えば３５０ｎｍ以下）であり、好ましくは当該凹凸のピッチＰと同等であり、例えば、２００ｎｍ程度である。例えば図４に示すように、凹凸のサイズＤをピッチＰと同等にすれば、微細凹凸構造２０のＸＹ平面上において複数の凸部２１を密集配置して、相隣接する凸部２１、２１の隙間の面積を低減することができる。なお、微細凹凸構造２０の凹凸のサイズＤは、微細凹凸構造２０を構成する複数の凸部２１（または凹部２２）の平面形状の大きさの算術平均値（平均サイズ）であってよい。例えば、微細凹凸構造２０を構成する複数の凸部２１の平面形状の大きさをそれぞれ測定し、これら測定値の算術平均値（平均サイズ）をサイズＤとして算出することができる。
【0064】
ここで、図４を参照して、本実施形態に係る光学フィルム１の表面（ＸＹ平面）における微細凹凸構造２０の凹凸パターンの配列について、より詳細に説明する。なお、図４では、Ｘ方向が光学フィルム１の長手方向に相当し、Ｙ方向が光学フィルム１の幅方向に相当し、Ｚ方向が光学フィルム１の厚さ方向に相当する。
【0065】
図４に示すように、本実施形態に係る光学フィルム１の表面上には、微細凹凸構造２０の複数の凸部２１が六方格子状に配列されている。六方格子状の配列では、複数の凸部２１がＸＹ平面上で六角形格子の頂点の位置に配置される。なお、図４の例では、凸部２１の平面形状は円形であるが、楕円など他の形状であってもよい。
【0066】
ここで、複数の凸部２１は、相互に平行な複数のトラックＴに沿って配列されている。換言すると、複数の凸部２１は、光学フィルム１の表面において複数列のトラックＴに沿って配列されている。
【0067】
トラックＴは、光学フィルム１のＸＹ平面上において所定の第１方向に延びる仮想直線であり、微細凹凸構造２０の凹凸パターンの配列方向を示す。複数のトラックＴが、第１の方向に対して垂直な第２方向に所定の間隔（トラックピッチＰＴ）を空けて配置される。ここで、第１方向は、トラックＴが延びる方向（以下、「トラック延長方向」と称する。）である。第２方向は、複数のトラックＴが配列される方向（以下、「トラックピッチ方向」と称する。）であって、第１方向に対して垂直な方向である。例えば、図４に示すように、第１方向（トラック延長方向）は、光学フィルム１の長手方向（Ｘ方向）であってよく、第２方向（トラックピッチ方向）は、例えば、光学フィルム１の幅方向（Ｙ方向）であってよい。しかし、かかる例に限定されず、トラック延長方向は、光学フィルム１の長手方向（Ｘ方向）以外の任意の方向であってよい。
【0068】
ここで、図４に示すように、ドットピッチＰＤは、トラックＴに沿って、トラック延長方向（Ｘ方向）に配列される複数の凸部２１のピッチ（周期）である。トラックピッチＰＴは、トラックピッチ方向（Ｙ方向）に隣接する複数のトラックＴ、Ｔ間の相互間隔である。
【0069】
ドットピッチＰＤとトラックピッチＰＴは、上述したピッチＰと同様に、可視光帯域の波長以下であり、例えば、３５０ｎｍ以下であり、好ましくは２５０ｎｍ以下であり、例えば２００ｎｍ程度であってよい。また、ＰＤ、ＰＴは、例えば、１００ｎｍ以上であり、好ましくは１２０ｎｍ以上であり、より好ましくは１３０ｎｍ以上である。これにより、微細凹凸構造２０は、広範な波長帯域の入射光の反射を抑制する、いわゆるモスアイ構造として機能することができる。
【0070】
ドットピッチＰＤとトラックピッチＰＴは、上記の範囲内であれば、互いに同一の大きさであってもよし、異なる大きさであってもよい。図４の例では、ドットピッチＰＤがトラックピッチＰＴよりも大きくなっている（ＰＤ>ＰＴ）。例えば、ＰＤ＝２３０ｎｍ、ＰＴ＝１５０ｎｍとすることができる。
【0071】
また、図４に示す微細凹凸構造２０の六方格子状の配列では、Ｙ方向に隣接するトラックＴ、Ｔ間で、凸部２１は、Ｘ方向に半ピッチ（１／２ＰＤ）だけずれた位置に配置されている。すなわち、Ｙ方向に隣接するトラックＴ、Ｔ間で、Ｘ方向に配列される凸部２１の位相が半周期（１８０°）だけずれている。具体的には、隣接する２つのトラックＴ、Ｔ間において、一方のトラックＴに配列された凸部２１のＸ方向の中間位置（半ピッチずれた位置）に、他方のトラックＴに配列された凸部２１が配置されている。その結果、図４に示すように、隣接する３列のトラックＴにおいて複数の凸部２１が六方格子状のパターンで配置される。
【0072】
このように、凸部２１の配列をトラックＴごとに半ピッチ（１／２ＰＤ）ずらすことにより、ＸＹ平面上に複数の凸部２１を最密な六方格子状に配列できる。したがって、ＸＹ平面上において複数の凸部２１が占める面積の割合（凸部２１の充填率）を最大化できるので、単位面積当たりの反射防止機能を向上できる。
【0073】
なお、微細凹凸構造２０の凹凸の配列は、上記の六方格子状の例に限定されず、他の配列態様であってもよい。例えば、微細凹凸構造２０の凹凸の配列は、凸部２１が正方形格子の頂点の位置に配列される正方格子状の配列、または、矩形格子状、その他の格子状の配列などであってもよい。ただし、凸部２１をＸＹ平面上に最密に充填するためには、六方格子状の配列であることが好ましい。
【0074】
また、トラックＴの形状としては、上記のような直線状のトラックＴの例に限られず、例えば、円弧状等の曲線状のトラックを同心円状に配列するなどしてもよい。また、これらの形状のトラックＴをウォブル（蛇行）させるようにしてもよい。このようにトラックＴをウォブルさせることで、外観上のムラの発生を抑制できる。
【0075】
【0076】
図２、図３に示すように、光学フィルム１の樹脂層１２の表面のうち、帯状のラインマーカー領域３には、複数の凸条部３１が形成されている。凸条部３１は、可視光の波長以上（例えば、５００ｎｍ以上）のトラックピッチＰｔで相互に間隔を空けて配列される。本実施形態に係る凸条部３１は、帯状のラインマーカー領域３の長手方向（Ｘ方向）に沿って延びる直線状の凸条である。この直線状の複数の凸条部３１が、ラインマーカー領域３の幅方向（Ｙ方向）に相互に間隔を空けて平行に配列される。
【0077】
ラインマーカー領域３において、相互に隣接する複数の凸条部３１の間には、基材１１の表面に対して平行な平坦部３２が形成されている。平坦部３２の平面形状は、ラインマーカー領域３の長手方向（Ｘ方向）に沿って延びる帯状である。凸条部３１と平坦部３２とは、ラインマーカー領域３の幅方向（Ｙ方向）に交互に配置されている。なお、相隣接する複数の凸条部３１の間の領域は、必ずしも平坦部３２である必要はなく、例えば、上記微細凹凸構造２０の凹凸パターン（ナノメートルサイズ）などの凹凸が形成されていてもよい。
【0078】
凸条部３１の断面形状（ＹＺ平面での断面）は、基材１１の表面に対して交差する方向に突出する形状であれば、任意の形状であってよい。図２、図３の例では、凸条部３１の断面形状は、例えば、頂部に凸状の曲面を有する釣鐘形状であり、上記の微細凹凸構造２０の凸部２１と同様の形状であるが、かかる例に限定されない。
【0079】
凸条部３１の断面形状は、例えば、錐体状（釣鐘形状、楕円錐台形状等）を切断した形状、半円状、半楕円状、略三角状などの種々の凸形状であってよい。錐体状としては、例えば、頂部が尖った錐体状、頂部が平坦な錐体状、頂部に凸状または凹状の曲面を有する錐体状が挙げられる。頂部に凸状の曲面を有する錐体状としては、例えば、放物面状などの２次曲面状が挙げられる。また、錐体状の錐面を凹状または凸状に湾曲させるようにしてもよい。
【0080】
なお、凸条部３１の断面形状は、上記に例示した形状に限定されない。また、上記の半円状、半楕円状、錐体などの形状には、数学的に定義される完全な半円、半楕円、錐体などの形状のみならず、多少の歪みが付与された半円、半楕円、錐体などの形状も含まれる。また複数の凸条部３１は、同一の大きさ、形状および高さｈを有している。しかし、凸条部３１の構成はこれに限定されるものではなく、樹脂層１２の表面に２種以上の大きさ、形状および高さｈを有する凸条部３１が形成されていてもよい。
【0081】
凸条部３１は、可視光の波長以上のトラックピッチＰｔで周期的に配列されている。ここで、凸条部３１のトラックとは、個々の凸条部３１の延長方向に沿った仮想中心線である。凸条部３１のトラックピッチＰｔとは、相互に隣接する凸条部３１、３１の間の相互間隔（中心間距離）である。このように、トラックピッチＰｔは、凸条部３１の周期構造の周期を意味する。
【0082】
なお、凸条部３１のトラックピッチＰｔは、複数の凸条部３１のピッチの算術平均値（平均ピッチ、平均周期）であってよい。例えば、相隣接する複数の凸条部３１、３１の組合せを複数組ピックアップし、各組合せの凸条部３１、３１間の中心間距離を測定し、これらの測定値の算術平均値（平均ピッチ、平均周期）をトラックピッチＰｔとして算出することができる。
【0083】
本実施形態に係る凸条部３１は、可視光の波長帯域以上のトラックピッチＰｔで規則的に配列される。凸条部３１のトラックピッチＰｔは、好ましくは５００ｎｍ以上、１ｍｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上、１０μｍ以下であり、例えば、１μｍ程度であってよい。トラックピッチＰｔが５００ｎｍ以上、１ｍｍ以下であれば、複数の凸条部３１の配置ピッチがミクロンオーダーの適切な範囲内となるので、複数の凸条部３１が回折格子として好適に機能する。さらに、トラックピッチＰｔが１μｍ以上、１０μｍ以下であれば、複数の凸条部３１の配置ピッチがミクロンオーダーの更に適切な範囲内となるので、複数の凸条部３１が回折格子として更に好適に機能する。
【0084】
凸条部３１の幅ｗは、凸条部３１が延びる方向（Ｘ方向）に対して垂直な方向（Ｙ方向）における凸条部３１の幅である。凸条部３１の幅ｗは、特に制限はないが、上記の微細凹凸構造２０の凹凸のサイズＤ（ドットサイズ）と同等であってよく、例えば、２００ｎｍ程度であってよい。凸条部３１の幅ｗは、複数の凸条部３１の幅の算術平均値（平均高さ）であってよい。例えば、複数の凸条部３１の幅をそれぞれ測定し、これら測定値の算術平均値（平均幅）を幅ｈとして算出することができる。
【0085】
凸条部３１の高さｈは、樹脂層１２の表面（平坦部３２の基準面）からの凸条部３１の突出高さである。凸条部３１の高さｈは、特に制限はないが、例えば、１００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下、好ましくは１５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下である。凸条部３１の高さｈは、複数の凸条部３１の高さの算術平均値（平均高さ）であってよい。例えば、複数の凸条部３１の高さをそれぞれ測定し、これら測定値の算術平均値（平均高さ）を高さｈとして算出することができる。
【0086】
凸条部３１の高さｈは、微細凹凸構造２０の凸部２１の高さＨと実質的に同一であることが好ましい。ここで、高さｈと高さＨとが実質的に同一であるとは、一方の高さに対して他方の高さが、±３０％の範囲内、好ましくは±１０％の範囲内、より好ましくは±５％の範囲内であることを意味する。高さｈと高さＨとが実質的に同一であれば、ラインマーカー領域３の凸条部３１と、凹凸パターン領域２の微細凹凸構造２０の凸部２１との間で高低差が生じない。よって、光学フィルム１をフィルムロール状に巻き取ったときに、巻き歪みが生じにくいという効果がある。
【0087】
凸条部３１のアスペクト比（高さｈ／配置ピッチＰｔ）は、好ましくは１．９６以下である。凸条部３１のアスペクト比が１．９６以下であると、凸条部３１をロール原盤から剥離するときの離型性などを向上できる。
