特開2023-111619位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法

発明の名称　位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法

出願人　株式会社トッパンフォトマスク　（識別番号 522212882）

　　　　特許公開件数ランキング 1868 位（10件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 1077 位（17件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2023-111619

公報発行日　2023年8月10

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-111619

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