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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022074970
(43)【公開日】2022-05-18
(54)【発明の名称】高周波誘導加熱装置
(51)【国際特許分類】
   H05B 6/10 20060101AFI20220511BHJP
   C21D 1/42 20060101ALI20220511BHJP
   C21D 1/00 20060101ALI20220511BHJP
【FI】
H05B6/10 341
C21D1/42 H
C21D1/00 112B
【審査請求】未請求
【請求項の数】3
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2020185452
(22)【出願日】2020-11-05
(71)【出願人】
【識別番号】390029089
【氏名又は名称】高周波熱錬株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100108062
【弁理士】
【氏名又は名称】日向寺 雅彦
(74)【代理人】
【識別番号】100168332
【弁理士】
【氏名又は名称】小崎 純一
(74)【代理人】
【識別番号】100146592
【弁理士】
【氏名又は名称】市川 浩
(74)【代理人】
【識別番号】100157901
【弁理士】
【氏名又は名称】白井 達哲
(74)【代理人】
【識別番号】100172188
【弁理士】
【氏名又は名称】内田 敬人
(74)【代理人】
【識別番号】100197538
【弁理士】
【氏名又は名称】竹内 功
(74)【代理人】
【識別番号】100176751
【弁理士】
【氏名又は名称】星野 耕平
(72)【発明者】
【氏名】笹川 秀幸
(72)【発明者】
【氏名】稲葉 智一
【テーマコード(参考)】
3K059
4K034
【Fターム(参考)】
3K059AB09
3K059AB25
3K059AD04
3K059CD48
3K059CD55
3K059CD75
3K059CD77
4K034AA19
4K034BA02
4K034BA10
4K034DB02
4K034DB03
4K034DB04
4K034EA11
4K034EC06
(57)【要約】
【課題】ワークを回転させて高周波誘導加熱する際、ワークの真円度等を向上させることができる高周波誘導加熱装置を提供する。
【解決手段】高周波誘導加熱装置は、ワークを搬送する搬送方向に沿って配置された搬送部と、前記ワークの前記搬送方向と直交する横方向の両側に配置され、かつ前記搬送方向に沿って配置され、前記ワークを高周波誘導加熱する加熱体を備える加熱ユニットと、前記搬送部によって前記搬送方向に移動すると共に、前記ワークを支持し、前記搬送方向及び前記横方向に直交する縦方向を中心軸として回転可能であり、かつ前記縦方向に上下移動可能なワーク支持体と、を備え、前記ワーク支持体は、前記ワークの下面側を支持すると共に前記回転かつ前記上下移動可能な下面支持体と、前記ワークの上面側を支持すると共に前記回転かつ前記上下移動可能な上面支持体と、前記ワークへの支持荷重を増加させる荷重増加部と、を備える。
【選択図】図2
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ワークを搬送する搬送方向に沿って配置された搬送部と、
前記ワークの前記搬送方向と直交する横方向の両側に配置され、かつ前記搬送方向に沿って配置され、前記ワークを高周波誘導加熱する加熱体を備える加熱ユニットと、
前記搬送部によって前記搬送方向に移動すると共に、前記ワークを支持し、前記搬送方向及び前記横方向に直交する縦方向を中心軸として回転可能であり、かつ前記縦方向に上下移動可能なワーク支持体と、を備え、
前記ワーク支持体は、前記ワークの下面側を支持すると共に前記回転かつ前記上下移動可能な下面支持体と、前記ワークの上面側を支持すると共に前記回転かつ前記上下移動可能な上面支持体と、前記ワークへの支持荷重を増加させる荷重増加部と、を備える高周波誘導加熱装置。
