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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023100194
(43)【公開日】2023-07-18
(54)【発明の名称】安全継手
(51)【国際特許分類】
F16L 37/30 20060101AFI20230710BHJP
F16K 1/32 20060101ALN20230710BHJP
【ＦＩ】
F16L37/30
F16K1/32 B
【審査請求】有
【請求項の数】4
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022000701
(22)【出願日】2022-01-05
(71)【出願人】
【識別番号】000151346
【氏名又は名称】株式会社タツノ
(74)【代理人】
【識別番号】110000431
【氏名又は名称】弁理士法人高橋特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】竹澤 正浩
【テーマコード（参考）】
3H052
3J106
【Ｆターム（参考）】
3H052AA01
3H052BA32
3H052CA12
3H052CA24
3H052CB02
3H052CD03
3H052EA01
3H052EA16
3J106AA02
3J106AB01
3J106BA01
3J106BB01
3J106BC12
3J106BE13
3J106CA16
3J106GA03
3J106GA04
3J106GA11
3J106GA23
3J106GB01
3J106GB10
(57)【要約】
【課題】安全継手内の流路を高速で流れる超高圧の水素による安全継手のＯリングが脱落、水素内の異物によるＯリングの破損を防止出来る安全継手の提供。
【解決手段】本発明の安全継手（１００）は、流路（１Ａ、１１Ａ）が形成されたプラグ本体（１、１１）と、弾性体により押圧配置される弁体（２、１２）を有し、弁体は弁座に着脱するテーパ部によって構成される第１のシール手段（２Ｓ１、１２Ｓ１）と、小径部（２Ｃ、１２Ｃ）に設けられる第２のシール手段（２Ｓ２、１２Ｓ２：例えばＯリング）を備え、弁体を包囲する中空形状のカバー部材（５、１５）を有し、弁体のテーパ部が弁座に座着していない場合に第２のシール手段から大径部側の領域の少なくとも一部を包囲する様に構成され、カバー部材の外周部には突起（５Ａ、１５Ａ）が形成され、突起と、カバー部材の外周部と、流路の内周面により水素流路を形成している。
【選択図】図７
【解決手段】本発明の安全継手（１００）は、流路（１Ａ、１１Ａ）が形成されたプラグ本体（１、１１）と、弾性体により押圧配置される弁体（２、１２）を有し、弁体は弁座に着脱するテーパ部によって構成される第１のシール手段（２Ｓ１、１２Ｓ１）と、小径部（２Ｃ、１２Ｃ）に設けられる第２のシール手段（２Ｓ２、１２Ｓ２：例えばＯリング）を備え、弁体を包囲する中空形状のカバー部材（５、１５）を有し、弁体のテーパ部が弁座に座着していない場合に第２のシール手段から大径部側の領域の少なくとも一部を包囲する様に構成され、カバー部材の外周部には突起（５Ａ、１５Ａ）が形成され、突起と、カバー部材の外周部と、流路の内周面により水素流路を形成している。
【選択図】図７
【特許請求の範囲】
【請求項1】
内部に流路が形成された筒状のプラグ本体と、該プラグ本体に同一直線上に弾性体により押圧配置される弁体とを有し、
前記弁体は、大径部と、該大径部の一端に形成されて弁座に当接するテーパ部と、該テーパ部より延在した小径部とを有し、
弁体とプラグ本体は金属製であり、
前記プラグ本体に流路が形成され、当該流路は内径が大きい領域と内径が小さい領域を有し、
前記弁体は、前記プラグ本体に形成された弁座に着脱するテーパ部によって構成される第１のシール手段と、前記小径部に設けられ且つ前記プラグ本体に形成された流路の内径が小さい領域の内壁に着脱する第２のシール手段と備え、
前記流路の内径が大きい領域に配置されて前記弁体を包囲する中空形状のカバー部材を有し、当該カバー部材の中空部には少なくとも弁体の一部が収容され、弁体のテーパ部が弁座に座着していない場合に第２のシール手段から大径部側の領域の少なくとも一部を包囲する様に構成されており、
前記カバー部材の外周部には複数の突起が形成され、隣接する前記突起と、カバー部材の外周部と、流路の内径が大きい領域の内周面により水素流路を形成することを特徴とする安全継手。
前記弁体は、大径部と、該大径部の一端に形成されて弁座に当接するテーパ部と、該テーパ部より延在した小径部とを有し、
弁体とプラグ本体は金属製であり、
前記プラグ本体に流路が形成され、当該流路は内径が大きい領域と内径が小さい領域を有し、
前記弁体は、前記プラグ本体に形成された弁座に着脱するテーパ部によって構成される第１のシール手段と、前記小径部に設けられ且つ前記プラグ本体に形成された流路の内径が小さい領域の内壁に着脱する第２のシール手段と備え、
前記流路の内径が大きい領域に配置されて前記弁体を包囲する中空形状のカバー部材を有し、当該カバー部材の中空部には少なくとも弁体の一部が収容され、弁体のテーパ部が弁座に座着していない場合に第２のシール手段から大径部側の領域の少なくとも一部を包囲する様に構成されており、
前記カバー部材の外周部には複数の突起が形成され、隣接する前記突起と、カバー部材の外周部と、流路の内径が大きい領域の内周面により水素流路を形成することを特徴とする安全継手。
【請求項2】
前記弁体は、
小径部から離隔した側の端部における先端棒状領域と、
段部を介して前記先端棒状領域に連続する前記大径部と前記小径部を有し、当該大径部は円盤状に構成されており、
前記小径部は前記テーパ部を介して円盤状の前記大径部に連続しており且つ大径部よりも外径寸法は小さく、
前記大径部の外径寸法は前記流路の内径が小さい領域の内径よりも大きく、前記小径部は前記流路の内径が小さい領域に侵入可能である請求項１の安全継手。
小径部から離隔した側の端部における先端棒状領域と、
段部を介して前記先端棒状領域に連続する前記大径部と前記小径部を有し、当該大径部は円盤状に構成されており、
前記小径部は前記テーパ部を介して円盤状の前記大径部に連続しており且つ大径部よりも外径寸法は小さく、
前記大径部の外径寸法は前記流路の内径が小さい領域の内径よりも大きく、前記小径部は前記流路の内径が小さい領域に侵入可能である請求項１の安全継手。
【請求項3】
前記カバー部材の中空部は、前記流路の内径が小さい領域側に形成された内径寸法が大きい領域と、前記流路の内径が大きい領域側に形成された内径寸法が小さい領域を有し、
前記弁体は前記カバー部材の中空部における内径寸法が大きい領域に侵入可能であり、前記弁体の前記円板状の大径部は前記カバー部材の中空部における内径寸法が小さい領域の内径には侵入することが出来ず、前記弁体の前記先端棒状領域は前記カバー部材の中空部における内径寸法が小さい領域の内径に侵入可能である請求項１、２の何れかの安全継手。
前記弁体は前記カバー部材の中空部における内径寸法が大きい領域に侵入可能であり、前記弁体の前記円板状の大径部は前記カバー部材の中空部における内径寸法が小さい領域の内径には侵入することが出来ず、前記弁体の前記先端棒状領域は前記カバー部材の中空部における内径寸法が小さい領域の内径に侵入可能である請求項１、２の何れかの安全継手。
【請求項4】
内部に流路が形成された筒状のプラグ本体と、該プラグ本体に同一直線上に弾性体により押圧配置される弁体とを有し、
前記弁体は、大径部と、該大径部の一端に形成されて弁座に当接するテーパ部と、該テーパ部より延在した小径部とを有し、
弁体とプラグ本体は金属製であり、
前記プラグ本体に流路が形成され、当該流路は内径が大きい領域と内径が小さい領域を有し、
前記弁体は、前記プラグ本体に形成された弁座に着脱するテーパ部によって構成される第１のシール手段を有し、
前記流路の内径が小さい領域の内壁には凹部が形成され、当該凹部には第２のシール手段が収容されており、且つ、前記流路の内径が小さい側の内壁面を摺動して前記凹部を開放し或いは遮断するシャッター部材を設けていることを特徴とする安全継手。
前記弁体は、大径部と、該大径部の一端に形成されて弁座に当接するテーパ部と、該テーパ部より延在した小径部とを有し、
弁体とプラグ本体は金属製であり、
前記プラグ本体に流路が形成され、当該流路は内径が大きい領域と内径が小さい領域を有し、
前記弁体は、前記プラグ本体に形成された弁座に着脱するテーパ部によって構成される第１のシール手段を有し、
前記流路の内径が小さい領域の内壁には凹部が形成され、当該凹部には第２のシール手段が収容されており、且つ、前記流路の内径が小さい側の内壁面を摺動して前記凹部を開放し或いは遮断するシャッター部材を設けていることを特徴とする安全継手。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、燃料（例えば水素ガス）を供給する燃料供給装置（例えば、水素ガス充填装置）で用いられる管継手であって、緊急時に燃料供給装置と充填用ホースとを分離する機能を有する安全継手に関する。
【背景技術】
【0002】
近年の環境問題意識の高まりに同調して、水素ガスを燃料に用いた燃料電池自動車、水素自動車等と、その様な車両の車載タンクに対して安定して効率良くガス燃料を充填する水素充填装置が普及している。その様な水素充填装置においては、水素充填中に車両の急発進や車両の衝突等の予期せぬ事象が生じた際に、充填装置側ホース部と車両側ホース部を確実に且つ安全に分離する安全継手が必要である。
出願人は、その様な安全継手として、低圧から高圧までの全圧力域においてシール性を向上した弁体を備えた安全継手であって、内部に流路が形成された筒状のプラグ本体と、該プラグ本体に同一直線上に弾性体により押圧配置される弁体（プラグ本体内の流路中に配置され、弾性材によりプラグ本体に形成された弁座に押圧される弁体）とより構成され、前記弁体は、前記プラグ本体に形成された弁座に着脱する第１のシール手段（弁体のテーパ部）と、前記プラグ本体に形成された流路に接する第２のシール手段（例えばＯリング）と備える安全継手を提案している（特許文献１参照）。
