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特開2022-94015伝導伝熱乾燥機における分散投入装置 並びに分散投入方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022094015
(43)【公開日】2022-06-24
(54)【発明の名称】伝導伝熱乾燥機における分散投入装置 並びに分散投入方法
(51)【国際特許分類】
F26B 17/00 20060101AFI20220617BHJP
F26B 17/20 20060101ALI20220617BHJP
【ＦＩ】
F26B17/00 B
F26B17/20 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2020206791
(22)【出願日】2020-12-14
(71)【出願人】
【識別番号】000149310
【氏名又は名称】株式会社大川原製作所
(74)【代理人】
【識別番号】100086438
【弁理士】
【氏名又は名称】東山 喬彦
(74)【代理人】
【識別番号】100217168
【弁理士】
【氏名又は名称】東山 裕樹
(72)【発明者】
【氏名】篠原 吉信
【テーマコード（参考）】
3L113
【Ｆターム（参考）】
3L113AA06
3L113AA07
3L113AB02
3L113AB05
3L113AC05
3L113AC16
3L113AC40
3L113AC45
3L113AC46
3L113AC48
3L113AC49
3L113AC63
3L113AC68
3L113BA37
3L113CB29
3L113CB32
3L113CB34
3L113DA07
3L113DA30
(57)【要約】
【課題】 伝導伝熱乾燥機において投入口（材料投入口）が比較的自由に選択でき、また設計時に一旦、投入口を決定しても、その後の投入口の位置変更が、比較的高い自由度で行えるようにした新規な分散投入手法の開発を技術課題とする。
【解決手段】 本発明の分散投入装置１は、固定状態に設けられた中空状の本体シェル２１と、この内部で回転自在に支持される回転伝熱部２２とを具え、被処理物Ｗを回転伝熱部２２の伝熱面に接触させて水分を蒸発させるようにした伝導伝熱乾燥機２の上部に設けられるものであって、本体シェル２１の上部に、被処理物Ｗを本体シェル２１内に投入できる分散コンベヤ１１を具え、且つこの分散コンベヤ１１の排出口１４下方に、伝導伝熱乾燥機２の長手方向において複数箇所の落下制御体１３が設けられていることを特徴とする。
【選択図】図１
【解決手段】 本発明の分散投入装置１は、固定状態に設けられた中空状の本体シェル２１と、この内部で回転自在に支持される回転伝熱部２２とを具え、被処理物Ｗを回転伝熱部２２の伝熱面に接触させて水分を蒸発させるようにした伝導伝熱乾燥機２の上部に設けられるものであって、本体シェル２１の上部に、被処理物Ｗを本体シェル２１内に投入できる分散コンベヤ１１を具え、且つこの分散コンベヤ１１の排出口１４下方に、伝導伝熱乾燥機２の長手方向において複数箇所の落下制御体１３が設けられていることを特徴とする。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
固定状態に設けられた中空状の本体シェルと、この内部で回転自在に支持される回転伝熱部とを具え、被処理物を回転伝熱部の伝熱面に接触させてその水分を蒸発させるようにした伝導伝熱乾燥機の上部に設けられた分散投入装置であって、
この分散投入装置は、前記本体シェルの上部に、被処理物を本体シェル内に投入できる分散コンベヤを具え、且つこの分散コンベヤの排出口下方に、伝導伝熱乾燥機の長手方向において複数箇所の落下制御体が設けられていることを特徴とする、伝導伝熱乾燥機における分散投入装置。
この分散投入装置は、前記本体シェルの上部に、被処理物を本体シェル内に投入できる分散コンベヤを具え、且つこの分散コンベヤの排出口下方に、伝導伝熱乾燥機の長手方向において複数箇所の落下制御体が設けられていることを特徴とする、伝導伝熱乾燥機における分散投入装置。
【請求項2】
前記分散コンベヤと本体シェルとの間は、伝導伝熱乾燥機の長手方向において中空状を成すシュートで接続されて成り、前記落下制御体は、このシュートの上方開口部に設けられていることを特徴とする請求項１記載の、伝導伝熱乾燥機における分散投入装置。
【請求項3】
前記落下制御体は、水平状態に設けられたダンパ板を具えて成り、このダンパ板を水平方向にスライドさせて、分散コンベヤと本体シェルとの間の投入経路を連通または遮断する構成であることを特徴とする請求項１または２記載の、伝導伝熱乾燥機における分散投入装置。
【請求項4】
前記分散コンベヤの排出口下方には、落下制御体の非設置位置に、分散コンベヤと本体シェルとの間の投入経路を常に遮断する固定板が設けられることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の、伝導伝熱乾燥機における分散投入装置。
【請求項5】
前記伝導伝熱乾燥機の複数箇所に設けられる落下制御体は、幅寸法が異なるものを含むことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の、伝導伝熱乾燥機における分散投入装置。
【請求項6】
固定状態に設けられた中空状の本体シェル内で回転する回転伝熱部の伝熱面に、被処理物を接触させて、その水分を蒸発させるようにした伝導伝熱乾燥機に対し、被処理物を投入する方法であって、
前記本体シェルの上部には、分散コンベヤを具えた分散投入装置を設け、
且つこの分散コンベヤの排出口下方には、伝導伝熱乾燥機の長手方向において複数箇所の落下制御体を設けるものであり、投入にあたっては、適宜の位置の落下制御体を開閉して、被処理物を分散コンベヤから本体シェル内に分散して投入するようにしたことを特徴とする、伝導伝熱乾燥機における分散投入方法。
前記本体シェルの上部には、分散コンベヤを具えた分散投入装置を設け、
且つこの分散コンベヤの排出口下方には、伝導伝熱乾燥機の長手方向において複数箇所の落下制御体を設けるものであり、投入にあたっては、適宜の位置の落下制御体を開閉して、被処理物を分散コンベヤから本体シェル内に分散して投入するようにしたことを特徴とする、伝導伝熱乾燥機における分散投入方法。
【請求項7】
前記落下制御体は、水平状態に設けられたダンパ板を水平方向にスライドさせて、分散コンベヤと本体シェルとの間の投入経路を連通または遮断することを特徴とする請求項６記載の、伝導伝熱乾燥機における分散投入方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、泥状・ケーキ状・粉粒状などを呈する被処理物の乾燥を行う装置の一種である伝導伝熱乾燥機に関するものであって、特に乾燥機に被処理物を供給する投入口を変更したい場合、投入口選択の自由度を高め、ほぼ所望通りの位置から被処理物の分散投入が行えるようにした新規な分散投入装置と分散投入方法に係るものである。
【背景技術】
【0002】
例えば下水汚泥など含水率及び粘性が高い被処理物の乾燥機として、ＩＴＲ：Inner Tube Rotary （インナーチューブロータリー）とも呼ばれている伝導伝熱乾燥機が存在する。本出願人もこの種の乾燥機に関し、種々の特許出願を行い、特許取得に至っている（例えば特許文献１・２参照）。
