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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022082139
(43)【公開日】2022-06-01
(54)【発明の名称】ビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法
(51)【国際特許分類】
C07C 303/40 20060101AFI20220525BHJP
C07C 311/48 20060101ALI20220525BHJP
C07D 285/15 20060101ALI20220525BHJP
【ＦＩ】
C07C303/40
C07C311/48 CSP
C07D285/15
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2020193524
(22)【出願日】2020-11-20
(71)【出願人】
【識別番号】304020177
【氏名又は名称】国立大学法人山口大学
(74)【代理人】
【識別番号】100107984
【弁理士】
【氏名又は名称】廣田 雅紀
(74)【代理人】
【識別番号】100182305
【弁理士】
【氏名又は名称】廣田 鉄平
(74)【代理人】
【識別番号】100102255
【弁理士】
【氏名又は名称】小澤 誠次
(74)【代理人】
【識別番号】100096482
【弁理士】
【氏名又は名称】東海 裕作
(74)【代理人】
【識別番号】100131093
【弁理士】
【氏名又は名称】堀内 真
(74)【代理人】
【識別番号】100150902
【弁理士】
【氏名又は名称】山内 正子
(74)【代理人】
【識別番号】100141391
【弁理士】
【氏名又は名称】園元 修一
(74)【代理人】
【識別番号】100198074
【弁理士】
【氏名又は名称】山村 昭裕
(74)【代理人】
【識別番号】100096013
【氏名又は名称】富田 博行
(74)【代理人】
【識別番号】100221958
【弁理士】
【氏名又は名称】篠田 真希恵
(72)【発明者】
【氏名】川本 拓治
【テーマコード（参考）】
4C036
4H006
【Ｆターム（参考）】
4C036AD02
4C036AD04
4C036AD18
4C036AD24
4C036AD25
4C036AD27
4C036AD28
4H006AA01
4H006AA02
4H006AB84
4H006AC21
(57)【要約】 （修正有）
【課題】ビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドを簡便に製造する方法の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるアルキン化合物と、式（II）で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドとを反応させることを特徴とする、ビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
（式中、Ｒ１は、置換基を有していてもよい、鎖状炭化水素基、芳香族炭化水素基等；Ｒ２は、Ｈ、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基等；Ｒｆは、独立してＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基等）
【選択図】なし
【解決手段】式（Ｉ）で表されるアルキン化合物と、式（II）で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドとを反応させることを特徴とする、ビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
（式中、Ｒ１は、置換基を有していてもよい、鎖状炭化水素基、芳香族炭化水素基等；Ｒ２は、Ｈ、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基等；Ｒｆは、独立してＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基等）
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
式（Ｉ）
（式中、Ｒ１は、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基；置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基；置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基；又は置換基を有していてもよい複素環基であり、Ｒ２は、水素原子；置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基；置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基；トリアルキルシリル基；アリルジアルキルシリル基；アルキルジアリルシリル基；又はトリアリルシリル基である。）で表されるアルキン化合物と、式（II）
（式中、各Ｒｆは、独立してＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基であるか、一緒になってＣ３～Ｃ１０シクロフルオロアルキル基である。）で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドとを反応させることを特徴とする、式（III）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲｆは、上記式（Ｉ）及び式（II）中のＲ１、Ｒ２、及びＲｆと同じ基である。）
で表されるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
【化1】
【化2】
【化3】
で表されるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
【請求項2】
式（Ｉ）中におけるＲ１が、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である請求項１に記載のビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
【請求項3】
式（II）中におけるフルオロアルキル基が、アルキル基中の水素原子の６０％以上がフッ素原子で置換されているアルキル基である請求項１又は２に記載のビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
【請求項4】
式（II）中におけるフルオロアルキル基が、ペルフルオロアルキル基である請求項１～３のいずれかに記載のビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
【請求項5】
式（III）で表されるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミド化合物。
（式中、Ｒ１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基；又は置換基を有していてもよい複素環基であり、Ｒ２は、水素原子；置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基；置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基；トリアルキルシリル基；アリルジアルキルシリル基；アルキルジアリルシリル基；又はトリアリルシリル基であり、２つのＲｆが一緒になってＣ３～Ｃ５のペルシクロフルオロアルキル基である）
【化4】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、アルキン化合物を出発物質とするビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの新規製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
有機フッ素化合物には、フッ素と水素の原子半径がほぼ同じであることに由来する、生体側の立体的分子認識の相似性効果（ミミック効果）、Ｃ－Ｆ結合がＣ－Ｈ結合と比べ強固であるため、代謝部位の保護やそれに伴う毒性の回避ができる効果（ブロック効果）、及び、脂溶性の向上により生体内での吸収・輸送を促進する効果（脂溶性効果）のような、フッ素原子の特徴的な大きさや電子的性質に由来する効果が知られている。これらの効果を適応した化学修飾により、数多くの医農薬品の開発が行われてきた。そして、アルキル基のミミック置換基であるフルオロアルキル基の導入法の開拓が行われている。
【0003】
ところで、スルホンアミド化合物も、除草剤、殺菌剤に広く使用されている化合物である。特許文献１には、フルオロアルキル基を導入したビニルトリフルオロメタンスルホニルアミドの製造方法が開示されている。一方、その類縁体であるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドは、農薬中間体としての応用が期待されるが、その合成の報告は、近年までなされてこなかった。最近、アルキン化合物に対してジベンゼンスルホンイミドを反応させることで、ビニルビスフェニルスルホニルイミドが合成できることができることが明らかにされた（非特許文献１）。また、非特許文献２には、アルキン化合物をリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドと反応させることで、ビニルビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドが合成できたことが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開昭６３－１５０２５８号公報
【非特許文献】
【0005】
【非特許文献1】Dehu Xiang et al., Asian J. Org. Chem. 2019, 8, 537-541
【非特許文献2】Sebastian Schroeder et al., Angew. Chem. Int. Ed. 2019, 58, 5119-5123