出願人は、その様な安全継手として、低圧から高圧までの全圧力域においてシール性を向上した弁体を備えた安全継手であって、内部に流路が形成された筒状のプラグ本体と、該プラグ本体に同一直線上に弾性体により押圧配置される弁体（プラグ本体内の流路中に配置され、弾性材によりプラグ本体に形成された弁座に押圧される弁体）とより構成され、前記弁体は、前記プラグ本体に形成された弁座に着脱する第１のシール手段（弁体のテーパ部）と、前記プラグ本体に形成された流路に接する第２のシール手段（例えばＯリング）と備える安全継手を提案している（特許文献１参照）。
【0003】
係る安全継手（特許文献１）は有益であるが、充填時には超高圧の水素が高速で安全継手内の流路を流れるため、プラグ本体内の弁体において第２のシール手段を構成するＯリングが脱落するおそれが存在することが判明した。
また、充填するべき水素中に仮に異物が混入していた場合には、当該異物が前記Ｏリングに接触して、前記Ｏリングを破損する恐れが存在することも判明した。
しかし、前記安全継手（特許文献１の安全継手）が新しい技術であるため、上述したＯリングの脱落や破損を防止するための技術については、現状では提案されていない。
また、充填するべき水素中に仮に異物が混入していた場合には、当該異物が前記Ｏリングに接触して、前記Ｏリングを破損する恐れが存在することも判明した。
しかし、前記安全継手（特許文献１の安全継手）が新しい技術であるため、上述したＯリングの脱落や破損を防止するための技術については、現状では提案されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０２１－１０１１１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みて提案されたものであり、安全継手内の流路を高速で流れる超高圧の水素により安全継手のＯリングが脱落することを防止すると共に、仮に水素内に異物が混入していた場合に当該異物がＯリングに接触してＯリングを破損することを防止出来る安全継手の提供を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の安全継手（１００）は、
内部に流路（１Ａ、１１Ａ）が形成された筒状のプラグ本体（１、１１）と、該プラグ本体（１、１１）に同一直線上に弾性体（３、１３）により押圧配置される弁体（２、１２：プラグ本体１、１１内の流路中に配置され、弾性材３、１３によりプラグ本体１、１１に形成された弁座１Ｂ、１１Ｂに押圧される弁体）とを有し、
前記弁体（２、１２）は、大径部（２Ａ、１２Ａ）と、該大径部（２Ａ、１２Ａ）の一端に形成されて弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に当接するテーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）と、該テーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）より延在した小径部（２Ｃ、１２Ｃ）とを有し、
弁体（２、１２）とプラグ本体（１、１１）は金属製であり、
前記プラグ本体（１、１１）に流路（１Ａ、１１Ａ）が形成され、当該流路（１Ａ、１１Ａ）は内径が大きい領域（１Ａ－２、１１Ａ－２）と内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）を有し、
前記弁体（２、１２）は、前記プラグ本体（１、１１）に形成された弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に着脱するテーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）によって構成される第１のシール手段（２Ｓ１、１２Ｓ１：弁体のテーパ部２Ｂ、１２Ｂ）と、前記小径部（２Ｃ、１２Ｃ）に設けられ且つ前記プラグ本体（１、１１）に形成された流路（１Ａ、１１Ａ）の内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）の内壁に着脱する第２のシール手段（２Ｓ２、１２Ｓ２：例えばＯリング４、１４）と備え、
前記流路の内径が大きい領域（１Ａ－２、１１Ａ－２）に配置されて前記弁体（２、１２）を包囲する中空形状のカバー部材（５、１５）を有し、当該カバー部材（５、１５）の中空部（５Ｃ、１５Ｃ）には少なくとも弁体（２、１２）の一部が収容され、弁体（２、１２）のテーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）が弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に座着していない場合に第２のシール手段（２Ｓ２、１２Ｓ２：例えばＯリング４、１４）から大径部側の領域の少なくとも一部を包囲する様に構成されており、
前記カバー部材（５、１５）の外周部には複数の突起（５Ａ、１５Ａ：ガイド或いはフィン）が形成され、隣接する前記突起（５Ａ、１５Ａ）と、カバー部材（５、１５）の外周部（５Ｂ、１５Ｂ）と、流路の内径が大きい領域（１Ａ－２、１１Ａ－２）の内周面により水素流路を形成することを特徴としている。
内部に流路（１Ａ、１１Ａ）が形成された筒状のプラグ本体（１、１１）と、該プラグ本体（１、１１）に同一直線上に弾性体（３、１３）により押圧配置される弁体（２、１２：プラグ本体１、１１内の流路中に配置され、弾性材３、１３によりプラグ本体１、１１に形成された弁座１Ｂ、１１Ｂに押圧される弁体）とを有し、
前記弁体（２、１２）は、大径部（２Ａ、１２Ａ）と、該大径部（２Ａ、１２Ａ）の一端に形成されて弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に当接するテーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）と、該テーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）より延在した小径部（２Ｃ、１２Ｃ）とを有し、
弁体（２、１２）とプラグ本体（１、１１）は金属製であり、
前記プラグ本体（１、１１）に流路（１Ａ、１１Ａ）が形成され、当該流路（１Ａ、１１Ａ）は内径が大きい領域（１Ａ－２、１１Ａ－２）と内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）を有し、
前記弁体（２、１２）は、前記プラグ本体（１、１１）に形成された弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に着脱するテーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）によって構成される第１のシール手段（２Ｓ１、１２Ｓ１：弁体のテーパ部２Ｂ、１２Ｂ）と、前記小径部（２Ｃ、１２Ｃ）に設けられ且つ前記プラグ本体（１、１１）に形成された流路（１Ａ、１１Ａ）の内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）の内壁に着脱する第２のシール手段（２Ｓ２、１２Ｓ２：例えばＯリング４、１４）と備え、
前記流路の内径が大きい領域（１Ａ－２、１１Ａ－２）に配置されて前記弁体（２、１２）を包囲する中空形状のカバー部材（５、１５）を有し、当該カバー部材（５、１５）の中空部（５Ｃ、１５Ｃ）には少なくとも弁体（２、１２）の一部が収容され、弁体（２、１２）のテーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）が弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に座着していない場合に第２のシール手段（２Ｓ２、１２Ｓ２：例えばＯリング４、１４）から大径部側の領域の少なくとも一部を包囲する様に構成されており、
前記カバー部材（５、１５）の外周部には複数の突起（５Ａ、１５Ａ：ガイド或いはフィン）が形成され、隣接する前記突起（５Ａ、１５Ａ）と、カバー部材（５、１５）の外周部（５Ｂ、１５Ｂ）と、流路の内径が大きい領域（１Ａ－２、１１Ａ－２）の内周面により水素流路を形成することを特徴としている。
【0007】
本発明の安全継手（１００）において、前記弁体（２、１２）は、
小径部（２Ｃ、１２Ｃ）から離隔した側の端部（先端側）における先端棒状領域（２Ｄ、１２Ｄ）と、
段部を介して前記先端棒状領域（２Ｄ、１２Ｄ）に連続する前記大径部（２Ａ、１２Ａ）と前記小径部（２Ｃ、１２Ｃ）を有し、当該大径部（２Ａ、１２Ａ）は円盤状に構成されており、
前記小径部（２Ｃ、１２Ｃ）は前記テーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）を介して円盤状の前記大径部（２Ａ、１２Ａ）に連続しており且つ大径部（２Ａ、１２Ａ）よりも外径寸法は小さく、
前記大径部（２Ａ、１２Ａ）の外径寸法は前記流路の内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）の内径よりも大きく、前記小径部（２Ｃ、１２Ｃ）は前記流路の内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）に侵入可能であるのが好ましい。
また本発明において、前記カバー部材（５、１５）の中空部（５Ｃ、１５Ｃ）は、前記流路の内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）側に形成された内径寸法が大きい領域（５Ｃ－１、１５Ｃ－１）と、前記流路の内径が大きい領域（１Ａ－２、１１Ａ－２）側に形成された内径寸法が小さい領域（５Ｃ－２、１５Ｃ－２）を有し、
前記弁体（２、１２）は前記カバー部材（５、１５）の中空部（５Ｃ、１５Ｃ）における内径寸法が大きい領域（５Ｃ－１、１５Ｃ－１）に侵入可能であり、前記弁体（２、１２）の前記円板状の大径部（２Ａ、１２Ａ）は前記カバー部材（５、１５）の中空部（５Ｃ、１５Ｃ）における内径寸法が小さい領域（５Ｃ－２、１５Ｃ－２）の内径には侵入することが出来ず、前記弁体（２、１２）の前記先端棒状領域（２Ｄ、１２Ｄ）は前記カバー部材（５、１５）の中空部における内径寸法が小さい領域（５Ｃ－２、１５Ｃ－２）の内径に侵入可能であるのが好ましい。
小径部（２Ｃ、１２Ｃ）から離隔した側の端部（先端側）における先端棒状領域（２Ｄ、１２Ｄ）と、