この伝導伝熱乾燥機２は、例えば図１（ａ）に示すように、本体シェル２１内で回転する回転伝熱部２２を具えて成り、この回転伝熱部２２には、内部に蒸気を通す複数の加熱管２５が円弧状（円周状）に等配される。そして、被処理物Ｗたる材料の乾燥処理は、蒸気を加熱管２５内に流した状態で回転伝熱部２２を回転させながら、加熱管２５を介して被処理物Ｗを間接的に加熱するものである。
この伝導伝熱乾燥機２は、例えば図１（ａ）に示すように、本体シェル２１内で回転する回転伝熱部２２を具えて成り、この回転伝熱部２２には、内部に蒸気を通す複数の加熱管２５が円弧状（円周状）に等配される。そして、被処理物Ｗたる材料の乾燥処理は、蒸気を加熱管２５内に流した状態で回転伝熱部２２を回転させながら、加熱管２５を介して被処理物Ｗを間接的に加熱するものである。
【0003】
しかしながら、このような乾燥機においても、まだ以下のような点で改善の余地があった。
すなわち伝導伝熱乾燥機２は、上述したように内部の伝熱面積を有効に利用して能力を発揮するため、局部的な高水分領域（例えば５０％Ｗ．Ｂ．）を極力なくす必要があり、また局部的に乾燥が進み過ぎて低水分領域が発生すれば、乾燥機全体として見た場合に乾燥効率が低下することになるため、乾燥機機内への被処理物Ｗの投入口を多数設けることが行われる。つまり高水分領域とならないためには投入口は分散させ、一方で、低水分領域が想定される箇所には被処理物Ｗを積極的に供給し、その低水分領域の水分を上昇させることで乾燥機全体としての乾燥効率を向上させることになる。
しかしながら、乾燥効率の最適化を目論んで被処理物Ｗの供給すべき場所を設定しても、現実には被処理物Ｗの物性の変動を含めて各種の変化が装置内に起こるため、設計時に設定した位置では目論見通りにならないことがしばしば起こる。実際、乾燥機を設置した後においては、投入位置を変更したいとしても、容易にその位置変更を行い難いのが実情であった。
すなわち伝導伝熱乾燥機２は、上述したように内部の伝熱面積を有効に利用して能力を発揮するため、局部的な高水分領域（例えば５０％Ｗ．Ｂ．）を極力なくす必要があり、また局部的に乾燥が進み過ぎて低水分領域が発生すれば、乾燥機全体として見た場合に乾燥効率が低下することになるため、乾燥機機内への被処理物Ｗの投入口を多数設けることが行われる。つまり高水分領域とならないためには投入口は分散させ、一方で、低水分領域が想定される箇所には被処理物Ｗを積極的に供給し、その低水分領域の水分を上昇させることで乾燥機全体としての乾燥効率を向上させることになる。
しかしながら、乾燥効率の最適化を目論んで被処理物Ｗの供給すべき場所を設定しても、現実には被処理物Ｗの物性の変動を含めて各種の変化が装置内に起こるため、設計時に設定した位置では目論見通りにならないことがしばしば起こる。実際、乾燥機を設置した後においては、投入位置を変更したいとしても、容易にその位置変更を行い難いのが実情であった。
【0004】
ここで従来の分散投入手法としては、例えば図６（ａ）に示すように、汚泥ポンプ等のポンプを用い、バルブＶの開閉操作によって行う手法があった。また図６（ｂ）に示すように、スクリュータイプのコンベヤＣと排出ダンパＤを用いた手法もあり、この場合には排出ダンパＤの開閉操作により、被処理物Ｗの供給を行ったり、遮断したりするものであった。そして、これらの手法によって乾燥機２′の長手方向に設けた分散箇所たる投入口２９′から被処理物Ｗを小分け状態に投入していた。
【0005】
以下、このような従来手法の問題点について説明する。
まず汚泥ポンプ等のポンプを用いた手法では、バルブＶの大きさとその配置（配管／フランジや内径）だけに左右されるため、比較的自由度が高い状態で投入口を多数設け、被処理物Ｗを供給するバルブＶの選択ができるものの、被処理物Ｗがポンプによって圧密状態で乾燥機２´内に供給されるため、塊化し易く、塊が機内で分散し難いという問題があり、そもそもポンプによる圧送が可能な汚泥に限られるものであった。
またコンベヤＣと排出ダンパＤを用いた手法では、圧密が起き難いものの、被処理物Ｗの分散性をできるだけ損なわずに供給するためには供給の開口を広く取らねばならず、この関係でフランジ等の周辺部材を含めたスペースがバルブＶと比べて大きく必要となり、設置箇所数に制約があった。
また、設計段階で、一旦、投入位置を決定してしまうと、その後に変更することは容易ではなかった。すなわち設計時に決定した投入位置を、後から変更する場合には、乾燥機２′の本体シェル２１′の改造が必要であり、またコンベヤＣの排出口を改造する、あるいはコンベヤＣの長さを延長するなど比較的改造範囲が大きくなり、位置変更が容易に行えず、これが問題であった。
またコンベヤＣを用いて被処理物Ｗを投入する手法では、コンベヤＣは、必ず乾燥機２′の上部に設置する必要があり、他の構成要素としてシュート１２′と排出ダンパＤも必要になるため、設備全体の高さ寸法が嵩んでしまう傾向があり、これが問題であった。
なお、乾燥機２′への分散投入場所が限られた場合には、乾燥機２′内で局部的な水分上昇を招き、運転不能になる可能性があった。
まず汚泥ポンプ等のポンプを用いた手法では、バルブＶの大きさとその配置（配管／フランジや内径）だけに左右されるため、比較的自由度が高い状態で投入口を多数設け、被処理物Ｗを供給するバルブＶの選択ができるものの、被処理物Ｗがポンプによって圧密状態で乾燥機２´内に供給されるため、塊化し易く、塊が機内で分散し難いという問題があり、そもそもポンプによる圧送が可能な汚泥に限られるものであった。
またコンベヤＣと排出ダンパＤを用いた手法では、圧密が起き難いものの、被処理物Ｗの分散性をできるだけ損なわずに供給するためには供給の開口を広く取らねばならず、この関係でフランジ等の周辺部材を含めたスペースがバルブＶと比べて大きく必要となり、設置箇所数に制約があった。
また、設計段階で、一旦、投入位置を決定してしまうと、その後に変更することは容易ではなかった。すなわち設計時に決定した投入位置を、後から変更する場合には、乾燥機２′の本体シェル２１′の改造が必要であり、またコンベヤＣの排出口を改造する、あるいはコンベヤＣの長さを延長するなど比較的改造範囲が大きくなり、位置変更が容易に行えず、これが問題であった。
またコンベヤＣを用いて被処理物Ｗを投入する手法では、コンベヤＣは、必ず乾燥機２′の上部に設置する必要があり、他の構成要素としてシュート１２′と排出ダンパＤも必要になるため、設備全体の高さ寸法が嵩んでしまう傾向があり、これが問題であった。
なお、乾燥機２′への分散投入場所が限られた場合には、乾燥機２′内で局部的な水分上昇を招き、運転不能になる可能性があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特許第６０００７３９号公報
【特許文献2】特開２００６－１７３３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、このような背景を認識してなされたものであって、伝導伝熱乾燥機において投入口（材料投入口）が比較的自由に選択でき、また設計時に一旦、投入口を決定しても、その後の投入口の位置変更が、比較的自由度が高い状態で行えるようにした新規な分散投入手法の開発を技術課題としたものである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
まず請求項１記載の伝導伝熱乾燥機における分散投入装置は、
