特開 2023-123031 塗布装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023123031

(43)【公開日】2023-09-05

(54)【発明の名称】塗布装置

(51)【国際特許分類】

   B05C 5/02 20060101AFI20230829BHJP

   B05C 9/14 20060101ALI20230829BHJP

【ＦＩ】

B05C5/02

B05C9/14

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022026857

(22)【出願日】2022-02-24

(71)【出願人】

【識別番号】000219314

【氏名又は名称】東レエンジニアリング株式会社

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 俊文

(72)【発明者】

【氏名】宮本 芳範

【テーマコード（参考）】

4F041

4F042

【Ｆターム（参考）】

4F041AA02

4F041AB01

4F041CA03

4F042AA02

4F042AB00

4F042DB28

(57)【要約】

【課題】膜厚精度の低下を抑えつつ、塗布器により塗布された直後から塗布膜を乾燥させることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板を載置するステージと、ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布器と、を備える塗布装置であって、塗布器には、塗布進行側と反対側にノズルから吐出されて形成された塗布膜を乾燥させる乾燥器が設けられており、乾燥器は、塗布膜に向かってエアを供給する送風部と、送風部から供給されたエアを吸引する吸引部とを備える構成とする。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布器と、
を備える塗布装置であって、
前記塗布器には、塗布進行側と反対側にノズルから吐出されて形成された塗布膜を乾燥させる乾燥器が設けられており、
前記乾燥器は、塗布膜に向かってエアを供給する送風部と、前記送風部から供給されたエアを吸引する吸引部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。

【請求項2】

前記送風部と前記吸引部は、前記ノズルから吐出された塗布液が基板に着液する着液点に向かってそれぞれの開口部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。

【請求項3】

前記送風部の開口部は、前記吸引部の開口部に対して、塗布進行方向側に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。

【請求項4】

前記送風部の開口部は、前記吸引部の開口部に対して、塗布進行方向側と反対側に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。

【請求項5】

前記送風部から供給されるエアは、ヒータにより加熱されていることを特徴とする請求項１～４のいずれかに記載の塗布装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に関するものであり、特に、塗布液を吐出した直後から乾燥させる塗布装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

近年では、様々な用途に基板Ｗ上に均一な薄膜が形成されたもの（塗布基板という）が使用される。例えば、基板上に一様な膜厚の塗布膜を形成する場合には、スリット状のノズルを有する塗布装置によって形成されている。この塗布装置は、図６に示すように、基板Ｗを載置するステージ１００と、塗布液を吐出するスリット状のノズルを有する塗布器１０１とを有しており、ノズルのスリットから塗布液を吐出させながら、基板Ｗと塗布器１０１とを相対的に移動させることにより、所定厚さの塗布膜Ｃが基板Ｗ上に形成されるようになっている。

【0003】

そして、形成された塗布基板Ｗは、塗布装置から搬出された後、塗布装置とは別の乾燥装置１０２によって乾燥させられる（例えば、下記特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１０－０３４３０９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかし、上記塗布装置では、形成された塗布膜Ｃの機能性が十分に発揮できないという問題があった。すなわち、近年では、材料の特性として、塗布膜Ｃとして塗布された後、すぐに乾燥させることにより安定して機能性を発揮するものがあり、例えば、ペロブスカイト太陽電池の材料には、そのような材料が使用されている。上記塗布装置では、塗布膜Ｃが形成された後、別の乾燥装置１０２に搬送される間、時間を要してしまうため、この時間が塗布膜Ｃの結晶状態に影響し、材料の機能性が安定して発揮されにくいという問題があった。

【0006】

仮に、塗布された直後の塗布膜Ｃに対し、エアを吹き付けて乾燥させることも考えられるが、エアの流れがスリットから吐出された塗布液の流れ、すなわち、スリットと基板Ｗを連結する塗布液（ビード１０３）に影響し、形成された塗布膜Ｃの膜厚精度が悪化する虞があるという問題があった。

