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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022081390
(43)【公開日】2022-05-31
(54)【発明の名称】積層型電子部品
(51)【国際特許分類】
   H01G 4/30 20060101AFI20220524BHJP
【FI】
H01G4/30 201D
H01G4/30 516
H01G4/30 513
H01G4/30 201C
H01G4/30 512
H01G4/30 201K
H01G4/30 201P
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2021110538
(22)【出願日】2021-07-02
(31)【優先権主張番号】10-2020-0155482
(32)【優先日】2020-11-19
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(71)【出願人】
【識別番号】594023722
【氏名又は名称】サムソン エレクトロ-メカニックス カンパニーリミテッド.
(74)【代理人】
【識別番号】110000877
【氏名又は名称】龍華国際特許業務法人
(72)【発明者】
【氏名】チョ、ミン ジュン
(72)【発明者】
【氏名】キム、ビュン クン
(72)【発明者】
【氏名】オー、ユ ホン
【テーマコード(参考)】
5E001
5E082
【Fターム(参考)】
5E001AB03
5E001AC09
5E001AE01
5E001AE02
5E001AE03
5E001AE04
5E001AH01
5E001AH05
5E001AH06
5E001AH07
5E001AH09
5E082AA01
5E082AB03
5E082BC19
5E082EE04
5E082EE23
5E082EE26
5E082EE35
5E082FG26
5E082FG46
5E082FG54
5E082GG10
5E082GG12
5E082GG28
5E082LL03
5E082PP03
5E082PP09
(57)【要約】
【課題】
内部電極の信頼性、高温負荷信頼性、及び耐湿信頼性を向上させ、信頼性の高い小型、高容量の積層型電子部品を提供する。
【解決手段】
本発明の一実施形態に係る積層型電子部品は、誘電体層、及び上記誘電体層を間に挟んで交互に積層される内部電極を含む本体と、上記本体に配置されて上記内部電極と連結される外部電極と、を含み、上記内部電極はCu及びNiを含み、上記内部電極は、上記誘電体層との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)が25.0%以下である。
【選択図】図2
【特許請求の範囲】
【請求項1】
誘電体層、及び前記誘電体層を間に挟んで交互に積層される内部電極を含む本体と、
前記本体に配置されて前記内部電極と連結される外部電極と、を備え、
前記内部電極はCu及びNiを含み、
前記内部電極は、前記誘電体層との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)が25.0%以下である、積層型電子部品。
【請求項2】
前記CV値が9.2%以下である、請求項1に記載の積層型電子部品。
【請求項3】
前記内部電極は、Ni粉末及びCu粉末を含む内部電極用の導電性ペーストを用いて形成され、
前記Cu粉末の平均サイズが120nm以下である、請求項1または2に記載の積層型電子部品。
【請求項4】
前記Cu粉末の平均サイズが50nm以下である、請求項3に記載の積層型電子部品。
【請求項5】
前記内部電極のCu含有量は0.4~6.0wt%である、請求項1から4のいずれか一項に記載の積層型電子部品。
【請求項6】
前記Ni及び前記Cuは、Ni-Cu合金の形で含まれる、請求項1から5のいずれか一項に記載の積層型電子部品。
【請求項7】
前記内部電極の平均厚さは0.41μm以下である、請求項1から6のいずれか一項に記載の積層型電子部品。
【請求項8】
前記誘電体層の平均厚さは0.41μm以下である、請求項1から7のいずれか一項に記載の積層型電子部品。
【請求項9】
前記積層型電子部品の長さは0.44mm以下であり、幅は0.22mm以下である、請求項1から8のいずれか一項に記載の積層型電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層型電子部品に関するものである。
【背景技術】
【0002】
積層型電子部品のうちの一つである積層型セラミックキャパシタ(MLCC:Multi-Layered Ceramic Capacitor)は、液晶表示装置(LCD:Liquid Crystal Display)及びプラズマ表示装置パネル(PDP:Plasma Display Panel)などの映像機器、コンピュータ、スマートフォン、及び携帯電話などの様々な電子製品のプリント回路基板に装着されて電気を充電又は放電させる役割を果たすチップ形態のコンデンサである。