【0088】
以上、本実施形態に係るラインマーカー領域３に設けられる複数の凸条部３１の構成について説明した。ラインマーカー領域３における複数の凸条部３１の周期構造により、ラインマーカー領域３に対する入射光が回折および干渉することによって、波長ごとに分光された視認可能な光（虹色光）がラインマーカー領域３から出射されるようになる。
【0089】
詳細には、ラインマーカー領域３における複数の凸条部３１の周期構造は、回折格子として機能する。一般に、回折格子は、直線状の凹凸がマイクロメートルサイズの周期（ピッチ）で並設されているものを指す。本実施形態に係るラインマーカー領域３には、直線状の複数の凸条部３１がマイクロメートルサイズのトラックピッチＰｔで平行に配列されたパターン（１次元周期パターン）が形成されている。
【0090】
このようなラインマーカー領域３における凸条部３１の１次元パターンは、回折格子として機能する。つまり、太陽光、蛍光灯、ＬＥＤランプ等の複数の色（波長）が混ざった光が、ラインマーカー領域３に入射すると、当該入射光は、凸条部３１からなる回折格子により回折および干渉する。ここで、ラインマーカー領域３を透過する透過光、またはラインマーカー領域３で反射する反射光のいずれであっても、凸条部３１からなる回折格子による回折と干渉が起きる。かかる回折と干渉により、ラインマーカー領域３に対する入射光は、色（波長）ごとに分光され、異なる方向に拡散して出射される。この結果、ラインマーカー領域３からの出射光は、光学フィルム１のユーザが視認可能な虹色の拡散光となる。
【0091】
なお、本実施形態では、直線状の凸条部３１が平行に並んだ１次元周期パターンの回折格子を用いるが、本発明の凸条部は、かかる例に限定されない。例えば、曲線状の凸条部が同心円状に並んだパターンなど、複数の凸条部が２次元的に配列されたパターン（２次元周期パターン）を回折格子として用いてもよい。
【0092】
より詳細には、本実施形態に係る凸条部３１は、直線状であり、ラインマーカー領域３の長手方向（Ｘ方向）に対して平行な方向に延びている。しかし、本発明の凸条部の形状は、かかる例に限定されない。複数の凸条部がマイクロメートルサイズのトラックピッチＰｔで相互に離隔して配置されていれば、当該複数の凸条部の集合体は、可視光の回折格子として機能し得る。よって、凸条部の延長方向や形状は、上記図２、図３の例に限定されない。例えば、凸条部は、ラインマーカー領域３の長手方向（Ｘ方向）だけでなく、当該長手方向に交差する方向や、それ以外の任意の方向に延びる直線状、破線状、点線状、波線状、ジグザグ状など、多様な形態のライン状であってもよい。例えば、凸条部は、連続的な直線状でなくてもよく、不連続に途切れた破線状、点線状などであってもよい。また、凸条部は、円弧状などの曲線状であってもよく、同心円状に配置されもよい。
【0093】
また、本実施形態では、光学フィルム１の表面において、微細凹凸構造２０が形成される凹凸パターン領域２と、凸条部３１が形成されるラインマーカー領域３とが、相互に重なり合うことなく、区分されていた。しかし、かかる例に限定されず、例えば、凹凸パターン領域２とラインマーカー領域３とが重なり合っていてもよく、微細凹凸構造２０上に凸条部３１を重畳して形成してもよい。かかる重畳構造であっても、マイクロメートルサイズのトラックピッチＰｔで配列された凸条部３１が、回折格子として機能するので、視認可能な虹色光を発生させることができる。
【0094】
以上のように、本実施形態では、回折格子として機能する凸条部３１が設けられたラインマーカー領域３は、虹色の拡散光を出射する視認可能領域となる。よって、ユーザは、ラインマーカー領域３からの虹色の拡散光を視認することによって、光学フィルム１の存在やその位置、大きさ、向きなどを容易に認識できる。よって、光学フィルム１を用いた製品をハンドリングする際の肉眼による視認性を向上させ、ユーザの利便性を向上させることができる。
【0095】
[２．ロール原盤の構成]
[２．１．ロール原盤の全体構成]
次に、図５を参照して、本実施形態に係る光学フィルム１を製造するために用いられるロール原盤１００の構成について説明する。図５は、本実施形態に係るロール原盤１００を模式的に示す斜視図である。
[２．１．ロール原盤の全体構成]
次に、図５を参照して、本実施形態に係る光学フィルム１を製造するために用いられるロール原盤１００の構成について説明する。図５は、本実施形態に係るロール原盤１００を模式的に示す斜視図である。
【0096】
図５に示すように、本実施形態に係るロール原盤１００は、原盤基材１１０と、原盤基材１１０の外周面に形成された凹凸パターン（微細凹凸構造１２０、螺旋状の溝１３１）とを備える。
【0097】
本実施形態に係るロール原盤１００は、例えば、ロール・ツー・ロール（Ｒｏｌｌ－Ｔｏ－Ｒｏｌｌ）方式のインプリント技術に用いられる原盤である。ロール・ツー・ロール方式のインプリント技術では、ロール原盤１００を回転させながら、ロール原盤１００の外周面を帯状の光学フィルムに押圧することによって、ロール原盤１００の外周面に形成された凹凸パターンを光学フィルムの表面に転写することができる。このようなインプリント技術を用いることで、ロール原盤１００の外周面に形成された凹凸パターンが転写された大面積の光学フィルムを効率良く製造することができる。
【0098】
なお、ロール原盤１００によって凹凸パターンが転写された光学フィルムは、例えば、上記フェイスシールド、アイシールド等のシールド部材に適用可能な光学フィルム１として使用される。しかし、かかる例に限定されず、光学フィルムは、その他の用途の反射防止フィルム、表面プラズモンフィルタまたは発光デバイスなどの各種の光学部材として使用されてもよい。
【0099】
本実施形態に係るロール原盤１００は、円筒状または円柱状を有するロール状の原盤である。ロール原盤１００の外周面は、光学フィルムの表面に凹凸構造を成形するための成形面となる。このロール原盤１００の外周面には、転写パターンとなる凹凸パターンが２次元的に配列されている。ロール原盤１００の外周面に配置された凹凸パターンと、上述の光学フィルム１の表面に配置された凹凸パターンとは、反転した凹凸関係にある。すなわち、ロール原盤１００の凹凸パターンの形状、配列、配置ピッチなどは、光学フィルム１の凹凸パターンと同様である。
【0100】
原盤基材１１０は、例えば、図５に示すような円筒状または円柱状を有する部材である。原盤基材１１０の外周面に、転写対象の凹凸パターンが形成される。原盤基材１１０は、溶融石英ガラス、または合成石英ガラスなどのガラス材料で構成されてもよく、ステンレス鋼などの金属、またはこれら金属の外周面をＳｉＯ２等で被覆したものなどで構成されてもよい。
【0101】
ただし、原盤基材１１０の少なくとも外周面は、石英ガラスなどのガラス材料で形成されることが好ましい。さらに、原盤基材１１０の全体が、石英ガラスなどのガラス材料で形成されることがより好ましい。この理由は、ＳｉＯ２を主材料とするガラス材料で原盤基材１１０を形成することによって、フッ素化合物を用いたエッチングによって、原盤基材１１０の外周面に微細凹凸パターンを容易に形成できるためである。具体的には、レーザ光によるリソグラフィを用いて、原盤基材１１０の外周面に設けられたレジスト層に対して凹凸パターンを形成する。その後、レジスト層の凹凸パターンをマスクとして原盤基材１１０の外周面をドライエッチングすることによって、原盤基材１１０の外周面に凹凸パターンを容易に形成することができる。なお、ガラス材料で形成された原盤基材１１０は、例えば、透明なロール型となる。
【0102】
原盤基材１１０の大きさは、特に限定されるものではないが、原盤基材１１０の軸方向の長さ（ロール幅）は例えば、１００ｍｍ以上であってもよく、原盤基材１１０の外径は、例えば、５０ｍｍ以上、３００ｍｍ以下であってもよい。また、原盤基材１１０が円筒形状である場合、円筒の厚みは、例えば２ｍｍ以上、５０ｍｍ以下であってもよい。
【0103】
図５に示すように、本実施形態に係る原盤基材１１０の外周面には、凹凸パターン領域１０２（「原盤凹凸パターン領域」に相当する。）と、ラインマーカー領域１０３（「原盤ラインマーカー領域」に相当する。）とが設けられる。
【0104】
凹凸パターン領域１０２は、ロール原盤１００の周方向（以下、「ロール周方向」と称する場合もある。）の全周に渡って設けられる円筒状の曲面領域であり、原盤基材１１０の外周面の大半を占める。ラインマーカー領域１０３は、ロール周方向の全周に渡って帯状に設けられる円環状の曲面領域である。図５の例では、ロール原盤１００の幅方向（以下、「ロール幅方向」と称する場合もある。）の両端部にそれぞれ、ラインマーカー領域１０３、１０３が配置されている。これらのラインマーカー領域１０３、１０３は、凹凸パターン領域１０２のロール幅方向の両側に、当該凹凸パターン領域１０２に隣接して配置されている。ラインマーカー領域１０３、１０３は、ロール原盤１００のロール幅方向の両端から所定距離だけ内側の位置に配置される。
【0105】
凹凸パターン領域１０２の幅および面積は、ラインマーカー領域１０３の幅および面積よりも大幅に大きい。例えば、凹凸パターン領域１０２のロール幅方向の幅は、数百ｍｍ程度（例えば５００ｍｍ）であり、ラインマーカー領域１０３のロール幅方向の幅は、数ｍｍ程度（例えば２ｍｍ）であってよい。
【0106】
このようなロール原盤１００の凹凸パターン領域１０２、ラインマーカー領域１０３はそれぞれ、上述した光学フィルム１の凹凸パターン領域２（反射防止領域）、ラインマーカー領域３（視認可能領域）に対応している。
【0107】
［２．２．凹凸パターン領域の微細凹凸構造の構成］
次に、図５を参照して、本実施形態に係るロール原盤１００の外周面上の凹凸パターン領域１０２に形成される微細凹凸構造１２０について詳述する。
次に、図５を参照して、本実施形態に係るロール原盤１００の外周面上の凹凸パターン領域１０２に形成される微細凹凸構造１２０について詳述する。
【0108】
ロール原盤１００の凹凸パターン領域１０２には、転写パターンとして、微細凹凸構造１２０（「原盤微細凹凸構造」に相当する。）が形成されている。このロール原盤１００の凹凸パターン領域１０２の微細凹凸構造１２０は、光学フィルム１の凹凸パターン領域２の微細凹凸構造２０の反転形状を有する。つまり、ロール原盤１００の微細凹凸構造１２０の凹部１２１、凸部１２２はそれぞれ、光学フィルム１の微細凹凸構造２０の凸部２１、凹部２２に対応した反転形状を有する。
【0109】
図５に示す微細凹凸構造１２０の例では、ロール原盤１００の凹凸パターン領域１０２には、円形の平面形状を有する複数の凹部１２１が形成されている。これらの凹部１２１は、原盤基材１１０の外周面において六方格子状に配列されている。凸部１２２は、相隣接する複数の凹部１２１、１２１の間に設けられる突出部分である。
【0110】
微細凹凸構造１２０についてより詳細に説明する。本実施形態に係るロール原盤１００の外周面上には、微細凹凸構造１２０の複数の凹部１２１が可視光の波長以下のピッチＰ’で六方格子状に配列されている。微細凹凸構造１２０の凹部１２１のピッチＰ’は、上述した光学フィルム１の微細凹凸構造２０の凸部２１のピッチＰと同一である。ピッチＰ’は、可視光帯域の波長以下であり、例えば、３５０ｎｍ以下であり、好ましくは２５０ｎｍ以下であり、例えば２００ｎｍ程度であってよい。
【0111】
