(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023110418
(43)【公開日】2023-08-09
(54)【発明の名称】テストチャートおよびカメラ製造装置
(51)【国際特許分類】
H04N 23/60 20230101AFI20230802BHJP
G02B 7/28 20210101ALI20230802BHJP
G03B 17/02 20210101ALI20230802BHJP
【ＦＩ】
H04N5/232
G02B7/28 Z
G03B17/02
【審査請求】未請求
【請求項の数】12
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022011850
(22)【出願日】2022-01-28
(71)【出願人】
【識別番号】520386671
【氏名又は名称】ＣＣＴＥＣＨ ＪＡＰＡＮ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100145872
【弁理士】
【氏名又は名称】福岡 昌浩
(74)【代理人】
【識別番号】100091362
【弁理士】
【氏名又は名称】阿仁屋 節雄
(74)【代理人】
【識別番号】100187632
【弁理士】
【氏名又は名称】橘高 英郎
(72)【発明者】
【氏名】根岸 真人
【テーマコード（参考）】
2H100
2H151
5C122
【Ｆターム（参考）】
2H100BB01
2H151CA15
5C122EA55
5C122FD01
5C122FH09
5C122FH11
5C122GE11
5C122GE24
5C122GE26
5C122HA88
5C122HB01
5C122HB06
5C122HB07
5C122HB10
(57)【要約】
【課題】焦点位置の検出精度の低下を抑制する。
【解決手段】テストチャートは、カメラを調整するテストチャートであって、光が放射されるパターンを有する第１斜面と、光が放射されるパターンを有し、第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、第１斜面および第２斜面の間に設けられ、少なくとも第１斜面のパターンから第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、を備える。
【選択図】図１
【解決手段】テストチャートは、カメラを調整するテストチャートであって、光が放射されるパターンを有する第１斜面と、光が放射されるパターンを有し、第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、第１斜面および第２斜面の間に設けられ、少なくとも第１斜面のパターンから第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、を備える。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
カメラを調整するテストチャートであって、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
テストチャート。
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
テストチャート。
【請求項2】
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面のそれぞれの前記パターンから前記カメラに向かう光を遮らないように配置されている
請求項１に記載のテストチャート。
請求項１に記載のテストチャート。
【請求項3】
前記遮光部は、板状に構成され、前記カメラで撮像したときに線状に撮像されるように配置されている
請求項１又は請求項２に記載のテストチャート。
請求項１又は請求項２に記載のテストチャート。
【請求項4】
前記第１斜面および前記第２斜面のそれぞれの前記パターンは、各斜面の傾斜方向に沿って直線状に延在する少なくとも１つの境界線を有し、
前記斜面が前記カメラの光軸に対して傾斜し、且つ、前記カメラが撮像したときに前記境界線と前記カメラの画素配列方向とが非平行となるように配置され、
前記遮光部は、前記第１斜面の前記パターンからの光が前記第２斜面の前記境界線に重なることを抑制するよう配置されている
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のテストチャート。
前記斜面が前記カメラの光軸に対して傾斜し、且つ、前記カメラが撮像したときに前記境界線と前記カメラの画素配列方向とが非平行となるように配置され、
前記遮光部は、前記第１斜面の前記パターンからの光が前記第２斜面の前記境界線に重なることを抑制するよう配置されている
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のテストチャート。
【請求項5】
所定の高さに設けられ、前記カメラの光軸を中心として放射状に配置された複数の稜線を備え、
前記第１斜面は、前記複数の稜線のうちの第１稜線から傾斜し、
前記第２斜面は、前記第１稜線に隣り合う第２稜線から傾斜し、前記第１斜面に接している
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のテストチャート。
前記第１斜面は、前記複数の稜線のうちの第１稜線から傾斜し、
前記第２斜面は、前記第１稜線に隣り合う第２稜線から傾斜し、前記第１斜面に接している
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のテストチャート。
【請求項6】
前記第１斜面および前記第２斜面のいずれか一方を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックに向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のテストチャート。
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックに向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のテストチャート。
【請求項7】
カメラを調整するテストチャートであって、
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
テストチャート。
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
テストチャート。
【請求項8】
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜する少なくとも前記第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、少なくとも前記第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のテストチャート。
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜する少なくとも前記第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、少なくとも前記第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のテストチャート。
【請求項9】
カメラを調整するテストチャートであって、
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
テストチャート。
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
テストチャート。
【請求項10】
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
カメラ製造装置。
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
カメラ製造装置。
【請求項11】
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
カメラ製造装置。
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
カメラ製造装置。
【請求項12】
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
カメラ製造装置。
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
カメラ製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、テストチャートおよびカメラ製造装置に関する。
【背景技術】
【0002】
所定のパターンを有するチャートを用い、光学系と撮像素子との位置を調整することで、カメラを製造する装置が知られている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０００－１６５６２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明の目的は、焦点位置の検出精度の低下を抑制することである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の一態様によれば、
カメラを調整するテストチャートであって、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
テストチャートが提供される。
カメラを調整するテストチャートであって、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
テストチャートが提供される。
【0006】
本発明の他の態様によれば、
カメラを調整するテストチャートであって、