【0007】

本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり、膜厚精度の低下を抑えつつ、塗布器により塗布された直後から塗布膜を乾燥させることができる塗布装置を提供することを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布器と、を備える塗布装置であって、前記塗布器には、塗布進行側と反対側にノズルから吐出されて形成された塗布膜を乾燥させる乾燥器が設けられており、前記乾燥器は、塗布膜に向かってエアを供給する送風部と、前記送風部から供給されたエアを吸引する吸引部と、を備えることを特徴としている。

【0009】

上記塗布装置によれば、塗布進行側と反対側に乾燥器が設けられているため、ノズルから吐出されて形成された直後から、塗布膜を乾燥させることができる。すなわち、乾燥器の送風部からエアが供給されることにより、形成された塗布膜の乾燥が促進される。そして、供給されたエアは、吸引部から吸引されることにより、供給されたエアすべてが形成された塗布膜に直撃し、風圧により塗布膜が変形するのを抑えることができる。すなわち、吸引部に吸引力が発生されることにより、供給されたエアが塗布膜に当接する前に吸引されて塗布膜に直撃するエア量が軽減されるとともに、送風部と塗布膜との間に滞留するエアが少なくなることにより、供給されたエアが吐出された塗布液の流れ、すなわち、スリットと基板を連結する塗布液（ビード）への影響、及び、形成された塗布膜の形状に影響を与えるのを抑えることができる。これにより、形成された塗布膜の膜厚精度の低下を抑えつつ、塗布器により塗布された直後から塗布膜を乾燥させることができる。

【0010】

また、前記送風部と前記吸引部は、前記ノズルから吐出された塗布液が基板に着液する着液点に向かってそれぞれの開口部が形成されている構成にしてもよい。

【0011】

この構成によれば、塗布液が基板に着液した直後から乾燥させることができる。

【0012】

また、前記送風部の開口部は、前記吸引部の開口部に対して、塗布進行方向側に配置されている構成にしてもよい。

【0013】

この構成によれば、送風部の開口部が吸引部の開口部よりノズルに近い側に配置されるため、送風部から送り出されたエアが、吸引部の吸引力の影響により、ノズルから離れる方向に流れる。そのため、送風部から送り出されたエアが、ノズルと基板との間に形成されたビードに影響するのを抑えることができる。

【0014】

また、前記送風部の開口部は、前記吸引部の開口部に対して、塗布進行方向側と反対側に配置されている構成にしてもよい。

【0015】

この構成によれば、送風部の開口部が吸引部の開口部よりノズルに遠い側に配置されるため、送風部から送り出されたエアが、吸引部の吸引力の影響により、一旦、ノズル側に流れるが、そのまま吸引部により吸引されるため、送風部から直接ビードに直撃する場合に比べて、送風部から送り出されたエアがビードに与える影響を抑えることができる。

【0016】

また、前記送風部から供給されるエアは、ヒータにより加熱されている構成にしてもよい。

【0017】

この構成によれば、加熱されたエアが供給されることにより、塗布膜の乾燥を促進させることができる。

【発明の効果】

【0018】

本発明の塗布装置によれば、膜厚精度の低下を抑えつつ、塗布器により塗布された直後から塗布膜を乾燥させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】本発明の実施形態に係る塗布装置を示す斜視図である。

【図2】塗布ユニットの脚部付近を示す概略図である。

【図3】乾燥器が設けられた塗布器の断面図である。

【図4】上記塗布器から塗布液を吐出した状態を示す図である。

【図5】他の実施形態における塗布器から塗布液を吐出した状態を示す図である。

【図6】従来の塗布装置と乾燥装置を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

本発明に係る実施の形態について図面を用いて説明する。

【0021】

図１は、本発明の一実施形態における塗布装置を概略的に示す斜視図であり、図２は、塗布ユニットの脚部付近を示す図であり、図３は、乾燥器が設けられた塗布器を示す図である。

【0022】

図１～図３に示すように、塗布装置は、基板Ｗ上に薬液やレジスト液等の液状物（以下、塗布液と称す）の塗布膜を形成するものであり、基台２と、基板Ｗを載置するためのステージ２１と、このステージ２１に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット３０とを備えている。

【0023】

なお、以下の説明では、塗布ユニット３０が移動する方向をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。

