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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022072485
(43)【公開日】2022-05-17
(54)【発明の名称】清掃用ウェットシート
(51)【国際特許分類】
A47L 13/17 20060101AFI20220510BHJP
D04H 13/00 20060101ALI20220510BHJP
【ＦＩ】
A47L13/17 A
D04H13/00
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2020181948
(22)【出願日】2020-10-30
(71)【出願人】
【識別番号】390029148
【氏名又は名称】大王製紙株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100090033
【弁理士】
【氏名又は名称】荒船 博司
(74)【代理人】
【識別番号】100093045
【弁理士】
【氏名又は名称】荒船 良男
(72)【発明者】
【氏名】新谷 尚己
【テーマコード（参考）】
3B074
4L047
【Ｆターム（参考）】
3B074AA08
3B074AB01
3B074AC02
3B074CC03
4L047AA08
4L047AB06
4L047CA12
4L047CC16
4L047DA00
(57)【要約】
【課題】ヘッド部を有する清掃具に取り付けて拭き掃除を行う際に、拭き筋の発生を低減することができる清掃用ウェットシートを提供する。
【解決手段】清掃用ウェットシート１００は、第１の面に凸となり、長軸方向の向きが異なる凸エンボス２１である第１凸エンボス２１１と第２凸エンボス２１２を各々複数備え、長軸方向と直交する短軸方向に隣り合う第１凸エンボス２１１は、短軸方向に一部が重なり、かつ、長軸方向にずれて配置され、短軸方向に隣り合う第２凸エンボス２１２は、短軸方向に一部が重なり、かつ、長軸方向にずれて配置され、複数の第１凸エンボス２１１及び第２凸エンボス２１２は、清掃用ウェットシート１００の第１の辺から、第１の辺ａと対向する第２の辺ｂまで連続的に配置されている。
【選択図】図２
【解決手段】清掃用ウェットシート１００は、第１の面に凸となり、長軸方向の向きが異なる凸エンボス２１である第１凸エンボス２１１と第２凸エンボス２１２を各々複数備え、長軸方向と直交する短軸方向に隣り合う第１凸エンボス２１１は、短軸方向に一部が重なり、かつ、長軸方向にずれて配置され、短軸方向に隣り合う第２凸エンボス２１２は、短軸方向に一部が重なり、かつ、長軸方向にずれて配置され、複数の第１凸エンボス２１１及び第２凸エンボス２１２は、清掃用ウェットシート１００の第１の辺から、第１の辺ａと対向する第２の辺ｂまで連続的に配置されている。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
原紙シートに薬液が含浸されてなり、ヘッド部を有する清掃具に取り付けられて使用される清掃用ウェットシートであって、
当該清掃用ウェットシートの第１の面に凸となるエンボスである凸エンボスを備え、
前記凸エンボスは、長軸方向の向きが異なる第１凸エンボスと第２凸エンボスを各々複数備え、
前記長軸方向と直交する短軸方向に隣り合う前記第１凸エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
前記短軸方向に隣り合う前記第２凸エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
複数の前記第１凸エンボス及び第２凸エンボスは、前記清掃用ウェットシートの第１の辺から、前記第１の辺と対向する第２の辺まで連続的に配置されていることを特徴とする清掃用ウェットシート。
当該清掃用ウェットシートの第１の面に凸となるエンボスである凸エンボスを備え、
前記凸エンボスは、長軸方向の向きが異なる第１凸エンボスと第２凸エンボスを各々複数備え、
前記長軸方向と直交する短軸方向に隣り合う前記第１凸エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
前記短軸方向に隣り合う前記第２凸エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
複数の前記第１凸エンボス及び第２凸エンボスは、前記清掃用ウェットシートの第１の辺から、前記第１の辺と対向する第２の辺まで連続的に配置されていることを特徴とする清掃用ウェットシート。
【請求項2】
前記第１凸エンボスと前記第２凸エンボスは、前記長軸方向が略直角をなすように隣接して配置されていることを特徴とする請求項１に記載の清掃用ウェットシート。
【請求項3】
前記清掃用ウェットシートの第２の面に凸となるエンボスである凹エンボスを備え、
前記凹エンボスは、前記長軸方向の向きが異なる第１凹エンボスと第２凹エンボスを各々複数備え、
前記短軸方向に隣り合う前記第１凹エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
前記短軸方向に隣り合う前記第２凹エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
複数の前記第１凹エンボス及び第２凹エンボスは、前記清掃用ウェットシートの前記第１の辺から、前記第２の辺まで連続的に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の清掃用ウェットシート。
前記凹エンボスは、前記長軸方向の向きが異なる第１凹エンボスと第２凹エンボスを各々複数備え、
前記短軸方向に隣り合う前記第１凹エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
前記短軸方向に隣り合う前記第２凹エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
複数の前記第１凹エンボス及び第２凹エンボスは、前記清掃用ウェットシートの前記第１の辺から、前記第２の辺まで連続的に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の清掃用ウェットシート。
【請求項4】
前記第１凹エンボスと前記第２凹エンボスは、前記長軸方向が略直角をなすように隣接して配置されていることを特徴とする請求項３に記載の清掃用ウェットシート。
【請求項5】
原紙シートに薬液が含浸されてなり、ヘッド部を有する清掃具に取り付けられて使用される清掃用ウェットシートであって、
当該清掃用ウェットシートの第１の面に凸となるエンボスである凸エンボスと、第２の面に凸となるエンボスである凹エンボスを備え、
前記凸エンボスと前記凹エンボスとの組み合わせからなるエンボスブロックは、前記清掃用ウェットシートの第１の辺から前記第１の辺と対向する第２の辺まで連続して複数配置されてエンボスブロック列をなし、
