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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023128687
(43)【公開日】2023-09-14
(54)【発明の名称】二軸配向ポリエステルフィルム
(51)【国際特許分類】
C08J 7/04 20200101AFI20230907BHJP
B32B 27/36 20060101ALI20230907BHJP
B32B 27/20 20060101ALI20230907BHJP
B32B 3/30 20060101ALI20230907BHJP
【ＦＩ】
C08J7/04 B CFD
B32B27/36
B32B27/20 Z
B32B3/30
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022033217
(22)【出願日】2022-03-04
(71)【出願人】
【識別番号】000003159
【氏名又は名称】東レ株式会社
(72)【発明者】
【氏名】千代 敏弘
(72)【発明者】
【氏名】東大路 卓司
【テーマコード（参考）】
4F006
4F100
【Ｆターム（参考）】
4F006AA35
4F006AA55
4F006AB24
4F006AB32
4F006AB76
4F006BA07
4F006BA12
4F006CA05
4F006CA08
4F006EA03
4F006EA06
4F100AA20A
4F100AA20B
4F100AA21B
4F100AK25B
4F100AK36B
4F100AK41A
4F100AK41B
4F100AK42A
4F100AK51B
4F100AK54B
4F100BA02
4F100BA07
4F100CA02B
4F100CA22B
4F100DD07A
4F100DE01A
4F100DE01B
4F100EH46B
4F100EJ38A
4F100EJ943
4F100GB15
4F100GB41
4F100JA04A
4F100JA05A
4F100JA06A
4F100JB04B
4F100JB04C
4F100JG03B
4F100JK07A
4F100JK14A
4F100JK16A
4F100JL14B
4F100YY00B
(57)【要約】
【課題】フィルム片面に、突起を有し表面弾性率が制御された高平滑な表面を設け、反対側に表面特性を制御した塗布層を有することで、次世代微細配線向けのレジスト特性に優れながら、ロールとして巻き取った後の塗布層の削れを抑制した二軸配向ポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】次の（１）を満たす表面（Ａ面）を有し、Ａ面とは反対に設けられた塗布層が次の（２）、（３）を満たす二軸配向ポリエステルフィルム。
（１） 前記Ａ面において、ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定した高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数をＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）とした場合に、Ｎ１－１０ｎｍＡが１００以上１０００以下であること。
（２） 前記塗布層の厚みが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であること。
（３） 前記塗布層が、平均一次粒子径が３ｎｍ以上３００ｎｍ以下の粒子を塗布層全体に対して、０．５質量％以上１０質量％以下含有すること。
【選択図】なし
【解決手段】次の（１）を満たす表面（Ａ面）を有し、Ａ面とは反対に設けられた塗布層が次の（２）、（３）を満たす二軸配向ポリエステルフィルム。
（１） 前記Ａ面において、ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定した高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数をＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）とした場合に、Ｎ１－１０ｎｍＡが１００以上１０００以下であること。
（２） 前記塗布層の厚みが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であること。
（３） 前記塗布層が、平均一次粒子径が３ｎｍ以上３００ｎｍ以下の粒子を塗布層全体に対して、０．５質量％以上１０質量％以下含有すること。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
次の（１）を満たす表面（Ａ面）を有し、Ａ面とは反対に設けられた塗布層が次の（２）、（３）を満たす二軸配向ポリエステルフィルム。
（１） 前記Ａ面において、ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定した高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数をＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）とした場合に、Ｎ１－１０ｎｍＡが１００以上１０００以下であること。
（２） 前記塗布層の厚みが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であること。
（３） 前記塗布層が、平均一次粒子径が３ｎｍ以上３００ｎｍ以下の粒子を塗布層全体に対して、０．５質量％以上１０質量％以下含有すること。
（１） 前記Ａ面において、ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定した高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数をＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）とした場合に、Ｎ１－１０ｎｍＡが１００以上１０００以下であること。
（２） 前記塗布層の厚みが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であること。
（３） 前記塗布層が、平均一次粒子径が３ｎｍ以上３００ｎｍ以下の粒子を塗布層全体に対して、０．５質量％以上１０質量％以下含有すること。
【請求項2】
前記Ａ面を、光干渉式顕微鏡で測定し得られる高さ５０ｎｍ以上の突起個数をＮ５０ｎｍ（個／ｍｍ２）とした場合に、Ｎ５０ｎｍが５０以下である請求項１に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項3】
前記Ａ面を、ＡＦＭを用いた表面弾性率測定において、Ａ面が有する高さ１０ｎｍ以上の突起の最大弾性率をＦＭＡＸ（ＧＰａ）、高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満における平均弾性率をＦＡＶＥ（ＧＰａ）とした場合に、ＦＭＡＸ／ＦＡＶＥが５０以下である請求項１または２に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項4】
前記Ａ面を構成する層をＰ１層とした場合に、Ｐ１層の主成分がポリエステル樹脂であり、前記ポリエステル樹脂の固有粘度であるＩＶＰ１（ｄｌ／ｇ）が０．４５以上０．５５以下であることを特徴とする請求項１～３のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項5】
前記塗布層の表面をＢ面とし、前記Ｂ面の表面自由エネルギーをＥＢ（ｍＮ／ｍ）、前記Ａ面の表面自由エネルギーをＥＡ（ｍＮ／ｍ）とした場合に、フィルム両面の表面自由エネルギー差の絶対値｜ＥＡ－ＥＢ｜（ｍＮ／ｍ）が５以上である請求項１～４のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項6】
前記フィルム両面の表面自由エネルギー差であるＥＡ－ＥＢ（ｍＮ／ｍ）が５以上である請求項５に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項7】
前記フィルム両面の表面自由エネルギー差であるＥＡ－ＥＢ（ｍＮ／ｍ）が－５以下である請求項５に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項8】
ドライフィルムレジスト用基材フィルムとして用いられる請求項１～７のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、特定の特性を有する面をフィルム両面に設けた二軸配向ポリエステルフィルムに関するものである。
【背景技術】
【0002】
ポリエステル樹脂はその加工性の良さから、様々な工業分野に利用されている。また、これらポリエステル樹脂をフィルム状に加工した製品（ポリエステルフィルム）は工業用途、光学製品用途、包装用途、磁気記録テープ用途など今日の生活において重要な役割を果たしている。
近年、電子情報機器において、小型化、高集積化が進み、それに伴って、電子情報機器の配線も微細化が進展している。これら電子情報機器の微細な配線の作製には、透明なフィルムを支持体とし、表面に光硬化性の樹脂層（レジスト層）を設けたものを薄膜銅が張り合わされた基板と密着させ、フィルムごとフォトレジスト技術を用いて銅配線形状を描写し、フィルム剥離後ドライフィルムレジスト工法を用いることが多く、次世代製品では配線幅が２～５μｍと非常に精細な加工を行うことが必要となってくる。
一般に、ポリエステルフィルムは、製造工程にて製膜した後、ロール状に巻き取られる。この時、フィルム表面が平滑すぎるとフィルム同士が密着するため、フィルムの巻取り性が悪化する。そのため、フィルムの巻取り性を担保するためにフィルムに粒子を添加・含有させることで、フィルム表面を一定程度荒らす（フィルム表面に突起を形成させる）方法が知られている。添加する粒子の量を低減させたり、添加粒子の粒径を小径化したりすることでレジスト配線描写に寄与するフィルムの光学特性を高めることができるが、特にフィルム表面にコーティング手法を用いて粒子を含有する薄膜の塗布層を設けることで、前記光学特性とフィルムの巻取り性を両立することができ、例えば特許文献１では、特定の粒子径を有する粒子を含有した塗布層を粒子含有フィルムの上に設けることで優れた光学特性を制御する技術が公開されている。
近年、電子情報機器において、小型化、高集積化が進み、それに伴って、電子情報機器の配線も微細化が進展している。これら電子情報機器の微細な配線の作製には、透明なフィルムを支持体とし、表面に光硬化性の樹脂層（レジスト層）を設けたものを薄膜銅が張り合わされた基板と密着させ、フィルムごとフォトレジスト技術を用いて銅配線形状を描写し、フィルム剥離後ドライフィルムレジスト工法を用いることが多く、次世代製品では配線幅が２～５μｍと非常に精細な加工を行うことが必要となってくる。
一般に、ポリエステルフィルムは、製造工程にて製膜した後、ロール状に巻き取られる。この時、フィルム表面が平滑すぎるとフィルム同士が密着するため、フィルムの巻取り性が悪化する。そのため、フィルムの巻取り性を担保するためにフィルムに粒子を添加・含有させることで、フィルム表面を一定程度荒らす（フィルム表面に突起を形成させる）方法が知られている。添加する粒子の量を低減させたり、添加粒子の粒径を小径化したりすることでレジスト配線描写に寄与するフィルムの光学特性を高めることができるが、特にフィルム表面にコーティング手法を用いて粒子を含有する薄膜の塗布層を設けることで、前記光学特性とフィルムの巻取り性を両立することができ、例えば特許文献１では、特定の粒子径を有する粒子を含有した塗布層を粒子含有フィルムの上に設けることで優れた光学特性を制御する技術が公開されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１８－６３３４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献１の様な粒子を含有するフィルムでは表面の粒子に由来する表面突起によりフィルム製膜時のロール巻取り工程、スリット工程、さらにフィルム後加工時のフィルム両面の擦れにより塗布層が削れや塗布層に含有される粒子が脱落することで光学特性が時間経過と共に悪化することが課題となることが判明した。
【0005】
本発明は、フィルム表面に高さを制御した微細な突起を形成させ高平滑な面とすると共に、突起を有する面の表面弾性率、および塗布層の表面特性を制御することで、塗布層の削れや粒子脱落が抑制されたポリエステルフィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記課題を解決するために、本発明は以下の構成を取る。すなわち、
［Ｉ］次の（１）を満たす表面（Ａ面）を有し、Ａ面とは反対に設けられた塗布層が次の（２）、（３）を満たす二軸配向ポリエステルフィルム。
（１） 前記Ａ面において、ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定した高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数をＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）とした場合に、Ｎ１－１０ｎｍＡが１００以上１０００以下であること。
（２） 前記塗布層の厚みが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であること。
（３） 前記塗布層が、平均一次粒子径が３ｎｍ以上３００ｎｍ以下の粒子を塗布層全体に対して、０．５質量％以上１０質量％以下含有すること。
［ＩＩ］前記Ａ面を、光干渉式顕微鏡で測定し得られる高さ５０ｎｍ以上の突起個数をＮ５０ｎｍ（個／ｍｍ２）とした場合に、Ｎ５０ｎｍＡが５０以下である［Ｉ］に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［ＩＩＩ］前記Ａ面を、ＡＦＭを用いた表面弾性率測定において、Ａ面が有する高さ１０ｎｍ以上の突起の最大弾性率をＦＭＡＸ（ＧＰａ）、高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満における平均弾性率をＦＡＶＥ（ＧＰａ）とした場合に、ＦＭＡＸ／ＦＡＶＥが５０以下である［Ｉ］または［ＩＩ］に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［ＩＶ］前記Ａ面を構成する層をＰ１層とした場合に、Ｐ１層の主成分がポリエステル樹脂であり、前記ポリエステル樹脂の固有粘度であるＩＶＰ１（ｄｌ／ｇ）が０．４５以上０．５５以下であることを特徴とする［Ｉ］～［ＩＩＩ］のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［Ｖ］前記塗布層の表面をＢ面とし、前記Ｂ面の表面自由エネルギーをＥＢ（ｍＮ／ｍ）、前記Ａ面の表面自由エネルギーをＥＡ（ｍＮ／ｍ）とした場合に、フィルム両面の表面自由エネルギー差の絶対値｜ＥＡ－ＥＢ｜（ｍＮ／ｍ）が５以上である［Ｉ］～［ＩＶ］のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［ＶＩ］前記フィルム両面の表面自由エネルギー差であるＥＡ－ＥＢ（ｍＮ／ｍ）が５以上である［Ｖ］に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［ＶＩＩ］前記フィルム両面の表面自由エネルギー差であるＥＡ－ＥＢ（ｍＮ／ｍ）が－５以下である［Ｖ］に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［ＶＩＩＩ］ドライフィルムレジスト用基材フィルムとして用いられる［Ｉ］～［ＶＩＩ］のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［Ｉ］次の（１）を満たす表面（Ａ面）を有し、Ａ面とは反対に設けられた塗布層が次の（２）、（３）を満たす二軸配向ポリエステルフィルム。
（１） 前記Ａ面において、ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定した高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数をＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）とした場合に、Ｎ１－１０ｎｍＡが１００以上１０００以下であること。
（２） 前記塗布層の厚みが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であること。
（３） 前記塗布層が、平均一次粒子径が３ｎｍ以上３００ｎｍ以下の粒子を塗布層全体に対して、０．５質量％以上１０質量％以下含有すること。
［ＩＩ］前記Ａ面を、光干渉式顕微鏡で測定し得られる高さ５０ｎｍ以上の突起個数をＮ５０ｎｍ（個／ｍｍ２）とした場合に、Ｎ５０ｎｍＡが５０以下である［Ｉ］に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［ＩＩＩ］前記Ａ面を、ＡＦＭを用いた表面弾性率測定において、Ａ面が有する高さ１０ｎｍ以上の突起の最大弾性率をＦＭＡＸ（ＧＰａ）、高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満における平均弾性率をＦＡＶＥ（ＧＰａ）とした場合に、ＦＭＡＸ／ＦＡＶＥが５０以下である［Ｉ］または［ＩＩ］に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［ＩＶ］前記Ａ面を構成する層をＰ１層とした場合に、Ｐ１層の主成分がポリエステル樹脂であり、前記ポリエステル樹脂の固有粘度であるＩＶＰ１（ｄｌ／ｇ）が０．４５以上０．５５以下であることを特徴とする［Ｉ］～［ＩＩＩ］のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［Ｖ］前記塗布層の表面をＢ面とし、前記Ｂ面の表面自由エネルギーをＥＢ（ｍＮ／ｍ）、前記Ａ面の表面自由エネルギーをＥＡ（ｍＮ／ｍ）とした場合に、フィルム両面の表面自由エネルギー差の絶対値｜ＥＡ－ＥＢ｜（ｍＮ／ｍ）が５以上である［Ｉ］～［ＩＶ］のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［ＶＩ］前記フィルム両面の表面自由エネルギー差であるＥＡ－ＥＢ（ｍＮ／ｍ）が５以上である［Ｖ］に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［ＶＩＩ］前記フィルム両面の表面自由エネルギー差であるＥＡ－ＥＢ（ｍＮ／ｍ）が－５以下である［Ｖ］に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
［ＶＩＩＩ］ドライフィルムレジスト用基材フィルムとして用いられる［Ｉ］～［ＶＩＩ］のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【発明の効果】
【0007】
フィルム片面に、突起を有し表面弾性率が制御された高平滑な表面を設け、反対側に表面特性を制御した塗布層を有することで、次世代微細配線向けのレジスト特性に優れながら、ロールとして巻き取った後の塗布層の削れ発生、粒子脱落を抑制した二軸配向ポリエステルフィルムを提供する。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1】ＡＦＭ測定、および走査型白色干渉顕微鏡で測定されるＡ面の有する突起を表す概念図である。
【図2】本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの２層構成図
【図3】本発明の塗布層を有する場合のポリエステルフィルムの３層構成図
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本発明を詳細に説明する。
【0010】
本発明は二軸配向ポリエステルフィルムに関する。
次の（１）を満たす表面（Ａ面）を有し、Ａ面とは反対に設けられた塗布層が次の（２）、（３）を満たす二軸配向ポリエステルフィルム。
（１） 前記Ａ面において、ＡＦＭで測定した高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数 をＮ１－１０ｎｍ（個／２５μｍ２）とした場合に、Ｎ１－１０ｎｍが１００以上１０００以下であること。
（２） 前記塗布層の厚みが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であること。
（３） 前記塗布層が、平均一次粒子径が３ｎｍ以上３００ｎｍ以下の粒子を塗布層全体に対して、０．５質量％以上１０質量％以下含有すること。
次の（１）を満たす表面（Ａ面）を有し、Ａ面とは反対に設けられた塗布層が次の（２）、（３）を満たす二軸配向ポリエステルフィルム。
（１） 前記Ａ面において、ＡＦＭで測定した高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数 をＮ１－１０ｎｍ（個／２５μｍ２）とした場合に、Ｎ１－１０ｎｍが１００以上１０００以下であること。
（２） 前記塗布層の厚みが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であること。
（３） 前記塗布層が、平均一次粒子径が３ｎｍ以上３００ｎｍ以下の粒子を塗布層全体に対して、０．５質量％以上１０質量％以下含有すること。