【0024】

前記基台２には、その中央部分にステージ２１が配置されている。このステージ２１は、搬入された基板Ｗを載置するものである。このステージ２１には、基板Ｗを載置する基板載置面２１ａと、図示しない基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板Ｗが保持されるようになっている。具体的には、ステージ２１の基板載置面２１ａに形成された複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に吸引力を発生させることにより基板Ｗを基板載置面２１ａに吸着させて保持できるようになっている。

【0025】

また、ステージ２１には、基板Ｗを昇降動作させる基板昇降機構が設けられている。具体的には、ステージ２１の表面には複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはＺ軸方向に昇降動作可能なリフトピン（不図示）が埋設されている。すなわち、ステージ２１の表面からリフトピンを突出させた状態で基板Ｗが搬入されるとリフトピンの先端部分が基板Ｗに当接して基板Ｗを保持することができる。そして、その状態からリフトピンを下降させてピン孔に収容させることにより、基板Ｗを基板載置面２１ａに載置することができるようになっている。

【0026】

また、塗布ユニット３０は、基板Ｗ上に塗布液を吐出して塗布膜Ｃを形成するものである。この塗布ユニット３０は、図１，図２に示すように、基台２と連結される脚部３１とＹ軸方向に延びる塗布器３４とを有しており、基台２上をＹ軸方向に跨いだ状態でＸ軸方向に移動可能に取り付けられている。具体的には、基台２のＹ軸方向両端部分にはそれぞれＸ軸方向に延びるレール２２が設置されており、脚部３１がこのレール２２にスライド自在に取り付けられている。そして、脚部３１にはリニアモータが取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、塗布ユニット３０がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。

【0027】

また、塗布ユニット３０の脚部３１には、図２に示すように、塗布液を塗布する塗布器３４が取り付けられている。具体的には、この脚部３１にはＺ軸方向に延びるレール３７と、このレール３７に沿ってスライドするスライダ３５が設けられており、これらのスライダ３５と塗布器３４とが連結されている。そして、スライダ３５にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ３５がＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。すなわち、塗布器３４が、ステージ２１に保持された基板Ｗに対して接離可能に支持されている。

【0028】

また、図１～３に示すように、塗布器３４は、塗布液を吐出して基板Ｗ上に塗布膜Ｃを形成するものである。この塗布器３４は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット３０の走行方向とほぼ直交するように設けられている。この塗布器３４は、鉛直方向に延びる側面部３４ｂを有しており、この側面部３４ｂから傾斜状に形成される斜面部３４ｃを経て基板Ｗと対向する基板対向面３４ｄを有している。そして、基板対向面３４ｄには、スリットノズル３４ａが形成されており、スリットノズル３４ａから塗布液が吐出されるようになっている。すなわち、塗布器３４の基板対向面３４ｄには、スリットノズル３４ａが長手方向に延びるように形成されており、塗布器３４に供給された塗布液がスリットノズル３４ａから長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル３４ａから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３０をＸ軸方向に走行させることにより、スリットノズル３４ａの長手方向に亘って基板Ｗ上に一定厚さの塗布膜Ｃが形成されるようになっている。なお、塗布液を塗布するために、スリットノズル３４ａから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３０を移動させる方向を本実施形態では塗布方向と呼び、塗布方向側を塗布進行側と呼ぶことにする。

【0029】

また、塗布器３４には、乾燥器４０が設けられている。この乾燥器４０は、基板Ｗ上に形成された塗布膜Ｃを乾燥させるものである。ここで、乾燥とは、完全乾燥の意味だけでなく、半乾き状態の乾燥、及び、大気に放置して乾燥させる場合よりも材料の結晶化が促進される程度の乾燥も含まれるものとする。

【0030】

乾燥器４０は、本実施形態では、塗布器３４において、塗布進行側と反対側に一体的に取り付けられている。すなわち、塗布器３４が塗布液を吐出しつつ塗布進行方向に移動すると、乾燥器４０が塗布器３４と一体的に移動しつつ、基板上に塗布膜Ｃが形成された直後から、乾燥器４０により塗布膜Ｃが乾燥されるようになっている。

