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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023118312
(43)【公開日】2023-08-25
(54)【発明の名称】蒸着装置
(51)【国際特許分類】
C23C 14/24 20060101AFI20230818BHJP
【ＦＩ】
C23C14/24 T
【審査請求】有
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022021203
(22)【出願日】2022-02-15
(71)【出願人】
【識別番号】300075751
【氏名又は名称】株式会社オプトラン
(74)【代理人】
【識別番号】100133411
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 龍郎
(74)【代理人】
【識別番号】100067677
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 彰司
(72)【発明者】
【氏名】隈部 和哉
【テーマコード（参考）】
4K029
【Ｆターム（参考）】
4K029CA01
4K029DB11
4K029DB18
4K029DB21
4K029EA07
4K029HA01
4K029JA03
(57)【要約】
【課題】 装置を大型化せずに蒸着材料の基板への入射角を一定にするための蒸着装置を提供する。
【解決手段】 蒸着材料を蒸発させる蒸発源と、前記蒸発源から離隔し少なくとも１つの基板を保持する基板保持体と、前記蒸発源と前記基板保持体との間に位置する少なくとも１つのコリメータであって、一のコリメータが、前記基板保持体に保持された一の基板に対応して配置される、少なくとも１つのコリメータと、を備える。また、前記基板保持体と前記コリメータ保持体との間に位置し、少なくとも１つの膜厚調整体を保持する膜厚調整体保持体であって、一の膜厚調整体が、前記一の基板と前記一のコリメータとに対応付けられた膜厚調整体保持体を、さらに備える。
【選択図】 図５
【解決手段】 蒸着材料を蒸発させる蒸発源と、前記蒸発源から離隔し少なくとも１つの基板を保持する基板保持体と、前記蒸発源と前記基板保持体との間に位置する少なくとも１つのコリメータであって、一のコリメータが、前記基板保持体に保持された一の基板に対応して配置される、少なくとも１つのコリメータと、を備える。また、前記基板保持体と前記コリメータ保持体との間に位置し、少なくとも１つの膜厚調整体を保持する膜厚調整体保持体であって、一の膜厚調整体が、前記一の基板と前記一のコリメータとに対応付けられた膜厚調整体保持体を、さらに備える。
【選択図】 図５
【特許請求の範囲】
【請求項1】
蒸着材料を蒸発させる蒸発源と、
前記蒸発源から離隔し少なくとも１つの基板を保持する基板保持体と、
前記蒸発源と前記基板保持体との間に位置する少なくとも１つのコリメータであって、一のコリメータが、前記基板保持体に保持された一の基板に対応して配置される、少なくとも１つのコリメータと、を備える蒸着装置。
前記蒸発源から離隔し少なくとも１つの基板を保持する基板保持体と、
前記蒸発源と前記基板保持体との間に位置する少なくとも１つのコリメータであって、一のコリメータが、前記基板保持体に保持された一の基板に対応して配置される、少なくとも１つのコリメータと、を備える蒸着装置。
【請求項2】
前記少なくとも１つのコリメータが配置されるコリメータ開口を有するコリメータ保持体をさらに備え、
前記基板は円板状の形状を有し、前記コリメータ開口は円板状の形状を有し、
前記一の基板は、一のコリメータ開口と同心に位置付けられる、請求項１に記載の蒸着装置。
前記基板は円板状の形状を有し、前記コリメータ開口は円板状の形状を有し、
前記一の基板は、一のコリメータ開口と同心に位置付けられる、請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項3】
前記一の基板の中心と、前記一のコリメータの中心とを結ぶ直線が、前記蒸発源に達する、請求項１又は２に記載の蒸着装置。
【請求項4】
前記基板保持体は、回転可能であり、
前記コリメータ保持体は、前記基板保持体と一体となって、回転可能である、請求項２又は３に記載の蒸着装置。
