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特開2023-109867シラノール組成物、硬化物、接着剤、シラノール組成物を硬化させる方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023109867
(43)【公開日】2023-08-08
(54)【発明の名称】シラノール組成物、硬化物、接着剤、シラノール組成物を硬化させる方法
(51)【国際特許分類】
C08L 83/06 20060101AFI20230801BHJP
C08K 5/541 20060101ALI20230801BHJP
C08G 77/16 20060101ALI20230801BHJP
C09J 183/06 20060101ALI20230801BHJP
【ＦＩ】
C08L83/06
C08K5/541
C08G77/16
C09J183/06
【審査請求】有
【請求項の数】12
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023080104
(22)【出願日】2023-05-15
(62)【分割の表示】P 2021152215の分割
【原出願日】2018-08-10
(31)【優先権主張番号】P 2017157074
(32)【優先日】2017-08-16
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2017242154
(32)【優先日】2017-12-18
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2017242155
(32)【優先日】2017-12-18
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2017242161
(32)【優先日】2017-12-18
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000000033
【氏名又は名称】旭化成株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100079108
【弁理士】
【氏名又は名称】稲葉 良幸
(74)【代理人】
【識別番号】100109346
【弁理士】
【氏名又は名称】大貫 敏史
(74)【代理人】
【識別番号】100117189
【弁理士】
【氏名又は名称】江口 昭彦
(74)【代理人】
【識別番号】100134120
【弁理士】
【氏名又は名称】内藤 和彦
(72)【発明者】
【氏名】山内 一浩
(57)【要約】 （修正有）
【課題】接着力に優れ、且つ、透明性を有する硬化物が得られる、環状シラノールを含む組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される環状シラノール（Ａ１）：
（式（１）中、Ｒ１～Ｒ４は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）と、前記環状シラノールの脱水縮合物（Ａ２）とを含み、３μｍの厚みにおいて、ヘイズが５％以下である、シラノール組成物を提供する。
【選択図】なし
【解決手段】下記式（１）で表される環状シラノール（Ａ１）：
（式（１）中、Ｒ１～Ｒ４は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）と、前記環状シラノールの脱水縮合物（Ａ２）とを含み、３μｍの厚みにおいて、ヘイズが５％以下である、シラノール組成物を提供する。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（１）で表される環状シラノール（Ａ１）：
（式（１）中、Ｒ１～Ｒ４は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基
、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換
の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）と、
前記環状シラノールの脱水縮合物（Ａ２）と
を含み、
３μｍの厚みにおいて、ヘイズが１０％以下である、シラノール組成物。
【化1】
、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換
の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）と、
前記環状シラノールの脱水縮合物（Ａ２）と
を含み、
３μｍの厚みにおいて、ヘイズが１０％以下である、シラノール組成物。
【請求項2】
前記環状シラノール（Ａ１）が、下記式（２）～（５）で表される環状シラノール（Ｂ
１）～（Ｂ４）：
（式（２）～（５）中、Ｒ１～Ｒ４は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、
アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は
、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）
を含有し、
前記環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）の総量に対する前記環状シラノール（Ｂ２）の
割合（モル％）をｂとしたとき、０＜ｂ≦２０を満たす、請求項１に記載のシラノール組
成物。
１）～（Ｂ４）：
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】
アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は
、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）
を含有し、
前記環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）の総量に対する前記環状シラノール（Ｂ２）の
割合（モル％）をｂとしたとき、０＜ｂ≦２０を満たす、請求項１に記載のシラノール組
成物。
【請求項3】
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの測定において、前記脱水縮合物（Ａ２）の
面積が、前記環状シラノール（Ａ１）及び前記脱水縮合物（Ａ２）の総面積に対して、０
％超過５０％以下である、請求項１又は２に記載のシラノール組成物。
面積が、前記環状シラノール（Ａ１）及び前記脱水縮合物（Ａ２）の総面積に対して、０
％超過５０％以下である、請求項１又は２に記載のシラノール組成物。
【請求項4】
遷移金属の割合が、１ｐｐｍ未満である、請求項１～３のいずれか一項に記載のシラノ
ール組成物。
ール組成物。
【請求項5】
溶媒を含む、請求項１～４のいずれか一項に記載のシラノール組成物。
【請求項6】
平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下のシリカ粒子を含む、請求項１～５いずれか一項に
記載のシラノール組成物。
記載のシラノール組成物。
【請求項7】
下記式（６）で表される両末端シラノール変性シロキサンを含む、請求項１～６いずれ
か一項に記載のシラノール組成物。
（式（６）中、Ｒ'は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基、フッ
素で置換された直鎖状若しくは分枝状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖
状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基であり、ｍは０～１０００の整数である。
）
か一項に記載のシラノール組成物。
【化6】
素で置換された直鎖状若しくは分枝状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖
状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基であり、ｍは０～１０００の整数である。
）
【請求項8】
Ｎａ及びＶの合計含有割合が、６０ｐｐｍ未満である、請求項１～７いずれか一項に記
載のシラノール組成物。
載のシラノール組成物。
【請求項9】
請求項１～８のいずれか一項に記載のシラノール組成物を含む硬化物。
【請求項10】
請求項１～８のいずれか一項に記載のシラノール組成物を含む接着剤。
【請求項11】
請求項１～８のいずれか一項に記載のシラノール組成物を硬化させる方法であって、
６０～２５０℃で熱硬化させることを含む、方法。
６０～２５０℃で熱硬化させることを含む、方法。
【請求項12】
１０分～４８時間熱硬化させる、請求項１１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、シラノール組成物、前記シラノール組成物を含む硬化物及び接着剤、並びに
、シラノール組成物を硬化させる方法に関する。
、シラノール組成物を硬化させる方法に関する。
【背景技術】
【0002】
環状シラノールは、シロキサン結合によって環状構造を形成した骨格を有する化合物で
あり、かかる化合物を含む硬化性組成物は、発光ダイオード素子等の半導体素子の保護、
封止、及び接着に使用される。また、環状シラノールは、発光ダイオード素子から発せら
れる光の波長を変更又は調整することができ、レンズ等の用途に用いられる。
あり、かかる化合物を含む硬化性組成物は、発光ダイオード素子等の半導体素子の保護、
封止、及び接着に使用される。また、環状シラノールは、発光ダイオード素子から発せら
れる光の波長を変更又は調整することができ、レンズ等の用途に用いられる。
【0003】
近年、構造が精密制御された環状シラノールが報告されている。例えば、非特許文献１
には、all-trans体のテトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサンが開示され
ている。
には、all-trans体のテトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサンが開示され
ている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
【非特許文献1】Inorganic Chemistry Vol.49, No.2,2010
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、非特許文献１に開示されているall-trans体のテトラヒドロキシテトラ
メチルテトラシクロシロキサンを含む硬化性組成物を、保護、封止、及び接着をする対象
物に塗布するとき、十分な接着力が生じないという課題がある。
また、環状シラノール及びかかる環状シラノールを含む組成物をレンズ等の光学材料に
適用する場合、環状シラノール及びかかる環状シラノールを含む組成物を硬化物としたと
きに透明性（すなわち、光透過性）が必要とされる。
メチルテトラシクロシロキサンを含む硬化性組成物を、保護、封止、及び接着をする対象
物に塗布するとき、十分な接着力が生じないという課題がある。
また、環状シラノール及びかかる環状シラノールを含む組成物をレンズ等の光学材料に
適用する場合、環状シラノール及びかかる環状シラノールを含む組成物を硬化物としたと
きに透明性（すなわち、光透過性）が必要とされる。
【0006】
そこで、本発明は、接着力に優れ、且つ、透明性を有する硬化物が得られる、環状シラ
ノールを含む組成物を提供することを目的とする。
ノールを含む組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を進めた結果、環状シラノール及び
該環状シラノールの脱水縮合物を含み、特定のヘイズを有するシラノール組成物は、接着
力に優れ、また、透明性に優れる硬化物が得られることを見出し、本発明を完成するに至
った。
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
該環状シラノールの脱水縮合物を含み、特定のヘイズを有するシラノール組成物は、接着
力に優れ、また、透明性に優れる硬化物が得られることを見出し、本発明を完成するに至
った。
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
【0008】
［１］
下記式（１）で表される環状シラノール（Ａ１）：
（式（１）中、Ｒ１～Ｒ４は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基
、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換
の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）と、
前記環状シラノールの脱水縮合物（Ａ２）と
を含み、
３μｍの厚みにおいて、ヘイズが１０％以下である、シラノール組成物。
［２］
前記環状シラノール（Ａ１）が、下記式（２）～（５）で表される環状シラノール（Ｂ
１）～（Ｂ４）：
（式（２）～（５）中、Ｒ１～Ｒ４は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、
アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は
、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）
を含有し、
前記環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）の総量に対する前記環状シラノール（Ｂ２）の
割合（モル％）をｂとしたとき、０＜ｂ≦２０を満たす、［１］に記載のシラノール組成
物。
［３］
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの測定において、前記脱水縮合物（Ａ２）の
面積が、前記環状シラノール（Ａ１）及び前記脱水縮合物（Ａ２）の総面積に対して、０
％超過５０％以下である、［１］又は［２］に記載のシラノール組成物。
［４］
遷移金属の割合が、１ｐｐｍ未満である、［１］～［３］のいずれかに記載のシラノー
ル組成物。
［５］
溶媒を含む、［１］～［４］のいずれかに記載のシラノール組成物。
［６］
平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下のシリカ粒子を含む、［１］～［５］いずれかに記
載のシラノール組成物。
［７］
下記式（６）で表される両末端シラノール変性シロキサンを含む、［１］～［６］いず
れかに記載のシラノール組成物。
（式（６）中、Ｒ'は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基、フッ
素で置換された直鎖状若しくは分枝状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖
状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基であり、ｍは０～１０００の整数である。
）
［８］
Ｎａ及びＶの合計含有割合が、６０ｐｐｍ未満である、［１］～［７］いずれかに記載
のシラノール組成物。
［９］
［１］～［８］のいずれかに記載のシラノール組成物を含む硬化物。
［１０］
［１］～［８］のいずれかに記載のシラノール組成物を含む接着剤。
［１１］
［１］～［８］のいずれかに記載のシラノール組成物を硬化させる方法であって、
６０～２５０℃で熱硬化させることを含む、方法。
［１２］
１０分～４８時間熱硬化させる、［１１］に記載の方法。
下記式（１）で表される環状シラノール（Ａ１）：
【化1】
、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換
の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）と、
前記環状シラノールの脱水縮合物（Ａ２）と
を含み、
３μｍの厚みにおいて、ヘイズが１０％以下である、シラノール組成物。
［２］
前記環状シラノール（Ａ１）が、下記式（２）～（５）で表される環状シラノール（Ｂ
１）～（Ｂ４）：
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】
アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は
、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）
を含有し、
前記環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）の総量に対する前記環状シラノール（Ｂ２）の
割合（モル％）をｂとしたとき、０＜ｂ≦２０を満たす、［１］に記載のシラノール組成
物。
［３］