【0031】

乾燥器４０は、塗布器３４の長手方向に沿って設けられており、エアを供給する送風部４１と、吸引力を発生させる吸引部４２を有している。本実施形態では、塗布器３４に隣接するように送風部４１が配置され、この送風部４１に隣接するように吸引部４２が配置されて構成されている。すなわち、送風部４１の開口部４１ｃは、吸引部４２の開口部４２ｃに対して、塗布器３４側（塗布進行方向側）に配置されている。

【0032】

送風部４１は、基板Ｗ上に形成された塗布膜Ｃにエアを供給するものである。本実施形態では、送風本体部４１１と、送風ノズル部４１２とを有しており、送風本体部４１１で貯留されたエアが送風ノズル部４１２を通じてエアが吹き出されるようになっている。

【0033】

送風本体部４１１は、ボックス形状を有しており、塗布器３４の側面部３４ｂに沿って長手方向に延びる形状に形成されている。本実施形態では、スリットノズル３４ａの長手方向寸法よりも長い寸法を有するように形成されている。また、送風本体部４１１には、塗布膜Ｃに供給するためのエアを溜めるキャビティ４１ｂが設けられており、図示しないエア供給源から供給されたエアがキャビティ４１ｂで一時的に貯留できるようになっている。キャビティ４１ｂは、長手方向に延びる形状に形成されており、送風ノズル部４１２と連通して接続されている。したがって、エアがキャビティ４１ｂに供給されるとキャビティ４１ｂ全体に広がって一時的に貯留されることにより、送風ノズル部４１２に対して長手方向に渡って一様にエアを供給できるようになっている。

【0034】

送風ノズル部４１２は、送風本体部４１１に供給されたエアを塗布膜Ｃに導くためのものである。具体的には、送風ノズル部４１２は、塗布器３４の斜面部３４ｃに沿って形成されており、スリットノズル３４ａ付近まで延びて形成されている。図３の例では、スリットノズル３４ａの高さ位置よりもわずかに高い位置、すなわち、基板Ｗに形成される塗布膜Ｃに当接しない高さ位置まで延びて形成されている。そして、送風ノズル部４１２は、エアを導く流路４１ａが形成されており、その流路４１ａにより、送風本体部４１１のキャビティ４１ｂと、スリットノズル３４ａ付近に形成される開口部４１ｃとが連通して接続されている。すなわち、送風ノズル部４１２は、エア供給源を作動させると、流路４１ｂを通じてキャビティ４１ｂのエアを開口部４１ｃまで導くことができるようになっている。

【0035】

送風ノズル部４１２の流路４１ａは、スリット状に形成されており、塗布器３４の長手方向に延びるように形成されている。本実施形態では、流路４１ｂの長手方向寸法は、塗布器３４のスリットノズル３４ａの長手寸法とほぼ同じ寸法に形成されている。また、送風ノズル部４１２の開口部４１ｃは、スリットノズル３４ａから吐出された塗布液が基板Ｗに着液する着液点Ｐに向かう方向に形成されている。これにより、送風本体部４１１のキャビティ４１ｂに供給されたエアは、送風ノズル部４１２の流路４１ａから開口部４１ｃを通じて着液点Ｐに向かって供給されるようになっている。そして、エア供給源が調節されることにより、送風ノズル部４１２から送り出されるエアの供給量が調節されるようになっている。

【0036】

吸引部４２は、送風部４１から供給されたエアを吸引するためのものである。本実施形態では、吸引本体部４２１と、吸引ノズル部４２２とを有しており、吸引ノズル部４２２から吸引されたエアを吸引本体部４２１に取り込んで排出されるようになっている。

【0037】

吸引本体部４２１は、ボックス形状を有しており、送風本体部４１１に沿って長手方向延びる形状に形成されている。吸引本体部４２１には、エアの流れを抑制するチャンバ部４２ｂが設けられており、チャンバ部４２ｂが長手方向に延びる形状に形成されている。そして、チャンバ部４２ｂには、図示しない吸引源が接続されており、吸引源を作動させるとチャンバ部４２ｂ全体が減圧され、後述の吸引ノズル部４２２に吸引力を発生させる。すなわち、チャンバ部４２ｂを設けることにより、長手方向に延びる吸引ノズル部４２２全体に一様な吸引力を発生させることができるようになっている。

