特開2022-69363IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

スパッタリングシステムに関し、特に、曲面（又は３次元表面）を有する物体に対して成膜を行うスパッタリングシステム

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】個々のスパッタリングユニットの独立制御により非平坦な３次元表面を均一に成膜するスパッタリングシステムを提供する。
【解決手段】本発明のスパッタリングシステムは、複数のセクションを有する被成膜表面へスパッタリング成膜を行うのに適し、各セクションは投影の高さを有する。本発明は支持プレート、スパッタリングアレイ及び制御器を含む。スパッタリングアレイは支持プレート上に設置され、複数のスパッタリングユニットを含み、各セクションは少なくとも１つのスパッタリングユニットに対応する。各スパッタリングユニットは駆動軸及びスパッタリングターゲットを備える。スパッタリングターゲットは被成膜表面に面している。制御器は駆動軸に電気的接続し、駆動軸はスパッタリングターゲットが被成膜表面に対向して移動するのを制御し、制御器は各スパッタリングユニットからそれが対応する１つのセクションまでの距離を制御する。
【選択図】図２

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の主な目的は、各スパッタリングユニットに対して独立制御を行うことにより非平坦な３次元表面をより均一に成膜するスパッタリングシステムを提供することである。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

上述の目的を達成するため、本発明の実施形態において提供するスパッタリングシステムは、被成膜表面に対してスパッタリング成膜を行うのに適し、かつ被成膜表面には複数のセクションを有し、その中の各セクションは投影の高さを有する。スパッタリングシステムは支持プレート、スパッタリングアレイ及び制御器を含む。スパッタリングアレイは支持プレート上に設置され、複数のスパッタリングユニットを含み、かつ各セクショ・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、各スパッタリングユニットに対して独立制御を行うことにより非平坦な３次元表面に均一に成膜することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本発明の実施形態におけるスパッタリングシステムを示す図である。
【図2】 図１中いずれかのチャンバーの支持プレートを示す図である。
【図3】 本発明の実施形態におけるスパッタリングユニットの内部構造を示す図である。
【図4】 本発明の実施形態におけるスパッタリングユニットに対してガス制御ユニットを接続することを示す図である。
【図5】 本発明の実施形態におけるスパッタリングユニットのターゲット上にシャッターを追加することを示す図である。
【図6A】 本発明の実施形態の平面スパッタリングターゲットと３次元表面の対向関係を示す図である。
【図6B】 本発明のもう１つの実施形態の平面スパッタリングターゲットと３次元表面の対向関係を示す図である。
【図7A】 本発明のスパッタリングターゲットから３次元表面までの距離を独立制御することを示す側面図である。
【図7B】 本発明の実施形態においてスパッタリングユニットのターゲット上にシャッターを追加して開口の調整を行うことを示す図である。
【図8】 本発明の実施形態におけるセクション形式のスパッタリングユニットの設計を示す図である。
【図9】 対応する図８の被成膜表面がスパッタリングを受けた後を示す図である。
【図10】 本発明のもう１つの実施形態におけるセクション形式のスパッタリングユニットの設計を示す図である。
【図11】 対応する図１０の被成膜表面がスパッタリングを受けた後を示す図である。
【図12】 本発明のさらに別の実施形態におけるセクション形式のスパッタリングユニットの設計を示す図である。
【図13】 対応する図１２の被成膜表面がスパッタリングを受けた後を示す図である。
【図14A】 スパッタリングターゲットが曲面の湾曲度合いに対して回動するのをスパッタリングユニットが制御することを示す図である。
【図14B】 図１４Ａ中のスパッタリングターゲットが回動を完了した状態を示す図である。
【図15A】 本発明のもう１つの実施形態におけるスパッタリングシステムを示す図である。
【図15B】 図１５Ａのスパッタリングシステムの上面図である。
【図16-24】 本発明の異なる実施形態におけるスパッタリングシステムを示す図である。

選択図 図2出願人が指定した本件の代表的な図

７００、１４００ スパッタリングシステム ７４２、７４２－１～７４２－Ｎ チャンバー ７４１ 台車 ７１０ 支持プレート １４１０ チャンバー ７２０、１４２０ 制御器 ７３０、１４３０ スパッタリングアレイ ７３０Ｓ、１４３０Ｓ スパッタリングユニット ７６０ 内部構造 ７６１ マグネット ７６２ 冷却水経路 ７６３ 電極層 ７６４ 電源 ７６５ 移動制御ユニット ７３０Ｓ２、７６６、８３１～８３４、１３０１、１３０２ スパッタリングターゲット ７６７ ガス制御ユニット ８５１～８５４ シャッター ７６８ サブシャッター Ｓ１～Ｓ４ 曲面セクション Ｐ２ 投影の高さ Ｈ１～Ｈ４、Ｈ１’、Ｈ２’ スパッタリングターゲットの長さ Ｔ－Ｓ、Ｔ－Ｓ’ 距離 ５００、５０１、５０２、６０１～６０４ 移動方向 ９５０ 被成膜物体 ９６０Ａ、１２１０、１２３０ ３次元表面 ７３０Ｓ１、１３０３、１３０４、８４１～８４４ 駆動軸 １３０５、１３０６ シャッター １５００ 保持装置 ９００、１０００、１１００ スパッタリングアレイ １６００、１７００、１８００、１９００、２０００、２１００、２２００、２３００、２４００ スパッタリングシステム １６３０、１６３０’、１７３０、１７３０’、１８３０、１８３０’、１９３０、１９３０’、２０３０、２０３０’、 ２１３０、２１３０’、２２３０、２２３０’、２３３０、２３３０’、 ２４３０、２４３０’ スパッタリングアレイ

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