【0003】
かかる積層型セラミックキャパシタは、小型でありながら高容量が保障され、実装が容易であるという利点により、様々な電子装置の部品として用いられることができる。最近、電子装置の部品が小型化するにつれて、積層型セラミックキャパシタの小型化及び高容量化に対する要求が増加しつつある。
【0004】
積層型セラミックキャパシタの小型化及び高容量化のためには、内部電極及び誘電体層の厚さを薄く形成することができる技術が必要である。
【0005】
しかし、内部電極及び誘電体層の薄層化に伴い、高温負荷信頼性、耐湿信頼性などが劣化するという問題点がある。したがって、内部電極及び誘電体層が薄層化しながらも、高温負荷信頼性、耐湿信頼性などを優秀に確保することができる方案が必要である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明のいくつかの目的のうちの一つは、内部電極の信頼性を向上させることである。
【0007】
本発明のいくつかの目的のうちの一つは、内部電極の高温負荷信頼性を向上させることである。
【0008】
本発明のいくつかの目的のうちの一つは、内部電極の耐湿信頼性を向上させることである。
【0009】
本発明のいくつかの目的のうちの一つは、信頼性の高い小型、高容量の積層型電子部品を提供することである。
【0010】
但し、本発明の目的は、上述した内容に限定されず、本発明の具体的な実施形態を説明する過程でより容易に理解されることができる。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明の一実施形態に係る積層型電子部品は、誘電体層、及び上記誘電体層を間に挟んで交互に積層される内部電極を含む本体と、上記本体に配置されて上記内部電極と連結される外部電極と、を含み、上記内部電極は、上記誘電体層との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)が25.0%以下である。
【発明の効果】
【0012】
本発明のいくつかの効果のうちの一つは、積層型電子部品の信頼性を向上させることができる。
【0013】
但し、本発明の多様でありながらも有意義な利点及び効果は、上述した内容に限定されず、本発明の具体的な実施形態を説明する過程でより容易に理解されることができる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
図1】本発明の一実施形態に係る積層型電子部品の斜視図を概略的に示すものである。
図2図1のI-I'線に沿った断面図を概略的に示すものである。
図3図1のII-II'線に沿った断面図を概略的に示すものである。
図4】本発明の一実施形態に係る誘電体層及び内部電極が積層された本体を分解して概略的に示す分解斜視図である。
図5図2のK領域を拡大して示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下、具体的な実施形態及び添付された図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。しかし、本発明の実施形態は、いくつかの他の形態に変形することができ、本発明の範囲が以下説明する実施形態に限定されるものではない。また、本発明の実施形態は、通常の技術者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために拡大縮小表示(又は強調表示や簡略化表示)がされることがあり、図面上の同一の符号で示される要素は同一の要素である。
【0016】
尚、図面において本発明を明確に説明するために説明と関係ない部分は省略し、複数の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示しており、同一の思想の範囲内の機能が同一の構成要素は、同一の参照符号を用いて説明することができる。さらに、明細書全体において、ある構成要素を「含む」というのは、特に反対される記載がない限り、他の構成要素を除外するのではなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。
【0017】
図面において、X方向は第2方向、L方向又は長さ方向、Y方向は第3方向、W方向又は幅方向、Z方向は第1方向、積層方向、T方向又は厚さ方向と定義することができる。
【0018】
[積層型電子部品]