前記エンボスブロック列は、前記第１の辺と直交する第３の辺から、前記第３の辺と対向する第４の辺まで連続して複数配置されているとともに、隣接する第１のエンボスブロック列と第２のエンボスブロック列が前記第１の辺から前記第２の辺に向かう方向にずれて配置され、
第１のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスは、隣接する第２のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスと長軸方向の向きが異なり、かつ、前記第２のエンボスブロック内の隣接する前記凸エンボス及び前記凹エンボスと、前記長軸方向と直交する短軸方向に一部が重なるように配置されていることを特徴とする清掃用ウェットシート。
当該清掃用ウェットシートの第１の面に凸となるエンボスである凸エンボスと、第２の面に凸となるエンボスである凹エンボスを備え、
前記凸エンボスと前記凹エンボスとの組み合わせからなるエンボスブロックは、前記清掃用ウェットシートの第１の辺から前記第１の辺と対向する第２の辺まで連続して複数配置されてエンボスブロック列をなし、
前記エンボスブロック列は、前記第１の辺と直交する第３の辺から、前記第３の辺と対向する第４の辺まで連続して複数配置されているとともに、隣接する第１のエンボスブロック列と第２のエンボスブロック列が前記第１の辺から前記第２の辺に向かう方向にずれて配置され、
第１のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスは、隣接する第２のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスと長軸方向の向きが異なり、かつ、前記第２のエンボスブロック内の隣接する前記凸エンボス及び前記凹エンボスと、前記長軸方向と直交する短軸方向に一部が重なるように配置されていることを特徴とする清掃用ウェットシート。
【請求項6】
前記第１のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスと、前記第２のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスは、前記長軸方向の向きが略直角となるように配置されていることを特徴とする請求項５に記載の清掃用ウェットシート。
【請求項7】
前記エンボスブロックは、ひし形であることを特徴とする請求項５又は６に記載の清掃用ウェットシート。
【請求項8】
前記エンボスは、楕円形状であり、長軸方向の略中央部にくびれ部を有することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の清掃用ウェットシート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、清掃用ウェットシートに関する。
【背景技術】
【0002】
従来、清掃用ウェットシートの清掃面に凸部を有するエンボスを施すことで、汚れの拭き取り性や操作性、シート汚れの視認性等が向上することが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１８－０６４７２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかし、特許文献１に示すような清掃用ウェットシートにおいては、凸部における紙面上の向き（例えば、長軸方向の向き）が揃って直列に配置されているため、凸部による拭き取りが行われなかった箇所（いわゆる「拭き筋」）が被清掃面に発生してしまうことがある。拭き筋を視認した使用者は、薬液がまだシート内に残存しているにも関わらず、薬液が尽きて乾燥してきたと判断してシートを破棄してしまい、不要に多くのシートを使用してしまうことがある。
【0005】
本発明の目的は、ヘッド部を有する清掃具に取り付けて拭き掃除を行う際に、拭き筋の発生を低減することができる清掃用ウェットシートを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
請求項１に記載の発明は、原紙シートに薬液が含浸されてなり、ヘッド部を有する清掃具に取り付けられて使用される清掃用ウェットシートであって、
当該清掃用ウェットシートの第１の面に凸となるエンボスである凸エンボスを備え、
前記凸エンボスは、長軸方向の向きが異なる第１凸エンボスと第２凸エンボスを各々複数備え、
前記長軸方向と直交する短軸方向に隣り合う前記第１凸エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
前記短軸方向に隣り合う前記第２凸エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
複数の前記第１凸エンボス及び第２凸エンボスは、前記清掃用ウェットシートの第１の辺から、前記第１の辺と対向する第２の辺まで連続的に配置されていることを特徴とする。
当該清掃用ウェットシートの第１の面に凸となるエンボスである凸エンボスを備え、
前記凸エンボスは、長軸方向の向きが異なる第１凸エンボスと第２凸エンボスを各々複数備え、
前記長軸方向と直交する短軸方向に隣り合う前記第１凸エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
前記短軸方向に隣り合う前記第２凸エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
複数の前記第１凸エンボス及び第２凸エンボスは、前記清掃用ウェットシートの第１の辺から、前記第１の辺と対向する第２の辺まで連続的に配置されていることを特徴とする。
【0007】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の清掃用ウェットシートであって、
前記第１凸エンボスと前記第２凸エンボスは、前記長軸方向が略直角をなすように隣接して配置されていることを特徴とする。
前記第１凸エンボスと前記第２凸エンボスは、前記長軸方向が略直角をなすように隣接して配置されていることを特徴とする。
【0008】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の清掃用ウェットシートであって、
前記清掃用ウェットシートの第２の面に凸となるエンボスである凹エンボスを備え、
前記凹エンボスは、前記長軸方向の向きが異なる第１凹エンボスと第２凹エンボスを各々複数備え、
前記短軸方向に隣り合う前記第１凹エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
前記短軸方向に隣り合う前記第２凹エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
複数の前記第１凹エンボス及び第２凹エンボスは、前記清掃用ウェットシートの前記第１の辺から、前記第２の辺まで連続的に配置されていることを特徴とする。
前記清掃用ウェットシートの第２の面に凸となるエンボスである凹エンボスを備え、
前記凹エンボスは、前記長軸方向の向きが異なる第１凹エンボスと第２凹エンボスを各々複数備え、
前記短軸方向に隣り合う前記第１凹エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