ここで、上述した微細凹凸構造２０の凸部２１の六方格子状の配列（図４参照。）と同様に、ロール原盤１００の微細凹凸構造１２０の凹部１２１も、図５中の拡大図に示すように、相互に平行な複数のトラックＴ’に沿って配列されている。複数のトラックＴ’が、第１方向（トラック延長方向）に対して垂直な第２方向（トラックピッチ方向）に所定の間隔（トラックピッチＰＴ’）を空けて配置される。例えば、図５に示すように、第１方向（トラック延長方向）はロール周方向であってよく、第２方向はロール幅方向であってよい。
【0112】
ここで、ドットピッチＰＤ’は、トラックＴ’に沿って、第１方向（例えばロール周方向）に配列される複数の凹部１２１のピッチ（周期）である。トラックピッチＰＴ’は、第２方向（例えばロール幅方向）に相互に隣接して配置される複数のトラックＴ’の相互間隔である。微細凹凸構造１２０の凹部１２１のドットピッチＰＤ’、トラックピッチＰＴ’はそれぞれ、上述した光学フィルム１の微細凹凸構造２０の凸部２１のドットピッチＰＤ、トラックピッチＰＴと同一である。例えば、ドットピッチＰＤ’は２３０ｎｍであってよく、トラックピッチＰＴ’は１５０ｎｍであってよい。
【0113】
図５に示す微細凹凸構造１２０の六方格子状の配列では、ロール幅方向に隣接するトラックＴ’、Ｔ’間で、凹部１２１は、ロール周方向に半ピッチ（１／２ＰＤ’）だけずれた位置に配置されている。すなわち、ロール幅方向に隣接するトラックＴ、Ｔ間で、ロール周方向に配列される凹部１２１の位相が半周期（１８０°）だけずれている。
【0114】
このようにトラックＴ’ごとに（即ち、ロール１周ごとに）、凹部１２１の配列を半ピッチ（１／２ＰＤ’）ずらすことにより、ロール原盤１００の外周面上に複数の凹部１２１を最密な六方格子状に配列できる。したがって、当該外周面上において微細凹凸構造１２０の複数の凹部１２１が占める面積の割合（凹部１２１の充填率）を最大化できる。よって、微細凹凸構造１２０が転写された光学フィルム１の単位面積当たりの反射防止機能を向上できる。
【0115】
なお、微細凹凸構造１２０の凹部１２１の深さＨ’、サイズＤ’（ドットサイズ）、アスペクト比（深さＨ’／配置ピッチＰ’）等の各種寸法は、上述した光学フィルム１の微細凹凸構造２０の凸部２１の高さＨ、サイズＤ（ドットサイズ）、アスペクト比（高さＨ／配置ピッチＰ）等と同一である。したがって、これら寸法の詳細説明は省略する。
【0116】
以上、ロール原盤１００の凹凸パターン領域１０２に形成される微細凹凸構造１２０について説明した。このロール原盤１００の微細凹凸構造１２０を光学フィルム１に転写することにより、当該光学フィルム１の凹凸パターン領域２に上述した微細凹凸構造２０（図２～図４参照。）を好適に形成することができる。
【0117】
［２．３．ラインマーカー領域の溝の構成］
次に、図５を参照して、本実施形態に係るロール原盤１００の外周面上のラインマーカー領域１０３に形成される螺旋状の溝１３１について詳述する。
次に、図５を参照して、本実施形態に係るロール原盤１００の外周面上のラインマーカー領域１０３に形成される螺旋状の溝１３１について詳述する。
【0118】
ロール原盤１００のラインマーカー領域１０３には、ロール周方向の全周に渡って螺旋状の溝１３１（螺旋状の凹条部）が形成されている。この螺旋状の溝１３１は、ロール原盤１００の外周面を複数周（例えば、数百周～数千周）に渡って巻くように、連続的または不連続に形成される。
【0119】
ここで、溝１３１は、ロール原盤１００の外周面において、可視光の波長以上のトラックピッチＰｔ’を有する螺旋状に形成されている。ここで、溝１３１のトラックＴ'とは、図５に示すように、ロール原盤１００の外周面を複数周に渡って巻く螺旋状の溝１３１のうち、１周分の部分の仮想中心線である。また、溝１３１のトラックピッチＰｔ’は、ロール原盤１００の外周面に形成される螺旋状の溝１３１のうち、ロール幅方向に相隣接する２つのトラックＴ'、Ｔ'の間隔（中心間距離）である。このように、トラックピッチＰｔ’は、ロール原盤１００の外周面に形成される螺旋状の溝１３１の周期構造の周期を意味する。なお、溝１３１のトラックピッチＰｔ’は、溝１３１のうちロール幅方向に相隣接する２つのトラックＴ'、Ｔ'の組合せを複数個ピックアップし、各組合せの間隔（中心間距離）を測定し、これら測定値の算術平均値（平均ピッチ、平均周期）を、トラックピッチＰｔ’として算出してもよい。
【0120】
かかる螺旋状の溝１３１のトラックピッチＰｔ’は、上述した光学フィルム１の凸条部３１のトラックピッチＰｔと同一であり、マイクロメートルサイズの適正値に設定される。例えば、トラックピッチＰｔ’は、好ましくは５００ｎｍ以上、１ｍｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上、１０μｍ以下であり、例えば、１μｍ程度であってよい。これにより、トラックピッチＰｔ’がミクロンオーダーの適切な範囲内となるので、ロール原盤１００の溝１３１を転写して形成される光学フィルム１の凸条部３１が回折格子として好適に機能する。
【0121】
このラインマーカー領域１０３の溝１３１は、上述した光学フィルム１のラインマーカー領域３の凸条部３１の反転形状を有する。つまり、溝１３１の断面形状は、凸条部３１の断面形状の反転形状を有する。溝１３１の断面形状は、例えば、錐体状（釣鐘形状、楕円錐台形状等）を切断した形状、半円状、半楕円状、略三角状などの種々の凸形状であってよい。錐体状としては、例えば、頂部が尖った錐体状、頂部が平坦な錐体状、頂部に凸状または凹状の曲面を有する錐体状が挙げられる。頂部に凸状の曲面を有する錐体状としては、例えば、放物面状などの２次曲面状が挙げられる。また、錐体状の錐面を凹状または凸状に湾曲させるようにしてもよい。
【0122】
溝１３１の幅ｗ’は、凸条部３１の幅ｗと同一である。例えば、溝１３１の幅ｗ’は、上述した微細凹凸構造１２０の凹部１２１のサイズＤ’（ドットサイズ）と同等であってよく、２００ｎｍ程度であってよい。
【0123】
また、溝１３１の深さｈ’は、凸条部３１の高さｈと同一である。例えば、溝１３１の深さｈ’は、上述した微細凹凸構造１２０の凹部１２１の深さＨ’と同等であってよく、例えば、１００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下、好ましくは１５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下である。
【0124】
以上、ロール原盤１００のラインマーカー領域１０３に形成される螺旋状の溝１３１について説明した。このロール原盤１００の螺旋状の溝１３１を光学フィルム１に転写することにより、当該光学フィルム１のラインマーカー領域３に、上述した複数の凸条部３１（図２、図３参照。）を好適に形成することができる。この結果、当該凸条部３１が回折格子として機能して、ラインマーカー領域３から虹色光が拡散されるので、ラインマーカー領域３が視認可能領域となり、光学フィルム１のハンドリング性が向上する。
【0125】
[３．露光装置の構成]
次に、図６を参照して、本実施形態に係るロール原盤１００の製造に用いられる露光装置２００の構成について説明する。図６は、本実施形態に係るロール原盤１００の製造に用いられる露光装置２００の構成を示すブロック図である。
次に、図６を参照して、本実施形態に係るロール原盤１００の製造に用いられる露光装置２００の構成について説明する。図６は、本実施形態に係るロール原盤１００の製造に用いられる露光装置２００の構成を示すブロック図である。
【0126】
図６に示すように、露光装置２００は、レーザ光源２０１と、第１ミラー２０３と、フォトダイオード（Ｐｈｏｔｏｄｉｏｄｅ：ＰＤ）２０５と、集光レンズ２０７と、電気光学偏向素子（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｏｐｔｉｃ Ｄｅｆｌｅｃｔｏｒ：ＥＯＤ）２０９と、コリメータレンズ２１１と、第２ミラー２１３と、移動光学テーブル２２０と、スピンドルモータ２２５と、ターンテーブル２２７と、制御装置２３０と、を備える。
【0127】
レーザ光源２０１は、ロール原盤１００を露光するためのレーザ光２０２を出射する光源である。レーザ光源２０１は、例えば、４００ｎｍ～５００ｎｍの青色光帯域の波長のレーザ光を発する半導体レーザ光源であってもよい。レーザ光源２０１は、制御装置２３０により制御される。
【0128】
レーザ光源２０１から出射されたレーザ光２０２は、平行ビームのまま直進し、第１ミラー２０３で反射される。第１ミラー２０３は、偏光ビームスプリッタで構成されており、偏光成分の一方を反射させ、偏光成分の他方を透過させる機能を有する。第１ミラー２０３を透過した偏光成分は、フォトダイオード２０５によって光電変換される。光電変換された受光信号は、レーザ光源２０１に入力される。これにより、レーザ光源２０１は、入力された受光信号によるフィードバックに基づいて、レーザ光２０２の出力を調整することができる。
【0129】
第１ミラー２０３で反射されたレーザ光２０２は、偏向光学系に導かれる。偏向光学系は、集光レンズ２０７と、電気光学偏向素子２０９と、コリメータレンズ２１１とを備える。
【0130】
偏向光学系において、レーザ光２０２は、集光レンズ２０７によって、電気光学偏向素子２０９に集光される。電気光学偏向素子２０９は、レーザ光２０２の照射位置をナノメートル程度の距離で制御することが可能な素子である。電気光学偏向素子２０９により、原盤基材１１０に対するレーザ光２０２の照射位置を微調整することが可能である。レーザ光２０２は、電気光学偏向素子２０９によって照射位置を調整された後、コリメータレンズ２１１によって、再度、平行ビーム化される。平行ビーム化されたレーザ光２０２は、第２ミラー２１３によって反射され、移動光学テーブル２２０上に水平に導かれる。
【0131】
移動光学テーブル２２０は、ビームエキスパンダ（Ｂｅａｍ ｅｘｐａｄｅｒ：ＢＥＸ）２２１と、対物レンズ２２３とを備える。また、ロール原盤１００は、ターンテーブル２２７上に載置される。ターンテーブル２２７は、ロール原盤１００を支持するテーブルであり、スピンドルモータ２２５により回転可能である。
【0132】
ビームエキスパンダ２２１は、第２ミラー２１３によって導かれたレーザ光２０２を、所望のビーム形状に整形する。整形されたレーザ光２０２は、対物レンズ２２３を介して、ロール原盤１００の原盤基材１１０の外周面に成膜されたレジスト層に照射される。
【0133】
ロール原盤１００の原盤基材１１０に対するレーザ光２０２の照射時には、スピンドルモータ２２５により、ターンテーブル２２７および原盤基材１１０を回転させながら、移動光学テーブル２２０により、レーザ光２０２の照射位置をロール原盤１００の軸方向（ロール幅方向）に移動させる。例えば、原盤基材１１０が１回転する毎に、移動光学テーブル２２０は、レーザ光２０２の照射位置を矢印Ｒ方向（送りピッチ方向）に１送りピッチ（トラックピッチ）だけ移動させる。これにより、原盤基材１１０の外周面に対してレーザ光２０２を螺旋状に照射して、原盤基材１１０の外周面のレジスト層を螺旋状の走査軌跡で露光することができる。なお、レーザ光２０２の照射位置の移動は、レーザ光源２０１を含むレーザヘッド、またはロール原盤１００を支持するターンテーブル２２７のいずれかをスライダに沿って移動させることで行ってもよい。
【0134】
また、制御装置２３０は、レーザ光源２０１からのレーザ光２０２の出射を制御することで、レーザ光２０２の照射時間および照射位置を制御する。制御装置２３０は、レーザ光２０２の出射を制御する露光信号を生成する。制御装置２３０は、例えば、任意の波形の信号を生成可能な信号生成回路を含むファンクションジェネレータなどを有してもよい。制御装置２３０は、フォーマッタ２３１と、ドライバ２３３とを備える。
