特開 2022-99785 調光フィルム、調光装置、スクリーンおよび調光フィルムの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022099785

(43)【公開日】2022-07-05

(54)【発明の名称】調光フィルム、調光装置、スクリーンおよび調光フィルムの製造方法

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/13 20060101AFI20220628BHJP

   G02F 1/1339 20060101ALI20220628BHJP

   G02F 1/1334 20060101ALI20220628BHJP

【ＦＩ】

G02F1/13 505

G02F1/13 101

G02F1/1339 500

G02F1/1334

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2020213781

(22)【出願日】2020-12-23

(71)【出願人】

【識別番号】000003193

【氏名又は名称】凸版印刷株式会社

(72)【発明者】

【氏名】森永 かおり

(72)【発明者】

【氏名】矢野 勇士

(72)【発明者】

【氏名】塩谷 泰佑

【テーマコード（参考）】

2H088

2H189

【Ｆターム（参考）】

2H088EA33

2H088FA02

2H088FA09

2H088GA02

2H088GA03

2H088GA04

2H088GA06

2H088GA10

2H088HA01

2H088HA02

2H088HA03

2H088HA06

2H088JA05

2H088JA10

2H088JA11

2H088MA01

2H189AA04

2H189DA04

2H189DA49

2H189FA06

2H189FA22

2H189JA05

2H189JA10

2H189JA12

2H189JA14

2H189LA01

2H189LA03

2H189LA05

2H189LA09

2H189MA15

(57)【要約】

【課題】スペーサ起因の、透明な状態におけるヘイズ値の増加や、不透明な状態におけるヘイズ値の低下を回避した調光フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材１上に透明導電膜２を形成した一対の透明導電フィルムの透明導電膜を内側にして液晶材料を含む調光層３を挟み込む様に積層して得た調光フィルムであって、調光層の厚さを一定に保持するスペーサ４の調光層の体積に占める比率が０．５％未満であり、調光層の厚さを、調光層を１００等分した各区画内の１点の測定値から得られる、不偏分散の平方根と平均値から不変分散の平方根÷平均値として算出される変動係数が１０％以下である事を特徴とする調光フィルム１０。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

透明基材上に透明導電膜を形成した一対の透明導電フィルムの透明導電膜を内側にして液晶材料を含む調光層を挟み込む様に積層して得た調光フィルムであって、
前記調光層の厚さを一定に保持するスペーサの体積の、前記調光層の体積に占める比率が０．５％未満であり、
前記調光層を１００等分した各区画内の前記調光層の厚さに関する１００個の測定値から得られる、不偏分散の平方根と平均値を使用して、不変分散の平方根÷平均値として算出される変動係数が１０％以下である事を特徴とする調光フィルム。

【請求項2】

前記調光層が、液晶材料とポリマーネットワークのみからなる事を特徴とする請求項１に記載の調光フィルム。

【請求項3】

請求項１または２に記載の調光フィルムと、前記調光フィルムに駆動電圧を供給する交流電源と、該交流電源から供給される交流電圧を前記調光フィルムに供給するか否かを切り換えるスイッチと、を備えている事を特徴とする調光装置。

【請求項4】

請求項３に記載の調光装置を使用した事を特徴とする投影画像を投影するスクリーン。

【請求項5】

請求項１または２に記載の調光フィルムの製造方法であって、
前記透明導電フィルムを形成した前記透明導電フィルムの透明導電膜上に、前記調光層となる前記液晶材料を塗布する工程と、
塗布された前記液晶材料の上に、透明導電膜側を向けて前記透明導電フィルムを積層する工程と、を備えており、
前記塗布装置が、ダイコータまたはマイクログラビアコータである事を特徴とする調光フィルムの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、液晶材料を含んだ調光層を備える調光フィルムに関する。

【背景技術】

【0002】

調光フィルムは、少なくとも、液晶材料からなる層や液晶材料を高分子材料の中に分散した層からなる調光層を、透明基材上に透明導電膜を形成した透明導電フィルムの透明導電膜側を内側にして積層した積層体である。調光フィルムの一対の透明導電膜からなる透明電極間に印加する交流電圧を変化させる事により、調光層を構成する液晶材料の配向状態を変化させる事により、光の透過量を変化させる光学的なデバイス（光学素子）である。