固定状態に設けられた中空状の本体シェルと、この内部で回転自在に支持される回転伝熱部とを具え、被処理物を回転伝熱部の伝熱面に接触させてその水分を蒸発させるようにした伝導伝熱乾燥機の上部に設けられた分散投入装置であって、
この分散投入装置は、前記本体シェルの上部に、被処理物を本体シェル内に投入できる分散コンベヤを具え、且つこの分散コンベヤの排出口下方に、伝導伝熱乾燥機の長手方向において複数箇所の落下制御体が設けられていることを特徴として成るものである。
固定状態に設けられた中空状の本体シェルと、この内部で回転自在に支持される回転伝熱部とを具え、被処理物を回転伝熱部の伝熱面に接触させてその水分を蒸発させるようにした伝導伝熱乾燥機の上部に設けられた分散投入装置であって、
この分散投入装置は、前記本体シェルの上部に、被処理物を本体シェル内に投入できる分散コンベヤを具え、且つこの分散コンベヤの排出口下方に、伝導伝熱乾燥機の長手方向において複数箇所の落下制御体が設けられていることを特徴として成るものである。
【0009】
また請求項２記載の伝導伝熱乾燥機における分散投入装置は、請求項１記載の要件に加え、
前記分散コンベヤと本体シェルとの間は、伝導伝熱乾燥機の長手方向において中空状を成すシュートで接続されて成り、前記落下制御体は、このシュートの上方開口部に設けられていることを特徴として成るものである。
前記分散コンベヤと本体シェルとの間は、伝導伝熱乾燥機の長手方向において中空状を成すシュートで接続されて成り、前記落下制御体は、このシュートの上方開口部に設けられていることを特徴として成るものである。
【0010】
また請求項３記載の伝導伝熱乾燥機における分散投入装置は、請求項１または２記載の要件に加え、
前記落下制御体は、水平状態に設けられたダンパ板を具えて成り、このダンパ板を水平方向にスライドさせて、分散コンベヤと本体シェルとの間の投入経路を連通または遮断する構成であることを特徴として成るものである。
前記落下制御体は、水平状態に設けられたダンパ板を具えて成り、このダンパ板を水平方向にスライドさせて、分散コンベヤと本体シェルとの間の投入経路を連通または遮断する構成であることを特徴として成るものである。
【0011】
また請求項４記載の伝導伝熱乾燥機における分散投入装置は、請求項１から３のいずれか１項記載の要件に加え、
前記分散コンベヤの排出口下方には、落下制御体の非設置位置に、分散コンベヤと本体シェルとの間の投入経路を常に遮断する固定板が設けられることを特徴として成るものである。
前記分散コンベヤの排出口下方には、落下制御体の非設置位置に、分散コンベヤと本体シェルとの間の投入経路を常に遮断する固定板が設けられることを特徴として成るものである。
【0012】
また請求項５記載の伝導伝熱乾燥機における分散投入装置は、請求項１から４のいずれか１項記載の要件に加え、
前記伝導伝熱乾燥機の複数箇所に設けられる落下制御体は、幅寸法が異なるものを含むことを特徴として成るものである。
前記伝導伝熱乾燥機の複数箇所に設けられる落下制御体は、幅寸法が異なるものを含むことを特徴として成るものである。
【0013】
また請求項６記載の伝導伝熱乾燥機における分散投入方法は、
固定状態に設けられた中空状の本体シェル内で回転する回転伝熱部の伝熱面に、被処理物を接触させて、その水分を蒸発させるようにした伝導伝熱乾燥機に対し、被処理物を投入する方法であって、
前記本体シェルの上部には、分散コンベヤを具えた分散投入装置を設け、
且つこの分散コンベヤの排出口下方には、伝導伝熱乾燥機の長手方向において複数箇所の落下制御体を設けるものであり、投入にあたっては、適宜の位置の落下制御体を開閉して、被処理物を分散コンベヤから本体シェル内に分散して投入するようにしたことを特徴として成るものである。
固定状態に設けられた中空状の本体シェル内で回転する回転伝熱部の伝熱面に、被処理物を接触させて、その水分を蒸発させるようにした伝導伝熱乾燥機に対し、被処理物を投入する方法であって、
前記本体シェルの上部には、分散コンベヤを具えた分散投入装置を設け、
且つこの分散コンベヤの排出口下方には、伝導伝熱乾燥機の長手方向において複数箇所の落下制御体を設けるものであり、投入にあたっては、適宜の位置の落下制御体を開閉して、被処理物を分散コンベヤから本体シェル内に分散して投入するようにしたことを特徴として成るものである。
【0014】
また請求項７記載の伝導伝熱乾燥機における分散投入方法は、請求項６記載の要件に加え、
前記落下制御体は、水平状態に設けられたダンパ板を水平方向にスライドさせて、分散コンベヤと本体シェルとの間の投入経路を連通または遮断することを特徴として成るものである。
前記落下制御体は、水平状態に設けられたダンパ板を水平方向にスライドさせて、分散コンベヤと本体シェルとの間の投入経路を連通または遮断することを特徴として成るものである。
【発明の効果】
【0015】
まず請求項１または６記載の発明によれば、伝導伝熱乾燥機に被処理物を投入する際、分散コンベヤの排出口下方に設けられた落下制御体を開閉させることで被処理物の落下投入を行うことができる。また、被処理物の投入が落下制御体の開閉操作によるものであるから、落下制御体を設置した位置であれば、比較的高い自由度を持って、被処理物を分散投入することができ、更には投入位置を変更したい場合でも、ほぼ自由に投入位置を変更することができる。
【0016】
また請求項２記載の発明によれば、分散コンベヤと本体シェルとの間が中空状のシュートで接続され、このシュート内に複数の落下制御体が、回転伝熱部に沿って収容されるため、コンパクトな装置構成でありながらも、乾燥機の長手方向での被処理物の投入が、従来装置の様な離散的な投入ではなく、長手方向に連続的に任意で且つ投入したい位置から正確に投入することができる。
【0017】
また請求項３または７記載の発明によれば、落下制御体は、水平状態に設けられたダンパ板を水平方向にスライドさせて、被処理物の落下投入を制御する構成であるから、設備全体の重心を低い高さに抑えることができる（設備全体の重心安定化）。言い換えれば、ダンパ作用を担う落下制御体としては、例えば水平なダンパ板を上下方向に回動させて被処理物の落下投入を制御するフラップタイプもあるが、このようなフラップタイプではダンパ板を上下方向にあおる分、設備全体の高さ寸法が高くなってしまうことは避けられないが、本発明ではこのようなことを防止することができる。
【0018】
また請求項４記載の発明によれば、落下制御体の非設置位置に固定板が設けられるため、投入を行わない位置には、この固定板を設けることによって、装置構造をシンプル化することができる。
また落下制御体と固定板とを交換自在に形成しておけば、より一層、分散投入位置の変更・選択が行い易くなる。
また落下制御体と固定板とを交換自在に形成しておけば、より一層、分散投入位置の変更・選択が行い易くなる。
【0019】
また請求項５記載の発明によれば、伝導伝熱乾燥機の複数箇所に設けられる落下制御体は、幅寸法が異なるものを含むため、全ての落下制御体の幅寸法を同一で形成した場合よりも、多くの投入口を形成することができ、より多くの位置から被処理物を分散投入することができる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】本発明の分散投入装置を具えた伝導伝熱乾燥機の一例を示す正面図（ａ）、並びに側面図（ｂ）である。
【図2】主に分散投入装置を示す平面図（ａ）、並びに正面図（ｂ）である。