【0135】
フォーマッタ２３１は、基準クロック信号から、レーザ光２０２の照射を制御するための露光信号を生成する。露光信号は、ロール原盤１００の外周面に形成される凹凸パターンを表す信号である。ドライバ２３３は、フォーマッタ２３１が生成した露光信号に基づいてレーザ光源２０１からのレーザ光２０２の照射を制御する。例えば、ドライバ２３３は、矩形パルス波からなる露光信号がハイレベルの場合に、レーザ光２０２が照射されるようにレーザ光源２０１を制御してもよい。また、スピンドルモータ２２５は、上記の基準クロック信号から生成される回転制御信号に基づいて、ターンテーブル２２７を回転させる。例えば、回転制御信号の所定の数のパルスが入力される期間中にターンテーブル２２７が１回転するように、スピンドルモータ２２５は、ターンテーブル２２７の回転を制御してもよい。
【0136】
以上のように、レーザ光源２０１は、制御装置２３０が生成した露光信号によって制御され、レーザ光源２０１から出射されたレーザ光２０２は、ターンテーブル２２７上に載置されたロール原盤１００に照射される。また、スピンドルモータ２２５は、回転制御信号に基づいて、ロール原盤１００が載置されたターンテーブル２２７を回転させる。ここで、露光信号および回転制御信号は、共通の基準クロック信号から生成され、相互に同期していてもよい。
【0137】
以上、本実施形態に係る露光装置２００の構成例について説明した。本実施形態に係る露光装置２００によれば、ロール原盤１００の原盤基材１１０の外周面を露光して、所望の形状の露光パターン（凹凸パターン）を精密に形成することができる。
【0138】
[４．露光方法]
次に、図７を参照して、上記露光装置２００を用いてロール原盤１００の原盤基材１１０の外周面を露光する露光方法について説明する。図７は、本実施形態に係るロール原盤１００の露光方法を概略的に示す模式図である。
次に、図７を参照して、上記露光装置２００を用いてロール原盤１００の原盤基材１１０の外周面を露光する露光方法について説明する。図７は、本実施形態に係るロール原盤１００の露光方法を概略的に示す模式図である。
【0139】
図７に示すように、本実施形態に係るロール原盤１００の露光方法では、上述した露光装置２００を用いて、原盤基材１１０の外周面にレーザ光２０２を照射して、露光パターンを形成する。露光装置２００は、上記のように、レーザ光２０２を発するレーザ光源２０１と、レーザ光２０２の出射を制御する制御装置２３０とを備えている。
【0140】
露光工程では、ロール軸を中心にロール原盤１００の原盤基材１１０を回転させつつ、かつ、露光装置２００のレーザ光源２０１をロール幅方向（図７の矢印Ｒの方向）に移動させながら、原盤基材１１０の外周面に対してレーザ光２０２を照射する。これにより、原盤基材１１０の外周面に対して螺旋状にレーザ光２０２が照射され、原盤基材１１０の外周面の所望の領域に所望の形状の露光パターンを形成することができる。
【0141】
原盤基材１１０の外周面のうち凹凸パターン領域１０２では、上記微細凹凸構造１２０に対応する露光パターンが形成される。一方、ラインマーカー領域１０３では、上記螺旋状の溝１３１に対応する露光パターンが形成される。図７の例では、凹凸パターン領域１０２に対して螺旋状の照射軌跡でレーザ光２０２を照射することで、微細凹凸構造１２０に対応する露光パターンを形成している状態を示している。なお、これら微細凹凸構造１２０と螺旋状の溝１３１の露光パターンの形成順序は、特に問わない。
【0142】
ここで、図８を参照して、本実施形態に係る露光装置２００が用いる露光信号と、原盤基材１１０の外周面に形成される露光パターンとの対応関係について具体的に説明する。図８は、本実施形態に係る露光信号と露光パターンとの対応関係を示す説明図である。
【0143】
図８に示すように、本実施形態では、螺旋状の照射軌跡でレーザ光２０２を照射することにより、円形のドットパターンが六方格子状に配列された露光パターンを原盤基材１１０の外周面に形成する。この露光パターンでは、微細凹凸構造１２０の凹部１２１に対応する円形のドットパターンが六方格子状に配列されている。これら円形のドットパターンは、所定のトラックピッチＰＴ’で配列された複数列のトラックＴ’に沿って配置される。なお、ドットパターンの平面形状は、図８に示す円形の例に限定されず、例えば、トラックＴ’の延長方向に長軸方向を有する楕円形、長円形などであってもよい。
【0144】
本実施形態に係る露光装置２００は、トラックＴ’に沿って配列される複数のドットパターンからなる露光パターンを形成するために、露光信号として、例えば、所定の周期でハイレベルおよびローレベルを交互に繰り返すパルス波信号を用いる。露光装置２００は、露光信号がハイレベルのときに原盤基材１１０の外周面に円形のドットパターンが形成されるように、レーザ光２０２の照射を制御する。
【0145】
さらに、図８に示すようにドットパターンが六方格子状に配列された露光パターンを形成するために、原盤基材１１０のロール幅方向に相隣接するトラックＴ’、Ｔ’間で、露光信号が１／２パルスずつずれるように、露光信号の周波数が設定される。換言すると、露光信号の連続性を維持したまま、螺旋状のレーザ照射軌跡の１周ごと（即ち、トラックＴ’ごと）に、露光信号の位相を１８０°ずつ反転させる。これにより、ロール周方向に螺旋状に配列されるドットパターンの１周ごと（即ち、トラックＴ’ごと）に、ドットパターンの位置が０．５ピッチずつ、ロール周方向にずれる。このようにして、螺旋状のレーザ照射軌跡を用いて、ドットパターンが六方格子状に精密に配列された露光パターンを、原盤基材１１０の外周面に形成することができる。
【0146】
ところで、上記のように螺旋状の照射軌跡でレーザ光２０２を照射する場合、原盤基材１１０の外周１周の長さは、原盤基材１１０の加工誤差によって周ごとに変化し得る。このため、露光信号と回転制御信号とが同期しない場合、露光の進行に伴って、露光パターンの配列が乱れてしまう。また、原盤基材１１０を回転させるターンテーブル２２７のスピンドルモータ２２５は、回転速度に揺らぎをもっているため、回転速度の揺らぎにより、露光パターンの配列が乱れてしまう。
【0147】
そこで、本実施形態では、露光信号と回転制御信号の基となる基準クロックを共有させることによって、露光信号と回転制御信号とを同期させる。これにより、露光信号の周波数は、回転制御信号の分周または逓倍に制限されることがなくなり、任意の値に設定することが可能となる。したがって、露光信号の連続性を維持したまま、原盤基材１１０の外周面に所望の露光パターンを連続的に形成することが可能になる。よって、複数のドットパターンが六方格子状に配列される微細凹凸構造１２０の露光パターンにおいて、露光パターンの途切れや配列の乱れを防止でき、当該露光パターンを高精度で連続的に形成可能である。
【0148】
以上、図８を参照して、原盤基材１１０の外周面のうち凹凸パターン領域１０２に、微細凹凸構造１２０に対応する六方格子状の露光パターンを形成する例について説明した。一方、ラインマーカー領域１０３に、螺旋状の溝１３１に対応する露光パターンを形成する場合には、露光装置２００は、当該ラインマーカー領域１０３に対して螺旋状の照射軌跡でレーザ光を照射する。このとき、螺旋状の溝１３１のトラックピッチＰｔ’が所望寸法となるように、ロール幅方向へのレーザ光２０２の走査速度（レーザ光源２０１の移動速度）と、原盤基材１１０の回転速度が制御される。また、螺旋状の溝１３１の幅ｗ’、深さｈ’が所望寸法となるように、レーザ光２０２の照射スポット径、照射強度などが制御される。
【0149】
このように本実施形態によれば、同一の露光装置２００を用いて同様なレーザ照射方法によって、凹凸パターン領域１０２の微細凹凸構造１２０と、ラインマーカー領域１０３の螺旋状の溝１３１の双方に対応する露光パターンを、ロール原盤１００の外周面に形成することができる。よって、同一の露光工程で両者の露光パターンを容易かつ迅速に形成できるので、ロール原盤１００の製造コストおよび製造時間を低減できる。
【0150】
【0151】
本実施形態では、高精度で照射位置を制御可能なレーザ光によるリソグラフィを用いて、原盤基材１１０の外周面に微細凹凸構造１２０等の凹凸パターンを形成することにより、本実施形態に係るロール原盤１００が製造される。かかるレーザ光によるリソグラフィを用いることで、微細凹凸構造１２０等の凹凸パターンの配列を精密に制御することが可能である。
【0152】
本実施形態に係るロール原盤１００の製造方法は、成膜工程（Ｓ１０）と、露光工程（Ｓ１２）と、現像工程（Ｓ１４）と、エッチング工程（Ｓ１６）とを含む。まず、成膜工程（Ｓ１０）では、原盤基材１１０の外周面にレジスト層１１１を成膜する。次いで、露光工程（Ｓ１２）では、レジスト層１１１にレーザ光を照射することで潜像１１２を形成する。さらに、現像工程（Ｓ１４）では、潜像１１２が形成されたレジスト層１１１を現像し、レジスト層１１１にパターンを形成する。その後、エッチング工程（Ｓ１６）では、パターンが形成されたレジスト層１１１をマスクとしてエッチングし、原盤基材１１０の外周面に凹凸パターン（微細凹凸構造１２０、螺旋状の溝１３１等）を形成する。以下に本実施形態に係るロール原盤１００の製造方法の各工程について説明する。
【0153】
（Ｓ１０）成膜工程
成膜工程では、まず、図９のＡに示すように、ロール原盤１００の原盤基材１１０が準備される。原盤基材１１０は、例えば、円筒状または円柱状のガラス原盤である。次いで、図９のＢに示すように、原盤基材１１０の外周面にレジスト層１１１が成膜される。レジスト層１１１は、レーザ光によって潜像１１２を形成することが可能な無機系材料または有機系材料を含む。無機系材料としては、例えば、タングステン、またはモリブデンなどの１種または２種以上の遷移金属を含む金属酸化物を用いることができる。また、無機系材料を含むレジスト層は、例えば、スパッタ法などを用いることで成膜することができる。一方、有機系材料としては、例えば、ノボラック系レジスト、または化学増幅型レジストなどを用いることができる。また、有機系材料を含むレジスト層は、スピンコート法などを用いることで成膜することができる。
成膜工程では、まず、図９のＡに示すように、ロール原盤１００の原盤基材１１０が準備される。原盤基材１１０は、例えば、円筒状または円柱状のガラス原盤である。次いで、図９のＢに示すように、原盤基材１１０の外周面にレジスト層１１１が成膜される。レジスト層１１１は、レーザ光によって潜像１１２を形成することが可能な無機系材料または有機系材料を含む。無機系材料としては、例えば、タングステン、またはモリブデンなどの１種または２種以上の遷移金属を含む金属酸化物を用いることができる。また、無機系材料を含むレジスト層は、例えば、スパッタ法などを用いることで成膜することができる。一方、有機系材料としては、例えば、ノボラック系レジスト、または化学増幅型レジストなどを用いることができる。また、有機系材料を含むレジスト層は、スピンコート法などを用いることで成膜することができる。
【0154】
（Ｓ１２）露光工程
次いで、露光工程では、図９のＣに示すように、原盤基材１１０の外周面に形成されたレジスト層１１１に、レーザ光２０２を照射する。具体的には、図６に示した露光装置２００のターンテーブル２２７上にロール原盤１００を載置し、ロール原盤１００を回転させると共に、レーザ光２０２（露光ビーム）をレジスト層１１１に照射する。このとき、レーザ光２０２をロール原盤１００の軸方向（ロール幅方向）に移動させながら、レジスト層１１１に照射することで、螺旋状の照射軌跡に沿ってレジスト層１１１を露光する。これにより、レーザ光２０２の照射軌跡に応じた潜像１１２Ａ、１１２Ｂ（以下、「潜像１１２」と総称する場合もある。）が、レジスト層１１１に形成される。