段部を介して前記先端棒状領域（２Ｄ、１２Ｄ）に連続する前記大径部（２Ａ、１２Ａ）と前記小径部（２Ｃ、１２Ｃ）を有し、当該大径部（２Ａ、１２Ａ）は円盤状に構成されており、
前記小径部（２Ｃ、１２Ｃ）は前記テーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）を介して円盤状の前記大径部（２Ａ、１２Ａ）に連続しており且つ大径部（２Ａ、１２Ａ）よりも外径寸法は小さく、
前記大径部（２Ａ、１２Ａ）の外径寸法は前記流路の内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）の内径よりも大きく、前記小径部（２Ｃ、１２Ｃ）は前記流路の内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）に侵入可能であるのが好ましい。
また本発明において、前記カバー部材（５、１５）の中空部（５Ｃ、１５Ｃ）は、前記流路の内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）側に形成された内径寸法が大きい領域（５Ｃ－１、１５Ｃ－１）と、前記流路の内径が大きい領域（１Ａ－２、１１Ａ－２）側に形成された内径寸法が小さい領域（５Ｃ－２、１５Ｃ－２）を有し、
前記弁体（２、１２）は前記カバー部材（５、１５）の中空部（５Ｃ、１５Ｃ）における内径寸法が大きい領域（５Ｃ－１、１５Ｃ－１）に侵入可能であり、前記弁体（２、１２）の前記円板状の大径部（２Ａ、１２Ａ）は前記カバー部材（５、１５）の中空部（５Ｃ、１５Ｃ）における内径寸法が小さい領域（５Ｃ－２、１５Ｃ－２）の内径には侵入することが出来ず、前記弁体（２、１２）の前記先端棒状領域（２Ｄ、１２Ｄ）は前記カバー部材（５、１５）の中空部における内径寸法が小さい領域（５Ｃ－２、１５Ｃ－２）の内径に侵入可能であるのが好ましい。
【0008】
さらに本発明の安全継手（１００－１）は、内部に流路（１Ａ、１１Ａ）が形成された筒状のプラグ本体（１、１１）と、該プラグ本体（１、１１）に同一直線上に弾性体（３、１３）により押圧配置される弁体（２、１２：プラグ本体１、１１内の流路中に配置され、弾性材３、１３によりプラグ本体１、１１に形成された弁座１Ｂ、１１Ｂに押圧される弁体）とを有し、
前記弁体（２、１２）は、大径部（２Ａ、１２Ａ）と、該大径部（２Ａ、１２Ａ）の一端に形成されて弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に当接するテーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）と、該テーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）より延在した小径部（２Ｃ、１２Ｃ）とを有し、
弁体（２、１２）とプラグ本体（１、１１）は金属製であり、
前記プラグ本体（１、１１）に流路（１Ａ、１１Ａ）が形成され、当該流路（１Ａ、１１Ａ）は内径が大きい領域（１Ａ－２、１１Ａ－２）と内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）を有し、
前記弁体（２、１２）は、前記プラグ本体（１、１１）に形成された弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に着脱するテーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）によって構成される第１のシール手段（２Ｓ１、１２Ｓ１：弁体のテーパ部２Ｂ、１２Ｂ）を有し、
前記流路の内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）の内壁には凹部（１Ｄ、１１Ｄ）が形成され、当該凹部（１Ｄ、１１Ｄ）には第２のシール手段（２Ｓ２－１、１２Ｓ２－１：例えばＯリング４、１４）が収容されており、且つ、前記流路の内径が小さい側（１Ａ－３、１１Ａ－３）の内壁面を摺動して前記凹部（１Ｄ、１１Ｄ）を開放し或いは遮断するシャッター部材（６、１６）を設けていることを特徴としている。
前記弁体（２、１２）は、大径部（２Ａ、１２Ａ）と、該大径部（２Ａ、１２Ａ）の一端に形成されて弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に当接するテーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）と、該テーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）より延在した小径部（２Ｃ、１２Ｃ）とを有し、
弁体（２、１２）とプラグ本体（１、１１）は金属製であり、
前記プラグ本体（１、１１）に流路（１Ａ、１１Ａ）が形成され、当該流路（１Ａ、１１Ａ）は内径が大きい領域（１Ａ－２、１１Ａ－２）と内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）を有し、
前記弁体（２、１２）は、前記プラグ本体（１、１１）に形成された弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に着脱するテーパ部（２Ｂ、１２Ｂ）によって構成される第１のシール手段（２Ｓ１、１２Ｓ１：弁体のテーパ部２Ｂ、１２Ｂ）を有し、
前記流路の内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）の内壁には凹部（１Ｄ、１１Ｄ）が形成され、当該凹部（１Ｄ、１１Ｄ）には第２のシール手段（２Ｓ２－１、１２Ｓ２－１：例えばＯリング４、１４）が収容されており、且つ、前記流路の内径が小さい側（１Ａ－３、１１Ａ－３）の内壁面を摺動して前記凹部（１Ｄ、１１Ｄ）を開放し或いは遮断するシャッター部材（６、１６）を設けていることを特徴としている。
【発明の効果】
【0009】
上述の構成を具備する本発明によれば、弁開時にＯリング（４、１４）を被覆する部材（カバー部材５、１５）を設けて、水素流入によるＯリング（４、１４）の脱落や破損を防止している。
ここで、充填装置側の継手（１０）と充填ホース側の継手（２０）が分離した場合には、弁体（２、１２）が弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に座着して弁（２、２）が閉鎖され、水素はプラグ（１０、２０）内を流れないので、Ｏリング（４、１４）が脱落する怖れはなく、水素内の異物によりＯリング（４、１４）が損傷する恐れもない。
一方、充填装置側の継手（１０）と充填ホース側の継手（２０）が結合している場合には、弁体（２、１２）が弁座（１Ｂ、１１Ｂ）から離隔して弁が開放しており、水素は高速でプラグ（１０、２０）内の流路を流れ、Ｏリング（４、１４）の脱落や損傷が生じる可能性がある。
しかし本発明によれば、例えば、カバー部材（５、１５）でＯリング（４、１４）を覆うので、高圧の水素流は直接Ｏリング（４、１４）には作用せず、当該Ｏリング（４、１４）が脱落することが防止される。そして水素はカバー部材（５、１５）内を流れないので、仮に水素内に異物が混入しても、異物がＯリング（４、１４）を破損する事態は防止される。
ここで、充填装置側の継手（１０）と充填ホース側の継手（２０）が分離した場合には、弁体（２、１２）が弁座（１Ｂ、１１Ｂ）に座着して弁（２、２）が閉鎖され、水素はプラグ（１０、２０）内を流れないので、Ｏリング（４、１４）が脱落する怖れはなく、水素内の異物によりＯリング（４、１４）が損傷する恐れもない。
一方、充填装置側の継手（１０）と充填ホース側の継手（２０）が結合している場合には、弁体（２、１２）が弁座（１Ｂ、１１Ｂ）から離隔して弁が開放しており、水素は高速でプラグ（１０、２０）内の流路を流れ、Ｏリング（４、１４）の脱落や損傷が生じる可能性がある。
しかし本発明によれば、例えば、カバー部材（５、１５）でＯリング（４、１４）を覆うので、高圧の水素流は直接Ｏリング（４、１４）には作用せず、当該Ｏリング（４、１４）が脱落することが防止される。そして水素はカバー部材（５、１５）内を流れないので、仮に水素内に異物が混入しても、異物がＯリング（４、１４）を破損する事態は防止される。
【0010】
ここで、前記カバー部材（５、１５）は中空に構成されており、その中空部（５Ｃ、１５Ｃ）に弁体（２、１２）を収容するが、カバー部材（５、１５）に弁体（２、１２）を収容した際には中空部（５、１５）は弁体（２、１２）と係合する。そのため、カバー部材（５、１５）の中空部（５Ｃ、１５Ｃ）の流体抵抗が大きくなる。その結果、水素は当該中空部（５、１５Ｃ）に流入せず、抵抗の小さいカバー部材（５、１５）の外周部（５Ｂ、１５Ｂ）を流れる。
そのため、カバー部材（５、１５）の中空部（５、１５Ｃ）には高速の水素流が発生せず、弁体（２、１２）に取り付けられたＯリング（４、１４）が高速の水素流に曝されることはない。その結果、カバー部材中空部（５、１５Ｃ）に収容された弁体（２、１２）のＯリング（４、１４）は、水素流により脱落することはなくなる。そして、カバー部材内部空間（５、１５Ｃ）では水素流の流速が遅くなるため、異物が混入して異物がＯリング（４、１４）と衝突しても、当該Ｏリング（４、１４）は破損しない。
そのため、カバー部材（５、１５）の中空部（５、１５Ｃ）には高速の水素流が発生せず、弁体（２、１２）に取り付けられたＯリング（４、１４）が高速の水素流に曝されることはない。その結果、カバー部材中空部（５、１５Ｃ）に収容された弁体（２、１２）のＯリング（４、１４）は、水素流により脱落することはなくなる。そして、カバー部材内部空間（５、１５Ｃ）では水素流の流速が遅くなるため、異物が混入して異物がＯリング（４、１４）と衝突しても、当該Ｏリング（４、１４）は破損しない。
【0011】
或いは本発明によれば、水素流路の内径が小さい領域（１Ａ－３、１１Ａ－３）に溝（凹部１Ｄ、１１Ｄ）を形成して、当該凹部（１Ｄ、１１Ｄ）にＯリング（４、１４）を嵌合してシール機構（第２のシール機構２Ｓ２－１、１２Ｓ２－１）を構成し、前記凹部（１Ｄ、１１Ｄ）を被覆し或いは開放するシャッター（６、１６）を設け、安全継手（１００－１）が結合している時（平常時：開放時）は前記シャッター（６、１６）により水素流路のＯリング嵌合用の凹部（１Ｄ、１１Ｄ）を被覆する。