【0011】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは前記Ａ面を有するポリエステル樹脂層（Ｐ１層）、を有し、前記Ａ面とは反対面（Ｂ面）を有する塗布層（Ｐ２層）を有するＰ１層／Ｐ２層の２層積層構成が好ましく、前記Ｐ１層と塗布層でありＰ２層の間に粒子を含有しない中間層（Ｐ３）を有するＰ１層／Ｐ３層／Ｐ２層の３層積層構成を取ることが好ましい。
【0012】
（突起を有する面：Ａ面）
本発明における前記Ａ面は突起を有し、後述の手法に従ったＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）測定にて得られる高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数をＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）とした場合に、Ｎ１－１０ｎｍが１００以上１０００以下である。本発明の二軸配向ポリエステルフィルムをドライフィルムレジスト用基材フィルムとして用いた場合にＮ１－１０ｎｍＡは前記Ａ面の地肌部に形成された微細な突起の個数を表し、前記Ａ面の易滑性、および前記Ａ面上にレジスト層を設け前記Ａ面とは反対面側から露光加工を行う場合の微細配線向けレジスト特性に影響を与える値であり、また、二軸延伸ポリエステルフィルムを製造しフィルムロールとして巻き取る場合にロールの巻き姿やＡ面の傷つきに影響を与える。
前記Ａ面におけるＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）が１００以上となることで、ロール巻取りの際に、前記Ａ面とは反対面に設けられる塗布層表面（Ｂ面）との接触する面積（接触面積）を減少させ、前記面間の摩擦を低減させることでフィルムロールの巻き姿を向上させることができる。また、前記Ａ面におけるＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）を１０００以下とすることで、フィルム両面の摩擦が過剰に低減し、フィルムロールの巻きズレ発生を抑制することができる。前記Ａ面におけるＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）のより好ましい範囲としては２５０以上である。
本発明における前記Ａ面は突起を有し、後述の手法に従ったＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）測定にて得られる高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数をＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）とした場合に、Ｎ１－１０ｎｍが１００以上１０００以下である。本発明の二軸配向ポリエステルフィルムをドライフィルムレジスト用基材フィルムとして用いた場合にＮ１－１０ｎｍＡは前記Ａ面の地肌部に形成された微細な突起の個数を表し、前記Ａ面の易滑性、および前記Ａ面上にレジスト層を設け前記Ａ面とは反対面側から露光加工を行う場合の微細配線向けレジスト特性に影響を与える値であり、また、二軸延伸ポリエステルフィルムを製造しフィルムロールとして巻き取る場合にロールの巻き姿やＡ面の傷つきに影響を与える。
前記Ａ面におけるＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）が１００以上となることで、ロール巻取りの際に、前記Ａ面とは反対面に設けられる塗布層表面（Ｂ面）との接触する面積（接触面積）を減少させ、前記面間の摩擦を低減させることでフィルムロールの巻き姿を向上させることができる。また、前記Ａ面におけるＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）を１０００以下とすることで、フィルム両面の摩擦が過剰に低減し、フィルムロールの巻きズレ発生を抑制することができる。前記Ａ面におけるＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）のより好ましい範囲としては２５０以上である。
【0013】
本発明における、後述の走査型白色干渉顕微鏡測定により得られる前記Ａ面の高さ５０ｎｍ以上の突起個数Ｎ５０ｎｍＡ（個／ｍｍ２）は５０以下であることが好ましい。前記Ｎ５０ｎｍＡ（個／ｍｍ２）は、前記Ａ面に存在するフィルムロール巻取り時に前記塗布層にダメージを与える突起個数を反映した値であり、前記Ｂ面との摩擦が発生する際に前記塗布層の削り異物発生を誘発し、また前記Ｂ面の含有粒子による突起と衝突することで粒子の脱落を誘発する。本発明における前記Ａ面の高さ５０ｎｍ以上の突起個数は、走査型白色干渉顕微鏡付属のソフトウェアにより求まるＩＳＯ ２５１７８に基づき、後述する測定方法により測定される値である。前記高さ５０ｎｍ以上の突起個数Ｎ５０ｎｍＡ（個／ｍｍ２）を５０以下とすることで、前記塗布層へのダメージを抑えることができ、ドライフィルムレジスト用工程フィルムとして用いる際には、前記塗布層が削れることにより発生する異物混入でレジスト配線形成の歩留まりが低下することを抑制することが出来る。前記Ａ面の高さ５０ｎｍ以上の突起個数Ｎ５０ｎｍＡ（個／ｍｍ２）のより好ましい範囲としては１５以下である。
【0014】
（Ａ面を構成するポリエステル樹脂層：Ｐ１層）
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおいて、前記Ａ面はポリエステル樹脂を主成分とする層（Ｐ１層）から構成されることが好ましい。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおいて、前記Ａ面はポリエステル樹脂を主成分とする層（Ｐ１層）から構成されることが好ましい。
【0015】
（ポリエステル樹脂）
本発明で言う二軸配向ポリエステルフィルムとは、ポリエステル樹脂を主成分とするフィルムを示す。ここでいう主成分とはフィルムの全成分１００質量％において、５０質量％を超えて含有している成分を示す。
本発明で言う二軸配向ポリエステルフィルムとは、ポリエステル樹脂を主成分とするフィルムを示す。ここでいう主成分とはフィルムの全成分１００質量％において、５０質量％を超えて含有している成分を示す。
【0016】
また、本発明で言うポリエステル樹脂はジカルボン酸構成成分とジオール構成成分を重縮合してなるものである。なお、本明細書内において、構成成分とはポリエステルを加水分解することで得ることが可能な最小単位のことを示す。
【0017】
かかるポリエステルを構成するジカルボン酸構成成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、１，５－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、１，８－ナフタレンジカルボン酸、４，４’－ジフェニルジカルボン酸、４，４’－ジフェニルエーテルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、もしくはそのエステル誘導体が挙げられる。
【0018】
また、かかるポリエステルを構成するジオール構成成分としては、エチレングリコール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール等の脂肪族ジオール類、シクロヘキサンジメタノール、スピログリコールなどの脂環式ジオール類、上述のジオールが複数個連なったものなどが挙げられる。
【0019】
本発明において用いられるポリエステル樹脂としては、機械特性、透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレン－２，６－ナフタレンジカルボキシレート（ＰＥＮ）、およびＰＥＴのジカルボン酸成分の一部にイソフタル酸やナフタレンジカルボン酸を共重合したもの、ＰＥＴのジオール成分の一部にシクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、ジエチレングリコールを共重合したポリエステルが好適に用いられ、その中でも特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【0020】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおけるポリエステルフィルムは二軸配向していることが好ましい。二軸配向していることにより、フィルムの機械強度が向上することでシワが入りにくくなり、巻取り性を向上させることができ、また延伸工程において均一な延伸応力をかけることで表面の平滑性をフィルム全域において均一にすることができる。ここでいう二軸配向とは、広角Ｘ線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。ポリエステルフィルムは、一般に未延伸状態の熱可塑性樹脂シートをシート長手方向および幅方向に延伸し、その後熱処理を施し結晶配向を完了させることにより、得ることができる。詳しい製膜条件に関しては後述する。
【0021】
本発明のＰ１層が有する前記Ａ面において、前記ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）測定にて得られる高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数であるＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）を上記の範囲とするための方法としては、例えば、ナノインプリントのようにモールドを用いて表面に形状を転写させる方法、未延伸シートに大気圧グロー放電によるプラズマ表面処理をした後、二軸延伸を行う方法などが挙げられる。インラインでの製膜適応性や微細な突起の形成個数の観点からは、大気圧グロー放電によるプラズマ処理を行い二軸延伸することがより好ましい。
【0022】
大気圧グロー放電によるプラズマ表面処理はポリエステルフィルム製造工程において押出後の未延伸フィルムの状態で処理を施しても延伸後フィルムに処理を施しても良いが、前記Ａ面に平滑性とともに易滑性を付与できる観点から、未延伸フィルムの状態に大気圧グロー放電によるプラズマ表面処理を施すことが最も好ましい。これは大気圧グロー放電によるプラズマ表面処理により非晶ポリエステル部分が削り取られ、その後の延伸製膜工程にて表面に残存した結晶ポリエステル部分が凸部として結晶成長し表面に微細な突起が形成させるためである。
【0023】
ここでいう大気圧とは７００Ｔｏｒｒ～７８０Ｔｏｒｒの範囲である。大気圧グロー放電処理は、相対する電極とアースロール間に処理対象のフィルムを導き、装置中にプラズマ励起性気体を導入し、電極間に高周波電圧を印加することにより、該気体をプラズマ励起させ電極間においてグロー放電を行うものである。これによりフィルム表面が微細に加工（アッシング）され突起が形成する。
【0024】
プラズマ励起性気体とは前記のような条件においてプラズマ励起されうる気体をいう。プラズマ励起性気体としては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガス、窒素、二酸化炭素、酸素、またはテトラフルオロメタンのようなフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。また、プラズマ励起性気体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の混合比で組み合わせてもよい。
【0025】
プラズマ処理における高周波電圧の周波数は１ｋＨｚ～１００ｋＨｚの範囲が好ましい。また、以下方法で求められる放電処理強度（Ｅ値）は、５０～１０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２の範囲で処理することが突起形成の観点から好ましく、より好ましくは１５０～８００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２である。放電処理強度（Ｅ値）が５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２以上であることにより、突起を十分に形成でき、放電処理強度（Ｅ値）が１０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２以下であることにより、ポリエステルフィルムに過度なダメージを与えることを抑制でき表面異物の発生を低減できる。
【0026】
＜放電処理強度（Ｅ値）の求め方＞
Ｅ＝Ｖｐ×Ｉｐ／（Ｓ×Ｗｔ）
Ｅ：Ｅ値（Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２）
Ｖｐ：印加電圧（Ｖ）
Ｉｐ：印加電流（Ａ）
Ｓ：処理速度（ｍ／ｍｉｎ）
Ｗｔ：処理幅（ｍ）
一般的に、大気圧グロー放電処理によってポリエステルフィルム、特にＰＥＴやＰＥＮのように非晶部と結晶部を持つフィルムの表面をアッシングする場合、柔らかい非晶部からアッシングされていく。結晶部と非晶部を細分化させることで、大気圧グロー放電処理することでより微細な突起を形成することができ、前記Ｎ１－１０ｎｍＡを増加させることが出来る。
Ｅ＝Ｖｐ×Ｉｐ／（Ｓ×Ｗｔ）
Ｅ：Ｅ値（Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２）
Ｖｐ：印加電圧（Ｖ）
Ｉｐ：印加電流（Ａ）
Ｓ：処理速度（ｍ／ｍｉｎ）
Ｗｔ：処理幅（ｍ）
一般的に、大気圧グロー放電処理によってポリエステルフィルム、特にＰＥＴやＰＥＮのように非晶部と結晶部を持つフィルムの表面をアッシングする場合、柔らかい非晶部からアッシングされていく。結晶部と非晶部を細分化させることで、大気圧グロー放電処理することでより微細な突起を形成することができ、前記Ｎ１－１０ｎｍＡを増加させることが出来る。
【0027】
本発明のＰ１層が有する前記Ａ面において、前記ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）測定にて得られる高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数であるＮ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）を上記の範囲とするための方法としては、前記Ｐ１層に含有させる粒子の粒子径および量を制御する方法や、主成分とするポリエステル樹脂とは異なる骨格を有するポリエステル樹脂または他の樹脂をアロイすることで樹脂ドメインを形成させポリエステルフィルムとの延伸性の違いから高い突起を形成させる方法などで制御することも好ましく例示される。
【0028】
添加する粒子に関しては、無機粒子、有機粒子どちらを用いても良く、２種類以上の粒子を併用してもよい。無機粒子としては例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化マグネシウム、硫酸バリウム、硫化亜鉛、リン酸カルシウム、アルミナ（αアルミナ、βアルミナ、γアルミナ、δアルミナ）、マイカ、雲母、雲母チタン、ゼオライト、タルク、クレー、カオリン、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、モンモリロナイト、ジルコニア、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイダルシリカなどが挙げられる。有機粒子としては例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂などを構成成分とする有機粒子、コアシェル型有機粒子などが例示できる。
【0029】
前記粒子の平均粒子径は、前記Ａ面に易滑性を付与しながら前記高さ５０ｎｍ以上の突起個数Ｎ５０ｎｍＡを好ましい範囲に制御する観点から、平均粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。
【0030】
また、本発明の前記Ｐ１層が含有する粒子量としては、粒子凝集による高さ５０ｎｍ以上の突起の過剰な形成を防ぐ観点から０．５質量％以下とすることが好ましい。より好ましくは０．２質量％以下、更に好ましくは０．１質量％以下である。
【0031】
前記Ｐ１層にアロイさせる樹脂としては、ポリエステル樹脂と同時に溶融押出しが可能であれば特に制限は無いが、例えば上述にて例示したポリエステル樹脂および共重合体を複数種類用いることや、他樹脂としては特開２０２１－５５０７７号公報などに記載されるポリエーテルイミド樹脂を用いることができる。
【0032】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおいて、Ｐ１層の固有粘度（ＩＶ）をＩＶＰ１（ｄｌ／ｇ）とした場合、ＩＶＰ１（ｄｌ／ｇ）は０．４５以上０．５５以下であることが好ましい。ＩＶは分子鎖の長さを反映した数字であり、分子鎖が短い方が延伸・熱処理を行った際にポリエステル分子が配向・結晶化しやすく、延伸製膜工程での突起形成を促進し易滑性を向上させやすい傾向にある。また製膜後の結晶化が進行することで、後述する粒子を含有する場合でも表面弾性率をより均一にすることで塗布層の削れ発生を抑制することができる。ＩＶＰ１を０．４５ｄｌ／ｇ以上とすることで、ポリエステル樹脂を溶融押出しする際に圧力が掛からず気泡が発生することで製膜が困難になることを抑制することができる。
【0033】
本発明のポリエステルフィルムの前記Ａ面において、後述のＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）測定にて得られるＡ面の有する高さ１０ｎｍ以上の突起の最大弾性率をＦＭＡＸ（ＧＰａ）、高さ１０ｎｍ未満における平均弾性率をＦＡＶＥ（ＧＰａ）とした場合に、ＦＭＡＸ／ＦＡＶＥが５０以下であることが好ましい。ＦＭＡＸ／ＦＡＶＥは、上述の粒子添加や樹脂アロイによって形成する高さ１０ｎｍ以上の突起部分の表面弾性率と主成分であるポリエステル樹脂の表面弾性率の比率を表した値であり、前記Ａ面の表面弾性率の均一性を反映した値である。
【0034】
前記ＦＭＡＸ／ＦＡＶＥを５０以下とすることで、前記Ａ面に存在する高い突起の弾性率と地肌のポリエステル樹脂との差を小さくすることで、前記Ａ面と前記Ｂ面を有する塗布層が接触する際に面全体として均一な弾性変形を引き起こすため、局所的な高弾性部に引っかかり塗布層が削れることを抑制することができる。ＦＭＡＸ／ＦＡＶＥのより好ましい範囲としては３０以下であり、更に好ましくは１０以下である。前記Ａ面に高さ１０ｎｍ以上の突起が存在しない場合は、ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）測定よって得られる高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の領域における突起の弾性率の最大値をＦＭＡＸとする。詳しくは後述する。
【0035】
（塗布層：Ｐ２層）
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおける前記Ａ面とは反対に形成される塗布層をＰ２層とした場合、帯電防止剤や離型剤から選ばれる少なくとも１種類以上の機能性添加剤（Ａ）と、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、アクリル樹脂、シリコーン樹脂から選ばれる少なくとも１種類以上の樹脂または化合物（Ｂ）と粒子成分（Ｃ）とを含有する塗料組成物を用いて構成されることが好ましい。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおける前記Ａ面とは反対に形成される塗布層をＰ２層とした場合、帯電防止剤や離型剤から選ばれる少なくとも１種類以上の機能性添加剤（Ａ）と、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、アクリル樹脂、シリコーン樹脂から選ばれる少なくとも１種類以上の樹脂または化合物（Ｂ）と粒子成分（Ｃ）とを含有する塗料組成物を用いて構成されることが好ましい。
【0036】
＜機能性添加剤（Ａ）＞
本発明における塗布層（Ｐ２層）の塗料組成物は、帯電防止剤や離型剤から選ばれる少なくとも１種類以上の機能性添加剤（Ａ）を含有させることが好ましい。これは、後述する塗布層表面（Ｂ面）の表面自由エネルギーを制御するためだけではなく、ドライフィルムレジスト用基材フィルムとして用いる場合に、離型剤であればフィルム搬送・工程ロールとの易滑性が向上し、帯電防止剤であればフィルムロール巻き出し時にフィルム表面への異物付着の抑制を達成することが可能であるからである。
本発明における塗布層（Ｐ２層）の塗料組成物は、帯電防止剤や離型剤から選ばれる少なくとも１種類以上の機能性添加剤（Ａ）を含有させることが好ましい。これは、後述する塗布層表面（Ｂ面）の表面自由エネルギーを制御するためだけではなく、ドライフィルムレジスト用基材フィルムとして用いる場合に、離型剤であればフィルム搬送・工程ロールとの易滑性が向上し、帯電防止剤であればフィルムロール巻き出し時にフィルム表面への異物付着の抑制を達成することが可能であるからである。
【0037】
（離型剤）
本発明において用いることのできる離型剤としては、長鎖アルキル基含有樹脂、オレフィン樹脂、フッ素化合物、ワックス系化合物などが挙げられる。中でも、長鎖アルキル基含有樹脂は、良好な剥離性を付与できる点で好ましい。
本発明において用いることのできる離型剤としては、長鎖アルキル基含有樹脂、オレフィン樹脂、フッ素化合物、ワックス系化合物などが挙げられる。中でも、長鎖アルキル基含有樹脂は、良好な剥離性を付与できる点で好ましい。