次いで、露光工程では、図９のＣに示すように、原盤基材１１０の外周面に形成されたレジスト層１１１に、レーザ光２０２を照射する。具体的には、図６に示した露光装置２００のターンテーブル２２７上にロール原盤１００を載置し、ロール原盤１００を回転させると共に、レーザ光２０２（露光ビーム）をレジスト層１１１に照射する。このとき、レーザ光２０２をロール原盤１００の軸方向（ロール幅方向）に移動させながら、レジスト層１１１に照射することで、螺旋状の照射軌跡に沿ってレジスト層１１１を露光する。これにより、レーザ光２０２の照射軌跡に応じた潜像１１２Ａ、１１２Ｂ（以下、「潜像１１２」と総称する場合もある。）が、レジスト層１１１に形成される。
【0155】
本実施形態では、ロール原盤１００の外周面のうちロール幅方向の中央部の凹凸パターン領域１０２に対して、螺旋状の照射軌跡に沿ってレーザ光２０２を間欠的に照射する。これによって、微細凹凸構造１２０に対応する露光パターン（例えば、図８に示した円形のドットパターンが六方格子状に配列されたパターン）で、凹凸パターン領域１０２のレジスト層１１１を全面に渡って露光する。これにより、凹凸パターン領域１０２のレジスト層１１１に、微細凹凸構造１２０に対応する露光パターンの潜像１１２Ａが形成される。
【0156】
一方、ロール原盤１００の外周面のうちロール幅方向の両端部のラインマーカー領域１０３に対して、螺旋状の照射軌跡に沿ってレーザ光２０２を連続的に照射する。これによって、螺旋状の溝１３１に対応する露光パターンで、ラインマーカー領域１０３のレジスト層１１１を螺旋状に露光する。これにより、ラインマーカー領域１０３のレジスト層１１１に、螺旋状の溝１３１に対応する露光パターンの潜像１１２Ｂが形成される。なお、螺旋状の溝１３１に対応する露光パターンは、必ずしも連続的な螺旋状である必要はない。例えば、螺旋状の照射軌跡に沿ってレーザ光２０２を不連続に照射することによって、不連続な螺旋状の露光パターンを形成してもよい。
【0157】
（Ｓ１４）現像工程
次いで、現像工程では、図１０のＡに示すように、潜像１１２が形成されたレジスト層１１１を、現像液を用いて現像する。これにより、潜像１１２Ａ、１１２Ｂにそれぞれ対応する開口部１１３Ａ、１１３Ｂ（以下、「開口部１１３」と総称する場合もある。）のパターンがレジスト層１１１に形成される。例えば、レジスト層１１１が上述した無機系材料を含む場合、レジスト層１１１の現像には、ＴＭＡＨ（ＴｅｔｒａＭｅｔｈｙｌＡｍｍｏｎｉｕｍ Ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ：水酸化テトラメチルアンモニウム）水溶液などのアルカリ系溶液を用いることができる。また、レジスト層１１１が上述した有機系材料を含む場合、レジスト層１１１の現像には、エステル、またはアルコールなどの各種有機溶剤を用いることができる。
次いで、現像工程では、図１０のＡに示すように、潜像１１２が形成されたレジスト層１１１を、現像液を用いて現像する。これにより、潜像１１２Ａ、１１２Ｂにそれぞれ対応する開口部１１３Ａ、１１３Ｂ（以下、「開口部１１３」と総称する場合もある。）のパターンがレジスト層１１１に形成される。例えば、レジスト層１１１が上述した無機系材料を含む場合、レジスト層１１１の現像には、ＴＭＡＨ（ＴｅｔｒａＭｅｔｈｙｌＡｍｍｏｎｉｕｍ Ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ：水酸化テトラメチルアンモニウム）水溶液などのアルカリ系溶液を用いることができる。また、レジスト層１１１が上述した有機系材料を含む場合、レジスト層１１１の現像には、エステル、またはアルコールなどの各種有機溶剤を用いることができる。
【0158】
現像工程では、例えば、ロール原盤１００を回転させながら、レジスト層１１１上に現像液を滴下して、レジスト層１１１を現像処理する。これにより、図１０のＡに示すように、レジスト層１１１に複数の開口部１１３が形成される。レジスト層１１１をポジ型のレジストにより形成した場合には、レーザ光２０２で露光した露光部は、非露光部と比較して現像液に対する溶解速度が増すので、潜像１１２（露光部）に応じた開口部１１３のパターンがレジスト層１１１に形成される。
【0159】
本実施形態では、凹凸パターン領域１０２には、微細凹凸構造１２０に対応する開口パターン（例えば、図８に示した円形のドットパターンが六方格子状に配列されたパターン）で、開口部１１３Ａが形成される。一方、ラインマーカー領域１０３には、螺旋状の溝１３１に対応する開口パターンで、螺旋状の開口部１１３Ｂが形成される。
【0160】
（Ｓ１６）エッチング工程
次いで、エッチング工程では、開口部１１３が形成されたレジスト層１１１のパターンをマスクとして、原盤基材１１０の外周面をエッチングする。これにより、図１０のＢに示すように、原盤基材１１０の外周面に、上記露光パターンおよび開口部１１３のパターンに対応する凹凸パターン（微細凹凸構造１２０、螺旋状の溝１３１）が形成される。原盤基材１１０のエッチングは、ドライエッチングまたはウェットエッチングのいずれで行ってもよい。原盤基材１１０がＳｉＯ２を主とするガラス材料（例えば、石英ガラスなど）である場合、原盤基材１１０のエッチングは、フッ化炭素ガスを用いたドライエッチング、またはフッ化水素酸等を用いたウェットエッチングによって行うことができる。
次いで、エッチング工程では、開口部１１３が形成されたレジスト層１１１のパターンをマスクとして、原盤基材１１０の外周面をエッチングする。これにより、図１０のＢに示すように、原盤基材１１０の外周面に、上記露光パターンおよび開口部１１３のパターンに対応する凹凸パターン（微細凹凸構造１２０、螺旋状の溝１３１）が形成される。原盤基材１１０のエッチングは、ドライエッチングまたはウェットエッチングのいずれで行ってもよい。原盤基材１１０がＳｉＯ２を主とするガラス材料（例えば、石英ガラスなど）である場合、原盤基材１１０のエッチングは、フッ化炭素ガスを用いたドライエッチング、またはフッ化水素酸等を用いたウェットエッチングによって行うことができる。
【0161】
本実施形態に係るエッチング工程によれば、原盤基材１１０の外周面のうち凹凸パターン領域１０２には、凹凸パターンとして、開口部１１３Ａに対応する微細凹凸構造１２０が形成される。微細凹凸構造１２０は、例えば、複数の凹部１２１および凸部１２２が可視光の波長以下のナノオーダー（例えば、３５０ｎｍ以下）のピッチＰ’で六方格子状に配列されたモスアイ構造である。一方、原盤基材１１０の外周面のうちラインマーカー領域１０３には、凹凸パターンとして、開口部１１３Ｂに対応する螺旋状の溝１３１が形成される。この螺旋状の溝１３１のロール幅方向のトラックピッチＰｔ’は、可視光の波長以上のマイクロオーダー（例えば、５００ｎｍ以上、１ｍｍ以下）である。
【0162】
以上のように、本実施形態に係るエッチング工程では、開口パターン（開口部１１３Ａ、１１３Ｂ）が形成されたレジスト層１１１をマスクとして、原盤基材１１０の外周面全体を同時にエッチングする。これにより、原盤基材１１０の外周面に対し、凹凸パターン領域１０２の微細凹凸構造１２０（反射防止用の凹凸パターン）と、ラインマーカー領域１０３の螺旋状の溝１３１（マーカーとしての視認用の凹凸パターン）とを、１回のエッチング工程で同時に加工することができる。しかも、微細凹凸構造１２０と螺旋状の溝１３１は、同一のエッチング条件で同時に形成されるので、溝１３１の深さｈ’は、微細凹凸構造１２０の凹部１２１の深さＨ’と実質的に同一である。
【0163】
これに対し、従来では、ロール原盤の表面に、微細凹凸構造に加えて、ロール原盤の欠陥管理用のマーカー（ロール原盤のロール周方向の位置を表す印であって、フィルムに転写可能な凹凸で形成されるもの）を形成する場合、微細凹凸構造を形成するエッチング工程後に、欠陥管理用のマーカーを加工する追加工程が別途必要であった。このため、従来では、微細凹凸構造の形成後に、マーカーを別途加工するときに、ロール原盤の外周面に別の欠陥を発生させるリスクがあるという問題があった。
【0164】
さらに、従来では、エッチング加工以外の切削加工等によりマーカーの凹凸を形成するため、マーカーの凹凸の加工精度をナノオーダーで制御することは困難であった。したがって、ロール原盤の外周面において、微細凹凸構造の凹部の深さとマーカーの凹部の深さとが異なっていた。このため、当該ロール原盤の凹凸パターンを転写して形成されたフィルムにおいても、微細凹凸構造の凸部の高さとマーカーの凸部の高さとが異なることになり、フィルム表面に高低差が生じていた。この結果、当該フィルムを巻き取ってフィルムロールとしたときに、巻き歪み等の不具合が発生するという問題があった。
【0165】
この点、本実施形態に係るロール原盤１００の製造方法によれば、ロール原盤１００の表面に、凹凸パターン領域１０２の微細凹凸構造１２０（反射防止用の凹凸パターン）に加えて、ラインマーカー領域１０３の螺旋状の溝１３１（マーカーとしての視認用の凹凸パターン）を形成する際に、マーカーとしての溝１３１を加工するための追加工程が不要である。つまり、凹凸パターン領域１０２の微細凹凸構造１２０とラインマーカー領域１０３の螺旋状の溝１３１を、１回のエッチング工程で同時に加工することができる。よって、本実施形態によれば、微細凹凸構造１２０の凹凸パターンと、マーカーとしての溝１３１の凹凸パターンを同時に加工するため、工程を追加する必要がなく、ロール原盤１００の外周面に、追加工程により別の新たな欠陥を発生させるリスクがないという利点がある。
【0166】
しかも、本実施形態に係るロール原盤１００の製造方法によれば、１回のエッチング工程において同一のエッチング条件で、微細凹凸構造１２０と螺旋状の溝１３１を同時に形成する。これにより、溝１３１の深さｈ’は、微細凹凸構造１２０の凹部１２１の深さＨ’と実質的に同一になる。したがって、ロール原盤１００の凹凸パターンを転写して形成された光学フィルム１においても、微細凹凸構造２０の凸部２１の高さＨと、凸条部３１（マーカー）の高さｈとが実質的に同一となり、光学フィルム１の表面に、凸部同士の高低差が生じない。よって、当該光学フィルム１を巻き取ってフィルムロールとしたときに、巻き歪み等の不具合が発生しないという利点がある。
【0167】
[６．光学フィルムの製造方法]
次に、図１１、図１２を参照して、本実施形態に係る光学フィルム１の製造方法について説明する。図１１、図１２は、本実施形態に係る光学フィルム１の製造方法を示す工程図である。
次に、図１１、図１２を参照して、本実施形態に係る光学フィルム１の製造方法について説明する。図１１、図１２は、本実施形態に係る光学フィルム１の製造方法を示す工程図である。
【0168】
本実施形態に係る光学フィルム１の製造方法は、ロール原盤１００を準備する工程（Ｓ２０）と、光学フィルム１の基材１１の表面に硬化性樹脂からなる樹脂層１２Ａを塗布する塗布工程（Ｓ２２）と、ロール原盤１００の外周面に形成された転写パターンを光学フィルム１の樹脂層１２Ａに転写する第１の転写工程（Ｓ２４）と、光学フィルム１を所定形状に成形する成形工程（Ｓ２８）と、を含む。さらに、光学フィルム１の両面に凹凸パターンを設ける場合には、本実施形態に係る光学フィルム１の製造方法は、上記工程に加えて、第２の塗布および転写工程（Ｓ２６）を含んでもよい。
【0169】