図1は、本発明の一実施形態に係る積層型電子部品の斜視図を概略的に示すものであり、図2は、図1のI-I'線に沿った断面図を概略的に示すものであり、図3は、図1のII-II'線に沿った断面図を概略的に示すものであり、図4は、本発明の一実施形態に係る誘電体層及び内部電極が積層された本体を分解して概略的に示す分解斜視図であり、図5は、図2のK領域を拡大して示す図面である。
【0019】
以下、図1図5を参照して、本発明の一実施形態に係る積層型電子部品について詳細に説明する。
【0020】
本発明の一実施形態に係る積層型電子部品100は、誘電体層111、及び上記誘電体層と交互に配置される内部電極121、122を含む本体110と、上記本体に配置されて上記内部電極と連結される外部電極131、132と、を含み、上記内部電極は、上記誘電体層との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)が25.0%以下である。
【0021】
本体110は、誘電体層111及び内部電極121、122が交互に積層されている。
【0022】
本体110の具体的な形状に特に制限はないが、図面に示すように、本体110は、六面体形状やこれと類似した形状からなることができる。焼成過程で本体110に含まれるセラミック粉末の収縮により、本体110は、完全な直線を有する六面体形状ではないが、実質的に六面体形状を有することができる。
【0023】
本体110は、厚さ方向(Z方向)に互いに対向する第1及び第2面1、2、上記第1及び第2面1、2と連結され、幅方向(Y方向)に互いに対向する第3及び第4面3、4、第1及び第2面1、2と連結され、第3及び第4面3、4と連結され、且つ長さ方向(X方向)に互いに対向する第5及び第6面5、6を有することができる。
【0024】
本体110を形成する複数の誘電体層111は、焼成された状態であって、隣接する誘電体層111間の境界は、走査電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)を利用せずには確認しにくいほど一体化することができる。
【0025】
本発明の一実施形態によると、上記誘電体層111を形成する原料は、十分な静電容量を得ることができる限り特に制限されない。例えば、チタン酸バリウム系材料、鉛複合ペロブスカイト系材料またはチタン酸ストロンチウム系材料などを用いることができる。上記チタン酸バリウム系材料は、BaTiO系セラミック粉末を含むことができ、上記セラミック粉末は、一例として、BaTiO、BaTiOにCa(カルシウム)、Zr(ジルコニウム)などが一部固溶された(Ba1-xCa)TiO、Ba(Ti1-yCa)O、(Ba1-xCa)(Ti1-yZr)OまたはBa(Ti1-yZr)Oなどが挙げられることができる。
【0026】
上記誘電体層111を形成する材料は、チタン酸バリウム(BaTiO)などの粉末に、本発明の目的に応じて、様々なセラミック添加剤、有機溶剤、可塑剤、結合剤、分散剤などが添加されることができる。
【0027】
一方、誘電体層111の厚さtdは、特に限定する必要はない。
【0028】
但し、一般的に誘電体層を厚さ0.6μm未満に薄く形成する場合、特に誘電体層の厚さが0.41μm以下の場合には、耐湿信頼性が低下するおそれがある。
【0029】
後述するように、本発明の一実施形態によって誘電体層と内部電極の界面でCuが均一に分布されていると、誘電体層及び内部電極が非常に薄い場合にも、効果的に信頼性を向上させることができるため、誘電体層の厚さが0.41μm以下の場合にも、十分な信頼性を確保することができる。
【0030】
すなわち、誘電体層111の厚さが0.41μm以下の場合に、本発明に係る信頼性向上の効果がより顕著になることができる。
【0031】
上記誘電体層111の厚さtdは、上記第1及び第2内部電極121、122の間に配置される誘電体層111の平均厚さを意味することができる。
【0032】
上記誘電体層111の平均厚さは、本体110の長さ及び厚さ方向(L-T)の断面を走査電子顕微鏡(SEM、Scanning Electron Microscope)でイメージをスキャンして測定することができる。
【0033】
例えば、本体110の幅方向の中央部で切断した長さ及び厚さ方向(L-T)の断面を走査電子顕微鏡(SEM、Scanning Electron Microscope)でスキャンしたイメージから抽出された任意の誘電体層に対して長さ方向に等間隔である30個の地点でその厚さを測定して平均値を測定することができる。
【0034】
上記等間隔である30個の地点で測定した厚さは、第1及び第2内部電極121、122が互いに重なる領域を意味する容量形成部Aで測定することができる。
【0035】
本体110は、本体110の内部に配置され、誘電体層111を間に挟んで互いに対向するように配置される第1内部電極121及び第2内部電極122を含んで容量が形成される容量形成部Aと、上記容量形成部Aの上部及び下部に形成されたカバー部112、113と、を含むことができる。
【0036】