前記短軸方向に隣り合う前記第２凹エンボスは、前記短軸方向に一部が重なり、かつ、前記長軸方向にずれて配置され、
複数の前記第１凹エンボス及び第２凹エンボスは、前記清掃用ウェットシートの前記第１の辺から、前記第２の辺まで連続的に配置されていることを特徴とする。
【0009】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の清掃用ウェットシートであって、
前記第１凹エンボスと前記第２凹エンボスは、前記長軸方向が略直角をなすように隣接して配置されていることを特徴とする。
前記第１凹エンボスと前記第２凹エンボスは、前記長軸方向が略直角をなすように隣接して配置されていることを特徴とする。
【0010】
請求項５に記載の発明は、原紙シートに薬液が含浸されてなり、ヘッド部を有する清掃具に取り付けられて使用される清掃用ウェットシートであって、
当該清掃用ウェットシートの第１の面に凸となるエンボスである凸エンボスと、第２の面に凸となるエンボスである凹エンボスを備え、
前記凸エンボスと前記凹エンボスとの組み合わせからなるエンボスブロックは、前記清掃用ウェットシートの第１の辺から前記第１の辺と対向する第２の辺まで連続して複数配置されてエンボスブロック列をなし、
前記エンボスブロック列は、前記第１の辺と直交する第３の辺から、前記第３の辺と対向する第４の辺まで連続して複数配置されているとともに、隣接する第１のエンボスブロック列と第２のエンボスブロック列が前記第１の辺から前記第２の辺に向かう方向にずれて配置され、
第１のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスは、隣接する第２のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスと長軸方向の向きが異なり、かつ、前記第２のエンボスブロック内の隣接する前記凸エンボス及び前記凹エンボスと、前記長軸方向と直交する短軸方向に一部が重なるように配置されていることを特徴とする。
当該清掃用ウェットシートの第１の面に凸となるエンボスである凸エンボスと、第２の面に凸となるエンボスである凹エンボスを備え、
前記凸エンボスと前記凹エンボスとの組み合わせからなるエンボスブロックは、前記清掃用ウェットシートの第１の辺から前記第１の辺と対向する第２の辺まで連続して複数配置されてエンボスブロック列をなし、
前記エンボスブロック列は、前記第１の辺と直交する第３の辺から、前記第３の辺と対向する第４の辺まで連続して複数配置されているとともに、隣接する第１のエンボスブロック列と第２のエンボスブロック列が前記第１の辺から前記第２の辺に向かう方向にずれて配置され、
第１のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスは、隣接する第２のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスと長軸方向の向きが異なり、かつ、前記第２のエンボスブロック内の隣接する前記凸エンボス及び前記凹エンボスと、前記長軸方向と直交する短軸方向に一部が重なるように配置されていることを特徴とする。
【0011】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の清掃用ウェットシートであって、
前記第１のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスと、前記第２のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスは、前記長軸方向の向きが略直角となるように配置されていることを特徴とする。
前記第１のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスと、前記第２のエンボスブロック内の前記凸エンボス及び前記凹エンボスは、前記長軸方向の向きが略直角となるように配置されていることを特徴とする。
【0012】
請求項７に記載の発明は、請求項５又は６に記載の清掃用ウェットシートであって、
前記エンボスブロックは、ひし形であることを特徴とする。
前記エンボスブロックは、ひし形であることを特徴とする。
【0013】
請求項８に記載の発明は、請求項１から７のいずれか一項に記載の清掃用ウェットシートであって、
前記エンボスは、楕円形状であり、長軸方向の略中央部にくびれ部を有することを特徴とする。
前記エンボスは、楕円形状であり、長軸方向の略中央部にくびれ部を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、ヘッド部を有する清掃具に取り付けて拭き掃除を行う際に、拭き筋の発生を低減することができる清掃用ウェットシートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】本実施の形態の清掃用ウェットシートの使用時の状態を示す斜視図である。
【図2】本実施の形態の清掃用ウェットシートを示す平面図である。
【図3A】変形例に係る清掃用ウェットシートのエンボスブロックを示す図である。
【図3B】変形例に係る清掃用ウェットシートを示す平面図である。
【図4A】変形例に係る清掃用ウェットシートのエンボスブロックを示す図である。
【図4B】変形例に係る清掃用ウェットシートを示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態である清掃用ウェットシート１００について説明する。ただし、発明の範囲は図示例に限定されず、あくまで特許請求の範囲の記載を基に判断される。
なお、以下においては、図１に示したように、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向を定めて説明する。
なお、以下においては、図１に示したように、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向を定めて説明する。
【0017】
［実施形態の構成］
図１は、本実施の形態の清掃用ウェットシート１００の使用時の状態を示す図である。
図１に示すように、清掃用ウェットシート１００は、例えば、矩形の平板状のヘッド部２０１と、ヘッド部２０１の上面に取り付けられた柄部２０２と、を備える清掃具２００に交換可能に装着されて床清掃に用いられる、複数枚の原紙シートがプライ加工（積層）されたシートである。
清掃用ウェットシート１００は、清掃具２００のヘッド部２０１の底面を覆って清掃面を形成し、清掃具２００のヘッド部２０１の長手縁部２０１ａに沿って折り曲げられてヘッド部２０１の上面に係止され、装着された状態となる。
なお、長手縁部２０１ａとは、ヘッド部２０１の長手方向に沿った縁部を指す。すなわち、矩形のヘッド部２０１の４つの縁部のうちの、長い方の２つの縁部を指す。
図１は、本実施の形態の清掃用ウェットシート１００の使用時の状態を示す図である。