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかし、非特許文献２に記載の方法は、反応系に添加剤としてヘキサフルオロリン酸リチウム及びテトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスファートを加えなければならず、残量添加物が多種となってしまう点や、反応時間が２０時間以上と長時間であるという点に問題を有していた。また、非特許文献２では、出発原料として（ＣＦ３ＳＯ２）２ＮＬｉのみしか用いられておらず、他のスルホンイミド化合物を用いたときに同様に反応が進み、広範なビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドを製造できるかが不明であった。
本発明は、以上のような問題点に鑑み、より簡便で、安価に、しかも効率よくビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミド及びその類縁体を製造する方法を提供することを課題とする。
本発明は、以上のような問題点に鑑み、より簡便で、安価に、しかも効率よくビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミド及びその類縁体を製造する方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。非特許文献２には、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドは求核性が弱く、アルキン化合物との反応は進まないと開示されていたが、本発明者は、あえてアルキン化合物及びビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドを出発原料として、添加剤を加えずに室温で反応させたところ、予想に反して反応が進行し、ビニルビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドが製造できた。さらに、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド以外のビスフルオロアルカンスルホニルイミドを用いて反応させたときに、対応するビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドを簡便に、且つ効率よく得られることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【0008】
すなわち、本発明は、以下に関する。
〔１〕式（Ｉ）
（式中、Ｒ１は、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基；置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基；置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基；又は置換基を有していてもよい複素環基であり、Ｒ２は、水素原子；置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基；置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基；トリアルキルシリル基；アリルジアルキルシリル基；アルキルジアリルシリル基；又はトリアリルシリル基である。）で表されるアルキン化合物と、式（II）
（式中、各Ｒｆは、独立してＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基であるか、一緒になってＣ３～Ｃ１０シクロフルオロアルキル基である。）で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドとを反応させることを特徴とする、式（III）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲｆは、上記式（Ｉ）及び式（II）中のＲ１、Ｒ２、及びＲｆと同じ基である。）
で表されるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
〔２〕式（Ｉ）中におけるＲ１が、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である上記〔１〕に記載のビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
〔３〕式（II）中におけるフルオロアルキル基が、アルキル基中の水素原子の６０％以上がフッ素原子で置換されているアルキル基である上記〔１〕又は〔２〕に記載のビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
〔４〕式（II）中におけるフルオロアルキル基が、ペルフルオロアルキル基である上記〔１〕～〔３〕のいずれかに記載のビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
〔５〕式（III）で表されるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミド化合物。
（式中、Ｒ１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基；又は置換基を有していてもよい複素環基であり、Ｒ２は、水素原子；置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基；置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基；トリアルキルシリル基；アリルジアルキルシリル基；アルキルジアリルシリル基；又はトリアリルシリル基であり、２つのＲｆが一緒になってＣ３～Ｃ５のペルシクロフルオロアルキル基である）
〔１〕式（Ｉ）
【化1】
【化2】
【化3】
で表されるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
〔２〕式（Ｉ）中におけるＲ１が、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である上記〔１〕に記載のビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
〔３〕式（II）中におけるフルオロアルキル基が、アルキル基中の水素原子の６０％以上がフッ素原子で置換されているアルキル基である上記〔１〕又は〔２〕に記載のビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
〔４〕式（II）中におけるフルオロアルキル基が、ペルフルオロアルキル基である上記〔１〕～〔３〕のいずれかに記載のビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法。
〔５〕式（III）で表されるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミド化合物。
【化4】
【発明の効果】
【0009】
本発明の製造方法によれば、温和な条件で、添加剤を必要とせず、簡便且つ短時間の反応で目的とするビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドを効率よく得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本発明のビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造方法は、式（Ｉ）
で表されるアルキン化合物を、式（II）
で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドと反応させる方法である。
【化5】
【化6】
【0011】
本発明の製造方法に用いられる式（Ｉ）で表されるアルキン化合物中、Ｒ１は、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基；置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基；置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基；又は置換基を有していてもよい複素環基であり、Ｒ２は、水素原子；置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基；置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基；トリアルキルシリル基；アリルジアルキルシリル基；アルキルジアリルシリル基；又はトリアリルシリル基である。
【0012】
上記「置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基」における「鎖状炭化水素基」として、具体的には、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等を例示することができ、また、アルカジエニル基、アルカトリエニル基等のように、アルキル基における炭素－炭素結合の２～３個が二重結合に変換された基であってもよい。
【0013】
上記アルキル基としては、直鎖状でも分岐状でもよく、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－へキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基等のＣ１～１０のアルキル基等を例示することができる。
【0014】
なお、「Ｃ１～１０」の用語は、母核となる基の炭素原子数が１～１０個であることを表している。この炭素原子数には、置換基の中に在る炭素原子の数を含まない。例えば、置換基としてエトキシ基を有するブチル基は、Ｃ２アルコキシＣ４アルキル基に分類する。以下、本明細書において、同じ意味で用いる。
【0015】
上記アルケニル基としては、直鎖状でも分岐状でもよく、具体的には、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１－ペンテニル基、１－ヘキセニル基、１－ヘプテニル基、１－オクテニル基、１－ノネニル基、１－デセニル基等のＣ２～１０のアルケニル基等を例示することができる。
【0016】
