特開2023-131035フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びフレキソ印刷版の製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023131035
(43)【公開日】2023-09-21
(54)【発明の名称】フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びフレキソ印刷版の製造方法
(51)【国際特許分類】
G03F 7/095 20060101AFI20230913BHJP
G03F 7/00 20060101ALI20230913BHJP
B41C 1/00 20060101ALI20230913BHJP
B41M 1/04 20060101ALI20230913BHJP
【ＦＩ】
G03F7/095
G03F7/00 502
B41C1/00
B41M1/04
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022035679
(22)【出願日】2022-03-08
(71)【出願人】
【識別番号】000000033
【氏名又は名称】旭化成株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100079108
【弁理士】
【氏名又は名称】稲葉 良幸
(74)【代理人】
【識別番号】100109346
【弁理士】
【氏名又は名称】大貫 敏史
(74)【代理人】
【識別番号】100117189
【弁理士】
【氏名又は名称】江口 昭彦
(74)【代理人】
【識別番号】100134120
【弁理士】
【氏名又は名称】内藤 和彦
(72)【発明者】
【氏名】秋山 弘貴
【テーマコード（参考）】
2H084
2H113
2H196
2H225
【Ｆターム（参考）】
2H084AA30
2H084AA32
2H084BB04
2H084CC01
2H113AA01
2H113BA01
2H196AA02
2H196BA06
2H196CA20
2H196EA02
2H196EA04
2H196GA08
2H225AC32
2H225AD02
2H225AM10N
2H225AM10P
2H225AM13P
2H225AM38N
2H225AM45P
2H225AM49P
2H225AM62N
2H225AN05N
2H225AN10P
2H225AN23P
2H225AN42P
2H225AP03P
2H225BA01P
2H225BA09P
2H225CA02
2H225CB01
2H225CB02
2H225CC29
(57)【要約】 （修正有）
【課題】高解像度の描画が可能な赤外線アブレーション層を有し、高温に放置した後であってもカバーフィルムの剥離が容易であるフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体等の提供。
【解決手段】少なくとも、支持体（ａ）と、該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、該赤外線アブレーション層（ｃ）上に積層される剥離力調整層（ｄ）と、該剥離力調整層（ｄ）上に積層されるカバーフィルム（ｆ）と、
を備え、該赤外線アブレーション層（ｃ）が、一般式[－（ＣＲ３Ｒ４－ＣＲ１Ｒ２）－]で表される構成単位ｃ１を有する樹脂を含有するフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
【選択図】図１
【解決手段】少なくとも、支持体（ａ）と、該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、該赤外線アブレーション層（ｃ）上に積層される剥離力調整層（ｄ）と、該剥離力調整層（ｄ）上に積層されるカバーフィルム（ｆ）と、
を備え、該赤外線アブレーション層（ｃ）が、一般式[－（ＣＲ３Ｒ４－ＣＲ１Ｒ２）－]で表される構成単位ｃ１を有する樹脂を含有するフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも、支持体（ａ）と、
該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、
該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、
該赤外線アブレーション層（ｃ）上に積層される剥離力調整層（ｄ）と、
該剥離力調整層（ｄ）上に積層されるカバーフィルム（ｆ）と、
を備え、
該赤外線アブレーション層（ｃ）が、下記一般式（１）で表される構成単位ｃ１を有する樹脂を含有し、
該剥離力調整層（ｄ）が飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）による分析において、
負イオンに関してＣ２Ｈ（ｍ／ｚ＝２５）の強度を１、正イオンに関してＣ２Ｈ３（ｍ／ｚ＝２７）の強度を１とした際に、
Ｃ２Ｎ３（ｍ／ｚ＝６６）の強度が０．３０以上７．００以下であり、
Ｃ６Ｈ５（ｍ／ｚ＝７７）の強度が０．０５以上０．４０以下である、
フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
（ここで、式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、非極性基を表し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子又は非極性基を表す。）
該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、
該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、
該赤外線アブレーション層（ｃ）上に積層される剥離力調整層（ｄ）と、
該剥離力調整層（ｄ）上に積層されるカバーフィルム（ｆ）と、
を備え、
該赤外線アブレーション層（ｃ）が、下記一般式（１）で表される構成単位ｃ１を有する樹脂を含有し、
該剥離力調整層（ｄ）が飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）による分析において、
負イオンに関してＣ２Ｈ（ｍ／ｚ＝２５）の強度を１、正イオンに関してＣ２Ｈ３（ｍ／ｚ＝２７）の強度を１とした際に、
Ｃ２Ｎ３（ｍ／ｚ＝６６）の強度が０．３０以上７．００以下であり、
Ｃ６Ｈ５（ｍ／ｚ＝７７）の強度が０．０５以上０．４０以下である、
フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
【化1】
【請求項2】