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
テストチャートが提供される。
カメラを調整するテストチャートであって、
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
テストチャートが提供される。
【0007】
本発明の他の態様によれば、
カメラを調整するテストチャートであって、
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
テストチャートが提供される。
カメラを調整するテストチャートであって、
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
テストチャートが提供される。
【0008】
本発明の他の態様によれば、
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
カメラ製造装置が提供される。
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
カメラ製造装置が提供される。
【0009】
本発明の他の態様によれば、
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
カメラ製造装置が提供される。
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
カメラ製造装置が提供される。
【0010】
本発明の他の態様によれば、
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
カメラ製造装置が提供される。
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
カメラ製造装置が提供される。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、焦点位置の検出精度の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】本発明の第１実施形態に係るテストチャートを示す斜視図である。
【図2】本発明の第１実施形態に係るテストチャートを示す平面図である。
【図3A】本発明の第１実施形態に係るテストチャートの１つの３Ｄブロックを示す平面図である。
【図3B】本発明の第１実施形態に係るテストチャートをカメラで撮像した画像の拡大図である。
【図4】本発明の第１実施形態に係るカメラ製造装置を示す概略構成図である。
【図5】カメラ製造装置に配置されるカメラを示す概略構成図である。
【図6】本発明の第１実施形態に係る制御部を示すブロック図である。
【図7】本発明の第１実施形態に係るカメラの製造方法を示すフローチャートである。
【図8A】テストチャートにおける１つのパターンを拡大した図である。
【図8B】評価領域を示す画像である。
【図9】第１実施形態における補正画素数に対する明るさの対応関係を示す図である。
【図10】各評価領域における補間曲線を周波数解析した図である。
【図11】境界線の位置に対するピーク空間周波数の対応関係を示す図である。
【図12】本発明の第２実施形態に係るテストチャートを示す斜視図である。
【図13】本発明の第３実施形態に係るテストチャートを示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
［本開示の実施形態の説明］
＜発明者の得た知見＞
まず、発明者の得た知見について説明する。
＜発明者の得た知見＞
まず、発明者の得た知見について説明する。
【0014】
本発明者は、カメラを精度よく調整するため、テストチャートとして３次元構造を有するチャートを検討した。
【0015】
検討したテストチャートは、例えば、３次元構造として、光が放射されるパターンをそれぞれ有する複数の斜面を備えるものである。各斜面に設けられたパターンをカメラによって撮像することで、カメラの焦点位置を精度よく検出することができる。
【0016】
しかしながら、複数の斜面のうち、第１斜面におけるパターンから放射された光が、隣り合う第２斜面におけるパターンに重なることがあった。この場合、当該第１斜面からの光は、第２斜面のパターンの検出において、不要なノイズとなっていた。例えば、当該第１斜面からの光が第２斜面のパターンに重なった画像領域では、最適な焦点位置の検出が困難となっていた。或いは、例えば、第１斜面からの光が第２斜面に照射された部分において、焦点位置を誤検出するおそれがあった。これらの結果、カメラの焦点位置の検出精度が低下するおそれがあった。
【0017】
このような焦点位置の検出精度の低下は、例えば、テストチャートが小さいほど、生じやすくなる。
【0018】
以下の本発明は、発明者等が見出した上記新規課題に基づくものである。
【0019】
［本開示の実施形態の詳細］
次に、本開示の一実施形態を、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、本開示はこれらの例示に限定されるものではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
次に、本開示の一実施形態を、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、本開示はこれらの例示に限定されるものではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【0020】
【0021】
なお、以下において、テストチャート１０がカメラ製造装置１内に配置されたときのカメラ２０を基準として、光学系２２０の光軸方向を「Ｚ方向」といい（テストチャート１０からカメラ２０に向けて＋とする）、光学系２２０の光軸に直交する撮像素子２４０の画素配列方向のうちの１方向を「Ｘ方向」といい、光学系２２０の光軸に直交する撮像素子２４０の画素配列方向のうちのＸ方向に直交する他方向を「Ｙ方向」ということがある。また、Ｚ方向を軸とした回転方向を「θＺ方向」といい、Ｘ方向を軸とした回転方向を「θＸ方向」といい、Ｙ方向を軸とした回転方向を「θＹ方向」ということがある。
【0022】
図１および図２に示すように、本実施形態のテストチャート１０は、例えば、３次元構造（立体構造）を備えている。テストチャート１０は、例えば、カメラ２０における光学系２２０と撮像素子２４０との位置を調整するために用いられるパターン１６０を斜面１４０に有している。
【0023】
具体的には、本実施形態のテストチャート１０は、例えば、支持板１９０と、３次元ブロック（３Ｄブロック）１１０と、遮光部１５０と、を有している。
【0024】
［支持板］
支持板１９０は、例えば、板状部材として構成され、３Ｄブロック１１０を支持するよう構成されている。支持板１９０は、例えば、外からの光、例えば部屋の照明光が入らないようにするため、黒く塗装したアルミ合金からなっている。平面視での支持板１９０の形状は、例えば、四角形（長方形）である。
支持板１９０は、例えば、板状部材として構成され、３Ｄブロック１１０を支持するよう構成されている。支持板１９０は、例えば、外からの光、例えば部屋の照明光が入らないようにするため、黒く塗装したアルミ合金からなっている。平面視での支持板１９０の形状は、例えば、四角形（長方形）である。
【0025】
支持板１９０は、後述のカメラ製造装置１においてチャート支持部３１０に支持（固定）されるよう構成されている。支持板１９０は、例えば、チャート支持部３１０の所定位置に固定される被固定部（不図示）を有していてもよい。被固定部としては、例えば、ボルトが挿通される貫通孔などが挙げられる。
【0026】
［各３Ｄブロックの構成］
３Ｄブロック１１０は、例えば、支持板１９０上に設けられ、３次元構造を有している。本実施形態の３Ｄブロック１１０は、例えば、錐体として構成されている。３Ｄブロック１１０が構成する錐体としては、例えば、多角錐（三角錐、四角錐など）、または円錐などが挙げられる。本実施形態では、３Ｄブロック１１０は、例えば、四角錐（正四角錐）として構成されている。
３Ｄブロック１１０は、例えば、支持板１９０上に設けられ、３次元構造を有している。本実施形態の３Ｄブロック１１０は、例えば、錐体として構成されている。３Ｄブロック１１０が構成する錐体としては、例えば、多角錐（三角錐、四角錐など）、または円錐などが挙げられる。本実施形態では、３Ｄブロック１１０は、例えば、四角錐（正四角錐）として構成されている。
【0027】
本実施形態の３Ｄブロック１１０は、例えば、底面（不図示）と、頂点１２０と、斜面１４０と、を有している。
【0028】
３Ｄブロック１１０の底面は、例えば、支持板１９０の上面に接し、支持板１９０に対して固定されている。本実施形態では、底面の形状は、例えば、４つの直交する底辺を有する正方形である。
【0029】
頂点１２０は、例えば、支持板１９０から所定の高さに設けられている。
【0030】
斜面１４０は、例えば、底辺と頂点１２０とを繋ぎ、底面の法線方向に対して傾斜して設けられている。例えば、当該斜面１４０が、調整対象のカメラ２０の光学系２２０の光軸に対して傾斜するように、テストチャート１０が後述のチャート支持部３１０に支持される。
【0031】
本実施形態では、斜面１４０は、例えば、４つ設けられている。４つの斜面１４０は、例えば、頂点１２０を挟んで相反する傾斜方向に向けて傾斜している。本実施形態では、４つの斜面１４０のそれぞれの形状は、例えば、二等辺三角形となっている。
【0032】
斜面１４０は、例えば、光が放射されるパターン１６０を有している。ここでいう「パターン１６０」とは、カメラ２０が撮像可能な図柄または模様などのことを意味する。また、ここでいう「光が放射されるパターン１６０」とは、３Ｄブロック１１０の底面側からの光がパターン１６０を透過して放射される場合と、カメラ２０側から３Ｄブロック１１０に照射された光がパターン１６０によって反射して放射される場合と、を含んでいる。なお、本実施形態でのパターン１６０は、例えば、前者とする。また、「光が放射される」とは、例えば、３Ｄブロック１１０を除く全方位に光が放射されることを意味する。