また、上記容量形成部Aは、キャパシタの容量形成に寄与する部分であって、誘電体層111を間に挟んで複数の第1及び第2内部電極121、122を繰り返し積層することで形成することができる。
【0037】
上記上部カバー部112及び下部カバー部113は、単一の誘電体層または2つ以上の誘電体層を容量形成部Aの上下面にそれぞれ厚さ方向に積層して形成することができ、基本的に物理的または化学的ストレスによる内部電極の損傷を防止する役割を果たすことができる。
【0038】
上記上部カバー部112及び下部カバー部113は、内部電極を含まず、誘電体層111と同一の材料を含むことができる。
【0039】
すなわち、上記上部カバー部112及び下部カバー部113は、セラミック材料を含むことができ、例えば、チタン酸バリウム(BaTiO)系セラミック材料を含むことができる。
【0040】
一方、カバー部112、113の厚さは、特に限定する必要はない。但し、積層型電子部品の小型化及び高容量化をより容易に達成するためにカバー部112、113の厚さtpは20μm以下であることができる。
【0041】
また、上記容量形成部Aの側面には、マージン部114、115が配置されることができる。
【0042】
マージン部114、115は、本体110の第6面6に配置されたマージン部114と第5面5に配置されたマージン部115を含むことができる。すなわち、マージン部114、115は、上記セラミック本体110の幅方向の両側面に配置されることができる。
【0043】
マージン部114、115は、図3に示すように、上記本体110を幅-厚さ(W-T)方向に切断した断面において、第1及び第2内部電極121、122の両先端と本体110の境界面の間の領域を意味することができる。
【0044】
マージン部114、115は、基本的に物理的または化学的ストレスによる内部電極の損傷を防止する役割を果たすことができる。
【0045】
マージン部114、115は、セラミックグリーンシート上にマージン部が形成されるところを除いて導電性ペーストを塗布し、内部電極を形成することで形成されたものであることができる。
【0046】
また、内部電極121、122による段差を抑制するために、積層後の内部電極が本体の第5及び第6面5、6に露出するように切断した後、単一の誘電体層または2つ以上の誘電体層を容量形成部Aの両側面に幅方向に積層してマージン部114、115を形成することもできる。
【0047】
内部電極121、122は、誘電体層111と交互に積層される。
【0048】
内部電極121、122は、第1及び第2内部電極121、122を含むことができる。第1及び第2内部電極121、122は、本体110を構成する誘電体層111を間に挟んで互いに対向するように交互に配置され、本体110の第3及び第4面3、4にそれぞれ露出することができる。
【0049】
図2を参照すると、第1内部電極121は、第4面4と離隔され、第3面3を介して露出し、第2内部電極122は、第3面3と離隔され、第4面4を介して露出することができる。
【0050】
このとき、第1及び第2内部電極121、122は、中間に配置された誘電体層111によって互いに電気的に分離されることができる。
【0051】
図4を参照すると、本体110は、第1内部電極121が印刷されたセラミックグリーンシートと第2内部電極122が印刷されたセラミックグリーンシートを交互に積層した後、焼成して形成することができる。
【0052】
本発明の内部電極121、122は、誘電体層との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)が25.0%以下であってもよい。
【0053】
Niの仕事関数(work function)は、約5.04~5.35であり、Cuの仕事関数(work function)は、約4.53~5.10である。したがって、Ni-Cu合金(alloy)でCu含有量が増加するにつれて仕事関数が低くなる傾向にある。
【0054】
内部電極及び誘電体層の界面でCu含有量が不均一に分布される場合、仕事関数が不均一になるにつれて、信頼性が低下するおそれがある。これは、Cu含有量が比較的に高い位置からの仕事関数(work function)が低くなり、電流が流れる可能性が高くなるためである。Cuが内部電極内に均一に分布されるほど信頼性が向上することができ、特に誘電体層と内部電極の界面でCuが均一に分布されている時に信頼性が向上する。
【0055】
本発明の一実施形態によると、誘電体層111との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)を25.0%以下に制御することで、内部電極121、122と誘電体層111の界面でCu含有量を均一に分布させることができ、これによって信頼性を向上させることができる。
【0056】