図１に示すように、清掃用ウェットシート１００は、例えば、矩形の平板状のヘッド部２０１と、ヘッド部２０１の上面に取り付けられた柄部２０２と、を備える清掃具２００に交換可能に装着されて床清掃に用いられる、複数枚の原紙シートがプライ加工（積層）されたシートである。
清掃用ウェットシート１００は、清掃具２００のヘッド部２０１の底面を覆って清掃面を形成し、清掃具２００のヘッド部２０１の長手縁部２０１ａに沿って折り曲げられてヘッド部２０１の上面に係止され、装着された状態となる。
なお、長手縁部２０１ａとは、ヘッド部２０１の長手方向に沿った縁部を指す。すなわち、矩形のヘッド部２０１の４つの縁部のうちの、長い方の２つの縁部を指す。
【0018】
原紙シートは、繊維集合体であれば特に限定されないが、例えば、単層又は多層の紙、不織布、あるいは化繊混抄紙等からなる。原紙シートが不織布からなる場合は、所定の繊維間をスパンレース、エアスルー、エアレイド、ポイントボンド、スパンボンド、ニードルパンチ等の周知の技術によって結合することで製造される。
【0019】
所定の繊維としては、天然、再生、合成を問わず用いることができるが、例えば、親水性繊維であるレーヨン、リヨセル、テンセル、コットン等のセルロース系繊維や、疎水性繊維であるポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール等のポリオレフィン系繊維、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル繊維、ナイロン等のポリアミド系繊維が挙げられる。これらは単独で、あるいは親水性のものと疎水性のものを少なくとも１種類ずつ組み合わせて使用することができる。
【0020】
これらの繊維は、繊度が１．１ｄｔｅｘから５．５ｄｔｅｘのものが好ましく使用される。１．１ｄｔｅｘ未満では繊維間の孔隙が小さく、繊維くずや毛髪の捕集に好ましくない。また５．５ｄｔｅｘを超えると、保持している薬液を放出しやすくなり好ましくない。
また、これらの繊維の繊維長は、製造に適するものであれば任意である。
また、これらの繊維の繊維長は、製造に適するものであれば任意である。
【0021】
また、原紙シートが紙からなる場合は、原料となるパルプは、広葉樹晒クラフトパルプ（ＬＢＫＰ）、針葉樹晒クラフトパルプ（ＮＢＫＰ）、広葉樹未晒クラフトパルプ（ＬＵＫＰ）、針葉樹未晒クラフトパルプ（ＮＵＫＰ）、広葉樹亜硫酸パルプ、針葉樹亜硫酸パルプ等が挙げられ、これらを適宜任意の割合で配合したものが適する。
【0022】
より好ましくは、広葉樹晒クラフトパルプの配合割合が５０重量％を超えるもの、すなわち広葉樹晒クラフトパルプに対する針葉樹晒クラフトパルプの配合比が１／１未満となるものが挙げられる。針葉樹晒クラフトパルプに対する広葉樹晒クラフトパルプの配合比を多くすることで、繊維間隙間が減少し、水分蒸散が抑制されるため、乾きにくさを向上させることができる。
また、粉砕されたパルプや、粉砕パルプを水解紙で覆ったり、挟んだりすることで構成されていてもよい。
また、粉砕されたパルプや、粉砕パルプを水解紙で覆ったり、挟んだりすることで構成されていてもよい。
【0023】
（目付け）
本発明の清掃用ウェットシート１００の場合、目付け量は２０～１００ｇ／ｍ２、特に３０～６０ｇ／ｍ２程度であるのが好ましい。シートの目付け量が２０ｇ／ｍ２未満では汚れの保持能力が乏しくなり、清掃時のシートがよれやすく不安定になりやすい。また１００ｇ／ｍ２を超えると柔軟性が乏しくなり、清掃具２００への清掃用ウェットシート１００の取付けが困難になる。
本発明の清掃用ウェットシート１００の場合、目付け量は２０～１００ｇ／ｍ２、特に３０～６０ｇ／ｍ２程度であるのが好ましい。シートの目付け量が２０ｇ／ｍ２未満では汚れの保持能力が乏しくなり、清掃時のシートがよれやすく不安定になりやすい。また１００ｇ／ｍ２を超えると柔軟性が乏しくなり、清掃具２００への清掃用ウェットシート１００の取付けが困難になる。
【0024】
［水溶性バインダー］
また、原紙シートには紙力増強のための水溶性バインダーが付与されている。水溶性バインダーとしては、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ポリビニルアルコール、デンプンまたはその誘導体、ヒドロキシプロピルセルロース、アルギン酸ナトリウム、トラントガム、グアーガム、キサンタンガム、アラビアゴム、カラギーナン、ガラクトマンナン、ゼラチン、カゼイン、アルブミン、プルプラン、ポリエチレンオキシド、ビスコース、ポリビニルエチルエーテル、ポリアクリル酸ソーダ、ポリメタアクリル酸ソーダ、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸のヒドロキシル化誘導体、ポリビニルピロリドン／ビニルピロリドン酢酸ビニル共重合体等のバインダー成分が挙げられる。
また、原紙シートには紙力増強のための水溶性バインダーが付与されている。水溶性バインダーとしては、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ポリビニルアルコール、デンプンまたはその誘導体、ヒドロキシプロピルセルロース、アルギン酸ナトリウム、トラントガム、グアーガム、キサンタンガム、アラビアゴム、カラギーナン、ガラクトマンナン、ゼラチン、カゼイン、アルブミン、プルプラン、ポリエチレンオキシド、ビスコース、ポリビニルエチルエーテル、ポリアクリル酸ソーダ、ポリメタアクリル酸ソーダ、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸のヒドロキシル化誘導体、ポリビニルピロリドン／ビニルピロリドン酢酸ビニル共重合体等のバインダー成分が挙げられる。
【0025】
特に、架橋反応により湿潤強度を発現しうる点から、カルボキシル基を有する水溶性バインダーを用いることが好ましい。
カルボキシル基を有する水溶性バインダーは、水中で容易にカルボキシラートを生成するアニオン性の水溶性バインダーである。その例としては多糖誘導体、合成高分子、天然物が挙げられる。
カルボキシル基を有する水溶性バインダーは、水中で容易にカルボキシラートを生成するアニオン性の水溶性バインダーである。その例としては多糖誘導体、合成高分子、天然物が挙げられる。
【0026】
（多糖誘導体）
多糖誘導体としてはＣＭＣの塩、カルボキシエチルセルロース又はその塩、カルボキシメチル化デンプン又はその塩などが挙げられ、特にＣＭＣのアルカリ金属塩が好ましい。
多糖誘導体としてはＣＭＣの塩、カルボキシエチルセルロース又はその塩、カルボキシメチル化デンプン又はその塩などが挙げられ、特にＣＭＣのアルカリ金属塩が好ましい。
【0027】
（ＣＭＣ）
ＣＭＣについては、そのエーテル化度が０．６～２．０、特に０．９～１．８、更に好ましくは１．０～１．５であるのが望ましい。このようにすることで、水解性と湿潤紙力の発現が極めて良好となるためである。
また、ＣＭＣは、水膨潤性のものを用いることが好ましい。これは、本実施形態における薬液中の架橋剤であるアルミニウムイオンとの架橋により、未膨潤化のまま原紙シートを構成する繊維をつなぎとめる機能を発揮し、清掃・清拭作業に耐えうる清掃用ウェットシート１００としての強度を発現することができるからである。