【0033】
本実施形態では、例えば、複数の斜面１４０のそれぞれが、パターン１６０を有している。複数のパターン１６０は、例えば、頂点１２０側からそれぞれ異なる傾斜方向に沿って連続的に延在している。パターン１６０が斜面１４０に沿って連続していることで、連続したパターン１６０上でカメラ２０の焦点位置（後述の暫定焦点位置）を精度よく検出することができる。また、複数のパターン１６０が異なる傾斜方向に沿って延在していることで、複数のパターン１６０の検出結果の相関に基づいて、カメラ２０の最適焦点位置を検出することができる。
【0034】
本実施形態の各３Ｄブロック１１０では、複数のパターン１６０は、例えば、カメラ２０の光学系２２０の光軸方向に頂点１２０の上方（直上）から見たときに（実空間で目視したときに、すなわち設計上では）頂点１２０を中心として点対称となるように設けられている。これにより、頂点１２０に対して点対称な各パターン１６０の検出結果に基づいて、カメラ２０の焦点位置をバランスよく検出することができる。
【0035】
なお、カメラ２０によって撮像した画像内では、複数のパターン１６０は、必ずしも点対称とならないことがある。例えば、調整前のカメラ２０の光学系２２０の向きが正面に向いていない影響、または光学系２２０の歪曲収差の影響などが考えられる。
【0036】
本実施形態では、斜面１４０は、パターン１６０として、例えば、少なくとも１つの境界線１６２を有している。境界線１６２は、例えば、色、濃淡および明るさのうち少なくともいずれかの境界を形成している。また、境界線１６２は、例えば、該斜面１４０の傾斜方向に沿って直線状に延在している。
【0037】
本実施形態では、斜面１４０のそれぞれは、例えば、複数の境界線１６２を有している。具体的には、斜面１４０は、例えば、黒色の素地面に対して開設されたスリット（線状開口）を有している。すなわち、スリットを介して光が放射される。また、スリットの両辺が、境界線１６２ａ，１６２ｂを構成している。
【0038】
［３Ｄブロックの種類］
本実施形態では、３Ｄブロック１１０は、例えば、複数設けられている。複数の３Ｄブロック１１０は、例えば、中央ブロック１１０ａと、４つの外側ブロック１１０ｂと、を有している。なお、以下において、隣り合う３Ｄブロック１１０を「近隣ブロック」ということがある。
本実施形態では、３Ｄブロック１１０は、例えば、複数設けられている。複数の３Ｄブロック１１０は、例えば、中央ブロック１１０ａと、４つの外側ブロック１１０ｂと、を有している。なお、以下において、隣り合う３Ｄブロック１１０を「近隣ブロック」ということがある。
【0039】
中央ブロック１１０ａは、例えば、正四角錐として構成されている。中央ブロック１１０ａは、例えば、カメラ２０の視野の中央、すなわち、支持板１９０の中央に配置されている。
【0040】
外側ブロック１１０ｂは、例えば、カメラ２０の視野の中央から離れた位置、すなわち、支持板１９０の中央から離れた位置に配置されている。本実施形態では、４つの外側ブロック１１０ｂが、それぞれ、支持板１９０の４つの角部付近に配置されている。
【0041】
本実施形態では、外側ブロック１１０ｂは、例えば、四角錐として構成されているが、正四角錐から変形した形状を有している。
【0042】
具体的には、図１に示すように、外側ブロック１１０ｂの頂点１２０は、支持板１９０の中央側に偏った位置に設けられている。
【0043】
一方で、図２に示すように、カメラ２０が撮像したときに頂点１２０が該外側ブロック１１０ｂの中心に位置するように、テストチャート１０が配置される。つまり、カメラ２０の光学系２２０に歪曲収差が生じていても、実空間で外側ブロック１１０ｂの頂点１２０が支持板１９０の中央側に偏った位置に設けられていることで、頂点１２０が該外側ブロック１１０ｂの中心に位置するように、テストチャート１０が配置される。
【0044】
［遮光部］
図１および図２に示すように、本実施形態では、第１斜面１４０と、第１斜面１４０に隣り合う第２斜面１４０との間に、遮光部１５０が設けられている。遮光部１５０は、例えば、少なくとも第１斜面１４０のパターン１６０から第２斜面１４０に向かう光を遮断するよう構成されている。
図１および図２に示すように、本実施形態では、第１斜面１４０と、第１斜面１４０に隣り合う第２斜面１４０との間に、遮光部１５０が設けられている。遮光部１５０は、例えば、少なくとも第１斜面１４０のパターン１６０から第２斜面１４０に向かう光を遮断するよう構成されている。
【0045】
ここでいう「隣り合う第１斜面１４０および第２斜面１４０」とは、互いに非平行で、且つ、遮光部１５０以外の部材を介さずに近い距離で配置されていることを意味する。言い換えれば、第１斜面１４０および第２斜面１４０は、遮光部１５０が無い状態であれば、各パターン１６０からの光が他方の斜面１４０に入射しうるよう配置されていることを意味する。
【0046】
このように、遮光部１５０が設けられていることで、第１斜面１４０のパターン１６０から放射される光が、第２斜面１４０のパターン１６０に重なる（混同する）ことを抑制することができる。
【0047】
本実施形態では、遮光部１５０は、例えば、外側ブロック１１０ｂと、外側ブロック１１０ｂに隣り合う近隣ブロックとしての３Ｄブロック１１０との間で光を遮断するよう、設けられている。具体的には、中央ブロックＢ１と外側ブロックＢ２～Ｂ５のそれぞれとの間、外側ブロックＢ２と外側ブロックＢ５との間、外側ブロックＢ３と外側ブロックＢ４との間に、遮光部１５０（それぞれＳ２、Ｓ３、Ｓ５、Ｓ６、Ｓ１およびＳ４）が設けられている。このような構成により、各外側ブロック１１０ｂの斜面１４０から近隣ブロックの斜面１４０に向かう光と、中央ブロック１１０ａの斜面１４０から近隣ブロックとしての外側ブロック１１０ｂの斜面１４０に向かう光と、を各遮光部１５０により遮断することができる。
【0048】
また、本実施形態では、遮光部１５０は、例えば、第１斜面１４０および第２斜面１４０のそれぞれのパターン１６０からカメラ２０に向かう光を遮らないように配置されている。具体的には、遮光部１５０は、例えば、板状に構成され、カメラ２０で撮像したときに線状に撮像されるように配置されている。つまり、遮光部１５０は、実空間で支持板１９０の法線に対して斜めに配置されることがある。このような構成により、遮光部１５０を配置しつつ、各パターン１６０における焦点位置の検出を安定的に行うことができる。
【0049】
また、本実施形態では、遮光部１５０は、例えば、反射を抑制する表面を有している。具体的には、遮光部１５０は、反射防止膜を表面に有している。これにより、遮光部１５０に起因した光の乱反射を抑制することができる。
【0050】
【0051】
図３Ｂに示すように、本実施形態では、カメラ２０が撮像したときに境界線１６２と撮像素子２４０の画素配列方向とが非平行となるように、テストチャート１０が配置される。言い換えれば、カメラ２０が撮像したときに境界線１６２と撮像素子２４０の画素配列方向とが交差するように、テストチャート１０が配置される。これにより、画素ピッチよりも細かいピッチで、画素の指標値の変化を検出することができる。
【0052】
さらに、本実施形態では、カメラ２０が撮像したときに境界線１６２が撮像素子２４０の画素配列方向に対して直線状に傾くように、テストチャート１０が配置される。
【0053】
画素配列方向に対する境界線１６２の傾斜角度αは、例えば、０．０２ｒａｄ超である。これにより、５０列の画素のデータを補間して、１ピクセル相当の指標値を評価することができる。ただし、実際には、後述の評価領域ＥＲの列数を増やすと、画像横方向の分解能、すなわち焦点位置のＺ方向の分解能が悪くなる傾向がある。すなわち、補間精度が向上するほど、画像横方向の分解能が悪化する傾向がある。そのため、実際には、評価領域ＥＲの列数を、１０列以上３０列以下としている。
【0054】
一方で、画素配列方向に対する境界線１６２の傾斜角度αは、例えば、約０．７９ｒａｄ（４５°）以下である。これにより、１画素より細かい指標値の変化を精度良く把握することができる。
【0055】
ここで、カメラ２０が撮像したときには、光学系２２０の歪曲収差の影響を受けることが考えられる。
【0056】
しかしながら、本実施形態では、カメラ２０が撮像したときに、光学系２２０の歪曲収差のみに起因したずれよりも大きく、境界線１６２が撮像素子２４０の画素配列方向に対してずれるように、テストチャート１０が配置される。つまり、カメラ２０が撮像したときの画素配列方向に対する境界線１６２のずれは、例えば、光学系２２０の歪曲収差起因成分と、撮像素子２４０の画素配列方向に対して直線状に傾く成分（直線傾斜成分ともいう）と、を有することとなる。
【0057】
また、カメラ２０が撮像したときには、結像倍率の違いに起因して、カメラ２０に近い側のスリットの幅が、底辺側のスリットの幅よりも広くなる。このため、１つのスリットにおいて、一方の境界線１６２ａと他方の境界線１６２ｂとが互いに非平行となる。しかしながら、上述の結像倍率の違いに起因した影響を考慮したうえでも、画像内で、境界線１６２ａ，１６２ｂのそれぞれと画素配列方向とが交差していることが好ましい。
【0058】
このような画像内での配置が得られる実空間でのテストチャート１０の配置としては、例えば、３Ｄブロック１１０の４つの底辺のそれぞれが支持板１９０の４辺（撮像素子２４０の直交する画素配列方向に相当）のいずれかに平行になっている。これに対して、斜面１４０のそれぞれにおける境界線１６２は、平面視で４つの底辺のいずれかの延在方向に対して所定の角度αで傾いている。
【0059】
本実施形態では、上述の境界線１６２が底辺に対して傾いた構成に起因して、各３Ｄブロック１１０の斜面１４０におけるパターン１６０が、近隣ブロックに近づくように配置されている。このような構成であっても、遮光部１５０が設けられていることで、所定の斜面１４０の傾いたパターン１６０から放射される光が、近隣ブロックのパターン１６０に重なる（混同する）ことを抑制することができる。