上記アルキニル基としては、直鎖状でも分岐状であってもよく、具体的には、エチニル基、１－プロピニル基、１－ブチニル基、１－ペンチニル基、１－ヘキシニル基、１－ヘプチニル基、１－オクチニル基、１－ノニニル基等のＣ２～１０のアルキニル基等を例示することができる。
【0017】
上記「アルキル基における炭素－炭素結合の２～３個が二重結合に変換された基」として、具体的には、上記炭素数１～１０のアルキル基における炭素－炭素結合の２～３個が二重結合に変換された基である、１，３－ブタジエニル等の炭素数４～６のアルカジエニル基、１，３，５－ヘキサトリエニル等のアルカトリエニル基を例示することができる。
【0018】
上記「置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基」における「環状脂肪族炭化水素基」として、具体的には、員数３～１０の単環脂肪族炭化水素基又は縮合環脂肪族炭化水素基等を例示することができる。単環脂肪族炭化水素基として、具体的には、飽和又は不飽和の環状脂肪族炭化水素基である、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルカジエニル基等を例示することができる。
【0019】
上記シクロアルキル基として、具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等を例示することができる。
【0020】
上記シクロアルケニル基として、具体的には、１－シクロペンテニル基、２－シクロペンテニル基、１－シクロヘキセニル基、１－シクロブテニル基、１－シクロヘプテニル基等を例示することができる。
【0021】
上記シクロアルカジエニル基として、具体的には、２，４－シクロペンタジエニル基、２，４－シクロヘキサジエニル基、２，５－シクロヘキサジエニル基等を例示することができる。
【0022】
上記「置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基」における「芳香族炭化水素基」としては、単環式でも縮合多環式でもよく、具体的には、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アズレニル基、３－インデニル基、１－インダニル基、５－テトラリニル基等を例示することができる。
【0023】
上記「置換基を有していてもよい複素環基」における「複素環基」として、具体的には、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子を含む員数５～１０の単環複素環基又は員数５～１０の単環芳香族複素環基若しくは縮合芳香族複素環等を例示することができ、縮合芳香族複素環基には、ベンゼン環と窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子を含む単環複素環が縮合したものが包含される。
【0024】
上記複素環基として、具体的には、１－ピペリジニル基、１－モルホリニル基、２－ピロリル基、２－イミダゾリル基、２－ベンゾイミダゾリル基、３－ピラゾリル基、２－チアゾリル基、３－イソチアゾリル基、２－オキサゾリル基、３－イソオキサゾリル基、４－フラザニル基、２－ピリジニル基、２－ピラジニル基、２－ピリミジニル基、３－ピリダジニル基、２－フラニル基、２－ピラニル基、２－チエニル基、２－ベンゾチオフェニル基、２－チオピラニル基、１－イソチオクロメニル基、２－チオクロメニル基、９－チオキサンテニル基、１－チアントレニル基、１－フェノキサチインニル基、１－ピロリジニル基、５Ｈ－１－ピリンジン－５－イル基、インドリジン－１－イル基、１－イソインドリル基、１－インドリル基、１－インダゾリニル基、２－プリニル基、１－キノリジニル基、１－イソキノリニル基、２－キノリニル基、２，６－ナフチリジン－１－イル基、２，７－ナフチリジン－１－イル基、１－フタラジニル基、２－キノキサリニル基、２－キナゾリニル基、３－シンノリニル基、２－プテリジニル基、９－カルバゾリル基、９－β－カルボリニル基、１０－フェナントリジニル基、９－アクリジニル基、２－ペリミジニル基、１，１０－フェナントロリン－２－イル基、１－フェナジニル基、１－フェノチアジニル基、１－フェノキサジニル基、２－アンチリジニル基、１－イソベンゾフラニル基、２－ベンゾフラニル基、１－イソクロメニル基、２－クロメニル基、９－キサンテニル基、パラチアジニル基、１，２，４－トリアゾール－３－イル基、１，２，３－トリアゾール－１－イル基、５－テトラゾリル基等を例示することができる。
【0025】
上記「置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基」、「置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基」、「置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基」、「置換基を有していてもよい複素環基」における「置換基」は化学的に許容され、本発明の効果を有する限りにおいて特に制限されない。
【0026】
具体的には、
メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基若しくはｎ－デシル基等のＣ１～１０アルキル基；
ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１－メチル－２－プロペニル基若しくは２－メチル－２－プロペニル基等のＣ２～６アルケニル基；
エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基若しくは１－メチル－２－プロピニル基等のＣ２～６アルキニル基；
メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基若しくはｎ－デシル基等のＣ１～１０アルキル基；
ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１－メチル－２－プロペニル基若しくは２－メチル－２－プロペニル基等のＣ２～６アルケニル基；
エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基若しくは１－メチル－２－プロピニル基等のＣ２～６アルキニル基；
【0027】
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基若しくはキュバニル基等のＣ３～８シクロアルキル基；
フェニル基若しくは１－ナフチル基等のＣ６～１０アリール基；
ベンジル基若しくはフェネチル基等のＣ６～１０アリールＣ１～６アルキル基；
３～６員ヘテロシクリル基；
３～６員へテロシクリルＣ１～６アルキル基；
フェニル基若しくは１－ナフチル基等のＣ６～１０アリール基；
ベンジル基若しくはフェネチル基等のＣ６～１０アリールＣ１～６アルキル基；
３～６員ヘテロシクリル基；
３～６員へテロシクリルＣ１～６アルキル基；
【0028】
水酸基；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基若しくはｔ－ブトキシ基等のＣ１～６アルコキシ基；
ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基若しくはブテニルオキシ基等のＣ２～６アルケニルオキシ基；
エチニルオキシ基若しくはプロパルギルオキシ基等のＣ２～６アルキニルオキシ基；
フェノキシ基若しくは１－ナフトキシ基等のＣ６～１０アリールオキシ基；
ベンジルオキシ基若しくはフェネチルオキシ基等のＣ６～１０アリールＣ１～６アルコキシ基；
２－チアゾリルオキシ基若しくは２－ピリジルオキシ基等の５～６員ヘテロアリールオキシ基；
２－チアゾリルメチルオキシ基若しくは２－ピリジルメチルオキシ基等の５～６員ヘテロアリールＣ１～６アルキルオキシ基；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基若しくはｔ－ブトキシ基等のＣ１～６アルコキシ基；
ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基若しくはブテニルオキシ基等のＣ２～６アルケニルオキシ基；
エチニルオキシ基若しくはプロパルギルオキシ基等のＣ２～６アルキニルオキシ基；
フェノキシ基若しくは１－ナフトキシ基等のＣ６～１０アリールオキシ基；
ベンジルオキシ基若しくはフェネチルオキシ基等のＣ６～１０アリールＣ１～６アルコキシ基；
２－チアゾリルオキシ基若しくは２－ピリジルオキシ基等の５～６員ヘテロアリールオキシ基；
２－チアゾリルメチルオキシ基若しくは２－ピリジルメチルオキシ基等の５～６員ヘテロアリールＣ１～６アルキルオキシ基；
【0029】
ホルミル基；
アセチル基若しくはプロピオニル基等のＣ１～６アルキルカルボニル基；
ホルミルオキシ基；
アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等のＣ１～６アルキルカルボニルオキシ基；
ベンゾイル基等のＣ６～１０アリールカルボニル基；
ベンゾイルオキシ基等のＣ６～１０アリールカルボニルオキシ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロポキシカルボニル基、ｉ－プロポキシカルボニル基、ｎ－ブトキシカルボニル基若しくはｔ－ブトキシカルボニル基等のＣ１～６アルコキシカルボニル基；メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ－プロポキシカルボニルオキシ基、ｉ－プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ－ブトキシカルボニルオキシ基、若しくはｔ－ブトキシカルボニルオキシ基等のＣ１～６アルコキシカルボニルオキシ基；
カルボキシル基；
アセチル基若しくはプロピオニル基等のＣ１～６アルキルカルボニル基；
ホルミルオキシ基；
アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等のＣ１～６アルキルカルボニルオキシ基；
ベンゾイル基等のＣ６～１０アリールカルボニル基；
ベンゾイルオキシ基等のＣ６～１０アリールカルボニルオキシ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロポキシカルボニル基、ｉ－プロポキシカルボニル基、ｎ－ブトキシカルボニル基若しくはｔ－ブトキシカルボニル基等のＣ１～６アルコキシカルボニル基；メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ－プロポキシカルボニルオキシ基、ｉ－プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ－ブトキシカルボニルオキシ基、若しくはｔ－ブトキシカルボニルオキシ基等のＣ１～６アルコキシカルボニルオキシ基；