そのため、シャッター（６、１６）に被覆されたＯリング（４、１４）は超高圧で高速の水素流れに曝されることがなく、当該Ｏリング（４、１４）が脱落することはない。また、仮に水素に異物が混入しても、前記シャッター（６、１６）により、水素中の異物がＯリング（４、１４）に接触することが防止されるので、Ｏリング（４、１４）の破損も防止される。
そのため、シャッター（６、１６）に被覆されたＯリング（４、１４）は超高圧で高速の水素流れに曝されることがなく、当該Ｏリング（４、１４）が脱落することはない。また、仮に水素に異物が混入しても、前記シャッター（６、１６）により、水素中の異物がＯリング（４、１４）に接触することが防止されるので、Ｏリング（４、１４）の破損も防止される。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】先行技術の説明図の説明図である。
【図3】本発明の第１実施形態に係る安全継手が分離して、弁体が弁座に座着して弁が閉鎖した状態を示す説明断面図である。
【図4】第１実施形態で用いられる弁体の側面図である。
【図5】第１実施形態で用いられるカバー部材の斜視図である。
【図7】第１実施形態に係る安全継手が分離しておらず、弁体は弁座から離隔して弁が開放した状態を示す説明断面図である。
【図8】本発明の第２実施形態の要部を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
本発明の実施形態の理解を容易にするため、最初に図１、図２を参照して、先行技術（特許文献１）の概要を説明する。
図１は、先行技術（特許文献１）において、水素ガス充填装置側の継手１０及び充填ホース側の継手２０（図２）により構成された安全継手１００の継手Ａ側を示している。なお、添付図面において、水素ガス充填装置、充填ホースの図示は省略する。図１では、充填装置側の継手１０が、充填ホース側の継手２０と分離した状態を示している。
充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０は同様な構成部材（プラグ本体１、１１、弁体２、１２、弾性部材３、１３その他）を有しているが、継手１０、２０における同様の構成部材も異なる符号で表示している。なお、弁体２、１２とプラグ本体１、１１は金属製である。そして、充填ホース側の継手２０も充填装置側の継手１０と同様に構成されている。
本発明の実施形態の理解を容易にするため、最初に図１、図２を参照して、先行技術（特許文献１）の概要を説明する。
図１は、先行技術（特許文献１）において、水素ガス充填装置側の継手１０及び充填ホース側の継手２０（図２）により構成された安全継手１００の継手Ａ側を示している。なお、添付図面において、水素ガス充填装置、充填ホースの図示は省略する。図１では、充填装置側の継手１０が、充填ホース側の継手２０と分離した状態を示している。
充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０は同様な構成部材（プラグ本体１、１１、弁体２、１２、弾性部材３、１３その他）を有しているが、継手１０、２０における同様の構成部材も異なる符号で表示している。なお、弁体２、１２とプラグ本体１、１１は金属製である。そして、充填ホース側の継手２０も充填装置側の継手１０と同様に構成されている。
【0014】
図１において、プラグ本体１には流路１Ａと弁体２を収容する弁体収容部１Ｃが形成されている。流路１Ａは、充填装置側（図１では上方）に連通する小径の領域１Ａ－１と、弁体収容部１Ｃに対応する大径の領域１Ａ－２と、充填ホース側（図１で下方）に連通する小径の領域１Ａ－３を有している。
弁体収容部１Ｃは領域１Ａ－１を介して充填装置側に接続され、領域１Ａ－３を介して充填ホース側に接続されている。なお、弁体収容部１Ｃは流路１Ａの一部を構成している。
図１において、プラグ本体１の弁体収容部１Ｃには、弁体２が流路１Ａの流路方向（図１では上下方向）に移動可能に収容されており、弁体２よりも充填装置側（図１で上方）にはスプリング３が配置されている。スプリング３は、弁体２を、充填ホース側（図１で下方）に付勢しており、以て、弁体２を弁体収容部１Ｃの下端に形成されたテーパ状の弁座１Ｂ側に常時押圧している。
弁体収容部１Ｃは領域１Ａ－１を介して充填装置側に接続され、領域１Ａ－３を介して充填ホース側に接続されている。なお、弁体収容部１Ｃは流路１Ａの一部を構成している。
図１において、プラグ本体１の弁体収容部１Ｃには、弁体２が流路１Ａの流路方向（図１では上下方向）に移動可能に収容されており、弁体２よりも充填装置側（図１で上方）にはスプリング３が配置されている。スプリング３は、弁体２を、充填ホース側（図１で下方）に付勢しており、以て、弁体２を弁体収容部１Ｃの下端に形成されたテーパ状の弁座１Ｂ側に常時押圧している。
【0015】
図１において、弁体収容部１Ｃに配置される弁体２は、大径部２Ａと、テーパ部２Ｂと、小径部２Ｃとにより構成される。テーパ部２Ｂは、大径部２Ａの一端（図１では下端）に形成され、プラグ本体１に形成されたテーパ状の弁座１Ｂに当接可能に形成されている。
弁体２の小径部２Ｃには溝部２Ｇが形成されており、溝部２Ｇにはシール部材であるＯリング４が収容されている。
弁体２の小径部２Ｃは流路１Ａの充填ホース側（図１の下方）の領域１Ａ－３に挿入可能であり、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離している場合（図１示す場合）は、小径部２Ｃは領域１Ａ－３に挿入している。一方、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が結合している場合（図２の場合）は、小径部２Ｃは領域１Ａ－３よりも充填装置側（図１では上方）に位置しており、領域１Ａ－３には挿入されていない。
弁体２の小径部２Ｃには溝部２Ｇが形成されており、溝部２Ｇにはシール部材であるＯリング４が収容されている。
弁体２の小径部２Ｃは流路１Ａの充填ホース側（図１の下方）の領域１Ａ－３に挿入可能であり、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離している場合（図１示す場合）は、小径部２Ｃは領域１Ａ－３に挿入している。一方、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が結合している場合（図２の場合）は、小径部２Ｃは領域１Ａ－３よりも充填装置側（図１では上方）に位置しており、領域１Ａ－３には挿入されていない。
【0016】
図１において、弁体収容部１Ｃに形成されたテーパ状の弁座１Ｂと弁体２の大径部２Ａの一端に形成されたテーパ部２Ｂにより、第１のシール手段２Ｓ１が構成されている。弁体２のテーパ部２Ｂがプラグ本体１の弁座１Ｂに座着することにより、弁（第１のシール手段２Ｓ１）が閉鎖され、図１に示す状態となる。一方、弁体２のテーパ部２Ｂがプラグ本体１の弁座１Ｂから離隔すると、第１のシール手段２Ｓ１（弁）は開放されて、図２に示す状態となる。
第１のシール手段２Ｓ１においては、弁体２とプラグ本体１は共に金属製なので、弁体２が弁座１に座着するとメタルシールを構成し、密閉性を確保することが出来る。特に、流体燃料の高圧時には、第１のシール手段２Ｓ１は、耐圧強度と共に優れた密封性を発揮する。
第１のシール手段２Ｓ１においては、弁体２とプラグ本体１は共に金属製なので、弁体２が弁座１に座着するとメタルシールを構成し、密閉性を確保することが出来る。特に、流体燃料の高圧時には、第１のシール手段２Ｓ１は、耐圧強度と共に優れた密封性を発揮する。
【0017】
図１において、弁体２の小径部２Ｃの溝部２Ｇに収容されたＯリング４は、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離した時（図１）、流路１Ａの充填ホース側の領域１Ａ－３の内壁面と接する様に構成されており、Ｏリング４と領域１Ａ－３（の内壁面）により、第２のシール手段２Ｓ２が構成される。
Ｏリング４が領域１Ａ－３と接触することにより、第２のシール手段２Ｓ２が密封性を発揮する。一方、小径部２Ｃがプラグ本体１の弁体収容部１Ｃ側に移動しＯリング４が充填ホース側の領域１Ａ－３と接しない状態（図２の状態）では、第２のシール手段２Ｓ２は密封性を発揮することが出来ない。
第２のシール手段２Ｓ２において、充填ホース側の領域１Ａ－３の内壁面とＯリング４の接触（或いは摺動状態で接触）することにより、低圧時のシール性が向上する。
Ｏリング４が領域１Ａ－３と接触することにより、第２のシール手段２Ｓ２が密封性を発揮する。一方、小径部２Ｃがプラグ本体１の弁体収容部１Ｃ側に移動しＯリング４が充填ホース側の領域１Ａ－３と接しない状態（図２の状態）では、第２のシール手段２Ｓ２は密封性を発揮することが出来ない。
第２のシール手段２Ｓ２において、充填ホース側の領域１Ａ－３の内壁面とＯリング４の接触（或いは摺動状態で接触）することにより、低圧時のシール性が向上する。
【0018】
図２に示す安全継手１００の組み立て時、すなわち、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が結合した場合には、充填装置側の継手１０、充填ホース側の継手２０の間にはロッド８が介在しており、ロッド８の充填装置側（図２では上方）の端部が充填装置側の弁体２を押圧し、スプリングの弾性力に抗して弁体２を弁座１Ｂから離隔させる。一方、ロッド８の充填ホース側（図２では下方）の端部が充填ホース側の弁体１２を押圧して弁体１２を弁座１１Ｂから離隔させる。そのため、第１のシール手段２Ｓ１、１２Ｓ１（弁体２のテーパ部２Ｂと弁座１Ｂにより構成される弁と、弁体１２のテーパ部１２Ｂと弁座１１Ｂにより構成される弁）は開放される。
同時に第２のシール手段２Ｓ２、１２Ｓ２では、小径部２Ｃが領域１Ａ－３に挿入されておらず、小径部１２Ｃが領域１１Ａ－３に挿入されていないので、Ｏリング４Ｏリング１４は領域１Ａ－３、１１Ａ－３の内壁面に接触しておらず、シール機能は発揮されない。
そのため、水素ガスはシールされることなく、充填装置側から、安全継手１００（継手１０、２０の流路１Ａ、１１Ａ）を通過して充填ホース側（車両の燃料タンク側）に流過出来る。
同時に第２のシール手段２Ｓ２、１２Ｓ２では、小径部２Ｃが領域１Ａ－３に挿入されておらず、小径部１２Ｃが領域１１Ａ－３に挿入されていないので、Ｏリング４Ｏリング１４は領域１Ａ－３、１１Ａ－３の内壁面に接触しておらず、シール機能は発揮されない。