本実施形態の清掃用ウェットシート１００の場合には、水溶性バインダーとして、ＣＭＣが付与されている。
ＣＭＣについては、そのエーテル化度が０．６～２．０、特に０．９～１．８、更に好ましくは１．０～１．５であるのが望ましい。このようにすることで、水解性と湿潤紙力の発現が極めて良好となるためである。
また、ＣＭＣは、水膨潤性のものを用いることが好ましい。これは、本実施形態における薬液中の架橋剤であるアルミニウムイオンとの架橋により、未膨潤化のまま原紙シートを構成する繊維をつなぎとめる機能を発揮し、清掃・清拭作業に耐えうる清掃用ウェットシート１００としての強度を発現することができるからである。
本実施形態の清掃用ウェットシート１００の場合には、水溶性バインダーとして、ＣＭＣが付与されている。
【0028】
ＣＭＣは、原紙シートの厚み方向に均一に含浸された状態でも良いが、原紙シートの厚み方向の中央から表面及び裏面に向かうにつれてＣＭＣの含有量が徐々に増加した状態となっていることが好ましい。これにより、清掃用ウェットシート１００は、同量の水溶性バインダーを均一に含浸させた従来品に比べて清掃面等を強く擦っても破れにくくなるからである。
【0029】
（合成高分子）
合成高分子としては、不飽和カルボン酸の重合体又は共重合体の塩、不飽和カルボン酸と該不飽和カルボン酸と共重合可能な単量体との共重合体の塩などが挙げられる。不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、無水マレイン酸、マレイン酸、フマール酸などが挙げられる。これらと共重合可能な単量体としては、これら不飽和カルボン酸のエステル、酢酸ビニル、エチレン、アクリルアミド、ビニルエーテルなどが挙げられる。特に好ましい合成高分子は、不飽和カルボン酸としてアクリル酸やメタクリル酸を用いたものであり、具体的にはポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、アクリル酸メタクリル酸共重合体の塩、アクリル酸又はメタクリル酸とアクリル酸アルキル又はメタクリル酸アルキルとの共重合体の塩が挙げられる。
天然物としては、アルギン酸ナトリウム、ザンサンガム、ジェランガム、タラガントガム、ペクチンなどが挙げられる。
合成高分子としては、不飽和カルボン酸の重合体又は共重合体の塩、不飽和カルボン酸と該不飽和カルボン酸と共重合可能な単量体との共重合体の塩などが挙げられる。不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、無水マレイン酸、マレイン酸、フマール酸などが挙げられる。これらと共重合可能な単量体としては、これら不飽和カルボン酸のエステル、酢酸ビニル、エチレン、アクリルアミド、ビニルエーテルなどが挙げられる。特に好ましい合成高分子は、不飽和カルボン酸としてアクリル酸やメタクリル酸を用いたものであり、具体的にはポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、アクリル酸メタクリル酸共重合体の塩、アクリル酸又はメタクリル酸とアクリル酸アルキル又はメタクリル酸アルキルとの共重合体の塩が挙げられる。
天然物としては、アルギン酸ナトリウム、ザンサンガム、ジェランガム、タラガントガム、ペクチンなどが挙げられる。
【0030】
（ＣＮＦ）
また、清掃用ウェットシート１００には、セルロースナノファイバー（ＣＮＦ）を添加することができる。
すなわち、水溶性バインダー（本実施形態の場合には、ＣＭＣ）には、ＣＮＦを添加することができ、原紙シートの比表面積はパルプのみの組成のものより大きくなる。
また、清掃用ウェットシート１００には、セルロースナノファイバー（ＣＮＦ）を添加することができる。
すなわち、水溶性バインダー（本実施形態の場合には、ＣＭＣ）には、ＣＮＦを添加することができ、原紙シートの比表面積はパルプのみの組成のものより大きくなる。
【0031】
ここで、ＣＮＦとは、パルプ繊維を解繊して得られる微細なセルロース繊維をいい、一般的に繊維幅がナノサイズ（１ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下）のセルロース微細繊維を含むセルロース繊維をいうが、平均繊維幅は、１００ｎｍ以下の繊維が好ましい。平均繊維幅の算出は、例えば、一定数の数平均、メジアン、モード径（最頻値）などを用いる。
【0032】
ＣＮＦは、原紙シートの厚み方向に均一に含浸された状態でも良いが、原紙シートの厚み方向の中央から表面及び裏面に向かうにつれてＣＮＦの含有量が徐々に増加した状態となっていることが好ましい。これにより、清掃用ウェットシート１００は、同量の水溶性バインダーを均一に含浸させた従来品に比べて清掃面等を強く擦っても破れにくくなるからである。
【0033】
（ＣＮＦに使用可能なパルプ繊維）
ＣＮＦの製造に使用可能なパルプ繊維としては、広葉樹パルプ（ＬＢＫＰ）、針葉樹パルプ（ＮＢＫＰ）等の化学パルプ、晒サーモメカニカルパルプ（ＢＴＭＰ）、ストーングランドパルプ（ＳＧＰ）、加圧ストーングランドパルプ（ＰＧＷ）、リファイナーグランドパルプ（ＲＧＰ）、ケミグランドパルプ（ＣＧＰ）、サーモグランドパルプ（ＴＧＰ）、グランドパルプ（ＧＰ）、サーモメカニカルパルプ（ＴＭＰ）、ケミサーモメカニカルパルプ（ＣＴＭＰ）、リファイナーメカニカルパルプ（ＲＭＰ）等の機械パルプ、茶古紙、クラフト封筒古紙、雑誌古紙、新聞古紙、チラシ古紙、オフィス古紙、段ボール古紙、上白古紙、ケント古紙、模造古紙、地券古紙、更紙古紙等から製造される古紙パルプ、古紙パルプを脱墨処理した脱墨パルプ（ＤＩＰ）等が挙げられる。これらは、本発明の効果を損なわない限り、単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて用いてもよい。
ＣＮＦの製造に使用可能なパルプ繊維としては、広葉樹パルプ（ＬＢＫＰ）、針葉樹パルプ（ＮＢＫＰ）等の化学パルプ、晒サーモメカニカルパルプ（ＢＴＭＰ）、ストーングランドパルプ（ＳＧＰ）、加圧ストーングランドパルプ（ＰＧＷ）、リファイナーグランドパルプ（ＲＧＰ）、ケミグランドパルプ（ＣＧＰ）、サーモグランドパルプ（ＴＧＰ）、グランドパルプ（ＧＰ）、サーモメカニカルパルプ（ＴＭＰ）、ケミサーモメカニカルパルプ（ＣＴＭＰ）、リファイナーメカニカルパルプ（ＲＭＰ）等の機械パルプ、茶古紙、クラフト封筒古紙、雑誌古紙、新聞古紙、チラシ古紙、オフィス古紙、段ボール古紙、上白古紙、ケント古紙、模造古紙、地券古紙、更紙古紙等から製造される古紙パルプ、古紙パルプを脱墨処理した脱墨パルプ（ＤＩＰ）等が挙げられる。これらは、本発明の効果を損なわない限り、単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて用いてもよい。
【0034】
（ＣＮＦの解繊方法）
ＣＮＦの製造に用いられる解繊方法としては、例えば、高圧ホモジナイザー法、マイクロフリュイダイザー法、グラインダー磨砕法、ビーズミル凍結粉砕法、超音波解繊法等の機械的手法が挙げられるが、これらの方法に限定されるものではない。