【0060】
【0061】
図４に示すように、本実施形態のカメラ製造装置１は、例えば、テストチャート１０の検出結果に基づいて、カメラ２０における光学系２２０と撮像素子２４０との相対的な位置を調整するよう構成されている。具体的には、カメラ製造装置１は、例えば、チャート支持部３１０と、リレーレンズ３２０と、カメラ支持部３４０と、カメラ調整機構３６０と、カメラ固定部３８０と、制御部４００と、を有している。
【0062】
（カメラ）
ここで、図５を用い、カメラ製造装置１で調整されるカメラ２０について説明する。図５に示すように、カメラ２０は、例えば、光学系２２０と、オートフォーカス機構（不図示）と、撮像素子２４０と、回路基板２６０と、コネクタ２８０と、を有している。
ここで、図５を用い、カメラ製造装置１で調整されるカメラ２０について説明する。図５に示すように、カメラ２０は、例えば、光学系２２０と、オートフォーカス機構（不図示）と、撮像素子２４０と、回路基板２６０と、コネクタ２８０と、を有している。
【0063】
光学系２２０は、例えば、少なくとも１つのレンズを含むレンズ群（不図示）と、レンズバレル（不図示）と、を有している。レンズバレルは、レンズ群を一体として支持している。
【0064】
オートフォーカス機構は、例えば、レンズ群を支持するレンズバレルを光軸に沿って移動可能に構成されている。オートフォーカス機構としては、例えば、ボイスコイルモータなどのアクチュエータなどが挙げられる。
【0065】
撮像素子２４０は、例えば、固体イメージセンサとして構成されている。撮像素子２４０としては、例えば、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）、またはＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ－Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）などが挙げられる。
【0066】
撮像素子２４０は、例えば、光学系２２０の光軸に対して直交し、且つ、光学系２２０を介して結像される位置に配置される。当該撮像素子２４０と光学系２２０との相対的な位置が、カメラ製造装置１により調整される。
【0067】
回路基板２６０は、例えば、撮像素子２４０を搭載し、撮像素子２４０およびオートフォーカス機構を駆動するよう構成されている。回路基板２６０上の撮像素子２４０の周辺には、光学系２２０を固定するための接着剤２６２が塗布される。
【0068】
コネクタ２８０は、カメラ２０が搭載される携帯電話などに接続可能に構成されている。なお、カメラ製造装置１においても、コネクタ２８０を介してカメラ２０が接続されることとなる。
【0069】
（チャート支持部）
チャート支持部３１０は、例えば、テストチャート１０を支持するよう構成されている。
チャート支持部３１０は、例えば、テストチャート１０を支持するよう構成されている。
【0070】
本実施形態のチャート支持部３１０は、例えば、斜面１４０が光学系２２０の光軸に対して傾斜し、且つ、カメラ２０が撮像したときに境界線１６２と撮像素子２４０の画素配列方向とが非平行となるように、テストチャート１０を支持するよう構成されている。チャート支持部３１０は、例えば、上述の配置でテストチャート１０をネジ締結するよう構成されている。
【0071】
なお、チャート支持部３１０は、例えば、テストチャート１０を光軸方向に位置調節可能に構成されていてもよい。具体的には、例えば、送りねじにより、テストチャート１０を光軸方向に±５０ｍｍ程度、移動可能になっていてもよい。
【0072】
チャート支持部３１０は、例えば、チャート光源３１２を有している。チャート光源３１２は、例えば、テストチャート１０の裏面側に配置され、各３Ｄブロック１１０の内側から光を照射し、それぞれの斜面１４０のパターン１６０から光を透過させるように構成されている。本実施形態では、チャート光源３１２は、全ての３Ｄブロック１１０に同時に光を照射し、全てのパターン１６０から光を透過させるように構成されている。
【0073】
なお、カメラ製造装置１の側面は、不透明なアクリル板または暗幕で覆われ、遮光されていることが好ましい。
【0074】
（リレーレンズ）
リレーレンズ３２０は、例えば、テストチャート１０の像を撮像素子２４０の位置に結像するよう構成されている。リレーレンズ３２０は、例えば、凸レンズとして構成されている。このような構成により、カメラ製造装置１内の物像間距離を短くすることができる。
リレーレンズ３２０は、例えば、テストチャート１０の像を撮像素子２４０の位置に結像するよう構成されている。リレーレンズ３２０は、例えば、凸レンズとして構成されている。このような構成により、カメラ製造装置１内の物像間距離を短くすることができる。
【0075】
（カメラ支持部）
カメラ支持部３４０は、例えば、テストチャート１０を撮像可能な位置に、光学系２２０および撮像素子２４０を有するカメラ２０の少なくとも一部を支持するよう構成されている。本実施形態では、カメラ支持部３４０は、例えば、撮像素子２４０、回路基板２６０およびコネクタ２８０を支持するよう構成されている。
カメラ支持部３４０は、例えば、テストチャート１０を撮像可能な位置に、光学系２２０および撮像素子２４０を有するカメラ２０の少なくとも一部を支持するよう構成されている。本実施形態では、カメラ支持部３４０は、例えば、撮像素子２４０、回路基板２６０およびコネクタ２８０を支持するよう構成されている。
【0076】
カメラ支持部３４０には、カメラ２０のコネクタ２８０が接続される。これにより、カメラ製造装置１において撮像素子２４０によりテストチャート１０を撮像することができる。
【0077】
（カメラ調整機構）
カメラ調整機構３６０は、例えば、カメラ２０の焦点位置に基づいて、光学系２２０および撮像素子２４０の相対的な位置を調整するよう構成されている。
カメラ調整機構３６０は、例えば、カメラ２０の焦点位置に基づいて、光学系２２０および撮像素子２４０の相対的な位置を調整するよう構成されている。
【0078】
具体的には、カメラ調整機構３６０は、例えば、Ｚ方向、Ｘ方向、Ｙ方向、θＺ方向、θＸ方向およびθＹ方向に光学系２２０を調整可能に構成されている。さらに、カメラ調整機構３６０は、例えば、撮像素子２４０を支持するカメラ支持部３４０をＸ方向およびＹ方向に調整可能に構成されていてもよい。
【0079】
（カメラ固定部）
カメラ固定部３８０は、例えば、光学系２２０と撮像素子２４０とを固定するよう構成されている。具体的には、カメラ固定部３８０は、例えば、紫外線を出射する光源として構成されている。例えば、カメラ固定部３８０からの紫外線を回路基板２６０上の接着剤２６２に向けて照射し、接着剤２６２を硬化させることで、光学系２２０と撮像素子２４０とを固定することができる。
カメラ固定部３８０は、例えば、光学系２２０と撮像素子２４０とを固定するよう構成されている。具体的には、カメラ固定部３８０は、例えば、紫外線を出射する光源として構成されている。例えば、カメラ固定部３８０からの紫外線を回路基板２６０上の接着剤２６２に向けて照射し、接着剤２６２を硬化させることで、光学系２２０と撮像素子２４０とを固定することができる。
【0080】
（制御部）
制御部４００は、例えば、カメラ製造装置１の各部を制御し、カメラ２０が撮像したテストチャート１０の画像に基づいて、カメラ２０を調整するよう構成されている。
制御部４００は、例えば、カメラ製造装置１の各部を制御し、カメラ２０が撮像したテストチャート１０の画像に基づいて、カメラ２０を調整するよう構成されている。
【0081】
具体的には、図５に示すように、制御部４００は、コンピュータとして構成され、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）４１０と、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）４２０と、記憶装置４３０と、Ｉ／Ｏポート４４０と、入力部４５０と、表示部４６０と、を有している。ＲＡＭ４２０、記憶装置４３０、およびＩ／Ｏポート４４０は、ＣＰＵ４１０とデータ交換可能に構成されている。
【0082】
Ｉ／Ｏポート４４０は、例えば、チャート光源３１２、カメラ支持部３４０、カメラ調整機構３６０、およびカメラ固定部３８０に接続されている。なお、Ｉ／Ｏポート４４０は、カメラ支持部３４０を介してカメラ２０の撮像素子２４０に接続されている。
【0083】
記憶装置４３０は、例えば、カメラ２０の焦点検出に係るプログラム、カメラ調整機構３６０を制御するプログラム、テストチャート１０の画像などを記憶するよう構成されている。記憶装置４３０は、例えば、ＨＤＤ（Ｈａｒｄ ｄｉｓｋ ｄｒｉｖｅ）またはＳＳＤ（Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｄｒｉｖｅ）などである。
【0084】
ＲＡＭ４２０は、ＣＰＵ４１０によって記憶装置４３０から読み出されるプログラムや情報等が一時的に保持されるよう構成されている。
【0085】
ＣＰＵ４１０は、記憶装置４３０に格納された所定のプログラムを実行することで、画像解析部、カメラ調整制御部として機能するように構成されている。
【0086】
画像解析部は、例えば、テストチャート１０を撮像した画像を解析し、カメラ２０の焦点位置を検出するよう構成されている。
カメラ調整制御部は、例えば、カメラ２０の焦点位置に基づいて、光学系２２０および撮像素子２４０の相対的な位置を調整するよう、カメラ調整機構３６０を制御するよう構成されている。
上述の各部によるカメラ製造方法については、詳細を後述する。
カメラ調整制御部は、例えば、カメラ２０の焦点位置に基づいて、光学系２２０および撮像素子２４０の相対的な位置を調整するよう、カメラ調整機構３６０を制御するよう構成されている。
上述の各部によるカメラ製造方法については、詳細を後述する。
【0087】