【請求項2】
前記荷重増加部は、前記上面支持体に取り付けられた重り設置部を有する請求項1に記載の高周波誘導加熱装置。
【請求項3】
前記ワークを冷却する冷却ユニットを更に備え、
前記搬送部がループ状に配置され、かつ前記ループ状に沿って周回移動し、
前記ワーク支持体が前記加熱ユニットを通過後、前記冷却ユニットを通過するように構成され、
前記加熱ユニット及び前記冷却ユニットは、前記周回移動する搬送区間の一部である請求項3に記載の高周波誘導加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
実施形態は、高周波誘導加熱装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、搬送されるワークを高周波誘導加熱する2つの加熱体を備え、前記2つの加熱体が、前記ワークに対して前記ワークの搬送方向と直交する横方向の両側に配置され、かつ前記搬送方向に沿って配置される、高周波誘導加熱装置であって、前記ワークを支持し、前記搬送方向に移動し、かつ前記横方向に対して直交する第1旋回軸線を中心に旋回する支持体、及び前記支持体と一緒に前記搬送方向に移動し、かつ前記横方向に対して直交する第2旋回軸線を中心に旋回する回転体を有する回転支持機構と、前記回転体に係合するように前記搬送方向に沿って配置される係合部材とを備え、前記回転体が、前記係合部材に係合しながら前記支持体と一緒に前記搬送方向に移動することによって旋回し、前記回転体の旋回に伴って前記支持体が旋回するようになっている、高周波誘導加熱装置が開示されている(特許文献1)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2019-112694号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、ワークを回転させて高周波誘導加熱する際には、ワークの真円度等を向上させることが要求されている。
本発明の実施形態の目的は、ワークを回転させて高周波誘導加熱する際、ワークの真円度等を向上させることができる高周波誘導加熱装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の実施形態に係る高周波誘導加熱装置は、ワークを搬送する搬送方向に沿って配置された搬送部と、前記ワークの前記搬送方向と直交する横方向の両側に配置され、かつ前記搬送方向に沿って配置され、前記ワークを高周波誘導加熱する加熱体を備える加熱ユニットと、前記搬送部によって前記搬送方向に移動すると共に、前記ワークを支持し、前記搬送方向及び前記横方向に直交する縦方向を中心軸として回転可能であり、かつ前記縦方向に上下移動可能なワーク支持体と、を備え、前記ワーク支持体は、前記ワークの下面側を支持すると共に前記回転かつ前記上下移動可能な下面支持体と、前記ワークの上面側を支持すると共に前記回転かつ前記上下移動可能な上面支持体と、前記ワークへの支持荷重を増加させる荷重増加部と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【0006】
本発明の実施形態によれば、ワークを回転させて高周波誘導加熱する際、ワークの真円度等を向上させることができる高周波誘導加熱装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0007】
図1】実施形態に係る高周波誘導加熱装置1を示す上面概念図である。
図2図1のα方向から見たワーク支持部30を示す側面概念図である。
図3図2のβ方向から見たワーク支持部30を示す上面概念図である。
図4図1のA方向から見た高周波誘導加熱装置1を示す側面概念図である。
図5図1のB方向から見た高周波誘導加熱装置1を示す側面概念図である。
図6図1のC方向から見た高周波誘導加熱装置1を示す側面概念図である。
図7図1のD方向から見た高周波誘導加熱装置1を示す側面概念図である。
図8図1のE方向から見た高周波誘導加熱装置1を示す側面概念図である。