前記コリメータ保持体は、前記基板保持体と一体となって、回転可能である、請求項２又は３に記載の蒸着装置。
【請求項5】
前記蒸発源から放出された蒸発物質が前記コリメータ開口において拡がる最大入射角が、前記コリメータを通過した前記蒸発物質が前記基板において拡がる最大入射角より大きい、請求項１～４に記載された蒸着装置。
【請求項6】
前記基板保持体と前記コリメータ保持体との間に位置し、少なくとも１つの膜厚調整体を保持する膜厚調整体保持体であって、一の膜厚調整体が、前記一の基板と前記一のコリメータとに対応付けられた膜厚調整体保持体を、さらに備える請求項２～５に記載の蒸着装置。
【請求項7】
前記膜厚調整体が前記コリメータと一体に形成された、請求項６に記載の蒸着装置。
【請求項8】
前記基板保持体は、自転と公転が同時に可能である、請求項１～７に記載の蒸着装置。
【請求項9】
前記コリメータ保持体は、前記基板保持体と一体となって、自公転可能である、請求項２～８に記載の蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、蒸着材料の基板への入射角を一定にするためのコリメータを有する蒸着装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来から、蒸着材料を基板へ付着させて成膜を行う蒸着装置が知られている。蒸着装置では、蒸着材料の基板への入射角を一定に保つことで、基板上に均一に成膜を行うことができる。
この入射角を一定に保つためには、基板と蒸着材料を収容する蒸着源の距離を所定の距 離に離すことが行われていた。
この入射角を一定に保つためには、基板と蒸着材料を収容する蒸着源の距離を所定の距 離に離すことが行われていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開平８－２２２５１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかし、次第に基板のサイズが大きくなってきている。このため、蒸着装置がどんどんと大型化してしまうという問題点があった。蒸着装置が大型化してしまうと、装置の面積が多くなってしまい、限られた場所にしか設置できないという問題が生じる。また、装置が大型化すると成膜の条件の調整が小型の装置に比べて難しいという問題点もある。さらに、装置が大型化すると、装置の価格も跳ね上がるという問題点もある。
【0005】
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものである。その目的は、装置を大型化せずに蒸着材料の基板への入射角を一定にするための蒸着装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明による蒸着装置の特徴は、
蒸着材料を蒸発させる蒸発源と、
前記蒸発源から離隔し少なくとも１つの基板を保持する基板保持体と、
前記蒸発源と前記基板保持体との間に位置する少なくとも１つのコリメータであって、一のコリメータが、前記基板保持体に保持された一の基板に対応して配置される、少なくとも１つのコリメータと、を備えることである。
蒸着材料を蒸発させる蒸発源と、
前記蒸発源から離隔し少なくとも１つの基板を保持する基板保持体と、
前記蒸発源と前記基板保持体との間に位置する少なくとも１つのコリメータであって、一のコリメータが、前記基板保持体に保持された一の基板に対応して配置される、少なくとも１つのコリメータと、を備えることである。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、装置を大型化せずに蒸着材料の基板への入射角を一定にできる。その結果、基板に均一は成膜を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【発明を実施するための形態】
【0009】
＜＜＜＜本実施の形態の概要＞＞＞＞
【0010】
＜＜第１の態様＞＞
第１の態様によれば、
蒸着材料を蒸発させる蒸発源と、
前記蒸発源から離隔し少なくとも１つの基板を保持する基板保持体と、
前記蒸発源と前記基板保持体との間に位置する少なくとも１つのコリメータであって、一のコリメータが、前記基板保持体に保持された一の基板に対応して配置される、少なくとも１つのコリメータと、を備える蒸着装置が提供される。