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの測定において、前記脱水縮合物（Ａ２）の
面積が、前記環状シラノール（Ａ１）及び前記脱水縮合物（Ａ２）の総面積に対して、０
％超過５０％以下である、［１］又は［２］に記載のシラノール組成物。
［４］
遷移金属の割合が、１ｐｐｍ未満である、［１］～［３］のいずれかに記載のシラノー
ル組成物。
［５］
溶媒を含む、［１］～［４］のいずれかに記載のシラノール組成物。
［６］
平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下のシリカ粒子を含む、［１］～［５］いずれかに記
載のシラノール組成物。
［７］
下記式（６）で表される両末端シラノール変性シロキサンを含む、［１］～［６］いず
れかに記載のシラノール組成物。
【化6】
素で置換された直鎖状若しくは分枝状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖
状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基であり、ｍは０～１０００の整数である。
）
［８］
Ｎａ及びＶの合計含有割合が、６０ｐｐｍ未満である、［１］～［７］いずれかに記載
のシラノール組成物。
［９］
［１］～［８］のいずれかに記載のシラノール組成物を含む硬化物。
［１０］
［１］～［８］のいずれかに記載のシラノール組成物を含む接着剤。
［１１］
［１］～［８］のいずれかに記載のシラノール組成物を硬化させる方法であって、
６０～２５０℃で熱硬化させることを含む、方法。
［１２］
１０分～４８時間熱硬化させる、［１１］に記載の方法。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、接着力に優れ、また、透明性に優れる硬化物が得られるシラノール組
成物を提供することができる。
成物を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【図1】実施例１０にて得られたシラノール組成物の立体異性体割合を算出する際に用いた１Ｈ-ＮＭＲスペクトルを示す図である。
【図2】実施例１６にて得られたシラノール組成物の立体異性体割合を算出する際に用いた１Ｈ-ＮＭＲスペクトルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」ともいう。）について詳細
に説明する。なお、本発明は、本実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内
で種々変形して実施することができる。
に説明する。なお、本発明は、本実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内
で種々変形して実施することができる。
【0012】
（シラノール組成物）
本実施形態のシラノール組成物は、式（１）で表される環状シラノール（Ａ１）、及び
、前記環状シラノールの脱水縮合物（Ａ２）を含む。また、本実施形態のシラノール組成
物は、３μｍの厚みにおいて、ヘイズが１０％以下である。
本実施形態のシラノール組成物は、式（１）で表される環状シラノール（Ａ１）、及び
、前記環状シラノールの脱水縮合物（Ａ２）を含む。また、本実施形態のシラノール組成
物は、３μｍの厚みにおいて、ヘイズが１０％以下である。
【0013】
【化7】
【0014】
式（１）中、Ｒ１～Ｒ４は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基
、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換
の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。
、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換
の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。
【0015】
本実施形態におけるアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げら
れる。
本実施形態におけるフッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキ
ルとしては、例えば、以下の基が挙げられる。
ＣＦ3－，
ＣＦ3ＣＦ2－，
ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2－，
（ＣＦ3）2ＣＦ－，
ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2－，
ＨＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2－，
（ＣＦ3）2ＣＦＣＦ2－
れる。
本実施形態におけるフッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキ
ルとしては、例えば、以下の基が挙げられる。
ＣＦ3－，
ＣＦ3ＣＦ2－，
ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2－，
（ＣＦ3）2ＣＦ－，
ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2－，
ＨＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2－，
（ＣＦ3）2ＣＦＣＦ2－
【0016】
本実施形態における非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキルとしては
、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔ
ｅｒｔ－ブチル等が挙げられる。
、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔ
ｅｒｔ－ブチル等が挙げられる。
【0017】
本実施形態におけるＲ１～Ｒ４基は、各々独立して、好ましくは非置換の直鎖状又は分
岐状の炭素数１～４のアルキルである。
岐状の炭素数１～４のアルキルである。
【0018】
本実施形態のシラノール組成物は、３μｍの厚みにおいて、ヘイズが１０％以下である
。シラノール組成物のヘイズが１０％以下であることにより、硬化物としたときの透明性
が高くなり、接着力に優れる傾向にある。
シラノール組成物におけるヘイズを１０％以下とする方法としては、例えば、式（１）
で表される環状シラノール（Ａ１）における異性体の割合を調整して結晶性の高い異性体
の割合を低下させる方法や、組成物に含まれる金属量を抑える方法等が挙げられる。
シラノール組成物のヘイズは、好ましくは５％以下であり、より好ましくは２％以下で
あり、さらに好ましくは１％以下である。
シラノール組成物のヘイズは、具体的には、実施例に記載の方法によって測定すること
ができる。
。シラノール組成物のヘイズが１０％以下であることにより、硬化物としたときの透明性
が高くなり、接着力に優れる傾向にある。
シラノール組成物におけるヘイズを１０％以下とする方法としては、例えば、式（１）
で表される環状シラノール（Ａ１）における異性体の割合を調整して結晶性の高い異性体
の割合を低下させる方法や、組成物に含まれる金属量を抑える方法等が挙げられる。
シラノール組成物のヘイズは、好ましくは５％以下であり、より好ましくは２％以下で
あり、さらに好ましくは１％以下である。
シラノール組成物のヘイズは、具体的には、実施例に記載の方法によって測定すること
ができる。
【0019】
本実施形態のシラノール組成物は、式（１）で表される環状シラノールの脱水縮合物を
含む。式（１）で表される環状シラノールの脱水縮合物とは、式（１）で表される環状シ
ラノールが有するシラノール基の少なくとも一つが、少なくとも一つの式（１）で表され
る別の環状シラノール分子における少なくとも一つのシラノール基と脱水縮合し、シロキ
サン結合を生成する反応により得られる化合物である。
式（１）で表される環状シラノールの脱水縮合物は、例えば、模式的に以下の式（７）
で表すことができる。
含む。式（１）で表される環状シラノールの脱水縮合物とは、式（１）で表される環状シ
ラノールが有するシラノール基の少なくとも一つが、少なくとも一つの式（１）で表され
る別の環状シラノール分子における少なくとも一つのシラノール基と脱水縮合し、シロキ
サン結合を生成する反応により得られる化合物である。
式（１）で表される環状シラノールの脱水縮合物は、例えば、模式的に以下の式（７）
で表すことができる。
【0020】
【化8】
【0021】
式（７）中、４つのＲは、各々独立して式（１）におけるＲ１～Ｒ４のいずれかであり
、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状
の炭素数１～４のアルキル、又は、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアル
キルであり、ｍは、２以上の整数である。環状シラノールにおける脱水縮合するシラノー
ル基は、いずれのシラノール基であってもよい。このとき、式（７）で表される脱水縮合
物においては、２分子以上の環状シラノール構造間で２以上のシロキサン結合が形成され
ていてもよい。また、式（７）中のＲの好ましい基としては、Ｒ１～Ｒ４基と同様の好ま
しい基を挙げることができる。
、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状
の炭素数１～４のアルキル、又は、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアル
キルであり、ｍは、２以上の整数である。環状シラノールにおける脱水縮合するシラノー
ル基は、いずれのシラノール基であってもよい。このとき、式（７）で表される脱水縮合
物においては、２分子以上の環状シラノール構造間で２以上のシロキサン結合が形成され
ていてもよい。また、式（７）中のＲの好ましい基としては、Ｒ１～Ｒ４基と同様の好ま
しい基を挙げることができる。
【0022】
式（１）で表される環状シラノールの脱水縮合物としては、具体的には、以下の化合物
が挙げられる。ただし、式（１）で表される環状シラノールの脱水縮合物は以下の化合物
に限定されるものではない。
なお、以下の化合物における、環状シラノール骨格に対するヒドロキシ基（－ＯＨ）及
びＲ基の配向は制限されない。また、以下の化合物におけるＲは、各々独立して式（１）
におけるＲ１～Ｒ４のいずれかである。さらに、以下の化合物におけるＲの好ましい基と
しては、Ｒ１～Ｒ４基と同様の好ましい基を挙げることができる。
が挙げられる。ただし、式（１）で表される環状シラノールの脱水縮合物は以下の化合物
に限定されるものではない。
なお、以下の化合物における、環状シラノール骨格に対するヒドロキシ基（－ＯＨ）及
びＲ基の配向は制限されない。また、以下の化合物におけるＲは、各々独立して式（１）
におけるＲ１～Ｒ４のいずれかである。さらに、以下の化合物におけるＲの好ましい基と
しては、Ｒ１～Ｒ４基と同様の好ましい基を挙げることができる。
【0023】
【化9】
【0024】
【化10】
【0025】
【化11】
【0026】
【化12】
【0027】
【化13】
【0028】
式（１）で表される環状シラノールの脱水縮合物は、ゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィーの測定によって算出した分子量が、好ましくは５００～１，０００，０００であ
り、より好ましくは５００～１００，０００であり、さらに好ましくは５００～１０，０
００である。
ラフィーの測定によって算出した分子量が、好ましくは５００～１，０００，０００であ
り、より好ましくは５００～１００，０００であり、さらに好ましくは５００～１０，０
００である。
【0029】
本実施形態のシラノール組成物は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの測定に
おいて、前記脱水縮合物（Ａ２）の面積が、前記環状シラノール（Ａ１）及び前記脱水縮
合物（Ａ２）の総面積に対して、０％超過５０％以下であることが好ましい。ゲルパーミ
エーションクロマトグラフィーの測定により求められる各化合物の面積は、シラノール組
成物中の各化合物の含有量を表す。
Ａ２の面積が０％超過５０％以下であることにより、シラノール組成物を製造する際に
、粘度が高くなり過ぎず、有機溶媒や水を含むシラノール組成物から有機溶媒や水を除去
しやすくなる傾向にある。
Ａ２の面積は、より好ましくは０％超過４０％以下であり、さらに好ましくは０％超過
２５％以下である。
Ａ２の面積、すなわちＡ２の含有量は、例えば、シラノール組成物の製造において、ヒ
ドロシラン化合物を酸化させ環状シラノールを得るとき、酸化反応後の精製により制御す
ることができる。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＡ１及びＡ２の面積、すなわち、Ａ１
及びＡ２の含有量の測定は、具体的には実施例に記載の方法によって行うことができる。
おいて、前記脱水縮合物（Ａ２）の面積が、前記環状シラノール（Ａ１）及び前記脱水縮
合物（Ａ２）の総面積に対して、０％超過５０％以下であることが好ましい。ゲルパーミ
エーションクロマトグラフィーの測定により求められる各化合物の面積は、シラノール組
成物中の各化合物の含有量を表す。
Ａ２の面積が０％超過５０％以下であることにより、シラノール組成物を製造する際に
、粘度が高くなり過ぎず、有機溶媒や水を含むシラノール組成物から有機溶媒や水を除去
しやすくなる傾向にある。
Ａ２の面積は、より好ましくは０％超過４０％以下であり、さらに好ましくは０％超過
２５％以下である。
Ａ２の面積、すなわちＡ２の含有量は、例えば、シラノール組成物の製造において、ヒ
ドロシラン化合物を酸化させ環状シラノールを得るとき、酸化反応後の精製により制御す
ることができる。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＡ１及びＡ２の面積、すなわち、Ａ１
及びＡ２の含有量の測定は、具体的には実施例に記載の方法によって行うことができる。
【0030】
本実施形態のシラノール組成物は、例えば、水又はアルコールの存在下で、ヒドロシラ
ン化合物を酸化させること等によって調製することができる。ヒドロシラン化合物は、水
素を含有する四置換テトラシクロシロキサンであればいずれも使用することができ、市販
品を使用することができる。
ヒドロシラン化合物は、好ましくは、以下の式（８）で表される四置換テトラシクロシ
ロキサンである。
ン化合物を酸化させること等によって調製することができる。ヒドロシラン化合物は、水
素を含有する四置換テトラシクロシロキサンであればいずれも使用することができ、市販
品を使用することができる。
ヒドロシラン化合物は、好ましくは、以下の式（８）で表される四置換テトラシクロシ
ロキサンである。
【0031】
【化14】
【0032】
式（８）中、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基、フッ素で置換
された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖状若しく
は分岐状の炭素数１～４のアルキルである。
された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖状若しく
は分岐状の炭素数１～４のアルキルである。
【0033】
環状ヒドロシラン化合物としては、具体的には、テトラメチルテトラシクロシロキサン
等が挙げられる。
一般的に、前記環状ヒドロシラン化合物は、ヒドロキシ又はアルコキシ官能基を有しな
いが、このような官能基は、酸化反応前に一定量含まれていてもよい。
等が挙げられる。
一般的に、前記環状ヒドロシラン化合物は、ヒドロキシ又はアルコキシ官能基を有しな
いが、このような官能基は、酸化反応前に一定量含まれていてもよい。
【0034】
ヒドロシラン化合物を酸化する方法としては、例えば、触媒及び／又は酸化剤を使用す
る方法等が挙げられる。
触媒としては、例えば、Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈ等の金属触媒を使用することができる。こ
れらの金属触媒は１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また
、これらの金属触媒は、炭素等の担体に担持されていてもよい。
酸化剤としては、例えば、ペルオキシド類等を使用することができる。ペルオキシド類
としては、いずれも使用することができ、例えば、ジメチルジオキシランのようなオキシ
ラン類等が挙げられる。
ヒドロシラン化合物を酸化する方法としては、反応性、及び反応後の触媒除去が容易で
あるとの観点から、Ｐｄ／炭素を用いることが好ましい。
る方法等が挙げられる。