【図3】主に分散投入装置を示す分解斜視図である。
【図4】ダンパ板を円滑に開閉させるためにレールやコロ、あるいは当該レール上に溜まった被処理物を除去するために掻き落し体を設けた構成例の説明図（ａ）、並びに開閉自在の落下制御体に、固定板を併設した構成例を示す説明図（ｂ）である。
【図5】複数基の落下制御体を同じ幅寸法（乾燥機の長手方向寸法）とした構成例を示す説明図（ａ）、並びに落下制御体の幅寸法（長手方向寸法）を異ならせた構成例を示す説明図（ｂ）である。
【図6】従来の投入手法を二種示す平面図、並びに断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0021】
本発明を実施するための形態は、以下の実施例に述べるものをその一つとするとともに、更にその技術思想内において改良し得る種々の手法をも含むものである。
【実施例0022】
本発明の伝導伝熱乾燥機における分散投入装置１（以下、単に「分散投入装置１」とする）は、伝導伝熱乾燥機２（以下、単に「乾燥機２」とする）の上部を覆う蓋のように設けられるものであり、まず乾燥機２の基本構造から説明する。
乾燥機２は、下水汚泥などの被処理物（材料）Ｗを乾燥処理するものであり、その基本構造は、一例として図１に示すように、固定状態（非回転状態）に設けられた中空状の本体シェル２１と、その内部で回転自在に支持される回転伝熱部２２とを具えて成るものである。
回転伝熱部２２は、回転軸２３を有した一対のエンドプレート２４の間に、複数の加熱管２５が円弧状（回転軸２３を中心とする円周状）等に等配され、管束状に形成される。そして、本乾燥機２によって被処理物Ｗを乾燥するには、加熱管２５内に蒸気を流しながら回転伝熱部２２（管束）を回転させることにより、本体シェル２１内に受け入れた被処理物Ｗに、間接的に熱を加え（加熱管２５を通して熱を加え）、被処理物Ｗを所望の含水率まで乾燥させるものである。
このように本発明に係る乾燥機２は、間接加熱タイプの連続式伝導伝熱乾燥機であり、ＩＴＲ：Inner Tube Rotary （インナーチューブロータリー）とも呼ばれている。
乾燥機２は、下水汚泥などの被処理物（材料）Ｗを乾燥処理するものであり、その基本構造は、一例として図１に示すように、固定状態（非回転状態）に設けられた中空状の本体シェル２１と、その内部で回転自在に支持される回転伝熱部２２とを具えて成るものである。
回転伝熱部２２は、回転軸２３を有した一対のエンドプレート２４の間に、複数の加熱管２５が円弧状（回転軸２３を中心とする円周状）等に等配され、管束状に形成される。そして、本乾燥機２によって被処理物Ｗを乾燥するには、加熱管２５内に蒸気を流しながら回転伝熱部２２（管束）を回転させることにより、本体シェル２１内に受け入れた被処理物Ｗに、間接的に熱を加え（加熱管２５を通して熱を加え）、被処理物Ｗを所望の含水率まで乾燥させるものである。
このように本発明に係る乾燥機２は、間接加熱タイプの連続式伝導伝熱乾燥機であり、ＩＴＲ：Inner Tube Rotary （インナーチューブロータリー）とも呼ばれている。
【0023】
なお、回転軸２３及びエンドプレート２４には、内部に蒸気を流す通路が形成されており、蒸気は一方の回転軸２３及びエンドプレート２４から加熱管２５内へと分散して流入し、ここで熱交換を行って自身は凝縮してドレンとなる。ドレンとなった蒸気は、その後、他方のエンドプレート２４及び回転軸２３を経由して乾燥機２外に移送されるものである。
因みに図中符号２６は、加熱管２５に外接して突出状態に設けられたリフタであり、これは回転伝熱部２２（管束）の回転に伴い、本体シェル２１内に投入された被処理物Ｗを掻き上げるためのものである。
また図中符号２８は、乾燥を終えた被処理物Ｗ、つまり乾燥品を排出するための排出口である。
因みに図中符号２６は、加熱管２５に外接して突出状態に設けられたリフタであり、これは回転伝熱部２２（管束）の回転に伴い、本体シェル２１内に投入された被処理物Ｗを掻き上げるためのものである。
また図中符号２８は、乾燥を終えた被処理物Ｗ、つまり乾燥品を排出するための排出口である。
【0024】
また、特に図示しないが、乾燥中は、被処理物Ｗから水分（水蒸気）、臭気成分、その他の揮発成分、粉塵など（乾燥排ガス）が分離・放出されるため、これを乾燥機２外に効率的に排出するため本体シェル２１には、加熱された外気（加熱外気）を取り込むためのキャリアガス導入口と、排出用のキャリアガス排出口とが形成される。すなわち、キャリアガス導入口から導入された加熱外気は、本体シェル２１内を通過してキャリアガス排出口から出て行く間に、被処理物Ｗからの水分、臭気成分、その他の揮発成分、粉塵などを同伴することになる。
【0025】
また乾燥機２は、一例として図３に示すように、本体シェル２１の上部において、回転伝熱部２２に並行する長手方向に矩形の開口が設けられるもので、例えばこの開口は乾燥機２の長手方向側の両端面の近傍にまで開口される。
そして、この開口から垂直に立ち上げられた四面から成る壁面により、分散投入装置１のシュート１２が形成され、このシュート１２の上方開口部が乾燥機２の受入口部（材料受入口部）２９となる。そして、ここに上述した分散投入装置１が載置状態に取り付けられる。
なお、前記開口は、乾燥機２の長手方向側において被処理物Ｗを供給する必要のないことが明らかであれば、当該範囲においてまでシュート１２を設ける必要はない。例えば、乾燥機２の長手方向側の両端面の近傍にまで開口される必要のない場合もある。
そして、この開口から垂直に立ち上げられた四面から成る壁面により、分散投入装置１のシュート１２が形成され、このシュート１２の上方開口部が乾燥機２の受入口部（材料受入口部）２９となる。そして、ここに上述した分散投入装置１が載置状態に取り付けられる。
なお、前記開口は、乾燥機２の長手方向側において被処理物Ｗを供給する必要のないことが明らかであれば、当該範囲においてまでシュート１２を設ける必要はない。例えば、乾燥機２の長手方向側の両端面の近傍にまで開口される必要のない場合もある。
【0026】
次に、分散投入装置１について説明する。
分散投入装置１は、上述したように乾燥機２の上部を塞ぐ蓋のように設けられるものであり、一例として図１～図３に示すように、乾燥機２の上方において被処理物Ｗを乾燥機２の長手方向に沿って移送するコンベヤ１１と、コンベヤ１１と本体シェル２１との間を接続する上記シュート１２と、コンベヤ１１とシュート１２との間に設けられ、乾燥機２への被処理物Ｗの投入（供給）を制御する落下制御体１３とを具えて成る。
なお本明細書では、上記「コンベヤ１１」は、被処理物Ｗを乾燥機２に分散して投入するコンベヤであることから、このものを特に「分散コンベヤ１１」と称することがある。
またここで方向について説明しておく。乾燥機２の長手方向は、分散コンベヤ１１の送り方向を意味し、左右方向と称することがある。ただし、落下制御体１３として観た場合には、この左右方向は幅方向と称するものであり、また分散コンベヤ１１の送り方向に直交する水平方向を前後方向と称するものであり、特に後述するダンパ板１３１は、この前後方向にスライドさせるものである。
分散投入装置１は、上述したように乾燥機２の上部を塞ぐ蓋のように設けられるものであり、一例として図１～図３に示すように、乾燥機２の上方において被処理物Ｗを乾燥機２の長手方向に沿って移送するコンベヤ１１と、コンベヤ１１と本体シェル２１との間を接続する上記シュート１２と、コンベヤ１１とシュート１２との間に設けられ、乾燥機２への被処理物Ｗの投入（供給）を制御する落下制御体１３とを具えて成る。