第１の態様によれば、
蒸着材料を蒸発させる蒸発源と、
前記蒸発源から離隔し少なくとも１つの基板を保持する基板保持体と、
前記蒸発源と前記基板保持体との間に位置する少なくとも１つのコリメータであって、一のコリメータが、前記基板保持体に保持された一の基板に対応して配置される、少なくとも１つのコリメータと、を備える蒸着装置が提供される。
【0011】
＜＜第２の態様＞＞
第２の態様は、第１の態様において、
前記少なくとも１つのコリメータが配置されるコリメータ開口を有するコリメータ保持体をさらに備え、
前記基板は円板状の形状を有し、前記コリメータ開口 は円板状の形状を有し、
前記一の基板は、一のコリメータ開口 と同心に位置付けられる。
第２の態様は、第１の態様において、
前記少なくとも１つのコリメータが配置されるコリメータ開口を有するコリメータ保持体をさらに備え、
前記基板は円板状の形状を有し、前記コリメータ開口 は円板状の形状を有し、
前記一の基板は、一のコリメータ開口 と同心に位置付けられる。
【0012】
＜＜第３の態様＞＞
第３の態様は、第１の態様又は第２の態様において、
前記一の基板の中心と、前記一のコリメータの中心とを結ぶ直線が、前記蒸発源に達する。
第３の態様は、第１の態様又は第２の態様において、
前記一の基板の中心と、前記一のコリメータの中心とを結ぶ直線が、前記蒸発源に達する。
【0013】
＜＜第４の態様＞＞
第４の態様は、第２の態様又は第３の態様において、
前記基板保持体は、回転可能であり、
前記コリメータ保持体は、前記基板保持体と一体となって、回転可能である。
第４の態様は、第２の態様又は第３の態様において、
前記基板保持体は、回転可能であり、
前記コリメータ保持体は、前記基板保持体と一体となって、回転可能である。
【0014】
＜＜第５の態様＞＞
第５の態様は、第１の態様ないし第４の態様において、
前記蒸発源から放出された蒸発物質が前記コリメータ開口において拡がる最大入射角が、前記コリメータを通過した前記蒸発物質が前記基板において拡がる最大入射角より大きい。
第５の態様は、第１の態様ないし第４の態様において、
前記蒸発源から放出された蒸発物質が前記コリメータ開口において拡がる最大入射角が、前記コリメータを通過した前記蒸発物質が前記基板において拡がる最大入射角より大きい。
【0015】
＜＜第６の態様＞＞
第６の態様は、第２の態様ないし第５の態様において、
前記基板保持体と前記コリメータ保持体との間に位置し、少なくとも１つの膜厚調整体を保持する膜厚調整体保持体であって、一の膜厚調整体が、前記一の基板と前記一のコリメータとに対応付けられた膜厚調整体保持体を、さらに備える。
第６の態様は、第２の態様ないし第５の態様において、
前記基板保持体と前記コリメータ保持体との間に位置し、少なくとも１つの膜厚調整体を保持する膜厚調整体保持体であって、一の膜厚調整体が、前記一の基板と前記一のコリメータとに対応付けられた膜厚調整体保持体を、さらに備える。
【0016】
＜＜第７の態様＞＞
第７の態様は、第６の態様において、
前記膜厚調整体が前記コリメータと一体に形成されている。
第７の態様は、第６の態様において、
前記膜厚調整体が前記コリメータと一体に形成されている。
【0017】
＜＜第８の態様＞＞
第８の態様は、第１の態様ないし第７の態様において、
前記基板保持体は、自転と公転が同時に可能である。
第８の態様は、第１の態様ないし第７の態様において、
前記基板保持体は、自転と公転が同時に可能である。
【0018】
＜＜第９の態様＞＞
第９の態様は、第２の態様ないし第８の態様において、
前記コリメータ保持体は、前記基板保持体と一体となって、自公転可能である。
第９の態様は、第２の態様ないし第８の態様において、
前記コリメータ保持体は、前記基板保持体と一体となって、自公転可能である。
【0019】
＜＜＜＜＜本実施の形態の詳細＞＞＞＞＞
以下に、実施の形態について図面に基づいて説明する。図１は、本実施の一形態による蒸着装置の全体図である。図２は、図１の蒸着装置の基板保持体の開口部とコリメータの開口部についての図である。図３は、図１のコリメータの動作を説明する図である。図４は、図１の蒸着装置の基板保持体の立体角とコリメータの立体角についての図である。図５は、隣り合うコリメータの間隔と基板の大きさとの関係を示す概略図である。