触媒としては、例えば、Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈ等の金属触媒を使用することができる。こ
れらの金属触媒は１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また
、これらの金属触媒は、炭素等の担体に担持されていてもよい。
酸化剤としては、例えば、ペルオキシド類等を使用することができる。ペルオキシド類
としては、いずれも使用することができ、例えば、ジメチルジオキシランのようなオキシ
ラン類等が挙げられる。
ヒドロシラン化合物を酸化する方法としては、反応性、及び反応後の触媒除去が容易で
あるとの観点から、Ｐｄ／炭素を用いることが好ましい。
【0035】
水又はアルコールの存在下で、ヒドロシラン化合物を酸化させることによって調製され
る環状シラノールは、環状構造であるために、原料のＳｉＨ基の水素原子のシス、トラン
スに由来する、種々の異性体を含む。
前記式（８）で表される環状ヒドロシラン化合物は、クロロシランの加水分解や、ポリ
メチルシロキサンの平衡化重合反応により得られるが、シス、トランスに由来する異性体
の割合を制御することは困難であるため、環状ヒドロシラン化合物中には様々なシス、ト
ランスに由来した異性体が混在する。本実施形態における環状ヒドロシラン化合物のシス
及びトランスとは、それぞれ、隣接する２つのヒドロキシ基又は隣接する２つのＲ基が環
状シロキサン骨格に対し同じ配向であること（シス）、隣接する２つのヒドロキシ基又は
隣接する２つのＲ基が環状シロキサン骨格に対し異なる配向であること（トランス）を指
す。
る環状シラノールは、環状構造であるために、原料のＳｉＨ基の水素原子のシス、トラン
スに由来する、種々の異性体を含む。
前記式（８）で表される環状ヒドロシラン化合物は、クロロシランの加水分解や、ポリ
メチルシロキサンの平衡化重合反応により得られるが、シス、トランスに由来する異性体
の割合を制御することは困難であるため、環状ヒドロシラン化合物中には様々なシス、ト
ランスに由来した異性体が混在する。本実施形態における環状ヒドロシラン化合物のシス
及びトランスとは、それぞれ、隣接する２つのヒドロキシ基又は隣接する２つのＲ基が環
状シロキサン骨格に対し同じ配向であること（シス）、隣接する２つのヒドロキシ基又は
隣接する２つのＲ基が環状シロキサン骨格に対し異なる配向であること（トランス）を指
す。
【0036】
上述の酸化反応により製造した環状シラノールに含まれる異性体としては、以下の式（
２）で表されるall-cis型の環状シラノール（Ｂ１）が挙げられる。all-cis型の環状シラ
ノール（Ｂ１）は、式（２）によって示されるように、すべてのヒドロキシ基及びＲ１～
Ｒ４基が、それぞれ環状シロキサン骨格に対し同じ向きで配置する。
２）で表されるall-cis型の環状シラノール（Ｂ１）が挙げられる。all-cis型の環状シラ
ノール（Ｂ１）は、式（２）によって示されるように、すべてのヒドロキシ基及びＲ１～
Ｒ４基が、それぞれ環状シロキサン骨格に対し同じ向きで配置する。
【0037】
【化15】
【0038】
式（２）中、Ｒ１～Ｒ４は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基
、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル、又は、非置換の
直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキルである。
、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル、又は、非置換の
直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキルである。
【0039】
式（２）で表されるall-cis型の環状シラノール（Ｂ１）によって、環状ヒドロシラン
化合物から酸化反応により合成した環状シラノールが白濁する傾向にある。この現象は、
all-cis型の環状シラノール（Ｂ１）が結晶性を有するためであると考えられ、特に、保
存中や、－３０℃にて冷凍保管した場合に顕著である。結晶性が高い環状シラノールを除
去することにより、シラノール組成物中で該シラノールが結晶化して析出することを防ぎ
、透明性の高いシラノール組成物が得られ、透明性の高い硬化物も得ることができる。ま
た、結晶性の高い環状シラノールを除去することにより、シラノール組成物の接着力が向
上する。
化合物から酸化反応により合成した環状シラノールが白濁する傾向にある。この現象は、
all-cis型の環状シラノール（Ｂ１）が結晶性を有するためであると考えられ、特に、保
存中や、－３０℃にて冷凍保管した場合に顕著である。結晶性が高い環状シラノールを除
去することにより、シラノール組成物中で該シラノールが結晶化して析出することを防ぎ
、透明性の高いシラノール組成物が得られ、透明性の高い硬化物も得ることができる。ま
た、結晶性の高い環状シラノールを除去することにより、シラノール組成物の接着力が向
上する。
【0040】
透明性の高いシラノール組成物を得る観点から、環状シラノール（Ｂ１）の割合を少な
く抑えることが好ましい。
環状シラノール（Ｂ１）の割合を抑える方法としては、例えば、再結晶操作と結晶の除
去とを組み合わせる方法等が挙げられる。
より具体的には、環状シラノールの合成で得られた生成物の良溶媒溶液に、貧溶媒を添
加することにより、環状シラノール（Ｂ１）が結晶として析出する。析出した環状シラノ
ール（Ｂ１）を除去し、可溶部の溶液を濃縮することにより、シラノール組成物中の環状
シラノール（Ｂ１）の割合を抑え、透明性の高いシラノール組成物を得ることができる。
く抑えることが好ましい。
環状シラノール（Ｂ１）の割合を抑える方法としては、例えば、再結晶操作と結晶の除
去とを組み合わせる方法等が挙げられる。
より具体的には、環状シラノールの合成で得られた生成物の良溶媒溶液に、貧溶媒を添
加することにより、環状シラノール（Ｂ１）が結晶として析出する。析出した環状シラノ
ール（Ｂ１）を除去し、可溶部の溶液を濃縮することにより、シラノール組成物中の環状
シラノール（Ｂ１）の割合を抑え、透明性の高いシラノール組成物を得ることができる。
【0041】
再結晶操作を行う際、透明性の高いシラノール組成物を得る観点から、冷却温度は１０
℃未満が好ましい。また、環状シラノールの収量向上の観点から、貧溶媒の量（体積）は
、良溶媒の等量以上、２０倍以下が好ましい。
℃未満が好ましい。また、環状シラノールの収量向上の観点から、貧溶媒の量（体積）は
、良溶媒の等量以上、２０倍以下が好ましい。
【0042】
良溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトン、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
グリセリン、エチレングリコール、メチルエチルケトン等が挙げられる。これらの良溶媒
は一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
貧溶媒としては、例えば、トルエン、クロロホルム、ヘキサン、ジクロロメタン、キシ
レン等が挙げられる。これらの貧溶媒は一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせ
て用いてもよい。
ール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
グリセリン、エチレングリコール、メチルエチルケトン等が挙げられる。これらの良溶媒
は一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
貧溶媒としては、例えば、トルエン、クロロホルム、ヘキサン、ジクロロメタン、キシ
レン等が挙げられる。これらの貧溶媒は一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせ
て用いてもよい。
【0043】
環状シラノール（Ｂ１）の割合は、合成により得られた環状シラノールを1Ｈ－ＮＭＲ
測定することより算出することができる。具体的には、1Ｈ－ＮＭＲ測定において、環状
シラノール（Ｂ１）が有するＲ１～Ｒ４基に含まれる水素は、環状シラノールの他の異性
体が有するＲ１～Ｒ４基中の水素に対して、最も高磁場側にて観測される。したがって、
これらの水素の積分値から環状シラノール（Ｂ１）の割合を算出する。
測定することより算出することができる。具体的には、1Ｈ－ＮＭＲ測定において、環状
シラノール（Ｂ１）が有するＲ１～Ｒ４基に含まれる水素は、環状シラノールの他の異性
体が有するＲ１～Ｒ４基中の水素に対して、最も高磁場側にて観測される。したがって、
これらの水素の積分値から環状シラノール（Ｂ１）の割合を算出する。
【0044】
ヒドロシラン化合物の酸化を行う際金属触媒を用いた場合、上述した再結晶操作により
、不溶物残渣中に金属触媒中に含まれる遷移金属が残るため、結晶を除去する操作によっ
て、ろ液中の遷移金属の割合を低減することができる。したがって、式（２）で表される
環状シラノールを除くための操作によって、金属触媒が残留することに由来するシラノー
ルの着色を低減することも可能となる。
シラノール組成物の光透過性を高くする観点から、遷移金属の割合は、シラノール組成
物の全重量に対し、１ｐｐｍ未満であることが好ましい。
遷移金属の割合は、具体的には、実施例に記載の方法によって測定することができる。
遷移金属としては、例えば、パラジウムが挙げられる。
、不溶物残渣中に金属触媒中に含まれる遷移金属が残るため、結晶を除去する操作によっ
て、ろ液中の遷移金属の割合を低減することができる。したがって、式（２）で表される
環状シラノールを除くための操作によって、金属触媒が残留することに由来するシラノー
ルの着色を低減することも可能となる。
シラノール組成物の光透過性を高くする観点から、遷移金属の割合は、シラノール組成
物の全重量に対し、１ｐｐｍ未満であることが好ましい。
遷移金属の割合は、具体的には、実施例に記載の方法によって測定することができる。
遷移金属としては、例えば、パラジウムが挙げられる。
【0045】
また、ヒドロシラン化合物として式（８）で表される四置換テトラシクロシロキサンを
原料に用いて酸化させた場合、得られるテトラヒドロキシ四置換テトラシクロシロキサン
は、下記式（２）～（５）で表される環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）が混在してよく
、好ましくは環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）からなる。
原料に用いて酸化させた場合、得られるテトラヒドロキシ四置換テトラシクロシロキサン
は、下記式（２）～（５）で表される環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）が混在してよく
、好ましくは環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）からなる。
【0046】
【化16】
【化17】
【化18】
【化19】
【0047】
式（２）～（５）中、Ｒ１～Ｒ４は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、
アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は
、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。
式（２）～（５）におけるＲ１～Ｒ４の好ましい基は、式（１）におけるＲ１～Ｒ４の
好ましい基と同様である。
アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は
、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。
式（２）～（５）におけるＲ１～Ｒ４の好ましい基は、式（１）におけるＲ１～Ｒ４の
好ましい基と同様である。
【0048】
本実施形態における環状シラノール（Ａ１）は、下記式（２）～（５）で表される環状
シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）を含有し、前記環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）の総量
に対する前記環状シラノール（Ｂ２）の割合（モル％）をｂとしたとき、０＜ｂ≦２０を
満たすことが好ましい。
シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）を含有し、前記環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）の総量
に対する前記環状シラノール（Ｂ２）の割合（モル％）をｂとしたとき、０＜ｂ≦２０を
満たすことが好ましい。
【0049】
割合ｂを０＜ｂ≦２０とする方法としては、上述したように、例えば、再結晶操作と結
晶の除去とを組み合わせる方法等が挙げられる。
ヒドロシラン化合物としてテトラメチルテトラシクロシロキサンを原料に用いて酸化さ
せた場合、得られるテトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサンの1Ｈ－ＮＭ
Ｒを測定した場合、４種類の異性体の６種類のピークが観測される（ここで、trans-tran
s-cisについては、３種類のピークが観測される。）。Ｒ１～Ｒ４基中の水素は、高磁場
側から、all-cis（環状シラノール（Ｂ１））、trans-trans-cis（環状シラノール（Ｂ３
））、trans-trans-cis（環状シラノール（Ｂ３））、cis-trans-cis（環状シラノール（
Ｂ２））、all-trans（環状シラノール（Ｂ４））、trans-trans-cis（環状シラノール（
Ｂ３））型の順に観測されるため、かかる水素の積分値から、前記環状シラノール（Ｂ１
）～（Ｂ４）のそれぞれの割合を算出する。
晶の除去とを組み合わせる方法等が挙げられる。
ヒドロシラン化合物としてテトラメチルテトラシクロシロキサンを原料に用いて酸化さ
せた場合、得られるテトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサンの1Ｈ－ＮＭ
Ｒを測定した場合、４種類の異性体の６種類のピークが観測される（ここで、trans-tran
s-cisについては、３種類のピークが観測される。）。Ｒ１～Ｒ４基中の水素は、高磁場
側から、all-cis（環状シラノール（Ｂ１））、trans-trans-cis（環状シラノール（Ｂ３
））、trans-trans-cis（環状シラノール（Ｂ３））、cis-trans-cis（環状シラノール（
Ｂ２））、all-trans（環状シラノール（Ｂ４））、trans-trans-cis（環状シラノール（
Ｂ３））型の順に観測されるため、かかる水素の積分値から、前記環状シラノール（Ｂ１
）～（Ｂ４）のそれぞれの割合を算出する。
【0050】
式（３）で表される環状シラノール（Ｂ２）もまた結晶性を有するため、反応溶液に良
溶媒を用いた場合、貧溶媒を添加することにより結晶として析出する。環状シラノール（
Ｂ２）により、合成した環状シラノール（Ａ１）が白濁する傾向にある。この現象は、ci
s-trans-cis型の環状シラノール（Ｂ２）が結晶性を有するためであると考えられ、特に
、保存中や、－３０℃にて冷凍保管した場合に顕著である。
溶媒を用いた場合、貧溶媒を添加することにより結晶として析出する。環状シラノール（
Ｂ２）により、合成した環状シラノール（Ａ１）が白濁する傾向にある。この現象は、ci
s-trans-cis型の環状シラノール（Ｂ２）が結晶性を有するためであると考えられ、特に
、保存中や、－３０℃にて冷凍保管した場合に顕著である。
【0051】
透明性の高いシラノール組成物を得る観点から、環状シラノール（Ｂ２）の割合は、式
（１）で表される環状シラノールに対して、好ましくは０％～５０％であり、より好まし
くは０％～４０％であり、さらに好ましくは０～３５％であり、よりさらに好ましくは０
％以上３５％未満である。
（１）で表される環状シラノールに対して、好ましくは０％～５０％であり、より好まし
くは０％～４０％であり、さらに好ましくは０～３５％であり、よりさらに好ましくは０
％以上３５％未満である。
【0052】
本実施形態のシラノール組成物は、上述したように、水又はアルコールの存在下で、ヒ
ドロシラン化合物を酸化させることによって環状シラノールを調製し、当該環状シラノー
ルの合成で得られた生成物の良溶媒溶液に貧溶媒を添加することによる再結晶、ろ過を経
て、ろ過により得られる可溶部の溶液を濃縮することにより、好適に製造される。
本実施形態のシラノール組成物の製造において、可溶部の溶液の濃縮は任意で行えばよ
く、可溶部の溶液そのものをシラノール組成物として使用してもよい。また、可溶部の溶
液の濃縮では当該溶液に含まれるすべての溶媒を除去する必要はないため、本実施形態の