図9図2の好ましいワーク支持部30を示す側面概念図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態について説明する。
図1は、本実施形態に係る高周波誘導加熱装置1を示す上面概念図である。図2は、図1のα方向から見たワーク支持部30の側面概念図である。図3は、図2のβ方向から見たワーク支持部30の上面概念図である。図4から図8は、それぞれ図1のA、B、C、D、E方向からそれぞれ見た高周波誘導加熱装置1の側面概念図である。図9は、図1の搬送部10の具体的な一例を説明する概念図である。
【0009】
図1から図5に示すように、本実施形態に係る高周波誘導加熱装置1においては、搬送部10、加熱ユニット20及びワーク支持体30が設けられている。
搬送部10は、ワークWを搬送する搬送方向に沿って配置されている。
搬送部10は、例えば、図6に示すように、前記ワーク支持体30が前記搬送方向C1に互いに間隔を有して、複数取り付けられたコンベア10Aを備える。コンベア10Aが移動することによって、前記ワーク支持体30は、前記搬送方向C1に移動する。搬送部10は、前記ワーク支持体30を前記搬送方向C1に移動することができれば、あらゆる構成を採用することができる。
【0010】
加熱ユニット20は、図4に示すように、ワークWの前記搬送方向C1と直交する横方向L1の両側に配置され、かつ前記搬送方向C1に沿って配置され、前記ワークWを高周波誘導加熱する加熱体20Aを備える。加熱体20Aは、例えば、加熱コイルで構成される。加熱ユニット20は、搬送部10により搬送されるワークWを加熱することができれば、あらゆる構成を採用することができる。
【0011】
ワーク支持体30は、図2から図5に示すように、搬送部10によって搬送方向C1に移動すると共に、ワークWを支持し、搬送方向C1及び横方向L1に直交する縦方向V1を中心軸X1として回転可能であり、かつ縦方向V1に上下移動可能である。
ワーク支持体30は、具体的には、ワークWの下面側を支持すると共に、縦方向V1を中心軸X1として回転可能であり、かつ縦方向V1に上下移動可能な下面支持体30Aと、ワークWの上面側を支持すると共に、縦方向V1を中心軸X1として回転可能であり、かつ縦方向V1に上下移動可能な上面支持体30Bと、ワークWへの支持荷重を増加させる荷重増加部30Cと、を備える。
【0012】
下面支持体30Aは、例えば、縦方向V1を中心軸X1としワークWの下面側を支持する下面チャック部30A1と、下面チャック部30A1に固定され、縦方向V1を中心軸X1及び長軸とし、横方向L1及び搬送方向C1を短軸とする下面軸部30A2と、前記縦方向V1を中心軸X1として下面チャック部30A1及び下面軸部30A2を回転させると共に、下面チャック部30A1及び下面軸部30A2が縦方向V1に上下移動可能な下面駆動機構30A3と、を備える。
【0013】
下面チャック部30A1の材質は、前記高周波誘導加熱で、変形等しない物質であれば、特に限定されない。下面チャック部30A1の材質は、例えば、鋼材で構成されている。また、下面チャック部30A1の形状はワークWが載置可能であれば特に限定されない。下面チャック部30A1の形状は、例えば、円盤状に構成されている。
【0014】
下面軸部30A2の材質は、前記高周波誘導加熱で、変形等しない物質であれば、特に限定されない。下面軸部30A2の材質は、例えば、鋼材で構成されている。また、下面下面軸部30A2の形状は、下面チャック部30A1を駆動機構30A3により前記縦方向V1を中心軸X1として回転させると共に、縦方向V1に上下移動可能に構成できれば特に限定されない。前記下面軸部30A2の形状は、例えば円錐状に構成されている。
【0015】
下面駆動機構30A3は、縦方向V1を中心軸X1として下面チャック部30A1及び下面軸部30A2を回転させると共に、下面チャック部30A1及び下面軸部30A2が縦方向V1に上下移動可能であれば、特に限定されない。駆動機構30A3は、例えば、下面軸部30A2(及び下面チャック部31A1)を回転させる図示しない回転機構と、下面軸部30A2(及び下面チャック部31A1)を上下移動させる図示しないピストン機構と、で構成されている。
【0016】