前記剥離力調整層（ｄ）が飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）による分析において、Ｃ３Ｈ５（ｍ／ｚ＝４１）の強度が３．００以上１６．００以下である、請求項１に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
【請求項3】
前記カバーフィルム（ｆ）がポリエチレンテレフタラートを含む、請求項１又は２に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
【請求項4】
前記一般式（１）のＲ１及びＲ２が、アルキル基である、請求項１～３のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
【請求項5】
前記樹脂は、前記構成単位（ｃ１）に加えて、モノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位（ｃ２）を含む、請求項１～４のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
【請求項6】
請求項１～５のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用い、
前記支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、
前記赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、
前記パターンが描画加工された前記赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、前記感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線照射してパターン露光する第三の工程と、
前記赤外線アブレーション層（ｃ）と前記感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去する第四の工程と、を、有する、
フレキソ印刷版の製造方法。
前記支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、
前記赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、
前記パターンが描画加工された前記赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、前記感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線照射してパターン露光する第三の工程と、
前記赤外線アブレーション層（ｃ）と前記感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去する第四の工程と、を、有する、
フレキソ印刷版の製造方法。
【請求項7】
請求項６に記載の製造方法によって製造されたフレキソ印刷版を用いて印刷する第五の工程と、を、有する、
フレキソ印刷方法。
フレキソ印刷方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びフレキソ印刷版の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、印刷画像のさらなる高精細化が求められている。一方、従来から、フレキソ印刷版の製造過程において、ＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｔｏ Ｐｌａｔｅ）技術によりネガフィルムを用いず、デジタルイメージを直接レーザーで描画する方法が広く用いられている。
【0003】
当該ＣＴＰ技術においては、フレキソ印刷版製造用の原版として、一般的に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂等の基板上に、感光性樹脂組成物層、赤外線で切除可能な赤外線アブレーション層、カバーフィルムが順に積層されたものが用いられる。
【0004】
カバーフィルムは使用時に剥離されるが、印刷画像の高精細化を実現するために、赤外線アブレーション層を変更した際に、剥離性が悪化するという問題があった。
【0005】
そこで、特許文献１では剥離性を向上させる目的でカバーフィルムに陰イオン界面活性剤を含有した剥離力調整層を積層する技術が提案されている。
【0006】
また、特許文献２においては、アミノ樹脂を含有した剥離力調整層が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特開２００９－１３９５９９号公報
【特許文献2】特開２０１３－１１４１３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
しかしながら、上述した剥離力調整層を用いてもより高解像度な描画が可能な赤外線アブレーション層に対しては十分に軽剥離化することが出来ず、特に３０℃以上の環境に長時間放置されてしまうとカバーフィルムの剥離が困難であった。
【0009】
そこで、本発明においては、上述した従来技術の問題点に鑑み、高解像度の描画が可能な赤外線アブレーション層を有し、高温に放置した後であってもカバーフィルムの剥離が容易であるフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びそれを用いたフレキソ印刷版の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、特定の赤外線アブレーション層と、剥離力調整層を有するフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体により、上述した課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0011】
すなわち、本発明は、下記のとおりである。
［１］
少なくとも、支持体（ａ）と、
該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、
該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、
該赤外線アブレーション層（ｃ）上に積層される剥離力調整層（ｄ）と、
該剥離力調整層（ｄ）上に積層されるカバーフィルム（ｆ）と、
を備え、
該赤外線アブレーション層（ｃ）が、下記一般式（１）で表される構成単位ｃ１を有する樹脂を含有し、
該剥離力調整層（ｄ）が飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）による分析において、