【0003】

調光層の具体的な構成としては、例えば、液晶材料層（以後、単に液晶層と記す。）としてツイストネマティック液晶（ＴＮ液晶）を用い、その液晶層を透明導電フィルムの透明電極側を内側にして積層した積層体を作製する。その積層体の表裏面に直線偏光層を積層する事により作製した調光フィルムが知られている（例えば、特許文献１参照）。

【0004】

また、調光層として、液晶材料を高分子材料の中に分散した高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）を使用した調光フィルムも知られている。高分子分散型液晶の場合は、偏光層は不要であり、印加する交流電圧のＯＮ／ＯＦＦにより光の散乱状態を変化させる事で、透明／不透明の切り替えを可能にしている。

【0005】

これらの調光フィルムの調光層の厚さを一定に保持する為、スペーサが使用されている。スペーサには、通常、スペーサ粒子が使用されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特許第６４８９２７２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

このスペーサは、調光層の厚さを一定に保持する機能を発揮する一方で、調光フィルムの光学特性の劣化の原因にもなっている。具体的には、スペーサが存在する事により、調光フィルムを透明な状態にした時に、ヘイズ値（曇り状態を表す指標で、ヘイズ値が高い（大きい）程、曇りの度合いが強くなる。）が高くなる問題の原因となっている。即ち、スペーサが形成されている事で、光が散乱して曇り状態が発生している。また、調光フィルムを不透明な状態にした時に、スペーサが存在する事により、調光層が無い部分が形成される為、その部分は透明なままとなる事によりヘイズ値が低下する。

【0008】

上記の事情に鑑み、スペーサ起因の、透明な状態におけるヘイズ値の増加や、不透明な状態におけるヘイズ値の低下を回避した調光フィルムを提供する事を課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

上記の課題を解決する手段として、本発明の第一の態様は、透明基材上に透明導電膜を形成した一対の透明導電フィルムの透明導電膜を内側にして液晶材料を含む調光層を挟み込む様に積層して得た調光フィルムであって、
調光層の厚さを一定に保持するスペーサの体積の調光層の体積に占める比率が０．５％
未満であり、
調光層を１００等分した各区画内の調光層の厚さに関する１００個の測定値から得られる、不偏分散の平方根と平均値を使用して、不変分散の平方根÷平均値として算出される変動係数が１０％以下である事を特徴とする調光フィルムである。

【0010】

また、前記調光層が、液晶材料とポリマーネットワークのみからなる事を特徴とすることが好ましい。

【0011】

また、前記調光フィルムと、前記調光フィルムに駆動電圧を供給する交流電源と、該交流電源から供給される交流電圧を前記調光フィルムに供給するか否かを切り換えるスイッチと、を備えている事を特徴とする調光装置であることが好ましい。

【0012】

また、前記調光装置を使用した事を特徴とする投影画像を投影するスクリーンであることが好ましい。

【0013】

また、前記調光フィルムの製造方法であって、
前記透明導電フィルムを形成した前記透明導電フィルムの透明導電膜上に、前記調光層となる前記液晶材料を塗布する工程と、
塗布された液晶材料の上に、前記透明導電フィルムの透明導電膜側を向けて積層する工程と、を備えており、
前記塗布装置が、ダイコータまたはマイクログラビアコータである事を特徴とすることが好ましい。

【発明の効果】

【0014】

本発明の調光フィルムによれば、調光層の体積に占めるスペーサの体積比率が０．５％未満であって、且つ調光層の厚さの変動状態を表す変動係数が１０％以下である。スペーサは、一対の調光フィルムの透明導電膜間に調光層に含まれる球状の支持体である。調光層の体積に占めるスペーサの体積比率が０．５％未満であれば、調光フィルムを正面から見た時に、調光フィルムの調光層の有効面積に対するスペーサの専有面積の比率も非常に小さな専有面積比率となる。その為、透明な状態においては、スペーサが無い調光フィルムと同等のより低いヘイズ値を備え、また不透明な状態においては、スペーサがない調光フィルムと同等のより高いヘイズ値を備えた調光フィルムを提供できることを見出した。

【0015】

また、本発明の調光装置によれば、本発明の調光フィルムを使用している為、透明な状態においてはより低いヘイズ値を備え、また不透明な状態においてはより高いヘイズ値を備えた調光装置を提供する事ができる。

【0016】

また、本発明のスクリーンによれば、本発明の調光装置を使用している為、透明な状態においてはより低いヘイズ値を備え、また不透明な状態においてはより高いヘイズ値を備えたスクリーンを提供する事ができる。