カルボキシル基；
【0030】
フルオロ基、クロロ基、ブロモ基若しくはアイオド基等のハロゲノ基；
クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基若しくはパーフルオロ－ｎ－ペンチル基等のＣ１～６ハロアルキル基；
２－クロロ－１－プロペニル基若しくは２－フルオロ－１－ブテニル基等のＣ２～６ハロアルケニル基；
４，４－ジクロロ－１－ブチニル基、４－フルオロ－１－ペンチニル基若しくは５－ブロモ－２－ペンチニル基等のＣ２～６ハロアルキニル基；
トリフルオロメトキシ基、２－クロロ－ｎ－プロポキシ基若しくは２，３－ジクロロブトキシ基等のＣ１～６ハロアルコキシ基；
２－クロロプロペニルオキシ基若しくは３－ブロモブテニルオキシ基等のＣ２～６ハロアルケニルオキシ基；
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基若しくはトリクロロアセチル基等のＣ１～６ハロアルキルカルボニル基；
クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基若しくはパーフルオロ－ｎ－ペンチル基等のＣ１～６ハロアルキル基；
２－クロロ－１－プロペニル基若しくは２－フルオロ－１－ブテニル基等のＣ２～６ハロアルケニル基；
４，４－ジクロロ－１－ブチニル基、４－フルオロ－１－ペンチニル基若しくは５－ブロモ－２－ペンチニル基等のＣ２～６ハロアルキニル基；
トリフルオロメトキシ基、２－クロロ－ｎ－プロポキシ基若しくは２，３－ジクロロブトキシ基等のＣ１～６ハロアルコキシ基；
２－クロロプロペニルオキシ基若しくは３－ブロモブテニルオキシ基等のＣ２～６ハロアルケニルオキシ基；
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基若しくはトリクロロアセチル基等のＣ１～６ハロアルキルカルボニル基；
【0031】
アミノ基；
メチルアミノ基、ジメチルアミノ基若しくはジエチルアミノ基等のＣ１～６アルキル置換アミノ基；
アニリノ基若しくは１－ナフチルアミノ基等のＣ６～１０アリールアミノ基；
ベンジルアミノ基若しくはフェネチルアミノ基等のＣ６～１０アリールＣ１～６アルキルアミノ基；
ホルミルアミノ基；
アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基若しくはｉ－プロピルカルボニルアミノ基等のＣ１～６アルキルカルボニルアミノ基；
ベンゾイルアミノ基等のＣ６～１０アリールカルボニルアミノ基；
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ－プロポキシカルボニルアミノ基若しくはｉ－プロポキシカルボニルアミノ基等のＣ１～６アルコキシカルボニルアミノ基；
メチルアミノ基、ジメチルアミノ基若しくはジエチルアミノ基等のＣ１～６アルキル置換アミノ基；
アニリノ基若しくは１－ナフチルアミノ基等のＣ６～１０アリールアミノ基；
ベンジルアミノ基若しくはフェネチルアミノ基等のＣ６～１０アリールＣ１～６アルキルアミノ基；
ホルミルアミノ基；
アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基若しくはｉ－プロピルカルボニルアミノ基等のＣ１～６アルキルカルボニルアミノ基；
ベンゾイルアミノ基等のＣ６～１０アリールカルボニルアミノ基；
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ－プロポキシカルボニルアミノ基若しくはｉ－プロポキシカルボニルアミノ基等のＣ１～６アルコキシカルボニルアミノ基；
【0032】
アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基若しくはＮ－フェニル－Ｎ－メチルアミノカルボニル基等の無置換若しくは置換基を有するアミノカルボニル基；
イミノメチル基、１－イミノエチル基若しくは１－イミノ－ｎ－プロピル基等のイミノＣ１～６アルキル基；
Ｎ－ヒドロキシ－イミノメチル基、１－（Ｎ－ヒドロキシイミノ）エチル基、１－（Ｎ－ヒドロキシイミノ）－ｎ－プロピル基、Ｎ－メトキシイミノメチル基若しくは１－（Ｎ－メトキシイミノ）エチル基等の無置換若しくは置換基を有するＮ－ヒドロキシイミノＣ１～６アルキル基；
イミノメチル基、１－イミノエチル基若しくは１－イミノ－ｎ－プロピル基等のイミノＣ１～６アルキル基；
Ｎ－ヒドロキシ－イミノメチル基、１－（Ｎ－ヒドロキシイミノ）エチル基、１－（Ｎ－ヒドロキシイミノ）－ｎ－プロピル基、Ｎ－メトキシイミノメチル基若しくは１－（Ｎ－メトキシイミノ）エチル基等の無置換若しくは置換基を有するＮ－ヒドロキシイミノＣ１～６アルキル基；
【0033】
アミノカルボニルオキシ基；
エチルアミノカルボニルオキシ基若しくはジメチルアミノカルボニルオキシ基等のＣ１～６アルキル置換アミノカルボニルオキシ基；
エチルアミノカルボニルオキシ基若しくはジメチルアミノカルボニルオキシ基等のＣ１～６アルキル置換アミノカルボニルオキシ基；
【0034】
メルカプト基；
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｉ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基若しくはｔ－ブチルチオ基等のＣ１～６アルキルチオ基；
トリフルオロメチルチオ基若しくは２，２，２－トリフルオロエチルチオ基等のＣ１～６ハロアルキルチオ基；
フェニルチオ基若しくは１－ナフチルチオ基等のＣ６～１０アリールチオ基；
２－チアゾリルチオ基若しくは２－ピリジルチオ基等の５～６員ヘテロアリールチオ基；
メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基若しくはｔ－ブチルスルフィニル基等のＣ１～６アルキルスルフィニル基；
トリフルオロメチルスルフィニル基若しくは２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル基等のＣ１～６ハロアルキルスルフィニル基；
フェニルスルフィニル基若しくは１－ナフチルスルフィニル基等のＣ６～１０アリールスルフィニル基；
２－チアゾリルスルフィニル基若しくは２－ピリジルスルフィニル基等の５～６員ヘテロアリールスルフィニル基；
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基若しくはｔ－ブチルスルホニル基等のＣ１～６アルキルスルホニル基；
トリフルオロメチルスルホニル基若しくは２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル基等のＣ１～６ハロアルキルスルホニル基；
フェニルスルホニル基若しくは１－ナフチルスルホニル基等のＣ６～１０アリールスルホニル基；
２－チアゾリルスルホニル基若しくは２－ピリジルスルホニル基等の５～６員ヘテロアリールスルホニル基；
メチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基若しくはｔ－ブチルスルホニルオキシ基等のＣ１～６アルキルスルホニルオキシ基；
トリフルオロメチルスルホニルオキシ基若しくは２，２，２－トリフルオロエチルスルホニルオキシ基等のＣ１～６ハロアルキルスルホニルオキシ基；
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｉ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基若しくはｔ－ブチルチオ基等のＣ１～６アルキルチオ基；
トリフルオロメチルチオ基若しくは２，２，２－トリフルオロエチルチオ基等のＣ１～６ハロアルキルチオ基；
フェニルチオ基若しくは１－ナフチルチオ基等のＣ６～１０アリールチオ基；
２－チアゾリルチオ基若しくは２－ピリジルチオ基等の５～６員ヘテロアリールチオ基；
メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基若しくはｔ－ブチルスルフィニル基等のＣ１～６アルキルスルフィニル基；
トリフルオロメチルスルフィニル基若しくは２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル基等のＣ１～６ハロアルキルスルフィニル基；
フェニルスルフィニル基若しくは１－ナフチルスルフィニル基等のＣ６～１０アリールスルフィニル基；
２－チアゾリルスルフィニル基若しくは２－ピリジルスルフィニル基等の５～６員ヘテロアリールスルフィニル基；
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基若しくはｔ－ブチルスルホニル基等のＣ１～６アルキルスルホニル基；
トリフルオロメチルスルホニル基若しくは２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル基等のＣ１～６ハロアルキルスルホニル基；
フェニルスルホニル基若しくは１－ナフチルスルホニル基等のＣ６～１０アリールスルホニル基；
２－チアゾリルスルホニル基若しくは２－ピリジルスルホニル基等の５～６員ヘテロアリールスルホニル基；
メチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基若しくはｔ－ブチルスルホニルオキシ基等のＣ１～６アルキルスルホニルオキシ基；
トリフルオロメチルスルホニルオキシ基若しくは２，２，２－トリフルオロエチルスルホニルオキシ基等のＣ１～６ハロアルキルスルホニルオキシ基；
【0035】
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基若しくはｔ－ブチルジメチルシリル基等のトリＣ１～６アルキル置換シリル基；
トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基若しくはｔ－ブチルジメチルシリルオキシ基等のトリＣ１～６アルキル置換シリルオキシ基；
トリフェニルシリル基等のトリＣ６～１０アリール置換シリル基；
トリフェニルシリルオキシ基等のトリＣ６～１０アリール置換シリルオキシ基；
シアノ基又はニトロ基等を例示することができる。
トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基若しくはｔ－ブチルジメチルシリルオキシ基等のトリＣ１～６アルキル置換シリルオキシ基；
トリフェニルシリル基等のトリＣ６～１０アリール置換シリル基；
トリフェニルシリルオキシ基等のトリＣ６～１０アリール置換シリルオキシ基；
シアノ基又はニトロ基等を例示することができる。
【0036】
また、これらの「置換基」は、当該置換基中のいずれかの水素原子が、異なる構造の基で置換されていてもよい。その場合の「置換基」として、具体的には、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６ハロアルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６ハロアルコキシ基、ハロゲノ基、シアノ基又はニトロ基等を例示することができる。
【0037】
また、上記「３～６員ヘテロシクリル基」とは、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子及びボロン原子からなる群から選ばれる１～４個のヘテロ原子を環の構成原子として含むものである。ヘテロシクリル基は、単環及び多環のいずれであってもよい。多環ヘテロシクリル基は、少なくとも一つの環がヘテロ環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環又は芳香環のいずれであってもよい。「３～６員ヘテロシクリル基」として、具体的には、３～６員飽和ヘテロシクリル基、５～６員ヘテロアリール基、５～６員部分不飽和ヘテロシクリル基等を例示することができる。
【0038】
上記３～６員飽和ヘテロシクリル基として、具体的には、２－アジリジニル基、２－エポキシ基、２－ピロリジニル基、２－テトラヒドロフラニル基、２－チアゾリジニル基、２－ピペリジル基、２－ピペラジニル基、１－モルホリニル基、２－ジオキソラニル基、２－ジオキサニル基、ピナコロニルボロニル基等を例示することができる。
【0039】
上記５員ヘテロアリール基として、具体的には、２－ピロリル基、２－フリル基、２－チエニル基、２－イミダゾリル基、３－ピラゾリル基、２－オキサゾリル基、３－イソオキサゾリル基、２－チアゾリル基、３－イソチアゾリル基、１，２，４－トリアゾール－３－イル基、１，２，４－オキサジアゾール－３－イル基、１，２，４－チアジアゾ－ル－３－イル基、５－テトラゾリル基等を例示することができる。
【0040】
上記６員ヘテロアリール基として、具体的には、２－ピリジル基、３－ピラジニル基、２－ピリミジニル基、２－ピリダジニル基、１，３，５－トリアジン－２－イル基等を例示することができる。
【0041】
上記５～６員部分不飽和ヘテロシクリル基として、具体的には、２－オキサゾリニル基若しくは３－イソオキサゾリニル基等を例示することができる。
【0042】
上記３～６員へテロシクリルのＣ１～６アルキル基として、具体的には、２－アジリジニルメチル基、グリシジル基、２－ピロリジルメチル基、２－テトラヒドロフラニルメチル基、２－チアゾリジニルメチル基、２－ピロリルメチル基、２－フリルメチル基、２－イミダゾリルメチル基、２－ピリジルメチル基又は４－ピリジルメチル基等を例示することができる。
【0043】
好ましい態様において、Ｒ１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基であり、より好ましくは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基であり、さらに好ましくは置換基を有していてもよいフェニル基である。また、上記置換基を有していてもよいフェニル基上の置換基数は、１でも２以上でもよく、置換基の位置は、三重結合との置換位置に対してオルト位、メタ位、パラ位のいずれの位置であってもよい。
【0044】
式（Ｉ）で表される化合物として、具体的には、下記式に挙げる化合物を例示することができる。
【0045】
【化7】
【0046】
また、式（II）においてＲｆと表されるフルオロアルキル基は、同じでも異なっていてもよく、水素原子の全てがフッ素原子により置換されたアルキル基（ペルフルオロアルキル基）であっても、水素原子の一部がフッ素原子により置換されたアルキル基であってもよい。炭素数も特に制限されないが、Ｃ１～Ｃ１０の範囲が好ましく例示することができ、具体的には、ＣＦ３、Ｃ２Ｆ５、Ｃ３Ｆ７、Ｃ４Ｆ９、Ｃ５Ｆ１１、Ｃ６Ｆ１３、Ｃ７Ｆ１５又はＣ８Ｆ１７等のペルフルオロアルキル基、ＣＦ２Ｈ、ＣＦＨ２、ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２Ｃ２Ｆ５、ＣＨ２ＣＨ２Ｃ２Ｆ５、ＣＨ２Ｃ３Ｆ７、ＣＨ２ＣＨ２Ｃ３Ｆ７、ＣＨ２Ｃ４Ｆ９又はＣＨ２ＣＨ２Ｃ４Ｆ９等の部分フッ素置換アルキル基等を例示することができる。中でも、アルキル基中の水素原子の６０％以上がフッ素原子で置換されているアルキル基が好ましく、７０％以上、８０％以上、９０％以上がさらに好ましい。さらに、その中でもＣ１～Ｃ６のフルオロアルキル基が好ましく、さらにはＣ１～Ｃ３のフルオロアルキル基が好ましく、特にＣＦ３、ＣＦ２ＣＦ２Ｈが好ましい。また、式（II）中の２つのＲｆが一緒になってシクロフルオロアルキル基を形成してもよく、水素原子の全てがフッ素原子により置換されたシクロアルキル基（ペルシクロフルオロアルキル基）であっても、水素原子の一部がフッ素原子により置換されたシクロアルキル基であってもよい。炭素数も特に制限されないが、Ｃ３～Ｃ１０の範囲が好ましく例示することができ、具体的には、Ｃ３Ｆ６、Ｃ４Ｆ８、Ｃ５Ｆ１０、Ｃ６Ｆ１２、Ｃ７Ｆ１４又はＣ８Ｆ１６等のペルシクロフルオロアルキル基、ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２、ＣＨ２Ｃ２Ｆ４、ＣＨ２ＣＨ２Ｃ２Ｆ４、ＣＨ２Ｃ３Ｆ６、ＣＨ２ＣＨ２Ｃ３Ｆ６、ＣＨ２Ｃ４Ｆ８又はＣＨ２ＣＨ２Ｃ４Ｆ８等の部分フッ素置換アルキル基等を例示することができる。中でも、アルキル基中の水素原子の６０％以上がフッ素原子で置換されているアルキル基が好ましく、７０％以上、８０％以上、９０％以上がさらに好ましい。さらに、その中でもＣ３～Ｃ８のペルシクロフルオロアルキル基が好ましく、さらにはＣ３～Ｃ５のペルシクロフルオロアルキル基が好ましく、特にＣ３Ｆ６が好ましい。
【0047】
本発明の製造方法は、式（Ｉ）で表されるアルキン化合物を、有機溶媒中で式（II）で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドと反応させる。ここで、用いる有機溶媒として、具体的には、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、１，１，２，２－テトラクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン、１，３，５－トリクロロベンゼン、ブロモベンゼン、ヨードベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、フルオロベンゼン、若しくはジフルオロベンゼン等の有機ハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン若しくはメシチレン等の芳香族炭化水素；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ（ｎ－ブチル）エーテル、モノグライム、ジグライム、トリグライム、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、アニソール、ベラトロール、ジエチルスルフィド、ジ（ｎ－ブチル）スルフィド、アセトニトリル、プロピオニトリル若しくはベンゾニトリル等非プロトン性極性溶媒；ペンタン、ヘキサン、シクロペンタン若しくはシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素等を例示することができるが、中でも、有機ハロゲン系溶媒が好ましく、さらに、ジクロロメタン又は１，２－ジクロロエタン、より好ましくは脱水ジクロロメタン又は脱水１，２－ジクロロエタンを好適に使用することができる。
【0048】
これら有機溶媒の使用量は、特に限定されないが、式（Ｉ）で表されるアルキン化合物に対して、重量比で０．５倍～２０倍の範囲が好ましい。
【0049】
式（Ｉ）で表されるアルキン化合物に対する式（II）で表されるビスフルオロアルカンスルホニルイミドの使用量は、モル比で、１．０～２．０当量の範囲が好ましい。
【0050】
本発明の製造方法における反応温度は、特に限定されないが、通常、－１００℃～１５０℃であり、好ましくは０℃～１００℃であり、より好ましくは１０℃～５０℃であり、さらに好ましくは１５℃～３０℃である。反応は、室温で行うこともできる。反応圧力は、常圧又は加圧下にて実施することができるが、常圧下が好ましい。反応時間は通常１分～２００時間であり、好ましくは１時間～１０時間であり、より好ましくは１時間～５時間であり、さらに好ましくは１時間～３時間である。なお、反応は十分な攪拌下にて行うことが望ましい。反応後、公知の蒸留法、抽出、晶出、再結晶、クロマトグラフィー等の精製によりビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドを単離することができる。
【0051】
本発明の製造方法により、以下の式（III）で表されるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドを合成することができる。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲｆは、上記式（Ｉ）及び式（II）中のＲ１、Ｒ２、及びＲｆと同じ基である。）
本発明の製造方法により得られるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミド、好ましくは２つのＲｆが一緒になってＣ３～Ｃ５のペルシクロフルオロアルキル基であるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドは、医薬品や農薬の合成中間体として好適に使用することができる。
【化8】
本発明の製造方法により得られるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミド、好ましくは２つのＲｆが一緒になってＣ３～Ｃ５のペルシクロフルオロアルキル基であるビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドは、医薬品や農薬の合成中間体として好適に使用することができる。