上述の各部を実現するための所定プログラムは、例えば、制御部４００が構成するコンピュータにインストールして用いられる。プログラムは、例えば、そのインストールに先立ち、コンピュータで読み取り可能な記憶媒体に格納されて提供されるものであってもよい。或いは、プログラムは、例えば、制御部４００と接続する通信回線（光ファイバ等）を通じて当該コンピュータへ提供されるものであってもよい。
【0088】
表示部４６０は、例えば、テストチャート１０の画像や解析結果などを表示するよう構成されている。表示部４６０は、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（ＯＬＥＤ）ディスプレイなどである。
【0089】
入力部４５０は、例えば、ユーザが所定の操作を行う情報を制御部４００に入力可能に構成されている。入力部４５０は、例えば、マウス、キーボードなどである。
【0090】
なお、表示部４６０および入力部４５０は、タッチパネル等により両者を兼ねて構成されていてもよい。
【0091】
【0092】
図７に示すように、本実施形態のカメラの製造方法は、例えば、準備工程Ｓ１００と、撮像工程Ｓ２００と、画像解析工程Ｓ３００と、焦点誤差算出工程Ｓ４００と、焦点位置判定工程Ｓ５２０と、カメラ位置調整工程Ｓ５４０と、カメラ固定工程Ｓ６００と、を有している。準備工程Ｓ１００よりも後の各工程は、制御部４００により処理または制御される。
【0093】
（Ｓ１００：準備工程）
まず、本実施形態のテストチャート１０を準備する。
まず、本実施形態のテストチャート１０を準備する。
【0094】
このとき、チャート支持部３１０によりテストチャート１０を支持する。テストチャート１０を配置したら、チャート光源３１２を起動し、テストチャート１０に光を照射する。また、チャート光源３１２から全ての３Ｄブロック１１０に同時に光を照射し、全てのパターン１６０から光を透過させる。
【0095】
また、調整対象のカメラ２０をカメラ製造装置１に配置する。
【0096】
このとき、例えば、テストチャート１０を撮像可能な位置に、カメラ２０の少なくとも一部をカメラ支持部３４０により支持し、光学系２２０および撮像素子２４０の少なくとも一部をカメラ調整機構３６０に配置する。
【0097】
（Ｓ２００：撮像工程）
次に、上述のカメラ２０を用い、テストチャート１０を撮像することで、テストチャート１０の画像を取得する。
次に、上述のカメラ２０を用い、テストチャート１０を撮像することで、テストチャート１０の画像を取得する。
【0098】
このとき、一度に、全ての３Ｄブロック１１０のパターン１６０を撮像する。また、このとき、例えば、上述のテストチャート１０の配置により、画像内では、テストチャート１０の境界線１６２と画素配列方向とが非平行となっている。
【0099】
（Ｓ３００：画像解析工程）
次に、テストチャート１０を撮像した画像を解析し、カメラ２０の焦点位置を検出する。
次に、テストチャート１０を撮像した画像を解析し、カメラ２０の焦点位置を検出する。
【0100】
本実施形態では、例えば、テストチャート１０を撮像した画像において、境界線１６２の検出結果に基づいて、カメラ２０の焦点位置を検出する。
【0101】
図８Ａに示すように、テストチャート１０の画像内で、境界線１６２と交差した複数の画素を含む評価領域ＥＲを選択する。このとき、例えば、境界線１６２の延在方向に沿って位置が異なる複数の評価領域ＥＲを選択する。また、このとき、図８Ｂに示すように、評価領域ＥＲとして、例えば、境界線１６２と交差する複数の画素列を選択する。
【0102】
次に、評価領域ＥＲ内の各画素において、画素の色、濃淡および明るさのうち少なくともいずれかの指標値（画素値）を取得する。
【0103】
また、図８Ｂの評価領域ＥＲ内の各画素において、評価領域ＥＲの角部を通り境界線１６２に平行な基準線から起算した補正画素数ｄ’を求める。境界線１６２は画素配列方向に対して角度αで傾斜していることから、補正画素数ｄ’は、以下の式（１）により求められる。
ｄ’＝ｄ＋ｎｔａｎα ・・・（１）
ただし、ｄは、評価領域ＥＲの一端から評価領域ＥＲ内で境界線１６２と交差する画素配列方向（評価領域ＥＲの長手方向、図縦方向）への画素数（画素行数）（単位ｐｉｘｅｌ）である。ｎは、評価領域ＥＲの画素列数である。
ｄ’＝ｄ＋ｎｔａｎα ・・・（１）
ただし、ｄは、評価領域ＥＲの一端から評価領域ＥＲ内で境界線１６２と交差する画素配列方向（評価領域ＥＲの長手方向、図縦方向）への画素数（画素行数）（単位ｐｉｘｅｌ）である。ｎは、評価領域ＥＲの画素列数である。
【0104】
【0105】
このとき、本実施形態では、横軸を、評価領域ＥＲの角部を通り境界線１６２に平行な基準線から起算した補正画素数ｄ’とすることで、評価領域ＥＲの列１本ごとに、補正画素数ｄ’がｔａｎαだけずれた指標値を得ることができる。ｔａｎα≦１、すなわち、α≦０．７９ｒａｄ（４５°）とすることで、各画素の指標値を画素ピッチよりも短いピッチでプロットすることができる。つまり、サンプリングピッチを仮想的に短くすることが可能となる。その結果、境界線１６２と交差する方向において、１画素より細かい指標値の変化を精度よく把握することが可能となる。
【0106】
次に、図９に示すように、評価領域ＥＲ内の補正画素数ｄ’と画素の指標値との対応関係としての離散的データを補間することで、補間曲線（補間関数）ＩＣを取得する。
【0107】
次に、補間曲線ＩＣを周波数解析（フーリエ変換）することで、図１０の１つの曲線として示すように、空間周波数に対する周波数応答（ＳＦＲ：Ｓｐａｔｉａｌ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｒｅｓｐｏｎｓｅ）の曲線を取得する。
【0108】
以上のようにして、境界線１６２の延在方向に沿って位置が異なる複数の評価領域ＥＲにおいて、一連の工程を行う。
【0109】
これにより、図１０に示すように、全ての評価領域ＥＲのそれぞれにおいて周波数応答曲線が得られる。
【0110】
このとき、本実施形態では、例えば、複数の評価領域ＥＲのなかで、補正画素数ｄ’に対する指標値の変化が最も急である評価領域ＥＲ内の位置を暫定焦点位置として検出する。
【0111】
具体的には、図１０に示すように、各評価領域ＥＲにおいて、所定の基準（Ｃｒｉｔｅｒｉａ）以上の周波数応答を有する空間周波数の最大値を、「最適空間周波数（Ｂｅｓｔ
Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）」として求める。
Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）」として求める。
【0112】
次に、図１１に示すように、境界線１６２に沿った方向の各評価領域ＥＲの中心位置（Ｌ）に対する、最適空間周波数の対応関係を取得し、最も高い空間周波数をピーク空間周波数として求める。当該ピーク空間周波数が得られた位置を、境界線１６２における暫定焦点位置として特定する。
【0113】
暫定焦点位置を特定したら、画像において、境界線１６２の下端から境界線１６２に沿った方向に暫定焦点位置までの距離Ｌに基づいて、実空間での暫定焦点位置の座標（３次元座標）Ｂｍｎ１（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を求める。
【0114】
次に、所定の境界線１６２において暫定焦点位置を求めたら、テストチャート１０が有する全ての境界線１６２について同様の工程を行う。
【0115】
（Ｓ４００：焦点誤差算出工程）
全ての境界線１６２について画像解析工程Ｓ３００が終了したら、図３Ａに示すように、全ての境界線１６２のそれぞれにおいて暫定焦点位置（座標Ｂ１１１～Ｂ１４２）が得られる。
全ての境界線１６２について画像解析工程Ｓ３００が終了したら、図３Ａに示すように、全ての境界線１６２のそれぞれにおいて暫定焦点位置（座標Ｂ１１１～Ｂ１４２）が得られる。
【0116】
このとき、本実施形態では、例えば、複数の境界線１６２の検出結果の相関に基づいて、カメラ２０の最適焦点位置Ｂｍを検出する。
【0117】
以上のようにして、カメラ２０の最適焦点位置の座標Ｂｍを求めたら、最適焦点位置の座標Ｂｍに基づいて、カメラ２０の焦点面の傾斜角度θｘ、θｙと、焦点面の中心位置の座標（Ｃｘ，Ｃｙ，Ｃｚ）を求める。
【0118】
このようにしてカメラ２０の焦点面の傾斜角度θｘ、θｙと、焦点面の中心位置の座標（Ｃｘ，Ｃｙ，Ｃｚ）を求めたら、それぞれの値と目標値との誤差を計算する。なお、このようにして求められる誤差を以下では「焦点誤差」ともいう。
【0119】
（Ｓ５２０：焦点位置判定工程）
焦点誤差を求めたら、カメラ２０の焦点位置が良好か否かを判定する。具体的には、例えば、上述の焦点誤差が予め設定した許容値以下であるか否かを判定する。
焦点誤差を求めたら、カメラ２０の焦点位置が良好か否かを判定する。具体的には、例えば、上述の焦点誤差が予め設定した許容値以下であるか否かを判定する。
【0120】
（Ｓ５４０：カメラ位置調整工程）
カメラ２０の焦点位置が良好でない場合には（すなわち、焦点誤差が許容値よりも大きい場合、Ｓ５２０でＮｏ）、当該カメラ２０の焦点位置に基づいて、光学系２２０および撮像素子２４０の相対的な位置をカメラ調整機構３６０により調整する。
カメラ２０の焦点位置が良好でない場合には（すなわち、焦点誤差が許容値よりも大きい場合、Ｓ５２０でＮｏ）、当該カメラ２０の焦点位置に基づいて、光学系２２０および撮像素子２４０の相対的な位置をカメラ調整機構３６０により調整する。
【0121】
具体的には、例えば、上述の焦点誤差が０（ゼロ）になるように、Ｚ方向、Ｘ方向、Ｙ方向、θＺ方向、θＸ方向およびθＹ方向に光学系２２０を調整する。
【0122】
カメラ２０の調整後は、撮像工程Ｓ２００以降の工程を再度行う。
【0123】
（Ｓ６００：カメラ固定工程）
一方で、カメラ２０の焦点位置が良好である場合には（すなわち、焦点誤差が予め設定した許容値以下である場合、Ｓ５２０でＹｅｓ）、カメラ固定部３８０により、光学系２２０と撮像素子２４０とを固定する。