負イオンに関してＣ２Ｈ（ｍ／ｚ＝２５）の強度を１、正イオンに関してＣ２Ｈ３（ｍ／ｚ＝２７）の強度を１とした際に、
Ｃ２Ｎ３（ｍ／ｚ＝６６）の強度が０．３０以上７．００以下であり、
Ｃ６Ｈ５（ｍ／ｚ＝７７）の強度が０．０５以上０．４０以下である、
フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
（ここで、式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、非極性基を表し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子又は非極性基を表す。）
［２］
前記剥離力調整層（ｄ）が飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）による分析において、Ｃ３Ｈ５（ｍ／ｚ＝４１）の強度が３．００以上１６．００以下である、［１］に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
［３］
前記カバーフィルム（ｆ）がポリエチレンテレフタラートを含む、［１］又は［２］に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
［４］
前記一般式（１）のＲ１及びＲ２が、アルキル基である、［１］～［３］のいずれかに記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
［５］
前記樹脂は、前記構成単位（ｃ１）に加えて、モノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位（ｃ２）を含む、［１］～［４］のいずれかに記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
［６］
［１］～［５］のいずれかに記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用い、
前記支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、
前記赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、
前記パターンが描画加工された前記赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、前記感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線照射してパターン露光する第三の工程と、
前記赤外線アブレーション層（ｃ）と前記感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去する第四の工程と、を、有する、
フレキソ印刷版の製造方法。
［７］
［６］に記載の製造方法によって製造されたフレキソ印刷版を用いて印刷する第五の工程と、を、有する、
フレキソ印刷方法。
［１］
少なくとも、支持体（ａ）と、
該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、
該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、
該赤外線アブレーション層（ｃ）上に積層される剥離力調整層（ｄ）と、
該剥離力調整層（ｄ）上に積層されるカバーフィルム（ｆ）と、
を備え、
該赤外線アブレーション層（ｃ）が、下記一般式（１）で表される構成単位ｃ１を有する樹脂を含有し、
該剥離力調整層（ｄ）が飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）による分析において、
負イオンに関してＣ２Ｈ（ｍ／ｚ＝２５）の強度を１、正イオンに関してＣ２Ｈ３（ｍ／ｚ＝２７）の強度を１とした際に、
Ｃ２Ｎ３（ｍ／ｚ＝６６）の強度が０．３０以上７．００以下であり、
Ｃ６Ｈ５（ｍ／ｚ＝７７）の強度が０．０５以上０．４０以下である、
フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
【化1】
［２］
前記剥離力調整層（ｄ）が飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）による分析において、Ｃ３Ｈ５（ｍ／ｚ＝４１）の強度が３．００以上１６．００以下である、［１］に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
［３］
前記カバーフィルム（ｆ）がポリエチレンテレフタラートを含む、［１］又は［２］に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
［４］
前記一般式（１）のＲ１及びＲ２が、アルキル基である、［１］～［３］のいずれかに記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
［５］
前記樹脂は、前記構成単位（ｃ１）に加えて、モノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位（ｃ２）を含む、［１］～［４］のいずれかに記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
［６］
［１］～［５］のいずれかに記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用い、
前記支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、
前記赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、
前記パターンが描画加工された前記赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、前記感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線照射してパターン露光する第三の工程と、
前記赤外線アブレーション層（ｃ）と前記感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去する第四の工程と、を、有する、
フレキソ印刷版の製造方法。
［７］
［６］に記載の製造方法によって製造されたフレキソ印刷版を用いて印刷する第五の工程と、を、有する、