【実施例0052】
以下実施例を用いて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これら実施例の範囲に限定されるものではない。
［実施例１］
［実施例１］
【0053】
実施例１～１２では、出発物質として１－エチニルベンゼン及びビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＨＮＴｆ２）を用い、出発物質の当量数及び溶媒量の検討を行った。
【0054】
【化9】
【0055】
１００ｍＬ二口フラスコに撹拌子を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（２４．５ｍＬ）、１－エチニルベンゼン（５１．３ｍｇ）、１ＭのＨＮＴｆ２溶液（０．５０ｍＬ）の順に加えたのちに室温で２時間撹拌した。
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（１７２．６ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２を添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９９％）。
［実施例２］
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（１７２．６ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２を添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９９％）。
［実施例２］
【0056】
【化10】
【0057】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（９．５ｍＬ）、１－エチニルベンゼン（５２．２ｍｇ）、１ＭのＨＮＴｆ２溶液（０．５１ｍＬ）の順に加えたのちに室温で２時間撹拌した。
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（１７９．５ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２を添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９９％）。
［実施例３］
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（１７９．５ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２を添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９９％）。
［実施例３］
【0058】
【化11】
【0059】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（４．５ｍＬ）、１－エチニルベンゼン（５１．７ｍｇ）、１ＭのＨＮＴｆ２溶液（０．５１ｍＬ）の順に加えたのちに室温で２時間撹拌した。
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（１９４．６ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２を添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９３％）。
［実施例４］
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（１９４．６ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２を添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９３％）。
［実施例４］
【0060】
【化12】
【0061】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（２．０ｍＬ）、１－エチニルベンゼン（５０．８ｍｇ）、１ＭのＨＮＴｆ２溶液（０．５０ｍＬ）の順に加えたのちに室温で２時間撹拌した。
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（１９３．０ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２を添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９３％）。
［実施例５］～［実施例１２］
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（１９３．０ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２を添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９３％）。
［実施例５］～［実施例１２］
【0062】
出発原料の当量数、溶媒の種類及び量、並びに反応温度を表１に示すとおりとした以外は実施例１～４と同様に反応を行った。その結果を表１に示す。実施例１～１２の結果より、溶媒としてＣＨ２ＣｌＣＨ２Ｃｌ又はＣＨ２Ｃｌ２を用い、ＨＮＴｆ２を１－エチニルベンゼンに対して１当量以上加えて室温にて２時間反応させることにより、添加剤なしに生成物であるビニルビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドを高収率で得られることがわかった。
【0063】
【表1】
【0064】
本実施例では、１０ｍｍｏｌの１－エチニルベンゼン及び当量のＨＮＴｆ２を用い、同様にビニルビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドが合成できることを確認した。
【0065】
【化13】
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．５４－７．５２（ｍ，２Ｈ），７．４５－７．４２（ｍ，３Ｈ），６．１８（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），５．７６（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ１４０．５７，１３３．６０，１３０．２３，１２８．７７，１２６．７２，１２３．６７１１１９．１７（ｑ，Ｊ＝３２５．５Ｈｚ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－６９．５５
［実施例１４］
【0066】
実施例１４～２３では、１－エチニルベンゼン及びＨＮＴｆ２以外の出発物質を用いてビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドの製造を行った。
【0067】
【化14】
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（４２．８ｍｇ）を添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９６％）。粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ２＝３５ｇ，Φ＝３．２ｃｍ，充填溶媒：ｈｅｘａｎｅ，展開溶媒：ｈｅｘａｎｅ／酢酸エチル＝５０）により単離精製を実施し生成物を得た（１９１．６ｍｇ，８７％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．４４（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，４Ｈ），６．１５（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），５．６９（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），１．３３（ｓ，９Ｈ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ１５３．７１，１４０．４４，１３０．６１，１２６．３４，１２５．７３，１２２．５７，１１９．１５（ｑ，Ｊ＝３２５．９Ｈｚ），３４．７７，３１．０７；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－６９．５４
［実施例１５］
【0068】
【化15】
【0069】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（４．５ｍＬ）、１－（ｔｅｒｔ－ブチル）－４－［２－（トリメチルシリル）エチニル］－ベンゼン（１４６．５ｍｇ）、１ＭのＨＮＴｆ２溶液（０．６０ｍＬ）の順に加えたのちに室温で２時間撹拌した。
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（２４７．２ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（３８．８ｍｇ）を添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（６３％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ｍｈｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ８．１０（ｄｔ，Ｊ＝８．６，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５８－７．６２（ｍ，２Ｈ），６．３０（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），５．８７（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），４．４０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），１．４２（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ｍｈｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－６９．４７