【0038】
長鎖アルキル基含有化合物は市販されているものを使用してもよく、具体的には、アシオ産業社製の長鎖アルキル系化合物である“アシオレジン”（登録商標）シリーズ、ライオン・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製の長鎖アルキル化合物である“ピーロイル”シリーズ、中京油脂社製の長鎖アルキル系化合物の水性分散体である“レゼム”シリーズなどを使用することができる。前記離型剤（Ａ）は、炭素数１２以上のアルキル基を有することが好ましく、炭素数１６以上のアルキル基を有することがより好ましい。アルキル基の炭素数を１２以上にすることで、疎水性が高まることとなり、離型剤（Ａ）として十分な離型性能を発現させることができる。アルキル基の炭素数が１２未満であると、離型性能が不十分なものとなる恐れがある。アルキル基の炭素数の上限は特に限定されるものではないが、２５以下であると製造が容易であるため好ましい。
【0039】
前記炭素数１２以上のアルキル基を有する樹脂は、ポリメチレンの主鎖に炭素数１２以上のアルキル基の側鎖を有する樹脂であることがより好ましい。主鎖がポリメチレンであることで、樹脂全体の親水基が少なくなるため、離型剤（Ａ）の離型効果をより優れたものとすることができる。
【0040】
なお、炭素数１２のアルキル基の含有有無については積層フィルムからも、例えばＴＯＦ－ＳＩＭＳ（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ：飛行時間型二次イオン質量分析法）にて得られる信号の内、アルキル基に相当する物の強度を用いて評価することが出来る。このとき、イオンスパッタ法による切削法を併用することで深さ方向に連続的に測定を行うことが可能で有り、アルキル基含有化合物の分布状態についても評価することが出来る。
【0041】
（帯電防止剤）
本発明において用いることのできる帯電防止剤としては、ポリスチレンスルホン酸共重合体や、第３級アミノ基や第４級アンモニウム基をポリマー骨格内に有するイオン導電タイプでも、ポリチオフェン系化合物、ポリアニリン系化合物、アンチモンドーピングした酸化スズ系化合物などの電子伝導タイプの帯電防止剤のいずれでもよい。中でもポリチオフェン系化合物と遊離酸状態の酸性高分子であるポリスチレンスルホン酸とを組合せが入手しやすく安価で使いやすい。
本発明において用いることのできる帯電防止剤としては、ポリスチレンスルホン酸共重合体や、第３級アミノ基や第４級アンモニウム基をポリマー骨格内に有するイオン導電タイプでも、ポリチオフェン系化合物、ポリアニリン系化合物、アンチモンドーピングした酸化スズ系化合物などの電子伝導タイプの帯電防止剤のいずれでもよい。中でもポリチオフェン系化合物と遊離酸状態の酸性高分子であるポリスチレンスルホン酸とを組合せが入手しやすく安価で使いやすい。
【0042】
ポリチオフェン系導電体化合物としては、例えば、チオフェン環の３位と４位の位置が置換された構造を有する化合物などを用いることができる。更にはチオフェン環の３位と４位の炭素原子に酸素原子が結合した化合物を好適に用いることができる。該炭素原子に直接、水素原子あるいは炭素原子が結合したものは、塗液の水性化が容易でない場合がある。上記化合物は、例えば、特開２０００－６３２４号公報、欧州特許第６０２７１３号、米国特許第５３９１４７２号に開示された方法により製造することができるが、これら以外の方法であってもよい。
【0043】
例えば、３，４－ジヒドロキシチオフェン－２，５、－ジカルボキシエステルのアルカリ金属塩を出発物質として、３，４－エチレンジオキシチオフェンを得た後、ポリスチレンスルホン酸水溶液にペルオキソ二硫酸カリウムと硫酸鉄と、先に得た３，４－エチレンジオキシチオフェンを導入して反応させることにより、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）などのポリチオフェンに、ポリスチレンスルホン酸などの酸性ポリマーが複合体化した組成物を得ることができる。
【0044】
またポリ－３，４－エチレンジオキシチオフェン及びポリスチレンスルホン酸を含む水性の塗料組成物として、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社（ドイツ国）から、“Ｂａｙｔｒｏｎ”Ｐとして販売されているものなどを用いることができる。
【0045】
一方、遊離酸状態の酸性高分子としては、例えば高分子カルボン酸、あるいは、高分子スルホン酸、ポリビニルスルホン酸などが挙げられる。高分子カルボン酸としては、例えば、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリマレイン酸が例示される。また、高分子スルホン酸としては、例えば、ポリスチレンスルホン酸が例示され、特に、ポリスチレンスルホン酸が帯電防止性の点で好ましい。なお、遊離酸は、一部が中和された塩の形をとってもよい。また、共重合可能な他のモノマー、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレンなどと共重合した形で用いることもできる。高分子カルボン酸や高分子スルホン酸の分子量は特に限定されないが、塗剤の安定性や帯電防止性の点で、その重量平均分子量は１０００以上１００００００以下であることが好ましく、より好ましくは５０００以上１５００００以下である。また、発明の特性を阻害しない範囲で、一部、リチウム塩やナトリウム塩などのアルカリ塩やアンモニウム塩などを含んでもよい。ポリ陰イオンが中和された塩の場合も、トーパントとして作用すると考えられる。これは、非常に強い酸として機能するポリスチレンスルホン酸とアンモニウム塩は、中和後の平衡反応の進行により、酸性サイドに平衡がずれるためである。
【0046】
＜樹脂または化合物（Ｂ）＞
本発明の前記Ｐ２層において用いることのできる樹脂または化合物（Ｂ）としては、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。
本発明の前記Ｐ２層において用いることのできる樹脂または化合物（Ｂ）としては、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。
【0047】
樹脂または化合物（Ｂ）として用いることができるポリエステル樹脂としては、主鎖あるいは側鎖にエステル結合を有するもので、ジカルボン酸とジオールから重縮合して得られるものが好ましい。
【0048】
ポリエステル樹脂の原料となるジカルボン酸としては、芳香族、脂肪族、脂環族のジカルボン酸が使用できる。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、フタル酸、２，５－ジメチルテレフタル酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、１，２－ビスフェノキシエタン－ｐ，ｐ’－ジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを用いることができる。脂肪族及び脂環族のジカルボン酸としては、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ドデカンジオン酸、ダイマー酸、１，３－シクロペンタンジカルボン酸、１，２－シクロヘキサンジカルボン酸、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸など、及びそれらのエステル形成性誘導体を用いることができる。
【0049】
ポリエステル樹脂の原料となるジオール成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，３－プロパンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、１，１０－デカンジオール、２，４－ジメチル－２－エチルヘキサン－１，３－ジオール、ネオペンチルグリコール、２－エチル－２－ブチル－１，３－プロパンジオール、２－エチル－２－イソブチル－１，３－プロパンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、２，２，４－トリメチル－１，６－ヘキサンジオール、１，２－シクロヘキサンジメタノール、１，３－シクロヘキサンジメタノール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、２，２，４，４－テトラメチル－１，３－シクロブタンジオール、４，４’－チオジフェノール、ビスフェノールＡ、４，４’－メチレンジフェノール、４，４’－（２－ノルボルニリデン）ジフェノール、４，４’－ジヒドロキシビフェノール、ｏ－、ｍ－、及びｐ－ジヒドロキシベンゼン、４，４’－イソプロピリデンフェノール、４，４’－イソプロピリデンビンジオール、シクロペンタン－１，２－ジオール、シクロヘキサン－１，２’－ジオール、シクロヘキサン－１，２－ジオール、シクロヘキサン－１，４－ジオールなどを用いることができる。
【0050】
また、ポリエステル樹脂として、変性ポリエステル共重合体、例えば、アクリル、ウレタン、エポキシなどで変性したブロック共重合体、グラフト共重合体などを用いることも可能である。
【0051】
樹脂または化合物（Ｂ）として用いることができるエポキシ樹脂としては、例えば、ソルビトールポリグリシジルエーテル系架橋剤、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル系架橋剤、ジグリセロールポリグリシジルエーテル系架橋剤及びポリエチレングリコールジグリシジルエーテル系架橋剤などを用いることができる。エポキシ樹脂として、市販されているものを使用してもよく、例えば、ナガセケムテック株式会社製エポキシ化合物“デナコール”（登録商標）ＥＸ－６１１、ＥＸ－６１４、ＥＸ－６１４Ｂ、ＥＸ－５１２、ＥＸ－５２１、ＥＸ－４２１、ＥＸ－３１３、ＥＸ－８１０、ＥＸ－８３０、ＥＸ－８５０など）、坂本薬品工業株式会社製のジエポキシ・ポリエポキシ系化合物（ＳＲ－ＥＧ、ＳＲ－８ＥＧ、ＳＲ－ＧＬＧなど）、大日本インキ工業株式会社製エポキシ架橋剤“ＥＰＩＣＬＯＮ”（登録商標）ＥＭ－８５－７５Ｗ、あるいはＣＲ－５Ｌなどを好適に用いることができ、中でも、水溶性を有するものが好ましく用いられる。
【0052】
樹脂または化合物（Ｂ）として用いることができるメラミン樹脂としては、例えば、メラミン、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得られるメチロール化メラミン誘導体、メチロール化メラミンに低級アルコールを反応させて部分的あるいは完全にエーテル化した化合物、及びこれらの混合物などを用いることができる。また、メラミン樹脂としては、単量体または２量体以上の多量体からなる縮合物のいずれでもよく、これらの混合物でもよい。エーテル化に用いられる低級アルコールとしては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブタノール及びイソブタノールなどを用いることができる。官能基としては、イミノ基、メチロール基、あるいはメトキシメチル基やブトキシメチル基等のアルコキシメチル基を１分子中に有するもので、イミノ基型メチル化メラミン樹脂、メチロール基型メラミン樹脂、メチロール基型メチル化メラミン樹脂及び完全アルキル型メチル化メラミン樹脂などである。その中でも、メチロール化メラミン樹脂が最も好ましく用いられる。
【0053】
また、樹脂または化合物（Ｂ）として用いることができるオキサゾリン化合物は、該化合物中に官能基としてオキサゾリン基を有するものであり、オキサゾリン基を含有するモノマーを少なくとも１種以上含み、かつ、少なくとも１種の他のモノマーを共重合させて得られるオキサゾリン基含有共重合体からなるものが好ましい。
【0054】
オキサゾリン基を含有するモノマーとしては、２－ビニル－２－オキサゾリン、２－ビニル－４－メチル－２－オキサゾリン、２－ビニル－５－メチル－２－オキサゾリン、２－イソプロペニル－２－オキサゾリン、２－イソプロペニル－４－メチル－２－オキサゾリン及び２－イソプロペニル－５－エチル－２－オキサゾリンなどを用いることができ、これらの１種または２種以上の混合物を使用することもできる。中でも、２－イソプロペニル－２－オキサゾリンが工業的にも入手しやすく好適である。
【0055】
オキサゾリン化合物において、オキサゾリン基を含有するモノマーに対して用いられる少なくとも１種の他のモノマーは、該オキサゾリン基を含有するモノマーと共重合可能なモノマーであり、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸－２－エチルヘキシル、メタクリル酸－２－エチルヘキシルなどのアクリル酸エステルあるいはメタクリル酸エステル類、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸などの不飽和カルボン酸類、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどの不飽和ニトリル類、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ－メチロールアクリルアミド、Ｎ－メチロールメタクリルアミドなどの不飽和アミド類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、エチレン、プロピレンなどのオレフィン類、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニルなどの含ハロゲン－α，β－不飽和モノマー類、スチレン及びα－メチルスチレンなどのα，β－不飽和芳香族モノマー類などを用いることができ、これらは１種または２種以上の混合物を使用することもできる。
【0056】
また、樹脂または化合物（Ｂ）として用いることができるカルボジイミド化合物は、該化合物中に官能基としてカルボジイミド基、またはその互変異性の関係にあるシアナミド基を分子内に１個または２個以上有する化合物である。このようなカルボジイミド化合物の具体例としては、ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド、ジシクロヘキシルカルボジイミド、テトラメチルキシリレンカルボジイミド及びウレア変性カルボジイミド等を挙げることができ、これらは１種または２種以上の混合物を使用することもできる。
【0057】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの塗布層は、樹脂または化合物（Ｂ）としてイソシアネート化合物を含んでいても良い。イソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン－４，４’－ジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレン－１，６－ジイソシアネート、１，６－ジイソシアネートヘキサン、トリレンジイソシアネートとヘキサントリオールの付加物、トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンの付加物、ポリオール変性ジフェニルメタン－４，４’－ジイソシアネート、カルボジイミド変性ジフェニルメタン－４，４’－ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５－ナフタレンジイソシアネート、３，３’－ビトリレン－４，４’ジイソシアネート、３，３’ジメチルジフェニルメタン－４，４’－ジイソシアネート、メタフェニレンジイソシアネートなどが挙げられる。
【0058】
さらに、イソシアネート基は水と反応し易いため、塗剤のポットライフの点で、イソシアネート基をブロック剤などでマスクしたブロックイソシアネート系化合物などを好適に用いることができる。この場合、ポリエステルフィルムに塗料組成物を塗布した後の乾燥工程において熱がかかることで、ブロック剤が解離し、イソシアネート基が露出する結果、架橋反応が進行することになる。
【0059】
樹脂または化合物（Ｂ）として用いることができるアクリル樹脂は、特に限定されることはないが、アルキルメタクリレート及び／またはアルキルアクリレートから構成されるものが好ましい。
【0060】
アルキルメタクリレート及び／またはアルキルアクリレートとしては、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ－ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｎ－ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシプロピル、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ－ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｎ－ヘキシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸２－エチルヘキシル、アクリル酸２－ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、マレイン酸、イタコン酸、アクリルアミド、Ｎ－メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミドなどを用いるのが好ましい。これらは１種もしくは２種以上を用いることができる。
【0061】
また、樹脂または化合物（Ｂ）として用いることができるウレタン樹脂は、ポリヒドロキシ化合物とポリイソシアネート化合物を、乳化重合、懸濁重合などの公知のウレタン樹脂の重合方法によって反応させて得られる樹脂であることが好ましい。
【0062】
ポリヒドロキシ化合物としては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレン・プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、テトラメチレングリコール、１，５－ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリカプトラクトン、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリヘキサメチレンセバケート、ポリテトラメチレンアジペート、ポリテトラメチレンセバケート、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ポリカーボネートジオール、グリセリンなどを挙げることができる。
【0063】
ポリイソシアネート化合物としては、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートとトリメチレンプロパンの付加物、ヘキサメチレンジイソシアネートとトリメチロールエタンの付加物などを用いることができる。
【0064】
樹脂または化合物（Ｂ）として用いることができるシリコーン樹脂は、硬化型シリコーン樹脂を主成分とするタイプでもよく、変性シリコーン樹脂を主成分とするタイプでもよい。硬化型シリコーン樹脂の種類としては付加型・縮合型・紫外線硬化型・電子線硬化型・無溶剤型、熱と紫外線硬化併用型等、何れの硬化反応タイプでも用いることができる。変性シリコーン樹脂の種類としては、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキル樹脂などの有機樹脂とのグラフト重合等を行い得られる変性シリコーン樹脂でもよい。
【0065】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの塗布層をなす塗料組成物において、塗布層の製膜工程、加工工程での削れを抑制する観点から、メラミン樹脂、イソシアネート化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物から選ばれる少なくとも１種類以上を含有させ、塗布層内の架橋構造を構築することで塗布層の強度を向上させることが好ましい。
【0066】
＜粒子成分（Ｃ）＞
本発明の二軸延伸ポリエステルフィルムの塗布層をなす塗料組成物は、機能性添加剤（Ａ）と樹脂または化合物（Ｂ）のほかに、粒子成分（Ｃ）を含むことで二軸配向ポリエステルフィルムの易滑性を向上させることができる。
本発明の二軸延伸ポリエステルフィルムの塗布層をなす塗料組成物は、機能性添加剤（Ａ）と樹脂または化合物（Ｂ）のほかに、粒子成分（Ｃ）を含むことで二軸配向ポリエステルフィルムの易滑性を向上させることができる。
【0067】
本発明において用いられる粒子成分（Ｃ）としては、ホウ素（Ｂ）、ケイ素（Ｓｉ）、ヒ素（Ａｓ）、テルル（Ｔｅ）及びアスタチン（Ａｔ）を結ぶ斜めの線上および左に位置する元素の酸化物微粒子を好適に用いることが出来る。
【0068】
このような粒子成分（Ｃ）としては、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＣｅＯ２、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、インジウムドープ酸化錫（ＩＴＯ）、リンドープ酸化錫（ＰＴＯ）、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、などが挙げられる。
【0069】
これらの粒子成分（Ｃ）は１種を単独で用いても良く、２種以上を組合せて用いてもよい。分散安定性や屈折率の観点から、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２が特に好ましい。
【0070】