上面支持体30Bは、例えば、縦方向V1を中心軸X1としワークWの上面側を支持する上面チャック部30B1と、上面チャック部30B1に固定され、縦方向V1を中心軸X1及び長軸とし、横方向L1及び搬送方向C1を短軸とする上面軸部30B2と、前記縦方向V1を中心軸X1として上面チャック部30B1及び下面軸部30B2を回転させると共に、縦方向V1に上下移動可能な上面駆動機構30B3と、を備える。
【0017】
上面チャック部30B1の材質は、前記高周波誘導加熱で、変形等しない物質であれば、特に限定されない。上面チャック部30B1の材質は、例えば、鋼材で構成されている。また、上面チャック部30B1の形状はワークWの支持荷重を増加させることが可能であれば、特に限定されない。上面チャック部30B1の形状は、例えば、円盤状に構成されている。
【0018】
上面軸部30B2の材質は、前記高周波誘導加熱で、変形等しない物質であれば、特に限定されない。上面軸部30B2の材質は、例えば、鋼材で構成されている。また、上面軸部30B2の形状は、上面チャック部30B1を上面駆動機構30B3により前記縦方向V1を中心軸X1として回転させると共に、縦方向V1に上下移動可能に構成できれば特に限定されない。前記上面軸部30A2の形状は、例えば円錐状に構成されている。
【0019】
上面駆動機構30B3は、縦方向V1を中心軸X1として上面チャック部30B1及び上面軸部30B2を回転させると共に、上面チャック部30B1及び上面軸部30B2が縦方向V1に上下移動可能であれば、特に限定されない。上面駆動機構30A3は、例えば、上面軸部30B2の上部が上板30C2(後述)の第1凹部30C2aに縦方向V1を中心軸X1として回転可能に埋め込まれており、第1凹部30C2aの底面と上面軸部30B2の上面との間にはばね部材30B2aが配置されている。
【0020】
荷重増加部30Cは、下面チャック部30A1及び下面軸部30A2が縦方向V1を中心軸X1として回転及び縦方向V1に上下移動可能になるように下面支持体30Aを固定する下板30C1と、上面チャック部30B1及び上面軸部30B2が縦方向V1を中心軸X1として回転及び縦方向V1に上下移動可能になるように上面支持体30Bを固定する上板30C2と、下板30C1と上板30C2の両方に、前記下板30C1と上板30C2間の縦方向V1の距離を可変可能になるように固定された可変部30C3、30C3とを備える。
【0021】
下板30C1及び上板30C2の材質は、前記高周波誘導加熱で、変形等しない物質であれば、特に限定されない。下板30C1の材質は、例えば、鋼材で構成されている。また、下板30C1及び上板30C2の形状も前記下板30C1と上板30C2間の縦方向V1の距離を可変可能になるように可変部30C3、30C3を固定できれば、特に限定されない。下板30C1及び上板30C2の形状は例えば長方形の平板で構成されている。
【0022】
可変部30C3、30C3は、例えば、一端に設けられた凹部R1、R1を縦方向V1に沿って、かつ縦方向V1側に開放するように、他端側を下板30C1に固定された第1可変部材30C3a、30C3aと、一端が前記凹部R1、R1に係合すると共に、他端が前記下板30C1と上板30C2間の縦方向V1の距離が可変できるように上板30C2に固定された第2可変部材30C3b、30C3bと、で構成されている。
【0023】
第1可変部材30C3a、30C3a及び第2可変部材30C3b、30C3bの材質は、前記高周波誘導加熱で、変形等しない物質であれば、特に限定されない。第1可変部材30C3a、30C3a及び第2可変部材30C3b、30C3bの材質は、例えば、鋼材で構成されている。第1可変部材30C3a、30C3a及び第2可変部材30C3b、30C3bの形状は、下板30C1と上板30C2間の縦方向V1の距離が可変できるように構成できれば、特に限定されない。第1可変部材30C3a、30C3a及び第2可変部材30C3b、30C3bの形状は、例えば、棒状部材で構成されている。
【0024】