なお、上記解繊方法などにより機械的処理のみ施した（変性させていない）ＣＮＦ、すなわち、官能基未修飾のＣＮＦは、リン酸基やカルボキシメチル基などの官能基修飾されたものに対し、熱安定性が高いため、より幅広い用途に使用可能であるが、リン酸基やカルボキシメチル基などの官能基修飾されたＣＮＦを本発明に使用することも可能である。
また、例えば、パルプ繊維に対して機械的手法の解繊処理を施したものに、カルボキシメチル化等の化学的処理を施しても良いし、酵素処理を施しても良い。化学的処理を施したＣＮＦとしては、例えば、ＴＥＭＰＯ酸化ＣＮＦ、リン酸エステル化ＣＮＦ、亜リン酸エステル化ＣＮＦ等の、直径が３～４ｎｍとなるiCNF(individualized CNF)（シングルナノセルロース）が挙げられる。
また、化学的処理や酵素処理のみを施したＣＮＦや、化学的処理や酵素処理を施したＣＮＦに、機械的手法の解繊処理を施したＣＮＦでもよい。
ＣＮＦの製造に用いられる解繊方法としては、例えば、高圧ホモジナイザー法、マイクロフリュイダイザー法、グラインダー磨砕法、ビーズミル凍結粉砕法、超音波解繊法等の機械的手法が挙げられるが、これらの方法に限定されるものではない。
なお、上記解繊方法などにより機械的処理のみ施した（変性させていない）ＣＮＦ、すなわち、官能基未修飾のＣＮＦは、リン酸基やカルボキシメチル基などの官能基修飾されたものに対し、熱安定性が高いため、より幅広い用途に使用可能であるが、リン酸基やカルボキシメチル基などの官能基修飾されたＣＮＦを本発明に使用することも可能である。
また、例えば、パルプ繊維に対して機械的手法の解繊処理を施したものに、カルボキシメチル化等の化学的処理を施しても良いし、酵素処理を施しても良い。化学的処理を施したＣＮＦとしては、例えば、ＴＥＭＰＯ酸化ＣＮＦ、リン酸エステル化ＣＮＦ、亜リン酸エステル化ＣＮＦ等の、直径が３～４ｎｍとなるiCNF(individualized CNF)（シングルナノセルロース）が挙げられる。
また、化学的処理や酵素処理のみを施したＣＮＦや、化学的処理や酵素処理を施したＣＮＦに、機械的手法の解繊処理を施したＣＮＦでもよい。
【0035】
［薬液］
また、本実施形態の清掃用ウェットシート１００には、グリコールエーテル類、水性洗浄剤、防腐剤、除菌剤、低級アルコール、有機溶剤等の補助剤を含む所定の薬液が含浸されている。薬液は、清掃用ウェットシート１００の基材である原紙シートの質量に対して１００質量％～５００質量％含浸させるが、好ましくは１５０質量％～３００質量％である。
当該薬液は、水溶性バインダーが塗布された後に乾燥された原紙シートに対して含浸され、親水性繊維に含浸された薬液は、清掃用ウェットシート１００の使用時に表面ないし裏面から放出される。
また、本実施形態の清掃用ウェットシート１００には、グリコールエーテル類、水性洗浄剤、防腐剤、除菌剤、低級アルコール、有機溶剤等の補助剤を含む所定の薬液が含浸されている。薬液は、清掃用ウェットシート１００の基材である原紙シートの質量に対して１００質量％～５００質量％含浸させるが、好ましくは１５０質量％～３００質量％である。
当該薬液は、水溶性バインダーが塗布された後に乾燥された原紙シートに対して含浸され、親水性繊維に含浸された薬液は、清掃用ウェットシート１００の使用時に表面ないし裏面から放出される。
【0036】
［清掃用ウェットシート］
図２は、本実施の形態の清掃用ウェットシート１００の一例を示す平面図である。
図２に示すように、清掃用ウェットシート１００は、Ｘ方向に長尺な略矩形状であって、例えば、Ｘ方向（長手方向）において２５０ｍｍから３００ｍｍ、好ましくは２６０ｍｍから２９０ｍｍ、Ｙ方向（短手方向）において１８０ｍｍから２３０ｍｍ、好ましくは２００ｍｍから２１０ｍｍに形成されている。
図２は、本実施の形態の清掃用ウェットシート１００の一例を示す平面図である。
図２に示すように、清掃用ウェットシート１００は、Ｘ方向に長尺な略矩形状であって、例えば、Ｘ方向（長手方向）において２５０ｍｍから３００ｍｍ、好ましくは２６０ｍｍから２９０ｍｍ、Ｙ方向（短手方向）において１８０ｍｍから２３０ｍｍ、好ましくは２００ｍｍから２１０ｍｍに形成されている。
【0037】
清掃用ウェットシート１００において、清掃具２００のヘッド部２０１の長手縁部２０１ａに沿って折り曲げられる部分を折曲部Ｓと称する。
この折曲部Ｓは、規定の清掃具２００のヘッド部２０１に合わせて、予めおおよその位置が設定されている。すなわち、清掃用ウェットシート１００のＹ方向の所定位置において、Ｘ方向に延在する２列の折曲部Ｓが設定されている。なお、折曲部Ｓは、使用者が認識できるように、例えば、清掃用ウェットシート１００に予め折曲部Ｓに対応する直線を印刷しても良いし、清掃用ウェットシート１００に折曲部Ｓに対応する折れ線を形成しても良い。
そして、清掃用ウェットシート１００の略全面に亘って、エンボス２０が配置されている。
この折曲部Ｓは、規定の清掃具２００のヘッド部２０１に合わせて、予めおおよその位置が設定されている。すなわち、清掃用ウェットシート１００のＹ方向の所定位置において、Ｘ方向に延在する２列の折曲部Ｓが設定されている。なお、折曲部Ｓは、使用者が認識できるように、例えば、清掃用ウェットシート１００に予め折曲部Ｓに対応する直線を印刷しても良いし、清掃用ウェットシート１００に折曲部Ｓに対応する折れ線を形成しても良い。
そして、清掃用ウェットシート１００の略全面に亘って、エンボス２０が配置されている。
【0038】
（エンボス）
エンボス２０は、清掃用ウェットシート１００において、シートがＺ方向に圧縮された部分である。
エンボス２０は、図２に示すように、平面視において、一方向に短尺で幅が狭い楕円形状であり、長軸方向略中央部にくびれ部を有する、いわゆるひょうたん形に形成されている。エンボス２０の形状としてはこれに限られず、例えば、多角形等種々の形状や、各形状を組み合わせた形状としてもよいが、汚れの掻き取り性向上の観点からは、このようなひょうたん形とするのが好ましい。
エンボス２０は、清掃用ウェットシート１００において、シートがＺ方向に圧縮された部分である。
エンボス２０は、図２に示すように、平面視において、一方向に短尺で幅が狭い楕円形状であり、長軸方向略中央部にくびれ部を有する、いわゆるひょうたん形に形成されている。エンボス２０の形状としてはこれに限られず、例えば、多角形等種々の形状や、各形状を組み合わせた形状としてもよいが、汚れの掻き取り性向上の観点からは、このようなひょうたん形とするのが好ましい。
【0039】
かかるエンボス２０は、例えば、温度８０℃～２００℃、エンボス圧０．２ＭＰａ～１．０ＭＰａの条件による熱エンボスにて形成することができる。熱エンボスによりエンボス２０を形成する場合、凸エンボスロールとしては、少なくとも外周面が炭素鋼、ステンレス鋼あるいはポリプロピレン、ＡＢＳ（Acrylonitrile Butadiene Styrene）樹脂等の硬化樹脂等からなるものを用いることができる。中でも耐久性や耐熱性の観点から、ステンレス鋼からなるものを用いるのが好ましい。
また、熱エンボスによりエンボス加工を行う場合は、清掃用ウェットシート１００に薬液を含浸させる工程の前に行うのが、凹凸形状の付与させやすさから好ましい。