ここで、該粒子成分（Ｃ）の数平均粒子径について説明する。ここで数平均粒子径とは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により求めた粒子径をいう。倍率は５０万倍とし、その画面に存在する１０個の粒子の外径を、１０視野について合計１００個の粒子を測定した数平均粒子径である。ここで外径とは、粒子の最大の径（つまり粒子の長径であり、粒子中の最も長い径を示す）を表し、内部に空洞を有する粒子の場合も同様に、粒子の最大の径を表す。
【0071】
本発明の二軸延伸ポリエステルフィルムの塗布層（Ｐ２層）に用いる粒子成分（Ｃ）は、平均一次粒子径が３ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、最も好ましくは５０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下である。該粒子成分（Ｃ）の平均一次粒子径を３ｎｍ以上にすることで塗布層表面に突起を形成させ前記Ｂ面の工程金属ロールとの易滑性を向上させるとともにフィルム両面の易滑性を向上させることができ、また粒子同士が凝集し塗布層内に局所的に点在することで塗布層の削れを誘発することを防ぐことができる。一方、該粒子成分（Ｃ）の平均一次粒子径を３００ｎｍ以下とすることで、ドライフィルムレジスト用工程フィルムとして使用した場合でも微細配線向けレジスト特性の低下を最小限に留めることが出来る。
【0072】
粒子成分（Ｃ）の製造方法は、例えば粒子成分（Ｃ）をアクリル樹脂で表面処理を施す場合の方法としては、以下の（ｉ）～（ｉｖ）の方法が例示される。なお、本発明において、表面処理とは、粒子成分（Ｃ）の表面の全部または一部にアクリル樹脂を吸着・付着させる処理をいう。
（ｉ）粒子成分（Ｃ）とアクリル樹脂をあらかじめ混合した混合物を溶媒中に添加した後、分散する方法。
（ｉｉ）溶媒中に、粒子成分（Ｃ）とアクリル樹脂を順に添加して分散する方法。
（ｉｉｉ）溶媒中に、粒子成分（Ｃ）とアクリル樹脂をあらかじめ分散し、えられた分散体を混合する方法。
（ｉｖ）溶媒中に、粒子成分（Ｃ）を分散した後、得られた分散体に、アクリル樹脂を添加する方法。
（ｉ）粒子成分（Ｃ）とアクリル樹脂をあらかじめ混合した混合物を溶媒中に添加した後、分散する方法。
（ｉｉ）溶媒中に、粒子成分（Ｃ）とアクリル樹脂を順に添加して分散する方法。
（ｉｉｉ）溶媒中に、粒子成分（Ｃ）とアクリル樹脂をあらかじめ分散し、えられた分散体を混合する方法。
（ｉｖ）溶媒中に、粒子成分（Ｃ）を分散した後、得られた分散体に、アクリル樹脂を添加する方法。
【0073】
これらのいずれの方法によっても目的とする効果を得ることができ、また表面処理を行う樹脂はアクリル樹脂に限らず上述の樹脂においても適用することができる。
【0074】
また、分散を行う装置としては、ディゾルバー、ハイスピードミキサー、ホモミキサー、ミーダー、ボールミル、ロールミル、サンドミル、ペイントシェーカー、ＳＣミル、アニュラー型ミル、ピン型ミル等が使用できる。
【0075】
また、分散方法としては、上記装置を用いて、回転軸を周速５～１５ｍ／ｓで回転させる。回転時間は５～１０時間である。
【0076】
また、分散時に、ガラスビーズ等の分散ビーズを用いることが分散性を高める点でより好ましい。ビーズ径は、好ましくは０．０５～０．５ｍｍ、より好ましくは０．０８～０．５ｍｍ、特に好ましくは０．０８～０．２ｍｍである。混合、攪拌する方法は、容器を手で振って行ったり、マグネチックスターラーや攪拌羽根を用いたり、超音波照射、振動分散などを行うことができる。
【0077】
塗布層における粒子成分（Ｃ）の含有量は、塗布層全体に対して、０．５質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。より好ましくは、１質量％以上７質量％以下である。粒子成分（Ｃ）の含有量を、樹脂層全体に対して、０．５質量％以上１０質量％以下とすることで、該塗布層の造膜性を損なうことなくＢ面に粒子に由来する表面突起を形成しＢ面の工程金属ロールとフィルム両面の易滑性を向上することができる。その結果、塗布層の削れおよび粒子脱落の抑制と易滑性とを十分に両立し発現させることが可能となる。
【0078】
本発明における前記Ｐ２層の厚みをＴＰ２（μｍ）とした場合にＴＰ２は０．０１以上０．２０以下であることが好ましい。前記ＴＰ２（μｍ）を０．０１以上とすることで、後述する塗布層表面の濡れ性を制御できると共に含有する粒子成分（Ｃ）の脱落を防ぐことができる。また、前記ＴＰ２（μｍ）を０．２０以下とすることで、含有する粒子による突起を十分に形成させることができ、また本発明の二軸配向ポリエステルフィルムをドライフィルムレジスト用工程フィルムとして用いる場合に、塗布層に含有される粒子に由来した微細配線向けレジスト特性の低下を抑制できる。
【0079】
本発明における前記Ｐ２層を構成する手法は、前記の塗料組成物を用いる場合にはポリエステルフィルム製造後に塗工を行うオフコート手法やポリエステルフィルム製造工程中で塗工および乾燥を行うインラインコート手法のどちらも用いることができるが、二軸延伸ポリエステルフィルムにおいてＰ２層と接する層に粒子が含有されていない場合は、フィルム製膜時の易滑性を付与する観点からはインラインコート手法を用いることが好ましい。
【0080】
（塗布層表面：Ｂ面）
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの塗布層（Ｐ２層）の表面の濡れ性は前記Ａ面と異なることが好ましい。具体的には、前記Ａ面の表面自由エネルギーをＥＡ（ｍＮ／ｍ）および、前記Ｂ面の表面自由エネルギーをＥＢ（ｍＮ／ｍ）とした場合に、Ａ面とＢ面の表面自由エネルギー差の絶対値である｜ＥＡ－ＥＢ｜（ｍＮ／ｍ）は５以上であることが好ましい。前記｜ＥＡ－ＥＢ｜（ｍＮ／ｍ）が５以上であることで、二軸延伸ポリエステルフィルムの両面が密着することを抑制することで易滑性が向上する傾向にある。前記Ａ面とＢ面の表面自由エネルギー差｜ＥＡ－ＥＢ｜（ｍＮ／ｍ）のより好ましい範囲としては１０以上であり、更に好ましくは２０以上である。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの塗布層（Ｐ２層）の表面の濡れ性は前記Ａ面と異なることが好ましい。具体的には、前記Ａ面の表面自由エネルギーをＥＡ（ｍＮ／ｍ）および、前記Ｂ面の表面自由エネルギーをＥＢ（ｍＮ／ｍ）とした場合に、Ａ面とＢ面の表面自由エネルギー差の絶対値である｜ＥＡ－ＥＢ｜（ｍＮ／ｍ）は５以上であることが好ましい。前記｜ＥＡ－ＥＢ｜（ｍＮ／ｍ）が５以上であることで、二軸延伸ポリエステルフィルムの両面が密着することを抑制することで易滑性が向上する傾向にある。前記Ａ面とＢ面の表面自由エネルギー差｜ＥＡ－ＥＢ｜（ｍＮ／ｍ）のより好ましい範囲としては１０以上であり、更に好ましくは２０以上である。
【0081】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおけるＡ面とＢ面の表面自由エネルギー差は｜ＥＡ－ＥＢ｜（ｍＮ／ｍ）が５以上であればどちらの面の表面自由エネルギーが大きくても良く、ＥＡ－ＥＢ（ｍＮ／ｍ）が５以上または－５以下であることが好ましく、より好ましくは１０以上または－１０以下であり、更に好ましくは２０以上または－２０以下である。
【0082】
（中間層：Ｐ３層）
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは前記Ｐ１層および塗布層（Ｐ２層）の間にＰ３層を設けてもよく、例えば、Ｐ１層に粒子を含有させる場合はポリエステルフィルムの光学特性を向上させる観点から、前記Ｐ１層とＰ２層の間に粒子を含有しないＰ３層を設けたＰ１層／Ｐ３層／Ｐ２層の３層構成とすることが好ましい。更に、Ｐ１層を構成するポリエステル樹脂の固有粘度を前述の好ましい範囲に制御する場合には、ポリエステルフィルム全体の機械特性を向上させる観点から、前記Ｐ３層は固有粘度（ＩＶ）が０．５５以上であるポリエステル樹脂から構成されたＰ１層／Ｐ３層／Ｐ２層の３層構成とすることが好ましい。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは前記Ｐ１層および塗布層（Ｐ２層）の間にＰ３層を設けてもよく、例えば、Ｐ１層に粒子を含有させる場合はポリエステルフィルムの光学特性を向上させる観点から、前記Ｐ１層とＰ２層の間に粒子を含有しないＰ３層を設けたＰ１層／Ｐ３層／Ｐ２層の３層構成とすることが好ましい。更に、Ｐ１層を構成するポリエステル樹脂の固有粘度を前述の好ましい範囲に制御する場合には、ポリエステルフィルム全体の機械特性を向上させる観点から、前記Ｐ３層は固有粘度（ＩＶ）が０．５５以上であるポリエステル樹脂から構成されたＰ１層／Ｐ３層／Ｐ２層の３層構成とすることが好ましい。
【0083】
（二軸配向ポリエステルフィルム）
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおけるポリエステルフィルムは二軸配向していることが好ましい。二軸配向していることにより、フィルムの機械強度が向上することでシワが入りにくくなり、巻取り性が向上させることができ、また延伸工程において均一な延伸応力をかけることで表面の平滑性をフィルム全域において均一にすることができる。ここでいう二軸配向とは、広角Ｘ線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。ポリエステルフィルムは、一般に未延伸状態の熱可塑性樹脂シートをシート長手方向および幅方向に延伸し、その後熱処理を施し結晶配向を完了させることにより、得ることができる。詳しくは後述する。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおけるポリエステルフィルムは二軸配向していることが好ましい。二軸配向していることにより、フィルムの機械強度が向上することでシワが入りにくくなり、巻取り性が向上させることができ、また延伸工程において均一な延伸応力をかけることで表面の平滑性をフィルム全域において均一にすることができる。ここでいう二軸配向とは、広角Ｘ線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。ポリエステルフィルムは、一般に未延伸状態の熱可塑性樹脂シートをシート長手方向および幅方向に延伸し、その後熱処理を施し結晶配向を完了させることにより、得ることができる。詳しくは後述する。
【0084】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおいて、ポリエステルフィルム全体の固有粘度（ＩＶ）は、０．５０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、より好ましくは０．５５ｄｌ／ｇ以上である。ＩＶが０．５０ｄｌ／ｇ以上とすることで、ポリエステル分子鎖が短いことで結晶化が進行し延伸工程で破断が頻発し製膜が困難になることを抑制することができる。
【0085】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、上述の通り、前記Ａ面および前記Ｂ面が互いに最表面となる２層構成（Ｐ１層／Ｐ２層）でもよく、Ｐ１層とＰ２層の間に中間層であるＰ３層を介した少なくとも３層以上の構成（Ｐ１層／Ｐ３層／Ｐ２層）であってもよい。
ポリエステル樹脂から構成されるＰ１層とＰ３層とを積層する方法としては特に制限されないが、後述する共押出法や、製膜途中のフィルムに他の樹脂層原料を押出機に投入して溶融押出して口金から押出しながらラミネートする方法（溶融ラミネート法）、製膜後のフィルム同士を接着剤層とを介して積層する方法などを用いることができ、中でも前述処理による突起形成と積層を同時に行える共押出法が好ましく用いられる。
ポリエステル樹脂から構成されるＰ１層とＰ３層とを積層する方法としては特に制限されないが、後述する共押出法や、製膜途中のフィルムに他の樹脂層原料を押出機に投入して溶融押出して口金から押出しながらラミネートする方法（溶融ラミネート法）、製膜後のフィルム同士を接着剤層とを介して積層する方法などを用いることができ、中でも前述処理による突起形成と積層を同時に行える共押出法が好ましく用いられる。
【0086】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、フィルムロール巻取性の観点から、フィルム両面（前記Ａ面と前記Ｂ面）の静摩擦係数（μｓ）は０．４以上１．３以下が好ましい。前記フィルム両面の静摩擦係数（μｓ）を０．４以上とすることでロール巻取り時に過剰にフィルム同士が滑りロール巻きズレを抑制でき、前記フィルム両面の静摩擦係数（μｓ）を１．３以下とすることでロール巻取り時にフィルム両面が密着することでシワが発生し巻き姿が悪化することを抑制できる。静摩擦係数の更に好ましい範囲としては０．５以上１．１以下である。
【0087】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの全層厚みをＴ（μｍ）とした場合、Ｔは１０以上１００以下であることが好ましい。全層厚みＴ（μｍ）を１０以上とすることで、二軸配向ポリエステルフィルムの製造工程、およびドライフィルムレジスト用工程フィルムとして用いる場合において、加工工程中のレジスト層の塗工工程や高温ラミネート工程、および熱処理工程にてフィルム破れが発生するのを抑制でき、また全層厚みＴ（μｍ）を１００以下とすることで二軸配向ポリエステルフィルムのフィルム剛性が過剰に高まるのを防ぎ、加工性を良好なものとすることができる。全層厚みＴ（μｍ）の更に好ましい範囲としては１５以上１００以下である。
【0088】
（二軸配向ポリエステルフィルムの製造方法）
次に、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの製造方法について例を挙げて説明するが、本発明は、かかる例によって得られる物のみに限定して解釈されるものではない。
次に、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの製造方法について例を挙げて説明するが、本発明は、かかる例によって得られる物のみに限定して解釈されるものではない。
【0089】
本発明に用いられるポリエステルフィルムを得る方法としては、常法による重合方法が採用できる。例えば、テレフタル酸等のジカルボン酸成分またはそのエステル形成性誘導体と、エチレングリコール等のジオール成分またはそのエステル形成性誘導体とを公知の方法でエステル交換反応あるいはエステル化反応させた後、溶融重合反応を行うことによって得ることができる。また、必要に応じ、溶融重合反応で得られたポリエステルを、ポリエステルの融点温度以下にて、固相重合反応を行っても良い。
【0090】
本発明のポリエステルフィルムは、従来公知の製造方法で得ることが出来る。具体的には本発明のポリエステルフィルムは、必要に応じて乾燥した原料を押出機内で加熱溶融し、口金から冷却したキャストドラム上に押し出してシート状に加工する方法（溶融キャスト法）を使用することができる。その他の方法として、原料を溶媒に溶解させ、その溶液を口金からキャストドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して膜状とし、次いでかかる膜層から溶媒を乾燥除去させてシート状に加工する方法（溶液キャスト法）等も使用することができる。
【0091】
２層以上の二軸配向ポリエステルフィルムを溶融キャスト法により製造する場合、二軸配向ポリエステルフィルムを構成する層毎に押出機を用い、各層の原料を溶融せしめ、これらを押出装置と口金の間に設けられた合流装置にて溶融状態で積層したのち口金に導き、口金からキャストドラム上に押し出してシート状に加工する方法（共押出法）が好適に用いられる。該積層シートを、表面温度２０℃以上６０℃以下に冷却されたキャストドラム上で静電気により密着させ冷却固化することで未延伸フィルムを作製する。キャストドラムの表面温度を２０℃以上とすることで未延伸フィルム表面の結晶ポリエステル部分をより増大させることができ、大気圧グロー放電によるプラズマ表面処理による延伸後の微細突起の形成の効果を得ることができる。またキャストドラムの表面温度を６０℃以下とすることで未延伸フィルムのキャストドラムへの粘着を抑制し、フィルム走行方向に厚みムラの少ない未延伸フィルムを得ることができる。キャストドラムの表面温度のより好ましい範囲としては２５℃以上５５℃以下である。
【0092】
次いで、ここで得られた未延伸フィルムに大気圧グロー放電によるプラズマ表面処理などの表面処理を施す。これらの表面処理は未延伸フィルムを得た直後でも、フィルムの走行方向（以下、長手方向と称することがある）に延伸した後でも良いが、本発明では未延伸フィルムに表面処理することが前述の突起形成をより促す観点から好ましい。また、表面処理を施す面はキャストドラムに接していた面（ドラム面）でもキャストドラムに接していない面（非ドラム面）のいずれでも良い。
【0093】
（逐次二軸延伸）
未延伸フィルムを二軸延伸する場合の延伸条件に関しては、本発明のポリエステルフィルムがポリエステルを主成分とする場合、長手方向の延伸としては、未延伸フィルムを７０℃以上に加熱されたロール群に導き、長手方向（縦方向、すなわちフィルムの進行方向）に延伸し、２０℃以上５０℃以下の温度に設定したロール群で冷却することが好ましい。長手方向の延伸における加熱ロール温度の下限についてはシートの延伸性を損なわない限り特に制限はないが、使用するポリエステル樹脂のガラス転移温度を超えることが好ましい。また、長手方向の延伸倍率の好ましい範囲は３倍以上５倍以下である。より好ましい範囲としては３倍以上４倍以下である。長手方向の延伸倍率が３倍以上であると、配向結晶化が進行しフィルム強度を向上することができる。一方で、延伸倍率を５倍以下とすることで延伸に伴うポリエステル樹脂の配向結晶化が過度に進行し脆くなり製膜時の破れが発生することを抑制できる。
未延伸フィルムを二軸延伸する場合の延伸条件に関しては、本発明のポリエステルフィルムがポリエステルを主成分とする場合、長手方向の延伸としては、未延伸フィルムを７０℃以上に加熱されたロール群に導き、長手方向（縦方向、すなわちフィルムの進行方向）に延伸し、２０℃以上５０℃以下の温度に設定したロール群で冷却することが好ましい。長手方向の延伸における加熱ロール温度の下限についてはシートの延伸性を損なわない限り特に制限はないが、使用するポリエステル樹脂のガラス転移温度を超えることが好ましい。また、長手方向の延伸倍率の好ましい範囲は３倍以上５倍以下である。より好ましい範囲としては３倍以上４倍以下である。長手方向の延伸倍率が３倍以上であると、配向結晶化が進行しフィルム強度を向上することができる。一方で、延伸倍率を５倍以下とすることで延伸に伴うポリエステル樹脂の配向結晶化が過度に進行し脆くなり製膜時の破れが発生することを抑制できる。
【0094】
長手方向に延伸した工程フィルム（一軸延伸フィルム）に対し、前記Ａ面とは反対側の面にＰ２層を構成させる塗料組成物を塗布し、その後の幅方向に延伸、乾燥させるインラインコートを行う。塗料組成物の塗布方式は公知の塗布方式を任意で用いることができる。例えばワイヤーバーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ブレードコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法などが挙げられる。
【0095】
長手方向に直角な方向（幅方向）の延伸に関しては、フィルムの両端をクリップで把持しながらテンターに導き、７０℃以上１６０℃以下の温度に加熱された雰囲気中にて、長手方向に直角な方向（幅方向）への３倍以上５倍以下の延伸することが好ましい。
【0096】
塗布層であるＰ２層を設ける上では前記幅方向への延伸を行う際に、延伸倍率に応じて段階的に温度を上げていくことが好ましい。これは幅方向の延伸が進展することでポリエステル樹脂の分子鎖配向が進展し、延伸を行うのに必要な熱量を常に与え続けることで、延伸不良が発生するのを抑制できるだけでは無く、上述の方式にて塗工された塗料組成物を幅方向に均一な厚みで塗布層形成を行うことができるためである。塗布層が均一な厚みで形成されることで、塗布層削れの基点になる局所的に厚みの高い部分の発生や塗布層に含有される粒子の凝集が抑制され粒子の脱落を抑制することができる。段階的な延伸温度の昇温（以降、段階昇温と称する場合がある）を行う具体的な方法としてはテンター内の延伸区間において延伸温度を少なくとも３区間以上に分け、延伸倍率に比例しながら延伸温度を増加することが好ましい。
【0097】
その後、延伸されたフィルムを熱処理し内部の配向構造の安定化を行うことが好ましい。熱処理時にフィルムの受けた熱履歴温度に関しては、後述する示差走査熱量計（ＤＳＣ）にて測定される融点温度の直下に現れる微小吸熱ピーク（Ｔｍｅｔａと称することがある。）温度にて確認することができるが、テンター装置設定温度としてはポリエステル（融点２５５℃）が主成分である場合には、テンター内の最高温度が２００℃以上２５０℃以下であるように設定することが好ましく、他の熱可塑性樹脂を主成分とする際は、樹脂融点－５５℃以下樹脂融点－５℃以下に設定することが好ましい。熱処理温度を２００℃以上とすることで二軸配向ポリエステルフィルムの寸法安定性を向上させることができ、またＰ２層を構成する際に分子間の架橋反応の進行を促進し、より強固な塗布層（Ｐ２層）を形成させることが出来る。また、熱処理温度を２５０℃以下とすることでポリエステルフィルムの融解に伴うフィルム破れの発生を抑制し生産性良く製造することができる。より好ましい範囲としては２２０℃以上２４５℃以下である。
【0098】