そのため、水素ガスはシールされることなく、充填装置側から、安全継手１００（継手１０、２０の流路１Ａ、１１Ａ）を通過して充填ホース側（車両の燃料タンク側）に流過出来る。
【0019】
水素ガス充填中に水素充填用ホース（図示せず）に想定以上の引張力が負荷された場合、図示しない公知の機構により、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０とが分離する。
充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離すると、ロッド８は継手１０と継手２０から外れるため、弁体２、１２は、それぞれ、スプリング３、１３により押圧されてプラグ本体１、１１の弁座１Ｂ、１１Ｂ側に移動し、弁体２、１２のテーパ部２Ｂ、１２Ｂが弁座１Ｂ、１１Ｂに座着し、第１のシール手段２Ｓ１、１２Ｓ１が閉鎖される。
また充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離すると、弁体２、１２の小径部２Ｃ、１２Ｃが領域１Ａ－３、１１Ａ－３に挿入されるのでＯリング４と充填ホース側の領域１Ａ－３により構成される第２のシール手段２Ｓ２と、Ｏリング１４と充填ホース側の領域１１Ａ－３により構成される第２のシール手段１２Ｓ２は、シール機能を発揮する。
その結果、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離した時には、充填装置側の水素ガス（流体燃料）が継手１０を介して外部に流出することが防止され、充填ホース側の水素ガスが継手２０を介して外部に流出することが防止される。
充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離すると、ロッド８は継手１０と継手２０から外れるため、弁体２、１２は、それぞれ、スプリング３、１３により押圧されてプラグ本体１、１１の弁座１Ｂ、１１Ｂ側に移動し、弁体２、１２のテーパ部２Ｂ、１２Ｂが弁座１Ｂ、１１Ｂに座着し、第１のシール手段２Ｓ１、１２Ｓ１が閉鎖される。
また充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離すると、弁体２、１２の小径部２Ｃ、１２Ｃが領域１Ａ－３、１１Ａ－３に挿入されるのでＯリング４と充填ホース側の領域１Ａ－３により構成される第２のシール手段２Ｓ２と、Ｏリング１４と充填ホース側の領域１１Ａ－３により構成される第２のシール手段１２Ｓ２は、シール機能を発揮する。
その結果、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離した時には、充填装置側の水素ガス（流体燃料）が継手１０を介して外部に流出することが防止され、充填ホース側の水素ガスが継手２０を介して外部に流出することが防止される。
【0020】
次に、図３～図７を参照して、本発明の第１実施形態について説明する。
上述した様に、充填時には超高圧の水素が高速で安全継手内の流路１Ａ－２、１１Ａ－２を流れるため、第２のシール手段を構成するＯリング４、１４が脱落する怖れがある。また、充填するべき水素中に仮に異物が混入していた場合には、当該異物がＯリング４、１４に接触して、Ｏリング４、１４を破損する恐れも存在する。
それに対して本発明では、弁開時にＯリング４、１４を被覆する部材を設けて、水素流入によるＯリング４、１４の脱落や破損を防止している。
上述した様に、充填時には超高圧の水素が高速で安全継手内の流路１Ａ－２、１１Ａ－２を流れるため、第２のシール手段を構成するＯリング４、１４が脱落する怖れがある。また、充填するべき水素中に仮に異物が混入していた場合には、当該異物がＯリング４、１４に接触して、Ｏリング４、１４を破損する恐れも存在する。
それに対して本発明では、弁開時にＯリング４、１４を被覆する部材を設けて、水素流入によるＯリング４、１４の脱落や破損を防止している。
【0021】
図１、図２で従来技術の概要を説明した際には、充填装置側の継手１０側を図示して説明したが、図３～図７の第1実施形態の説明では、充填ホース側の継手２０側を図示して説明する。
上述した様に、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０は同様な構成部材を有している。そして、第1実施形態に係る継手１０或いは２０は、弁開時にＯリング４、１４を被覆する部材としてカバー部材１５（或いは５：図１、図２の従来技術には設けられていない構成）を備えている。そしてカバー部材１５（５）を備えており且つ機能させるため、図３～図７の第１実施形態における弁体１２（２）等の形状は、図１、図２の従来技術とは異なっている。ただし、図３～図７において、図１、図２で示す従来技術に対応する部材の符号については、図１、図２と同様の符号を用いている。
図３～図７については、充填ホース側の継手２０側の部材を示しており、充填装置側の継手１０に関する部材は示していない。
上述した様に、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０は同様な構成部材を有している。そして、第1実施形態に係る継手１０或いは２０は、弁開時にＯリング４、１４を被覆する部材としてカバー部材１５（或いは５：図１、図２の従来技術には設けられていない構成）を備えている。そしてカバー部材１５（５）を備えており且つ機能させるため、図３～図７の第１実施形態における弁体１２（２）等の形状は、図１、図２の従来技術とは異なっている。ただし、図３～図７において、図１、図２で示す従来技術に対応する部材の符号については、図１、図２と同様の符号を用いている。
図３～図７については、充填ホース側の継手２０側の部材を示しており、充填装置側の継手１０に関する部材は示していない。
【0022】
図３は、図示しない充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離した状態を示している。
図３において、継手２０のプラグ本体１１には、流路１１Ａと弁体収容部１１Ｃが形成されており、弁体収容部１１Ｃには弁体１２が収容されている。流路１１Ａは、充填装置側（図３では上方）に連通する小径の領域１１Ａ－３と、弁体収容部１１Ｃを構成する大径の領域１１Ａ－２と、充填ホース側（図３で下方）に連通する小径の領域１１Ａ－１により構成されている。
弁体収容部１１Ｃは領域１１Ａ－３を介して充填装置（図示せず）側に接続され、領域１１Ａ－１を介して充填ホース（図示せず）側に接続されている。
水素流の流れる方向は図３、図７において矢印Ｙで示される。ただし、図示しない充填装置側の継手１０と分離した状態の図３では水素は流れず、水素が泣かれた場合の仮想的な水素流の方向が矢印Ｙで示されている。
水素流は充填装置側の継手１０（プラグ本体１、図１参照）から充填ホース側の継手２０（プラグ本体１１）に向かって流れ（矢印Ｙ１）、充填ホース側の継手２０（プラグ本体１１）から図示しない充填ホースに流れる（矢印Ｙ２）。なお、図示しない充填装置側の継手１０（図１参照）においては、水素ガスの流れる方向は、図３に示す方向Ｙ１、Ｙ２とは逆方向となる。
図３において、継手２０のプラグ本体１１には、流路１１Ａと弁体収容部１１Ｃが形成されており、弁体収容部１１Ｃには弁体１２が収容されている。流路１１Ａは、充填装置側（図３では上方）に連通する小径の領域１１Ａ－３と、弁体収容部１１Ｃを構成する大径の領域１１Ａ－２と、充填ホース側（図３で下方）に連通する小径の領域１１Ａ－１により構成されている。
弁体収容部１１Ｃは領域１１Ａ－３を介して充填装置（図示せず）側に接続され、領域１１Ａ－１を介して充填ホース（図示せず）側に接続されている。
水素流の流れる方向は図３、図７において矢印Ｙで示される。ただし、図示しない充填装置側の継手１０と分離した状態の図３では水素は流れず、水素が泣かれた場合の仮想的な水素流の方向が矢印Ｙで示されている。
水素流は充填装置側の継手１０（プラグ本体１、図１参照）から充填ホース側の継手２０（プラグ本体１１）に向かって流れ（矢印Ｙ１）、充填ホース側の継手２０（プラグ本体１１）から図示しない充填ホースに流れる（矢印Ｙ２）。なお、図示しない充填装置側の継手１０（図１参照）においては、水素ガスの流れる方向は、図３に示す方向Ｙ１、Ｙ２とは逆方向となる。
【0023】
図３において、プラグ本体１１の弁体収容部１１Ｃには、弁体１２が流路１１Ａの方向（流路１１Ａの長手方向：図３では上下方向）に移動可能に収容されており、弁体１２よりも充填ホース側（図３で下方）にはスプリング１３が配置されている。スプリング１３は、弁体１２を、充填装置側（図３で上方）に付勢しており、以て、弁体１２を弁体収容部１１Ｃの上端に形成されたテーパ状の弁座１１Ｂ側に常時押圧している。
弁体１２とプラグ本体１１は金属製である。
弁体１２の小径部１２Ｃには溝部１２Ｇが形成されており、溝部１２Ｇにはシール部材であるＯリング１４が嵌合（収容）されている。
弁体１２の小径部１２Ｃは流路１１Ａの充填装置側（図３の上方）の領域１１Ａ－３に挿入可能であり、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離した場合（図３で示す場合）は、小径部１２Ｃは領域１Ａ－３に挿入されており、弁体１２は弁体収容部１１Ｃの上端に形成されたテーパ状の弁座１１Ｂに座着している。一方、図７で示す場合、すなわち充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が結合している場合は、小径部１２Ｃは領域１１Ａ－３には挿入されておらず、領域１１Ａ－３よりも充填ホース側（図３では下方）に位置している。
弁体１２とプラグ本体１１は金属製である。
弁体１２の小径部１２Ｃには溝部１２Ｇが形成されており、溝部１２Ｇにはシール部材であるＯリング１４が嵌合（収容）されている。
弁体１２の小径部１２Ｃは流路１１Ａの充填装置側（図３の上方）の領域１１Ａ－３に挿入可能であり、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が分離した場合（図３で示す場合）は、小径部１２Ｃは領域１Ａ－３に挿入されており、弁体１２は弁体収容部１１Ｃの上端に形成されたテーパ状の弁座１１Ｂに座着している。一方、図７で示す場合、すなわち充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が結合している場合は、小径部１２Ｃは領域１１Ａ－３には挿入されておらず、領域１１Ａ－３よりも充填ホース側（図３では下方）に位置している。