（Ｓ２０）ロール原盤の準備工程
ロール原盤１００の準備工程は、例えば、上記図９～図１０を参照して説明した本実施形態に係るロール原盤１００の製造方法の各工程（成膜工程（Ｓ１０）、露光工程（Ｓ１２）、現像工程（Ｓ１４）およびエッチング工程（Ｓ１６））であってよい。上記ロール原盤１００の製造方法により、外周面に凹凸パターン領域１０２とラインマーカー領域１０３が形成されたロール原盤１００が好適に準備される。
ロール原盤１００の準備工程は、例えば、上記図９～図１０を参照して説明した本実施形態に係るロール原盤１００の製造方法の各工程（成膜工程（Ｓ１０）、露光工程（Ｓ１２）、現像工程（Ｓ１４）およびエッチング工程（Ｓ１６））であってよい。上記ロール原盤１００の製造方法により、外周面に凹凸パターン領域１０２とラインマーカー領域１０３が形成されたロール原盤１００が好適に準備される。
【0170】
塗布工程（Ｓ２２）
塗布工程では、光学フィルム１の基材１１の表面に、硬化性樹脂（転写材料）からなる未硬化の樹脂層１２Ａを塗布する。硬化性樹脂（転写材料）は、硬化する前の流動性を有する樹脂材料であり、例えば、紫外線硬化性樹脂、光硬化性樹脂などのエネルギー線硬化性樹脂である。本実施形態では、ロール・ツー・ロール方式でロール原盤１００の転写パターンを光学フィルム１の樹脂層１２Ａに連続的に転写するので、塗布工程（Ｓ２２）と次の転写工程（Ｓ２４）は同時並行で実行される。
塗布工程では、光学フィルム１の基材１１の表面に、硬化性樹脂（転写材料）からなる未硬化の樹脂層１２Ａを塗布する。硬化性樹脂（転写材料）は、硬化する前の流動性を有する樹脂材料であり、例えば、紫外線硬化性樹脂、光硬化性樹脂などのエネルギー線硬化性樹脂である。本実施形態では、ロール・ツー・ロール方式でロール原盤１００の転写パターンを光学フィルム１の樹脂層１２Ａに連続的に転写するので、塗布工程（Ｓ２２）と次の転写工程（Ｓ２４）は同時並行で実行される。
【0171】
（Ｓ２４）転写工程
転写工程（Ｓ２４）では、光学フィルム１の一方の表面にロール原盤１００の外周面の転写パターンが転写される。詳細には、図１１のＡに示すように、ロール原盤１００の外周面に対して、光学フィルム１の基材１１上に塗布された未硬化の樹脂層１２Ａ（転写材料）を密着させる。その後、光源５８から紫外線などのエネルギー線を樹脂層１２Ａに照射して、樹脂層１２Ａを硬化させる。その後、硬化した樹脂層１２Ａ（樹脂層１２に相当する。）と一体となった基材１１を、ロール原盤１００から剥離する。
転写工程（Ｓ２４）では、光学フィルム１の一方の表面にロール原盤１００の外周面の転写パターンが転写される。詳細には、図１１のＡに示すように、ロール原盤１００の外周面に対して、光学フィルム１の基材１１上に塗布された未硬化の樹脂層１２Ａ（転写材料）を密着させる。その後、光源５８から紫外線などのエネルギー線を樹脂層１２Ａに照射して、樹脂層１２Ａを硬化させる。その後、硬化した樹脂層１２Ａ（樹脂層１２に相当する。）と一体となった基材１１を、ロール原盤１００から剥離する。
【0172】
これにより、図１１のＢに示す光学フィルム１が得られる。光学フィルム１では、基材１１の表面に樹脂層１２が積層され、当該樹脂層１２の表面に微細凹凸構造２０および凸条部３１が形成されている。なお、必要に応じて、光学フィルム１の樹脂層１２と基材１１との間に、例えば、密着層、接着層、基底層等の中間層（図示せず。）をさらに設けてもよい。
【0173】
本実施形態に係る転写工程によれば、ロール原盤１００の外周面の転写パターン（微細凹凸構造１２０、螺旋状の溝１３１）が光学フィルム１の樹脂層１２に同時に転写されて、樹脂層１２の表面に微細凹凸構造２０と複数の凸条部３１が同時に一体形成される。
【0174】
詳細には、ロール原盤１００の凹凸パターン領域１０２の微細凹凸構造１２０が光学フィルム１の樹脂層１２の凹凸パターン領域２に転写されることにより、反射防止機能を有する微細凹凸構造１２０が凹凸パターン領域２に形成される。微細凹凸構造１２０と微細凹凸構造２０は、相互に反転形状を有している。また、ロール原盤１００のラインマーカー領域１０３の螺旋状の溝１３１が光学フィルム１の樹脂層１２のラインマーカー領域３に転写されることにより、回折格子として機能する複数の凸条部３１がラインマーカー領域３に形成される。螺旋状の溝１３１とストライプ状の凸条部３１は、相互に反転形状を有している。
【0175】
このように、本実施形態に係る転写工程によれば、ロール原盤１００の凹凸パターン領域１０２に形成された微細凹凸構造１２０と、ラインマーカー領域１０３に形成された螺旋状の溝１３１を含む転写パターンが、光学フィルム１の樹脂層１２に同時に転写される。つまり、光学フィルム１において、凹凸パターン領域２の微細凹凸構造２０と、ラインマーカー領域３の複数の凸条部３１は、同一の樹脂層１２に一体形成される。したがって、異なる２つの凹凸パターン（微細凹凸構造１２０および螺旋状の溝１３１）を１つの転写工程で効率的に転写できるので、光学フィルム１の生産性を向上できる。
【0176】
以上の塗布工程（Ｓ２２）および転写工程（Ｓ２４）により、図１１のＢに示すように、光学フィルム１の一方の表面上の樹脂層１２に、凹凸パターン（微細凹凸構造２０および凸条部３１）が形成される。凹凸パターンを有する樹脂層１２は、図１１のＢに示すように、光学フィルム１の一方の表面（片面）にのみ設けられてもよいし、次の図１２のＢに示すように、光学フィルム１の両方の表面（表裏両面）に設けられてもよい。後者の場合には、次に説明する第２の塗布および転写工程（Ｓ２６）を実行すればよい。
【0177】
（Ｓ２６）第２の塗布および転写工程
第２の塗布および転写工程（Ｓ２６）では、図１２のＡに示すように、上記第１の転写工程（Ｓ２４）後に、光学フィルム１の基材１１の他方の表面（裏面）にも、硬化性樹脂からなる樹脂層１２Ａを塗布する。次いで、ロール原盤１００の外周面に形成された転写パターンを、光学フィルム１の他方の表面（裏面）の樹脂層１２Ａに転写する。
第２の塗布および転写工程（Ｓ２６）では、図１２のＡに示すように、上記第１の転写工程（Ｓ２４）後に、光学フィルム１の基材１１の他方の表面（裏面）にも、硬化性樹脂からなる樹脂層１２Ａを塗布する。次いで、ロール原盤１００の外周面に形成された転写パターンを、光学フィルム１の他方の表面（裏面）の樹脂層１２Ａに転写する。
【0178】
詳細には、図１２のＡに示すように、ロール原盤１００の外周面に対して、フィルムの基材１１の他方の表面上に塗布された未硬化の樹脂層１２Ａを密着させる。次いで、光源５８から紫外線などのエネルギー線を樹脂層１２Ａに照射して、樹脂層１２Ａを硬化させる。その後、硬化した樹脂層１２Ａ（樹脂層１２に相当する。）と一体となった基材１１を、ロール原盤１００から剥離する。これにより、図１２のＢに示すように、基材１１の表裏両面に樹脂層１２が積層され、当該樹脂層１２の表面に微細凹凸構造２０および凸条部３１が形成された光学フィルム１が得られる。
【0179】
（Ｓ２８）成形工程
次いで、成形工程では、上記の転写工程（Ｓ２４またはＳ２６）にて得られた光学フィルム１が所定のサイズ、形状に成形される。例えば、光学フィルム１を所定のサイズに裁断加工したり、所望形状に切り抜いたり、型を用いて所望形状に打ち抜き加工したりすることにより、例えば、フェイスシールド、アイシールド等のシールド部材、その他の光学部材の製品（枚葉品）が成形される。かかる成形加工は、切削加工機や、レーザ加工装置、打ち抜きプレス装置などを使用可能である。打ち抜きプレス加工を使用すれば、シールド部材に必要な切込み線の形成加工と裁断加工を一つの工程で行えるので、好適である。
次いで、成形工程では、上記の転写工程（Ｓ２４またはＳ２６）にて得られた光学フィルム１が所定のサイズ、形状に成形される。例えば、光学フィルム１を所定のサイズに裁断加工したり、所望形状に切り抜いたり、型を用いて所望形状に打ち抜き加工したりすることにより、例えば、フェイスシールド、アイシールド等のシールド部材、その他の光学部材の製品（枚葉品）が成形される。かかる成形加工は、切削加工機や、レーザ加工装置、打ち抜きプレス装置などを使用可能である。打ち抜きプレス加工を使用すれば、シールド部材に必要な切込み線の形成加工と裁断加工を一つの工程で行えるので、好適である。
【0180】
次に、図１３を参照して、本実施形態に係る光学フィルム１の製造方法において、ロール・ツー・ロール方式で、ロール原盤１００から光学フィルム１に転写パターンを連続的に転写する方法について説明する。図１３は、本実施形態に係る転写装置５の構成を示す模式図である。
【0181】
図１３に示すように、転写装置５は、ロール原盤１００と、基材供給ロール５１と、巻取ロール５２と、ガイドロール５３、５４と、ニップロール５５と、剥離ロール５６と、塗布装置５７と、光源５８とを備える。すなわち、図１３に示す転写装置５は、ロール・ツー・ロール方式のインプリント転写装置である。
【0182】
基材供給ロール５１は、例えば、光学フィルム１の基材１１がロール状に巻回されたロールである。巻取ロール５２は、樹脂層１２に凹凸パターン１０５が転写された光学フィルム１を巻き取るためのロールである。また、ガイドロール５３、５４は、転写前後で、基材１１を搬送するためのロールである。ニップロール５５は、未硬化の樹脂層１２Ａが塗布された基材１１をロール原盤１００の外周面に押圧するためのロールである。剥離ロール５６は、凹凸パターン１０５が転写された樹脂層１２が積層された基材１１をロール原盤１００から剥離するためのロールである。
【0183】
塗布装置５７は、例えば、未硬化の硬化性樹脂組成物からなる転写材料を基材１１に塗布し、基材１１上に未硬化の樹脂層１２Ａを形成する。塗布装置５７は、例えば、グラビアコーター、ワイヤーバーコーター、またはダイコーターなどであってもよい。また、光源５８は、光硬化性樹脂組成物を硬化可能な波長の光を発する光源であり、例えば、紫外線ランプなどである。
【0184】
なお、硬化性樹脂組成物は、例えば、所定の波長の光が照射されることによって硬化する光硬化性樹脂であってよい。具体的には、光硬化性樹脂組成物は、アクリル樹脂アクリレート、エポキシアクリレートなどの紫外線硬化性樹脂であってもよい。また、光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、開始剤、フィラー、機能性添加剤、溶剤、無機材料、顔料、帯電抑制剤、または増感色素などを含んでもよい。
【0185】
なお、未硬化の樹脂層１２Ａは、熱硬化性樹脂組成物で形成されていてもよい。この場合、転写装置５には光源５８に替えて熱源（例えばヒータ）が設けられ、熱源によって樹脂層１２Ａを加熱することで樹脂層１２Ａを硬化させてもよい。熱硬化性樹脂組成物は、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、または尿素樹脂等であってもよい。
【0186】
次に、上記構成の転写装置５を用いたロール・ツー・ロール方式の転写方法について説明する。
【0187】
まず、基材供給ロール５１に巻回された帯状の基材１１は、基材供給ロール５１から巻き解かれて、ガイドロール５３を介して連続的に送り出される。次いで、塗布装置５７により、基材１１の表面上に光硬化性樹脂組成物（転写材料）が連続的に塗布されて、基材１１に未硬化の樹脂層１２Ａが積層される。さらに、基材１１に積層された樹脂層１２Ａが、ニップロール５５によってロール原盤１００の外周面に押圧される。これにより、ロール原盤１００の外周面に形成された凹凸パターン１０５（例えば、上述した微細凹凸構造１２０、溝１３１）が樹脂層１２Ａに連続的に転写される。