フレキソ印刷方法。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、高解像度の描画が可能な赤外線アブレーション層を有し、高温に放置した後であってもカバーフィルムの剥離が容易であるフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びそれを用いたフレキソ印刷版の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明の実施の形態（以下、「本実施形態」という。）について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【0015】
〔フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体〕
本実施形態のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体は、少なくとも、支持体（ａ）と、該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、該赤外線アブレーション層（ｃ）上に積層される剥離力調整層（ｄ）と、該剥離力調整層（ｄ）上に積層されるカバーフィルム（ｆ）を備える。
本実施形態のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体は、少なくとも、支持体（ａ）と、該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、該赤外線アブレーション層（ｃ）上に積層される剥離力調整層（ｄ）と、該剥離力調整層（ｄ）上に積層されるカバーフィルム（ｆ）を備える。
【0016】
図１に、本実施形態のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体（以下、単に「本構成体」ともいう）の概略断面図を示す。本構成体は、支持体（ａ）と、フレキソ印刷版の凹凸パターンが形成される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、その凹凸パターン形成時にマスクとして機能する赤外線アブレーション層（ｃ）と、カバーフィルム（ｆ）の剥離力を低下させる剥離力調整層（ｄ）が積層されたものであり、各層の間には必要に応じて他の層が設けられていてもよい。以下、本構成体について、詳説する。
【0017】
（支持体（ａ））
本構成体に用いる支持体（ａ）としては、特に制限されないが、例えば、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム等が挙げられる。
本構成体に用いる支持体（ａ）としては、特に制限されないが、例えば、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム等が挙げられる。
【0018】
このなかでも、支持体（ａ）としてはポリエステルフィルムが好ましい。支持体（ａ）に用いるポリエステルとしては、特に制限されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。
【0019】
支持体（ａ）の厚みは、特に制限されないが、好ましくは５０～３００μｍである。
【0020】
また、支持体（ａ）と、後述する感光性樹脂組成物層（ｂ）との間の接着力を高める目的で、支持体（ａ）上に接着剤層を設けてもよい。当該接着剤層としては、特に制限されないが、例えば、ＷＯ２００４／１０４７０１号公報に記載の接着剤層が挙げられる。
【0021】
（感光性樹脂組成物層（ｂ））
本構成体は、支持体（ａ）上に感光性樹脂組成物層（ｂ）を有する。感光性樹脂組成物層（ｂ）は、支持体（ａ）上に直接積層されていてもよいし、上記接着剤層等を介して間接的に積層されていてもよい。
本構成体は、支持体（ａ）上に感光性樹脂組成物層（ｂ）を有する。感光性樹脂組成物層（ｂ）は、支持体（ａ）上に直接積層されていてもよいし、上記接着剤層等を介して間接的に積層されていてもよい。
【0022】
感光性樹脂組成物層（ｂ）は、特に制限されないが、例えば、熱可塑性エラストマー（ｂ－１）を含有し、好ましくは、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）、光重合開始剤（ｂ－３）、液状ジエンをさらに含有していてもよい。また、感光性樹脂組成物層（ｂ）は、必要に応じて、補助添加成分をさらに含有してもよい。以下、各成分について詳説する。
【0023】
＜熱可塑性エラストマー（ｂ－１）＞
熱可塑性エラストマー（ｂ－１）としては、特に制限されないが、例えば、モノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位と共役ジエンに由来する構成単位とを有する共重合体が挙げられる。なお、熱可塑性エラストマー（ｂ－１）は、その他の単量体に由来する構成単位をさらに有していてもよい。このような熱可塑性エラストマーを用いることにより、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性がより向上する傾向にある。
熱可塑性エラストマー（ｂ－１）としては、特に制限されないが、例えば、モノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位と共役ジエンに由来する構成単位とを有する共重合体が挙げられる。なお、熱可塑性エラストマー（ｂ－１）は、その他の単量体に由来する構成単位をさらに有していてもよい。このような熱可塑性エラストマーを用いることにより、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性がより向上する傾向にある。
【0024】
当該熱可塑性エラストマー（ｂ－１）としては、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよいが、モノビニル置換芳香族炭化水素からなる重合体ブロックと共役ジエンからなる重合体ブロックと、を有する、ブロック共重合体が好ましい。このような熱可塑性エラストマーを用いることにより、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性がより向上する傾向にある。
【0025】
当該熱可塑性エラストマー（ｂ－１）を構成するモノビニル置換芳香族炭化水素としては、特に制限されないが、例えば、スチレン、ｔ－ブチルスチレン、１，１－ジフェニルエチレン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｐ－アミノエチルスチレン、Ｎ，Ｎ－ジエチル－ｐ－アミノエチルスチレン、ビニルピリジン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－メトキシスチレン、第三級ブチルスチレン、α－メチルスチレン、１，１－ジフェニルエチレン等が挙げられる。これらは１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0026】