【0024】
上述した様に弁体１２は、図３においては弁体収容部１Ｃ（領域１１Ａ－２）に位置しているが、弁体１２の詳細は図４に示されている。以下、図４（及び図３）を参照して弁体１２を説明する。
図４において、弁体１２は、大径部１２Ａと、大径部１２Ａの一端に形成されて弁座１１Ｂに当接するテーパ部１２Ｂと、テーパ部１２Ｂより図４の上方へ延在した小径部１２Ｃを有している。さらに弁体１２は、小径部１２Ｃから離隔した側（図４の下方）の端部近傍（先端側）の先端棒状領域１２Ｄを有している。
大径部１２Ａは、段部を介して先端棒状領域１２Ｄに連続しており、円盤状に構成されている。大径部１２Ａの外径寸法は領域１１Ａ－３の内径よりも大きい。
小径部１２Ｃはテーパ部１２Ｂを介して大径部１２Ａに連続しており、且つ大径部１２Ａよりも外径寸法は小さい。小径部１２Ｃの外径寸法は領域１１Ａ－３の内径寸法が小さく、領域１１Ａ－３に侵入可能に構成されている。
先端棒状領域１２Ｄの先端側（充填ホース側、図３、図４で下側）は水素流に対する抵抗減少のため、テーパ部１２ＤＴが形成されている。図示はされていないが、逆方向の水素流に対する抵抗を減少するため、弁本体１２の小径部１２Ｃの充填装置側の端部（図３で上側）にテーパを付けて尖らせることが出来る。
図４において、弁体１２は、大径部１２Ａと、大径部１２Ａの一端に形成されて弁座１１Ｂに当接するテーパ部１２Ｂと、テーパ部１２Ｂより図４の上方へ延在した小径部１２Ｃを有している。さらに弁体１２は、小径部１２Ｃから離隔した側（図４の下方）の端部近傍（先端側）の先端棒状領域１２Ｄを有している。
大径部１２Ａは、段部を介して先端棒状領域１２Ｄに連続しており、円盤状に構成されている。大径部１２Ａの外径寸法は領域１１Ａ－３の内径よりも大きい。
小径部１２Ｃはテーパ部１２Ｂを介して大径部１２Ａに連続しており、且つ大径部１２Ａよりも外径寸法は小さい。小径部１２Ｃの外径寸法は領域１１Ａ－３の内径寸法が小さく、領域１１Ａ－３に侵入可能に構成されている。
先端棒状領域１２Ｄの先端側（充填ホース側、図３、図４で下側）は水素流に対する抵抗減少のため、テーパ部１２ＤＴが形成されている。図示はされていないが、逆方向の水素流に対する抵抗を減少するため、弁本体１２の小径部１２Ｃの充填装置側の端部（図３で上側）にテーパを付けて尖らせることが出来る。
【0025】
図４及び図３において、弁体１２の大径部１２Ａの一端に形成されたテーパ部１２Ｂと、プラグ本体１１に形成された弁座１１Ｂにより第１のシール手段１２Ｓ１が構成されている。弁体１２のテーパ部１２Ｂがプラグ本体１１の弁座１１Ｂに座着することにより、第１のシール手段１２Ｓ１が閉鎖される（図３に示す状態）。一方、弁体１２のテーパ部１２Ｂがプラグ本体１１の弁座１１Ｂから離隔すると、第１のシール手段１２Ｓ１は開放される（図７に示す状態）。
共に金属製の弁体１２とプラグ本体１１により構成される第１のシール手段１２Ｓ１は、弁体１２のテーパ部１２Ｂが弁座１１Ｂに座着するとメタルシールを構成し、特に、流体燃料の高圧時には、耐圧強度と共に優れた密封性を発揮する。
共に金属製の弁体１２とプラグ本体１１により構成される第１のシール手段１２Ｓ１は、弁体１２のテーパ部１２Ｂが弁座１１Ｂに座着するとメタルシールを構成し、特に、流体燃料の高圧時には、耐圧強度と共に優れた密封性を発揮する。
【0026】
図４及び図３において、弁体１２の小径部１２Ｃに形成された溝部１２Ｇに収容されたＯリング１４は、充填装置側の継手１０（図１）と充填ホース側の継手２０が分離した時（図３の状態）、流路１１Ａの充填装置側の領域１１Ａ－３の内壁面と接する様に構成されている。Ｏリング１４と領域１１Ａ－３の内壁面により、第２のシール手段１２Ｓ２が構成される。Ｏリング１４が領域１１Ａ－３の内壁面と接触することにより密封性を発揮し、第２のシール手段１２Ｓ２が閉鎖状態となる。図４では、Ｏリング１４が弁体１２に組み込まれた状態が表示されている。
一方、小径部１２Ｃがプラグ本体１１の弁体収容部１１Ｃ側に移動しＯリング１４が充填装置側の領域１１Ａ－３と接しない状態（図７の状態）では、第２のシール手段１２Ｓ２も開放状態であり、密封性を発揮しない。
第２のシール手段１２Ｓ２において、充填装置側の領域１１Ａ－３の内壁面とＯリング１４の接触（或いは摺動状態で接触）することにより、低圧時のシール性が向上する。
一方、小径部１２Ｃがプラグ本体１１の弁体収容部１１Ｃ側に移動しＯリング１４が充填装置側の領域１１Ａ－３と接しない状態（図７の状態）では、第２のシール手段１２Ｓ２も開放状態であり、密封性を発揮しない。
第２のシール手段１２Ｓ２において、充填装置側の領域１１Ａ－３の内壁面とＯリング１４の接触（或いは摺動状態で接触）することにより、低圧時のシール性が向上する。
【0027】
図３において、弁体収容部１Ｃ（領域１１Ａ－２）に位置している弁体１２は、中空形状のカバー部材１５により包囲されている。カバー部材１５の詳細が図５、図６に示されている。図５、図６及び図３、図４を参照してカバー部材１５の構成、機能を説明する。
図６で示す様に、カバー部材１５は中空部１５Ｃ（１５Ｃ－１、１５Ｃ－２）を有している。中空部１５Ｃ－１、１５Ｃ－２を包括的に中空部１５Ｃと記載する場合がある。
図６で明示されている様に、カバー部材１５の中空部１５Ｃは内径寸法が大きい領域１５Ｃ－１と内径寸法が小さい領域１５Ｃ－２を有している。内径寸法が大きい領域１５Ｃ－１は、図３及び図７の組み立てられた状態では、流路の内径が小さい領域１１Ａ－３側に形成される。内径寸法が大きい領域１５Ｃ－１には、弁体１２の円板状の大径部１２Ａが進入可能である。内径寸法が小さい領域１５Ｃ－２は、図３及び図７の組み立てられた状態では、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２側に形成される。内径寸法が小さい領域１５Ｃ－２には、弁体１２の大径部１２Ａが進入不可能である。ただし、内径寸法が小さい領域１５Ｃ－２には、弁体１２の先端棒状領域１２Ｄが侵入可能である。
図６で示す様に、カバー部材１５は中空部１５Ｃ（１５Ｃ－１、１５Ｃ－２）を有している。中空部１５Ｃ－１、１５Ｃ－２を包括的に中空部１５Ｃと記載する場合がある。
図６で明示されている様に、カバー部材１５の中空部１５Ｃは内径寸法が大きい領域１５Ｃ－１と内径寸法が小さい領域１５Ｃ－２を有している。内径寸法が大きい領域１５Ｃ－１は、図３及び図７の組み立てられた状態では、流路の内径が小さい領域１１Ａ－３側に形成される。内径寸法が大きい領域１５Ｃ－１には、弁体１２の円板状の大径部１２Ａが進入可能である。内径寸法が小さい領域１５Ｃ－２は、図３及び図７の組み立てられた状態では、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２側に形成される。内径寸法が小さい領域１５Ｃ－２には、弁体１２の大径部１２Ａが進入不可能である。ただし、内径寸法が小さい領域１５Ｃ－２には、弁体１２の先端棒状領域１２Ｄが侵入可能である。
【0028】
カバー部材１５の中空部１５Ｃには少なくとも弁体１２の一部が収容される。すなわち、弁体１２のテーパ部１２Ｂが弁座１１Ｂから離間して弁座１１Ｂに座着していない場合、すなわち弁（第１のシール部材１２Ｓ１）が開放されている場合（図７の場合）、内径寸法が大きい領域１５Ｃ－１は、第２のシール手段１２Ｓ２（Ｏリング１４）から弁体１２の大径部１２Ａ側の領域の少なくとも一部を包囲している。
一方、弁体１２のテーパ部１２Ｂが弁座１１Ｂに座着している場合、すなわち弁が閉鎖されている場合（図３の場合）、中空部１５Ｃにおける内径寸法が大きい領域１５Ｃ－１は、弁体１２の大径部１２Ａと小径部１２Ｃの少なくとも一部を包囲している。
一方、弁体１２のテーパ部１２Ｂが弁座１１Ｂに座着している場合、すなわち弁が閉鎖されている場合（図３の場合）、中空部１５Ｃにおける内径寸法が大きい領域１５Ｃ－１は、弁体１２の大径部１２Ａと小径部１２Ｃの少なくとも一部を包囲している。
【0029】
図５で示す様に、カバー部材１５の外周部１５Ｂには複数の突起１５Ａ（ガイド或いはフィン、図５）が形成されており、複数の突起１５Ａの各々は、カバー部材１５の流路方向に概略全長に亘って延在している。突起１５Ａと、カバー部材１５の外周部１５Ｂと、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２の内周面により、水素流路が形成される。当該水素流路に水素ガスが流れるのは、図７で示す様に、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が結合している場合である。図３で示す場合、すなわち継手１０と継手２０が分離している場合には、突起１５Ａとカバー部材１５の外周部１５Ｂと領域１１Ａ－２の内周面により構成される水素流路には水素ガスは流れない。
図５、図６には示されていないが、カバー部材１５が流路方向に移動する際にカバー部材１５の突起１５Ａをガイドするためのガイド溝を、流路１１Ａの内径が大きい領域１１Ａ－２の内周面に形成することが出来る。ただし、その様なガイド溝を省略しても良い。換言すれば、カバー部材１５がプラグ本体１１の流路１１Ａの内径が大きい領域１１Ａ－２の内部で回転（自転）可能であっても良い。また、突起１５Ａの一部のみがガイド溝に嵌合していれば良く、全ての突起１５Ａがガイド溝に嵌合していなくても良い。
図５、図６には示されていないが、カバー部材１５が流路方向に移動する際にカバー部材１５の突起１５Ａをガイドするためのガイド溝を、流路１１Ａの内径が大きい領域１１Ａ－２の内周面に形成することが出来る。ただし、その様なガイド溝を省略しても良い。換言すれば、カバー部材１５がプラグ本体１１の流路１１Ａの内径が大きい領域１１Ａ－２の内部で回転（自転）可能であっても良い。また、突起１５Ａの一部のみがガイド溝に嵌合していれば良く、全ての突起１５Ａがガイド溝に嵌合していなくても良い。
【0030】