【0188】
次いで、凹凸パターン１０５が転写された樹脂層１２Ａは、光源５８からの光の照射により硬化する。これにより、凹凸パターン１０５の反転構造（例えば、上述した微細凹凸構造２０、凸条部３１）が樹脂層１２に形成される。その後、凹凸パターン１０５が転写された樹脂層１２と基材１１とからなる光学フィルム１は、剥離ロール５６によりロール原盤１００から剥離される。その後、光学フィルム１は、ガイドロール５４を介して巻取ロール５２に送り出されて、巻取ロール５２においてロール状に巻き取られる。
【0189】
以上のように、本実施形態に係る転写装置５によれば、ロール・ツー・ロール方式で、ロール原盤１００の外周面に形成された凹凸パターン１０５を連続的に転写して、光学フィルム１を製造することが可能である。したがって、光学フィルム１を効率よく量産可能である。
【0190】
また、モスアイ構造などの透明な微細凹凸構造２０をロール・ツー・ロール方式で転写する場合、透明な基材１１の表面に対して透明な紫外線硬化性樹脂等の硬化性樹脂（未硬化の樹脂層１２Ａ）が塗布された後に、回転するロール原盤１００の外周面に対して基材１１が押し付けられる。この結果、ロール原盤１００の外周面と基材１１との間で硬化性樹脂が延び広がり、硬化性樹脂の塗布範囲が広がる。この際、作業員は、透明な基材１１に対して透明な硬化性樹脂が塗布された範囲（特に、ロール幅方向の塗布範囲）を視認しにくい。このため、硬化性樹脂のロール幅方向の塗布範囲をうまく制御できないので、ロール原盤１００と基材１１との間から硬化性樹脂が溢れ出す、または、基材１１の表面の一部領域で硬化性樹脂の塗り抜けが生じる等の不具合が発生しやすい。そこで、ロール原盤１００のロール幅方向の端部に、ロール原盤１００の全周に渡って容易に視認可能なラインマーカーが存在することが望ましい。
【0191】
この点、本実施形態によれば、図５に示したように、ロール原盤１００の外周面のロール幅方向の両端部付近に帯状のラインマーカー領域１０３が、ロール周方向全周に渡って設けられている。このラインマーカー領域１０３には、回折格子として機能する螺旋状の溝１３１が形成されているため、光の回折および干渉によりラインマーカー領域１０３から虹色の拡散光が出射される。したがって、作業員は、ロール原盤１００のロール幅方向の両端部に設けられたラインマーカー領域１０３を容易に視認可能である。よって、視認可能なラインマーカー領域１０３の位置を目安として、透明な硬化性樹脂が塗布された範囲を視認、制御できるので、塗布される硬化性樹脂の供給量等を制御して、硬化性樹脂の塗布範囲を適切に制御することができる。この結果、硬化性樹脂の溢れ出しや塗り抜け等の不具合の発生を抑制でき、光学フィルム１の生産性や品質を向上することができる。
【0192】
[７．適用例]
次に、本実施形態に係る光学フィルム１の各種の適用例について説明する。
次に、本実施形態に係る光学フィルム１の各種の適用例について説明する。
【0193】
[７．１．フィルム製品の視認性向上]
まず、図１４を参照して、本実施形態に係る光学フィルム１を打ち抜き加工して、反射防止フィルムの製品（例えば、アイシールド、フェイスシールド等のシールド部材やその他の光学部材の製品）を成形する例について説明する。図１４は、本実施形態に係る光学フィルム１から複数枚のアイシールド４を打ち抜き加工する例を示す平面図である。
まず、図１４を参照して、本実施形態に係る光学フィルム１を打ち抜き加工して、反射防止フィルムの製品（例えば、アイシールド、フェイスシールド等のシールド部材やその他の光学部材の製品）を成形する例について説明する。図１４は、本実施形態に係る光学フィルム１から複数枚のアイシールド４を打ち抜き加工する例を示す平面図である。
【0194】
本実施形態に係る光学フィルム１は、例えば、帯状のフィルムをロール状に巻回したフィルムロール（図１参照。）として保存されてもよい。かかるフィルムロールから、シールド部材やその他の光学部材の製品（枚葉品）を製造する場合、フィルムロールから巻き解かれた帯状の光学フィルム１を打ち抜き加工して、所定形状のフィルム製品が成形される。なお、フィルムロールから巻き解かれた帯状の光学フィルム１を、打ち抜き加工前に、所定長さに裁断加工してもよい。
【0195】
図１４に示すように、光学フィルム１から複数枚のアイシールド４を打ち抜き加工する場合、各アイシールド４の少なくとも一部に、光学フィルム１の幅方向の両端部のラインマーカー領域３が含まれるように、アイシールド４を打ち抜き加工することが好ましい。図１４の例では、各アイシールド４の片側端部にラインマーカー領域３が含まれるように、帯状の光学フィルム１の幅方向（Ｙ方向）に２列でアイシールド４が打ち抜き加工されている。
【0196】
上述したように、ラインマーカー領域３は、回折格子として機能する複数の凸条部３１の周期構造を含んでいる。このラインマーカー領域３は虹色に光るため、ユーザは当該ラインマーカー領域３を容易に視認可能である。したがって、打ち抜き加工されたアイシールド４の枚葉品のうち大半の領域が、反射防止機能を有する透明領域（凹凸パターン領域２）であったとしても、アイシールド４の一部にラインマーカー領域３が含まれていれば、当該ラインマーカー領域３の存在によりアイシールド４の枚葉品の視認性を大幅に向上することができる。
【0197】
これにより、ユーザは、大半が透明なアイシールド４の枚葉品を、ラインマーカー領域３を手掛かりとして容易に視認することができ、アイシールド４の枚葉品のハンドリング性が向上する。例えば、ユーザが、アイシールド４の枚葉品を持ち運んだり、着脱したりするとき、アイシールド４を容易に視認してハンドリングすることができる。また、アイシールド４の枚葉品を床に落とした場合でもあって、容易に見つけることができる。
【0198】
このように、本実施形態によれば、光学フィルム１を成形して得られるアイシールド４等の枚葉品において、透明な領域が大半を占める場合であっても、その一部に視認可能なラインマーカー領域３が形成されているので、ユーザによるアイシールド４等の製品のハンドリング性が大幅に向上する。
【0199】
なお、図１４では、アイシールド４の片側端部にラインマーカー領域３を含める例について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。アイシールド４等のフィルム製品の一部にラインマーカー領域３が存在しさえすれば、フィルム製品のうちラインマーカー領域３が存在する位置、向き、範囲、数等は、特に限定されない。
【0200】
[７．２．ロール原盤の欠陥管理]
次に、図１５を参照して、ロール原盤１００のロール周方向位置を表すマーカー１０６を用いて、ロール原盤１００の欠陥１０７を管理する方法について説明する。図１５は、本実施形態に係る光学フィルム１の欠陥７、ロール原盤１００の欠陥１０７と、マーカー６、１０６を示す説明図である。
次に、図１５を参照して、ロール原盤１００のロール周方向位置を表すマーカー１０６を用いて、ロール原盤１００の欠陥１０７を管理する方法について説明する。図１５は、本実施形態に係る光学フィルム１の欠陥７、ロール原盤１００の欠陥１０７と、マーカー６、１０６を示す説明図である。
【0201】
上述したように、本実施形態に係る光学フィルム１の製造方法では、ロール・ツー・ロール方式により、ロール原盤１００の外周面に形成された凹凸パターン（凹凸パターン領域２の微細凹凸構造１２０）を光学フィルム１の樹脂層１２に連続的に転写する。この転写工程では、図１５に示すように、何らかの原因により、ロール原盤１００の外周面の凹凸パターン上に欠陥１０７が発生することがある。その欠陥１０７がロール原盤１００から光学フィルム１に転写されると、光学フィルム１の表面上にも、欠陥１０７に対応する欠陥７が周期的に発生する。このため、光学フィルム１の性能、品質の劣化や、歩留まりの低下を招くこととなる。
【0202】
そこで、ロール・ツー・ロール方式の転写方法では、光学フィルム１の生産性や品質を向上させるために、ロール原盤１００の欠陥管理が重要である。ここで、ロール原盤１００の凹凸パターン（凹凸パターン領域２の微細凹凸構造１２０）の欠陥１０７を管理するためには、ロール原盤１００の外周面のうち凹凸パターン領域２以外の領域に、マーカー１０６が設けられていることが望ましい。さらに、光学フィルム１に周期的に生じる欠陥７（以下、「周期欠陥７」という。）の位置から、ロール原盤１００の欠陥１０７の位置を特定するためには、ロール原盤１００の外周面にマーカー１０６が刻印されており、このマーカー１０６を光学フィルム１に転写することが好ましい。
【0203】
そこで、本実施形態では、図１５に示すように、ロール原盤１００のラインマーカー領域１０３に、マーカー１０６を設ける。マーカー１０６は、ロール原盤１００のロール周方向の基準位置を表す識別情報（目印）である。図１５の例のマーカー１０６は、ラインマーカー領域１０３に刻印される円形の目印で構成されているが、ロール周方向の基準位置を表す目印となるものであれば、マーカー１０６の形状は問わない。
【0204】
ロール原盤１００のラインマーカー領域１０３にマーカー１０６を設けることにより、光学フィルム１のラインマーカー領域３には、マーカー１０６の反転形状を有するマーカー６が周期的に転写される。光学フィルム１の長手方向におけるマーカー６の周期（ピッチ）は、ロール原盤１００の周長である。
【0205】
このように、光学フィルム１のラインマーカー領域３にマーカー６があれば、光学フィルム１の凹凸パターン領域２上の周期欠陥７の座標位置（マーカー６から欠陥７までの距離）に基づいて、ロール原盤１００の外周面における欠陥１０７の位置（ロール周方向の位置）を容易に特定することができる。この際、ロール原盤１００の外周面における欠陥１０７が微小であり、肉眼で発見しにくいものであったとしても、光学フィルム１の周期欠陥７の座標位置の情報があれば、ロール原盤１００の外周面上の微小な欠陥１０７の位置を特定可能になる。ロール原盤１００の欠陥１０７の位置が特定できれば、当該欠陥１０７を修復して、光学フィルム１の品質を回復することができ、不良品の発生を抑えて生産性を向上することができる。
【0206】
以上のように、本実施形態によれば、光学フィルム１に周期性を有する欠陥７が発生した場合、マーカー６を基準とした欠陥７の座標位置から、ロール原盤１００自体の欠陥１０７の位置を特定でき、その欠陥対策をスピーディーに実行できる。よって、欠陥管理、欠陥対策を有効に実行できる。
【0207】
また、上記とは逆に、ロール原盤１００の外周面における欠陥１０７の座標位置（ロール周方向の位置）から、光学フィルム１上の周期欠陥７の位置（マーカー６から欠陥７までの距離）を特定することもできる。光学フィルム１上の周期欠陥７の位置が分れば、当該周期欠陥７の位置を避けて、光学フィルム１の打ち抜き加工位置を指定することによって、周期欠陥７が含まれない高品質のフィルム製品を成形することが可能になる。
【0208】
[７．３．抜き文字によるトレーサビリティ管理]
次に、図１６を参照して、マーカー、文字、記号等の識別情報を抜き文字でラインマーカー領域３に表示して、光学フィルム１のトレーサビリティ管理に利用する応用例について説明する。図１６は、本実施形態に係る光学フィルム１のラインマーカー領域３に形成されたマーカー８、抜き文字９を示す平面図である。
次に、図１６を参照して、マーカー、文字、記号等の識別情報を抜き文字でラインマーカー領域３に表示して、光学フィルム１のトレーサビリティ管理に利用する応用例について説明する。図１６は、本実施形態に係る光学フィルム１のラインマーカー領域３に形成されたマーカー８、抜き文字９を示す平面図である。