このなかでも、感光性樹脂組成物層（ｂ）を比較的低温で平滑に成形できる観点から、モノビニル置換芳香族炭化水素としてはスチレンが好ましい。
【0027】
熱可塑性エラストマー（ｂ－１）を構成する共役ジエンとしては、特に制限されないが、例えば、ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、２－メチル－１，３－ペンタジエン、１，３－ヘキサジエン、４，５－ジエチル－１，３－オクタジエン、３－ブチル－１，３－オクタジエン、クロロプレン等が挙げられる。これらは１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0028】
このなかでも、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、共役ジエンとしてはブタジエンが好ましい。
【0029】
熱可塑性エラストマー（ｂ－１）の数平均分子量（Ｍｎ）は、常温における粘凋性の観点から、２０，０００～３００，０００であることが好ましく、５０，０００～２００，０００であることがより好ましい。数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができ、ポリスチレン換算分子量で表される。
【0030】
熱可塑性エラストマー（ｂ－１）が、モノビニル置換芳香族炭化水素からなる重合体ブロックと、共役ジエンからなる重合体ブロックと、を有するブロック共重合体である場合、熱可塑性エラストマー（ｂ－１）は、例えば、下記の一般式群（Ｉ）で表される直鎖状ブロック共重合体、及び／又は下記の一般式群（ＩＩ）で表される直鎖状ブロック共重合体若しくはラジアルブロック共重合体を包含する。
【0031】
一般式群（Ｉ）：
（Ａ－Ｂ）ｎ、Ａ－（Ｂ－Ａ）ｎ、Ａ－（Ｂ－Ａ）ｎ－Ｂ、Ｂ－（Ａ－Ｂ）ｎ
（Ａ－Ｂ）ｎ、Ａ－（Ｂ－Ａ）ｎ、Ａ－（Ｂ－Ａ）ｎ－Ｂ、Ｂ－（Ａ－Ｂ）ｎ
【0032】
一般式群（ＩＩ）：
［（Ａ－Ｂ）ｋ］ｍ－Ｘ、［（Ａ－Ｂ）ｋ－Ａ］ｍ－Ｘ、［（Ｂ－Ａ）ｋ］ｍ－Ｘ、［（Ｂ－Ａ）ｋ－Ｂ］ｍ－Ｘ
［（Ａ－Ｂ）ｋ］ｍ－Ｘ、［（Ａ－Ｂ）ｋ－Ａ］ｍ－Ｘ、［（Ｂ－Ａ）ｋ］ｍ－Ｘ、［（Ｂ－Ａ）ｋ－Ｂ］ｍ－Ｘ
【0033】
一般式群（Ｉ）及び（ＩＩ）中、Ａは、モノビニル置換芳香族炭化水素からなる重合体ブロックを示す。また、Ｂは、共役ジエンからなる重合体ブロックを示す。Ｘは、四塩化ケイ素、四塩化スズ、エポキシ化大豆油、ポリハロゲン化炭化水素化合物、カルボン酸エステル化合物、ポリビニル化合物、ビスフェノール型エポキシ化合物、アルコキシシラン化合物、ハロゲン化シラン化合物、エステル系化合物等のカップリング剤の残基又は多官能有機リチウム化合物等の重合開始剤の残基を示す。
【0034】
一般式群（Ｉ）及び（ＩＩ）中、ｎ、ｋ及びｍは、１以上の整数を示し、例えば１～５の整数である。
【0035】
熱可塑性エラストマー（ｂ－１）中の共役ジエン及びモノビニル置換芳香族炭化水素の含有量は、核磁気共鳴装置（１Ｈ－ＮＭＲ）を用いて測定することができる。具体的には、１Ｈ－ＮＭＲの測定機器として、ＪＮＭ－ＬＡ４００（ＪＥＯＬ製、商品名）を用い、溶媒に重水素化クロロホルムを用い、サンプル濃度を５０ｍｇ／ｍＬとし、観測周波数を４００ＭＨｚ、化学シフト基準にＴＭＳ（テトラメチルシラン）を用い、パルスディレイを２．９０４秒、スキャン回数を６４回、パルス幅を４５°、測定温度を２５℃に設定し、測定することができる。
【0036】
熱可塑性エラストマー（ｂ－１）において、モノビニル置換芳香族炭化水素と共役ジエンとの共重合比率（質量比）は、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、モノビニル置換芳香族炭化水素／共役ジエン＝１０／９０～９０／１０であることが好ましく、１０／９０～８５／１５であることがより好ましく、１０／９０～６０／４０であることがさらに好ましい。
【0037】
上記共重合比率（質量比）において、モノビニル置換芳香族炭化水素の割合が１０以上であると、感光性樹脂組成物層（ｂ）において十分な硬度が得られ、通常の印刷の圧力により適切な印刷を行うことができる。また、上記共重合比率（質量比）においてモノビニル置換芳香族炭化水素の割合が９０以下であると、感光性樹脂組成物層（ｂ）において適切な硬度が得られ、印刷工程においてインキを印刷対象に十分に転移できる。
【0038】
熱可塑性エラストマー（ｂ－１）には、必要に応じて、他の官能基が導入されていたり、水素添加等の化学修飾がなされていたり、他の成分が共重合されていたりしてもよい。
【0039】
感光性樹脂組成物層（ｂ）中の熱可塑性エラストマー（ｂ－１）の含有量は、本構成体を用いて得られるフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、４０質量％以上であることが好ましく、４０～８０質量％であることがより好ましく、４５～８０質量％であることがさらに好ましく、４５～７５質量％であることがさらにより好ましい。
【0040】
＜エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）＞
感光性樹脂組成物層（ｂ）は、上述したように、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）を含有することが好ましい。エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）とは、ラジカル重合可能な不飽和二重結合を有する化合物である。
感光性樹脂組成物層（ｂ）は、上述したように、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）を含有することが好ましい。エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）とは、ラジカル重合可能な不飽和二重結合を有する化合物である。
【0041】
このようなエチレン性不飽和化合物（ｂ－２）としては、特に制限されないが、例えば、エチレン、プロピレン、ビニルトルエン、スチレン、ジビニルベンゼン等のオレフィン類；アセチレン類；（メタ）アクリル酸及び／又はその誘導体；ハロオレフィン類；アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類；アクリルアミドやメタクリルアミド等の不飽和アミド及びその誘導体；無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等の不飽和ジカルボン酸及びその誘導体；酢酸ビニル類；Ｎ－ビニルピロリドン；Ｎ－ビニルカルバゾール；Ｎ－置換マレイミド化合物等が挙げられる。