一方で、カメラ２０の焦点位置が良好である場合には（すなわち、焦点誤差が予め設定した許容値以下である場合、Ｓ５２０でＹｅｓ）、カメラ固定部３８０により、光学系２２０と撮像素子２４０とを固定する。
【0124】
以上により、本実施形態のカメラ製造工程を終了する。
【0125】
（４）本実施形態に係る効果
本実施形態によれば、以下に示す１つ又は複数の効果を奏する。
本実施形態によれば、以下に示す１つ又は複数の効果を奏する。
【0126】
（ａ）本実施形態では、第１斜面１４０と、第１斜面１４０に隣り合う第２斜面１４０との間に、遮光部１５０が設けられている。遮光部１５０は、例えば、少なくとも第１斜面１４０のパターン１６０から第２斜面１４０に向かう光を遮断するよう構成されている。これにより、第１斜面１４０のパターン１６０から放射された光が、第２斜面１４０のパターン１６０に重なることを抑制することができる。
【0127】
これにより、第２斜面１４０のパターン１６０において、第１斜面１４０のパターン１６０から放射された光の重なりを受けずに、最適な焦点位置の検出を安定的に行うことができる。また、第１斜面１４０からの光が第２斜面１４０に照射された部分における焦点位置の誤検出を抑制することができる。
【0128】
これらの結果、本実施形態では、カメラ２０の焦点位置の検出精度の低下を抑制することが可能となる。
【0129】
（ｂ）本実施形態では、複数の３Ｄブロック１１０における全てのパターン１６０を撮像した画像に基づいて、カメラ２０の焦点位置を早期に検出することができる。
【0130】
ここで、上述したような斜面１４０同士のパターン１６０の光が重なる課題は、３Ｄブロック１１０毎に光を照射し、斜面１４０ごとにパターン１６０の画像を取得すれば解消される可能性がある。しかしながら、３Ｄブロック１１０毎の光照射による画像取得および解析を行うと、当該３Ｄブロック１１０の個数などに比例して、測定および解析に係る時間が長くなってしまう。
【0131】
これに対し、本実施形態では、複数の３Ｄブロック１１０における全てのパターン１６０を一度撮像した画像において、斜面１４０同士のパターン１６０の光の重なりを抑制することができる。これにより、パターン１６０の光の重なりが抑制された１つの画像のみに基づいて、検出精度の低下を抑制しつつ、カメラ２０の焦点位置を早期に検出することができる。つまり、焦点位置の検出精度の低下抑制と、焦点位置の検出時間の短縮とを両立させることが可能となる。
【0132】
（ｃ）本実施形態では、遮光部１５０は、例えば、第１斜面１４０および第２斜面１４０のそれぞれのパターン１６０からカメラ２０に向かう光を遮らないように配置されている。これにより、カメラ２０が当該パターン１６０を撮像したときに、遮光部１５０に起因したパターン１６０の欠損を抑制することができる。その結果、遮光部１５０を配置しつつ、パターン１６０の全体を用いて最適な焦点位置の検出を安定的に行うことができる。
【0133】
さらに、本実施形態では、遮光部１５０は、板状に構成され、カメラ２０で撮像したときに線状に撮像されるように配置されている。これにより、遮光部１５０に起因したパターン１６０の欠損をより安定的に抑制することができる。
【0134】
（ｄ）本実施形態では、外側ブロック１１０ｂは、カメラ２０が撮像したときに頂点１２０が該外側ブロック１１０ｂの中心に位置するように配置されている。遮光部１５０は、外側ブロック１１０ｂの斜面１４０から近隣ブロックの斜面１４０に向かう光を遮断するよう設けられている。
【0135】
ここで、外側ブロック１１０ｂが上述のように配置されていると、実空間で外側ブロック１１０ｂの頂点１２０が支持板１９０の中央側に偏った位置に設けられる。当該外側ブロック１１０ｂの形状に起因して、外側ブロック１１０ｂの少なくとも１つの斜面１４０が、支持板１９０に対して垂直に近く配置されることとなる。このため、外側ブロック１１０ｂの垂直に近い斜面１４０からの光が、近隣ブロックの斜面１４０に向かい易くなり、近隣ブロックのパターン１６０に重なり易くなる。
【0136】
また、外側ブロック１１０ｂの形状に起因して、外側ブロック１１０ｂの少なくとも１つの斜面１４０の面積が広くなり、当該斜面１４０におけるパターン１６０が大きくなる。このため、外側ブロック１１０ｂの広い斜面１４０からの光が、近隣ブロックの斜面１４０に向けて照射され易くなり、近隣ブロックのパターン１６０に重なり易くなる。
【0137】
これに対し、本実施形態では、外側ブロック１１０ｂと近隣ブロックとの間に遮光部１５０が設けられていることで、外側ブロック１１０ｂの垂直に近い斜面１４０から、近隣ブロックの斜面１４０に向かう光を遮断することができる。また、外側ブロック１１０ｂの広い斜面１４０からの光が、近隣ブロックの斜面１４０に照射されることを抑制することができる。
【0138】
これらの結果、外側ブロック１１０ｂの形状に起因してパターン１６０の光の重なりが生じやすい状況下であったとしても、カメラ２０の焦点位置の検出精度の低下を安定的に抑制することが可能となる。
【0139】
（ｅ）本実施形態では、斜面１４０が光学系２２０の光軸に対して傾斜し、且つ、カメラ２０が撮像したときに境界線１６２と撮像素子２４０の画素配列方向とが非平行となるように、テストチャート１０が配置される。これにより、評価領域ＥＲの列１本ごとに、補正画素数ｄ’がｔａｎαだけずれた指標値を得ることができる。ｔａｎα≦１、すなわち、α≦０．７９ｒａｄ（４５°）とすることで、各画素の指標値を画素ピッチよりも短いピッチでプロットすることができる。つまり、サンプリングピッチを仮想的に短くすることが可能となる。その結果、境界線１６２と交差する方向において、１画素より細かい指標値の変化を精度よく把握することが可能となる。
【0140】
このように、境界線１６２と交差する方向の指標値の変化を精度よく把握することで、境界線１６２における焦点位置（上述の暫定焦点位置）を精度よく検出することができる。その結果、カメラ２０における光学系２２０と撮像素子２４０との相対的な位置を精度よく調整することが可能となる。
【0141】
（ｆ）本実施形態では、境界線１６２が画素配列方向に非平行となったテストチャート１０において、遮光部１５０は、第１斜面１４０のパターン１６０からの光が、隣り合う第２斜面１４０の境界線１６２に重なることを抑制するよう配置されている。
【0142】
ここで、境界線１６２が画素配列方向に非平行となっていると、上述のように、当該境界線１６２が３Ｄブロック１１０の底辺に対して傾いて配置されることとなる。このため、各３Ｄブロック１１０の斜面１４０におけるパターン１６０が、近隣ブロックに近づくように配置されている。その結果、近隣ブロックに近づいたパターン１６０からの光が、近隣ブロックの斜面１４０に照射され易くなり、近隣ブロックのパターン１６０に重なり易くなる。
【0143】
これに対し、本実施形態では、境界線１６２が画素配列方向に非平行となった斜面１４０間に、遮光部１５０が設けられていることで、近隣ブロックに近づいたパターン１６０からの光が、近隣ブロックの斜面１４０に照射されることを抑制することができる。これにより、境界線１６２が画素配列方向に非平行となった形状に起因してパターン１６０の光の重なりが生じやすい状況下であったとしても、当該境界線１６２において１画素より細かい指標値の変化を精度よく把握することができる。その結果、カメラ２０の焦点位置の検出精度の低下を安定的に抑制することが可能となる。
【0144】
＜本発明の第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
【0145】
以下、上述の実施形態と異なる要素についてのみ説明し、上述の実施形態で説明した要素と実質的に同一の要素には、同一の符号を付してその説明を省略する。なお、第３実施形態などについても、第２実施形態と同様に説明を省略する。
【0146】
（１）テストチャート
本実施形態に係るテストチャート１０について、図１２を用いて説明する。
本実施形態に係るテストチャート１０について、図１２を用いて説明する。
【0147】
図１２に示すように、本実施形態のテストチャート１０は、例えば、支持板１９０と、３Ｄブロック１１０と、遮光部１５０と、を有している。
【0148】
本実施形態では、３Ｄブロック１１０は、例えば、複数の稜線１３０と、複数の斜面１４０と、を有している。
【0149】
複数の稜線１３０は、例えば、支持板１９０から所定の高さに設けられている。なお、稜線１３０は、上述の実施形態の頂点１２０の集合により形成されていると考えてもよい。支持板１９０からの複数の稜線１３０のそれぞれの高さは、互いに等しいことが好ましい。
【0150】
また、本実施形態では、複数の稜線１３０は、例えば、カメラ２０の光学系２２０の光軸（すなわち支持板１９０の中央）を中心として放射状に配置される。つまり、本実施形態では、３Ｄブロック１１０は、例えば、複数の三角柱が支持板１９０の中央で結合した形状を有している。
【0151】
なお、本実施形態では、複数の稜線１３０は、例えば、カメラ２０の光学系２２０の光軸に対して軸対称であることが好ましい。
【0152】
斜面１４０は、例えば、複数の稜線１３０のそれぞれを挟んで相反する傾斜方向に向けて傾斜するように、複数設けられている。
【0153】
本実施形態では、それぞれの斜面１４０は、例えば、パターン１６０として、複数のスリットを有している。複数のスリットのそれぞれは、一対の境界線１６２（１６２ａ、１６２ｂ）を有している。
【0154】
ここで、図１２に示すように、本実施形態では、一対の稜線１３０からそれぞれ傾斜する一対の斜面１４０が互いに接している。すなわち、一対の斜面１４０のうち、第１斜面１４０は、複数の稜線１３０のうちの第１稜線１３０から傾斜し、第２斜面１４０は、第１稜線１３０に隣り合う第２稜線１３０から傾斜し、第１斜面１４０に接している。遮光部１５０は、第１斜面１４０と第２斜面１４０との間で、カメラ２０の光軸を中心として放射状に延在している。遮光部１５０は、例えば、一方の斜面１４０のパターン１６０から他方の斜面１４０に向かう光を遮断するよう構成されている。