誘電体層111との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)が25.0%を超える場合には、高温負荷信頼性及び耐湿信頼性が劣位になることがある。
【0057】
したがって、内部電極121、122は、誘電体層111との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)が25.0%以下であることが好ましい。
【0058】
但し、耐湿信頼性をより向上させるために、内部電極121、122は、誘電体層との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)が9.2%以下であってもよい。
【0059】
CV値(Coefficient of Variation、変動係数)とは、標準偏差を平均値に対する百分率で表したものを意味する。
【0060】
内部電極121、122における誘電体層との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)の平均値をx1、内部電極121、122における誘電体層との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)の標準偏差をs1とすると、Cu/Ni(重量比)のCV値はs1/x1*100(%)である。
【0061】
図2及び図5を参照すると、本体110の幅方向の中央部で切断した長さ及び厚さ方向(L-T)の断面において、長さ及び厚さ方向の中央に位置した一つの内部電極に対し、内部電極及び誘電体層の上下界面の領域から内部電極側に5nm入った10個のポイント(p1~p10)の定量分析をEDS(Energy Dispersive X-ray Spectrometer)を用いて実施し、それぞれのCu/Ni(重量比)値を求める。その後、上記10個のCu/Ni(重量比)値に対する平均x1及び標準偏差s1を求めてCu/Ni(重量比)のCV値を求めることができる。
【0062】
一方、Cu/Ni(重量比)のCV値を制御する方法は、特に制限する必要はない。例えば、内部電極用の導電性ペーストに含まれた導電性粉末の粒径、焼成条件などを調節して制御することができる。
【0063】
具体的な例を挙げると、内部電極用の導電性ペーストに含まれたCu粉末の平均サイズを120nm以下に制御することで、Cu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)を25.0%以下に制御することができる。
【0064】
また、内部電極用の導電性ペーストに含まれたCu粉末の平均サイズを50nm以下に制御することで、Cu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)を9.2%以下に制御することができる。
【0065】
一方、内部電極に含まれたCu含有量は、特に制限はないが、0.4~6.0wt%であることが好ましい。
【0066】
Cu含有量が0.4wt%未満の場合には、信頼性向上の効果が不十分である可能性があり、6.0wt%を超える場合には、Cuを内部電極内に均一に分布させても信頼性が低下するおそれがある。
【0067】
本発明の一実施形態によると、内部電極121、122に含まれたNi及びCuは、Ni-Cu合金の形で含まれることができる。
【0068】
Ni及びCuがNi-Cu合金の形で含まれることによって、Cu添加による効果を向上させることができ、内部電極に含まれたCuを内部電極内に均一に分布させることができる。
【0069】
一方、内部電極121、122の厚さteは、特に限定する必要はない。
【0070】
但し、一般的に内部電極121、122を厚さ0.6μm未満に薄く形成する場合、特に内部電極121、122の厚さが0.41μm以下の場合には、耐湿信頼性が低下するおそれがある。
【0071】
上述のとおり、本発明の一実施形態によって誘電体層と内部電極の界面でCuが均一に分布されていると、誘電体層及び内部電極が非常に薄い場合にも、効果的に信頼性を向上させることができるため、内部電極121、122の厚さが0.41μm以下の場合にも、十分な耐湿信頼性を確保することができる。
【0072】
したがって、内部電極121、122の厚さが0.41μm以下の場合に、本発明に係る信頼性向上の効果がより顕著になることができ、キャパシタ部品の小型化及び高容量化をより容易に達成することができる。
【0073】
上記内部電極121、122の厚さteは、内部電極121、122の平均厚さを意味することができる。
【0074】
上記内部電極121、122の平均厚さは、本体110の長さ及び厚さ方向(L-T)の断面を走査電子顕微鏡(SEM、Scanning Electron Microscope)でイメージをスキャンして測定することができる。
【0075】