シラノール組成物は、可溶部の溶液に含まれる溶媒の一部を留去して得られる粗濃縮物で
あってもよい。またさらに、本実施形態のシラノール組成物は、可溶部の溶液を濃縮した
後に、溶媒で再希釈したものであってもよい。以上のように、本実施形態の好ましい態様
の一つは、溶媒を含むシラノール組成物である。
溶媒を含むシラノール組成物における溶媒の量は、特に制限されないが、シラノール組
成物全量に対し、好ましくは９５質量％以下であり、より好ましくは９０質量％以下であ
り、さらに好ましくは８５質量％以下である。溶媒の量の下限値は特に限定されないが、
通常１質量％以上である。
ドロシラン化合物を酸化させることによって環状シラノールを調製し、当該環状シラノー
ルの合成で得られた生成物の良溶媒溶液に貧溶媒を添加することによる再結晶、ろ過を経
て、ろ過により得られる可溶部の溶液を濃縮することにより、好適に製造される。
本実施形態のシラノール組成物の製造において、可溶部の溶液の濃縮は任意で行えばよ
く、可溶部の溶液そのものをシラノール組成物として使用してもよい。また、可溶部の溶
液の濃縮では当該溶液に含まれるすべての溶媒を除去する必要はないため、本実施形態の
シラノール組成物は、可溶部の溶液に含まれる溶媒の一部を留去して得られる粗濃縮物で
あってもよい。またさらに、本実施形態のシラノール組成物は、可溶部の溶液を濃縮した
後に、溶媒で再希釈したものであってもよい。以上のように、本実施形態の好ましい態様
の一つは、溶媒を含むシラノール組成物である。
溶媒を含むシラノール組成物における溶媒の量は、特に制限されないが、シラノール組
成物全量に対し、好ましくは９５質量％以下であり、より好ましくは９０質量％以下であ
り、さらに好ましくは８５質量％以下である。溶媒の量の下限値は特に限定されないが、
通常１質量％以上である。
【0053】
溶媒を含むシラノール組成物における溶媒としては、反応に使用した水及び／又はアル
コール、再結晶時に使用した良溶媒及び貧溶媒等が挙げられる。溶媒としては、以下に限
定されるものではないが、具体的には、水、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ア
セトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、グリセリン、エチレングリコール、メチルエチルケトン、トルエン、クロ
ロホルム、ヘキサン、ジクロロメタン、キシレン等が挙げられる。これらの溶媒は、一種
単独であってもよく、二種以上の組み合わせであってもよい。
コール、再結晶時に使用した良溶媒及び貧溶媒等が挙げられる。溶媒としては、以下に限
定されるものではないが、具体的には、水、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ア
セトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、グリセリン、エチレングリコール、メチルエチルケトン、トルエン、クロ
ロホルム、ヘキサン、ジクロロメタン、キシレン等が挙げられる。これらの溶媒は、一種
単独であってもよく、二種以上の組み合わせであってもよい。
【0054】
本実施形態のシラノール組成物は、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下のシリカ粒子を
さらに含むことが好ましい。
シリカ粒子の平均粒径が１ｎｍ以上であることにより、耐摩耗性に優れる傾向にある。
また、シリカ粒子の粒径が１００ｎｍ以下であることにより、透明分散性に優れる傾向に
ある。
シリカ粒子の平均粒径は、好ましくは１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、より好ましくは
２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。
シリカ粒子の平均粒径は、動的光散乱測定により測定することができる。
さらに含むことが好ましい。
シリカ粒子の平均粒径が１ｎｍ以上であることにより、耐摩耗性に優れる傾向にある。
また、シリカ粒子の粒径が１００ｎｍ以下であることにより、透明分散性に優れる傾向に
ある。
シリカ粒子の平均粒径は、好ましくは１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、より好ましくは
２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。
シリカ粒子の平均粒径は、動的光散乱測定により測定することができる。
【0055】
平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下のシリカ粒子としては、本実施形態のシラノール組
成物の透明性を維持できれば、その形態は特に制限されない。シリカ粒子としては、通常
の水性分散液の形態や、有機溶媒に分散させた形態で用いることができるが、シラノール
組成物中に均一かつ安定に分散させる観点から、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカ
を用いることが好ましい。
成物の透明性を維持できれば、その形態は特に制限されない。シリカ粒子としては、通常
の水性分散液の形態や、有機溶媒に分散させた形態で用いることができるが、シラノール
組成物中に均一かつ安定に分散させる観点から、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカ
を用いることが好ましい。
【0056】
シリカ粒子を分散させる有機溶媒としては、以下に限定されるものではないが、例えば
、メタノール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブタノール、エチレングリコール、キシレ
ン／ブタノール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
これらの中でも、シラノール組成物中にシリカ粒子を均一に分散させる観点から、シラ
ノール組成物を溶解することができる有機溶媒を選択することが好ましい。
、メタノール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブタノール、エチレングリコール、キシレ
ン／ブタノール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
これらの中でも、シラノール組成物中にシリカ粒子を均一に分散させる観点から、シラ
ノール組成物を溶解することができる有機溶媒を選択することが好ましい。
【0057】
有機溶媒に分散させた形態のコロイダルシリカとしては、以下に限定されるものではな
いが、例えば、メタノールシリカゾルＭＡ－ＳＴ、イソプロピルアルコールシリカゾルＩ
ＰＡ－ＳＴ、ｎ－ブタノールシリカゾルＮＢＡ－ＳＴ、エチレングリコールシリカゾルＥ
Ｇ－ＳＴ、キシレン／ブタノールシリカゾルＸＢＡ－ＳＴ、エチルセロソルブシリカゾル
ＥＴＣ－ＳＴ、ブチルセロソルブシリカゾルＢＴＣ－ＳＴ、ジメチルホルムアミドシリカ
ゾルＤＢＦ－ＳＴ、ジメチルアセトアミドシリカゾルＤＭＡＣ－ＳＴ、メチルエチルケト
ンシリカゾルＭＥＫ－ＳＴ、メチルイソブチルケトンシリカゾルＭＩＢＫ－ＳＴ（以上、
商品名、日産化学社製）等の市販品を用いることができる。
いが、例えば、メタノールシリカゾルＭＡ－ＳＴ、イソプロピルアルコールシリカゾルＩ
ＰＡ－ＳＴ、ｎ－ブタノールシリカゾルＮＢＡ－ＳＴ、エチレングリコールシリカゾルＥ
Ｇ－ＳＴ、キシレン／ブタノールシリカゾルＸＢＡ－ＳＴ、エチルセロソルブシリカゾル
ＥＴＣ－ＳＴ、ブチルセロソルブシリカゾルＢＴＣ－ＳＴ、ジメチルホルムアミドシリカ
ゾルＤＢＦ－ＳＴ、ジメチルアセトアミドシリカゾルＤＭＡＣ－ＳＴ、メチルエチルケト
ンシリカゾルＭＥＫ－ＳＴ、メチルイソブチルケトンシリカゾルＭＩＢＫ－ＳＴ（以上、
商品名、日産化学社製）等の市販品を用いることができる。
【0058】
本実施形態のシラノール組成物が平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下のシリカ粒子をさ
らに含む場合、上述したように、水又はアルコールの存在下で、ヒドロシラン化合物を酸
化することによって環状シラノールを調製し、当該環状シラノールの合成で得られた生成
物の良溶媒溶液に貧溶媒を添加することによる再結晶、ろ過を経て、ろ過により得られる
可溶部の溶液を濃縮し、さらに、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下のシリカ粒子又はシ
リカ粒子分散液を添加することにより、好適に製造される。
らに含む場合、上述したように、水又はアルコールの存在下で、ヒドロシラン化合物を酸
化することによって環状シラノールを調製し、当該環状シラノールの合成で得られた生成
物の良溶媒溶液に貧溶媒を添加することによる再結晶、ろ過を経て、ろ過により得られる
可溶部の溶液を濃縮し、さらに、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下のシリカ粒子又はシ
リカ粒子分散液を添加することにより、好適に製造される。
【0059】
本実施形態のシラノール組成物中の前記シリカ粒子の含有量は、シラノール組成物中の
固形分の全量に対し、好ましくは１０～８０質量％であり、より好ましくは２０～７０質
量％であり、さらに好ましくは３０～６０質量％である。
前記シリカ粒子の含有量が１０質量％以上であることにより、得られる硬化物の耐摩耗
性が優れる傾向にある。また、前記シリカ粒子の含有量が８０質量％以下であることによ
り、得られる硬化物の透明性が優れる傾向にある。
ここで、シラノール組成物中の固形分の全量は、好ましくは環状シラノール（Ａ１）と
前記シリカ粒子との合計量である。
固形分の全量に対し、好ましくは１０～８０質量％であり、より好ましくは２０～７０質
量％であり、さらに好ましくは３０～６０質量％である。
前記シリカ粒子の含有量が１０質量％以上であることにより、得られる硬化物の耐摩耗
性が優れる傾向にある。また、前記シリカ粒子の含有量が８０質量％以下であることによ
り、得られる硬化物の透明性が優れる傾向にある。
ここで、シラノール組成物中の固形分の全量は、好ましくは環状シラノール（Ａ１）と
前記シリカ粒子との合計量である。
【0060】
本実施形態のシラノール組成物は、下記式（６）で表される両末端シラノール変性シロ
キサンをさらに含むことが好ましい。
キサンをさらに含むことが好ましい。
【0061】
【化20】
【0062】
式（６）中、Ｒ'は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基、フッ
素で置換された直鎖状若しくは分枝状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖
状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基であり、ｍは０～１０００の整数である。
素で置換された直鎖状若しくは分枝状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖
状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基であり、ｍは０～１０００の整数である。
【0063】
式（６）中、Ｒ'は、熱分解を抑制する観点から、好ましくは非置換の直鎖状若しくは
分岐状の炭素数１～４のアルキル基であり、より好ましくは非置換の炭素数１～２のアル
キル基であり、さらに好ましくは非置換のメチル基である。
分岐状の炭素数１～４のアルキル基であり、より好ましくは非置換の炭素数１～２のアル
キル基であり、さらに好ましくは非置換のメチル基である。
【0064】
前記式（６）で表される両末端シラノール変性シロキサンの分子量は、環状シラノール
（Ａ１）との相溶性の観点から、好ましくは１００００以下であり、より好ましくは５０
００以下であり、さらに好ましくは３５００以下である。
また、前記式（６）で表される両末端シラノール変性シロキサンの分子量は、揮発を抑
制する観点から、好ましくは２００以上であり、より好ましくは３００以上であり、さら
に好ましくは４００以上である。
前記式（６）で表される両末端シラノール変性シロキサンの分子量は、ゲル浸透クロマ
トグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。
（Ａ１）との相溶性の観点から、好ましくは１００００以下であり、より好ましくは５０
００以下であり、さらに好ましくは３５００以下である。
また、前記式（６）で表される両末端シラノール変性シロキサンの分子量は、揮発を抑
制する観点から、好ましくは２００以上であり、より好ましくは３００以上であり、さら
に好ましくは４００以上である。
前記式（６）で表される両末端シラノール変性シロキサンの分子量は、ゲル浸透クロマ
トグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。
【0065】
両末端シラノール変性シロキサンとしては、以下に限定されるものではないが、例えば
、１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンジオール－１，３－ジオール、１，１，３
，３，５，５－ヘキサメチルジシロキサン－１，５－ジオール、１，１，３，３，５，５
，７，７－オクタメチルテトラシロキサン－１，７－ジオール、１，１，３，３，５，５
，７，７，９，９－デカメチルペンタシロキサン－１，９－ジオール、両末端ジオール変
性ポリメチルジメチルジシロキサン等が挙げられる。
両末端シラノール変性シロキサンは、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよ
い。
、１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンジオール－１，３－ジオール、１，１，３
，３，５，５－ヘキサメチルジシロキサン－１，５－ジオール、１，１，３，３，５，５
，７，７－オクタメチルテトラシロキサン－１，７－ジオール、１，１，３，３，５，５
，７，７，９，９－デカメチルペンタシロキサン－１，９－ジオール、両末端ジオール変
性ポリメチルジメチルジシロキサン等が挙げられる。
両末端シラノール変性シロキサンは、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよ
い。
【0066】
両末端シラノール変性シロキサンとしては、市販品を用いてもよい。市販品としては、
以下に限定されるものではないが、例えば、Ｘ２１－５８４１、ＫＦ９７０１（以上信越
化学製）、及びＤＭＳ－Ｓ１２、ＤＭＳ－Ｓ１４、ＤＭＳ－Ｓ１５、ＤＭＳ－Ｓ２１、Ｄ
ＭＳ－Ｓ２７、ＤＭＳ－Ｓ３１、ＤＭＳ－Ｓ３２、ＤＭＳ－Ｓ３３、ＤＭＳ－Ｓ３５、Ｄ
ＭＳ－Ｓ４２、ＤＭＳ－Ｓ４５、ＤＭＳ－Ｓ５１（以上Ｇｅｌｅｓｔ製）等が挙げられる
。
以下に限定されるものではないが、例えば、Ｘ２１－５８４１、ＫＦ９７０１（以上信越
化学製）、及びＤＭＳ－Ｓ１２、ＤＭＳ－Ｓ１４、ＤＭＳ－Ｓ１５、ＤＭＳ－Ｓ２１、Ｄ
ＭＳ－Ｓ２７、ＤＭＳ－Ｓ３１、ＤＭＳ－Ｓ３２、ＤＭＳ－Ｓ３３、ＤＭＳ－Ｓ３５、Ｄ
ＭＳ－Ｓ４２、ＤＭＳ－Ｓ４５、ＤＭＳ－Ｓ５１（以上Ｇｅｌｅｓｔ製）等が挙げられる
。
【0067】
本実施形態のシラノール組成物中の前記両末端シラノール変性シロキサンの含有量は、
シラノール組成物量に対し、好ましくは１～８０質量％であり、より好ましくは１０～６
０質量％であり、さらに好ましくは１５～５０質量％である。
前記両末端シラノール変性シロキサンの含有量の含有量が１質量％以上であることによ
り、得られる硬化物の耐クラック性が優れる傾向にある。また、前記両末端シラノール変
性シロキサンの含有量の含有量が８０質量％以下であることにより、得られる硬化物の透
明性が優れる傾向にある。
シラノール組成物量に対し、好ましくは１～８０質量％であり、より好ましくは１０～６
０質量％であり、さらに好ましくは１５～５０質量％である。
前記両末端シラノール変性シロキサンの含有量の含有量が１質量％以上であることによ
り、得られる硬化物の耐クラック性が優れる傾向にある。また、前記両末端シラノール変
性シロキサンの含有量の含有量が８０質量％以下であることにより、得られる硬化物の透
明性が優れる傾向にある。
【0068】
本実施形態のシラノール組成物は、ナトリウム（Ｎａ）及びバナジウム（Ｖ）の合計含
有割合が６０ｐｐｍ未満であることが好ましい。
Ｎａ及びＶの合計の含有割合が６０ｐｐｍ未満であることにより、保存安定性が向上す
る傾向にある。
シラノール組成物中のＮａ原子及びＶ原子の合計の含有割合は、好ましくは２０ｐｐｍ
以下であり、より好ましくは１２ｐｐｍ以下であり、さらに好ましくは２ｐｐｍ以下であ
り、さらにより好ましくは１ｐｐｍ以下である。
また、本実施形態のシラノール組成物中のＮａ、Ｖのそれぞれの含有割合は、保存安定
性の観点から、３０ｐｐｍ未満であることが好ましく、１０ｐｐｍ以下であることがより