以下に、実施の形態について図面に基づいて説明する。図１は、本実施の一形態による蒸着装置の全体図である。図２は、図１の蒸着装置の基板保持体の開口部とコリメータの開口部についての図である。図３は、図１のコリメータの動作を説明する図である。図４は、図１の蒸着装置の基板保持体の立体角とコリメータの立体角についての図である。図５は、隣り合うコリメータの間隔と基板の大きさとの関係を示す概略図である。
【0020】
＜＜＜＜蒸着装置１０＞＞＞＞
蒸着装置１０は、蒸発源１００と、基板保持体２００と、コリメータ保持体３００と、膜厚調整体保持体４００と、を有する。蒸発源１００と、基板保持体２００と、コリメータ保持体３００と、膜厚調整体保持体４００とは、真空チャンバー２０内に収容される。
蒸着装置１０は、蒸発源１００と、基板保持体２００と、コリメータ保持体３００と、膜厚調整体保持体４００と、を有する。蒸発源１００と、基板保持体２００と、コリメータ保持体３００と、膜厚調整体保持体４００とは、真空チャンバー２０内に収容される。
【0021】
＜＜＜真空チャンバー２０＞＞＞
真空チャンバー２０内には、高さ方向に沿って、下から順に、蒸発源１００と、基板保持体２００と、コリメータ保持体３００と、膜厚調整体保持体４００とが配置されている。真空チャンバー２０は、蒸発源１００と基板保持体２００との間隔より長い高さを有する。
真空チャンバー２０内には、高さ方向に沿って、下から順に、蒸発源１００と、基板保持体２００と、コリメータ保持体３００と、膜厚調整体保持体４００とが配置されている。真空チャンバー２０は、蒸発源１００と基板保持体２００との間隔より長い高さを有する。
【0022】
真空チャンバー２０は、排気孔を有する。真空チャンバー２０には、真空ポンプ（図示せず）が接続されている。真空チャンバー２０の内部を所望する真空度にすることができる。
【0023】
真空チャンバー２０は、ヒーターを有する。基板保持体２００に設置された基板ＳＢを加熱することができる。真空チャンバー２０は、各種のセンサを有する。センサによって、真空度や温度を制御することができる。
【0024】
＜＜＜蒸発源１００＞＞＞
蒸発源１００は、真空チャンバー２０の下部に配置されている。
蒸発源１００は、真空チャンバー２０の下部に配置されている。
【0025】
蒸発源１００は、坩堝（図示せず）と、フィラメント（図示せず）と、バイアス電源（図示せず）とを有する。フィラメント及びバイアス電源は、坩堝の近傍に配置されている。坩堝には、蒸着材料が貯留されている。
【0026】
電子ビームは、フィラメント及びバイアス電源により発せられる。発せられた電子ビームは、坩堝内の蒸着材料を照射して加熱する。加熱された蒸着材料は、蒸発物質として発せられる。蒸発物質は、蒸発源１００から真空チャンバー２０内に広がる。基板ＳＢに向かった蒸発物質は、基板ＳＢに付着する。
【0027】
＜＜蒸発材料＞＞
蒸発材料は、例えば、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｓｎやその化合物などがある。蒸発材料は、これに限られず、所望するものにすることができる。蒸発材料の種類に応じて、蒸発源１００の蒸発条件を定めればよい。
蒸発材料は、例えば、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｓｎやその化合物などがある。蒸発材料は、これに限られず、所望するものにすることができる。蒸発材料の種類に応じて、蒸発源１００の蒸発条件を定めればよい。
【0028】
＜＜＜基板保持体２００＞＞＞
基板保持体２００は、複数の基板ＳＢを保持する。基板保持体２００は、複数の基板ＳＢを同時に蒸着処理できる。基板保持体２００は、チャンバー上部に配置される。基板保持体２００は、蒸発源１００から約１２００ｍｍ程度に離隔して配置される。蒸発源１００との距離は、基板の大きさに応じて適宜に定めることができる。
基板保持体２００は、複数の基板ＳＢを保持する。基板保持体２００は、複数の基板ＳＢを同時に蒸着処理できる。基板保持体２００は、チャンバー上部に配置される。基板保持体２００は、蒸発源１００から約１２００ｍｍ程度に離隔して配置される。蒸発源１００との距離は、基板の大きさに応じて適宜に定めることができる。
【0029】