【0017】

また、本発明の調光フィルムの製造方法によれば、調光層の体積に占めるスペーサの体積比率が０．５％未満であっても、調光層の厚さの変動状態を表す変動係数が１０％以下の膜厚を備える調光フィルムを提供可能とする事ができる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】本発明の調光フィルムの一例を示す断面説明図。

【図2】本発明の調光フィルムを上面から透視した場合の上面透視図であって、透明導電膜上に形成されたスペーサの形成状況の一例を示している。

【発明を実施するための形態】

【0019】

＜調光フィルム＞
本発明の調光フィルムについて、図１と図２を用いて説明する。
図１は、本発明の調光フィルム１０の一部を例示する断面説明図である。
図２は、本発明の調光フィルム１０の一部を例示する上面説明図である。

【0020】

本発明の調光フィルム１０は、透明基材１上に透明導電膜２を形成した一対の透明導電フィルム５の透明導電膜２側を内側にして、液晶材料を含む調光層３を積層した積層体からなる調光フィルムである（図１参照）。

【0021】

調光層３の中には、調光層３の厚さを一定に保持するスペーサ４が、ある一定の割合より少ない状態で均一にばらまかれた状態で存在する（図２参照）。
本発明の調光フィルム１０においては、調光層３の体積に占めるスペーサ４の体積比率が０．５％未満である。
この様に低密度である事により、調光層３が透明時である時のヘイズ値の増加を抑える事ができる。また、調光層３が不透明時である時のヘイズ値の低下を抑える事が可能となる。

【0022】

且つ、調光層３を１００等分した各区画内の調光層３の厚さに関する１００個の測定値から得られる、不偏分散の平方根と平均値を使用して、不変分散の平方根÷平均値として算出される変動係数が１０％以下である。
調光層３の厚さの変動係数を１０％以下にする事で、ムラの発生を抑制する事が可能となる。

【0023】

（スペーサ）
本発明におけるスペーサ４としては、従来の液晶表示装置で使用されて来た粒子状のスペーサ粒子を好適に用いることができる。本発明においては、調光層３を塗工して形成する際に使用される塗工液に均一分散させておき、調光層３を塗工した段階で、調光層３に均一に分散したスペーサ４が配置された状態で塗工される。
スペーサ４の材料としては、特に限定する必要は無く、シリカからなるスペーサ粒子であっても、樹脂からなるスペーサ粒子であっても構わない。

【0024】

（変動係数）
ここで変動係数とは、調光層３の厚さの均一性を表す指標である。調光フィルム１０の全域を１００等分し、各区画内において調光層３の厚さの測定を行う場合、個々の測定値をｘｉとすると、下記の式（１）と式（２）から、厚さの不偏分散の平方根ｓと、厚さの測定値の平均値ａを算出する事ができる。変動係数は、ｓ÷ａによって算出する事ができる。

【数1】

【数2】

【0025】

変動係数が１０％を超えると、調光層３の膜厚バラツキが大きくなる為、調光フィルム１０のムラが無視できなくなる。その為、変動係数は１０％（または、０．１）以下にする必要がある。

【0026】

調光層３の厚さは、破壊的な測定方法と非破壊的な測定方法のいずれかを用いて測定する事ができる。破壊的な測定方法としては、調光フィルム１０の断面を露出させる事によって、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）などの観察、測定手段を用いて測定する方法が挙げられる。また、非破壊的な測定方法としては、光学的な測定方法や超音波を用いた測定方法などを挙げる事ができる。例えば、光学的な測定方法は、レーザー光を調光フィルムに照
射する事で、透明導電フィルム５の透明導電膜２と調光層３の２つの界面で反射されたレーザー光を測定し、それらのレーザー光が反射されてくるまでの時間差から調光層３の厚さを測定する事ができる。また、超音波を用いる方法も同様に、超音波を調光フィルムに与えた時に、２つの界面で反射された超音波を測定し、それらの超音波が反射されてくるまでの時間差から調光層３の膜厚を測定する事ができる。

【0027】

調光層３の体積に占めるスペーサ４の体積比率が０．５％未満であっても、測定から得られた調光層３の厚さの変動係数が０．１を超えると、スペーサ４による厚さの均一化が不十分となる。その為、調光層３の厚さにバラツキが多くなり、ムラが発生し易くなる。
また、測定から得られた調光層３の厚さの変動係数が０．１未満であっても、調光層３の体積に占めるスペーサ４の体積比率が０．５％以上となると、光の散乱が増え、ヘイズ値が上昇する。