［実施例１６］
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（２４７．２ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（３８．８ｍｇ）を添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（６３％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ｍｈｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ８．１０（ｄｔ，Ｊ＝８．６，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５８－７．６２（ｍ，２Ｈ），６．３０（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），５．８７（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），４．４０（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），１．４２（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ｍｈｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－６９．４７
［実施例１６］
【0070】
【化16】
【0071】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（４．０ｍＬ）、エチル４－［２－（トリメチルシリル）エチニル］ベンゾエート（１３８．５ｍｇ，０．５６ｍｍｏｌ）、１ＭのＨＮＴｆ２溶液（１．１２ｍＬ）の順に加えたのちに室温で２時間撹拌した。
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（３９０．５ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（３９．６ｍｇ）添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（７２％）。
［実施例１７］
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（３９０．５ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（３９．６ｍｇ）添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（７２％）。
［実施例１７］
【0072】
【化17】
【0073】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（４．５ｍＬ）、１－クロロ－３－［２－（トリメチルシリル）エチニル］－ベンゼン（１０３．２ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）、１ＭのＨＮＴｆ２溶液（０．５０ｍＬ）の順に加えたのちに室温で２時間撹拌した。
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（１８６．６ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（４５ｍｇ）添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（７８％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．５１（ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３５－７．４３（ｍ，３Ｈ），６．２０（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），５．８１（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－６９．４４
［実施例１８］
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（１８６．６ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（４５ｍｇ）添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（７８％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．５１（ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３５－７．４３（ｍ，３Ｈ），６．２０（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），５．８１（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－６９．４４
［実施例１８］
【0074】
【化18】
【0075】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（４．５ｍＬ）、４－［２－（トリメチルシリル）エチニル］－１，１’－ビフェニル（１２４．９ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）、１ＭのＨＮＴｆ２溶液（０．５０ｍＬ）の順に加えたのちに室温で２時間撹拌した。
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（２１８．７ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（４５ｍｇ）添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９７％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．６６（ｄｔ，Ｊ＝８．６，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．６０（ｔｔ，Ｊ＝８．７，１．９Ｈｚ，４Ｈ），７．４７（ｔｔ，Ｊ＝７．９，２．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３９（ｔｔ，Ｊ＝７．４，１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．２４（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），５．７７（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－６９．４８
［実施例１９］
ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た（２１８．７ｍｇ）。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（４５ｍｇ）添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９７％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．６６（ｄｔ，Ｊ＝８．６，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．６０（ｔｔ，Ｊ＝８．７，１．９Ｈｚ，４Ｈ），７．４７（ｔｔ，Ｊ＝７．９，２．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３９（ｔｔ，Ｊ＝７．４，１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．２４（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），５．７７（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－６９．４８
［実施例１９］
【0076】
【化19】
【0077】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロプロパン－１，３－ジスルホンイミド（１４３．５ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（５ｍＬ）、エチニルベンゼン（５０．１ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）を加えたのちに室温で２時間撹拌した。ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（３８．９ｍｇ）添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（＞９９％）。粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ２＝３５ｇ，Φ＝３．２ｃｍ，充填溶媒：ｈｅｘａｎｅ，展開溶媒：ｈｅｘａｎｅ／酢酸エチル＝４０）により単離精製を実施し生成物を得た（１７５ｍｇ，９０％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．７７－７．７５（ｍ，２Ｈ），７．６９－７．６７（ｍ，３Ｈ），６．４１（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），５．９０（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－１１３．３１－－１１１．１０（ｍ，２Ｆ），－１１８．４０－－１１５．８１（ｍ，１Ｆ），－１２１．３０－－１１９．２５（ｍ，２Ｆ），－１３１．７９－－１３０．２１（ｍ，１Ｆ）
［実施例２０］