基板保持体２００は、湾曲した形状を有する。基板保持体２００は、おおよそ、椀状、鉢状、ボウル状の形状を有する。基板保持体２００は、球面（球殻）の一部の形状を有する基板保持体２００は、平面視で円状の形状を有する。基板保持体２００は、蒸発源１００を中心とした曲率半径が略一定となる形状を有する。
【0030】
基板保持体２００の大きさは、同時に蒸着したい基板ＳＢの大きさや数に応じて適宜に定めることができる。
【0031】
基板保持体２００の材質や特性は、真空状態や加熱状態で構成物質を発しにくく、耐熱性を有するものであればよい。例えば、Ｔｉ、ステンレス、Ａｌ等がある。
【0032】
＜基板ＳＢ＞
基板ＳＢは、蒸着物質が付着される蒸着処理の対象物である。例えば、基板ＳＢは、薄い円板状の形状を有する。基板ＳＢの円状の表面に蒸着物質が付着される。基板ＳＢは、薄い円板状の形状に限られず、他の形状でもよい。
基板ＳＢは、蒸着物質が付着される蒸着処理の対象物である。例えば、基板ＳＢは、薄い円板状の形状を有する。基板ＳＢの円状の表面に蒸着物質が付着される。基板ＳＢは、薄い円板状の形状に限られず、他の形状でもよい。
【0033】
基板ＳＢは、所望の大きさを有する。例えば、直径が２インチ、４インチ、８インチなどにすることができる。
【0034】
基板ＳＢは、蒸発物質の種類に応じた材質からなる。例えば、基板ＳＢは、ＬＴ、ＬＮ、Ｓｉ、ＳｉＯ２などから構成される。
【0035】
＜＜基板用開口部２１０＞＞
基板保持体２００は、基板用開口部２１０を有する。基板保持体２００は、複数の基板用開口部２１０を有する。基板用開口部２１０の数は、所望する数にすることができる。複数の基板用開口部２１０は、同心状にかつ円周に沿って形成されている（図２参照）。
基板保持体２００は、基板用開口部２１０を有する。基板保持体２００は、複数の基板用開口部２１０を有する。基板用開口部２１０の数は、所望する数にすることができる。複数の基板用開口部２１０は、同心状にかつ円周に沿って形成されている（図２参照）。
【0036】
基板用開口部２１０は、蒸発源１００に向かって開口する。基板用開口部２１０は、基板ＳＢに応じた形状を有する。基板用開口部２１０は、例えば、円形を有する。基板用開口部２１０は、基板ＳＢに応じた大きさを有する。例えば、基板ＳＢよりも若干小さい大きさを有する。
【0037】
＜保持段差部（図示せず）＞
基板用開口部２１０は、保持段差部を有する。保持段差部は、基板ＳＢの端部（周辺部）を支持する。保持段差部による支持によって、基板用開口部２１０に基板ＳＢを配置することができる。基板用開口部２１０を覆うように基板ＳＢが配置される。基板ＳＢは、基板用開口部２１０を介して蒸発源１００と対向する。
基板用開口部２１０は、保持段差部を有する。保持段差部は、基板ＳＢの端部（周辺部）を支持する。保持段差部による支持によって、基板用開口部２１０に基板ＳＢを配置することができる。基板用開口部２１０を覆うように基板ＳＢが配置される。基板ＳＢは、基板用開口部２１０を介して蒸発源１００と対向する。
【0038】
＜＜駆動モータ２２０＞＞
基板保持体２００は、駆動モータ２２０を有する。基板保持体２００の中心部に回転シャフト（図示せず）が取り付けられ、回転シャフトに駆動モータ２２０の駆動力が伝えられる。駆動モータ２２０は、コリメータ保持体３００とともに基板保持体２００を回転させる。駆動モータ２２０は、制御部（図示せず）によって回転方向や回転速度などが制御される。
基板保持体２００は、駆動モータ２２０を有する。基板保持体２００の中心部に回転シャフト（図示せず）が取り付けられ、回転シャフトに駆動モータ２２０の駆動力が伝えられる。駆動モータ２２０は、コリメータ保持体３００とともに基板保持体２００を回転させる。駆動モータ２２０は、制御部（図示せず）によって回転方向や回転速度などが制御される。
【0039】
さらに、基板保持体２００は、駆動モータ２２０の駆動力を基板ＳＢに伝えて基板ＳＢを自転及び公転させる駆動機構を有する。
【0040】
＜＜固定部材２３０＞＞
基板保持体２００は、固定部材２３０を有する。固定部材２３０は、コリメータ保持体３００を基板保持体２００に対して一定の位置に固定する。コリメータ保持体３００は、基板保持体２００とともに回転することができる。
基板保持体２００は、固定部材２３０を有する。固定部材２３０は、コリメータ保持体３００を基板保持体２００に対して一定の位置に固定する。コリメータ保持体３００は、基板保持体２００とともに回転することができる。