なお本明細書では、上記「コンベヤ１１」は、被処理物Ｗを乾燥機２に分散して投入するコンベヤであることから、このものを特に「分散コンベヤ１１」と称することがある。
またここで方向について説明しておく。乾燥機２の長手方向は、分散コンベヤ１１の送り方向を意味し、左右方向と称することがある。ただし、落下制御体１３として観た場合には、この左右方向は幅方向と称するものであり、また分散コンベヤ１１の送り方向に直交する水平方向を前後方向と称するものであり、特に後述するダンパ板１３１は、この前後方向にスライドさせるものである。
【0027】
以下、分散投入装置１を構成する各部材について説明する。
分散コンベヤ１１は、一例としてスクリューコンベヤが適用され、このものは回転軸１１１の外周側に、螺旋状の羽根１１２が取り付けられて成るものである。
また分散コンベヤ１１には、シュート１１３が設けられるものであり、このシュート１１３への被処理物Ｗの搬送は、別途ベルトコンベヤ等を介して行われる。
ここで図中符号１４は、分散コンベヤ１１の下方に形成された被処理物Ｗの排出口（材料出口）である。因みに分散コンベヤ１１の排出口１４は、乾燥機２からすると被処理物Ｗの受入口部（材料受入口部）２９と直結するものである。
なお、分散コンベヤ１１としては、必ずしも図３に示したスクリューコンベヤに限定されるものではなく、シャフトレススクリューコンベヤを適用することも可能である。
分散コンベヤ１１は、一例としてスクリューコンベヤが適用され、このものは回転軸１１１の外周側に、螺旋状の羽根１１２が取り付けられて成るものである。
また分散コンベヤ１１には、シュート１１３が設けられるものであり、このシュート１１３への被処理物Ｗの搬送は、別途ベルトコンベヤ等を介して行われる。
ここで図中符号１４は、分散コンベヤ１１の下方に形成された被処理物Ｗの排出口（材料出口）である。因みに分散コンベヤ１１の排出口１４は、乾燥機２からすると被処理物Ｗの受入口部（材料受入口部）２９と直結するものである。
なお、分散コンベヤ１１としては、必ずしも図３に示したスクリューコンベヤに限定されるものではなく、シャフトレススクリューコンベヤを適用することも可能である。
【0028】
次にシュート１２について説明する。
シュート１２は、分散コンベヤ１１から排出される被処理物Ｗを乾燥機２内に案内するものであり、乾燥機２の上部において、分散コンベヤ１１すなわち乾燥機２の長手方向に沿って設けられる。特に、本実施例では一例として図１（ｂ）に示すように、シュート１２は、乾燥機２内で掻き上げられる被処理物Ｗの上方位置に設けられる。
また、シュート１２は、例えば図３に示すように、分散コンベヤ１１の長手方向においてほぼ全域が中空状を成す略直方体の筒状に形成される。このため分散コンベヤ１１から落下した被処理物Ｗは、シュート１２を経て乾燥機２内に落下するものであり、換言すれば分散コンベヤ１１から乾燥機２までを接続するシュート１２が、被処理物Ｗを乾燥機２へと落下・導入する投入経路１５となるものである。
また、この投入経路１５は、乾燥機２の長手方向において複数の経路に区画されて成り、この区画された各経路を分割投入経路１５ａとする。そして、少なくとも複数つまり二区画以上の分割投入経路１５ａに、上記落下制御体１３が設けられ、この落下制御体１３によって当該分割投入経路１５ａを連通または遮断するようにしたものである。
このような構造によって、本発明では、被処理物Ｗの乾燥機２への投入口、換言すれば中空状のシュート１２によって構成される投入経路１５を分割（分散）するようにしたものであり、また一旦、投入口を決定した後でも、投入口（分散投入口）の位置変更が、比較的高い自由度を持って行えるものである。
なお図中符号１６は、投入経路１５を保守点検する際に開閉する点検蓋（点検口）である。
シュート１２は、分散コンベヤ１１から排出される被処理物Ｗを乾燥機２内に案内するものであり、乾燥機２の上部において、分散コンベヤ１１すなわち乾燥機２の長手方向に沿って設けられる。特に、本実施例では一例として図１（ｂ）に示すように、シュート１２は、乾燥機２内で掻き上げられる被処理物Ｗの上方位置に設けられる。
また、シュート１２は、例えば図３に示すように、分散コンベヤ１１の長手方向においてほぼ全域が中空状を成す略直方体の筒状に形成される。このため分散コンベヤ１１から落下した被処理物Ｗは、シュート１２を経て乾燥機２内に落下するものであり、換言すれば分散コンベヤ１１から乾燥機２までを接続するシュート１２が、被処理物Ｗを乾燥機２へと落下・導入する投入経路１５となるものである。
また、この投入経路１５は、乾燥機２の長手方向において複数の経路に区画されて成り、この区画された各経路を分割投入経路１５ａとする。そして、少なくとも複数つまり二区画以上の分割投入経路１５ａに、上記落下制御体１３が設けられ、この落下制御体１３によって当該分割投入経路１５ａを連通または遮断するようにしたものである。
このような構造によって、本発明では、被処理物Ｗの乾燥機２への投入口、換言すれば中空状のシュート１２によって構成される投入経路１５を分割（分散）するようにしたものであり、また一旦、投入口を決定した後でも、投入口（分散投入口）の位置変更が、比較的高い自由度を持って行えるものである。
なお図中符号１６は、投入経路１５を保守点検する際に開閉する点検蓋（点検口）である。
【0029】
次に、落下制御体１３について更に詳細に説明する。
落下制御体１３は、細かく仕切られた各投入口である各分割投入経路１５ａにおいて、被処理物Ｗの落下投入を制御するものであり、一例として図１～図３に示すように、分割投入経路１５ａを実質的に連通または遮断するダンパ板１３１と、このダンパ板１３１を前後方向に移動させ、分割投入経路１５ａを開放または閉鎖するための駆動シフタ１３２とを具えて成る。
また本実施例では、特にダンパ板１３１の開閉操作は、ダンパ板１３１を水平方向に移動させて行うため、例えば図３・図４に示すように、落下制御体１３は、ダンパ板１３１を摺動自在に支持するレール１３３を具える。
更にダンパ板１３１を前後方向に水平移動させる構造であることから、設備全体の高さ寸法が抑えられ、設備の重心位置を低い高さに抑えることができる。もちろん、設備の高さ寸法に、格別な制限がない場合等には、ダンパ板１３１を上下方向に回動させて、分割投入経路１５ａを開閉させるフラップタイプも適用することができる。
また、本実施例では、上記図１～図３に示すように、投入経路１５は三つの分割投入経路１５ａに区画されることから、落下制御体１３も三基、直列状に設けられる。ここでこの三基の落下制御体１３を区別する場合には、便宜上、図１（ａ）の左側の落下制御体１３から「１３Ａ」、「１３Ｂ」、「１３Ｃ」・・とするものである。
落下制御体１３は、細かく仕切られた各投入口である各分割投入経路１５ａにおいて、被処理物Ｗの落下投入を制御するものであり、一例として図１～図３に示すように、分割投入経路１５ａを実質的に連通または遮断するダンパ板１３１と、このダンパ板１３１を前後方向に移動させ、分割投入経路１５ａを開放または閉鎖するための駆動シフタ１３２とを具えて成る。
また本実施例では、特にダンパ板１３１の開閉操作は、ダンパ板１３１を水平方向に移動させて行うため、例えば図３・図４に示すように、落下制御体１３は、ダンパ板１３１を摺動自在に支持するレール１３３を具える。