【0042】
このなかでも、紫外線硬化性や硬化後の感光性樹脂組成物層（ｂ）の耐刷性の観点から、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）としては、（メタ）アクリル酸及び／又はその誘導体が好ましい。
【0043】
上記各誘導体としては、特に制限されないが、例えば、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基等を有する脂環族化合物；ベンジル基、フェニル基、フェノキシ基、あるいはナフタレン骨格、アントラセン骨格、ビフェニル骨格、フェナントレン骨格、フルオレン骨格等を有する芳香族化合物；アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、グリシジル基等を有する化合物；アルキレングリコール、ポリオキシアルキレングリコール、ポリアルキレングリコールやトリメチロールプロパン等の多価アルコールとのエステル化合物；ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン等のポリシロキサン構造を有する化合物等が挙げられる。
【0044】
また、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）は、窒素、硫黄等の元素を含有した複素芳香族化合物であってもよい。
【0045】
上記（メタ）アクリル酸及び／又はその誘導体としては、特に制限されないが、例えば、ヘキサンジオール、ノナンジオール等のアルカンジオールのジアクリレート及びジメタクリレート；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ブチレングリコールのジアクリレート及びジメタクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート；イソボロニル（メタ）アクリレート；フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート；ペンタエリトリットテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは１種のみを単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【0046】
本構成体を用いて得られるフレキソ印刷版の機械強度の観点から、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）としては、少なくとも１種類以上の（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、少なくとも１種類以上の２官能（メタ）アクリレートを用いることがより好ましい。
【0047】
エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）の数平均分子量（Ｍｎ）は、本構成体の製造時及び／又は保管時におけるエチレン性不飽和化合物（ｂ－２）の不揮発性を向上する観点から１００以上であることが好ましく、他成分との相溶性の観点から１０００未満であることが好ましく、２００以上８００以下であることがより好ましい。
【0048】
感光性樹脂組成物層（ｂ）におけるエチレン性不飽和化合物（ｂ－２）の含有量は、本構成体を用いて得られるフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、２質量％以上２５質量％以下であることがより好ましく、２質量％以上２０質量％以下であることがさらに好ましい。
【0049】
＜光重合開始剤（ｂ－３）＞
感光性樹脂組成物層（ｂ）は、光重合開始剤（ｂ－３）を含有することが好ましい。光重合開始剤（ｂ－３）とは、光のエネルギーを吸収し、ラジカルを発生する化合物であり、崩壊型光重合開始剤、水素引抜き型光重合開始剤、水素引抜き型光重合開始剤として機能する部位と崩壊型光重合開始剤として機能する部位を同一分子内に有する化合物等が挙げられる。
感光性樹脂組成物層（ｂ）は、光重合開始剤（ｂ－３）を含有することが好ましい。光重合開始剤（ｂ－３）とは、光のエネルギーを吸収し、ラジカルを発生する化合物であり、崩壊型光重合開始剤、水素引抜き型光重合開始剤、水素引抜き型光重合開始剤として機能する部位と崩壊型光重合開始剤として機能する部位を同一分子内に有する化合物等が挙げられる。
【0050】
このような光重合開始剤（ｂ－３）としては、特に制限されないが、例えば、ベンゾフェノン、４，４－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、３，３’，４，４’－テトラメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；ｔ－ブチルアントラキノン、２－エチルアントラキノン等のアントラキノン類；２，４－ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン等のチオキサントン類；ミヒラーケトン；ジエトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルホリノ－プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、トリクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド類；メチルベンゾイルホルメート；１，７－ビスアクリジニルヘプタン；９－フェニルアクリジン；アゾビスイソブチロニトリル、ジアゾニウム化合物、テトラゼン化合物等のアゾ化合物類が挙げられる。これらは１種のみを単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【0051】
このなかでも、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、光重合開始剤（ｂ－３）としては、カルボニル基を有する化合物が好ましく、ベンゾフェノン類、チオキサントン類などの芳香族カルボニル化合物がより好ましい。
【0052】
感光性樹脂組成物層（ｂ）における光重合開始剤（ｂ－３）の含有量は、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、０．１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上５質量％以下であることがより好ましく、０．５質量％以上５質量％以下であることがさらに好ましい。
