特開2023-118109顕微鏡パラメータコントローラ、顕微鏡装置および顕微鏡パラメータを制御する方法

発明の名称　顕微鏡パラメータコントローラ、顕微鏡装置および顕微鏡パラメータを制御する方法

出願人　ライカ　マイクロシステムズ　シーエムエス　ゲゼルシャフト　ミット　ベシュレンクテル　ハフツング　（識別番号 511079735）

　　　　特許公開件数ランキング 880 位（9件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 1506 位（4件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2023-118109

公報発行日　2023年8月24

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-118109

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