例えば、本体110の幅(W)方向の中央部で切断した長さ及び厚さ方向(L-T)の断面を走査電子顕微鏡(SEM、Scanning Electron Microscope)でスキャンしたイメージから抽出された任意の第1及び第2内部電極121、122に対して長さ方向に等間隔である30個の地点でその厚さを測定して平均値を測定することができる。
【0076】
外部電極131、132は本体110に配置されて内部電極121、122と連結される。
【0077】
図2に示された形態のように、本体110の第3及び第4面3、4にそれぞれ配置され、第1及び第2内部電極121、122と、それぞれ連結された第1及び第2外部電極131、132を含むことができる。
【0078】
本実施形態では、積層型電子部品100が2つの外部電極131、132を有する構造を説明しているが、外部電極131、132の個数や形状などは、内部電極121、122の形や他の目的によって変わることができる。
【0079】
一方、外部電極131、132は、金属などのように電気導電性を有するものであればいかなる物質を用いて形成されてもよく、電気的特性や構造的安定性などを考慮して具体的な物質が決定されることができ、さらに多層構造を有することができる。
【0080】
例えば、外部電極131、132は、本体110に配置される電極層131a、132a及び電極層131a、132a上に形成されためっき層131b、132bを含むことができる。
【0081】
電極層131a、132aについての具体的な例を挙げると、電極層131a、132aは、導電性金属及びガラスを含む焼成電極であるか、導電性金属及び樹脂を含む樹脂系電極であることができる。
【0082】
また、電極層131a、132aは、本体上に焼成電極及び樹脂系電極が順次形成された形態であることができる。また、電極層131a、132aは、本体上に導電性金属を含むシートを転写する方式で形成されるか、焼成電極上に導電性金属を含むシートを転写する方式で形成されたものであることができる。
【0083】
電極層131a、132aに含まれる導電性金属としては電気導電性に優れた材料を用いることができるが、特に限定しない。例えば、導電性金属は、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、及びこれらの合金のうちの1つ以上であることができる。
【0084】
めっき層131b、132bは、実装特性を向上させる役割を果たす。めっき層131b、132bの種類は特に限定せず、Ni、Sn、Pd、及びこれらの合金のうちの1つ以上を含むめっき層であることができ、複数の層で形成されることができる。
【0085】
めっき層131b、132bについての具体的な例を挙げると、めっき層131b、132bは、Niめっき層またはSnめっき層であることができ、電極層131a、132a上にNiめっき層及びSnめっき層が順次形成された形態であることができ、Snめっき層、Niめっき層及びSnめっき層が順次形成された形態であることができる。また、めっき層131b、132bは、複数のNiめっき層及び/または複数のSnめっき層を含むこともできる。また、めっき層131b、132bは、電極層131a、132a上にNiめっき層及びPdめっき層が順次形成された形態であることができる。
【0086】
積層型電子部品100のサイズは、特に限定する必要はない。
【0087】
但し、小型化及び高容量化を同時に達成するためには、誘電体層及び内部電極の厚さを薄くして積層数を増加させる必要があるため、0402(長さ×幅、0.4mm×0.2mm)以下のサイズを有する積層型電子部品において、本発明に係る信頼性向上の効果がより顕著になることができる。
【0088】
したがって、製造誤差、外部電極サイズなどを考慮すると、積層型電子部品の長さが0.44mm以下であり、幅が0.22mm以下である場合、本発明に係る信頼性向上の効果がより顕著になることができる。
【0089】
以下、本発明の一実施形態に係る積層型電子部品100の製造方法を説明する。
【0090】
まず、複数のセラミックグリーンシートを用意する。
【0091】
上記セラミックグリーンシートは、本体110の誘電体層111を形成するためのものであって、セラミック粉末、ポリマー、及び溶剤を混合してスラリーを製造し、上記スラリーをドクターブレードなどの工法によって所定の厚さを有するシート(sheet)状に製作することができる。
【0092】
以後、上記それぞれのセラミックグリーンシートの少なくとも一面に所定の厚さで内部電極用の導電性ペーストを印刷して内部電極を形成する。
【0093】
上記内部電極用の導電性ペーストは、Ni粉末及びCu粉末を含む。
【0094】
このとき、上記Cu粉末の平均サイズは120nm以下であってもよい。Cu粉末の平均サイズを120nm以下に制御することで、内部電極における誘電体層との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)を25.0%以下に制御することができる。