【0038】

吸引ノズル部４２２は、吸引本体部４２１にエアを導くためのものである。具体的には、吸引ノズル部４２２は、送風ノズル部４１２に併設して設けられており、送風ノズル部４１２の開口部４２ｃまで延びる形状に形成されている。図３の例では、送風ノズル部４１２の開口部４２ｃの高さ位置と同じになるように設けられている。そして、吸引ノズル部４２２は、エアを導く流路４２ａが形成されており、その流路４２ａにより、吸引本体部４２１のチャンバ部４２ｂと、開口部４２ｃとが連通して接続されている。すなわち、吸引源を作動させると、吸引ノズル部４２２の流路４２ａを通じて、開口部４２ｃ付近のエアがチャンバ部４２ｂまで吸引されるになっている。

【0039】

吸引ノズル部４２２の流路４２ａは、スリット状に形成されており、送風ノズル部４１２の流路４１ａと同様に長手方向に延びるように形成されている。本実施形態では、吸引ノズル部４２２の流路４２ａの長手方向寸法は、送風ノズル部４１２の流路４１ａの長手寸法とほぼ同じ寸法に形成されている。すなわち、吸引ノズル部４２２の開口部４２ｃと、送風ノズル部４１２の開口部４１ｃは、ほぼ同じ寸法に形成されており、塗布進行方向と所定間隔で並んで配置されている。また、吸引ノズル部４２２の開口部４２ｃは、スリットノズル３４ａの着液点Ｐに向かう方向に形成されている。これにより、着液点Ｐ付近のエアは、吸引ノズル部４２２を通じて長手方向に渡って一様に吸引されるようになっている。そして、吸引源が調節することにより、吸引ノズル部４２２が吸引するエアの吸引量が調節できるようになっている。

【0040】

この乾燥器４０を作動させると、図４に示すように、送風部４１からエアが吹き出されるとともに、吸引部４２からエアが吸引される。これにより、送風部４１と吸引部４２がスリットノズル３４ａ近くに設けられているため、スリットノズル３４ａから吐出されて基板Ｗに着液された直後の塗布膜Ｃに対して乾燥させることができる。すなわち、送風部４１からエアが吹き出されると、エアが着液点Ｐに向かって流れることにより、スリットノズル３４ａと基板Ｗとの間に形成されたビードＢ、及び、基板Ｗ上に形成された塗布膜Ｃにエアが当たることにより塗布液の乾燥が開始される。一方で、吸引部４２が着液点Ｐ付近のエアを吸引することにより、送風部４１から供給されたエアの一部が吸引部４２により吸引され、送風部４１から吹き出されたエアがビードＢに当たるのを抑えることができる。そして、吸引量を調節することにより、ビードＢに当たるエア量を調節することができるため、送風部４１から吹き出されたエアによるビードＢへの影響を抑えるように調節することができる。すなわち、送風部４１から吹き出されたエアは、ビードＢよりも塗布進行側と反対側に流れやすくなるため、主に、着液点Ｐから塗布進行側と反対側に形成される塗布膜Ｃを乾燥させることができる。これにより、供給されるエアによるビードＢへの影響が抑えられることにより、形成される塗布膜Ｃの膜厚精度への影響を抑えつつ、塗布膜Ｃの乾燥を促進させることができる。