また、熱エンボスによりエンボス加工を行う場合は、清掃用ウェットシート１００に薬液を含浸させる工程の前に行うのが、凹凸形状の付与させやすさから好ましい。
【0040】
（凸エンボス、凹エンボス）
エンボス２０としては、Ｚ方向上側（清掃用ウェットシート１００の第１面側）に凸型となる凸エンボス２１と、下側（清掃用ウェットシート１００の第２面側）に凸型となる（すなわち、Ｚ方向上側に凹型となる）凹エンボス２２と、が形成されている。なお、図１から図４Ｂにおいては、凸エンボス２１を実線、凹エンボス２２を破線で示している。
凸エンボス２１は、長軸方向において５ｍｍから１０ｍｍ、好ましくは６ｍｍから８ｍｍであり、長軸方向と直交する短軸方向において２ｍｍから５ｍｍ、好ましくは３ｍｍから４ｍｍであり、Ｚ方向において（中間部（後述）からの高さ）０．５ｍｍから２ｍｍ、好ましくは０．７ｍｍから１．５ｍｍに形成される。凹エンボス２２は、断面視において、凸エンボス２１と上下逆さまに、かつ、略同一の形状に形成され、Ｚ方向下側に向かって凸となる形状に形成されている。
エンボス２０としては、Ｚ方向上側（清掃用ウェットシート１００の第１面側）に凸型となる凸エンボス２１と、下側（清掃用ウェットシート１００の第２面側）に凸型となる（すなわち、Ｚ方向上側に凹型となる）凹エンボス２２と、が形成されている。なお、図１から図４Ｂにおいては、凸エンボス２１を実線、凹エンボス２２を破線で示している。
凸エンボス２１は、長軸方向において５ｍｍから１０ｍｍ、好ましくは６ｍｍから８ｍｍであり、長軸方向と直交する短軸方向において２ｍｍから５ｍｍ、好ましくは３ｍｍから４ｍｍであり、Ｚ方向において（中間部（後述）からの高さ）０．５ｍｍから２ｍｍ、好ましくは０．７ｍｍから１．５ｍｍに形成される。凹エンボス２２は、断面視において、凸エンボス２１と上下逆さまに、かつ、略同一の形状に形成され、Ｚ方向下側に向かって凸となる形状に形成されている。
【0041】
（中間部）
清掃用ウェットシート１００に形成された各エンボス２０の間には、中間部が形成されている。中間部は、エンボス２０が形成されていない部分であるため、Ｚ方向において、凸エンボス２１よりも低く、凹エンボス２２よりも高い位置となる。
清掃用ウェットシート１００に形成された各エンボス２０の間には、中間部が形成されている。中間部は、エンボス２０が形成されていない部分であるため、Ｚ方向において、凸エンボス２１よりも低く、凹エンボス２２よりも高い位置となる。
【0042】
［エンボスパターン］
図２に示すように、本実施形態に係る清掃用ウェットシート１００には、凸エンボス２１として、長軸方向の向きが互いに異なる第１凸エンボス２１１と第２凸エンボス２１２が複数設けられている。そして、短軸方向に隣り合う第１凸エンボス２１１同士は、短軸方向に両第１凸エンボス２１１の一部が重なり、かつ、長軸方向にずれるように配置されている。また、短軸方向に隣り合う第２凸エンボス２１２同士は、短軸方向に両第２凸エンボス２１２の一部が重なり、かつ、長軸方向にずれるように配置されている。そして、このような複数の第１凸エンボス２１１及び第２凸エンボス２１２が、清掃用ウェットシート１００の第１の辺ａから、第１の辺ａと対向する第２の辺ｂまで連続的に配置されている。
図２に示すように、本実施形態に係る清掃用ウェットシート１００には、凸エンボス２１として、長軸方向の向きが互いに異なる第１凸エンボス２１１と第２凸エンボス２１２が複数設けられている。そして、短軸方向に隣り合う第１凸エンボス２１１同士は、短軸方向に両第１凸エンボス２１１の一部が重なり、かつ、長軸方向にずれるように配置されている。また、短軸方向に隣り合う第２凸エンボス２１２同士は、短軸方向に両第２凸エンボス２１２の一部が重なり、かつ、長軸方向にずれるように配置されている。そして、このような複数の第１凸エンボス２１１及び第２凸エンボス２１２が、清掃用ウェットシート１００の第１の辺ａから、第１の辺ａと対向する第２の辺ｂまで連続的に配置されている。
【0043】
通常、ヘッド部２０１を有する清掃具２００に取り付けられた清掃用ウェットシート１００は、拭き掃除を行う際にはＸ方向又はＹ方向に略垂直に動かされるが、上記したようなエンボスパターンを有する清掃用ウェットシート１００の場合、清掃用ウェットシート１００のＸ方向又はＹ方向に対向する２辺を繋ぐように、凸エンボス２１による重なりしろが生まれるため、拭き掃除を行う際に、拭き筋の発生を低減することができる。
【0044】
このとき特に、第１凸エンボス２１１及び第２凸エンボス２１２は、その長軸方向及び短軸方向の中心部を、Ｘ方向に対して４５°の角度の直線が通過するように配置されているのが好ましい。また、隣り合う第１凸エンボス２１１同士と第２凸エンボス２１２同士は、短軸方向に少なくとも０．１ｍｍ以上の重なりを有し、かつ、長軸方向のずれが５ｍｍ以内（すなわち、凸エンボス２１の長軸方向の幅以内）となるように配置されているのが好ましい。また、第１凸エンボス２１１と第２凸エンボス２１２は、図２に示すように、長軸方向が略直角をなすように、隣接して配置されているのが好ましい。
【0045】
このようなエンボスパターンとすることで、清掃用ウェットシート１００の１つの頂点から、０°から３０°の角度で引いた直線の範囲内と、６０°から９０°の角度で引いた直線の範囲内には、凸エンボス２１が必ず配置されていることとなる。よって、Ｘ方向及びＹ方向に対して３０°以内、すなわち、０°～３０°、６０°～１２０°、１５０°～２１０°、２４０°～３００°、３３０°～３６０°の方向に清掃用ウェットシート１００を動かした場合は、凸エンボス２１同士で重なりしろが生まれ、拭き筋の発生をより低減することができる。
【0046】
このような清掃用ウェットシート１００においては、凹エンボス２２として、長軸方向の向きが異なる第１凹エンボス２２１と第２凹エンボス２２２とを、凸エンボス２１と同様のエンボスパターンで配置するのが好ましい。
【0047】
具体的には、凹エンボス２２として、長軸方向の向きが互いに異なる第１凹エンボス２２１と第２凹エンボス２２２が設けられている。そして、長軸方向と直交する短軸方向に隣り合う第２凹エンボス２２２同士は、短軸方向に両第２凹エンボス２２２の一部が重なり、かつ、長軸方向にずれるように配置されている。また、短軸方向に隣り合う第２凹エンボス２２２同士は、短軸方向に両第２凹エンボス２２２の一部が重なり、かつ、長軸方向にずれるように配置されている。このような複数の第２凸エンボス２１２及び第２凹エンボス２２２が、清掃用ウェットシート１００の第１の辺ａから、第１の辺ａと対向する第２の辺ｂまで連続的に配置されている。
【0048】
凸エンボス２１と同様のエンボスパターンで凹エンボス２２が配置されていることで、凸エンボス２１が配置された清掃用ウェットシート１００の第１の面に限られず、第１の面の凹エンボス２２がＺ方向上側に凸となる清掃用ウェットシート１００の第２の面も、第１の面と同程度の清掃能力を有するようになり、清掃用ウェットシート１００の１枚辺りの清掃面積を増やすことができる。
【0049】
［変形例１］
清掃用ウェットシート１００におけるエンボスパターンとしては、上記したものに限られない。