好ましく、６ｐｐｍ以下であることがさらに好ましく、１ｐｐｍ以下であることがさらに
より好ましい。
有割合が６０ｐｐｍ未満であることが好ましい。
Ｎａ及びＶの合計の含有割合が６０ｐｐｍ未満であることにより、保存安定性が向上す
る傾向にある。
シラノール組成物中のＮａ原子及びＶ原子の合計の含有割合は、好ましくは２０ｐｐｍ
以下であり、より好ましくは１２ｐｐｍ以下であり、さらに好ましくは２ｐｐｍ以下であ
り、さらにより好ましくは１ｐｐｍ以下である。
また、本実施形態のシラノール組成物中のＮａ、Ｖのそれぞれの含有割合は、保存安定
性の観点から、３０ｐｐｍ未満であることが好ましく、１０ｐｐｍ以下であることがより
好ましく、６ｐｐｍ以下であることがさらに好ましく、１ｐｐｍ以下であることがさらに
より好ましい。
【0069】
本実施形態のシラノール組成物中のＮａ及びＶの合計の含有割合を６０ｐｐｍ未満に制
御する方法としては、以下に限定されるものではないが、例えば、本実施形態のシラノー
ル組成物を製造する際のろ過の工程において、粉末セルロースを濾過助剤として用いるこ
と等が挙げられる。
粉末セルロースの市販品としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ＫＣフ
ロック Ｗ５０ＧＫ（日本製紙製）、ＫＣフロック Ｗ１００－ＧＫ（日本製紙製）、セ
ルロース粉末３８μｍ（４００ｍｅｓｈ）通過（和光純薬製）等が挙げられる。
シラノール組成物中のＮａ、Ｖの含有割合を６０ｐｐｍ未満にする方法としては、上述
した方法の他にも、Ｎａ及びＶを含有しない濾過助剤を用いる方法等が挙げられる。
御する方法としては、以下に限定されるものではないが、例えば、本実施形態のシラノー
ル組成物を製造する際のろ過の工程において、粉末セルロースを濾過助剤として用いるこ
と等が挙げられる。
粉末セルロースの市販品としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ＫＣフ
ロック Ｗ５０ＧＫ（日本製紙製）、ＫＣフロック Ｗ１００－ＧＫ（日本製紙製）、セ
ルロース粉末３８μｍ（４００ｍｅｓｈ）通過（和光純薬製）等が挙げられる。
シラノール組成物中のＮａ、Ｖの含有割合を６０ｐｐｍ未満にする方法としては、上述
した方法の他にも、Ｎａ及びＶを含有しない濾過助剤を用いる方法等が挙げられる。
【0070】
シラノール組成物中のＮａ、Ｖの含有割合は、後述する実施例に記載された方法にした
がって測定することができる。
がって測定することができる。
【0071】
（硬化物）
本実施形態の硬化物は、本実施形態のシラノール組成物を含む。
本実施形態の硬化物は、硬化させること、すなわち、本実施形態のシラノール組成物に
含まれるシラノール基（－Ｓｉ－ＯＨ）の脱水縮合反応により、シロキサン結合（－Ｓｉ
－Ｏ－Ｓｉ－）を形成させることにより得られ、テトラヒドロフラン、トルエン等の溶媒
に不溶なものである。
本実施形態の一つは、本実施形態のシラノール組成物を硬化させる方法である。
本実施形態の硬化物は、本実施形態のシラノール組成物を含む。
本実施形態の硬化物は、硬化させること、すなわち、本実施形態のシラノール組成物に
含まれるシラノール基（－Ｓｉ－ＯＨ）の脱水縮合反応により、シロキサン結合（－Ｓｉ
－Ｏ－Ｓｉ－）を形成させることにより得られ、テトラヒドロフラン、トルエン等の溶媒
に不溶なものである。
本実施形態の一つは、本実施形態のシラノール組成物を硬化させる方法である。
【0072】
環状シラノールは、触媒非存在下で重合してもよく、触媒を添加して重合してもよい。
環状シラノールの重合に使用される触媒は、環状シラノールの加水分解及び縮合反応を
促進させる作用をする。触媒としては、酸触媒又はアルカリ触媒を使用することができる
。
環状シラノールの重合に使用される触媒は、環状シラノールの加水分解及び縮合反応を
促進させる作用をする。触媒としては、酸触媒又はアルカリ触媒を使用することができる
。
【0073】
酸触媒としては、特に制限はないが、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、フッ酸、ホ
ルム酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、
フマル酸、クエン酸、マレイン酸、オレイン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、ｐ－アミ
ノ安息香酸、及びｐ－トルエンスルホン酸等が好適に挙げられる。
アルカリ触媒としては、特に制限はないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、
アンモニア水及び有機アミン等が好適に挙げられる。また、無機塩基が使用される場合に
は、金属イオンを含まない絶縁膜を形成するための組成物が使用される。
酸触媒及びアルカリ触媒は、それぞれ、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合
わせて用いてもよい。
ルム酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、
フマル酸、クエン酸、マレイン酸、オレイン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、ｐ－アミ
ノ安息香酸、及びｐ－トルエンスルホン酸等が好適に挙げられる。
アルカリ触媒としては、特に制限はないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、
アンモニア水及び有機アミン等が好適に挙げられる。また、無機塩基が使用される場合に
は、金属イオンを含まない絶縁膜を形成するための組成物が使用される。
酸触媒及びアルカリ触媒は、それぞれ、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合
わせて用いてもよい。
【0074】
触媒の添加量は、反応条件によって調節することができ、環状シラノールの水酸基１モ
ルに対して、好ましくは０．０００００１～２モルである。添加量が環状シラノールの水
酸基１モルに対して２モルを超える場合には、低濃度でも反応速度が非常に速いため分子
量の調節が難しく、ゲルが発生しやすい傾向にある。
ルに対して、好ましくは０．０００００１～２モルである。添加量が環状シラノールの水
酸基１モルに対して２モルを超える場合には、低濃度でも反応速度が非常に速いため分子
量の調節が難しく、ゲルが発生しやすい傾向にある。
【0075】
硬化物を得る際に、シラノール組成物を酸触媒及びアルカリ触媒を利用することにより
、段階的に加水分解及び縮合反応することができる。具体的には、シラノール組成物を酸
で加水分解及び縮合反応を行った後、塩基で再び反応させたり、あるいは、塩基で先に加
水分解及び縮合反応を行って、再び酸で反応させたりして、硬化物を得ることができる。
また、酸触媒とアルカリ触媒とで各々反応させた後、縮合物を混合してシラノール組成物
として使用することもできる。
、段階的に加水分解及び縮合反応することができる。具体的には、シラノール組成物を酸
で加水分解及び縮合反応を行った後、塩基で再び反応させたり、あるいは、塩基で先に加
水分解及び縮合反応を行って、再び酸で反応させたりして、硬化物を得ることができる。
また、酸触媒とアルカリ触媒とで各々反応させた後、縮合物を混合してシラノール組成物
として使用することもできる。
【0076】
本実施形態のシラノール組成物を硬化させるとき、加熱してもよい。
硬化物を硬化させるときの温度は、特に制限はないが、好ましくは６０～２５０℃であ
り、より好ましくは８０～２００℃である。
本実施形態のシラノール組成物を硬化させる方法では、１０分～４８時間熱硬化させる
ことが好ましい。
硬化物を硬化させるときの温度は、特に制限はないが、好ましくは６０～２５０℃であ
り、より好ましくは８０～２００℃である。
本実施形態のシラノール組成物を硬化させる方法では、１０分～４８時間熱硬化させる
ことが好ましい。
【0077】
本実施形態のシラノール組成物は、接着剤として使用することができる。本実施形態の
シラノール組成物を基材に塗布し、接着層を形成させ、シラノール組成物を含む接着層を
硬化させることにより接着する。基材としては、ガラス、シリコンウエハー、ＳｉＯ2ウ
エハー、ＳｉＮウエハー、化合物半導体等が挙げられる。
シラノール組成物を基材に塗布し、接着層を形成させ、シラノール組成物を含む接着層を
硬化させることにより接着する。基材としては、ガラス、シリコンウエハー、ＳｉＯ2ウ
エハー、ＳｉＮウエハー、化合物半導体等が挙げられる。
【実施例0078】
本発明を実施例及び比較例を用いてさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例
等により何ら限定されるものではない。
本発明及び以下の実施例、比較例により得られるシラノール組成物の、物性の測定方法
、特性の評価方法は以下のとおりである。
等により何ら限定されるものではない。
本発明及び以下の実施例、比較例により得られるシラノール組成物の、物性の測定方法
、特性の評価方法は以下のとおりである。
【0079】
（塗布溶液の重量パーセント濃度の算出）
日本電子株式会社製ＥＣＺ４００Ｓ、プローブはＴＦＨプローブを用いて、以下のよう
にしてＮＭＲ測定を行った。
例えば、テトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサン及びその重合体のイソ
プロパノール溶液の場合は、テトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサン及び
その重合体のイソプロパノール溶液０．１ｇに重アセトン１ｇを添加したサンプルを用い
て、１Ｈ－ＮＭＲを測定した。なお、重溶媒の基準ピークを２．０５ｐｐｍとし、積算回
数は６４回で測定を行った。
テトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサン及びその重合体の重量パーセン
ト濃度は近似的に以下式にて算出できる。
テトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサン及びその重合体の重量パーセン
ト濃度＝（－０．１－０．３ｐｐｍの領域のＳｉに結合するメチル基のピーク積分比／１
２×３０４．５１）／｛（－０．１－０．３ｐｐｍの領域のＳｉに結合するメチル基のピ
ーク積分比／１２×３０４．５１）＋（３．７－４．１ｐｐｍの領域のイソプロパノール
の炭素に結合する水素のピーク積分値／１×６０．１）｝
なお、前記式中、３０４．５１はテトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサ
ンの分子量、６０．１はイソプロパノールの分子量を意味する。
日本電子株式会社製ＥＣＺ４００Ｓ、プローブはＴＦＨプローブを用いて、以下のよう
にしてＮＭＲ測定を行った。
例えば、テトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサン及びその重合体のイソ
プロパノール溶液の場合は、テトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサン及び
その重合体のイソプロパノール溶液０．１ｇに重アセトン１ｇを添加したサンプルを用い
て、１Ｈ－ＮＭＲを測定した。なお、重溶媒の基準ピークを２．０５ｐｐｍとし、積算回
数は６４回で測定を行った。
テトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサン及びその重合体の重量パーセン
ト濃度は近似的に以下式にて算出できる。
テトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサン及びその重合体の重量パーセン
ト濃度＝（－０．１－０．３ｐｐｍの領域のＳｉに結合するメチル基のピーク積分比／１
２×３０４．５１）／｛（－０．１－０．３ｐｐｍの領域のＳｉに結合するメチル基のピ
ーク積分比／１２×３０４．５１）＋（３．７－４．１ｐｐｍの領域のイソプロパノール
の炭素に結合する水素のピーク積分値／１×６０．１）｝
なお、前記式中、３０４．５１はテトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサ
ンの分子量、６０．１はイソプロパノールの分子量を意味する。
【0080】
（ヘイズの測定）
ヘイズは濁度計ＮＤＨ５０００Ｗ（日本電色工業製）を用い、ＪＩＳＫ７１３６に基づ
き測定を行った。以下に具体的操作を示す。
シラノール組成物のヘイズは素ガラス基板５ｃｍ×５ｃｍ×０．７ｍｍ厚（テクノプリ
ント社製）にシラノール組成物４２ｗｔ％イソプロパノール溶液をバーコーターＮｏ．４
０（アズワン製）にて塗布後、６０℃１時間にて減圧下で乾燥し、ヘイズを測定した。な
お、ヘイズ測定のブランクは素ガラス基板５ｃｍ×５ｃｍ×０．７ｍｍ厚（テクノプリン
ト社製）のみを用いた。
実施例１０、１６、比較例１に関しては２４時間後のヘイズも測定した。
硬化物のヘイズはシラノール組成物のヘイズ測定で作製したサンプルを常圧にて１００
℃２時間加熱することにより得られたサンプルを用いて測定した。
ヘイズは濁度計ＮＤＨ５０００Ｗ（日本電色工業製）を用い、ＪＩＳＫ７１３６に基づ
き測定を行った。以下に具体的操作を示す。
シラノール組成物のヘイズは素ガラス基板５ｃｍ×５ｃｍ×０．７ｍｍ厚（テクノプリ
ント社製）にシラノール組成物４２ｗｔ％イソプロパノール溶液をバーコーターＮｏ．４
０（アズワン製）にて塗布後、６０℃１時間にて減圧下で乾燥し、ヘイズを測定した。な
お、ヘイズ測定のブランクは素ガラス基板５ｃｍ×５ｃｍ×０．７ｍｍ厚（テクノプリン
ト社製）のみを用いた。
実施例１０、１６、比較例１に関しては２４時間後のヘイズも測定した。
硬化物のヘイズはシラノール組成物のヘイズ測定で作製したサンプルを常圧にて１００
℃２時間加熱することにより得られたサンプルを用いて測定した。
【0081】
（膜厚の測定）
膜厚はヘイズの測定用に作製したサンプルを表面形状測定機計（製造所名：(株)小坂研
究所型式：ET4000AK31製）にて測定し、膜厚を算出した。
膜厚はヘイズの測定用に作製したサンプルを表面形状測定機計（製造所名：(株)小坂研
究所型式：ET4000AK31製）にて測定し、膜厚を算出した。
【0082】
（接着力の確認）
シラノール組成物のヘイズ測定で作製したサンプルの上に、Ｔ－３０００－ＦＣ３マニ
ュアルダイボンダー（ＴＲＥＳＫＹ製）を用いて直径２ミリの半球石英レンズを荷重４０
０ｇ３秒で乗せた。その後、常圧下、１００℃２時間加熱した後に、得られた半球レンズ
が載ったガラスを横から押し、接着の有無を確認した。
シラノール組成物のヘイズ測定で作製したサンプルの上に、Ｔ－３０００－ＦＣ３マニ
ュアルダイボンダー（ＴＲＥＳＫＹ製）を用いて直径２ミリの半球石英レンズを荷重４０
０ｇ３秒で乗せた。その後、常圧下、１００℃２時間加熱した後に、得られた半球レンズ
が載ったガラスを横から押し、接着の有無を確認した。
【0083】
（環状シラノール（Ａ１）及び脱水縮合物（Ａ２）のＧＰＣによる面積％の測定）
シラノール組成物０．０３ｇに対して、１．５ｍＬの割合でテトラヒドロフランに溶解
した溶液を測定試料とした。
この測定試料を用いて、東ソー社製ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣで測定した。
カラムは東ソー社製のＴＳＫガードカラムＳｕｐｅｒＨ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅ
ｒＨＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ２０００
、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ１０００を直列に連結して使用し、テトラヒドロフランを
移動相として０．３５ｍｌ／分の速度で分析した。
検出器はＲＩディテクターを使用し、American Polymer Standards Corporation製ポリ
メタクリル酸メチル標準試料（分子量：２１０００００、３２２０００、８７８００、２
０８５０、２０００、６７００００、１３００００、４６３００、１１８００、８６０）
、及び１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン（分子量２４０．５、東京
化成製）を標準物質として、数平均分子量及び重量平均分子量を求め、ｐ＝０及び、ｐ≧
１のピークを特定し、環状シラノール（Ａ１）及び脱水縮合物（Ａ２）それぞれのピーク
の面積比を算出した。
シラノール組成物０．０３ｇに対して、１．５ｍＬの割合でテトラヒドロフランに溶解
した溶液を測定試料とした。
この測定試料を用いて、東ソー社製ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣで測定した。
カラムは東ソー社製のＴＳＫガードカラムＳｕｐｅｒＨ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅ
ｒＨＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ２０００
、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ１０００を直列に連結して使用し、テトラヒドロフランを
移動相として０．３５ｍｌ／分の速度で分析した。
検出器はＲＩディテクターを使用し、American Polymer Standards Corporation製ポリ
メタクリル酸メチル標準試料（分子量：２１０００００、３２２０００、８７８００、２
０８５０、２０００、６７００００、１３００００、４６３００、１１８００、８６０）
、及び１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン（分子量２４０．５、東京
化成製）を標準物質として、数平均分子量及び重量平均分子量を求め、ｐ＝０及び、ｐ≧
１のピークを特定し、環状シラノール（Ａ１）及び脱水縮合物（Ａ２）それぞれのピーク
の面積比を算出した。
【0084】
（Ｎａ、Ｖの含有量、及び、遷移金属（Ｐｄ）の含有量）
ヒドロシロキサン酸化反応物にフッ硝酸を加えて密閉加圧酸分解後、試料をテフロン（
登録商標）ビーカーに移し、加熱乾固させた。その後、試料に王水を加え、完全溶解した
溶解液を２０ｍＬに定容し、ＩＣＰ質量分析装置（Ｔｈｅｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅ
ｎｔｉｆｉ社製 ｉＣＡＰ Ｑｃ）による試料中の金属割合の定量分析を行った。
ヒドロシロキサン酸化反応物にフッ硝酸を加えて密閉加圧酸分解後、試料をテフロン（
登録商標）ビーカーに移し、加熱乾固させた。その後、試料に王水を加え、完全溶解した
溶解液を２０ｍＬに定容し、ＩＣＰ質量分析装置（Ｔｈｅｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅ
ｎｔｉｆｉ社製 ｉＣＡＰ Ｑｃ）による試料中の金属割合の定量分析を行った。
【0085】
（１Ｈ－ＮＭＲ測定を用いた環状シラノールの立体異性体割合の算出）
日本電子株式会社製ＥＣＺ４００Ｓ、プローブはＴＦＨプローブを用いて、以下のよう
にしてＮＭＲ測定を行った。
得られたシラノール組成物に生成物０．１ｇ、及び重アセトン１ｇを添加し、１Ｈ－Ｎ
ＭＲを測定した。なお、重溶媒の基準ピークを２．０５ｐｐｍとし、積算回数は６４回で
測定を行った。
ヒドロシラン化合物としてテトラメチルテトラシクロシロキサンを原料に用いて酸化さ
せた場合、得られるテトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサンの１Ｈ－ＮＭ
Ｒでは、０．０４－０．９５ｐｐｍの領域に４種類の異性体に由来する６種類のＳｉに結
合するメチル基のピークが観測された。
メチル基の水素は、高磁場側から、all-cis型（０．０５７ｐｐｍ）、trans-trans-cis
型（０．０６４ｐｐｍ）、trans-trans-cis型（０．０６７ｐｐｍ）、cis-trans-cis型（
０．０７４ｐｐｍ）、all-trans型（０．０８０ｐｐｍ）、trans-trans-cis型（０．０８
７ｐｐｍ）の順に観測された。Delta５．２．１（日本電子製）を用いて前記６つのピー
クに関してローレンツ変換による波形分離を行い、これらの水素のピーク強度から、環状
シラノールのそれぞれの立体異性体割合を算出した。
日本電子株式会社製ＥＣＺ４００Ｓ、プローブはＴＦＨプローブを用いて、以下のよう
にしてＮＭＲ測定を行った。
得られたシラノール組成物に生成物０．１ｇ、及び重アセトン１ｇを添加し、１Ｈ－Ｎ
ＭＲを測定した。なお、重溶媒の基準ピークを２．０５ｐｐｍとし、積算回数は６４回で
測定を行った。
ヒドロシラン化合物としてテトラメチルテトラシクロシロキサンを原料に用いて酸化さ
せた場合、得られるテトラヒドロキシテトラメチルテトラシクロシロキサンの１Ｈ－ＮＭ
Ｒでは、０．０４－０．９５ｐｐｍの領域に４種類の異性体に由来する６種類のＳｉに結
合するメチル基のピークが観測された。
メチル基の水素は、高磁場側から、all-cis型（０．０５７ｐｐｍ）、trans-trans-cis
型（０．０６４ｐｐｍ）、trans-trans-cis型（０．０６７ｐｐｍ）、cis-trans-cis型（
０．０７４ｐｐｍ）、all-trans型（０．０８０ｐｐｍ）、trans-trans-cis型（０．０８
７ｐｐｍ）の順に観測された。Delta５．２．１（日本電子製）を用いて前記６つのピー
クに関してローレンツ変換による波形分離を行い、これらの水素のピーク強度から、環状
シラノールのそれぞれの立体異性体割合を算出した。
【0086】
（各立体異性体の調製）
・all-cis体（環状シラノール（Ｂ１））
Inorganic Chemistry Vol.49, No.2,2010の合成例に従って合成した。
・cis-trans-cis体（環状シラノール（Ｂ２））
実施例１にて得られた再結晶物を用いた。
・all-trans体（環状シラノール（Ｂ４））
実施例１にて作製したシラノール１０ｗｔ％のテトラヒドロフラン及びジクロロメタン
混合溶液をさらに濃縮し、シラノール２０ｗｔ％となるまで濃縮した溶液を用いて、液体
クロマトグラフィーを用いて立体異性体の分取を行った。
＜液体クロマトグラフィーの条件＞
装置 GLサイエンス製液体クロマトグラフィー
ポンプ ：PU715
カラムオーブン ：CO705
フラクションコレクラー ：FC204YMC－PackSIL-06 φ30mm×250mm
溶離液 ：Cyclohexane/EtoAc =60/40
流速 ：40mL/min
注入量 ：5mL
温度 ：40℃
検出 ：得られたフラクションをELSD測定にて評価し、検出した。
得られたall-trans体の溶離液を静置することでall-trans体の結晶が得られたため、濾
別により回収した。
・trans-trans-cis体（環状シラノール（Ｂ３））
all-trans体と同様の方法にて得られた溶離液を濃縮後イソプロパノールに置換するこ
とで得た。
・all-cis体（環状シラノール（Ｂ１））
Inorganic Chemistry Vol.49, No.2,2010の合成例に従って合成した。
・cis-trans-cis体（環状シラノール（Ｂ２））
実施例１にて得られた再結晶物を用いた。
・all-trans体（環状シラノール（Ｂ４））
実施例１にて作製したシラノール１０ｗｔ％のテトラヒドロフラン及びジクロロメタン
混合溶液をさらに濃縮し、シラノール２０ｗｔ％となるまで濃縮した溶液を用いて、液体
クロマトグラフィーを用いて立体異性体の分取を行った。
＜液体クロマトグラフィーの条件＞
装置 GLサイエンス製液体クロマトグラフィー
ポンプ ：PU715
カラムオーブン ：CO705
フラクションコレクラー ：FC204YMC－PackSIL-06 φ30mm×250mm
溶離液 ：Cyclohexane/EtoAc =60/40
流速 ：40mL/min
注入量 ：5mL
温度 ：40℃
検出 ：得られたフラクションをELSD測定にて評価し、検出した。
得られたall-trans体の溶離液を静置することでall-trans体の結晶が得られたため、濾
別により回収した。
・trans-trans-cis体（環状シラノール（Ｂ３））
all-trans体と同様の方法にて得られた溶離液を濃縮後イソプロパノールに置換するこ
とで得た。
【0087】
［実施例１］
（シラノール組成物の調製）
反応容器に、蒸溜水２８ｇ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、和光純薬製）９６０ｍＬ、
Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム－炭素、エヌ・イー ケムキャット社製）３．７ｇを入れて
混合した後、反応容器の温度を５℃に維持した。
前記反応容器に１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン８１ｇ（東京化
成製、Ｄ４Ｈとも記載する）を徐々に加え、２時間撹拌後、1Ｈ－ＮＭＲにてＳｉＨ基が
消失するまでＰｄ／Ｃ（１０％パラジウム／炭素）１．８ｇずつ３回に分け、計１７時間
反応を行った。ＳｉＨ基の消失は、反応液を、日本電子製ＮＭＲ（ＥＣＺ４００Ｓ）を用
いて反応液１ｗｔ％濃度の重アセトン溶液で1Ｈ－ＮＭＲを測定し４～５ｐｐｍのＳｉＨ
基の消失を確認した。
反応液に硫酸マグネシウム７５ｇを添加し、５℃で３０分撹拌後、セライトＮｏ．５４
５（和光純薬製）４５０ｇを、テトラヒドロフランを用いて漏斗へ充填した。続いて、反
応液を、当該セライトを通過させ、テトラヒドロフラン１．５Ｌによってセライトを洗浄
し、１，３，５，７－テトラヒドロキシ－１，３，５，７－テトラメチルテトラシクロシ
ロキサン（以下、Ｄ４ＯＨとも記載する）含有ＴＨＦ溶液２０５７ｇを得た。この溶液を
エバポレーターで水浴１５℃にて残量５８７ｇ（６４９ｍＬ）となるまで濃縮し、テトラ
ヒドロフラン４．４Ｌとジクロロメタン２１７ｍＬとの混合溶媒中へ投じた。混合液を５
℃で４時間静置後、析出した不溶物を減圧濾過し、結晶固体を２２ｇ回収した。可溶部の
ろ液６１６９ｇを減圧下で濃縮し、Ｄ４ＯＨ濃縮物（すなわち、ヒドロシロキサン酸化反
応物）８９ｇを得た。
さらに、Ｄ４ＯＨ濃縮物：両末端シラノール変性シロキサン：テトラヒドロフランが、
質量比で、８：２：９０となるように、Ｄ４ＯＨ濃縮物に両末端シラノール変性シロキサ
ン（信越化学製Ｘ２１－５８４１、分子量１０００）及びテトラヒドロフランを添加し、
テトラヒドロフランをエバポレーターで留去後、シラノール組成物を得た。
得られたシラノール組成物を用いて、前記（ヘイズの測定）の方法にしたがってヘイズ
を測定した。また、all-trans型及びcis-trans-cis型の環状シラノールの割合を1Ｈ－Ｎ
ＭＲにより算出した。
さらに、上述のようにして、遷移金属Ｐｄの含有量を算出した。
（シラノール組成物の調製）
反応容器に、蒸溜水２８ｇ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、和光純薬製）９６０ｍＬ、
Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム－炭素、エヌ・イー ケムキャット社製）３．７ｇを入れて
混合した後、反応容器の温度を５℃に維持した。
前記反応容器に１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン８１ｇ（東京化
成製、Ｄ４Ｈとも記載する）を徐々に加え、２時間撹拌後、1Ｈ－ＮＭＲにてＳｉＨ基が
消失するまでＰｄ／Ｃ（１０％パラジウム／炭素）１．８ｇずつ３回に分け、計１７時間
反応を行った。ＳｉＨ基の消失は、反応液を、日本電子製ＮＭＲ（ＥＣＺ４００Ｓ）を用
いて反応液１ｗｔ％濃度の重アセトン溶液で1Ｈ－ＮＭＲを測定し４～５ｐｐｍのＳｉＨ
基の消失を確認した。
反応液に硫酸マグネシウム７５ｇを添加し、５℃で３０分撹拌後、セライトＮｏ．５４
５（和光純薬製）４５０ｇを、テトラヒドロフランを用いて漏斗へ充填した。続いて、反
応液を、当該セライトを通過させ、テトラヒドロフラン１．５Ｌによってセライトを洗浄
し、１，３，５，７－テトラヒドロキシ－１，３，５，７－テトラメチルテトラシクロシ
ロキサン（以下、Ｄ４ＯＨとも記載する）含有ＴＨＦ溶液２０５７ｇを得た。この溶液を
エバポレーターで水浴１５℃にて残量５８７ｇ（６４９ｍＬ）となるまで濃縮し、テトラ
ヒドロフラン４．４Ｌとジクロロメタン２１７ｍＬとの混合溶媒中へ投じた。混合液を５
℃で４時間静置後、析出した不溶物を減圧濾過し、結晶固体を２２ｇ回収した。可溶部の
ろ液６１６９ｇを減圧下で濃縮し、Ｄ４ＯＨ濃縮物（すなわち、ヒドロシロキサン酸化反
応物）８９ｇを得た。
さらに、Ｄ４ＯＨ濃縮物：両末端シラノール変性シロキサン：テトラヒドロフランが、
質量比で、８：２：９０となるように、Ｄ４ＯＨ濃縮物に両末端シラノール変性シロキサ
ン（信越化学製Ｘ２１－５８４１、分子量１０００）及びテトラヒドロフランを添加し、
テトラヒドロフランをエバポレーターで留去後、シラノール組成物を得た。
得られたシラノール組成物を用いて、前記（ヘイズの測定）の方法にしたがってヘイズ
を測定した。また、all-trans型及びcis-trans-cis型の環状シラノールの割合を1Ｈ－Ｎ
ＭＲにより算出した。
さらに、上述のようにして、遷移金属Ｐｄの含有量を算出した。
【0088】
（シラノール組成物の硬化の確認、接着力の確認、及び硬化物の光透過率の測定）
前記（シラノール組成物の作製）で得られたシラノール組成物を、石英ガラス上にバー
コーターＮｏ．２を用いて３μｍ厚となるように塗布し、石英ガラスを載せ、８０℃６時
間、１８０℃６時間の温度プログラムで硬化させた。
硬化後に片方のガラス板のみを持ち上げ、ガラスが接着していることを確認後、得られ
た硬化物のヘイズを測定した。
前記（シラノール組成物の作製）で得られたシラノール組成物を、石英ガラス上にバー
コーターＮｏ．２を用いて３μｍ厚となるように塗布し、石英ガラスを載せ、８０℃６時
間、１８０℃６時間の温度プログラムで硬化させた。
硬化後に片方のガラス板のみを持ち上げ、ガラスが接着していることを確認後、得られ
た硬化物のヘイズを測定した。
【0089】
（硬化後急冷時の耐クラック性確認）
前記硬化物を１８０℃のオーブンから２５℃の室温に取出し、急冷を行い、クラックの
発生をマイクロスコープにて観察した。
前記硬化物を１８０℃のオーブンから２５℃の室温に取出し、急冷を行い、クラックの
発生をマイクロスコープにて観察した。
【0090】
［実施例２］
Ｄ４ＯＨ濃縮物：両末端シラノール変性シロキサン：テトラヒドロフランが、質量比で
、６：４：９０となるようにしたこと以外は、実施例１と同様にしてシラノール組成物を
得て、同様に実験を行った。
Ｄ４ＯＨ濃縮物：両末端シラノール変性シロキサン：テトラヒドロフランが、質量比で
、６：４：９０となるようにしたこと以外は、実施例１と同様にしてシラノール組成物を
得て、同様に実験を行った。
【0091】
［実施例３］
両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製Ｘ２１－５８４１、分子量１０００）を
、両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製ＫＦ－９７０１、分子量３０００）に替
えたこと以外は、実施例１と同様にしてシラノール組成物を得て、同様に実験を行った。
両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製Ｘ２１－５８４１、分子量１０００）を
、両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製ＫＦ－９７０１、分子量３０００）に替
えたこと以外は、実施例１と同様にしてシラノール組成物を得て、同様に実験を行った。
【0092】
［実施例４］
両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製Ｘ２１－５８４１、分子量１０００）を
、両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製ＫＦ－９７０１、分子量３０００）に替
え、且つ、Ｄ４ＯＨ濃縮物：両末端シラノール変性シロキサン：テトラヒドロフランが、
質量比で、６：４：９０となるようにしたこと以外は、実施例１と同様にしてシラノール
組成物を得て、同様に実験を行った。
両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製Ｘ２１－５８４１、分子量１０００）を
、両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製ＫＦ－９７０１、分子量３０００）に替
え、且つ、Ｄ４ＯＨ濃縮物：両末端シラノール変性シロキサン：テトラヒドロフランが、
質量比で、６：４：９０となるようにしたこと以外は、実施例１と同様にしてシラノール
組成物を得て、同様に実験を行った。
【0093】
［実施例５］
両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製Ｘ２１－５８４１、分子量１０００）を
、両末端シラノール変性シロキサン（Ｇｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ－Ｓ１５、分子量２０００～
３５００）に替えたこと以外は、実施例１と同様にしてシラノール組成物を得て、同様に
実験を行った。
両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製Ｘ２１－５８４１、分子量１０００）を
、両末端シラノール変性シロキサン（Ｇｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ－Ｓ１５、分子量２０００～
３５００）に替えたこと以外は、実施例１と同様にしてシラノール組成物を得て、同様に
実験を行った。
【0094】
［実施例６］