熱処理時にフィルムの受けた熱履歴温度を表すＴｍｅｔａの範囲としては、ポリエステル樹脂を主成分とする場合、前述の理由から１９０℃以上２４５℃以下であることが好ましい。より好ましい範囲としては２１０℃以上２４０℃以下である。
【0099】
更に熱処理した後に寸法安定性を付与することを目的として、１％以上６％以下の範囲で弛緩処理（リラックス処理）を行ってもよい。弛緩処理を１％以上とすることで二軸配向ポリエステルフィルムを高温環境下で用いる場合の寸法安定性を向上でき、６％以下とすることで、二軸配向ポリエステルフィルムに適度な張力をかけ続け、厚みムラが悪化するのを防ぐことができる。
【0100】
延伸倍率は、長手方向と幅方向それぞれ３倍以上５倍以下とするが、その面積倍率（長手方向の延伸倍率×幅方向の延伸倍率）は９倍以上２２倍以下であることが好ましく、９以上２０倍以下であることがより好ましい。面積倍率を９倍以上とすることで得られる二軸配向ポリエステルフィルムの分子配向を促進させ耐久性を向上させることができ、面積倍率を２２倍以下とすることで延伸時の破れ発生を抑制することができる。
【0101】
［特性の評価方法］
Ａ．ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）による突起個数評価
高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数Ｎ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）
以下の測定方法によって得られる５μｍ四方視野（測定サイズ：５μｍ×５μｍ、測定面積：２５μｍ２）の前記表面（Ａ面）の画像を、付属の解析ソフト（ＮａｎｏＳｃｏｐｅ Ａｎａｌｙｓｉｓ Ｖｅｒｓｉｏｎ １．４０）を用い解析する。得られるフィルム表面のＨｅｉｇｈｔ Ｓｅｎｓｏｒ画像を下記するＦｌａｔｔｅｎ処理のみを施した後、Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ａｎａｌｙｓｉｓ解析モードを下記の通り設定することで、フィルム表面の基準面が自動的に決定される。基準面とは下記のＦｌａｔｔｅｎ処理条件において決定される高さが０ｎｍの面である。該基準面から、突起高さの閾値（Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ Ｈｅｉｇｈｔ）が１ｎｍ（Ｒ１ｎｍ）での２５μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）をＮ１ｎｍ（個／２５μｍ２）、１０ｎｍ（Ｒ１０ｎｍ）での２５μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）をＮ１０ｎｍ（個／２５μｍ２）としたとき、次の式で求められる値をその測定画像の高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数Ｎ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）とする。
Ｎ１－１０ｎｍＡ（個／ｍｍ２）＝Ｎ１ｎｍ（個／ｍｍ２）－Ｎ１０ｎｍ（個／ｍｍ２）
前記解析を各サンプルにおける２０か所の測定画像全てにおいて行い、その平均値をサンプルのＡ面が有する高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数Ｎ１－１０ｎｍＡ（個／ｍｍ２）とする。
Ａ．ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）による突起個数評価
高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数Ｎ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）
以下の測定方法によって得られる５μｍ四方視野（測定サイズ：５μｍ×５μｍ、測定面積：２５μｍ２）の前記表面（Ａ面）の画像を、付属の解析ソフト（ＮａｎｏＳｃｏｐｅ Ａｎａｌｙｓｉｓ Ｖｅｒｓｉｏｎ １．４０）を用い解析する。得られるフィルム表面のＨｅｉｇｈｔ Ｓｅｎｓｏｒ画像を下記するＦｌａｔｔｅｎ処理のみを施した後、Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ａｎａｌｙｓｉｓ解析モードを下記の通り設定することで、フィルム表面の基準面が自動的に決定される。基準面とは下記のＦｌａｔｔｅｎ処理条件において決定される高さが０ｎｍの面である。該基準面から、突起高さの閾値（Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ Ｈｅｉｇｈｔ）が１ｎｍ（Ｒ１ｎｍ）での２５μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）をＮ１ｎｍ（個／２５μｍ２）、１０ｎｍ（Ｒ１０ｎｍ）での２５μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）をＮ１０ｎｍ（個／２５μｍ２）としたとき、次の式で求められる値をその測定画像の高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数Ｎ１－１０ｎｍＡ（個／２５μｍ２）とする。
Ｎ１－１０ｎｍＡ（個／ｍｍ２）＝Ｎ１ｎｍ（個／ｍｍ２）－Ｎ１０ｎｍ（個／ｍｍ２）
前記解析を各サンプルにおける２０か所の測定画像全てにおいて行い、その平均値をサンプルのＡ面が有する高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数Ｎ１－１０ｎｍＡ（個／ｍｍ２）とする。
【0102】
［ＡＦＭ測定方法］
・装置：Ｂｒｕｋｅｒ社製 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）
Ｄｉｍｅｎｔｉｏｎ Ｉｃｏｎ ｗｉｔｈ ＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・カンチレバー：窒化ケイ素製プローブ ＳｃａｎＡｓｙｓｔ Ａｉｒ
・走査モード：ＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・走査速度：０．９７７Ｈｚ
・走査方向：後述する方法にて作製した測定サンプルの幅方向に走査を行う
・測定視野：５μｍ四方
・サンプルライン：５１２
・Ｐｅａｋ Ｆｏｒｃｅ ＳｅｔＰｏｉｎｔ：０．０１９５Ｖ～０．０２０５Ｖ
・Ｆｅｅｄｂａｃｋ Ｇａｉｎ：１０～２０
・ＬＰ Ｄｅｆｌｅｃｔｉｏｎ ＢＷ：４０ ｋＨｚ
・ＳｃａｎＡｓｙｓｔ Ｎｏｉｓｅ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ： ０．５ｎｍ
・サンプル調整：２３℃、６５％ＲＨ、２４時間静置
・ＡＦＭ測定環境：２３℃、６５％ＲＨ
・測定サンプル作成方法：ＡＦＭ試料ディスク（直径１５ｍｍ）の片面に両面テープを貼りつけ、ＡＦＭ試料ディスクと、約１５ｍｍ×１３ｍｍ（長手方向×幅方向）に切り出した本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの前記表面（測定面）とは逆側の面とを張り合わせ、測定サンプルとした。
・装置：Ｂｒｕｋｅｒ社製 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）
Ｄｉｍｅｎｔｉｏｎ Ｉｃｏｎ ｗｉｔｈ ＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・カンチレバー：窒化ケイ素製プローブ ＳｃａｎＡｓｙｓｔ Ａｉｒ
・走査モード：ＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・走査速度：０．９７７Ｈｚ
・走査方向：後述する方法にて作製した測定サンプルの幅方向に走査を行う
・測定視野：５μｍ四方
・サンプルライン：５１２
・Ｐｅａｋ Ｆｏｒｃｅ ＳｅｔＰｏｉｎｔ：０．０１９５Ｖ～０．０２０５Ｖ
・Ｆｅｅｄｂａｃｋ Ｇａｉｎ：１０～２０
・ＬＰ Ｄｅｆｌｅｃｔｉｏｎ ＢＷ：４０ ｋＨｚ
・ＳｃａｎＡｓｙｓｔ Ｎｏｉｓｅ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ： ０．５ｎｍ
・サンプル調整：２３℃、６５％ＲＨ、２４時間静置
・ＡＦＭ測定環境：２３℃、６５％ＲＨ
・測定サンプル作成方法：ＡＦＭ試料ディスク（直径１５ｍｍ）の片面に両面テープを貼りつけ、ＡＦＭ試料ディスクと、約１５ｍｍ×１３ｍｍ（長手方向×幅方向）に切り出した本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの前記表面（測定面）とは逆側の面とを張り合わせ、測定サンプルとした。
【0103】
・サンプル測定回数：各サンプル同士が少なくとも５μｍ以上離れるように場所を変え、２０回測定を行う。
【0104】
・測定値：測定した２０か所の画像に関して前述の解析を行い、各数値を測定しその平均値をサンプルの持つ各数値として扱う。
［Ｆｌａｔｔｅｎ処理］
・Ｆｌａｔｔｅｎ Ｏｒｄｅｒ：３ｒｄ
・Ｆｌａｔｔｅｎ Ｚ Ｔｈｒｅｓｈｈｏｌｄｉｎｇ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ：Ｎｏ ｔｈｅｒｅｓｈｏｌｄｉｎｇ
・Ｆｉｎｄ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ ｆｏｒ：ｔｈｅ ｗｈｏｌｅ ｉｍａｇｅ
・Ｆｌａｔｔｅｎ Ｚ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ ％：０．００ ％
・Ｍａｒｋ Ｅｘｃｌｕｄｅｄ Ｄａｔａ：Ｙｅｓ
［Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ａｎａｌｙｓｉｓモード設定］
（Ｄｅｔｅｃｔタブ）
・Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ Ｈｅｉｇｈｔ：各値に応じて入力
・Ｆｅａｔｕｒｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ：Ａｂｏｖｅ
・Ｘ Ａｘｉｓ：Ａｂｓｏｌｕｔｅ
・Ｎｕｍｂｅｒ Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ Ｂｉｎｓ：５１２
・Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ Ｆｉｌｔｅｒ Ｃｕｔｏｆｆ：０．００ ｎｍ
・Ｍｉｎ Ｐｅａｋ ｔｏ Ｐｅａｋ：１．００ ｎｍ
・Ｌｅｆｔ Ｐｅａｋ Ｃｕｔｏｆｆ：０．０００００％
・Ｒｉｇｈｔ Ｐｅａｋ Ｃｕｔｏｆｆ：０．０００００％
（Ｍｏｄｉｆｙタブ）
・Ｂｅｕｇｈｂｉｒｈｏｏｄ Ｓｉｚｅ：３
・Ｎｕｍｂｅｒ Ｐｉｘｅｌｓ Ｏｆｆ：１
・一切のＤｉｌａｔｅ／Ｅｒｏｄｅ操作を行わない。
（Ｓｅｌｅｃｔタブ）
・Ｉｍａｇｅ Ｃｕｒｓｏｒ Ｍｏｄｅ：Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｅｌｅｃｔ
・Ｂｏｕｎｄ Ｐａｒｔｉｃｌｅｓ：Ｙｅｓ
・Ｎｏｎ－Ｒｅｐｒｅｓｅｎｔａｔｉｖｅ Ｐａｒｔｉｃｌｅｓ：Ｎｏ
・Ｈｅｉｇｈｔ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ：Ｒｅｌａｔｉｖｅ Ｔｏ Ｍａｘ Ｐｅａｋ
・Ｎｕｍｂｅｒ Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ Ｂｉｎｓ：５０
・前記数値を求めるに際し、解析画像中の特定のピーク、エリアを選択しない。
・Ｄｉａｍｅｔｅｒ、Ｈｅｉｇｈｔ、Ａｒｅａ全てのヒストグラムで特定の場所を選択しない。
［Ｆｌａｔｔｅｎ処理］
・Ｆｌａｔｔｅｎ Ｏｒｄｅｒ：３ｒｄ
・Ｆｌａｔｔｅｎ Ｚ Ｔｈｒｅｓｈｈｏｌｄｉｎｇ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ：Ｎｏ ｔｈｅｒｅｓｈｏｌｄｉｎｇ
・Ｆｉｎｄ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ ｆｏｒ：ｔｈｅ ｗｈｏｌｅ ｉｍａｇｅ
・Ｆｌａｔｔｅｎ Ｚ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ ％：０．００ ％
・Ｍａｒｋ Ｅｘｃｌｕｄｅｄ Ｄａｔａ：Ｙｅｓ
［Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ａｎａｌｙｓｉｓモード設定］
（Ｄｅｔｅｃｔタブ）
・Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ Ｈｅｉｇｈｔ：各値に応じて入力
・Ｆｅａｔｕｒｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ：Ａｂｏｖｅ
・Ｘ Ａｘｉｓ：Ａｂｓｏｌｕｔｅ
・Ｎｕｍｂｅｒ Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ Ｂｉｎｓ：５１２
・Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ Ｆｉｌｔｅｒ Ｃｕｔｏｆｆ：０．００ ｎｍ
・Ｍｉｎ Ｐｅａｋ ｔｏ Ｐｅａｋ：１．００ ｎｍ
・Ｌｅｆｔ Ｐｅａｋ Ｃｕｔｏｆｆ：０．０００００％
・Ｒｉｇｈｔ Ｐｅａｋ Ｃｕｔｏｆｆ：０．０００００％
（Ｍｏｄｉｆｙタブ）
・Ｂｅｕｇｈｂｉｒｈｏｏｄ Ｓｉｚｅ：３
・Ｎｕｍｂｅｒ Ｐｉｘｅｌｓ Ｏｆｆ：１
・一切のＤｉｌａｔｅ／Ｅｒｏｄｅ操作を行わない。
（Ｓｅｌｅｃｔタブ）
・Ｉｍａｇｅ Ｃｕｒｓｏｒ Ｍｏｄｅ：Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｅｌｅｃｔ
・Ｂｏｕｎｄ Ｐａｒｔｉｃｌｅｓ：Ｙｅｓ
・Ｎｏｎ－Ｒｅｐｒｅｓｅｎｔａｔｉｖｅ Ｐａｒｔｉｃｌｅｓ：Ｎｏ
・Ｈｅｉｇｈｔ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ：Ｒｅｌａｔｉｖｅ Ｔｏ Ｍａｘ Ｐｅａｋ
・Ｎｕｍｂｅｒ Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ Ｂｉｎｓ：５０
・前記数値を求めるに際し、解析画像中の特定のピーク、エリアを選択しない。
・Ｄｉａｍｅｔｅｒ、Ｈｅｉｇｈｔ、Ａｒｅａ全てのヒストグラムで特定の場所を選択しない。
【0105】
Ｂ．ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）による表面弾性率評価
（ｉ）高さ１０ｎｍ以上の突起高さにおける最大弾性率ＦＭＡＸ
以下の測定方法によって得られる３０μｍ四方視野の前記表面（Ａ面）の画像を、付属の解析ソフト（ＮａｎｏＳｃｏｐｅ Ａｎａｌｙｓｉｓ Ｖｅｒｓｉｏｎ １．４０）を用い解析する。
得られたフィルム表面のＨｅｉｇｈｔ Ｓｅｎｓｏｒ画像を下記するＦｌａｔｔｅｎ処理のみを施した後に確認される高さ１０ｎｍ以上の高さを持つ最大突起高さを有する突起の位置を確認し、ＤＭＴ Ｍｏｄｕｌｕｓ画像において目的の突起に対応する位置の弾性率を以下の手順で確認する。
まず、ＳｅｃｔｉｏｎモードよりＤＭＴ Ｍｏｄｕｌｕｓ画像を呼び出し、目的とする突起の頂点を通過するＨｏｒｉｚｏｎｔａｌ Ｌｉｎｅを用いたＳｅｃｔｉｏｎ像（２次元グラフ、縦軸：弾性率、横軸：走査測定位置）を表示させ、２次元グラフの数値データを得る。この際、ＤＭＴ Ｍｏｄｕｌｕｓ画像に対しては前述のＦｌａｔｔｅｎ処理は行わない。
前記Ｓｅｃｔｉｏｎ像における目的の突起部分の最大弾性率をＦＭＡＸとして求める。
（ｉ）高さ１０ｎｍ以上の突起高さにおける最大弾性率ＦＭＡＸ
以下の測定方法によって得られる３０μｍ四方視野の前記表面（Ａ面）の画像を、付属の解析ソフト（ＮａｎｏＳｃｏｐｅ Ａｎａｌｙｓｉｓ Ｖｅｒｓｉｏｎ １．４０）を用い解析する。
得られたフィルム表面のＨｅｉｇｈｔ Ｓｅｎｓｏｒ画像を下記するＦｌａｔｔｅｎ処理のみを施した後に確認される高さ１０ｎｍ以上の高さを持つ最大突起高さを有する突起の位置を確認し、ＤＭＴ Ｍｏｄｕｌｕｓ画像において目的の突起に対応する位置の弾性率を以下の手順で確認する。
まず、ＳｅｃｔｉｏｎモードよりＤＭＴ Ｍｏｄｕｌｕｓ画像を呼び出し、目的とする突起の頂点を通過するＨｏｒｉｚｏｎｔａｌ Ｌｉｎｅを用いたＳｅｃｔｉｏｎ像（２次元グラフ、縦軸：弾性率、横軸：走査測定位置）を表示させ、２次元グラフの数値データを得る。この際、ＤＭＴ Ｍｏｄｕｌｕｓ画像に対しては前述のＦｌａｔｔｅｎ処理は行わない。
前記Ｓｅｃｔｉｏｎ像における目的の突起部分の最大弾性率をＦＭＡＸとして求める。
【0106】
（ｉｉ）高さ１０ｎｍ未満の領域における平均弾性率ＦＡＶＥ
前項（ｉ）と同様にして、同一Ｓｅｃｔｉｏｎ像におけるＨｅｉｇｈｔ Ｓｅｎｓｏｒ画像にて高さ１０ｎｍ未満の領域における平均弾性率を走査測定位置に対応した数値の平均値として求めＦＡＶＥを得る。
前項（ｉ）と同様にして、同一Ｓｅｃｔｉｏｎ像におけるＨｅｉｇｈｔ Ｓｅｎｓｏｒ画像にて高さ１０ｎｍ未満の領域における平均弾性率を走査測定位置に対応した数値の平均値として求めＦＡＶＥを得る。
【0107】
（ｉｉｉ）表面弾性率の比率ＦＭＡＸ／ＦＡＶＥ
前項（ｉ）、（ｉｉ）にて求まる同一の走査線上のＦＭＡＸをＦＡＶＥで除することでＦＭＡＸ／ＦＡＶＥを得る。同様の解析を５つの異なるＤＭＴ Ｍｏｄｕｌｕｓ画像、およびＨｅｉｇｈｔ Ｓｅｎｓｏｒ画像のセットに対して実施し、それらの５回の解析値の平均をサンプルの有する表面弾性率の比率ＦＭＡＸ／ＦＡＶＥとする。
・装置：Ｂｒｕｋｅｒ社製 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）
Ｄｉｍｅｎｔｉｏｎ Ｉｃｏｎ ｗｉｔｈ ＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・カンチレバー：ＴＡＰ５２５Ａ
・走査モード：ＱＮＭモード
・走査速度：０．９７７Ｈｚ
・走査方向：前項Ａと同様の方法にて作製した測定サンプルの幅方向に走査を行う
・測定視野：３０μｍ四方
・サンプルライン：５１２
・サンプル調整：２３℃、６５％ＲＨ、２４時間静置
・ＡＦＭ測定環境：２３℃、６５％ＲＨ。
前項（ｉ）、（ｉｉ）にて求まる同一の走査線上のＦＭＡＸをＦＡＶＥで除することでＦＭＡＸ／ＦＡＶＥを得る。同様の解析を５つの異なるＤＭＴ Ｍｏｄｕｌｕｓ画像、およびＨｅｉｇｈｔ Ｓｅｎｓｏｒ画像のセットに対して実施し、それらの５回の解析値の平均をサンプルの有する表面弾性率の比率ＦＭＡＸ／ＦＡＶＥとする。
・装置：Ｂｒｕｋｅｒ社製 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）
Ｄｉｍｅｎｔｉｏｎ Ｉｃｏｎ ｗｉｔｈ ＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・カンチレバー：ＴＡＰ５２５Ａ
・走査モード：ＱＮＭモード
・走査速度：０．９７７Ｈｚ
・走査方向：前項Ａと同様の方法にて作製した測定サンプルの幅方向に走査を行う
・測定視野：３０μｍ四方
・サンプルライン：５１２
・サンプル調整：２３℃、６５％ＲＨ、２４時間静置
・ＡＦＭ測定環境：２３℃、６５％ＲＨ。
【0108】
Ｃ．走査型白色干渉顕微鏡（ＶｅｒｔＳｃａｎ）による評価
二軸配向ポリエステルフィルムより６ｃｍ×６ｃｍのサンプリングを行い、それぞれのサンプルについて、走査型白色干渉顕微鏡（装置：日立ハイテクサイエンス社製 “ＶｅｒｔＳｃａｎ”（登録商標） ＶＳ１５４０）を用い、二軸配向ポリエステルフィルムにおける前記表面を、５０倍対物レンズを使用して測定面積１１３μｍ×１１３μｍで９０視野測定を行う。サンプルセットは、測定Ｙ軸がサンプルフィルムの長手方向（フィルムが巻き取られている方向）となるようにサンプルをステージにセットして測定する。なお、長手方向が分からないサンプルの場合は、測定Ｙ軸がサンプルフィルムの任意の１方向となるようして測定し、その後１２０度回転させた方向となるようして測定し、さらにその後１２０度回転させた方向となるようにして測定し、それぞれの測定結果の平均をそのサンプル有する突起個数とする。また測定するサンプルフィルムは、ゴムパッキンの入った２枚の金属フレームに挟み込むことで、フレーム内のフィルムが張った状態（サンプルのたるみやカールを除した状態）にしてサンプル表面の測定を行う。
二軸配向ポリエステルフィルムより６ｃｍ×６ｃｍのサンプリングを行い、それぞれのサンプルについて、走査型白色干渉顕微鏡（装置：日立ハイテクサイエンス社製 “ＶｅｒｔＳｃａｎ”（登録商標） ＶＳ１５４０）を用い、二軸配向ポリエステルフィルムにおける前記表面を、５０倍対物レンズを使用して測定面積１１３μｍ×１１３μｍで９０視野測定を行う。サンプルセットは、測定Ｙ軸がサンプルフィルムの長手方向（フィルムが巻き取られている方向）となるようにサンプルをステージにセットして測定する。なお、長手方向が分からないサンプルの場合は、測定Ｙ軸がサンプルフィルムの任意の１方向となるようして測定し、その後１２０度回転させた方向となるようして測定し、さらにその後１２０度回転させた方向となるようにして測定し、それぞれの測定結果の平均をそのサンプル有する突起個数とする。また測定するサンプルフィルムは、ゴムパッキンの入った２枚の金属フレームに挟み込むことで、フレーム内のフィルムが張った状態（サンプルのたるみやカールを除した状態）にしてサンプル表面の測定を行う。
【0109】
得られた顕微鏡像について、該顕微鏡に内蔵された表面解析ソフトウェアＶＳ－Ｖｉｅｗｅｒ Ｖｅｒｓｉｏｎ １０．０．３．０にて、下記条件にて画像処理を施すことで算術平均表面粗さ、および各高さの突起個数を求める。