【0209】
図１６に示すように、光学フィルム１のラインマーカー領域３内に、例えば、円形のマーカー８と、アルファベットの文字からなる抜き文字９が形成されている。これらのマーカー８、抜き文字９は、ラインマーカー領域３内において凸条部３１が形成されていない部分（白抜き部分）によって、視認可能に表示されている。
【0210】
図１６の例のラインマーカー領域３では、複数の凸条部３１は、ラインマーカー領域３の長手方向に沿って断続的に形成されている。凸条部３１が形成されている部分は、上述した回折格子として機能して、虹色に光る視認可能領域となる。一方、凸条部３１が形成されていない部分は、回折格子として機能せず、虹色に光らないが、その周囲の虹色に光る領域（凸条部３１が形成されている部分）とのコントラストで、抜き文字として表示される。このようにして、ラインマーカー領域３内において凸条部３１の形成の有無によって、マーカー８、抜き文字９、その他の任意の記号等の識別情報を視認可能に表示することができる。
【0211】
このように、光学フィルム１のラインマーカー領域３内において、凸条部３１の形成の有無のパターンによって、マーカー８、抜き文字９等を表示するためには、当該パターンに対応する転写パターンを、ロール原盤１００のラインマーカー領域１０３に形成する必要がある。このため、ロール原盤１００のラインマーカー領域１０３でも、上記螺旋状の溝１３１を断続的に形成することによって、当該溝１３１が形成されていない部分（白抜き部分）によって、上記マーカー８、抜き文字９等の識別情報を表示する。
【0212】
そこで、上述したロール原盤１００の製造方法の露光工程（Ｓ１２）において、マーカー８、抜き文字９等の識別情報のパターンに合わせて、レーザ光の照射のオン／オフを制御して、当該識別情報に対応する露光パターンを原盤基材１１０のレジスト層１１１に形成する。これにより、ロール原盤１００のラインマーカー領域１０３において、溝１３１の形成の有無によって、マーカー８、抜き文字９等の識別情報を表す転写パターンを形成することができる。そして、当該識別情報を表す転写パターンを、ロール原盤１００のラインマーカー領域１０３から光学フィルム１のラインマーカー領域３に転写する。これにより、光学フィルム１のラインマーカー領域３内で、図１６に示すマーカー８、抜き文字９等の識別情報を表示することができる。
【0213】
以上のように、本実施形態によれば、マーカー８、抜き文字９、その他の記号等を含む識別情報を、光学フィルム１のラインマーカー領域３に表示する。これによって、光学フィルム１、ロール原盤１００等に関する様々な識別情報を提供することができる。
【0214】
例えば、図１６に示す円形のマーカー８は、光学フィルム１の製造に用いられたロール原盤１００のロール周方向の基準位置を表す目印として利用できる。ロール原盤１００のロール周方向の基準位置を表すマーカー８を表示することにより、上記図１５を用いて説明したように、ロール原盤１００や光学フィルム１の欠陥管理、欠陥対策を好適に実行できる。
【0215】
また、図１６に示すアルファベットの抜き文字９は、例えば、光学フィルム１の製造時のロット番号を表す文字または記号であってよい。抜き文字９によりロット番号を表示することにより、光学フィルム１の製造ロットや、光学フィルム１の製造に用いられたロール原盤１００を特定するための識別情報を、作業員に提供できる。
【0216】
したがって、光学フィルム１に欠陥７が生じた場合に、その光学フィルム１の製造ロットやロール原盤１００を特定することができる。よって、これらの識別情報により、信頼性の高いトレーサビリティ管理や欠陥管理を容易かつ好適に実現できる。
【0217】
さらに、ロール原盤１００のラインマーカー領域１０３および光学フィルム１のラインマーカー領域３は、帯状に長いので、当該ラインマーカー領域１０３、３に、ロット番号などの長い文字数の識別情報を、抜き文字で刻印、表示することができる。これにより、詳細な識別情報を表示可能になるので、より詳細なトレーサビリティ管理を実現できる。
【0218】
[８．まとめ]
以上、本実施形態に係る光学フィルム１とその製造方法、および当該製造方法に用いられるロール原盤１００等について詳細に説明した。
以上、本実施形態に係る光学フィルム１とその製造方法、および当該製造方法に用いられるロール原盤１００等について詳細に説明した。
【0219】
本実施形態に係る光学フィルム１によれば、フィルム幅方向の両端部に、フィルム長手方向に延びる帯状のラインマーカー領域３を設ける。そして、当該ラインマーカー領域３に複数の凸条部３１を形成する。この複数の凸条部３１は、可視光の波長以上のマイクロメートルサイズのトラックピッチＰｔで相互に間隔を空けて配列される。これにより、ラインマーカー領域３の複数の凸条部３１が回折格子として機能するので、ラインマーカー領域３に入射する光が凸条部３１により回折および干渉して、波長ごとに分光される。この結果、ラインマーカー領域３から虹色の拡散光が出射されるため、ラインマーカー領域３は視認可能領域となる。虹色に光るラインマーカー領域３は、透明な凹凸パターン領域２よりも、肉眼による視認性が高い。
【0220】
したがって、光学フィルム１を用いた光学フィルム製品（例えば、アイシールド、フェイスシールド等）のユーザは、光学フィルム１のうち透明な凹凸パターン領域２を視認しにくい場合であっても、虹色に光るラインマーカー領域３を容易に視認可能である。よって、ユーザが透明な光学フィルム製品をハンドリングする際の視認性を向上できる。
【0221】
また、転写物である光学フィルム１を生産工程でハンドリングする際に、作業者は、透明な光学フィルム１のうち虹色に光るラインマーカー領域３を視認可能であるので、作業性が向上する。さらに、透明なロール原盤１００にもラインマーカー領域１０３が形成されているので、同様な原理により、透明なロール原盤１００の視認性も向上し、ロール原盤１００を扱う作業性の向上を図ることもできる。
【0222】
さらに、本実施形態に係る光学フィルム１の製造方法によれば、図１１に示す転写工程（Ｓ２４）において、ロール原盤１００の外周面に形成された凹凸パターン領域１０２とラインマーカー領域１０３の転写パターンを、フィルムの基材１１上の樹脂層１２Ａの表面に同時に転写することにより、光学フィルム１が製造される。これにより、光学フィルム１の表面に、凹凸パターン領域２（反射防止領域）とラインマーカー領域３（視認可能領域）を同一の加工工程で容易に形成可能である。さらに、光学フィルム１の基材１１の表面に積層された同一の樹脂層１２に、凹凸パターン領域２の微細凹凸構造２０およびラインマーカー領域３の凸条部３１の双方を一体形成できる。よって、光学フィルム１を効率よく量産できる。
【0223】
また、光学フィルム１のラインマーカー領域３を、凹凸パターン領域２を形成するための転写工程とは別の追加工程（例えば、別の印刷工程等）で製造する場合には、その追加工程によって新たな欠陥を凹凸パターン領域２に発生させる恐れがある。しかし、本実施形態に係る光学フィルム１の製造方法によれば、凹凸パターン領域２とラインマーカー領域３を同一の工程で同時に一体形成するので、工程追加の必要がなく、新たな欠陥の発生を引き起こすことがない。
【0224】
また、本実施形態によれば、ロール原盤１００のロール幅方向の両端部に、ロール原盤１００の全周に渡って視認性の高いラインマーカー領域１０３、１０３が存在する。このため、ロール・ツー・ロール方式の転写工程（Ｓ２４）において、ロール原盤１００の外周面に押し付けられる透明な基材１１に、透明な硬化性樹脂等の転写材料を塗布するときに、ロール幅方向の両端部のラインマーカー領域１０３、１０３を基準として、その塗布幅を好適に制御することができる。
【0225】
また、本実施形態によれば、全周に渡ってラインマーカー領域１０３が存在するロール原盤１００を用いて、帯状の光学フィルム１を製造する。これにより、帯状の光学フィルム１の長手方向の全体に渡って、視認性の高いラインマーカー領域３が帯状に形成される。このため、図１４に示したように、帯状の光学フィルム１からアイシールド４等の光学フィルム製品を打ち抜き加工したときに、光学フィルム製品に、透明な凹凸パターン領域２に加えて、視認性の高いラインマーカー領域３を含めることが可能となる。よって、アイシールド４等の光学フィルム製品の視認性を向上できるので、当該光学フィルム製品のハンドリング性も向上できる。
【0226】
また、本実施形態によれば、図１５に示したように、光学フィルム１に周期性を有する欠陥７が発生したときに、ラインマーカー領域３に転写されたマーカー６を基準として、欠陥７の座標位置を特定できる。これにより、当該光学フィルム１を製造したロール原盤１００自体の欠陥１０７の位置を特定できるので、当該欠陥１０７の対策を迅速に実行できる。したがって、ロール原盤１００の欠陥管理を高精度で実施できるとともに、ロール原盤１００により製造される光学フィルム１の生産性と品質を向上できる。
【0227】
また、本実施形態によれば、図１６に示したように、光学フィルム１のラインマーカー領域３に、光学フィルム１の製造やロール原盤１００に関する識別情報（例えば、ロット番号等の文字列）を、マーカー８や抜き文字９等で表示することができる。これにより、光学フィルム１のトレーサビリティ管理や、欠陥管理を高精度かつ容易に実施できる。
【0228】
また、本実施形態に係るロール原盤１００の製造方法によれば、凹凸パターン領域１０２とラインマーカー領域１０３を同時にエッチングする。これにより、ロール原盤１００の外周面において、凹凸パターン領域１０２の凹部１２１の深さＨ’と、ラインマーカー領域１０３の螺旋状の溝１３１の深さｈ’が実質的に同一となる。この結果、ロール原盤１００の凹凸パターンが転写された光学フィルム１の表面においても、凹凸パターン領域２の凸部２１の高さＨと、ラインマーカー領域３の凸条部３１の高さｈが実質的に同一となる。よって、光学フィルム１をフィルムロール状に巻回したときに、巻き歪み等の不具合が生じにくい。
【0229】
以上、添付図面を参照しながら本発明の実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【0230】
１ 光学フィルム
２ 凹凸パターン領域
３ ラインマーカー領域
４ アイシールド
５ 転写装置
６ マーカー
７ 欠陥
８ マーカー
９ 抜き文字
１１ 基材
１２ 樹脂層
１２Ａ 未硬化の樹脂層
２０ 微細凹凸構造
２１ 凸部
２２ 凹部
３１ 凸条部
３２ 平坦部
１００ ロール原盤
１０２ 凹凸パターン領域
１０３ ラインマーカー領域
１１０ 原盤基材
１１１ レジスト層
１１２ 潜像
１１３Ａ、１１３Ｂ 開口部
１２０ 微細凹凸構造
１２１ 凹部
１２２ 凸部
１３１ 螺旋状の溝
２００ 露光装置
２０１ レーザ光源
２０２ レーザ光
２ 凹凸パターン領域
３ ラインマーカー領域
４ アイシールド
５ 転写装置
６ マーカー
７ 欠陥
８ マーカー
９ 抜き文字
１１ 基材
１２ 樹脂層
１２Ａ 未硬化の樹脂層
２０ 微細凹凸構造
２１ 凸部
２２ 凹部
３１ 凸条部
３２ 平坦部
１００ ロール原盤
１０２ 凹凸パターン領域
１０３ ラインマーカー領域
１１０ 原盤基材
１１１ レジスト層
１１２ 潜像
１１３Ａ、１１３Ｂ 開口部
１２０ 微細凹凸構造
１２１ 凹部
１２２ 凸部
１３１ 螺旋状の溝
２００ 露光装置
２０１ レーザ光源
２０２ レーザ光
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】