【0053】
＜液状ジエン＞
感光性樹脂組成物層（ｂ）には、液状ジエンを含有することが好ましい。液状ジエンとは液状の炭素・炭素二重結合を有する化合物である。ここで、本明細書中、「液状ジエン」の「液状」とは、容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する性状を意味する。液状ジエンは、外力を加えたときに、その外力に応じて瞬時に変形し、かつ外力を除いたときには、短時間に元の形状を回復する性質を有するエラストマー性を備える。
感光性樹脂組成物層（ｂ）には、液状ジエンを含有することが好ましい。液状ジエンとは液状の炭素・炭素二重結合を有する化合物である。ここで、本明細書中、「液状ジエン」の「液状」とは、容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する性状を意味する。液状ジエンは、外力を加えたときに、その外力に応じて瞬時に変形し、かつ外力を除いたときには、短時間に元の形状を回復する性質を有するエラストマー性を備える。
【0054】
液状ジエンとしては、特に制限されないが、例えば、液状ポリブタジエン、液状ポリイソプレン、液状ポリブタジエンの変性物、液状ポリイソプレンの変性物、液状アクリルニトリル－ブタジエンの共重合体、液状スチレン－ブタジエン共重合体が挙げられる。液状ジエンは、ジエン成分が５０質量％以上の共重合体であるものとする。
【0055】
このなかでも、本構成体及びこれを用いたフレキソ印刷版の機械物性の観点から、液状ジエンとしては液状ポリブタジエンが好ましい。
【0056】
また、液状ジエン、好ましくは液状ポリブタジエンの１，２－ビニル結合量は、本構成体及びこれを用いたフレキソ印刷版の硬度を適切なものとする観点から、１％以上８０％以下が好ましく、５％以上７０％以下がより好ましく、５％以上６５％以下がさらに好ましい。
【0057】
ここで「１，２－ビニル結合量」とは、１，２－結合、３，４－結合、及び１，４－結合の結合様式で組み込まれている共役ジエン単量体の中で、１，２－結合で組み込まれているものの割合である。１，２－ビニル結合量は、液状ポリブタジエンの１Ｈ－ＮＭＲ（磁気共鳴スペクトル）のピーク比から求めることができる。
【0058】
なお、１，２－ビニル結合を有する液状ポリブタジエンである１，２－ポリブタジエンは、二重結合であるビニルが側鎖になっているため、ラジカル重合の反応性が高く、感光性樹脂組成物層（ｂ）の硬度を高める観点において好ましい。
【0059】
また、液状ポリブタジエンは、通常、１，２－ビニル結合を有する１，２－ポリブタジエンと、１，４－ビニル結合を有する１，４－ポリブタジエンとの混合物であるが、本構成体及びこれを用いたフレキソ印刷版の柔軟性を向上させるためには、液状ジエン中に、１，４－ポリブタジエンを含有させることが有効である。１，４－ポリブタジエンには、シス型の１，４－ポリブタジエンと、トランス型の１，４－ポリブタジエンとがある。１，４－ポリブタジエンは、シス型及びトランス型のいずれにおいても、二重結合であるビニル基が内部に存在するため、ラジカル重合における反応性が低く、柔軟な樹脂を形成することが可能である。
【0060】
複数の異なる１，２－ビニル結合量を有する液状ポリブタジエンを混合して用いる場合は、その平均値を、上記１，２－ビニル結合量とする。
【0061】
感光性樹脂組成物層（ｂ）の反応性を容易に調整できるという観点から、１，２－ビニル結合量が１０％以下の液状ポリブタジエンと、１，２－ビニル結合量が８０％以上の液状ポリブタジエンとを混合し、全体の１，２－ビニル結合量を調整することが好ましい。より好ましくは、５％以下の１，２－ビニル結合量の液状ポリブタジエンと、８０％以上の１，２－ビニル結合量の液状ポリブタジエンとを混合し、全体の１，２－ビニル結合量を調整することが好ましい。
【0062】
また、液状ジエンの数平均分子量については、２０℃において液状である限り、特に限定されないが、本構成体を用いて得られるフレキソ印刷版の耐刷性、取扱性の観点から、好ましくは５００以上６００００以下であり、より好ましくは５００以上５００００以下であり、さらに好ましくは８００以上５００００以下である。
【0063】
感光性樹脂組成物層（ｂ）における液状ジエンの含有量は、本構成体及びこれを用いたフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、１０質量％以上４０質量％以下が好ましく、１５質量％以上４０質量％以下がより好ましく、２０質量％以上４０質量％以下がさらに好ましい。
【0064】
＜補助添加成分＞
補助添加成分としては、特に制限されないが、例えば、極性基含有ポリマー、液状ジエン以外の可塑剤、安定剤以外の熱重合防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料・顔料等が挙げられる。
補助添加成分としては、特に制限されないが、例えば、極性基含有ポリマー、液状ジエン以外の可塑剤、安定剤以外の熱重合防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料・顔料等が挙げられる。
【0065】
極性基含有ポリマーとしては、特に制限されないが、例えば、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、燐酸基、スルホン酸基等の親水性基、それらの塩等の極性基を有する水溶性又は水分散性共重合体が挙げられる。さらに具体的には、カルボキシル基含有アクリロニトリル－ブタジエンゴム、カルボキシル基含有スチレン－ブタジエンゴム、カルボキシル基を含有した脂肪族共役ジエンの重合体、燐酸基、又はカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物の乳化重合体、スルホン酸基含有ポリウレタン、カルボキシル基含有ブタジエンラテックス等が挙げられる。これらの極性基含有ポリマーは、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
【0066】
このなかでも、本構成体を用いたフレキソ印刷版において高い解像度を得る観点から、極性基含有ポリマーとしては、カルボキシル基含有ブタジエンラテックスが好ましい。
【0067】
液状ジエン以外の可塑剤としては、特に制限されないが、例えば、ナフテン油、パラフィン油等の炭化水素油；液状アクリルニトリル－ブタジエン共重合体、液状スチレン－ブタジエン共重合体等の液状のジエンを主体とする共役ジエンゴム；数平均分子量２０００以下のポリスチレン；セバシン酸エステル、フタル酸エステル等のエステル系可塑剤が挙げられる。これらその他の可塑剤は、ヒドロキシル基やカルボキシル基を有していてもよい。また、これらその他の可塑剤には（メタ）アクリロイル基等の光重合性の反応基が付与されていてもよい。その他の可塑剤は、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0068】