【0041】
＜＜＜コリメータ保持体３００＞＞＞
コリメータ保持体３００は、複数のコリメータ３２０を保持する。コリメータ保持体３００は、蒸発源１００と基板保持体２００との間に配置される。コリメータ保持体３００と基板保持体２００との距離や、コリメータ保持体３００と蒸発源１００との距離は、適宜に定めることができる。
コリメータ保持体３００は、複数のコリメータ３２０を保持する。コリメータ保持体３００は、蒸発源１００と基板保持体２００との間に配置される。コリメータ保持体３００と基板保持体２００との距離や、コリメータ保持体３００と蒸発源１００との距離は、適宜に定めることができる。
【0042】
コリメータ保持体３００は、湾曲した形状を有する。コリメータ保持体３００は、おおよそ、椀状、鉢状、ボウル状の形状を有する。コリメータ保持体３００は、球面（球殻）の一部の形状を有する。コリメータ保持体３００は、平面視で円状の形状を有する。コリメータ保持体３００は、蒸発源１００を中心とした曲率半径が略一定となる形状を有する。
【0043】
コリメータ保持体３００は、基板保持体２００よりも小さい。コリメータ保持体３００の直径は、基板保持体２００の直径よりも短い。
【0044】
コリメータ保持体３００の材質や特性は、真空状態や加熱状態で構成物質を発しにくい、耐熱性を有するものであればよい。例えば、Ｔｉ、ＳＵＳ、ＡＬ等がある。
【0045】
コリメータ保持体３００は、基板保持体２００と一体に構成されても、別体に構成されてもよい。コリメータ保持体３００が別体に構成された場合には、コリメータ保持体３００は、基板保持体２００の動作と連動するようにしても、基板保持体２００と独立して動作するようにしてもよい。
【0046】
＜＜コリメータ用開口部３１０＞＞
コリメータ保持体３００は、コリメータ用開口部３１０を有する。コリメータ用開口部３１０は、コリメータ３２０を一定の位置に固定する。コリメータ用開口部３１０は、コリメータ３２０の輪郭に応じた形状を有する。
コリメータ保持体３００は、コリメータ用開口部３１０を有する。コリメータ用開口部３１０は、コリメータ３２０を一定の位置に固定する。コリメータ用開口部３１０は、コリメータ３２０の輪郭に応じた形状を有する。
【0047】
コリメータ３２０のコリメータ用開口部３１０への取り付けは、ネジ止めなど真空状態や加熱状態で緩んだり外れたりしないものならばよい。コリメータ３２０は、コリメータ用開口部３１０に対して着脱可能であるのが好ましい。着脱可能にすることで、コリメータ３２０の交換など、メンテナンスなどを簡便にできる。
【0048】
基板保持体２００の一の基板用開口部２１０に一のコリメータ用開口部３１０が対応するように、配置される。基板保持体２００の一の基板用開口部２１０と一のコリメータ用開口部３１０とは、蒸発源１００を中心とする一の半径が共通する。
【0049】
＜＜コリメータ３２０＞＞
コリメータ３２０は、コリメータ用開口部３１０に取り付けられる。コリメータ３２０は、蒸着材料の進行方向を調整する。コリメータ３２０は、方向調整用のフィルタとして機能する。具体的には、一のコリメータ３２０に対応する一の基板ＳＢ（一の基板用開口部２１０）に向かうように、一のコリメータ３２０を通過する蒸着材料の移動方向を調整する。
コリメータ３２０は、コリメータ用開口部３１０に取り付けられる。コリメータ３２０は、蒸着材料の進行方向を調整する。コリメータ３２０は、方向調整用のフィルタとして機能する。具体的には、一のコリメータ３２０に対応する一の基板ＳＢ（一の基板用開口部２１０）に向かうように、一のコリメータ３２０を通過する蒸着材料の移動方向を調整する。
【0050】
コリメータ３２０は、例えば、複数の筒部３２２を有する。複数の筒部３２２は、同じ形状を有する。筒部３２２は、長尺な形状を有する。複数の筒部３２２は、互いに長手方向（軸方向）が平行に配置される。隣り合う筒部３２２が、互いに密接して配置される。複数の筒部３２２の全体によって、コリメータ３２０は、薄い円板状の形状を有する。
【0051】
筒部３２２は、第１開口部と第１開口部から長手方向に沿って離隔した第２の開口部とを有する。第１開口部は、蒸発源１００に向かって開口する。第２開口部は、基板保持体２００の一の基板用開口部２１０に向かって開口する。