本実施形態に係る高周波誘導加熱装置1は、上述した荷重増加部30Cを備えているため、ワークWへの支持荷重を増加させる。すなわち、本実施形態では、上板30C2分の荷重をワークWへの支持荷重として増加させることができる(図6中矢印U参考)。従って、ワークWを回転させて高周波誘導加熱する際、ワークの真円度等を向上させることができる
【0025】
本実施形態に係る高周波誘導加熱装置1は、具体的には、図1に示すように、前記搬送部10は、前記ワーク支持体30が搬送方向C1に互いに間隔を有して、前記回転かつ前記上下移動可能に複数取り付けられ、前記搬送部10の移動によって前記搬送方向C1に移動する構成となっている。また、本実施形態に係る高周波誘導加熱装置1は、前記搬送部10がループ状に配置され、かつ、前記ループ状に沿って周回移動するように構成されている。なお、本実施形態に係る高周波誘導加熱装置1は、ループ状に沿って周回移動できればその構成は特に限定されないため、説明を省略する。
【0026】
また、本実施形態に係る高周波誘導加熱装置1は、ループ状に沿って周回移動する方向(すなわち搬送方向C1)に向かって順に、ワーク設置領域100、高周波誘導加熱領域(加熱ユニット)200、冷却領域(冷却ユニット)300、ワーク取出領域400及びワーク支持部戻し領域500を有している。
【0027】
ワーク設置領域100では、ワーク支持体30にワークWを取り付ける。その取付方法としては、ワーク支持部戻し領域500を通って戻され、ワーク設置領域100に入ったワーク支持部30(図4参照)に対して、ワーク支持部30の上面チャック部30B1を上昇させる(図5参照)。その上昇させた上面チャック部30B1と下面チャック部30A1との間にワークW1をセットする(図6参照)。次に、ワークW1をセットした状態でワーク支持体30が高周波誘導加熱領域(加熱ユニット)200に入り、加熱体(加熱コイル)20AによりワークW1が高周波誘導加熱される(図7参照)。次に、高周波誘導加熱されたワークW1が冷却領域(冷却ユニット)300に入り、冷却体(冷却ジャケット40A)によりワークW1が冷却される(図8参照)。次に、冷却されたワークW1がワーク取出領域400に入り、上面チャック部30B1を上昇させることで、前記冷却されたワークW1をワーク支持体30から取り出す。ワークW1が取り出されたワーク支持体30は、ワーク支持部戻し領域500を通って、再度、ワーク設置領域100に周回移動される。
【0028】
すなわち、本実施形態に係る高周波誘導加熱装置1は、前記ワークを冷却する冷却ユニット40を更に備え、前記搬送部10がループ状に配置され、かつ前記ループ状に沿って周回移動し、前記ワーク支持体30が前記加熱ユニット20を通過後、前記冷却ユニット30を通過するように構成され、前記加熱ユニット20及び前記冷却ユニット40は、前記周回移動する搬送区間の一部である。
従って、本実施形態に係る高周波誘導加熱装置1は、高周波誘導加熱における焼き戻し処理にも適用することができる。
【0029】
図9は、図2の好ましいワーク支持部30を示す側面概念図である。
前記荷重増加部30Cは、図9に示すように、前記上面支持体30Bに取り付けられた重り設置部30Dを更に備えることが好ましい。
本実施形態に係る高周波誘導加熱装置1では、重り設置部30Dは、前記上面支持体30Bの上板30C2の上面30Dである。
【0030】
図9に示すように、重り設置部30Dに、重りWBを積載することで、ワークWへの支持荷重としてより増加させることができる(図9中矢印U参考)。これにより、ワークWを回転させて高周波誘導加熱する際、ワークWの真円度等を更に向上させることができる。
また、前記重りWBを上板30C2の上面30Dに積載する際、重りWBが落下しないように、前記上面30Dに固定する固定手段を設けることが好ましい。
【0031】
前述の実施形態は、本発明を具現化した例であり、本発明はこの実施形態には限定されない。例えば、前述の各実施形態において、いくつかの構成要素又は工程を追加、削除又は変更したものも本発明に含まれる。
【符号の説明】
【0032】
1:高周波誘導加熱装置
10:搬送部
20:加熱ユニット
30:ワーク支持体
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9