例えば図３Ａに示すように、凸エンボス２１と凹エンボス２２との組み合わせからなる略矩形状のエンボスブロック３０を、図３Ｂに示すように、Ｘ方向に沿って、清掃用ウェットシート１００の第１の辺ａから、第１の辺ａと対向する第２の辺ｂまで複数配置してなるエンボスブロック列３１を、Ｙ方向に沿って、第３の辺ｃから第４の辺ｄまで連続して複数配置する。
清掃用ウェットシート１００におけるエンボスパターンとしては、上記したものに限られない。
例えば図３Ａに示すように、凸エンボス２１と凹エンボス２２との組み合わせからなる略矩形状のエンボスブロック３０を、図３Ｂに示すように、Ｘ方向に沿って、清掃用ウェットシート１００の第１の辺ａから、第１の辺ａと対向する第２の辺ｂまで複数配置してなるエンボスブロック列３１を、Ｙ方向に沿って、第３の辺ｃから第４の辺ｄまで連続して複数配置する。
【0050】
このとき、例えば、隣接する第１のエンボスブロック列３１と第２のエンボスブロック列３１とがＸ方向にずれるように配置することで、第１のエンボスブロック３０内の凸エンボス２１及び凹エンボス２２を、隣接する第２のエンボスブロック３０内の凸エンボス２１及び凹エンボス２２と長軸方向の向きと異なる向きかつ、第２のエンボスブロック３０内の隣接する凸エンボス２１及び凹エンボス２２と短軸方向に一部が重なるように配置すると、清掃用ウェットシート１００の第１の辺ａから第２の辺ｂにかけて、また第３の辺ｃから第４の辺ｄにかけて複数の凸エンボス２１同士の重なりしろが生まれるようになるため、ヘッド部２０１を有する清掃具２００に取り付けて拭き掃除を行う際に、拭き筋の発生を低減することができる。
【0051】
［変形例２］
また、エンボスブロック３０の構成は上記したものに限られない。例えば、凸エンボス２１と凹エンボス２２とがＸ方向及びＹ方向に交互に配置されたエンボスブロック３０において、凸エンボス２１及び凹エンボス２２の長軸方向の向きを、Ｘ方向に対して３０°～６０°の範囲内で傾けることで、図４Ａに示すように、エンボスブロック３０をひし形としても良い。
また、エンボスブロック３０の構成は上記したものに限られない。例えば、凸エンボス２１と凹エンボス２２とがＸ方向及びＹ方向に交互に配置されたエンボスブロック３０において、凸エンボス２１及び凹エンボス２２の長軸方向の向きを、Ｘ方向に対して３０°～６０°の範囲内で傾けることで、図４Ａに示すように、エンボスブロック３０をひし形としても良い。
【0052】
このようなエンボスブロック３０を、図４Ｂに示すように、変形例１と同様に、第１の辺ａから第２の辺ｂまで連続して配置してなるエンボスブロック列３１を、第３の辺ｃから第４の辺ｄまで連続して複数配置し、隣接する第１のエンボスブロック３０内の凸エンボス２１及び凹エンボス２２の長軸方向の向きとは異なる向きに、かつ、短軸方向に一部が重なるように、第２のエンボスブロック３０内の凸エンボス２１及び凹エンボス２２を配置した場合、エンボスブロック３０はひし形であるため、エンボスブロック３０同士が必然的にずれるように配置される。
そのため、意図して第１のエンボスブロック列３１と第２のエンボスブロック列３１をずれるように配置しようとする必要が無い。
そのため、意図して第１のエンボスブロック列３１と第２のエンボスブロック列３１をずれるように配置しようとする必要が無い。
【0053】
（非エンボス部）
また、図４Ｂに示すように、エンボスブロック３０同士の間には、清掃用ウェットシート１００がＺ方向に圧縮なされておらず、起毛を有している非エンボス部４０を設けるようにしても良い。
また、図４Ｂに示すように、エンボスブロック３０同士の間には、清掃用ウェットシート１００がＺ方向に圧縮なされておらず、起毛を有している非エンボス部４０を設けるようにしても良い。
【0054】
非エンボス部４０は、エンボス２０を形成する凸エンボスロールを、非エンボス部４０の形状を除くようにデザインすることで、あるいは、起毛が残存する程度に、エンボス２０の圧縮がなされている部分と比較して軽度に圧縮することで、形成することができる。
非エンボス部４０を設けることで、清掃用ウェットシート１００を所定の方向に動かして清掃を行った際に、非エンボス部４０にゴミが溜まりやすくなるため、ごみの捕集性を高めることができる。
非エンボス部４０を設けることで、清掃用ウェットシート１００を所定の方向に動かして清掃を行った際に、非エンボス部４０にゴミが溜まりやすくなるため、ごみの捕集性を高めることができる。
【0055】
ただし、図４Ｂに示すように、非エンボス部４０が一直線となるように形成された場合、清掃用ウェットシート１００を動かす角度によっては拭き筋が発生しやすくなるおそれがある。そこで、非エンボス部４０が一直線とならないように、第１のエンボスブロック３０を隣接する第２のエンボスブロック３０からずれた位置に配置するのが好ましい。
【0056】
また、上記変形例１及び２のエンボスパターンにおいても、隣接する凸エンボス２１同士は長軸方向が略直角をなすように隣接して配置されているのが好ましい。
【0057】
その他、具体的な細部構造等についても適宜に変更可能であることは勿論である。
例えば、清掃用ウェットシート１００に含浸される薬液は、その用途に応じて変更可能である。
また、清掃用ウェットシート１００は複数枚の原紙シートがプライ加工（積層）されたものであるとしたが、これに限られず、単層のものであっても構わない。
また、図２及び図４Ｂにおいては、第１の辺ａ及び第２の辺ｂを清掃用ウェットシート１００における長手の辺とし、図３Ｂにおいては、第３の辺ｃ及び第４の辺ｄを長手の辺としたが、これに限られない。
例えば、清掃用ウェットシート１００に含浸される薬液は、その用途に応じて変更可能である。
また、清掃用ウェットシート１００は複数枚の原紙シートがプライ加工（積層）されたものであるとしたが、これに限られず、単層のものであっても構わない。
また、図２及び図４Ｂにおいては、第１の辺ａ及び第２の辺ｂを清掃用ウェットシート１００における長手の辺とし、図３Ｂにおいては、第３の辺ｃ及び第４の辺ｄを長手の辺としたが、これに限られない。
【0058】
【0059】
ただし、上記したいずれのエンボスパターンにおいても、清掃用ウェットシート１００に配置される凸エンボス２１と凹エンボス２２は、略同形かつ略同数となるようにされるのが好ましい。このようにすることで、清掃用ウェットシート１００の第１面と第２面が同程度の清掃機能を有するようになり、清掃用ウェットシート１００の１枚辺りの清掃面積を大きくすることができる。
【符号の説明】
【0060】
１００ 清掃用ウェットシート
２０ エンボス
２１ 凸エンボス
２１１ 第１凸エンボス
２１２ 第２凸エンボス
２２ 凹エンボス
２２１ 第１凹エンボス
２２２ 第２凹エンボス
３０ エンボスブロック
３１ エンボスブロック列
ａ 第１の辺
ｂ 第２の辺
ｃ 第３の辺
ｄ 第４の辺
２０ エンボス
２１ 凸エンボス
２１１ 第１凸エンボス
２１２ 第２凸エンボス
２２ 凹エンボス
２２１ 第１凹エンボス
２２２ 第２凹エンボス
３０ エンボスブロック
３１ エンボスブロック列
ａ 第１の辺
ｂ 第２の辺
ｃ 第３の辺
ｄ 第４の辺
【図1】
【図2】
【図3A】
【図3B】
【図4A】
【図4B】