【0028】

（透明導電フィルム）
透明導電フィルム５は、透明基材１の片面に透明導電膜２を形成したフィルムである。透明導電膜２の一部は、外部の交流電源から交流電圧を給電するための給電電極（図示省略）となっている。

【0029】

（透明基材）
透明基材１は、透明で電気的な絶縁材料であれば特に限定する必要は無い。例えば、透明な樹脂フィルムや樹脂シートを好適に使用する事ができる。また、樹脂に限らず、ガラスフィルムやガラス板を使用する事も可能である。更に、それらの複合材料を使用しても良い。例えば、透明樹脂フィルムや透明樹脂シートと極薄ガラスを、接着層を介して積層したものであっても良い。

【0030】

（透明導電膜）
透明導電膜２は、体積抵抗率が１×１０^－３Ω×ｃｍより小さな値を持ち、可視光線の波長範囲（３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）で光透過率が概ね８０％以上の値をもっている透明導電膜であれば、好適に使用する事ができる。この様な透明導電膜としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、錫を添加した酸化インジウム）をはじめ、酸化錫、アルミニウムを添加した酸化亜鉛、などを挙げる事ができる。これらの透明導電膜は主に、直流マグネトロンスパッタ装置を使用した反応性スパッタリング法を用いて作製されるが、これに限定する必要は無く、真空蒸着法、イオンプレーティング法、各種のＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、化学気相成長法）法などを使用して作製しても良い。また、電極形成の為の透明導電膜のパターニング方法としては、成膜時に不要部に膜が付かない様にマスクをかけて成膜する方法や、成膜後にフォトリソ法にてパターニングする方法や、逆に成膜前に感光性樹脂をパターニングして、成膜しない部分をマスクした後、成膜し、感光性樹脂パターンを剥離除去するリフトオフ法を使用することができる。

【0031】

（調光層）
調光層３は、例えば、ポリマーネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ）であり、液晶分子と、三次元の網目状に形成された樹脂からなるポリマーネットワークとを含み、ポリマーネットワークが有する空隙に液晶分子が保持されている。調光層３は、ポリマー分散型液晶（ＰＤＬＣ）など、他の構造であってもよい。

【0032】

液晶分子には、ネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶などの従来公知の液晶分子を用いることができる。中でも、低電圧での駆動ならびに散乱特性などを考慮すると、誘電率の異方性が高く、屈折率の異方性の大きいものが好ましい。液晶分子は、ポリマーネットワークを形成する重合反応に供するエチレン基などの官能基を有してい
てもよい。

【0033】

調光層３は、ノーマルモードとリバースモードのいずれであってもよい。ノーマルモードの調光層３は、電圧印加（ＯＮ）により透過状態となり、電圧除去（ＯＦＦ）により散乱状態となる。リバースモードの調光層３は、電圧除去（ＯＦＦ）により透過状態となり、電圧印加（ＯＮ）により散乱状態となる。

【0034】

調光フィルム１０にリバースモードの調光層３を用いる場合は、調光フィルム１０は各透明導電膜２と調光層３との間に配向膜を有する。配向膜は、液晶層の配向方式（ＴＮ方式、ＶＡ方式、ＩＰＳ方式、ＯＣＢ方式など）に応じて、電圧除去（ＯＦＦ）時に透過状態を呈する分子配向となるものが選定され、従来公知の水平配向膜，垂直配向膜のいずれかの配向膜が用いられる。

【0035】

リバースモードのＰＮＬＣによる調光層３を具備する調光フィルムの製造にあたっては、液晶と光重合性化合物（モノマー）との混合物を一対の透明導電フィルム５（透明基材１に透明導電膜２、配向層（不図示）が積層されてなる）の間に挟む。次いで、一定の条件下で紫外線を照射することにより、光重合によって液晶中の光重合性化合物を高分子に変化させる。光重合および架橋結合により、微細なドメイン（高分子の空隙）を無数に有するポリマーネットワークが液晶中に形成される。一方、ノーマルモードの調光フィルムの製造にあたっては、透明基材１に透明導電膜２と配向層とが積層されてなる透明導電フィルム５に代えて、透明基材１に透明導電２が積層されて配向層が積層されていない透明導電フィルム５が用いられて、同様の手順によってなされる。