【0041】

このように、上記実施形態における塗布装置によれば、塗布進行側と反対側に乾燥器４０が設けられているため、スリットノズル３４ａから吐出されて形成された直後から、塗布膜Ｃを乾燥させることができる。すなわち、乾燥器４０の送風部４１からエアが供給されることにより、形成された塗布膜Ｃの乾燥が促進される。そして、供給されたエアは、吸引部４２から吸引されることにより、供給されたエアが直接、形成された塗布膜Ｃに当たるのを抑えることができる。すなわち、吸引部４２に吸引力が発生されることにより、供給されたエアが塗布膜Ｃに当接する前に吸引されて塗布膜Ｃに直撃するエア量が軽減されるとともに、送風部４１と塗布膜Ｃとの間に滞留するエアが少なくなることにより、供給されたエアが吐出された塗布液の流れ、すなわち、スリットノズル３４ａと基板Ｗを連結するビードＢへの影響、及び、形成された塗布膜Ｃの形状に影響を与えるのを抑えることができる。これにより、形成された塗布膜Ｃの膜厚精度の低下を抑えつつ、塗布器３４により塗布された直後から塗布膜Ｃを乾燥させることができる。

【0042】

また、上記実施形態では、乾燥器４０の送風部４１、吸引部４２が塗布進行側からこの順に配置されている例について説明したが、塗布進行側から吸引部４２、送風部４１の順に配置するものであってもよい。

【0043】

ここで、図５は、乾燥器４０の送風部４１、吸引部４２が塗布進行側から吸引部４２、送風部４１の順に配置させた例である。この例では、送風部４１、吸引部４２は、上記実施形態で説明したものと同じ構成を有している。これにより、吸引部４２から吹き出されたエアは、着液点Ｐから形成された塗布膜Ｃに当たるように流れることにより、その塗布膜Ｃの乾燥が開始される。一方、吸引部４２から吸引力が発生することにより、送風部４１から吹き出されたエアの一部が吸引部４２に吸引されるため、塗布膜Ｃに直接的に当たるエア量を調節することができる。すなわち、送風部４１から吹き出されたエアの一部が吸引部４２で吸引され、塗布膜Ｃにはエアの流れによる風圧が緩和された状態で当てることができるため、形成された塗布膜Ｃにエアの流れが塗布ムラとなって形成されるのを抑えることができる。また、送風部４１から吹き出されたエアが直接、又は塗布膜Ｃに当たった後、ビードＢに向かって流れるエアが発生した場合でも、吸引部４２の吸引力が作用することにより、ビードＢに当たるエアを抑えることができる。これにより、供給されるエアによるビードＢへの影響が抑えられることにより、形成される塗布膜Ｃの膜厚精度への影響を抑えつつ、塗布膜Ｃの乾燥を促進させることができる。

【0044】

また、上記実施形態では、送風ノズル部４１２の開口部４１ｃ、吸引ノズル部４２２の開口部４１ｃが着液点Ｐに向くように設定された例について説明したが、着液点Ｐよりも塗布進行側と反対側に離れるように設定されていてもよい。これにより、吸引部４２から吹き出されたエアは、着液点Ｐよりも塗布進行側と反対側に流れることにより、エアが直接ビードＢに当たるのが抑えられる。そして、エアが着液点Ｐから塗布進行側と反対側に形成された塗布膜Ｃに当たるように流れるが、そのエアが吸引部４２で吸引されることにより、エアの流れによる風圧が緩和された状態で当てることができるため、塗布ムラを抑えて形成された塗布膜Ｃを乾燥させることができる。

【0045】

また、上記実施形態では、送風部４１から供給されるエアは、エア供給源の温度（塗布装置が設置される空間の温度）である例について説明したが、エア供給源と送風部４１との間にヒータを設け、ヒータにより加熱されたエアを供給するものであってもよい。例えば、塗布装置が設置される空間の温度よりも少し高い３５℃～４５℃程度に設定することにより、エア供給源のエアをそのまま使用する場合に比べて塗布膜Ｃの乾燥を促進させることができる。

【0046】

また、上記実施形態では、塗布器３４がスリットノズル３４ａを有する例について説明したが、一方向に移動し、塗布膜Ｃを形成した直後から乾燥が必要な塗布器（例えば、インクジェット）であればよく、吐出方式は特に限定されない。

【符号の説明】

【0047】

２１ ステージ
３０ 塗布ユニット
３４ 塗布器
３４ａ スリットノズル
４０ 乾燥器
４１ 送風部
４１Ｃ 開口部
４２ 吸引部
４２Ｃ 開口部
Ｂ ビード
Ｐ 着液点
Ｗ 基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】