図示の第１実施形態では、図３で示す弁の閉鎖時において、カバー部材１５の充填装置側の端部に形成されたストッパー部１５Ｄ（図６）が、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２の充填装置側の底部に係止し、空間Ｋ（図３）が形成される。
ただし、空間Ｋは無くても良く、カバー部材１５の充填装置側の端部が、内径の大きい領域１１Ａ－２の充填装置側の底部に接触しても良い。換言すれば、カバー部材１５が内径の大きい領域１１Ａ－２の充填装置側の底部と干渉して、Ｏリング１４を被覆しない状態にならなければ、図３で示す空間Ｋの有無を限定するものではない。
図５、図６で示す様に、カバー部材１５には、組付時における充填ホース側（図５の右斜め下方：図６の下方）の端部に、抵抗減少のためのテーパ部１５Ｅが形成されている。図示はされていないが、カバー部材１５に、組付時における充填装置側（図５の左斜め上方：図６の上方）の端部にも、抵抗減少用のテーパを形成することが出来る。上述したテーパ部１５Ｅは、充填装置側の継手１０のカバー部材に適用した場合に、水素流と対向するので有効である。一方、図示しないテーパは、充填ホース側の継手２０のカバー部材１５に適用した場合に、水素流と対向するので有効である。
ただし、空間Ｋは無くても良く、カバー部材１５の充填装置側の端部が、内径の大きい領域１１Ａ－２の充填装置側の底部に接触しても良い。換言すれば、カバー部材１５が内径の大きい領域１１Ａ－２の充填装置側の底部と干渉して、Ｏリング１４を被覆しない状態にならなければ、図３で示す空間Ｋの有無を限定するものではない。
図５、図６で示す様に、カバー部材１５には、組付時における充填ホース側（図５の右斜め下方：図６の下方）の端部に、抵抗減少のためのテーパ部１５Ｅが形成されている。図示はされていないが、カバー部材１５に、組付時における充填装置側（図５の左斜め上方：図６の上方）の端部にも、抵抗減少用のテーパを形成することが出来る。上述したテーパ部１５Ｅは、充填装置側の継手１０のカバー部材に適用した場合に、水素流と対向するので有効である。一方、図示しないテーパは、充填ホース側の継手２０のカバー部材１５に適用した場合に、水素流と対向するので有効である。
【0031】
図７には、充填装置側の継手１０と充填ホース側の継手２０が結合した場合において、充填ホース側の継手２０が示されている。図７における水素ガスの流れる方向は矢印Ｙ（Ｙ１、Ｙ２）で示される。
図７において、充填装置側の継手と充填ホース側の継手２０の間にはロッド８が介在しており、ロッド８の充填ホース側（図７では下方）の端部が充填ホース側の弁体１２を押圧し、スプリング１３の弾性力に抗して弁体１２のテーパ部１２Ｂを弁座１１Ｂから離隔している。図示はされていないが、ロッド８の充填装置側（図７では上方）の端部が充填装置側の継手１０の弁体２（図７では図示せず）を押圧し、充填装置側の継手１０においても、弁体２のテーパ部２Ｂを弁座１Ｂ（図１、図２）から離隔している。
そのため、充填ホース側の継手２０の第１のシール手段１２Ｓ１（弁体１２のテーパ部１２Ｂと弁座１１Ｂにより構成される弁）は開放され、充填装置側の継手１０（図示せず）の第１のシール手段２Ｓ１（図１、図２、弁体２のテーパ部２Ｂと弁座１Ｂにより構成される弁）も開放される。
図７において、充填装置側の継手と充填ホース側の継手２０の間にはロッド８が介在しており、ロッド８の充填ホース側（図７では下方）の端部が充填ホース側の弁体１２を押圧し、スプリング１３の弾性力に抗して弁体１２のテーパ部１２Ｂを弁座１１Ｂから離隔している。図示はされていないが、ロッド８の充填装置側（図７では上方）の端部が充填装置側の継手１０の弁体２（図７では図示せず）を押圧し、充填装置側の継手１０においても、弁体２のテーパ部２Ｂを弁座１Ｂ（図１、図２）から離隔している。
そのため、充填ホース側の継手２０の第１のシール手段１２Ｓ１（弁体１２のテーパ部１２Ｂと弁座１１Ｂにより構成される弁）は開放され、充填装置側の継手１０（図示せず）の第１のシール手段２Ｓ１（図１、図２、弁体２のテーパ部２Ｂと弁座１Ｂにより構成される弁）も開放される。
【0032】
なお、図７において、第１のシール手段２Ｓ１が開放されるのと同時に、充填ホース側の継手２０における第２のシール手段１２Ｓ２では、小径部１２Ｃが領域１１Ａ－３に挿入されておらず、Ｏリング１４は領域１１Ａ－３の内壁面に接触していないので、Ｏリング１４はシール機能を発揮しない。同様に、図示しない充填装置側の継手１０（図１、図２）における第２のシール手段２Ｓ２もＯリング４は領域１Ａ－３の内壁面に接触しないので、シール機能は発揮しない。
第１のシール手段１２Ｓ１、２Ｓ１が開放状態であり、第２のシール手段１２Ｓ２、２Ｓ２はシール機能を発揮しないため、高圧の水素ガスは、水素ガス充填装置側から、安全継手１００（継手１０、２０の流路１Ａ、１１Ａ）を通過して充填ホース側（車両の燃料タンク側）に流過する。
第１のシール手段１２Ｓ１、２Ｓ１が開放状態であり、第２のシール手段１２Ｓ２、２Ｓ２はシール機能を発揮しないため、高圧の水素ガスは、水素ガス充填装置側から、安全継手１００（継手１０、２０の流路１Ａ、１１Ａ）を通過して充填ホース側（車両の燃料タンク側）に流過する。
【0033】
図７で示す状態では、カバー部材１５の中空部１５Ｃにおける内径寸法が大きい領域１５Ｃ－１は、第２のシール手段１２Ｓ２（Ｏリング１４）から弁体１２の大径部１２Ａ側の領域のすくなとも一部の領域を包囲している。そのため、カバー部材１５の外周部１５Ｂに形成された流路を通過する高圧の水素ガス流に対して、第２のシール手段１２Ｓ２（Ｏリング１４）を保護することが出来る。
カバー部材１５により第２のシール手段１２Ｓ２（Ｏリング１４）を保護する機能については、後述する。
カバー部材１５により第２のシール手段１２Ｓ２（Ｏリング１４）を保護する機能については、後述する。
【0034】
図３で示す様に、弁体１２のテーパ部１２Ｂが弁座１１Ｂに座着して弁（第１のシール手段１２Ｓ１）が閉鎖され、第１のシール手段１２Ｓ１と第２のシール手段１２Ｓ２で水素ガスの漏洩を防止している状態では、プラグ本体１１の流路１１Ａには高圧の水素ガスは流れないので、第２のシール手段１２Ｓ２を構成するＯリング１４が脱落する怖れはなく、水素ガス内の異物によりＯリング１４が損傷する恐れもない。Ｏリング１４の脱落や損傷は、図７で示す様に、弁が開放して流路１１Ａを水素ガスが流れる場合に生じる。
図３～図７で示す第１実施形態によれば、弁体１２の溝部１２Ｇに収容されたＯリング１４をカバー部材１５で包囲して保護するので、Ｏリング１４が溝部１２Ｇから脱落することが防止される。また、後述する様に、水素ガスはカバー部材１５よりも半径方向外方に構成される複数の水素流路（複数の突起１５Ａ、外周部１５Ｂ、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２の内周面により構成される水素流路）を流れ、カバー部材１５の内部空間内１５Ｃを流れないので、異物が混入しても、異物はＯリング１４とは接触せずＯリング１４は破損しない。
図３～図７で示す第１実施形態によれば、弁体１２の溝部１２Ｇに収容されたＯリング１４をカバー部材１５で包囲して保護するので、Ｏリング１４が溝部１２Ｇから脱落することが防止される。また、後述する様に、水素ガスはカバー部材１５よりも半径方向外方に構成される複数の水素流路（複数の突起１５Ａ、外周部１５Ｂ、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２の内周面により構成される水素流路）を流れ、カバー部材１５の内部空間内１５Ｃを流れないので、異物が混入しても、異物はＯリング１４とは接触せずＯリング１４は破損しない。
【0035】
カバー部材１５における水素ガスの流れについて説明する。
弁が開放状態にある図７において、弁体１２とカバー部材１５は、符号Ｆで示す様に当接している。具体的には、弁体１２の大径部１２Ａの先端棒状領域１２Ｄ側の端面と、カバー部材１５の中空部１５Ｃの段部が、符号Ｆで示す箇所で当接する。
弁体１２の大径部１２Ａの端面とカバー部材１５の段部が当接することにより、カバー部材１５の内部（中空部１５Ｃ）には弁体１２の一部が収容され、そのため、中空部１５Ｃにおける流体抵抗が大きくなり、カバー部材１５内の中空部１５Ｃには水素ガスが流れ難くなる。そして、弁体１２の外表面とカバー部材１５の中空部１５Ｃの内表面の間には環状の空間が形成されるが、当該環状空間における半径方向の間隔が小さいため、流体抵抗が大きく水素ガスは流れ難い。
それに対して、カバー部材１５よりも半径方向外方に構成される複数の水素流路（複数の突起１５Ａ、外周部１５Ｂ、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２の内周面により構成される水素流路）における流体抵抗は、（カバー部材１５の中空部１５Ｃにおける流体抵抗に対して）遥かに小さい。すなわち、中空部１５Ｃにおいては、符号Ｆで示す箇所よりも下流側（充填ホース側）には水素が流れず、弁体１２の外表面とカバー部材１５の中空部１５Ｃの内表面の間の環状空間における流体抵抗が大きいため、水素ガスはほとんど流れない。
水素ガスは、抵抗の少ないカバー部材１５外側の流路、すなわち、カバー部材１５の隣接する突起１５Ａ、外周部１５Ｂ、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２の内周面により構成される水素流路を流れる。水素ガスは、流体抵抗が少ない流路を流れ、図７の場合、流体抵抗が少ない流路は、カバー部材１５の外周部側の流路だからである。
弁が開放状態にある図７において、弁体１２とカバー部材１５は、符号Ｆで示す様に当接している。具体的には、弁体１２の大径部１２Ａの先端棒状領域１２Ｄ側の端面と、カバー部材１５の中空部１５Ｃの段部が、符号Ｆで示す箇所で当接する。
弁体１２の大径部１２Ａの端面とカバー部材１５の段部が当接することにより、カバー部材１５の内部（中空部１５Ｃ）には弁体１２の一部が収容され、そのため、中空部１５Ｃにおける流体抵抗が大きくなり、カバー部材１５内の中空部１５Ｃには水素ガスが流れ難くなる。そして、弁体１２の外表面とカバー部材１５の中空部１５Ｃの内表面の間には環状の空間が形成されるが、当該環状空間における半径方向の間隔が小さいため、流体抵抗が大きく水素ガスは流れ難い。