両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製Ｘ２１－５８４１、分子量１０００）を
、両末端シラノール変性シロキサン（Ｇｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ－Ｓ１５、分子量２０００～
３５００）に替え、且つ、Ｄ４ＯＨ濃縮物：両末端シラノール変性シロキサン：テトラヒ
ドロフランが、質量比で、６：４：９０となるようにしたこと以外は、実施例１と同様に
してシラノール組成物を得て、同様に実験を行った。
両末端シラノール変性シロキサン（信越化学製Ｘ２１－５８４１、分子量１０００）を
、両末端シラノール変性シロキサン（Ｇｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ－Ｓ１５、分子量２０００～
３５００）に替え、且つ、Ｄ４ＯＨ濃縮物：両末端シラノール変性シロキサン：テトラヒ
ドロフランが、質量比で、６：４：９０となるようにしたこと以外は、実施例１と同様に
してシラノール組成物を得て、同様に実験を行った。
【0095】
［実施例７］
（シラノール組成物の作製）
反応容器に、蒸溜水２８ｇ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、和光純薬製）９６０ｍＬ、
Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム－炭素、エヌ・イー ケムキャット社製）３．７ｇを入れて
混合した後、反応容器の温度を５℃に維持した。
前記反応容器に、１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン８１ｇ（東京
化成製、Ｄ４Ｈとも記載する。）を徐々に加え、２時間撹拌後、１Ｈ－ＮＭＲにてＳｉＨ
基が消失するまで前記Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム－炭素）を１．８ｇずつ３回に分けて
添加し、合計１７時間反応を行った。
反応液を、日本電子製ＮＭＲ（ＥＣＺ４００Ｓ）を用いて反応液１質量％濃度の重アセ
トン溶液で１Ｈ－ＮＭＲを測定し、４～５ｐｐｍのＳｉＨ基の消失を確認した。
反応液に硫酸マグネシウム７５ｇを添加し、５℃で３０分撹拌後、セライトＮｏ．５４
５（和光純薬製）４５０ｇを、テトラヒドロフランを用いて漏斗へ充填した。続いて、反
応液を、当該セライトを通過させ、テトラヒドロフラン１．５Ｌによってセライトを洗浄
し、１，３，５，７－テトラヒドロキシ－１，３，５，７－テトラメチルテトラシクロシ
ロキサン（以下、Ｄ４ＯＨとも記載する。）含有ＴＨＦ溶液２０５７ｇを得た。
この溶液をエバポレーターで水浴１５℃にて残量５８７ｇ（６４９ｍＬ）となるまで濃
縮し、テトラヒドロフラン４．４Ｌとジクロロメタン２１７ｍＬとの混合溶媒中へ投じた
。混合液を５℃で４時間静置後、析出した不溶物を減圧濾過し、結晶固体を２２ｇ回収し
た。可溶部のろ液６１６９ｇを減圧下で濃縮し、Ｄ４ＯＨ濃縮物（すなわち、ヒドロシロ
キサン酸化反応物）８９ｇを得た。
さらに、Ｄ４ＯＨ濃縮物：シリカを、質量比が５０：５０となるように、Ｄ４ＯＨ濃縮
物にシリカ粒子（ＭＥＫＳＴ－４０、日産化学社製、粒径４０ｎｍ）を添加し、さらに固
形分濃度１６質量％となるようにイソプロパノールを加えることによりシラノール組成物
（イソプロパノール溶液）を得た。
得られたシラノール組成物を用いて前記（ヘイズの測定）の方法にしたがってヘイズを
測定し、ＧＰＣの微分分子量分布曲線におけるピーク面積の測定を行った。また、all-ci
s型及びcis-trans-cis型の環状シラノールの割合を1Ｈ－ＮＭＲにより算出した。
また、上述のようにして、遷移金属Ｐｄの含有量を算出した。
（シラノール組成物の作製）
反応容器に、蒸溜水２８ｇ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、和光純薬製）９６０ｍＬ、
Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム－炭素、エヌ・イー ケムキャット社製）３．７ｇを入れて
混合した後、反応容器の温度を５℃に維持した。
前記反応容器に、１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン８１ｇ（東京
化成製、Ｄ４Ｈとも記載する。）を徐々に加え、２時間撹拌後、１Ｈ－ＮＭＲにてＳｉＨ
基が消失するまで前記Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム－炭素）を１．８ｇずつ３回に分けて
添加し、合計１７時間反応を行った。
反応液を、日本電子製ＮＭＲ（ＥＣＺ４００Ｓ）を用いて反応液１質量％濃度の重アセ
トン溶液で１Ｈ－ＮＭＲを測定し、４～５ｐｐｍのＳｉＨ基の消失を確認した。
反応液に硫酸マグネシウム７５ｇを添加し、５℃で３０分撹拌後、セライトＮｏ．５４
５（和光純薬製）４５０ｇを、テトラヒドロフランを用いて漏斗へ充填した。続いて、反
応液を、当該セライトを通過させ、テトラヒドロフラン１．５Ｌによってセライトを洗浄
し、１，３，５，７－テトラヒドロキシ－１，３，５，７－テトラメチルテトラシクロシ
ロキサン（以下、Ｄ４ＯＨとも記載する。）含有ＴＨＦ溶液２０５７ｇを得た。
この溶液をエバポレーターで水浴１５℃にて残量５８７ｇ（６４９ｍＬ）となるまで濃
縮し、テトラヒドロフラン４．４Ｌとジクロロメタン２１７ｍＬとの混合溶媒中へ投じた
。混合液を５℃で４時間静置後、析出した不溶物を減圧濾過し、結晶固体を２２ｇ回収し
た。可溶部のろ液６１６９ｇを減圧下で濃縮し、Ｄ４ＯＨ濃縮物（すなわち、ヒドロシロ
キサン酸化反応物）８９ｇを得た。
さらに、Ｄ４ＯＨ濃縮物：シリカを、質量比が５０：５０となるように、Ｄ４ＯＨ濃縮
物にシリカ粒子（ＭＥＫＳＴ－４０、日産化学社製、粒径４０ｎｍ）を添加し、さらに固
形分濃度１６質量％となるようにイソプロパノールを加えることによりシラノール組成物
（イソプロパノール溶液）を得た。
得られたシラノール組成物を用いて前記（ヘイズの測定）の方法にしたがってヘイズを
測定し、ＧＰＣの微分分子量分布曲線におけるピーク面積の測定を行った。また、all-ci
s型及びcis-trans-cis型の環状シラノールの割合を1Ｈ－ＮＭＲにより算出した。
また、上述のようにして、遷移金属Ｐｄの含有量を算出した。
【0096】
（シラノール組成物の硬化の確認、接着力の確認、及び硬化物の光透過率の測定）
前記（シラノール組成物の作製）で得られたシラノール組成物８．３ｇを、石英ガラス
上にバーコーターＮｏ．２を用いて３μｍ厚となるように塗布し、石英ガラスを載せ８０
℃６時間、１８０℃６時間の温度プログラムで硬化させた。
硬化後に片方のガラス板のみを持ち上げ、ガラスが接着していることを確認後、得られ
た硬化物のヘイズを測定した。
前記（シラノール組成物の作製）で得られたシラノール組成物８．３ｇを、石英ガラス
上にバーコーターＮｏ．２を用いて３μｍ厚となるように塗布し、石英ガラスを載せ８０
℃６時間、１８０℃６時間の温度プログラムで硬化させた。
硬化後に片方のガラス板のみを持ち上げ、ガラスが接着していることを確認後、得られ
た硬化物のヘイズを測定した。
【0097】
（硬化物の耐摩耗性評価）
１０ｃｍ角、厚さ１ミリのポリカーボネート板（タキロン１６００）にプライマーＳＨ
Ｐ４７０ＦＴ２０５０（モメンティブ製）をバーコーターＮｏ．１６（アズワン製）で塗
布後、３０℃３０分、１２０℃３０分オーブンで硬化し、２μｍのプライマーを塗布した
ポリカーボネート板を得た。
前記ポリカーボネート板に、前記（シラノール組成物の作製）で得られたシラノール組
成物を、バーコーターＮｏ．１６で前記プライマーを塗布したポリカーボネート板に塗布
した後、１００℃で２時間、次いで１２０℃で２時間、オーブンにて硬化することにより
硬化板を得た。
得られた硬化板を、摩耗輪にＣＡＬＩＢＲＡＳＥ ＣＳ－１０Ｆ（ＴＡＢＥＲ ＩＮＤ
ＵＳＴＲＩＥＳ製）を取り付けた１０１ ＴＡＢＥＲ ＴＹＰＥ ＡＢＲＡＳＩＯＮ Ｔ
ＥＳＴＥＲ（Ｙａｓｕｄａ製）を用いて、回転速度６０ｒｐｍにて５００回のテーバー摩
耗試験を行った。
なお、すべての測定用サンプルは、テーバー摩耗試験を行う前に、摩耗輪をＳＴ－１１
ＲＥＦＡＣＥＩＮＧ ＳＴＯＮＥ（ＴＡＢＥＲ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ製）を用いて回
転速度６０ｒｐｍにて２５回研磨を行った。
テーバー摩耗試験後の測定用サンプルを、ＨＡＺＥ ＭＥＴＥＲ ＮＤＨ ５０００Ｓ
Ｐ（ＮＩＰＰＯＮ ＤＥＮＳＨＯＫＵ製）を用いて、Ｈａｚｅの測定を行い、テーバー摩
耗試験前後のＨａｚｅの増加分（ΔＨａｚｅ（％））を算出した。
１０ｃｍ角、厚さ１ミリのポリカーボネート板（タキロン１６００）にプライマーＳＨ
Ｐ４７０ＦＴ２０５０（モメンティブ製）をバーコーターＮｏ．１６（アズワン製）で塗
布後、３０℃３０分、１２０℃３０分オーブンで硬化し、２μｍのプライマーを塗布した
ポリカーボネート板を得た。
前記ポリカーボネート板に、前記（シラノール組成物の作製）で得られたシラノール組
成物を、バーコーターＮｏ．１６で前記プライマーを塗布したポリカーボネート板に塗布
した後、１００℃で２時間、次いで１２０℃で２時間、オーブンにて硬化することにより
硬化板を得た。
得られた硬化板を、摩耗輪にＣＡＬＩＢＲＡＳＥ ＣＳ－１０Ｆ（ＴＡＢＥＲ ＩＮＤ
ＵＳＴＲＩＥＳ製）を取り付けた１０１ ＴＡＢＥＲ ＴＹＰＥ ＡＢＲＡＳＩＯＮ Ｔ
ＥＳＴＥＲ（Ｙａｓｕｄａ製）を用いて、回転速度６０ｒｐｍにて５００回のテーバー摩
耗試験を行った。
なお、すべての測定用サンプルは、テーバー摩耗試験を行う前に、摩耗輪をＳＴ－１１
ＲＥＦＡＣＥＩＮＧ ＳＴＯＮＥ（ＴＡＢＥＲ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ製）を用いて回
転速度６０ｒｐｍにて２５回研磨を行った。
テーバー摩耗試験後の測定用サンプルを、ＨＡＺＥ ＭＥＴＥＲ ＮＤＨ ５０００Ｓ
Ｐ（ＮＩＰＰＯＮ ＤＥＮＳＨＯＫＵ製）を用いて、Ｈａｚｅの測定を行い、テーバー摩
耗試験前後のＨａｚｅの増加分（ΔＨａｚｅ（％））を算出した。
【0098】
［実施例８］
Ｄ４ＯＨ濃縮物：シリカの質量比が７５：２５となるように（シリカ添加割合が２５ｗ
ｔ％である）シリカ粒子を添加したこと以外は、実施例７と同様の実験を行った。
Ｄ４ＯＨ濃縮物：シリカの質量比が７５：２５となるように（シリカ添加割合が２５ｗ
ｔ％である）シリカ粒子を添加したこと以外は、実施例７と同様の実験を行った。
【0099】
［実施例９］
（シラノール組成物の作製）
反応容器に、蒸溜水２８ｇ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、和光純薬製）９６０ｍＬ、
Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム／炭素、エヌ・イー ケムキャット社製）３．７ｇを入れて
混合した後、反応容器の温度を５℃に維持した。
前記反応容器に、１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン８１ｇ（東京
化成製、Ｄ４Ｈとも記載する。）を徐々に加え、２時間撹拌後、１Ｈ－ＮＭＲにてＳｉＨ
基が消失するまで前記Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム／炭素）を１．８ｇずつ３回に分けて
添加し、合計１７時間反応を行った。
反応液を、日本電子製ＮＭＲ（ＥＣＺ４００Ｓ）を用いて反応液１質量％濃度の重アセ
トン溶液で１Ｈ－ＮＭＲを測定し、４～５ｐｐｍのＳｉＨ基の消失を確認した。
反応液に硫酸マグネシウム７５ｇを添加し、５℃で３０分撹拌後、濾過助剤として、粉
末セルロースＫＣフロックＷ５０ＧＫ（日本製紙製）４５０ｇを、テトラヒドロフランを
用いて漏斗へ充填した。続いて、反応液を、当該粉末セルロースを通過させ、テトラヒド
ロフラン１．５Ｌによって粉末セルロースを洗浄し、１，３，５，７－テトラヒドロキシ
－１，３，５，７－テトラメチルテトラシクロシロキサン（以下、Ｄ４ＯＨとも記載する
。）含有ＴＨＦ溶液２０５７ｇを得た。
この溶液をエバポレーターで水浴１５℃にて残量５８７ｇ（６４９ｍＬ）となるまで濃
縮し、テトラヒドロフラン４．４Ｌとジクロロメタン２１７ｍＬとの混合溶媒中へ投じた
。混合液を５℃で４時間静置後、析出した不溶物を減圧濾過し、結晶固体を２２ｇ回収し
た。可溶部のろ液６１６９ｇを減圧下で濃縮し、ヒドロシロキサン酸化反応物であるシラ
ノール組成物（８９ｇ）を得た。
得られたシラノール組成物を用いて前記（ヘイズの測定）の方法にしたがってヘイズを
測定し、ＧＰＣの微分分子量分布曲線におけるピーク面積の測定を行った。
また、all-trans型及びcis-trans-cis型の環状シラノールの割合を1Ｈ－ＮＭＲにより
算出した。Ｎａ、Ｖの含有量、及び遷移金属（Ｐｄ）の含有量の測定を上記のようにして
行った。
（シラノール組成物の作製）
反応容器に、蒸溜水２８ｇ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、和光純薬製）９６０ｍＬ、
Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム／炭素、エヌ・イー ケムキャット社製）３．７ｇを入れて
混合した後、反応容器の温度を５℃に維持した。
前記反応容器に、１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン８１ｇ（東京
化成製、Ｄ４Ｈとも記載する。）を徐々に加え、２時間撹拌後、１Ｈ－ＮＭＲにてＳｉＨ
基が消失するまで前記Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム／炭素）を１．８ｇずつ３回に分けて
添加し、合計１７時間反応を行った。
反応液を、日本電子製ＮＭＲ（ＥＣＺ４００Ｓ）を用いて反応液１質量％濃度の重アセ
トン溶液で１Ｈ－ＮＭＲを測定し、４～５ｐｐｍのＳｉＨ基の消失を確認した。
反応液に硫酸マグネシウム７５ｇを添加し、５℃で３０分撹拌後、濾過助剤として、粉
末セルロースＫＣフロックＷ５０ＧＫ（日本製紙製）４５０ｇを、テトラヒドロフランを
用いて漏斗へ充填した。続いて、反応液を、当該粉末セルロースを通過させ、テトラヒド
ロフラン１．５Ｌによって粉末セルロースを洗浄し、１，３，５，７－テトラヒドロキシ
－１，３，５，７－テトラメチルテトラシクロシロキサン（以下、Ｄ４ＯＨとも記載する
。）含有ＴＨＦ溶液２０５７ｇを得た。
この溶液をエバポレーターで水浴１５℃にて残量５８７ｇ（６４９ｍＬ）となるまで濃
縮し、テトラヒドロフラン４．４Ｌとジクロロメタン２１７ｍＬとの混合溶媒中へ投じた
。混合液を５℃で４時間静置後、析出した不溶物を減圧濾過し、結晶固体を２２ｇ回収し
た。可溶部のろ液６１６９ｇを減圧下で濃縮し、ヒドロシロキサン酸化反応物であるシラ
ノール組成物（８９ｇ）を得た。
得られたシラノール組成物を用いて前記（ヘイズの測定）の方法にしたがってヘイズを
測定し、ＧＰＣの微分分子量分布曲線におけるピーク面積の測定を行った。
また、all-trans型及びcis-trans-cis型の環状シラノールの割合を1Ｈ－ＮＭＲにより
算出した。Ｎａ、Ｖの含有量、及び遷移金属（Ｐｄ）の含有量の測定を上記のようにして
行った。
【0100】
（シラノール組成物の硬化確認、及び接着力の確認、硬化物の光透過率の測定）
前記（シラノール組成物の調製）で得られたシラノール組成物８．３ｇを、石英ガラス
上にバーコーターＮｏ．２を用いて３μｍ厚となるように塗布し、これにさらに石英ガラ
スをのせ、８０℃６時間、１８０℃６時間の温度プログラムで硬化させた。硬化後に片方
のガラス板のみを持ち上げ、石英ガラスが接着していることを確認した。
その後、得られた硬化物の４００～８００ｎｍにおける光透過率を測定した。
前記（シラノール組成物の調製）で得られたシラノール組成物８．３ｇを、石英ガラス
上にバーコーターＮｏ．２を用いて３μｍ厚となるように塗布し、これにさらに石英ガラ
スをのせ、８０℃６時間、１８０℃６時間の温度プログラムで硬化させた。硬化後に片方
のガラス板のみを持ち上げ、石英ガラスが接着していることを確認した。
その後、得られた硬化物の４００～８００ｎｍにおける光透過率を測定した。
【0101】
（シラノール組成物の保存安定性試験）
得られたシラノール組成物を、２５℃の室温下で１ヶ月放置した。
シラノール組成物をスパチュラで触り固まっているかを確認し、固化の有無によって保
存安定性を評価した。
表中、〇は固化しなかったことを指し、×は固化したことを指す。
得られたシラノール組成物を、２５℃の室温下で１ヶ月放置した。
シラノール組成物をスパチュラで触り固まっているかを確認し、固化の有無によって保
存安定性を評価した。
表中、〇は固化しなかったことを指し、×は固化したことを指す。
【0102】
［実施例１０］
（シラノール組成物の調製）
反応容器に、蒸溜水２８ｇ、テトラヒドロフラン（和光純薬製）９６０ｍＬ、Ｐｄ／Ｃ