【0036】

調光層３には、スペーサ４が含まれていても良い。スペーサ４を導入することにより、調光層３の厚さをある程度均一に保つことが可能となる。しかしながら、透明時のヘイズ値の増加や不透明時のヘイズ値の低下を防ぐ為、スペーサ４の体積が、調光層３の体積に占める体積占有比率は０．５％未満である事が必要となる。同時に、ムラを防ぐ為、膜厚は上述した変動係数で１０％以下である事が必要である。

【0037】

なお、調光層３には、スペーサ４が含まれていないことが好ましい。換言するとスペーサ４の体積の、調光層３の体積に占める体積占有比率が０．０％である事が好ましい。この場合には、調光層３の厚さを均一に形成する為、ダイコータやマイクログラビアコータなどの、塗工膜厚の均一性が高い塗工装置を使用して、調光層３の塗工を行う必要がある。調光層３の膜厚の均一性は、上述した変動係数が１０％（または０．１）以下である事が必要である。

【実施例0038】

次に、本発明の実施例について説明する。

【0039】

＜実施例１＞
ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ
Ｏｘｉｄｅ）薄膜を約１００ｎｍの厚さで形成した第１透明導電フィルムを基材として、塗液１を膜厚が１５μｍとなる様に、塗工装置としてダイコータを用いて塗工する事により、調光層を形成した。その後、ラミネータを用いて、第１透明導電フィルムと同じ仕様の第２透明導電フィルムのＩＴＯ薄膜側を調光層に面して貼り合わせた後、紫外線照射により、調光フィルムを得た。更に、この調光フィルムに透明導電膜からの取り出し電極を取り付け、切替器を接続する事により、調光装置を得た。塗工液にはスペーサを含ませていない。
（塗工液１の組成）
樹脂 ５０重量部
重合開始剤（ＢＡＳＦ社のＩｒｇ．１８４） ３重量部
液晶（Ｍｅｒｃｋ社製） ４７重量部

【0040】

＜実施例２＞
塗工装置として、マイクログラビアコータを使用した事以外、実施例１と同様にして、調光フィルムと調光装置を得た。

【0041】

＜比較例１＞
塗工液としてスペーサを含む塗工液２を使用した事以外、実施例１と同様にして、調光フィルムと調光装置を得た。
（塗工液２の組成）
樹脂 ５０重量部
スペーサ（積水化学社のＳＰ－２１５） ３重量部
重合開始剤（ＢＡＳＦ社のＩｒｇ．１８４） ３重量部
液晶（Ｍｅｒｃｋ社製） ４７重量部

【0042】

＜比較例２＞
ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ
Ｏｘｉｄｅ）薄膜を約１００ｎｍの厚さで形成した第１透明導電フィルムを基材として、スペーサを含まない塗工液１を、設計上、膜厚が１５μｍになる量だけ滴下した後、ラミネータを用いて所定の圧力で、第１透明導電フィルムと同じ仕様の第２透明導電フィルムのＩＴＯ薄膜側を調光層に面して貼り合わせた後、紫外線照射により、調光フィルムを得た。更に、この調光フィルムに透明導電膜からの取り出し電極を取り付け、切替器を接続する事により、調光装置を得た。

【0043】

＜比較例３＞
塗工液としてスペーサを含む塗工液３を用いた事以外、比較例２と同様にして、調光フィルムと調光装置を得た。
（塗工液３の組成）
樹脂 ５０重量部
スペーサ（積水化学社のＳＰ－２１５） １重量部
重合開始剤（ＢＡＳＦ社のＩｒｇ．１８４） ３重量部
液晶（Ｍｅｒｃｋ社製） ４７重量部

【0044】

＜比較例４＞
塗工液としてスペーサを含む塗工液２を用いた事以外、比較例３と同様にして、調光フィルムと調光装置を得た。

【0045】

＜比較例５＞
塗工液としてスペーサを含む塗工液４を用いた事以外、比較例３と同様にして、調光フィルムと調光装置を得た。
（塗工液４の組成）
樹脂 ５０重量部
スペーサ（積水化学社のＳＰ－２１５） １０重量部
重合開始剤 ３重量部
液晶 ４７重量部

【0046】

＜評価＞
１．スペーサの占有体積比率の測定
実施例１～２および比較例１～５で作製した調光フィルムの調光層を、光学顕微鏡にて観察し、１ｍｍ^３に相当する領域に存在するスペーサの個数をカウントした。使用した球
状のスペーサ（積水化学社のＳＰ－２１５）の平均粒径（１５μｍ）を使用して、１個のスペーサの体積を算出し、検出されたスペーサの個数を乗じて、スペーサの体積を算出した。その体積を１ｍｍ３で割る事により、スペーサ占有体積比率を算出した。