【0052】
コリメータ３２０は、図３に示すように、基板ＳＢに向かう蒸着材料のうち、蒸着材料の進行方向が、筒部３２２の長手方向に対して±数度以内に含まれる蒸着材料のみを通過させる。進行方向が、±数度より大きい蒸着材料は、コリメータ３２０に付着させる。このようにすることで、基板ＳＢに向かう蒸着材料に指向性をもたせることができる。言い換えれば、コリメータ３２０は、蒸着材料を選択的に通過させる。
【0053】
コリメータ３２０を用いることによって、基板ＳＢが、小孔や溝などを有する形状を有する場合でも、小孔や溝の底部まで蒸着材料を到達させることができ、十分な蒸着膜厚を得ることができる。
【0054】
コリメータ３２０の材料や材質は、真空状態や加熱状態で構成物質を発しにくく、耐熱性を有するものであればよい。また、コリメータ３２０の材料や材質は、蒸着材料を選択的に通過させることできるものであればよい。例えば、Ａｌ、ＳＵＳ、Ｔｉ等がある。
【0055】
図４は、蒸着装置の基板保持体の最大入射角とコリメータの最大入射角についての図である。
【0056】
蒸発源１００から放出された蒸発物質がコリメータ用開口部３１０において拡がる最大入射角が、コリメータ３２０を通過した蒸発物質が基板ＳＢにおいて拡がる最大入射角より大きい。
【0057】
コリメータ３２０を介した蒸着材料を基板ＳＢに十分に拡げて付着させることができ、膜厚を均一に近づけて蒸着材料を付着させることができる。
【0058】
＜＜コリメータ３２０の間隔と基板ＳＢのサイズとの関係＞＞
図５は、隣り合うコリメータ３２０の間隔と基板ＳＢの大きさとの関係を示す概略図である。隣り合うコリメータ３２０の最短の間隔ＣＬは、基板ＳＢの大きさＳＬ（例えば、基板ＳＢの直径など）と同じ長さであるか、基板ＳＢの大きさＳＬよりも長いのが好ましい。
図５は、隣り合うコリメータ３２０の間隔と基板ＳＢの大きさとの関係を示す概略図である。隣り合うコリメータ３２０の最短の間隔ＣＬは、基板ＳＢの大きさＳＬ（例えば、基板ＳＢの直径など）と同じ長さであるか、基板ＳＢの大きさＳＬよりも長いのが好ましい。
【0059】
蒸着材料を基板ＳＢに不要に付着させることを防止でき、膜厚を均一に近づけて蒸着材料を付着させることができる。
【0060】
＜＜＜膜厚調整体保持体４００＞＞＞
図６は、本実施の他の形態による蒸着装置の全体図である。
膜厚調整体保持体４００を設けることができる。
膜厚調整体保持体４００は、コリメータ保持体３００と基板保持体２００との間に配置される。
図６は、本実施の他の形態による蒸着装置の全体図である。
膜厚調整体保持体４００を設けることができる。
膜厚調整体保持体４００は、コリメータ保持体３００と基板保持体２００との間に配置される。
【0061】
＜＜膜厚調整体４１０＞＞
膜厚調整体保持体４００は、膜厚調整体４１０を有する。膜厚調整体保持体４００は、可動でも固定でもよい。
膜厚調整体保持体４００は、膜厚調整体４１０を有する。膜厚調整体保持体４００は、可動でも固定でもよい。
【0062】
コリメータ３２０及び膜厚調整体４１０は固定されている。遊星子にコリメータ３２０及び膜厚調整体４１０を一体化させてもよい。
【0063】
コリメータ３２０は、膜厚の分布を制御することができるのに対し、膜厚調整体４１０は、成膜速度分布を制御することができる。
【0064】
＜＜＜＜実施の形態の範囲＞＞＞＞
上述したように、本実施の形態を記載した。しかし、この開示の一部をなす記載及び図面は、限定するものと理解すべきでない。ここで記載していない様々な実施の形態等が含まれる。
上述したように、本実施の形態を記載した。しかし、この開示の一部をなす記載及び図面は、限定するものと理解すべきでない。ここで記載していない様々な実施の形態等が含まれる。
【符号の説明】
【0065】
１０ 蒸着装置
１００ 蒸発源
２００ 基板保持体
２１０ 基板用開口部
３００ コリメータ保持体
３１０ コリメータ用開口部
３２０ コリメータ
４００ 膜厚調整体保持体
４１０ 膜厚調整体
ＳＢ 基板
１００ 蒸発源
２００ 基板保持体
２１０ 基板用開口部
３００ コリメータ保持体
３１０ コリメータ用開口部
３２０ コリメータ
４００ 膜厚調整体保持体
４１０ 膜厚調整体
ＳＢ 基板
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