【0110】
（画像処理条件）
下記の順にて画像処理を行う。
・補間処理 ：完全補間
・フィルタ処理：メジアン（３×３ピクセル）
・面補正 ：４次。
下記の順にて画像処理を行う。
・補間処理 ：完全補間
・フィルタ処理：メジアン（３×３ピクセル）
・面補正 ：４次。
【0111】
（ｉ）高さ５０ｎｍ以上の突起個数（Ｎ５０ｎｍＡ）
上記に従い、前記表面（Ａ面）の顕微鏡像観察と画像処理を施した後、該顕微鏡に内蔵された表面解析ソフトウェアＶＳ－Ｖｉｅｗｅｒ Ｖｅｒｓｉｏｎ １０．０．３．０にて、下記条件にて粒子解析処理を行い、５０ｎｍの高さ閾値（Ｒ５０ｎｍ、高さ閾値設定値：０．０５μｍ）にて検出される「粒子解析」画面に表示される粒子の個数（個）を測定面積（１１３μｍ×１１３μｍ）で割ることで高さ５０ｎｍ以上の突起個数（個／ｍｍ２）を求める。
上記に従い、前記表面（Ａ面）の顕微鏡像観察と画像処理を施した後、該顕微鏡に内蔵された表面解析ソフトウェアＶＳ－Ｖｉｅｗｅｒ Ｖｅｒｓｉｏｎ １０．０．３．０にて、下記条件にて粒子解析処理を行い、５０ｎｍの高さ閾値（Ｒ５０ｎｍ、高さ閾値設定値：０．０５μｍ）にて検出される「粒子解析」画面に表示される粒子の個数（個）を測定面積（１１３μｍ×１１３μｍ）で割ることで高さ５０ｎｍ以上の突起個数（個／ｍｍ２）を求める。
【0112】
（粒子解析条件）
下記の条件にて突起解析処理を行う。
・解析種類 ：突解析
・画像補正 ：なし
・処理
高さ閾値 ： ０．０５μｍ
粒子整形 ： なし
基準高さ ： ゼロ面（平均面）
・判定対象
高さ／深さ ： －１００００μｍ≦ｈ≦１００００μｍ
最長径 ： －１００００μｍ≦ｄ≦１００００μｍ
体積 ： Ｖ≧０．００００μｍ３
アスペクト比： ｒ≧０．００００
・ヒストグラム： 分割数 ５０
測定した９０視野すべてにおいて同様の操作を行い、それらの平均値をサンプルの有する前記Ａ面の高さ５０ｎｍ以上の突起個数Ｎ５０ｎｍＡ（個／ｍｍ２）とする。
下記の条件にて突起解析処理を行う。
・解析種類 ：突解析
・画像補正 ：なし
・処理
高さ閾値 ： ０．０５μｍ
粒子整形 ： なし
基準高さ ： ゼロ面（平均面）
・判定対象
高さ／深さ ： －１００００μｍ≦ｈ≦１００００μｍ
最長径 ： －１００００μｍ≦ｄ≦１００００μｍ
体積 ： Ｖ≧０．００００μｍ３
アスペクト比： ｒ≧０．００００
・ヒストグラム： 分割数 ５０
測定した９０視野すべてにおいて同様の操作を行い、それらの平均値をサンプルの有する前記Ａ面の高さ５０ｎｍ以上の突起個数Ｎ５０ｎｍＡ（個／ｍｍ２）とする。
【0113】
（基準高さ：ゼロ面（平均面））
前記、基準高さ（高さ０ｎｍ）設定における「ゼロ面（平均面）」としては、前述の方法により顕微鏡像観察を行い、前述の画像処理を施した得られる測定画像（１１３μｍ×１１３μｍ）において、以下の式より自動的に求まる「高さの平均値（Ａｖｅ）」の平面を用いる。
前記、基準高さ（高さ０ｎｍ）設定における「ゼロ面（平均面）」としては、前述の方法により顕微鏡像観察を行い、前述の画像処理を施した得られる測定画像（１１３μｍ×１１３μｍ）において、以下の式より自動的に求まる「高さの平均値（Ａｖｅ）」の平面を用いる。
【0114】
【数1】
【0115】
・ｌｘ：前述の画像処理を行った各測定画像におけるＸ方向の範囲長さ
・ｌｙ：前述の画像処理を行った各測定画像におけるＹ方向の範囲長さ
・ｈ（ｘ，ｙ）：前述の画像処理を行った測定画像内の各画像点（ｘ，ｙ）における高さ。
・ｌｙ：前述の画像処理を行った各測定画像におけるＹ方向の範囲長さ
・ｈ（ｘ，ｙ）：前述の画像処理を行った測定画像内の各画像点（ｘ，ｙ）における高さ。
【0116】
Ｄ．表面自由エネルギー（ＥＡ、ＥＢ）
まず、積層フィルムを室温２３℃相対湿度６５％の雰囲気中に２４時間放置後する。その後、同雰囲気下で、積層フィルムの樹脂層の表面側に対して、純水、エチレングリコール、ホルムアミド、ジヨードメタンの４種の溶液のそれぞれの接触角を、協和界面科学社製 接触角径ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ ＤＭ－５０１により、それぞれ５点測定する。５点の測定値の最大値と最小値を除いた３点の測定値の平均値をそれぞれの溶液の接触角とする。
まず、積層フィルムを室温２３℃相対湿度６５％の雰囲気中に２４時間放置後する。その後、同雰囲気下で、積層フィルムの樹脂層の表面側に対して、純水、エチレングリコール、ホルムアミド、ジヨードメタンの４種の溶液のそれぞれの接触角を、協和界面科学社製 接触角径ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ ＤＭ－５０１により、それぞれ５点測定する。５点の測定値の最大値と最小値を除いた３点の測定値の平均値をそれぞれの溶液の接触角とする。
【0117】
次に、得られた４種類の溶液の接触角を用いて、畑らによって提案された「固体の表面自由エネルギー（γ）を分散力成分（γＳ
ｄ）、極性力成分（γＳ
ｐ）、及び水素結合力成分（γＳ
ｈ）の３成分に分離し、Ｆｏｗｋｅｓ式を拡張した式（拡張Ｆｏｗｋｅｓ式）」に基づく幾何平均法により、本発明の分散力、極性力、水素結合力及び分散力と極性力の和である表面自由エネルギーを算出する。
【0118】
具体的な算出方法を示す。各記号の意味について下記する。γＳ
Ｌは固体と液体の界面での張力である場合、数式（２）が成立する。
【0119】
γＳ
Ｌ： 樹脂層と表１に記載の既知の溶液の表面自由エネルギー
γＳ ： 樹脂層の表面自由エネルギー
γＬ ： 表１に記載の既知の溶液の表面自由エネルギー
γＳ ｄ： 樹脂層の表面自由エネルギーの分散力成分
γＳ ｐ： 樹脂層の表面自由エネルギーの極性力成分
γＳ ｈ： 樹脂層の表面自由エネルギーの水素結合力成分
γＬ ｄ ： 表１に記載の既知の溶液の表面自由エネルギーの分散力成分
γＬ ｐ ： 表１に記載の既知の溶液の表面自由エネルギーの極性力成分
γＬ ｈ： 表１に記載の既知の溶液の表面自由エネルギーの水素結合力成分
γＳ Ｌ＝γＳ＋γＬ－２（γＳ ｄ・γＬ ｄ）１／２－２（γＳ ｐ・γＬｐ）１／２－２（γＳ ｈ・γＬ ｈ）１／２ ・・・ 数式（２）。
γＳ ： 樹脂層の表面自由エネルギー
γＬ ： 表１に記載の既知の溶液の表面自由エネルギー
γＳ ｄ： 樹脂層の表面自由エネルギーの分散力成分
γＳ ｐ： 樹脂層の表面自由エネルギーの極性力成分
γＳ ｈ： 樹脂層の表面自由エネルギーの水素結合力成分
γＬ ｄ ： 表１に記載の既知の溶液の表面自由エネルギーの分散力成分
γＬ ｐ ： 表１に記載の既知の溶液の表面自由エネルギーの極性力成分
γＬ ｈ： 表１に記載の既知の溶液の表面自由エネルギーの水素結合力成分
γＳ Ｌ＝γＳ＋γＬ－２（γＳ ｄ・γＬ ｄ）１／２－２（γＳ ｐ・γＬｐ）１／２－２（γＳ ｈ・γＬ ｈ）１／２ ・・・ 数式（２）。
【0120】
また、平滑な固体面と液滴が接触角（θ）で接しているときの状態は次式で表現される（Ｙｏｕｎｇの式）。
【0121】
γＳ＝γＳ
Ｌ＋γＬｃｏｓθ ・・・ 数式（３）。
【0122】
これら数式（２）、数式（３）を組み合わせると、次式が得られる。
（γＳ ｄ・γＬ ｄ）１／２＋（γＳ ｐ・γＬ ｐ）１／２＋（γＳ ｈ・γＬ ｈ）１／２＝γＬ（１＋ｃｏｓθ）／２ ・・・ 数式（４）。
（γＳ ｄ・γＬ ｄ）１／２＋（γＳ ｐ・γＬ ｐ）１／２＋（γＳ ｈ・γＬ ｈ）１／２＝γＬ（１＋ｃｏｓθ）／２ ・・・ 数式（４）。
【0123】
実際には、水、エチレングリコール、ホルムアミド、及びジヨードメタンの４種類の溶液に接触角（θ）と、表１に記載の既知の溶液の表面張力の各成分（γＬ
ｄ、γＬ
ｐ、γＬ
ｈ）を数式（４）に代入し、４つの連立方程式を解く。その結果、固体の表面自由エネルギー（γ）、分散力成分（γＳ
ｄ）、極性力成分（γＳ
ｐ）、及び水素結合力成分（γＳ
ｈ）が算出される。
【0124】
Ｅ．フィルム厚み
（ｉ）全層厚み
二軸配向ポリエステルフィルムの全層厚みは、ダイヤルゲージを用い、ＪＩＳ Ｋ７１３０（１９９２年）Ａ－２法に準じて、フィルムを１０枚重ねた状態で任意の５ヶ所について厚さを測定した。その平均値を１０で除してフィルム全層厚みＴ（μｍ）とする。
（ｉ）全層厚み
二軸配向ポリエステルフィルムの全層厚みは、ダイヤルゲージを用い、ＪＩＳ Ｋ７１３０（１９９２年）Ａ－２法に準じて、フィルムを１０枚重ねた状態で任意の５ヶ所について厚さを測定した。その平均値を１０で除してフィルム全層厚みＴ（μｍ）とする。
【0125】
（ｉｉ）積層厚み（ＴＰ１、ＴＰ３）
二軸配向ポリエステルフィルム断面を、フィルム幅方向に平行な方向にミクロトームで切り出す。該断面を走査型電子顕微鏡で５０００～２００００倍の倍率で観察し、積層各層の厚み比率を求める。求めた積層比率と前記（ｉ）項で得た全層フィルム厚みから、各層の厚みを算出する。
二軸配向ポリエステルフィルム断面を、フィルム幅方向に平行な方向にミクロトームで切り出す。該断面を走査型電子顕微鏡で５０００～２００００倍の倍率で観察し、積層各層の厚み比率を求める。求めた積層比率と前記（ｉ）項で得た全層フィルム厚みから、各層の厚みを算出する。
【0126】
（ｉｉｉ）塗布層（Ｐ２）の厚み（ＴＰ２）
二軸配向ポリエステルフィルムを四酸化ルテニウム（ＲｕＯ４）及び／または四酸化オスミウム（ＯｓＯ４）を用いて染色する。二軸配向ポリエステルフィルムを凍結せしめ、フィルム厚み方向に切断し、樹脂層断面観察用の超薄切片サンプルを１０点（１０個）得る。それぞれのサンプル断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：（株）日立製作所製Ｈ７１００ＦＡ型）にて１万～１００万倍で観察し、断面写真を得る。その１０点（１０個）における前記表面を有する離型樹脂層（Ｐ１層）厚みの測定値を平均して、離型樹脂層の厚みＴＰ２（μｍ）とする。
二軸配向ポリエステルフィルムを四酸化ルテニウム（ＲｕＯ４）及び／または四酸化オスミウム（ＯｓＯ４）を用いて染色する。二軸配向ポリエステルフィルムを凍結せしめ、フィルム厚み方向に切断し、樹脂層断面観察用の超薄切片サンプルを１０点（１０個）得る。それぞれのサンプル断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：（株）日立製作所製Ｈ７１００ＦＡ型）にて１万～１００万倍で観察し、断面写真を得る。その１０点（１０個）における前記表面を有する離型樹脂層（Ｐ１層）厚みの測定値を平均して、離型樹脂層の厚みＴＰ２（μｍ）とする。
【0127】
Ｆ．静摩擦係数（μｓ）
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを２３℃、６５％ＲＨにて調湿した後、製膜ライン方向が長手となるように、幅７５ｍｍ、長さ１００ｍｍの矩形状に２枚切り出してサンプルとし、スベリ係数測定装置（型式ＳＴ－２００、（株）テクノニーズ製）を使用し、２３℃６５％ＲＨ雰囲気下にて測定する。該装置の測定試料台上に矩形状サンプルを該装置引っ張り方向が矩形サンプルの長手方向となり、また前記Ａ面側が上になるようにセットし固定する。その上にもう１枚の矩形状サンプルを前記表面が上側、引っ張り方向が長手方向になるように置き、前記Ａ面とその反対面（Ｂ面）とを接触させるとともに、サンプル端部を該装置の加重検出用Ｕゲージに固定する。その後フィルムを静置し、その上に、サンプル接触面が６．５ｃｍ×６．５ｃｍのテフロン（登録商標）樹脂製シートであり荷重が２００ｇの錘を置きサンプル同士を密着させた後、上側のフィルムを以下の条件で引っ張った際の静摩擦係数を測定する。１０回の測定を行い、上位２点と下位２点を除いた６回測定値の平均値をもって静摩擦係数（μｓ）とする。
測定距離：１２ｍｍ
測定速度：２１０ｍｍ／ｍｉｎ。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを２３℃、６５％ＲＨにて調湿した後、製膜ライン方向が長手となるように、幅７５ｍｍ、長さ１００ｍｍの矩形状に２枚切り出してサンプルとし、スベリ係数測定装置（型式ＳＴ－２００、（株）テクノニーズ製）を使用し、２３℃６５％ＲＨ雰囲気下にて測定する。該装置の測定試料台上に矩形状サンプルを該装置引っ張り方向が矩形サンプルの長手方向となり、また前記Ａ面側が上になるようにセットし固定する。その上にもう１枚の矩形状サンプルを前記表面が上側、引っ張り方向が長手方向になるように置き、前記Ａ面とその反対面（Ｂ面）とを接触させるとともに、サンプル端部を該装置の加重検出用Ｕゲージに固定する。その後フィルムを静置し、その上に、サンプル接触面が６．５ｃｍ×６．５ｃｍのテフロン（登録商標）樹脂製シートであり荷重が２００ｇの錘を置きサンプル同士を密着させた後、上側のフィルムを以下の条件で引っ張った際の静摩擦係数を測定する。１０回の測定を行い、上位２点と下位２点を除いた６回測定値の平均値をもって静摩擦係数（μｓ）とする。
測定距離：１２ｍｍ
測定速度：２１０ｍｍ／ｍｉｎ。
【0128】
Ｇ．ポリマー特性
（ｉ）固有粘度（ＩＶ）
オルトクロロフェノール１００ｍｌに、測定試料（ポリエステル樹脂（原料）又は本発明のポリエステルフィルム）を溶解させ（溶液濃度Ｃ（測定試料重量／溶液体積）＝１．２ｇ／１００ｍｌ）、その溶液の２５℃での粘度を、オストワルド粘度計を用いて測定した。また、同様に溶媒の粘度を測定した。得られた溶液粘度、溶媒粘度を用いて、下記式（５）により、［η］を算出し、得られた値をもってポリエステルフィルム全体の固有粘度（ＩＶ）とした。
ηｓｐ／Ｃ＝［η］＋Ｋ［η］２・Ｃ ・・・（５）
（ここで、ηｓｐ＝（溶液粘度／溶媒粘度）－１、Ｋはハギンス定数（０．３４３とする）である。）
なお、測定試料を溶解させた溶液に無機粒子などの不溶物がある場合は、以下の方法を用いて測定を行った。
（１－１）オルトクロロフェノール１００ｍＬに測定試料を溶解させ、溶液濃度が１．２ｇ／１００ｍＬよりも濃い溶液を作成する。ここで、オルトクロロフェノールに供した測定試料の重量を測定試料重量とする。
（１－２）次に、不溶物を含む溶液を濾過し、不溶物の重量測定と、濾過後の濾液の体積測定を行う。
（１－３）濾過後の濾液にオルトクロロフェノールを追加して、（測定試料重量（ｇ）－不溶物の重量（ｇ））／（濾過後の濾液の体積（ｍＬ）＋追加したオルトクロロフェノールの体積（ｍＬ））が、１．２ｇ／１００ｍＬとなるように調整する。
（例えば、測定試料重量２．０ｇ／溶液体積１００ｍＬの濃厚溶液を作成したときに、該溶液を濾過したときの不溶物の重量が０．２ｇ、濾過後の濾液の体積が９９ｍＬであった場合は、オルトクロロフェノールを５１ｍＬ追加する調整を実施する。（（２．０ｇ－０．２ｇ）／（９９ｍＬ＋５１ｍＬ）＝１．２ｇ／１００ｍＬ））
（１－４）（１－３）で得られた溶液を用いて、２５℃での粘度をオストワルド粘度計を用いて測定し、得られた溶液粘度、溶媒粘度を用いて、上記式（５）により、［η］を算出し、得られた値をもって固有粘度（ＩＶ）とする。
（ｉ）固有粘度（ＩＶ）
オルトクロロフェノール１００ｍｌに、測定試料（ポリエステル樹脂（原料）又は本発明のポリエステルフィルム）を溶解させ（溶液濃度Ｃ（測定試料重量／溶液体積）＝１．２ｇ／１００ｍｌ）、その溶液の２５℃での粘度を、オストワルド粘度計を用いて測定した。また、同様に溶媒の粘度を測定した。得られた溶液粘度、溶媒粘度を用いて、下記式（５）により、［η］を算出し、得られた値をもってポリエステルフィルム全体の固有粘度（ＩＶ）とした。
ηｓｐ／Ｃ＝［η］＋Ｋ［η］２・Ｃ ・・・（５）
（ここで、ηｓｐ＝（溶液粘度／溶媒粘度）－１、Ｋはハギンス定数（０．３４３とする）である。）
なお、測定試料を溶解させた溶液に無機粒子などの不溶物がある場合は、以下の方法を用いて測定を行った。
（１－１）オルトクロロフェノール１００ｍＬに測定試料を溶解させ、溶液濃度が１．２ｇ／１００ｍＬよりも濃い溶液を作成する。ここで、オルトクロロフェノールに供した測定試料の重量を測定試料重量とする。
（１－２）次に、不溶物を含む溶液を濾過し、不溶物の重量測定と、濾過後の濾液の体積測定を行う。
（１－３）濾過後の濾液にオルトクロロフェノールを追加して、（測定試料重量（ｇ）－不溶物の重量（ｇ））／（濾過後の濾液の体積（ｍＬ）＋追加したオルトクロロフェノールの体積（ｍＬ））が、１．２ｇ／１００ｍＬとなるように調整する。
（例えば、測定試料重量２．０ｇ／溶液体積１００ｍＬの濃厚溶液を作成したときに、該溶液を濾過したときの不溶物の重量が０．２ｇ、濾過後の濾液の体積が９９ｍＬであった場合は、オルトクロロフェノールを５１ｍＬ追加する調整を実施する。（（２．０ｇ－０．２ｇ）／（９９ｍＬ＋５１ｍＬ）＝１．２ｇ／１００ｍＬ））
（１－４）（１－３）で得られた溶液を用いて、２５℃での粘度をオストワルド粘度計を用いて測定し、得られた溶液粘度、溶媒粘度を用いて、上記式（５）により、［η］を算出し、得られた値をもって固有粘度（ＩＶ）とする。
【0129】
（ｉｉ）Ｐ１層の固有粘度（ＩＶＰ１）
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおけるＰ１層部分のみを削り取り前項（ｉ）と同様にしてＰ１層の固有粘度（ＩＶＰ１）を得た。
（ｉｉｉ）フィルムの固有粘度（ＩＶＦ）
本発明の二軸配向ポリエステルフィルム全層を前項（ｉ）と同様にしてフィルムの固有粘度（ＩＶＦ）を得た。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおけるＰ１層部分のみを削り取り前項（ｉ）と同様にしてＰ１層の固有粘度（ＩＶＰ１）を得た。
（ｉｉｉ）フィルムの固有粘度（ＩＶＦ）
本発明の二軸配向ポリエステルフィルム全層を前項（ｉ）と同様にしてフィルムの固有粘度（ＩＶＦ）を得た。
【0130】
（ｉｖ）末端カルボキシル基量（単位：ｅｑ／ｔ、表中ではＣＯＯＨ量と記載する。）
Ｍａｕｌｉｃｅの方法によって測定した。（文献 Ｍ．Ｊ．Ｍａｕｌｉｃｅ，Ｆ．Ｈｕｉｚｉｎｇａ，Ａｎａｌ．Ｃｈｅｍ．Ａｃｔａ、２２、３６３（１９６０））。
すなわち、測定試料（ポリエステル（原料）またはＰ１層のみを分離したポリエステルフィルム）０．５ｇを０．００１ｇ以内の精度で秤量する。該試料にｏ－クレゾール／クロロホルムを７／３の質量比で混合した溶媒５０ｍｌを加え、加熱して内温が９０℃になってから２０分間加熱攪拌して溶解する。また混合溶媒のみもブランク液として同様に別途加熱する。溶液を室温に冷却し、１／５０Ｎの水酸化カリウムのメタノール溶液で電位差滴定装置を用いて滴定をおこなう。また、混合溶媒のみのブランク液についても同様に滴定を実施する。
以下の式により算出される値を測定試料の末端カルボキシル基量とした。
末端カルボキシル基量（等量／ｔ）＝｛（Ｖ１－Ｖ０）×Ｎ×ｆ｝×１０００／Ｓ
ここでＶ１は試料溶液での滴定液量（ｍＬ）、Ｖ０はブランク液での滴定液量（ｍＬ）、Ｎは滴定液の規定度（Ｎ）、ｆは滴定液のファクター、Ｓはポリエステル組成物の質量（ｇ）である。
Ｍａｕｌｉｃｅの方法によって測定した。（文献 Ｍ．Ｊ．Ｍａｕｌｉｃｅ，Ｆ．Ｈｕｉｚｉｎｇａ，Ａｎａｌ．Ｃｈｅｍ．Ａｃｔａ、２２、３６３（１９６０））。
すなわち、測定試料（ポリエステル（原料）またはＰ１層のみを分離したポリエステルフィルム）０．５ｇを０．００１ｇ以内の精度で秤量する。該試料にｏ－クレゾール／クロロホルムを７／３の質量比で混合した溶媒５０ｍｌを加え、加熱して内温が９０℃になってから２０分間加熱攪拌して溶解する。また混合溶媒のみもブランク液として同様に別途加熱する。溶液を室温に冷却し、１／５０Ｎの水酸化カリウムのメタノール溶液で電位差滴定装置を用いて滴定をおこなう。また、混合溶媒のみのブランク液についても同様に滴定を実施する。
以下の式により算出される値を測定試料の末端カルボキシル基量とした。
末端カルボキシル基量（等量／ｔ）＝｛（Ｖ１－Ｖ０）×Ｎ×ｆ｝×１０００／Ｓ
ここでＶ１は試料溶液での滴定液量（ｍＬ）、Ｖ０はブランク液での滴定液量（ｍＬ）、Ｎは滴定液の規定度（Ｎ）、ｆは滴定液のファクター、Ｓはポリエステル組成物の質量（ｇ）である。
【0131】
Ｈ．含有粒子評価
（ｉ）Ｐ１層およびＰ２層含有粒子の平均粒子径
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムに関して、ミクロトームを用いて表面に対して垂直方向に切削した小片を作成し、その断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：（株）日立製作所製Ｈ７１００ＦＡ型）にてＰ１層、またはＰ３層を１万～１００万倍で観察し断面写真を得た。その断面写真よりＰ１層、Ｐ２層またはＰ３層中に存在する粒子の粒度分布を画像解析ソフトＩｍａｇｅ－Ｐｒｏ Ｐｌｕｓ（日本ローパー（株））を用いて求めた。断面写真は異なる任意の測定視野から選び出し、断面写真中から任意に選び出した４００個以上の粒子の基準円相当径を測定し個数基準での平均値から数平均粒子径を得た。下記粒子の構成元素分析により２種類以上の粒子が含有される場合には、各粒子に関して２００個以上の粒子の円相当径を測定し個数基準円相当径の平均値より数平均粒子径を求めた。
（ｉ）Ｐ１層およびＰ２層含有粒子の平均粒子径
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムに関して、ミクロトームを用いて表面に対して垂直方向に切削した小片を作成し、その断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：（株）日立製作所製Ｈ７１００ＦＡ型）にてＰ１層、またはＰ３層を１万～１００万倍で観察し断面写真を得た。その断面写真よりＰ１層、Ｐ２層またはＰ３層中に存在する粒子の粒度分布を画像解析ソフトＩｍａｇｅ－Ｐｒｏ Ｐｌｕｓ（日本ローパー（株））を用いて求めた。断面写真は異なる任意の測定視野から選び出し、断面写真中から任意に選び出した４００個以上の粒子の基準円相当径を測定し個数基準での平均値から数平均粒子径を得た。下記粒子の構成元素分析により２種類以上の粒子が含有される場合には、各粒子に関して２００個以上の粒子の円相当径を測定し個数基準円相当径の平均値より数平均粒子径を求めた。