【0047】

２．調光層の厚さの変動係数
実施例１～２および比較例１～５で作製した調光フィルムの調光層を、走査型電子顕微鏡にて、断面観察を行う事により、調光層の厚さを測定した。断面観察を行う測定サンプルは、調光フィルムを均等な大きさの１００個の区画領域（１００等分した区画領域）に区分し、調光フィルムを各区画領域から切り出して、樹脂包埋し、走査型電子顕微鏡を用いた断面観察に使用する研磨処理を行った後、電子顕微鏡観察を行った。この様にして、１００個の調光層の厚さの測定データを取得した。

【0048】

取得した１００個の測定データから、平均値ａと不偏分散の平方根ｓを、式（１）と式（２）から算出し、調光層の厚さの変動係数を、ｓ÷ａによって算出した。

【数3】

【数4】

【0049】

３．ムラの評価
不透明時の調光層の膜厚ムラによるヘイズ値のムラを外観ムラとして目視にて算出した。ムラが観察された場合を×、観察されなかった場合を〇、として評価した。

【0050】

４．ヘイズ値の測定
実施例１～２および比較例１～５で作製した調光フィルムを、ヘイズメータを用いて測定し、不透明時のヘイズ値と、透明時のヘイズ値を測定した。
不透明時のヘイズ値が９５％以上を〇、９５％未満を×、とした。
透明時のヘイズ値が５％未満を〇、５％以上を×、とした。

【0051】

以上の評価結果をまとめて表１に示した。

【0052】

【表1】

【0053】

表１に示した様に、実施例１と２においては、それぞれ、ダイコータとマイクログラビアコータを使用して調光層を塗布した。その為、調光層の厚さの変動係数は、１０％未満となった。その為、スペーサを使用していなくても、膜厚の均一性が確保された為、ムラが観察される事はなかった。また、スペーサを使用していない為、不透明時のヘイズ値は、両者とも９７％と良好であった。また透明時のヘイズ値も、両者とも３％と良好であった。

【0054】

比較例１については、スペーサを３重量部含む塗工液を、ダイコータを使用して塗布する事により調光層を形成した。その為、膜厚の均一性が確保され、ムラが観察される事はなかった。しかしながら、スペーサの占有体積比率が３％であったが、不透明時のヘイズ値は９４％、透明時のヘイズ値は７％となり、両方とも良好では無かった。

【0055】

比較例２については、スペーサを含まない塗工液を、ラミネータを使用して塗布する事により調光層を形成した。その為、膜厚の均一性が確保できず、調光層の厚さの変動係数が２０％となり、ムラが観察された。一方、スペーサの占有体積比率が０％であったため、不透明時のヘイズ値は９６％、透明時のヘイズ値は４％となり、両方とも良好であった。

【0056】

比較例３については、スペーサを含む１重量部含む塗工液を、ラミネータを使用して塗布する事により調光層を形成した。その為、膜厚の均一性が確保できず、調光層の厚さの
変動係数が９％となったが、ムラは観察されなかった。一方、スペーサの占有体積比率が１％であったが、不透明時のヘイズ値は９４％、透明時のヘイズ値は５％となり、両方とも良好ではなかった。この結果から、ヘイズ値を良好にするスペーサの占有体積比率は、０％～１％の間にあり、凡そ０．５％が境界値であると考えられる。

【0057】

比較例４については、スペーサを３重量部含む塗工液を、ラミネータを使用して塗布する事により調光層を形成したが、調光層の厚さの変動係数は５％となり、ムラは観察されなかった。一方、スペーサの占有体積比率が３％であったため、不透明時のヘイズ値は９４％、透明時のヘイズ値は７％となり、両方とも良好ではなかった。

【0058】

比較例５については、スペーサを１０重量部含む塗工液を、ラミネータを使用して塗布する事により調光層を形成したが、調光層の厚さの変動係数は３％となり、ムラは観察されなかった。一方、スペーサの占有体積比率が１０％であったため、不透明時のヘイズ値は９３％、透明時のヘイズ値は８％となり、両方とも良好ではなかった。

【符号の説明】

【0059】

１・・・透明基材
２・・・透明導電膜
３・・・調光層
４・・・スペーサ
１０・・・調光フィルム

【図1】

【図2】