それに対して、カバー部材１５よりも半径方向外方に構成される複数の水素流路（複数の突起１５Ａ、外周部１５Ｂ、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２の内周面により構成される水素流路）における流体抵抗は、（カバー部材１５の中空部１５Ｃにおける流体抵抗に対して）遥かに小さい。すなわち、中空部１５Ｃにおいては、符号Ｆで示す箇所よりも下流側（充填ホース側）には水素が流れず、弁体１２の外表面とカバー部材１５の中空部１５Ｃの内表面の間の環状空間における流体抵抗が大きいため、水素ガスはほとんど流れない。
水素ガスは、抵抗の少ないカバー部材１５外側の流路、すなわち、カバー部材１５の隣接する突起１５Ａ、外周部１５Ｂ、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２の内周面により構成される水素流路を流れる。水素ガスは、流体抵抗が少ない流路を流れ、図７の場合、流体抵抗が少ない流路は、カバー部材１５の外周部側の流路だからである。
【0036】
水素ガスは流体抵抗の大きいカバー部材１５内の中空部１５Ｃにはほとんど流れない。ただし、カバー部材１５の中空部１５Ｃを流れる水素ガスの流量は、必ずしもゼロ（０）である必要は無い。中空部１５Ｃの流体抵抗が、カバー部材１５外側の流路（隣接する突起１５Ａ、外周部１５Ｂ、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２の内周面により構成される水素流路）よりも有意に大きければ良い。
なお、符号Ｆで示される当接箇所（弁体１２の大径部１２Ａの端面とカバー部材１５の中空部１５Ｃの段部が当接する箇所）にシール材を配置して、カバー部材１５の中空部１５Ｃを流れる水素ガスの流量をゼロにすることができる。
なお、符号Ｆで示される当接箇所（弁体１２の大径部１２Ａの端面とカバー部材１５の中空部１５Ｃの段部が当接する箇所）にシール材を配置して、カバー部材１５の中空部１５Ｃを流れる水素ガスの流量をゼロにすることができる。
【0037】
カバー部材１５の中空部１５Ｃを流れる水素ガスの流量が少なく（或いは流れず）、抵抗が少ないカバー部材１５の外周部側の流路（カバー部材１５の突起１５Ａ、外周部１５Ｂ、流路の内径が大きい領域１１Ａ－２の内周面により構成される水素流路）を水素ガスは流れる。そのため、カバー部材１５の中空部１５Ｃの水素流の流速は非常に低いか或いはゼロとなり、カバー部材１５の中空部１５Ｃに収容された弁体１２のＯリング１４は、中空部１５Ｃを流れる水素流により脱落することはない。そして、中空部１５Ｃでは水素流の流速が遅くなる（或いは流速はゼロになる）ため、異物が混入た水素ガスがＯリング１４と衝突しても、Ｏリング１４は破損しない。
【0038】
次に、図８を参照して本発明の第２実施形態を説明する。
図８の第２実施形態の安全継手１００－１では、充填装置側の継手１０、充填ホース側の継手２０のそれぞれのプラグ本体１、１１における水素流路１Ａ、１１Ａ側に、溝（凹部）を形成して、当該溝（凹部）にＯリング４、１４を嵌合している。その点で、図３～図７の第1実施形態と異なっている。図８の第２実施形態において、図３～図７の第１実施形態と同様な構成については、重複説明は回避する。
図３～図７の第1実施形態と同様に、図８の第２実施形態は、充填ホース側の継手２０に関して説明する。充填装置側の継手１０には図示しない。
図８の第２実施形態の安全継手１００－１では、充填装置側の継手１０、充填ホース側の継手２０のそれぞれのプラグ本体１、１１における水素流路１Ａ、１１Ａ側に、溝（凹部）を形成して、当該溝（凹部）にＯリング４、１４を嵌合している。その点で、図３～図７の第1実施形態と異なっている。図８の第２実施形態において、図３～図７の第１実施形態と同様な構成については、重複説明は回避する。
図３～図７の第1実施形態と同様に、図８の第２実施形態は、充填ホース側の継手２０に関して説明する。充填装置側の継手１０には図示しない。
【0039】
図８は、図３～図７の第1実施形態と異なる第２実施形態の構成を示している。
図８において、充填ホース側プラグ本体１１の流路の内径が小さい領域１１Ａ－３の内壁には、凹部１１Ｄ（溝）が形成されている。凹部１１Ｄには第２のシール手段を構成するＯリング１４が嵌合（或いは収容）されている。
充填ホース側の継手２０と充填装置側の継手１０が分離して、弁が閉鎖した状態（第1実施形態の図３の状態）において、Ｏリング１４と弁体１２（小径部１２Ｃ）の外周面により第２のシール手段１２Ｓ２－１を構成するが、弁開放時を示す図８では第２のシール手段１２Ｓ２－１は構成されていない。
流路１１Ａの内径が小さい領域１１Ａ－３には、領域１１Ａ－３の内壁面を摺動して凹部１１Ｄを開放し或いは閉鎖するシャッター１６が設けられている。シャッター１６は、弁体１２の軸方向の動作に連動し、弁開放時（第1実施形態の図７の状態：充填ホース側の継手２０と充填装置側の継手１０が結合している状態）では凹部１１Ｄを閉鎖（遮断）し、弁閉鎖時（第1実施形態の図３の状態）には凹部１１Ｄを開放する機能を有している。図８では、弁開放時に凹部１１Ｄを閉鎖する位置にあるシャッターを符号１６（Ａ）で示す。そして、弁閉鎖時に凹部１１Ｄを開放する位置にあるシャッターを符号１６（Ｂ）で示す。シャッター１６を（例えば弁体１２の移動と連動して）移動する機構については、従来公知の機構を採用することが出来る。
図８において、充填ホース側プラグ本体１１の流路の内径が小さい領域１１Ａ－３の内壁には、凹部１１Ｄ（溝）が形成されている。凹部１１Ｄには第２のシール手段を構成するＯリング１４が嵌合（或いは収容）されている。
充填ホース側の継手２０と充填装置側の継手１０が分離して、弁が閉鎖した状態（第1実施形態の図３の状態）において、Ｏリング１４と弁体１２（小径部１２Ｃ）の外周面により第２のシール手段１２Ｓ２－１を構成するが、弁開放時を示す図８では第２のシール手段１２Ｓ２－１は構成されていない。
流路１１Ａの内径が小さい領域１１Ａ－３には、領域１１Ａ－３の内壁面を摺動して凹部１１Ｄを開放し或いは閉鎖するシャッター１６が設けられている。シャッター１６は、弁体１２の軸方向の動作に連動し、弁開放時（第1実施形態の図７の状態：充填ホース側の継手２０と充填装置側の継手１０が結合している状態）では凹部１１Ｄを閉鎖（遮断）し、弁閉鎖時（第1実施形態の図３の状態）には凹部１１Ｄを開放する機能を有している。図８では、弁開放時に凹部１１Ｄを閉鎖する位置にあるシャッターを符号１６（Ａ）で示す。そして、弁閉鎖時に凹部１１Ｄを開放する位置にあるシャッターを符号１６（Ｂ）で示す。シャッター１６を（例えば弁体１２の移動と連動して）移動する機構については、従来公知の機構を採用することが出来る。
【0040】
図８において、充填装置側及び充填ホース側の継手１０、２０が結合している状態（弁開放時：第1実施形態の図７の状態）では流路１１Ａの領域１１Ａ－３のＯリング嵌合用の凹部１１Ｄは位置１６（Ａ）のシャッター１６により閉鎖されるので、凹部１１Ｄに収容されたＯリング１４は保護される。その結果、流路１１Ａを流れる高圧高速の水素ガスによりＯリング１４が脱落することが防止され、水素ガス中に異物が混入しても、Ｏリング１４は異物と接触せず、破損しない。
一方、継手１０、２０が分離された時（弁閉鎖時：第1実施形態の図３の状態）は、弁体１２が移動して弁を閉鎖する動作と連動して、シャッター１６を符号１６（Ｂ）で示す位置に移動して凹部１１Ｄを開放し、Ｏリング１４を露出させる。露出されたＯリング１４は、弁体１２の小径部１２Ｃの外周面と協働して、第２のシール手段１２Ｓ２－１として、低圧時におけるシール性能を発揮する。
図８の第２実施形態におけるその他の構成及び作用効果は、図３～図７の第１実施形態と同様である。
一方、継手１０、２０が分離された時（弁閉鎖時：第1実施形態の図３の状態）は、弁体１２が移動して弁を閉鎖する動作と連動して、シャッター１６を符号１６（Ｂ）で示す位置に移動して凹部１１Ｄを開放し、Ｏリング１４を露出させる。露出されたＯリング１４は、弁体１２の小径部１２Ｃの外周面と協働して、第２のシール手段１２Ｓ２－１として、低圧時におけるシール性能を発揮する。
図８の第２実施形態におけるその他の構成及び作用効果は、図３～図７の第１実施形態と同様である。
【0041】
図示の実施形態はあくまでも例示であり、本発明の技術的範囲を限定する趣旨の記述ではないことを付記する。
【符号の説明】
【0042】
１、１１・・・プラグ本体
１Ａ、１１Ａ・・・流路
１Ａ－２、１１Ａ－２・・・内径が大きい領域
１Ａ－３、１１Ａ－３・・・内径が小さい領域
１Ｂ、１１Ｂ・・・弁座
１Ｃ、１１Ｃ・・・弁体収容部
１Ｄ、１１Ｄ・・・凹部
２、１２・・・弁体
２Ａ、１２Ａ・・・弁体の大径部
２Ｂ、１２Ｂ・・・弁体のテーパ部
２Ｃ、１２Ｃ・・・弁体の小径部
２Ｄ、１２Ｄ・・・先端棒状領域
２Ｓ１、１２Ｓ１・・・第１のシール手段
２Ｓ２、１２Ｓ２、２Ｓ２－１、１２Ｓ２－１・・・第２のシール手段
３、１３・・・弾性体
４、１４・・・Ｏリング
５、１５・・・カバー部材
５Ａ、１５Ａ・・・突起（ガイド或いはフィン）
５Ｂ、１５Ｂ・・・カバー部材の外周部
５Ｃ、１５Ｃ・・・カバー部材の中空部
５Ｃ－１、１５Ｃ－１・・・カバー部材の中空部で内径寸法が大きい領域
５Ｃ－２、１５Ｃ－２・・・カバー部材の中空部で内径寸法が小さい領域
６、１６・・・シャッター部材
１００、１００－１・・・安全継手
１Ａ、１１Ａ・・・流路
１Ａ－２、１１Ａ－２・・・内径が大きい領域
１Ａ－３、１１Ａ－３・・・内径が小さい領域
１Ｂ、１１Ｂ・・・弁座
１Ｃ、１１Ｃ・・・弁体収容部
１Ｄ、１１Ｄ・・・凹部
２、１２・・・弁体
２Ａ、１２Ａ・・・弁体の大径部
２Ｂ、１２Ｂ・・・弁体のテーパ部
２Ｃ、１２Ｃ・・・弁体の小径部
２Ｄ、１２Ｄ・・・先端棒状領域
２Ｓ１、１２Ｓ１・・・第１のシール手段
２Ｓ２、１２Ｓ２、２Ｓ２－１、１２Ｓ２－１・・・第２のシール手段
３、１３・・・弾性体
４、１４・・・Ｏリング
５、１５・・・カバー部材
５Ａ、１５Ａ・・・突起（ガイド或いはフィン）
５Ｂ、１５Ｂ・・・カバー部材の外周部
５Ｃ、１５Ｃ・・・カバー部材の中空部
５Ｃ－１、１５Ｃ－１・・・カバー部材の中空部で内径寸法が大きい領域
５Ｃ－２、１５Ｃ－２・・・カバー部材の中空部で内径寸法が小さい領域
６、１６・・・シャッター部材
１００、１００－１・・・安全継手
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】