（１０％パラジウム／炭素、エヌ・イー ケムキャット社製）３．７ｇを入れて混合した
後、反応容器の温度を５℃に維持した。
前記反応容器に１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン８１ｇ（東京化
成製、Ｄ４Ｈとも記載する）を徐々に加え、２時間撹拌後、１Ｈ－ＮＭＲにてＳｉＨ基が
消失するまでＰｄ／Ｃ（１０％パラジウム／炭素）１．８ｇずつ３回に分け、計１７時間
反応を行った。ＳｉＨ基の消失は、反応液を、日本電子製ＮＭＲ（ＥＣＺ４００Ｓ）を用
いて反応液１ｗｔ％濃度の重アセトン溶液で１Ｈ－ＮＭＲを測定し、４～５ｐｐｍに存在
するＳｉＨ基の消失を確認した。
反応液に硫酸マグネシウム７５ｇを添加し、５℃で３０分撹拌した。セライトＮｏ．５
４５（和光純薬製）４５０ｇを、テトラヒドロフランを用いて漏斗へ充填した。続いて、
反応液を、当該セライトを通過させ、テトラヒドロフラン１．５Ｌによってセライトを洗
浄し、１，３，５，７－テトラヒドロキシ－１，３，５，７－テトラメチルテトラシクロ
シロキサン（以下、Ｄ４ＯＨとも記載する）含有ＴＨＦ溶液２０５７ｇを得た。この溶液
をエバポレーターで水浴１５℃にて残量５８７ｇ（６４９ｍＬ）となるまで濃縮し、テト
ラヒドロフラン４．４Ｌとジクロロメタン２１７ｍＬとの混合溶媒中へ投じた。混合液を
５℃で４時間静置後、析出した不溶物を減圧濾過し、結晶固体を２２ｇ回収した。可溶部
のろ液６１６９ｇを減圧下で濃縮し、シラノール組成物１０ｗｔ％のテトラヒドロフラン
及びジクロロメタン混合溶液となるまで濃縮した。シラノール組成物１０ｗｔ％のテトラ
ヒドロフラン及びジクロロメタン混合溶液１０ｇを１ｇまで減圧下で濃縮後、再度１００
ｇのイソプロパノールを添加した。さらに、再度減圧下で濃縮を行い、所定の濃度のシラ
ノール組成物（イソプロパノール溶液）を作製した。
得られたシラノール組成物を用いてヘイズ等の物性を評価した。また、環状シラノール
の立体異性体割合を１Ｈ-ＮＭＲにより算出した。図１に１Ｈ-ＮＭＲスペクトルを示す。
（シラノール組成物の調製）
反応容器に、蒸溜水２８ｇ、テトラヒドロフラン（和光純薬製）９６０ｍＬ、Ｐｄ／Ｃ
（１０％パラジウム／炭素、エヌ・イー ケムキャット社製）３．７ｇを入れて混合した
後、反応容器の温度を５℃に維持した。
前記反応容器に１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン８１ｇ（東京化
成製、Ｄ４Ｈとも記載する）を徐々に加え、２時間撹拌後、１Ｈ－ＮＭＲにてＳｉＨ基が
消失するまでＰｄ／Ｃ（１０％パラジウム／炭素）１．８ｇずつ３回に分け、計１７時間
反応を行った。ＳｉＨ基の消失は、反応液を、日本電子製ＮＭＲ（ＥＣＺ４００Ｓ）を用
いて反応液１ｗｔ％濃度の重アセトン溶液で１Ｈ－ＮＭＲを測定し、４～５ｐｐｍに存在
するＳｉＨ基の消失を確認した。
反応液に硫酸マグネシウム７５ｇを添加し、５℃で３０分撹拌した。セライトＮｏ．５
４５（和光純薬製）４５０ｇを、テトラヒドロフランを用いて漏斗へ充填した。続いて、
反応液を、当該セライトを通過させ、テトラヒドロフラン１．５Ｌによってセライトを洗
浄し、１，３，５，７－テトラヒドロキシ－１，３，５，７－テトラメチルテトラシクロ
シロキサン（以下、Ｄ４ＯＨとも記載する）含有ＴＨＦ溶液２０５７ｇを得た。この溶液
をエバポレーターで水浴１５℃にて残量５８７ｇ（６４９ｍＬ）となるまで濃縮し、テト
ラヒドロフラン４．４Ｌとジクロロメタン２１７ｍＬとの混合溶媒中へ投じた。混合液を
５℃で４時間静置後、析出した不溶物を減圧濾過し、結晶固体を２２ｇ回収した。可溶部
のろ液６１６９ｇを減圧下で濃縮し、シラノール組成物１０ｗｔ％のテトラヒドロフラン
及びジクロロメタン混合溶液となるまで濃縮した。シラノール組成物１０ｗｔ％のテトラ
ヒドロフラン及びジクロロメタン混合溶液１０ｇを１ｇまで減圧下で濃縮後、再度１００
ｇのイソプロパノールを添加した。さらに、再度減圧下で濃縮を行い、所定の濃度のシラ
ノール組成物（イソプロパノール溶液）を作製した。
得られたシラノール組成物を用いてヘイズ等の物性を評価した。また、環状シラノール
の立体異性体割合を１Ｈ-ＮＭＲにより算出した。図１に１Ｈ-ＮＭＲスペクトルを示す。
【0103】
［実施例１１］
実施例１０にて作製したシラノール組成物（イソプロパノール溶液）に、前記（各立体
異性体の調製）にて調製したall-trans体（環状シラノール（Ｂ４））を加え、all-tras
体比率を４３％としたこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
実施例１０にて作製したシラノール組成物（イソプロパノール溶液）に、前記（各立体
異性体の調製）にて調製したall-trans体（環状シラノール（Ｂ４））を加え、all-tras
体比率を４３％としたこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
【0104】
［実施例１２］
実施例１０にて作製したシラノール組成物（イソプロパノール溶液）に、前記（各立体
異性体の調製）にて調製したall-trans体（環状シラノール（Ｂ４））を加え、all-tras
体比率を５６％としたこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
実施例１０にて作製したシラノール組成物（イソプロパノール溶液）に、前記（各立体
異性体の調製）にて調製したall-trans体（環状シラノール（Ｂ４））を加え、all-tras
体比率を５６％としたこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
【0105】
［実施例１３］
実施例１０にて作製したシラノール組成物（イソプロパノール溶液）に、前記（各立体
異性体の調製）にて調製したall-cis体（環状シラノール（Ｂ１））を加え、all-cis体体
比率を３１％としたこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
実施例１０にて作製したシラノール組成物（イソプロパノール溶液）に、前記（各立体
異性体の調製）にて調製したall-cis体（環状シラノール（Ｂ１））を加え、all-cis体体
比率を３１％としたこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
【0106】
［実施例１４］
実施例１０にて作製したシラノール組成物（イソプロパノール溶液）に、前記（各立体
異性体の調製）にて調製したall-cis体（環状シラノール（Ｂ１））を加え、all-cis体比
率を４１％としたこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
実施例１０にて作製したシラノール組成物（イソプロパノール溶液）に、前記（各立体
異性体の調製）にて調製したall-cis体（環状シラノール（Ｂ１））を加え、all-cis体比
率を４１％としたこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
【0107】
［実施例１５］
実施例１０にて作製したシラノール組成物（イソプロパノール溶液）に、前記（各立体
異性体の調製）にて調製したtrans-trans-cis体（環状シラノール（Ｂ３））を加え、tra
ns-trans-cis体比率を６６％としたこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
実施例１０にて作製したシラノール組成物（イソプロパノール溶液）に、前記（各立体
異性体の調製）にて調製したtrans-trans-cis体（環状シラノール（Ｂ３））を加え、tra
ns-trans-cis体比率を６６％としたこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
【0108】
【0109】
［比較例１］
Ｄ４ＯＨ含有ＴＨＦ溶液の濃縮物を、テトラヒドロフラン４．４Ｌとジクロロメタン２
１７ｍＬとの混合溶媒中へ投じ、混合液を５℃で４時間静置後、析出した不溶物を減圧濾
過するという再結晶操作を行わなかったこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
Ｄ４ＯＨ含有ＴＨＦ溶液の濃縮物を、テトラヒドロフラン４．４Ｌとジクロロメタン２
１７ｍＬとの混合溶媒中へ投じ、混合液を５℃で４時間静置後、析出した不溶物を減圧濾
過するという再結晶操作を行わなかったこと以外は、実施例１０と同様の実験を行った。
【0110】
［比較例２］
反応容器に蒸溜水１５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｇ、Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム／
炭素）５００ｍｇを入れて混合し溶液を得た後、反応容器の温度を０℃に維持した。前記
溶液に１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン１０ｇを徐々に加え、一晩
反応させ、ＳｉＨ基の消失を確認した。
反応後、溶液をセライトＮｏ．５４５（和光純薬製）を通過させろ過して金属触媒を除
去した。さらに、有機溶媒を減圧することにより除去して、シラノール組成物１９ｇを得
た。
反応容器に蒸溜水１５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｇ、Ｐｄ／Ｃ（１０％パラジウム／
炭素）５００ｍｇを入れて混合し溶液を得た後、反応容器の温度を０℃に維持した。前記
溶液に１，３，５，７－テトラメチルシクロテトラシロキサン１０ｇを徐々に加え、一晩
反応させ、ＳｉＨ基の消失を確認した。
反応後、溶液をセライトＮｏ．５４５（和光純薬製）を通過させろ過して金属触媒を除
去した。さらに、有機溶媒を減圧することにより除去して、シラノール組成物１９ｇを得
た。
【0111】
［比較例３］
前記（各立体異性体の調製）にて調製したall-cis体（環状シラノール（Ｂ１））を用
いて、濃度５％のシラノール組成物（イソプロパノール溶液）を調製し、実施例１０と同
様の実験を行った。
前記（各立体異性体の調製）にて調製したall-cis体（環状シラノール（Ｂ１））を用
いて、濃度５％のシラノール組成物（イソプロパノール溶液）を調製し、実施例１０と同
様の実験を行った。
【0112】
［比較例４］
前記（各立体異性体の調製）にて調製したcis-trans-cis体（環状シラノール（Ｂ２）
）を用いて、濃度５％のシラノール組成物（イソプロパノール溶液）を調製し、実施例１
０と同様の実験を行った。
前記（各立体異性体の調製）にて調製したcis-trans-cis体（環状シラノール（Ｂ２）
）を用いて、濃度５％のシラノール組成物（イソプロパノール溶液）を調製し、実施例１
０と同様の実験を行った。
【0113】
［比較例５］
前記（各立体異性体の調製）にて調製したall-trans体（環状シラノール（Ｂ４））を
用いて、濃度５％のシラノール組成物（イソプロパノール溶液）を調製し、実施例１０と
同様の実験を行った。
前記（各立体異性体の調製）にて調製したall-trans体（環状シラノール（Ｂ４））を
用いて、濃度５％のシラノール組成物（イソプロパノール溶液）を調製し、実施例１０と
同様の実験を行った。
【0114】
［比較例６］
前記（各立体異性体の調製）にて調製したtrans-trans-cis体（環状シラノール（Ｂ３
））を用いて、濃度５％のシラノール組成物（溶液）を調製し、実施例１０と同様の実験
を行った。
前記（各立体異性体の調製）にて調製したtrans-trans-cis体（環状シラノール（Ｂ３
））を用いて、濃度５％のシラノール組成物（溶液）を調製し、実施例１０と同様の実験
を行った。
【0115】
実施例及び比較例で得られたシラノール組成物及び硬化物の物性及び評価結果を表１及
び表２に示す。
び表２に示す。
【0116】
【表1】
【0117】
【表2】
【0118】
本出願は、２０１７年８月１６日出願の日本特許出願（特願２０１７－１５７０７４号
）、２０１７年１２月１８日出願の日本特許出願（特願２０１７－２４２１５４号）、２
０１７年１２月１８日出願の日本特許出願（特願２０１７－２４２１５５号）、及び、２
０１７年１２月１８日出願の日本特許出願（特願２０１７－２４２１６１号）に基づくも
のであり、それらの内容はここに参照として取り込まれる。
）、２０１７年１２月１８日出願の日本特許出願（特願２０１７－２４２１５４号）、２
０１７年１２月１８日出願の日本特許出願（特願２０１７－２４２１５５号）、及び、２
０１７年１２月１８日出願の日本特許出願（特願２０１７－２４２１６１号）に基づくも
のであり、それらの内容はここに参照として取り込まれる。
【産業上の利用可能性】
【0119】
本発明のシラノール組成物は、発光ダイオード素子等の半導体素子の保護、封止、及び
接着や、発光ダイオード素子から発せられる光の波長の変更又は調整、並びに、レンズ等
の分野において産業上の利用可能性を有する。さらに、本発明のシラノール組成物は、レ
ンズ材料、光学デバイス、光学部品用材料、ディスプレイ材料等の各種の光学用材料、電
子デバイス、電子部品用絶縁材料、コーティング材料等の分野において産業上の利用可能
性を有する。
接着や、発光ダイオード素子から発せられる光の波長の変更又は調整、並びに、レンズ等
の分野において産業上の利用可能性を有する。さらに、本発明のシラノール組成物は、レ
ンズ材料、光学デバイス、光学部品用材料、ディスプレイ材料等の各種の光学用材料、電
子デバイス、電子部品用絶縁材料、コーティング材料等の分野において産業上の利用可能
性を有する。
【図1】
【図2】
【手続補正書】
【提出日】2023-05-15
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（１）で表される環状シラノール（Ａ１）：
（式（１）中、Ｒ1～Ｒ4は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）と、
前記環状シラノールの脱水縮合物（Ａ２）と
を含み、
３μｍの厚みにおいて、ヘイズが５％以下である、シラノール組成物。
【化1】
前記環状シラノールの脱水縮合物（Ａ２）と
を含み、
３μｍの厚みにおいて、ヘイズが５％以下である、シラノール組成物。
【請求項2】
前記環状シラノール（Ａ１）が、下記式（２）～（５）で表される環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）：
（式（２）～（５）中、Ｒ1～Ｒ4は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基である。）
を含有し、
前記環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）の総量に対する前記環状シラノール（Ｂ２）の割合（モル％）をｂとしたとき、０＜ｂ≦２０を満たす、請求項１に記載のシラノール組成物。
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】
を含有し、
前記環状シラノール（Ｂ１）～（Ｂ４）の総量に対する前記環状シラノール（Ｂ２）の割合（モル％）をｂとしたとき、０＜ｂ≦２０を満たす、請求項１に記載のシラノール組成物。
【請求項3】
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの測定において、前記脱水縮合物（Ａ２）の面積が、前記環状シラノール（Ａ１）及び前記脱水縮合物（Ａ２）の総面積に対して、０％超過５０％以下である、請求項１又は２に記載のシラノール組成物。
【請求項4】
遷移金属の割合が、１ｐｐｍ未満である、請求項１～３のいずれか一項に記載のシラノール組成物。
【請求項5】
溶媒を含む、請求項１～４のいずれか一項に記載のシラノール組成物。
【請求項6】
平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下のシリカ粒子を含む、請求項１～５いずれか一項に記載のシラノール組成物。
【請求項7】
下記式（６）で表される両末端シラノール変性シロキサンを含む、請求項１～６いずれか一項に記載のシラノール組成物。
（式（６）中、Ｒ’は、各々独立して、フッ素、アリール基、ビニル基、アリル基、フッ素で置換された直鎖状若しくは分枝状の炭素数１～４のアルキル基、又は、非置換の直鎖状若しくは分岐状の炭素数１～４のアルキル基であり、ｍは０～１０００の整数である。）
【化6】
【請求項8】
Ｎａ及びＶの合計含有割合が、６０ｐｐｍ未満である、請求項１～７いずれか一項に記載のシラノール組成物。
【請求項9】
請求項１～８のいずれか一項に記載のシラノール組成物を含む硬化物。
【請求項10】
請求項１～８のいずれか一項に記載のシラノール組成物を含む接着剤。
【請求項11】
請求項１～８のいずれか一項に記載のシラノール組成物を硬化させる方法であって、
６０～２５０℃で熱硬化させることを含む、方法。
６０～２５０℃で熱硬化させることを含む、方法。
【請求項12】
１０分～４８時間熱硬化させる、請求項１１に記載の方法。