【0132】
（ｉｉ）Ｐ２層に含有される粒子の平均一次粒子径
前項（ｉ）に従い、Ｐ２層の断面写真にて粒子に関して前項（ｉ）の解析を行う。この際粒子が複数個あつまり凝集した状態の粒子に関しは観察する粒子からは排除する。得られた個数基準円相当径の平均値をＰ２層に含有される粒子の平均一次粒子径とした。
前項（ｉ）に従い、Ｐ２層の断面写真にて粒子に関して前項（ｉ）の解析を行う。この際粒子が複数個あつまり凝集した状態の粒子に関しは観察する粒子からは排除する。得られた個数基準円相当径の平均値をＰ２層に含有される粒子の平均一次粒子径とした。
【0133】
（ｉｉｉ）粒子含有量
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＰ１層部分を１Ｎ－ＫＯＨメタノール溶液２００ｍｌに投入して加熱還流し、ポリマーを溶解した。溶解が終了した該溶液に２００ｍｌの水を加え、ついで該液体を遠心分離器にかけて粒子を沈降させ、上澄み液を取り除いた。粒子にはさらに水を加えて洗浄、遠心分離を２回繰り返した。このようにして得られた粒子を乾燥させ、その質量を量ることで各層に含有される粒子の含有量（質量％）を算出した。添加粒子に有機粒子が含まれる場合、ポリマーは溶解するが有機粒子は溶解させない溶媒を選択し、過熱還流すること無くポリマーを溶解し、粒子を遠心分離して粒子の含有量（質量％）を算出した。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＰ１層部分を１Ｎ－ＫＯＨメタノール溶液２００ｍｌに投入して加熱還流し、ポリマーを溶解した。溶解が終了した該溶液に２００ｍｌの水を加え、ついで該液体を遠心分離器にかけて粒子を沈降させ、上澄み液を取り除いた。粒子にはさらに水を加えて洗浄、遠心分離を２回繰り返した。このようにして得られた粒子を乾燥させ、その質量を量ることで各層に含有される粒子の含有量（質量％）を算出した。添加粒子に有機粒子が含まれる場合、ポリマーは溶解するが有機粒子は溶解させない溶媒を選択し、過熱還流すること無くポリマーを溶解し、粒子を遠心分離して粒子の含有量（質量％）を算出した。
【0134】
［用途特性の評価方法］
Ｉ． 巻取り性
（１）巻きシワ評価
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを、製膜速度が１００ｍ／分以上の条件にて製膜を行い、連続した５０００ｍのロール巻取りを１０回行う。得られた１０本のフィルムロールの巻きシワ発生に関して下記の通り評価した。
Ｉ． 巻取り性
（１）巻きシワ評価
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを、製膜速度が１００ｍ／分以上の条件にて製膜を行い、連続した５０００ｍのロール巻取りを１０回行う。得られた１０本のフィルムロールの巻きシワ発生に関して下記の通り評価した。
【0135】
Ａ：１０本のロールの内、巻きシワの発生したロールが２本以下。
Ｂ：１０本のロールの内、巻きシワの発生したロールが３本以上４本以下。
Ｃ：１０本のロールの内、巻きシワの発生したロールが５本以上６本以下。
Ｄ：１０本のロールの内、巻きシワの発生したロールが７本以上。
巻きシワ評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
Ｂ：１０本のロールの内、巻きシワの発生したロールが３本以上４本以下。
Ｃ：１０本のロールの内、巻きシワの発生したロールが５本以上６本以下。
Ｄ：１０本のロールの内、巻きシワの発生したロールが７本以上。
巻きシワ評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
【0136】
（２）巻きズレ評価
前項（１）にて得られた１０本のフィルムロールの巻きズレ発生に関して下記の通り評価した。
前項（１）にて得られた１０本のフィルムロールの巻きズレ発生に関して下記の通り評価した。
【0137】
Ａ：１０本のロールの内、巻きズレの発生したロールが１本以下。
Ｂ：１０本のロールの内、巻きズレの発生したロールが２本以上４本以下。
Ｃ：１０本のロールの内、巻きズレの発生したロールが５本以上６本以下。
Ｄ：１０本のロールの内、巻きズレの発生したロールが７本以上。
巻きズレ評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
Ｂ：１０本のロールの内、巻きズレの発生したロールが２本以上４本以下。
Ｃ：１０本のロールの内、巻きズレの発生したロールが５本以上６本以下。
Ｄ：１０本のロールの内、巻きズレの発生したロールが７本以上。
巻きズレ評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
【0138】
Ｊ．塗布層の耐久性評価
（１）塗布層の削れ評価
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを、製膜速度が１００ｍ／分以上の条件にて製膜を行い、連続した１０００ｍのロール巻取りを行う。得られたロールに関してロールからフィルム巻き出し、新たに別のロールとして巻き直す作業を２回繰り返す。
得られた複数回巻き返しを行った１０００ｍフィルムロールに関して前記Ｂ面側のキズ観察を行い下記の通り塗布層の削れ評価を行った。
Ａ：巻き返したロールの塗布層表面に、キズの発生が無い。
Ｂ：巻き返したロールの塗布層表面に、キズの発生箇所が１箇所以上３箇所以下。
Ｃ：巻き返したロールの塗布層表面に、キズの発生箇所が４箇所以上９箇所以下。
（１）塗布層の削れ評価
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを、製膜速度が１００ｍ／分以上の条件にて製膜を行い、連続した１０００ｍのロール巻取りを行う。得られたロールに関してロールからフィルム巻き出し、新たに別のロールとして巻き直す作業を２回繰り返す。
得られた複数回巻き返しを行った１０００ｍフィルムロールに関して前記Ｂ面側のキズ観察を行い下記の通り塗布層の削れ評価を行った。
Ａ：巻き返したロールの塗布層表面に、キズの発生が無い。
Ｂ：巻き返したロールの塗布層表面に、キズの発生箇所が１箇所以上３箇所以下。
Ｃ：巻き返したロールの塗布層表面に、キズの発生箇所が４箇所以上９箇所以下。
【0139】
Ｄ：巻き返したロールの塗布層表面に、キズの発生箇所が１０箇所以上。
塗布層の削れ評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
塗布層の削れ評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
【0140】
（２）塗布層の粒子脱落評価
前項Ｉに従い得ら複数回巻き返しを行った１０００ｍフィルムロールに関して１μｍ以上の異物欠点観察を行い下記の通り塗布層の削れ評価を行った。
Ａ：巻き返したロールに、異物欠点が生じない。
Ｂ：巻き返したロールに、異物欠点発生が１箇所以上３箇所以下。
Ｃ：巻き返したロールに、キズの発生箇所が４箇所以上９箇所以下。
前項Ｉに従い得ら複数回巻き返しを行った１０００ｍフィルムロールに関して１μｍ以上の異物欠点観察を行い下記の通り塗布層の削れ評価を行った。
Ａ：巻き返したロールに、異物欠点が生じない。
Ｂ：巻き返したロールに、異物欠点発生が１箇所以上３箇所以下。
Ｃ：巻き返したロールに、キズの発生箇所が４箇所以上９箇所以下。
【0141】
Ｄ：巻き返したロールに、キズの発生箇所が１０箇所以上。
塗布層の粒子脱落評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
Ｋ．ドライフィルムレジスト適性評価
（ｉ）レジスト配線パターン作成
以下ａ．からｃ．の方法により分割縮小露光法を用いたフォトレジスト評価を行う。
ａ．片面鏡面研磨した６インチサイズのＳｉウエハー上に、東京応化（株）製のネガレジスト“ＰＭＥＲＮ－ＨＣ６００”を塗布し、大型スピナーで回転させることによって厚み１０μｍのフォトレジスト層を作製する。次いで、窒素循環の通風オーブンを用いて７０℃の温度条件で約２０分間の前熱処理を行う。
ｂ．ポリエステルフィルムの前記表面をレジスト層と接触するように重ね、ゴム製のローラーを用いて、フォトレジスト層上にポリエステルフィルムをラミネートし、その上に、クロム金属でパターニングされたレチクルを配置し、そのレクチル上から投影レンズを具備したｉ線（波長３６５ｎｍにピークをもつ紫外線）ステッパーを用いた投影露光を行う。
ｃ．フォトレジスト層からポリエステルフィルムを剥離した後、現像液Ｎ－Ａ５が入った容器にフォトレジスト層を入れ約１分間の現像を行う。その後、現像液から取り出し、水で約１分間の洗浄を行う。現像後に作成されたレジスト配線パターンのＬ／Ｓ（μｍ）（Ｌｉｎｅ ａｎｄ Ｓｐａｃｅ）＝５／５μｍの３０本の状態を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて約８００～３０００倍率で観察する。
塗布層の粒子脱落評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
Ｋ．ドライフィルムレジスト適性評価
（ｉ）レジスト配線パターン作成
以下ａ．からｃ．の方法により分割縮小露光法を用いたフォトレジスト評価を行う。
ａ．片面鏡面研磨した６インチサイズのＳｉウエハー上に、東京応化（株）製のネガレジスト“ＰＭＥＲＮ－ＨＣ６００”を塗布し、大型スピナーで回転させることによって厚み１０μｍのフォトレジスト層を作製する。次いで、窒素循環の通風オーブンを用いて７０℃の温度条件で約２０分間の前熱処理を行う。
ｂ．ポリエステルフィルムの前記表面をレジスト層と接触するように重ね、ゴム製のローラーを用いて、フォトレジスト層上にポリエステルフィルムをラミネートし、その上に、クロム金属でパターニングされたレチクルを配置し、そのレクチル上から投影レンズを具備したｉ線（波長３６５ｎｍにピークをもつ紫外線）ステッパーを用いた投影露光を行う。
ｃ．フォトレジスト層からポリエステルフィルムを剥離した後、現像液Ｎ－Ａ５が入った容器にフォトレジスト層を入れ約１分間の現像を行う。その後、現像液から取り出し、水で約１分間の洗浄を行う。現像後に作成されたレジスト配線パターンのＬ／Ｓ（μｍ）（Ｌｉｎｅ ａｎｄ Ｓｐａｃｅ）＝５／５μｍの３０本の状態を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて約８００～３０００倍率で観察する。
【0142】
（ｉｉ）微細配線レジスト特性評価
前項（ｉ）にて観察した３０本のレジスト配線パターンに関して、配線パターン上面の長辺部分において直線形状が０．５μｍ以上の欠ける部分が存在する配線パターンの本数を確認し、フィルムの微細配線レジスト特性を下記の通り評価する。
Ａ：欠けのある本数が０本
Ｂ：欠けのある本数が１本以上５本以下。
Ｃ：欠けのある本数が６本以上１０本以下。
Ｄ：欠けのある本数が１０本を超える。
レジスト特性評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
前項（ｉ）にて観察した３０本のレジスト配線パターンに関して、配線パターン上面の長辺部分において直線形状が０．５μｍ以上の欠ける部分が存在する配線パターンの本数を確認し、フィルムの微細配線レジスト特性を下記の通り評価する。
Ａ：欠けのある本数が０本
Ｂ：欠けのある本数が１本以上５本以下。
Ｃ：欠けのある本数が６本以上１０本以下。
Ｄ：欠けのある本数が１０本を超える。
レジスト特性評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
【0143】
Ｌ．押出安定性
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを、製膜速度が１００ｍ／分以上の条件にて４８時間以上製膜を行い、口金から発生した泡に由来するフィルム破れ回数から、押出安定性を以下の通り評価した
Ａ：４８時間の製膜中に、泡に由来するフィルム破れの発生なし。
Ｂ：４８時間の製膜中に、泡に由来するフィルム破れの発生が１回発生。
Ｃ：４８時間の製膜中に、泡に由来するフィルム破れの発生が２回以上３回以下発生。
Ｄ：４８時間の製膜中に、泡に由来するフィルム破れの発生が４回以上発生。
押出安定性としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを、製膜速度が１００ｍ／分以上の条件にて４８時間以上製膜を行い、口金から発生した泡に由来するフィルム破れ回数から、押出安定性を以下の通り評価した
Ａ：４８時間の製膜中に、泡に由来するフィルム破れの発生なし。
Ｂ：４８時間の製膜中に、泡に由来するフィルム破れの発生が１回発生。
Ｃ：４８時間の製膜中に、泡に由来するフィルム破れの発生が２回以上３回以下発生。
Ｄ：４８時間の製膜中に、泡に由来するフィルム破れの発生が４回以上発生。
押出安定性としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
【実施例0144】
以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
【0145】
［ＰＥＴ－１の製造］ジメチルテレフタレート（ＤＭＴ）に、ＤＭＴ・１モルに対し１．９モルのエチレングリコールおよび酢酸マグネシウム・４水和物をＤＭＴ１００重量部に対し０．０５重量部、リン酸を０．０１５重量部加え加熱エステル交換を行った。引き続き三酸化アンチモンを０．０２５重量部加え、加熱昇温し真空状態下で重縮合を行い、実質的に粒子を含有しないポリエステルペレットを得た。得られた溶融重合ＰＥＴのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．４５であった。
【0146】
その後、得られたポリエステルペレットを１６０℃で６時間乾燥し結晶化させた後、２２０℃、真空度０．３Ｔｏｒｒ、８時間の固相重合を行い、固相重合ＰＥＴ（ＰＥＴ－１）を得た。得られた固相重合ＰＥＴのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．５４であった。
【0147】
［ＰＥＴ－２の製造］前項［ＰＥＴ－１の製造］と同様にしてガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度が０．６４の固相重合ＰＥＴ（ＰＥＴ－２）を得た。
【0148】
［ＰＥＴ－３の製造］前項［ＰＥＴ－１の製造］と同様にしてガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度が０．５１の固相重合ＰＥＴ（ＰＥＴ－３）を得た。
【0149】
［ＭＢ－Ａの製造］前項ＰＥＴ－１の重合に際し、ＰＥＴに対する添加量が１質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均一次粒子径が６５ｎｍのシリカ粒子（シリカ－１）を添加し、ＰＥＴベースの粒子マスターペレットＭＢ－Ａを得た。得られた溶融重合ＭＢ－Ａのガラス転移温度は８０℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．５３であった。
【0150】
［ＭＢ－Ｂの製造］前項ＰＥＴ－２の重合に際し、ＰＥＴに対する添加量が１質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均一次粒子径が６５ｎｍのシリカ粒子（シリカ－１）を添加し、ＰＥＴベースの粒子マスターペレットＭＢ－Ａを得た。得られた溶融重合ＭＢ－Ａのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６３であった。
【0151】
【表1】
【0152】
［機能性添加剤（Ａ）］
（帯電防止剤）
ポリチオフェン系化合物（ａ－１）
酸性ポリマー化合物であるポリスチレンスルホン酸を２０．８質量部含む１８８７質量部の水溶液中に、１質量％硫酸鉄（ＩＩＩ）水溶液４９質量部、チオフェン化合物である３，４－エチレンジオキシチオフェン８．８質量部、および１０．９質量％のペルオキソ二硫酸水溶液１１７質量部を加えた。この混合物を１８℃で２３時間攪拌し、この混合物に１５４質量部の陽イオン交換樹脂（レバチット モノプラス Ｓ１００Ｈ）および２３２質量部の陰イオン交換樹脂（レバチット モノプラス Ｍ８００）を加えて、２時間攪拌した後、イオン交換樹脂をろ別して、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸からなる混合物のポリチオフェン系化合物（ａ－１）（固形分濃度は１．３重量％）を得た。
（帯電防止剤）
ポリチオフェン系化合物（ａ－１）
酸性ポリマー化合物であるポリスチレンスルホン酸を２０．８質量部含む１８８７質量部の水溶液中に、１質量％硫酸鉄（ＩＩＩ）水溶液４９質量部、チオフェン化合物である３，４－エチレンジオキシチオフェン８．８質量部、および１０．９質量％のペルオキソ二硫酸水溶液１１７質量部を加えた。この混合物を１８℃で２３時間攪拌し、この混合物に１５４質量部の陽イオン交換樹脂（レバチット モノプラス Ｓ１００Ｈ）および２３２質量部の陰イオン交換樹脂（レバチット モノプラス Ｍ８００）を加えて、２時間攪拌した後、イオン交換樹脂をろ別して、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸からなる混合物のポリチオフェン系化合物（ａ－１）（固形分濃度は１．３重量％）を得た。
【0153】
（離型剤）
・長鎖アルキル基含有樹脂（ａ－２）
２５ｍＬ耐圧ガラス製重合用アンプルに、２－ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）（関東化学（株）社製）、重合開始剤としてα，α’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）（関東化学（株）社製）、ＲＡＦＴ剤としてクミルジチオベンゾエート（ＣＤＢ）、および溶媒であるトルエンを、ＨＥＡ／ＣＤＢ／ＡＩＢＮ／トルエン＝０．３５／０．０３／０．００７／２．２７の重量（ｇ）で仕込んだ。次に、アンプル内の混合溶液を凍結脱気法により２回脱気した後、アンプルを密閉し、１００℃のオイルバス中で１８時間加熱し、重合体を含む反応液を得た。
・長鎖アルキル基含有樹脂（ａ－２）
２５ｍＬ耐圧ガラス製重合用アンプルに、２－ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）（関東化学（株）社製）、重合開始剤としてα，α’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）（関東化学（株）社製）、ＲＡＦＴ剤としてクミルジチオベンゾエート（ＣＤＢ）、および溶媒であるトルエンを、ＨＥＡ／ＣＤＢ／ＡＩＢＮ／トルエン＝０．３５／０．０３／０．００７／２．２７の重量（ｇ）で仕込んだ。次に、アンプル内の混合溶液を凍結脱気法により２回脱気した後、アンプルを密閉し、１００℃のオイルバス中で１８時間加熱し、重合体を含む反応液を得た。
【0154】
アンプル内の反応液に、ドコシルアクリレート、重合開始剤としてＡＩＢＮ、および溶媒であるトルエンを、ドコシルアクリレート／ＡＩＢＮ／トルエン＝４．６５／０．００３／１．３の重量（ｇ）で加え、凍結脱気を２回行った後、アンプルを密閉して１００℃で４８時間加熱した。その後、重合溶液を２０倍質量のヘキサンに滴下し、撹拌して固体を析出させた。得られた固体をろ過して取り出し、４０℃で一晩真空状態にて乾燥して長鎖アルキル基含有樹脂（炭素数２２のアルキル基を有するブロック共重合体）である長鎖アルキル基含有樹脂（ａ－２）を得た。
【0155】
得られた長鎖アルキル基含有樹脂（ａ－２）を以下の様に乳化し、水系樹脂エマルションとした。容量１Ｌのホモミキサーに３７５ｇの水を入れ、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル４５ｇ、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール３０ｇ、長鎖アルキル基含有樹脂（ａ－２）を２００ｇ、トルエン１５０ｇを順次加え、７０℃に加熱して、均一に撹拌した。この混合液を加圧式ホモジナイザーに移して乳化を行った後、さらに加温下で減圧しトルエンを留去した。
【0156】
［樹脂または化合物（Ｂ）］
・ポリエステル樹脂（ｂ－１）
高松油脂（株）製、“ペスレジン” （登録商標）Ａ－２１０（固形分濃度３０質量％、溶媒：水）を用いた。
・ポリエステル樹脂（ｂ－１）
高松油脂（株）製、“ペスレジン” （登録商標）Ａ－２１０（固形分濃度３０質量％、溶媒：水）を用いた。
【0157】
・アクリル樹脂（ｂ－２）
ステンレス反応容器に、メタクリル酸メチル（α）、メタクリル酸ヒドロキシエチル（β）、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製、アートレジン（登録商標）ＵＮ－３３２０ＨＡ、アクリロイル基の数が６）（γ）を（α）／（β）／（γ）＝９４／１／５の質量比で仕込み、乳化剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを（α）～（γ）の合計１００質量部に対して２質量部を加えて撹拌し、混合液１を調製した。次に、攪拌機、環流冷却管、温度計及び滴下ロートを備えた反応装置を準備した。上記混合液１を６０重量部と、イソプロピルアルコール２００重量部、重合開始剤として過硫酸カリウム５重量部を反応装置に仕込み、６０℃に加熱し、混合液２を調製した。混合液２は６０℃の加熱状態のまま２０分間保持させた。次に、混合液１の４０重量部とイソプロピルアルコール５０重量部、過硫酸カリウム５重量部からなる混合液３を調製した。続いて、滴下ロートを用いて混合液３を２時間かけて混合液２へ滴下し、混合液４を調製した。その後、混合液４は６０℃に加熱した状態のまま２時間保持した。得られた混合液４を５０℃以下に冷却した後、攪拌機、減圧設備を備えた容器に移した。そこに、２５％アンモニア水６０重量部、及び純水９００重量部を加え、６０℃に加熱しながら減圧下にてイソプロピルアルコール及び未反応モノマーを回収し、純水に分散されたアクリル樹脂（ｂ－２）を得た。