【0155】
なお、本実施形態においても、遮光部１５０は、例えば、第１斜面１４０および第２斜面１４０のそれぞれのパターン１６０からカメラ２０に向かう光を遮らないように配置されている。
【0156】
（２）効果
本実施形態では、テストチャート１０が、放射状に配置された複数の稜線１３０を有し、稜線１３０以外で互いに接する一対の斜面１４０の間に遮光部１５０が設けられている。
本実施形態では、テストチャート１０が、放射状に配置された複数の稜線１３０を有し、稜線１３０以外で互いに接する一対の斜面１４０の間に遮光部１５０が設けられている。
【0157】
ここで、一対の斜面１４０が互いに接しているテストチャート１０では、互いに接する一対の斜面１４０のそれぞれのパターン１６０間の間隔が狭くなる。そのため、一対の斜面１４０のうちの一方の斜面１４０のパターン１６０からの光が、他方の斜面１４０に照射され易くなり、他方の斜面１４０のパターン１６０に重なり易くなる。
【0158】
これに対し、本実施形態では、上述のように接した一対の斜面１４０の間に遮光部１５０が設けられていることで、一対の斜面１４０のうちの一方の斜面１４０のパターン１６０からの光が、他方の斜面１４０に照射されることを抑制することができる。その結果、接近した斜面１４０の配置に起因してパターン１６０の光の重なりが生じやすい状況下であったとしても、カメラ２０の焦点位置の検出精度の低下を安定的に抑制することが可能となる。
【0159】
＜本発明の第３実施形態＞
次に、本発明の第３実施形態について説明する。
次に、本発明の第３実施形態について説明する。
【0160】
（１）テストチャート
本実施形態に係るテストチャート１０について、図１３を用いて説明する。
本実施形態に係るテストチャート１０について、図１３を用いて説明する。
【0161】
図１３に示すように、本実施形態のテストチャート１０は、例えば、支持板１９０と、３Ｄブロック１１０と、２次元ブロック（２Ｄブロック）１７０と、遮光部１５０と、を有している。
【0162】
本実施形態の３Ｄブロック１１０は、例えば、第２実施形態の３Ｄブロック１１０と同様である。
【0163】
２Ｄブロック１７０は、例えば、支持板１９０上の３Ｄブロック１１０と異なる位置に設けられ、上面に２次元パターン（２Ｄパターン）１８０を有している。２Ｄパターン１８０は、例えば、カメラ２０の光軸に対して直交するように設けられている。これにより、２Ｄブロック１７０の２Ｄパターン１８０の検出結果に基づいて、カメラ２０の光学調整機構により光学系２２０の位置を原点位置に調整することができる。
【0164】
２Ｄパターン１８０は、例えば、２Ｄブロック１７０が有する平坦な上面に設けられている。支持板１９０からの２Ｄパターン１８０の高さは、例えば、３Ｄブロック１１０の頂点１２０の高さよりも低い。
【0165】
また、２Ｄブロック１７０は、２Ｄパターン１８０として、例えば、少なくとも１つの境界線１８２を有している。境界線１８２は、例えば、色、濃淡および明るさのうち少なくともいずれかの境界を形成している。
【0166】
本実施形態では、２Ｄブロック１７０は、例えば、４つ設けられている。４つの２Ｄブロック１７０は、例えば、３Ｄブロック１１０の複数の稜線１３０の間にそれぞれ配置されている。また、２Ｄブロック１７０は、例えば、一対の稜線１３０の間の中央に設けられている。このような配置により、２Ｄブロック１７０の検出結果（の相関）に基づいて、Ｘ方向およびＹ方向の中心を容易に検出することができる。
【0167】
ここで、図１３に示すように、本実施形態では、遮光部１５０は、３Ｄブロック１１０の複数の斜面１４０の間で、カメラ２０の光軸を中心として放射状に延在している。
【0168】
さらに、本実施形態では、遮光部１５０は、３Ｄブロック１１０と２Ｄブロック１７０との間に設けられ、少なくとも２Ｄパターン１８０から３Ｄブロック１１０に向かう光を遮断する補助遮光部としても構成されている。
【0169】
（２）効果
本実施形態では、テストチャート１０が３Ｄブロック１１０と２Ｄブロック１７０とを有しており、遮光部１５０は、３Ｄブロック１１０と２Ｄブロック１７０との間に設けられている。
本実施形態では、テストチャート１０が３Ｄブロック１１０と２Ｄブロック１７０とを有しており、遮光部１５０は、３Ｄブロック１１０と２Ｄブロック１７０との間に設けられている。
【0170】
ここで、３Ｄブロック１１０と２Ｄブロック１７０とを有するテストチャート１０では、２Ｄブロック１７０が３Ｄブロック１１０の頂点１２０よりも低いことがある。この場合、２Ｄブロック１７０の２Ｄパターン１８０からの光が、３Ｄブロック１１０の斜面１４０に照射され易くなり、３Ｄブロック１１０の斜面１４０のパターン１６０に重なり易くなる。
【0171】
これに対し、本実施形態では、上述のように３Ｄブロック１１０と２Ｄブロック１７０との間に補助遮光部としての遮光部１５０が設けられていることで、２Ｄブロック１７０の２Ｄパターン１８０からの光が、３Ｄブロック１１０の斜面１４０に照射されることを抑制することができる。その結果、２Ｄブロック１７０の配置に起因してパターン１６０の光の重なりが生じやすい状況下であったとしても、カメラ２０の焦点位置の検出精度の低下を安定的に抑制することが可能となる。
【0172】
＜本発明の他の実施形態＞
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。以下において、「上述の実施形態」とは、第１実施形態、第２実施形態並びに第３実施形態のことをいう。
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。以下において、「上述の実施形態」とは、第１実施形態、第２実施形態並びに第３実施形態のことをいう。
【0173】
上述の実施形態では、３Ｄブロック１１０の斜面１４０がパターン１６０としてスリットを有する場合について説明したが、３Ｄブロック１１０の斜面１４０は、パターン１６０として、斜面１４０の傾斜方向に延在する中心線を挟んで分離された光非透過性領域と光透過性領域とを有していてもよい。
【0174】
上述の実施形態では、遮光部１５０が板状に構成されている場合について説明したが、遮光部１５０が各パターン１６０からカメラ２０に向かう光を遮らなければ、遮光部１５０の形状は限定されない。
【0175】
上述の実施形態では、遮光部１５０がカメラで撮像したときに直線状に撮像されるように図示したが、遮光部１５０が線状に撮像されれば、線の形状は限定されない。遮光部１５０は、例えば、湾曲または屈曲した線状に撮像されてもよい。
【0176】
上述の実施形態では、それぞれの３Ｄブロック１１０が複数の斜面１４０を有する場合について説明したが、本開示は、この場合に限られない。それぞれの３Ｄブロック１１０は１つの斜面１４０のみを有していてもよい。このような構成でも、複数の３Ｄブロック１１０間に遮光部１５０を設けることで、パターン１６０の光の重なりを抑制することができる。
【0177】
上述の実施形態では、隣り合う一対の斜面１４０の間に遮光部１５０が設けられ、遮光部１５０が一対の斜面１４０の両方のパターン１６０からの光を遮断する場合について説明したが、本開示は、この場合に限られない。例えば、遮光部１５０は、一方の斜面１４０のパターン１６０からの光のみを遮断するよう構成されていてもよい。
【0178】
上述の第３実施形態では、遮光部１５０が３Ｄブロック１１０間での光を遮断するよう構成されるだけでなく、２Ｄブロック１７０から３Ｄブロック１１０に向かう光を遮断する補助遮光部としても構成される場合について説明したが、本開示は、この場合に限られない。３Ｄブロック１１０間での光を遮断する遮光部１５０と、２Ｄブロック１７０から３Ｄブロック１１０に向かう光を遮断する補助遮光部と、が別々に設けられていてもよい。
【0179】
＜本発明の好ましい態様＞
以下、本発明の好ましい態様を付記する。
以下、本発明の好ましい態様を付記する。
【0180】
（付記１）
カメラを調整するテストチャートであって、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
テストチャート。
カメラを調整するテストチャートであって、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
テストチャート。
【0181】
（付記２）
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面のそれぞれの前記パターンから前記カメラに向かう光を遮らないように配置されている
付記１に記載のテストチャート。
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面のそれぞれの前記パターンから前記カメラに向かう光を遮らないように配置されている
付記１に記載のテストチャート。
【0182】
（付記３）
前記遮光部は、板状に構成され、前記カメラで撮像したときに線状に撮像されるように配置されている
付記１又は付記２に記載のテストチャート。
前記遮光部は、板状に構成され、前記カメラで撮像したときに線状に撮像されるように配置されている
付記１又は付記２に記載のテストチャート。
【0183】
（付記４）
前記第１斜面および前記第２斜面のそれぞれの前記パターンは、各斜面の傾斜方向に沿って直線状に延在する少なくとも１つの境界線を有し、
前記斜面が前記カメラの光軸に対して傾斜し、且つ、前記カメラが撮像したときに前記境界線と前記カメラの画素配列方向とが非平行となるように配置され、
前記遮光部は、前記第１斜面の前記パターンからの光が前記第２斜面の前記境界線に重なることを抑制するよう配置されている
付記１から付記３のいずれか１つに記載のテストチャート。
前記第１斜面および前記第２斜面のそれぞれの前記パターンは、各斜面の傾斜方向に沿って直線状に延在する少なくとも１つの境界線を有し、