【0095】
また、上記Cu粉末の平均サイズは、50nm以下であってもよい。Cu粉末の平均サイズを50nm以下に制御することで、内部電極における誘電体層との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値(Coefficient of Variation)を9.2%以下に制御することができる。
【0096】
内部電極用の導電性ペーストの印刷方法は、スクリーン印刷法またはグラビア印刷法などを使用することができる。
【0097】
図4を参照すると、第1内部電極121が印刷されたセラミックグリーンシートと第2内部電極122が印刷されたセラミックグリーンシートを交互に積層し、積層方向から加圧して積層された複数のセラミックグリーンシートとセラミックグリーンシート上に形成された内部電極を互いに圧着させて積層体を構成することができる。
【0098】
また、積層体の上下には、少なくとも1つ以上のセラミックグリーンシートを積層してカバー部112、113を形成することができる。
【0099】
カバー部112、113は、積層体の内部に位置した誘電体層111と同一組成からなることができ、内部電極を含まないという点で、誘電体層111との差異を有する。
【0100】
以後、上記積層体を1つのキャパシタに対応する領域ごとに切断してチップ化した後、高温で焼成して本体110を完成する。
【0101】
この後、本体110の両側面に露出した第1及び第2内部電極の露出部分を覆って第1及び第2内部電極と電気的に連結できるように、第1及び第2外部電極131、132を形成することができる。
【0102】
このとき、第1及び第2外部電極131、132の表面には、必要に応じてニッケルまたはスズなどでめっき処理を行うことができる。
【0103】
[実施例]
Ni粉末100wt%を基準に、下記表1の平均サイズを有するCu粉末を6.0wt%添加した内部電極用の導電性ペーストを用いて、内部電極を形成したサンプルチップを用意した。
【0104】
内部電極における誘電体層との界面から5nmの深さ領域でのCu/Ni(重量比)のCV値を測定し、高温負荷信頼性及び耐湿信頼性を評価した。
【0105】
CV値は本体110の幅方向の中央部で切断した長さ及び厚さ方向(L-T)の断面において、長さ及び厚さ方向の中央に位置した一つの内部電極に対し、内部電極及び誘電体層の上下界面の領域から内部電極側に5nm入った10個のポイント(p1~p10)の定量分析をEDS(Energy Dispersive X-ray Spectrometer)を用いて実施し、それぞれのCu/Ni(重量比)値を求め、上記10個のCu/Ni(重量比)値に対する平均x1及び標準偏差s1を求めてCu/Ni(重量比)のCV値(=s1/x1*100(%))を計算した。
【0106】
高温負荷信頼性は、各試験番号当たり400個のサンプルに対して125℃、8Vの条件で高温負荷試験を実施し、MTTF(平均故障時間、Mean Time To Failure)を測定した。このとき、絶縁抵抗が10KΩ以下となった時間を故障時間とした。
【0107】
耐湿信頼性は、各試験番号当たり400個のサンプルについて、温度85℃、相対湿度85%で8Vの電圧を60時間印加したとき、400個のサンプルのうち絶縁抵抗値が初期の数値に対して1/10以下に低下したサンプルを不良と評価し、不良サンプルの個数の百分率を記載した。
【0108】
【表1】
【0109】
CV値が25.0%超過の試験番号7~9の場合、MTTFが短く、耐湿不良率も高いことが確認できる。
【0110】
一方、CV値が25.0%以下の試験番号1~6の場合、高温信頼性及び耐湿信頼性に優れていることが確認できる。
【0111】
また、CV値は9.2%以下の試験番号1~3の場合、耐湿不良が非常に低く、耐湿信頼性が非常に優れていることが確認できる。
【0112】
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明は、上述の実施形態及び添付の図面によって限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲によって限定される。したがって、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で、当技術分野における通常の知識を有する者によって多様な形態の置換、変形、及び変更が可能であり、これも本発明の範囲に属するといえる。
【符号の説明】
【0113】
100 積層型電子部品
110 本体
111 誘電体層
112、113 カバー部
114、115 マージン部
121、122 内部電極
131、132 外部電極
131a 電極層
132b めっき層
図1
図2
図3
図4
図5