更にダンパ板１３１を前後方向に水平移動させる構造であることから、設備全体の高さ寸法が抑えられ、設備の重心位置を低い高さに抑えることができる。もちろん、設備の高さ寸法に、格別な制限がない場合等には、ダンパ板１３１を上下方向に回動させて、分割投入経路１５ａを開閉させるフラップタイプも適用することができる。
また、本実施例では、上記図１～図３に示すように、投入経路１５は三つの分割投入経路１５ａに区画されることから、落下制御体１３も三基、直列状に設けられる。ここでこの三基の落下制御体１３を区別する場合には、便宜上、図１（ａ）の左側の落下制御体１３から「１３Ａ」、「１３Ｂ」、「１３Ｃ」・・とするものである。
【0030】
以下、落下制御体１３を構成する各部材について説明する。
まずダンパ板１３１は、一例として図１（ｂ）に示すように、水平なプレート部１３１ａの後部に、垂直なプレート部１３１ｂを垂下状態に連設して成るものであり、全体として側面視Ｌ字状を成すように形成され、後部の垂直なプレート部１３１ｂに前記駆動シフタ１３２が取り付けられる。
プレート部１３１ａの上面は、例えば図１（ｂ）に示すように、詳しくは後述する閉鎖時において、羽根１１２の下端に近接した状態となる。すなわちプレート部１３１ａと羽根１１２との両者は、被処理物Ｗを搬送している状態や、被処理物Ｗのない状態で分散コンベヤ１１を動かしたときに、プレート部１３１ａと羽根１１２の下端が接触しない距離であれば、できるだけこれら両者を近づける距離で設置される。
まずダンパ板１３１は、一例として図１（ｂ）に示すように、水平なプレート部１３１ａの後部に、垂直なプレート部１３１ｂを垂下状態に連設して成るものであり、全体として側面視Ｌ字状を成すように形成され、後部の垂直なプレート部１３１ｂに前記駆動シフタ１３２が取り付けられる。
プレート部１３１ａの上面は、例えば図１（ｂ）に示すように、詳しくは後述する閉鎖時において、羽根１１２の下端に近接した状態となる。すなわちプレート部１３１ａと羽根１１２との両者は、被処理物Ｗを搬送している状態や、被処理物Ｗのない状態で分散コンベヤ１１を動かしたときに、プレート部１３１ａと羽根１１２の下端が接触しない距離であれば、できるだけこれら両者を近づける距離で設置される。
【0031】
ダンパ板１３１は、駆動シフタ１３２の摺動子が伸長した状態で、水平なプレート部１３１ａが、分割投入経路１５ａを遮るように構成されており、被処理物Ｗの落下投入時には、駆動シフタ１３２の摺動子を収縮させることにより、分割投入経路１５ａを塞いでいた水平なプレート部１３１ａを後退させ、開放した分割投入経路１５ａを介して、被処理物Ｗを落下投入させるものである。
なお、側面視Ｌ字状を成すダンパ板１３１を補強したい場合等には、ダンパ板１３１の両端部の近傍に、詳しくは後述するレール１３３と接触しない位置に、立壁状のプレート部１３１ｃを設けることが可能である。
因みに駆動シフタ１３２としては、油圧シリンダ、エアシリンダ、モーターシリンダ等が適用される。
なお、側面視Ｌ字状を成すダンパ板１３１を補強したい場合等には、ダンパ板１３１の両端部の近傍に、詳しくは後述するレール１３３と接触しない位置に、立壁状のプレート部１３１ｃを設けることが可能である。
因みに駆動シフタ１３２としては、油圧シリンダ、エアシリンダ、モーターシリンダ等が適用される。
【0032】
次にレール１３３について説明する。
レール１３３は、ダンパ板１３１を安定して保持しながら、開放時及び閉鎖時において当該ダンパ板１３１を円滑に摺動させるためのものであり、例えば図４に示すように、プレート部１３１ａの下面とメタルタッチで摺動させたり、当該下面に低摩擦係数の樹脂板を設けて摺動させるものであるが、ダンパ板１３１を、より一層円滑に摺動させるには、例えば図４（ａ）の上側拡大図に示すように、ダンパ板１３１の下部に回転自在のコロ（車輪）１３４を設けておき、このコロ１３４をレール１３３上で転動させながらダンパ板１３１を摺動させることが好ましく、これにより、より一層スムーズにダンパ板１３１を開閉させることができる。もちろん、このようなコロ１３４の他にも、リニアスライダーやローラ等を用いることもできる。
また車輪１３４を用いた別機構としては、例えば図４（ａ）の下側拡大図に示すように、後述する境界板１３６から水平張り出し状態に車輪１３４を設置し、この車輪１３４の回転可能な外輪で、プレート部１３１ａの下面を支えて摺動させる構成を採ることもできる。
レール１３３は、ダンパ板１３１を安定して保持しながら、開放時及び閉鎖時において当該ダンパ板１３１を円滑に摺動させるためのものであり、例えば図４に示すように、プレート部１３１ａの下面とメタルタッチで摺動させたり、当該下面に低摩擦係数の樹脂板を設けて摺動させるものであるが、ダンパ板１３１を、より一層円滑に摺動させるには、例えば図４（ａ）の上側拡大図に示すように、ダンパ板１３１の下部に回転自在のコロ（車輪）１３４を設けておき、このコロ１３４をレール１３３上で転動させながらダンパ板１３１を摺動させることが好ましく、これにより、より一層スムーズにダンパ板１３１を開閉させることができる。もちろん、このようなコロ１３４の他にも、リニアスライダーやローラ等を用いることもできる。
また車輪１３４を用いた別機構としては、例えば図４（ａ）の下側拡大図に示すように、後述する境界板１３６から水平張り出し状態に車輪１３４を設置し、この車輪１３４の回転可能な外輪で、プレート部１３１ａの下面を支えて摺動させる構成を採ることもできる。
【0033】
なおダンパ板１３１を開放させると、前記レール１３３上に汚泥などの被処理物Ｗが溜まるため、一例として図４（ａ）の部分斜視図に示すように、ダンパ板１３１の両端部、より詳細にはプレート部１３１ａ及び１３１ｃの先端下方には、下端がレール１３３の上部に近接して張り出す掻き落し体１３７を傾斜状態に設けることが好ましく、これによりダンパ板１３１の閉鎖時の動作で、この掻き落し体１３７がレール１３３上に溜まった被処理物Ｗを効率的に掻き落とすことができる。すなわち、ダンパ板１３１の閉鎖時の動作、つまり掻き落し体１３７の移動によって、レール１３３上に溜まった被処理物Ｗを払い除けるようにするものであり、はね除けられた被処理物Ｗは、下方の本体シェル２１内に落下するものである。因みに、図３の拡大斜視図においても、掻き落し体１３７を想像線で図示している。
【0034】
また図中符号１３６は、分散投入口となる各分割投入経路１５ａを仕切るように設けた境界板であり、このような境界板１３６を設けることで、乾燥機２の長手方向にわたって中空状に形成されたシュート１２、つまり投入経路１５を複数の細かい投入口たる分散投入経路１５ａに隣接させながら、仕切ることができる。
境界板１３６の上端は、ダンパ板１３１の閉鎖時に、プレート部１３１ａの上面と同一の高さ位置となるように設定され、下端は、本体シェル２１の上部または回転伝熱部２２に接触しない範囲で本体シェル２１の内部に突出するように設けられるもので、本体シェル２１の上部の曲面と同様な湾曲状、または円弧状に形成される。
落下制御体１３は、複数が連続状態に設置され得るものであるが、この境界板１３６によって、開放動作した落下制御体１３の直下の回転伝熱部２２に被処理物Ｗを正確に落下させることができるものである。
境界板１３６の上端は、ダンパ板１３１の閉鎖時に、プレート部１３１ａの上面と同一の高さ位置となるように設定され、下端は、本体シェル２１の上部または回転伝熱部２２に接触しない範囲で本体シェル２１の内部に突出するように設けられるもので、本体シェル２１の上部の曲面と同様な湾曲状、または円弧状に形成される。
