特開2022-96627フォトレジスト下層組成物及びパターン形成方法

発明の名称　フォトレジスト下層組成物及びパターン形成方法

出願人　ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー．　（識別番号 591016862）

　　　　特許公開件数ランキング 1605 位（14件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 1593 位（11件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2022-96627

公報発行日　2022年6月29

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2022-96627

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