前記斜面が前記カメラの光軸に対して傾斜し、且つ、前記カメラが撮像したときに前記境界線と前記カメラの画素配列方向とが非平行となるように配置され、
前記遮光部は、前記第１斜面の前記パターンからの光が前記第２斜面の前記境界線に重なることを抑制するよう配置されている
付記１から付記３のいずれか１つに記載のテストチャート。
【0184】
（付記５）
所定の高さに設けられ、前記カメラの光軸を中心として放射状に配置された複数の稜線を備え、
前記第１斜面は、前記複数の稜線のうちの第１稜線から傾斜し、
前記第２斜面は、前記第１稜線に隣り合う第２稜線から傾斜し、前記第１斜面に接している
付記１から付記４のいずれか１つに記載のテストチャート。
所定の高さに設けられ、前記カメラの光軸を中心として放射状に配置された複数の稜線を備え、
前記第１斜面は、前記複数の稜線のうちの第１稜線から傾斜し、
前記第２斜面は、前記第１稜線に隣り合う第２稜線から傾斜し、前記第１斜面に接している
付記１から付記４のいずれか１つに記載のテストチャート。
【0185】
（付記６）
前記遮光部は、前記第１斜面と前記第２斜面との間で、前記カメラの前記光軸を中心として放射状に延在している
付記１から付記５のいずれか１つに記載のテストチャート。
前記遮光部は、前記第１斜面と前記第２斜面との間で、前記カメラの前記光軸を中心として放射状に延在している
付記１から付記５のいずれか１つに記載のテストチャート。
【0186】
（付記７）
前記第１斜面および前記第２斜面のいずれか一方を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックに向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
付記１から付記６のいずれか１つに記載のテストチャート。
前記第１斜面および前記第２斜面のいずれか一方を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックに向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
付記１から付記６のいずれか１つに記載のテストチャート。
【0187】
（付記８）
カメラを調整するテストチャートであって、
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
テストチャート。
カメラを調整するテストチャートであって、
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
テストチャート。
【0188】
（付記９）
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜する少なくとも前記第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、少なくとも前記第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
付記１から付記８のいずれか１つに記載のテストチャート。
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜する少なくとも前記第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、少なくとも前記第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
付記１から付記８のいずれか１つに記載のテストチャート。
【0189】
（付記１０）
カメラを調整するテストチャートであって、
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
テストチャート。
カメラを調整するテストチャートであって、
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
テストチャート。
【0190】
（付記１１）
前記遮光部は、反射を抑制する表面を有する
付記１から付記１０のいずれか１つに記載のテストチャート。
前記遮光部は、反射を抑制する表面を有する
付記１から付記１０のいずれか１つに記載のテストチャート。
【0191】
（付記１２）
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
カメラ製造装置。
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備える
カメラ製造装置。
【0192】
（付記１３）
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
カメラ製造装置。
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
斜面を有する３次元ブロックと、
前記カメラの光軸に対して直交するように配置され、光が放射される２次元パターンを有する２次元ブロックと、
前記３次元ブロックと前記２次元ブロックとの間に設けられ、少なくとも前記２次元パターンから前記３次元ブロックの前記斜面に向かう光を遮断する補助遮光部と、
を備える
カメラ製造装置。
【0193】
（付記１４）
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
カメラ製造装置。
所定のテストチャートを支持するチャート支持部と、
前記テストチャートを撮像可能な位置に、光学系および撮像素子を有するカメラの少なくとも一部を支持するカメラ支持部と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する画像解析部と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整するカメラ調整機構と、
を有し、
前記テストチャートは、
前記カメラの視野の中央から離れた位置に配置された外側ブロックと、
前記外側ブロックに隣り合う近隣ブロックと、
前記外側ブロックと前記近隣ブロックとの間で光を遮断する遮光部と、
を備え、
前記外側ブロックは、
前記中央側に偏った位置で所定の高さに設けられた頂点と、
前記頂点から傾斜し、光が放射されるパターンを有する少なくとも第１斜面と、
を有し、
前記外側ブロックは、前記カメラが撮像したときに前記頂点が前記外側ブロックの中心に位置するように配置され、
前記近隣ブロックは、光が放射されるパターンを有し前記第１斜面に隣り合って配置された少なくとも第２斜面を有し、
前記遮光部は、前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記外側ブロックの前記第１斜面から、前記近隣ブロックの前記第２斜面に向かう光を遮断するよう設けられている
カメラ製造装置。
【0194】
（付記１５）
所定のテストチャートを準備する工程と、
光学系および撮像素子を有するカメラを用い、前記テストチャートを撮像する工程と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する工程と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整する工程と、
を有し、
前記テストチャートを準備する工程では、
前記テストチャートとして、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備えるチャートを準備する
カメラの製造方法。
所定のテストチャートを準備する工程と、
光学系および撮像素子を有するカメラを用い、前記テストチャートを撮像する工程と、
前記テストチャートを撮像した画像を解析し、前記カメラの焦点位置を検出する工程と、
前記カメラの前記焦点位置に基づいて、前記光学系および前記撮像素子の相対的な位置を調整する工程と、
を有し、
前記テストチャートを準備する工程では、
前記テストチャートとして、
光が放射されるパターンを有する第１斜面と、
光が放射されるパターンを有し、前記第１斜面に隣り合って配置された第２斜面と、
前記第１斜面および前記第２斜面の間に設けられ、少なくとも前記第１斜面の前記パターンから前記第２斜面に向かう光を遮断する遮光部と、
を備えるチャートを準備する
カメラの製造方法。
【符号の説明】
【0195】
１ カメラ製造装置
１０ テストチャート
２０ カメラ
１１０ ３Ｄブロック
１１０ａ 中央ブロック
１１０ｂ 外側ブロック
１２０ 頂点
１３０ 稜線
１４０ 斜面
１５０ 遮光部
１６０ パターン
１６２，１６２ａ，１６２ｂ 境界線
１７０ ２Ｄブロック
１８０ ２Ｄパターン
１８２ 境界線
１９０ 支持板
２２０ 光学系
２４０ 撮像素子
２６０ 回路基板
２６２ 接着剤
２８０ コネクタ
３１０ チャート支持部
３１２ チャート光源
３２０ リレーレンズ
３４０ カメラ支持部
３６０ カメラ調整機構
３８０ カメラ固定部
４００ 制御部
４１０ ＣＰＵ
４２０ ＲＡＭ
４３０ 記憶装置
４４０ Ｉ／Ｏポート
４５０ 入力部
４６０ 表示部
１０ テストチャート
２０ カメラ
１１０ ３Ｄブロック
１１０ａ 中央ブロック
１１０ｂ 外側ブロック
１２０ 頂点
１３０ 稜線
１４０ 斜面
１５０ 遮光部
１６０ パターン
１６２，１６２ａ，１６２ｂ 境界線
１７０ ２Ｄブロック
１８０ ２Ｄパターン
１８２ 境界線
１９０ 支持板
２２０ 光学系
２４０ 撮像素子
２６０ 回路基板
２６２ 接着剤
２８０ コネクタ
３１０ チャート支持部
３１２ チャート光源
３２０ リレーレンズ
３４０ カメラ支持部
３６０ カメラ調整機構
３８０ カメラ固定部
４００ 制御部
４１０ ＣＰＵ
４２０ ＲＡＭ
４３０ 記憶装置
４４０ Ｉ／Ｏポート
４５０ 入力部
４６０ 表示部
【図1】
【図2】
【図3A】
【図3B】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8A】
【図8B】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