落下制御体１３は、複数が連続状態に設置され得るものであるが、この境界板１３６によって、開放動作した落下制御体１３の直下の回転伝熱部２２に被処理物Ｗを正確に落下させることができるものである。
【0035】
本発明の分散投入装置１は、以上のような基本構造を有するものであり、以下、この分散投入装置１を適用して、被処理物Ｗを乾燥機２内に分散投入する作動態様について説明しながら、併せて分散投入方法について運転の一例を説明する。
なお落下制御体１３は、三基設けられているものとし、各落下制御体１３を図１（ａ）に示すように、１３Ａ・１３Ｂ・１３Ｃとする。
また分散投入を開始する前は、全ての落下制御体１３Ａ～１３Ｃにおいて各分割投入経路１５ａが閉鎖しているものとする。すなわち全ての落下制御体１３Ａ～１３Ｃにおいて駆動シフタ１３２の摺動子が伸長し、ダンパ板１３１によって各分割投入経路１５ａが遮断された閉鎖状態とする。
なお落下制御体１３は、三基設けられているものとし、各落下制御体１３を図１（ａ）に示すように、１３Ａ・１３Ｂ・１３Ｃとする。
また分散投入を開始する前は、全ての落下制御体１３Ａ～１３Ｃにおいて各分割投入経路１５ａが閉鎖しているものとする。すなわち全ての落下制御体１３Ａ～１３Ｃにおいて駆動シフタ１３２の摺動子が伸長し、ダンパ板１３１によって各分割投入経路１５ａが遮断された閉鎖状態とする。
【0036】
（１）落下制御体１３Ａのダンパ板１３１の開放・閉鎖
まず落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を開放して、この投入口すなわち図１（ａ）の左側に位置する分割投入経路１５ａから乾燥機２内に被処理物Ｗを投入する。なおダンパ板１３１を開放する操作は、駆動シフタ１３２の摺動子を収縮させ、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を分割投入経路１５ａから退去させて、分割投入経路１５ａを受入口部２９と連通させるものである。
そして、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を適宜の時間、開放させたら、今度は落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を閉鎖して、この位置からの材料投入を終了する。なおダンパ板１３１を閉鎖する操作は、駆動シフタ１３２の摺動子を伸長させ、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１によって分割投入経路１５ａを遮断するものである。
因みに、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１の開放時間（開放継続時間）及び閉鎖時間（閉鎖維持時間）は、図示を省略した制御盤内に設置されるプログラマブルコントローラ（ＰＬＣ）等を用いて設定することができる。
まず落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を開放して、この投入口すなわち図１（ａ）の左側に位置する分割投入経路１５ａから乾燥機２内に被処理物Ｗを投入する。なおダンパ板１３１を開放する操作は、駆動シフタ１３２の摺動子を収縮させ、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を分割投入経路１５ａから退去させて、分割投入経路１５ａを受入口部２９と連通させるものである。
そして、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を適宜の時間、開放させたら、今度は落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を閉鎖して、この位置からの材料投入を終了する。なおダンパ板１３１を閉鎖する操作は、駆動シフタ１３２の摺動子を伸長させ、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１によって分割投入経路１５ａを遮断するものである。
因みに、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１の開放時間（開放継続時間）及び閉鎖時間（閉鎖維持時間）は、図示を省略した制御盤内に設置されるプログラマブルコントローラ（ＰＬＣ）等を用いて設定することができる。
【0037】
（２）落下制御体１３Ｂのダンパ板１３１の開放・閉鎖
このようにして落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を閉鎖した後、今度は落下制御体１３Ｂのダンパ板１３１を適宜の時間、開放させ、その後、閉鎖するものである。なお、この際のダンパ板１３１の開閉操作は、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１の開閉操作と同様である。
このようにして落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を閉鎖した後、今度は落下制御体１３Ｂのダンパ板１３１を適宜の時間、開放させ、その後、閉鎖するものである。なお、この際のダンパ板１３１の開閉操作は、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１の開閉操作と同様である。
【0038】
（３）落下制御体１３Ｃのダンパ板１３１の開放・閉鎖
また上記のようにして落下制御体１３Ｂのダンパ板１３１を閉鎖したら、今度は落下制御体１３Ｃのダンパ板１３１を適宜の時間、開放させ、その後、閉鎖するものである。なお、この際のダンパ板１３１の開閉操作も、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１の開閉操作と同様である。
また上記のようにして落下制御体１３Ｂのダンパ板１３１を閉鎖したら、今度は落下制御体１３Ｃのダンパ板１３１を適宜の時間、開放させ、その後、閉鎖するものである。なお、この際のダンパ板１３１の開閉操作も、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１の開閉操作と同様である。
【0039】
（４）落下制御体１３Ａのダンパ板１３１の開放・閉鎖
以上のようにして落下制御体１３Ｃのダンパ板１３１を閉鎖したら、今度は最初に戻り、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を再度、適宜の時間、開放させ、その後、閉鎖する。
以下、このようなダンパ板１３１の開閉操作を三基の落下制御体１３Ａ～１３Ｃにおいて順次、繰り返して行くものであり、これはＰＬＣ等により設定されるものである。これにより乾燥機２への被処理材Ｗの投入位置も、図１（ａ）における左側→中央→右側→・・と順次変更して行くものである。
なお、各落下制御体１３Ａ～１３Ｃのダンパ板１３１の開放時間は、全て同じ時間に設定する必要はなく、例えば各投入位置で変更することが可能である。
そして、全ての乾燥作業が終了したら、各落下制御体１３Ａ～１３Ｃのダンパ板１３１を全て閉鎖して、乾燥品となった被処理物Ｗを乾燥機２の排出口２８から排出するものである。
以上のようにして落下制御体１３Ｃのダンパ板１３１を閉鎖したら、今度は最初に戻り、落下制御体１３Ａのダンパ板１３１を再度、適宜の時間、開放させ、その後、閉鎖する。