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．７７－７．７５（ｍ，２Ｈ），７．６９－７．６７（ｍ，３Ｈ），６．４１（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），５．９０（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－１１３．３１－－１１１．１０（ｍ，２Ｆ），－１１８．４０－－１１５．８１（ｍ，１Ｆ），－１２１．３０－－１１９．２５（ｍ，２Ｆ），－１３１．７９－－１３０．２１（ｍ，１Ｆ）
［実施例２０］
【0078】
【化20】
【0079】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロプロパン－１，３－ジスルホンイミド（１４３．５ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（５ｍＬ）、４－［２－（トリメチルシリル）エチニル］－１，１’－ビフェニル（１２４．６ｍｇ）を順に加えたのちに室温で２時間撹拌した。ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（３９．７ｍｇ）添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９４％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．６９（ｄｔ，Ｊ＝８．６，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５９－７．６４（ｍ，４Ｈ），７．４７（ｔｔ，Ｊ＝７．７，１．６Ｈｚ，２Ｈ），７．４０（ｔｔ，Ｊ＝７．４，１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．２４（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），５．７０（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ）１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－１１３．６０－－１１１．５７（ｍ，２Ｆ），－１１７．７１－－１１５．５８（ｍ，１Ｆ），－１２１．９０－－１１９．７０（ｍ，２Ｆ），－１３２．０８－－１３０．３８（ｍ，１Ｆ）
［実施例２１］
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．６９（ｄｔ，Ｊ＝８．６，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５９－７．６４（ｍ，４Ｈ），７．４７（ｔｔ，Ｊ＝７．７，１．６Ｈｚ，２Ｈ），７．４０（ｔｔ，Ｊ＝７．４，１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．２４（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），５．７０（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ）１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－１１３．６０－－１１１．５７（ｍ，２Ｆ），－１１７．７１－－１１５．５８（ｍ，１Ｆ），－１２１．９０－－１１９．７０（ｍ，２Ｆ），－１３２．０８－－１３０．３８（ｍ，１Ｆ）
［実施例２１］
【0080】
【化21】
【0081】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロプロパン－１，３－ジスルホンイミド（１４８．２ｍｇ）を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（５．０ｍＬ）、１－ｃｈｌｏｒｏ－３－［２－（トリメチルシリル）エチニル］－ベンゼン（１０５ｍｇ）を加えたのちに室温で２時間撹拌した。ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（３４．７ｍｇ）添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（７９％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．５３－７．５４（ｍ，１Ｈ），７．４０－７．４４（ｍ，３Ｈ），６．２１（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），５．７５（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－１１４．１０－－１１１．４３（ｍ，２Ｆ），－１１７．９８－－１１６．０９（ｍ，１Ｆ），－１２１．３８－－１１９．２１（ｍ，２Ｆ），－１３１．３５－－１２９．４９（ｍ，１Ｆ）
［実施例２２］
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．５３－７．５４（ｍ，１Ｈ），７．４０－７．４４（ｍ，３Ｈ），６．２１（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），５．７５（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－１１４．１０－－１１１．４３（ｍ，２Ｆ），－１１７．９８－－１１６．０９（ｍ，１Ｆ），－１２１．３８－－１１９．２１（ｍ，２Ｆ），－１３１．３５－－１２９．４９（ｍ，１Ｆ）
［実施例２２］
【0082】
【化22】
【0083】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロプロパン－１，３－ジスルホンイミド（１３９．２ｍｇ）を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（５．０ｍＬ）、１－ｃｈｌｏｒｏ－３－［２－（トリメチルシリル）エチニル］－Ｂｅｎｚｅｎｅ（９６．６ｍｇ）を加えたのちに室温で２時間撹拌した。ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（４５．７ｍｇ）添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（９６％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．４８（ｔｄ，Ｊ＝６．０，３．８Ｈｚ，２Ｈ），６．９７（ｔｄ，Ｊ＝６．２，３．６Ｈｚ，２Ｈ），６．０５（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），５．５５（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－１１３．９４－－１１１．２４（ｍ，２Ｆ），－１１８．０６－－１１６．３０（ｍ，１Ｆ），－１２１．４６－－１１９．６２（ｍ，２Ｆ），－１３１．９９－－１３０．１０（ｍ，１Ｆ）
［実施例２３］
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．４８（ｔｄ，Ｊ＝６．０，３．８Ｈｚ，２Ｈ），６．９７（ｔｄ，Ｊ＝６．２，３．６Ｈｚ，２Ｈ），６．０５（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），５．５５（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－１１３．９４－－１１１．２４（ｍ，２Ｆ），－１１８．０６－－１１６．３０（ｍ，１Ｆ），－１２１．４６－－１１９．６２（ｍ，２Ｆ），－１３１．９９－－１３０．１０（ｍ，１Ｆ）
［実施例２３］
【0084】
【化23】
【0085】
１０ｍＬ二口フラスコに撹拌子、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロプロパン－１，３－ジスルホンイミド（１４８．２ｍｇ）を入れ窒素置換を行った後、脱水ジクロロメタン（５．０ｍＬ）、１－ｍｅｔｈｙｌ－４－［２－（トリメチルシリル）エチニル］－ベンゼン（９６．５ｍｇ）を加えたのちに室温で２時間撹拌した。ロータリーエバポレーターを用いてろ液の揮発成分を留去させ、粗生成物を得た。内部標準としてＣＨＣｌ２ＣＣｌ２（５２．８ｍｇ）添加し、ＮＭＲ測定を実施し、積分比から収率を算出した（＜１００％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．４４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），６．１４（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），５．６１（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－１１０．２８－－１１３．９９（２Ｆ），－１１５．４６－－１１８．４３（１Ｆ），－１１９．３５－－１２１．５７（２Ｆ），－１２９．２８－－１３２．９９（１Ｆ）
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ７．４４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），６．１４（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），５．６１（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ）；１９Ｆ－ＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＨＬＯＲＯＦＯＲＭ－Ｄ）δ－１１０．２８－－１１３．９９（２Ｆ），－１１５．４６－－１１８．４３（１Ｆ），－１１９．３５－－１２１．５７（２Ｆ），－１２９．２８－－１３２．９９（１Ｆ）
【産業上の利用可能性】
【0086】
本発明の製造方法によれば、添加剤不要、且つ温和な条件で、短時間の反応で目的とするビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドを効率よく得ることができる。また、本発明の製造方法によれば、従来の製造方法では合成することができなかった新規のビニルビスフルオロアルカンスルホニルイミドを合成することができ、医薬品や農薬等の開発に資することができる。したがって、本発明の医薬品分野、農薬分野における利用可能性は極めて高い。