特開2022-85874残留応力制御を有するＳｉＣウエハの製造方法

発明の名称　残留応力制御を有するＳｉＣウエハの製造方法

出願人　エスティーマイクロエレクトロニクス　エス．アール．エル．　（識別番号 591002692）

　　　　特許公開件数ランキング 31345 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 2444 位（6件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2022-85874

公報発行日　2022年6月8

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2022-85874

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