以下、このようなダンパ板１３１の開閉操作を三基の落下制御体１３Ａ～１３Ｃにおいて順次、繰り返して行くものであり、これはＰＬＣ等により設定されるものである。これにより乾燥機２への被処理材Ｗの投入位置も、図１（ａ）における左側→中央→右側→・・と順次変更して行くものである。
なお、各落下制御体１３Ａ～１３Ｃのダンパ板１３１の開放時間は、全て同じ時間に設定する必要はなく、例えば各投入位置で変更することが可能である。
そして、全ての乾燥作業が終了したら、各落下制御体１３Ａ～１３Ｃのダンパ板１３１を全て閉鎖して、乾燥品となった被処理物Ｗを乾燥機２の排出口２８から排出するものである。
【0040】
因みに上記説明では三基の落下制御体１３を順繰りに開閉して行くように説明したが、投入態様としては必ずしもこれに限定されるものではなく、ＰＬＣ等に設定により種々の態様が採り得る。具体的には、例えば図１（ａ）において中央の投入口（分割投入経路１５ａ）から材料投入を行わない場合には、中央の落下制御体１３Ｂは、終始、閉鎖状態に維持（設定）しておき、左右両サイドの落下制御体１３Ａ・１３Ｃのみを交互に開閉させる投入態様が採り得る。あるいは乾燥機２内において被処理物Ｗの水分が低下している領域の上方の落下制御体１３Ａ、１３Ｂまたは１３Ｃを優先的に長時間開放する投入態様が採り得るし、または上記とは逆に、乾燥機２内における被処理物Ｗの水分が高い領域の上方の落下制御体１３Ａ、１３Ｂまたは１３Ｃを長時間閉鎖させておく投入態様を採ることもできる。
また分散コンベヤ１１におけるシュート１１３を、分散コンベヤ１１の中央に設け、回転軸１１１（羽根１１２）の正転動作及び逆転動作と、落下制御体１３Ａ、１３Ｂまたは１３Ｃの開放・閉鎖の動作を組み合わせて、被処理物Ｗを乾燥機２の最適な位置に供給する投入態様を採ることもできる。
また分散コンベヤ１１におけるシュート１１３を、分散コンベヤ１１の中央に設け、回転軸１１１（羽根１１２）の正転動作及び逆転動作と、落下制御体１３Ａ、１３Ｂまたは１３Ｃの開放・閉鎖の動作を組み合わせて、被処理物Ｗを乾燥機２の最適な位置に供給する投入態様を採ることもできる。
【0041】
〔他の実施例〕
本発明は以上述べた実施例を一つの基本的な技術思想とするものであるが、更に次のような改変が考えられる。
まず、上述した基本の実施例では、全ての分割投入経路１５ａに開閉自在のダンパ板１３１を設けた。しかしながら、被処理物Ｗの投入を行わない位置（分割投入経路１５ａ）があらかじめ決定している場合等には、例えば図４に示すように、スライド自在のダンパ板１３１ではなく、固定板１３５を設けることが可能である。因みに、本図４の構成例では、中央の分割投入経路１５ａに固定板１３５を設け、ここからの材料投入を行わないようにしたものである。
もちろん、適宜の位置で材料投入を行わないようにするには、上述したようにスライド自在のダンパ板１３１を開放せず、閉鎖状態に維持しておくことでも対応できる。
なお固定板１３５は、ダンパ板１３１のように移動しないため、この上部に被処理物Ｗが滞留・固着することも考えられるが、その場合には、乾燥作業の終了後に、シュート１２に設けた点検口（点検蓋１６）などから除去清掃を行うなどして処置することができる。
本発明は以上述べた実施例を一つの基本的な技術思想とするものであるが、更に次のような改変が考えられる。
まず、上述した基本の実施例では、全ての分割投入経路１５ａに開閉自在のダンパ板１３１を設けた。しかしながら、被処理物Ｗの投入を行わない位置（分割投入経路１５ａ）があらかじめ決定している場合等には、例えば図４に示すように、スライド自在のダンパ板１３１ではなく、固定板１３５を設けることが可能である。因みに、本図４の構成例では、中央の分割投入経路１５ａに固定板１３５を設け、ここからの材料投入を行わないようにしたものである。
もちろん、適宜の位置で材料投入を行わないようにするには、上述したようにスライド自在のダンパ板１３１を開放せず、閉鎖状態に維持しておくことでも対応できる。
なお固定板１３５は、ダンパ板１３１のように移動しないため、この上部に被処理物Ｗが滞留・固着することも考えられるが、その場合には、乾燥作業の終了後に、シュート１２に設けた点検口（点検蓋１６）などから除去清掃を行うなどして処置することができる。
【0042】
また、上述した基本の実施例では、基本的に落下制御体１３を三基設けたが、落下制御体１３は二基以上であれば、何基でも構わない。具体的には、例えば図５（ａ）に示すように、四基の落下制御体１３を設けることが可能である。もちろん落下制御体１３の数を増やせば、それだけ投入口が増え、より被処理物Ｗを分散させながら投入することができる。
また複数設けられる落下制御体１３は、必ずしも同じ幅寸法に形成される必要はなく、複数の落下制御体１３のなかに、幅寸法が異なるものがあっても構わない。すなわち図５（ｂ）は、図５（ａ）に対し、幾つかの落下制御体１３の幅寸法を狭くし、落下制御体１３の数、つまり投入口の数を増やした構成例である。
また複数設けられる落下制御体１３は、必ずしも同じ幅寸法に形成される必要はなく、複数の落下制御体１３のなかに、幅寸法が異なるものがあっても構わない。すなわち図５（ｂ）は、図５（ａ）に対し、幾つかの落下制御体１３の幅寸法を狭くし、落下制御体１３の数、つまり投入口の数を増やした構成例である。
【符号の説明】
【0043】
１ 分散投入装置（伝導伝熱乾燥機における分散投入装置）
２ 乾燥機（伝導伝熱乾燥機）
１１ 分散コンベヤ（コンベヤ）
１２ シュート
１３ 落下制御体（１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃ・・）
１４ 排出口
１５ 投入経路
１５ａ 分割投入経路
１６ 点検蓋
２１ 本体シェル
２２ 回転伝熱部（管束）
２３ 回転軸
２４ エンドプレート
２５ 加熱管
２６ リフタ
２８ 排出口
２９ 受入口部（材料受入口部）
１１１ 回転軸
１１２ 羽根
１１３ シュート
１３１ ダンパ板
１３１ａ プレート部（水平なプレート部）
１３１ｂ プレート部（垂直なプレート部）
１３１ｃ プレート部（立壁状のプレート部）
１３２ 駆動シフタ
１３３ レール
１３４ コロ（車輪）
１３５ 固定板
１３６ 境界板
１３７ 掻き落し体
Ｃ コンベヤ
Ｄ 排出ダンパ
Ｖ バルブ
Ｗ 被処理物（材料）
２ 乾燥機（伝導伝熱乾燥機）
１１ 分散コンベヤ（コンベヤ）
１２ シュート
１３ 落下制御体（１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃ・・）
１４ 排出口
１５ 投入経路
１５ａ 分割投入経路
１６ 点検蓋
２１ 本体シェル
２２ 回転伝熱部（管束）
２３ 回転軸
２４ エンドプレート
２５ 加熱管
２６ リフタ
２８ 排出口
２９ 受入口部（材料受入口部）
１１１ 回転軸
１１２ 羽根
１１３ シュート
１３１ ダンパ板
１３１ａ プレート部（水平なプレート部）
１３１ｂ プレート部（垂直なプレート部）
１３１ｃ プレート部（立壁状のプレート部）
１３２ 駆動シフタ
１３３ レール
１３４ コロ（車輪）
１３５ 固定板
１３６ 境界板
１３７ 掻き落し体
Ｃ コンベヤ
Ｄ 排出ダンパ
Ｖ バルブ
Ｗ 被処理物（材料）
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】