ステンレス反応容器に、メタクリル酸メチル（α）、メタクリル酸ヒドロキシエチル（β）、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製、アートレジン（登録商標）ＵＮ－３３２０ＨＡ、アクリロイル基の数が６）（γ）を（α）／（β）／（γ）＝９４／１／５の質量比で仕込み、乳化剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを（α）～（γ）の合計１００質量部に対して２質量部を加えて撹拌し、混合液１を調製した。次に、攪拌機、環流冷却管、温度計及び滴下ロートを備えた反応装置を準備した。上記混合液１を６０重量部と、イソプロピルアルコール２００重量部、重合開始剤として過硫酸カリウム５重量部を反応装置に仕込み、６０℃に加熱し、混合液２を調製した。混合液２は６０℃の加熱状態のまま２０分間保持させた。次に、混合液１の４０重量部とイソプロピルアルコール５０重量部、過硫酸カリウム５重量部からなる混合液３を調製した。続いて、滴下ロートを用いて混合液３を２時間かけて混合液２へ滴下し、混合液４を調製した。その後、混合液４は６０℃に加熱した状態のまま２時間保持した。得られた混合液４を５０℃以下に冷却した後、攪拌機、減圧設備を備えた容器に移した。そこに、２５％アンモニア水６０重量部、及び純水９００重量部を加え、６０℃に加熱しながら減圧下にてイソプロピルアルコール及び未反応モノマーを回収し、純水に分散されたアクリル樹脂（ｂ－２）を得た。
【0158】
・メチロール化メラミン樹脂（ｂ－３）
（株）三和ケミカル製、“ニカラック”（登録商標）ＭＷ－０３５（固形分濃度７０質量％、溶媒：水）を用いた。
（株）三和ケミカル製、“ニカラック”（登録商標）ＭＷ－０３５（固形分濃度７０質量％、溶媒：水）を用いた。
【0159】
［粒子成分（Ｃ）］
・粒子（ｃ－１）
日揮触媒化成（株）製“スフェリカ”（登録商標）１４０（シリカ粒子、平均粒子一次径１４０ｎｍ）を用いた。
・粒子（ｃ－１）
日揮触媒化成（株）製“スフェリカ”（登録商標）１４０（シリカ粒子、平均粒子一次径１４０ｎｍ）を用いた。
【0160】
・粒子（ｃ－２）
日揮触媒化成（株）製“カタロイド”（登録商標）ＳＩ－８０Ｐ（シリカ粒子、平均粒子一次径８０ｎｍ）を用いた。
日揮触媒化成（株）製“カタロイド”（登録商標）ＳＩ－８０Ｐ（シリカ粒子、平均粒子一次径８０ｎｍ）を用いた。
【0161】
・粒子（ｃ－３）
平均粒子一次径が２００ｎｍのシリカ粒子の水分散体を用いた。
平均粒子一次径が２００ｎｍのシリカ粒子の水分散体を用いた。
【0162】
・粒子（ｃ－４）
日揮触媒化成（株）製“カタロイド－Ｓ”（登録商標）ＳＩ－５０（シリカ粒子、平均粒子一次径２０ｎｍ）を用いた。
日揮触媒化成（株）製“カタロイド－Ｓ”（登録商標）ＳＩ－５０（シリカ粒子、平均粒子一次径２０ｎｍ）を用いた。
【0163】
・粒子（ｃ－５）
日本触媒（株）製“シーホスター”（登録商標）ＫＥＷ－３０（シリカ粒子、平均粒子一次径３００ｎｍ）を用いた。
日本触媒（株）製“シーホスター”（登録商標）ＫＥＷ－３０（シリカ粒子、平均粒子一次径３００ｎｍ）を用いた。
【0164】
・粒子（ｃ－６）
日本触媒（株）製“シーホスター”（登録商標）ＫＥＷ－５０（シリカ粒子、平均粒子一次径５００ｎｍ）を用いた。
日本触媒（株）製“シーホスター”（登録商標）ＫＥＷ－５０（シリカ粒子、平均粒子一次径５００ｎｍ）を用いた。
【0165】
［塗料組成物Ａ～Ｇの調合］
前記の通りにて得られる離型剤（Ａ）、樹脂または化合物（Ｂ），粒子成分（Ｃ）を表２に記載の固形分質量比で混合し塗料組成物Ａ～Ｇとした。
前記の通りにて得られる離型剤（Ａ）、樹脂または化合物（Ｂ），粒子成分（Ｃ）を表２に記載の固形分質量比で混合し塗料組成物Ａ～Ｇとした。
【0166】
【表2】
【0167】
（実施例１）
ＰＥＴ－１、ＰＥＴ－２を１８０℃で２時間半減圧乾燥した後、配合量が表３に記載のＰ１層およびＰ３層の量になるように配合し、２台それぞれの押出機に供給し、溶融押出してフィルタで濾過した後、フィードブロックにて２層（Ｐ１層／Ｐ３層構成）に積層するように合流させた後、Ｔダイを介し３５℃に保った冷却キャストロール上に静電印加キャスト法を用いて巻き付け冷却固化して未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを相対する電極とアースロール間に導き、装置中に窒素ガスを導入し、処理強度（Ｅ値）が２４０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２となる条件でＰ１層の表面に大気圧グロー放電によるプラズマ処理を行った。
ＰＥＴ－１、ＰＥＴ－２を１８０℃で２時間半減圧乾燥した後、配合量が表３に記載のＰ１層およびＰ３層の量になるように配合し、２台それぞれの押出機に供給し、溶融押出してフィルタで濾過した後、フィードブロックにて２層（Ｐ１層／Ｐ３層構成）に積層するように合流させた後、Ｔダイを介し３５℃に保った冷却キャストロール上に静電印加キャスト法を用いて巻き付け冷却固化して未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを相対する電極とアースロール間に導き、装置中に窒素ガスを導入し、処理強度（Ｅ値）が２４０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２となる条件でＰ１層の表面に大気圧グロー放電によるプラズマ処理を行った。
【0168】
処理後の未延伸フィルムをロール温度が２５℃に設定された除電ロールを通した後、表４に記載の条件にて逐次二軸延伸機を行う。まず長手方向に６０℃～１００℃に加熱された延伸ロール群へと導き延伸操作によりトータル３．５倍に延伸を行う。その後Ｐ３層の表面上に塗布層であるＰ２層を構築するため、塗料組成物Ａを用いて乾燥後の塗布層厚みが表３に記載の値になるようにグラビアコーターを用いたインラインコート塗工を行う。塗布後のフィルムをテンターへと導き８０℃の予熱を加えた後、９０℃、１１０℃、１３０℃に温度設定された長さが均等な３区間にて各区間にて１．６倍ずつ、段階昇温を行いながら延伸を行い幅方向にトータル４．１倍の延伸を施し、定長下２３５℃で熱処理を施し幅方向に弛緩処理を３％施すことで、塗布層を片面に有する厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
【0169】
【表3】
【0170】
【表4】
【0171】
得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性は表５に示す通りであった。
【0172】
【表5】
【0173】
生産適性、用途適性は表６に示す通り、押出安定性、フィルムロール巻取り性（巻きシワ、巻きズレ）、塗布層の耐久性（削れ、粒子脱落）、および微細配線レジスト特性が良好なフィルムであった。
【0174】
【表6】
【0175】
（実施例２）
実施例２ではＰ２層を構築するために塗料組成物Ｂを用いた以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであり、生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例１と同様に良好なフィルムであった。
実施例２ではＰ２層を構築するために塗料組成物Ｂを用いた以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであり、生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例１と同様に良好なフィルムであった。
【0176】
（実施例３、４）
実施例３、４ではＰ１層に施す大気圧グロー放電処理（プラズマ処理）の処理強度を表４に記載の通り変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例３ではフィルム両面の静摩擦係数が実施例１よりも低下し、フィルムロールの巻きズレが悪化したものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。実施例４ではフィルムロールの巻きシワが実施例１よりも悪化したものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。
実施例３、４ではＰ１層に施す大気圧グロー放電処理（プラズマ処理）の処理強度を表４に記載の通り変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例３ではフィルム両面の静摩擦係数が実施例１よりも低下し、フィルムロールの巻きズレが悪化したものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。実施例４ではフィルムロールの巻きシワが実施例１よりも悪化したものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。
【0177】
（実施例５、６）
実施例５では塗布層であるＰ２層の層厚みを、実施例６では塗料組成物およびＰ２層厚みを表３、４に記載の通り変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例５ではフィルムロールの巻きシワおよび微細配線レジスト特性が、実施例６ではフィルムロールの巻きズレおよび塗布層の粒子脱落が実施例１よりも悪化したものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。
実施例５では塗布層であるＰ２層の層厚みを、実施例６では塗料組成物およびＰ２層厚みを表３、４に記載の通り変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例５ではフィルムロールの巻きシワおよび微細配線レジスト特性が、実施例６ではフィルムロールの巻きズレおよび塗布層の粒子脱落が実施例１よりも悪化したものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。
【0178】
（実施例７、８）
実施例５、６では塗布層であるＰ２層を構築する塗料組成物を表３、４に記載の通り変更しＰ２層に含有させる粒子径を変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例７では塗布層の粒子脱落および微細配線レジスト特性が、実施例８ではフィルムロールの巻きシワが実施例１よりも悪化したものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。
実施例５、６では塗布層であるＰ２層を構築する塗料組成物を表３、４に記載の通り変更しＰ２層に含有させる粒子径を変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例７では塗布層の粒子脱落および微細配線レジスト特性が、実施例８ではフィルムロールの巻きシワが実施例１よりも悪化したものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。
【0179】
（実施例９、１０）
実施例９、１０では、Ｐ１層に使用する原料を表３に記載の通り変更することで、Ｐ１層の固有粘度の変更し表３の記載された量の粒子を含有させた以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例９ではＰ１層の固有粘度を実施例１よりも高め、粒子を含有させたことで、塗布層の耐久性（削れ、粒子脱落）および微細配線レジスト特性が悪化したものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。実施例１０ではＰ１層の固有粘度を好ましい範囲とすることで、微細配線レジスト特性は実施例１に比べ悪化するも実用の範囲内であり、また実施例９と同濃度の粒子含有であっても実施例１と同様に生産適性は良好なフィルムであった。
実施例９、１０では、Ｐ１層に使用する原料を表３に記載の通り変更することで、Ｐ１層の固有粘度の変更し表３の記載された量の粒子を含有させた以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例９ではＰ１層の固有粘度を実施例１よりも高め、粒子を含有させたことで、塗布層の耐久性（削れ、粒子脱落）および微細配線レジスト特性が悪化したものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。実施例１０ではＰ１層の固有粘度を好ましい範囲とすることで、微細配線レジスト特性は実施例１に比べ悪化するも実用の範囲内であり、また実施例９と同濃度の粒子含有であっても実施例１と同様に生産適性は良好なフィルムであった。
【0180】
（実施例１１）
実施例１１では、Ｐ１層に使用する原料を表３に記載の通り変更することで、Ｐ１層の固有粘度の変更した以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、押出安定性とフィルムロールの巻きズレが悪化するものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。
実施例１１では、Ｐ１層に使用する原料を表３に記載の通り変更することで、Ｐ１層の固有粘度の変更した以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、押出安定性とフィルムロールの巻きズレが悪化するものの実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。
【0181】
（実施例１２）
実施例１２では塗布層であるＰ２層を構築する塗料組成物を表３、４に記載の通り変更しＰ２層に含有させる粒子径を変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例１２ではフィルムロールの巻きズレ、塗布層の粒子脱落、微細配線レジスト特性は実施例１に比べ悪化するも実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。
実施例１２では塗布層であるＰ２層を構築する塗料組成物を表３、４に記載の通り変更しＰ２層に含有させる粒子径を変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、実施例１２ではフィルムロールの巻きズレ、塗布層の粒子脱落、微細配線レジスト特性は実施例１に比べ悪化するも実用の範囲内であり、それ以外は実施例１と同様に良好なフィルムであった。
【0182】
（比較例１）
比較例１では、Ｐ１層に大気圧グロー放電処理（プラズマ処理）を施さずに製膜を行った以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、比較例１はフィルムロールの巻きシワが実施例１に比べて大幅に劣るとともに、フィルム両面での摩擦が悪化することで、塗布層の削れが実施例１に比べ大幅に劣るフィルムとなった。
比較例１では、Ｐ１層に大気圧グロー放電処理（プラズマ処理）を施さずに製膜を行った以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、比較例１はフィルムロールの巻きシワが実施例１に比べて大幅に劣るとともに、フィルム両面での摩擦が悪化することで、塗布層の削れが実施例１に比べ大幅に劣るフィルムとなった。
【0183】
（比較例２）
比較例２では、Ｐ３層表面に塗布層であるＰ２層を設けない以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、比較例２はフィルムロールの巻きシワが実施例１に比べて大幅に劣るとともに、フィルム両面での摩擦が悪化することで、塗布層の削れが実施例１に比べ大幅に劣るフィルムとなった。
比較例２では、Ｐ３層表面に塗布層であるＰ２層を設けない以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、比較例２はフィルムロールの巻きシワが実施例１に比べて大幅に劣るとともに、フィルム両面での摩擦が悪化することで、塗布層の削れが実施例１に比べ大幅に劣るフィルムとなった。
【0184】
（比較例３、４）
比較例３では、Ｐ２層厚みを表４に記載の通り変更する以外は、また比較例４ではＰ２層を構成する塗料組成物を表３に記載の通り変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、比較例３では塗布層の削れと微細配線レジスト特性が、比較例４ではフィルムロールの巻きズレ、塗布層の粒子脱落および微細配線レジスト特性が実施例１に比べて大幅に劣るフィルムとなった。
比較例３では、Ｐ２層厚みを表４に記載の通り変更する以外は、また比較例４ではＰ２層を構成する塗料組成物を表３に記載の通り変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、比較例３では塗布層の削れと微細配線レジスト特性が、比較例４ではフィルムロールの巻きズレ、塗布層の粒子脱落および微細配線レジスト特性が実施例１に比べて大幅に劣るフィルムとなった。
【0185】
（比較例５）
比較例５では塗料組成物およびＰ２層厚みを表３、４に記載の通り変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、比較例６では塗布層の厚みが薄くなることで、含有する粒子の粒子脱落が実施例１に比べて大幅に劣るフィルムとなった。
比較例５では塗料組成物およびＰ２層厚みを表３、４に記載の通り変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、比較例６では塗布層の厚みが薄くなることで、含有する粒子の粒子脱落が実施例１に比べて大幅に劣るフィルムとなった。
【0186】
（比較例６）
比較例６では、Ｐ１層に施す大気圧グロー放電処理（プラズマ処理）の処理強度を表４に記載の通り変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、比較例６では大気圧グロー放電処理（プラズマ処理）の処理強度を上げることによりＡ面に高さ１０ｎｍ以上の突起個数が増加することでフィルム両面の静摩擦係数が実施例１よりも低下し、フィルムロールの巻きズレが実施例１から大幅に悪化するフィルムとなった。また大気圧グロー放電処理（プラズマ処理）の処理強度を上げることによりＡ面にＰ１層の劣化物由来と推定される高さ５０ｎｍ以上の粗大な異物が実施例１よりも増加し、塗布層の削れおよび微細配線レジスト特性が実施例１よりも大幅に劣るフィルムとなった。
比較例６では、Ｐ１層に施す大気圧グロー放電処理（プラズマ処理）の処理強度を表４に記載の通り変更する以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、フィルム特性、表面特性、生産適性、用途適性は表５に示す通りであった。
生産適性、用途適性は表６に記載の通り、比較例６では大気圧グロー放電処理（プラズマ処理）の処理強度を上げることによりＡ面に高さ１０ｎｍ以上の突起個数が増加することでフィルム両面の静摩擦係数が実施例１よりも低下し、フィルムロールの巻きズレが実施例１から大幅に悪化するフィルムとなった。また大気圧グロー放電処理（プラズマ処理）の処理強度を上げることによりＡ面にＰ１層の劣化物由来と推定される高さ５０ｎｍ以上の粗大な異物が実施例１よりも増加し、塗布層の削れおよび微細配線レジスト特性が実施例１よりも大幅に劣るフィルムとなった。
【産業上の利用可能性】
【0187】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムはフィルム片面に、突起を有し表面弾性率が均一な高平滑な表面を設け、反対側に易滑性と表面特性を制御した薄膜の塗布層を有することで、ロールとして巻き取った後の塗布層の耐久性（削れおよび含有粒子の脱落）が向上し、次世代微細配線向けの光学特性を満たすドライフィルムレジスト用基材フィルムとして好適に用いられる。
【符号の説明】
【0188】
１．Ａ面を有する層（Ｐ１層）
２．突起を有する面（Ａ面）
３．ＡＦＭ測定および走査型白色干渉顕微鏡測定におけるゼロ面（平均面；高さ０ｎｍ）
４．ＡＦＭ測定にて得られる高さ１０ｎｍ線（Ｒ１０ｎｍ）
５．走査型白色干渉顕微鏡測定にて高さ５０ｎｍ線（Ｒ５０ｎｍ）
６．Ａ面に存在する突起
７．Ｂ面を有する塗布層（Ｐ２層）
８．Ａ面とは反対の表面（Ｂ面）
９．２層構成（Ｐ１層／Ｐ２層）の二軸延伸ポリエステルフィルム
１０．中間層（Ｐ３層）
１１．３層構成（Ｐ１層／Ｐ３層／Ｐ２層）の二軸延伸ポリエステルフィルム
２．突起を有する面（Ａ面）
３．ＡＦＭ測定および走査型白色干渉顕微鏡測定におけるゼロ面（平均面；高さ０ｎｍ）
４．ＡＦＭ測定にて得られる高さ１０ｎｍ線（Ｒ１０ｎｍ）
５．走査型白色干渉顕微鏡測定にて高さ５０ｎｍ線（Ｒ５０ｎｍ）
６．Ａ面に存在する突起
７．Ｂ面を有する塗布層（Ｐ２層）
８．Ａ面とは反対の表面（Ｂ面）
９．２層構成（Ｐ１層／Ｐ２層）の二軸延伸ポリエステルフィルム
１０．中間層（Ｐ３層）
１１．３層構成（Ｐ１層／Ｐ３層／Ｐ２層）の二軸延伸ポリエステルフィルム
【図1】
【図2】
【図3】