熱重合防止剤及び酸化防止剤としては、樹脂材料又はゴム材料の分野において通常使用されるものを用いることができる。具体的には、フェノール系の材料が挙げられる。
【0069】
このようなフェノール系の材料としては、特に制限されないが、例えば、ビタミンＥ、テトラキス－（メチレン－３－（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート）メタン、２，５－ジ－ｔ－ブチルハイドロキノン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、２－ｔ－ブチル－６－（３－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシ－５－メチルベンジル）－４－メチルフェニルアクリレート等が挙げられる。熱重合防止剤及び酸化防止剤は、１種のみを単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0070】
紫外線吸収剤としては、特に制限されないが、例えば、公知のベンゾフェノン系化合物、サルチレート系化合物、アクリロニトリル系化合物、金属錯塩系化合物、ヒンダートアミン系化合物が挙げられる。また下記に示す、染料・顔料を紫外線吸収剤として使用してもよい。
【0071】
このような紫外線吸収剤としては、特に制限されないが、例えば、２－エトキシ－２’－エチルオキザリックアシッドビスアニリド、２，２’－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【0072】
染料・顔料は、視認性向上のための着色手段として有効である。
【0073】
染料としては、特に制限されないが、例えば、水溶性である塩基性染料、酸性染料、直接染料等や、非水溶性である硫化染料、油溶染料、分散染料等が挙げられる。特にアントラキノン系染料、インジゴイド系染料、アゾ系染料が好ましく、アゾ系油溶染料等がより好ましい。
【0074】
顔料としては、特に制限されないが、例えば、天然顔料、合成無機顔料、合成有機顔料等が挙げられる。合成有機顔料としては、アゾ系顔料、トリフェニルメタン系顔料、キノリン系顔料、アントラキノン系顔料、フタロシアニン系顔料が挙げられる。
【0075】
上述した補助添加成分の総添加量は、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、０質量％以上１０質量％以下が好ましく、０質量％以上５質量％以下がより好ましく、０質量％以上３質量％以下がさらに好ましい。
【0076】
（赤外線アブレーション層（ｃ））
本構成体は、上述した感光性樹脂組成物層（ｂ）の上に、赤外線アブレーション層（ｃ）が積層されている。赤外線アブレーション層（ｃ）は、所定の樹脂を含有し、赤外線レーザーで切除可能であり、かつ、赤外線以外の光線遮蔽層としての機能を有している。
本構成体は、上述した感光性樹脂組成物層（ｂ）の上に、赤外線アブレーション層（ｃ）が積層されている。赤外線アブレーション層（ｃ）は、所定の樹脂を含有し、赤外線レーザーで切除可能であり、かつ、赤外線以外の光線遮蔽層としての機能を有している。
【0077】
赤外線アブレーション層（ｃ）を高精細に加工するためには、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザーに対する感度を向上させる必要がある。ここで、「レーザーに対する感度」とは、同じレーザーエネルギーで描画した際に、よりアブレーションされる体積、特に深さ方向へ大きくアブレーションされることを意味する。
【0078】
検討の結果、本発明者らは、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度を向上させるには、赤外線アブレーション層に含まれる樹脂が解重合しやすいことが重要であることを見出した。「解重合」とは重合反応の逆反応で、重合体が単量体に分解する反応をいう。
【0079】
赤外線照射により赤外線アブレーション層は瞬間的に数百度の高温に達する。その際に、解重合しやすい樹脂であると短時間のアブレーションであっても効率よく樹脂中の主鎖の分解が起こり、それにより分子量が急激に下がり、赤外線アブレーション層から除去される。一方で、解重合しにくい樹脂、例えば側鎖に極性基を有する樹脂ではアブレーション時に側鎖の分解のみが起こり主鎖の切断が起こらない。そのため、赤外線照射後も樹脂が赤外線アブレーション層に残ってしまう。縮重合により得られた樹脂は、分解時に環構造を形成したのち、主鎖の切断が起こることが知られている。これにより、短時間での熱処理である赤外線アブレーションでは分子量の低下が起こりにくくレーザー感度が悪くなってしまう。
【0080】
これらのメカニズムから、赤外線アブレーション層（ｃ）は解重合しやすい樹脂を含有することが重要である。一般に、主鎖の開裂は枝分かれなど高分子中に存在する熱的に不安定な部分から開始しやすいことが分かっている。しかし、この際に上述した様に枝分かれに当たる側鎖が極性を持っていると側鎖の分解が支配的に起こりやすくなり、主鎖の切断が生じにくいので好ましくない。
【0081】
そのため、赤外線アブレーション層（ｃ）に含まれる樹脂の側鎖は、非極性基であることが重要である。また、主鎖開裂が進行する際には分子内または分子間での連鎖移動の寄与が無視できない。そのため、連鎖移動により引き抜かれやすい第三級水素を持たない方が良い。すなわち、枝分かれの対称面に当たる部分も非極性基であることが好ましい。
【0082】
（樹脂）
本実施形態の赤外線アブレーション層（ｃ）に含まれる樹脂は、下記一般式（１）で表されるように、２つの非極性基が結合する４級炭素原子を含む構成単位（ｃ１）を有し、必要に応じて、他の構成単位を有していてもよい。
（ここで、式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、非極性基を表し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、又は非極性基を表す。）
本実施形態の赤外線アブレーション層（ｃ）に含まれる樹脂は、下記一般式（１）で表されるように、２つの非極性基が結合する４級炭素原子を含む構成単位（ｃ１）を有し、必要に応じて、他の構成単位を有していてもよい。
【化2】
【0083】
なお、本実施形態において、「単量体」とは、重合前の化合物を意味し、「構成単位」とは、単量体が重合することで構成される所定の繰り返し単位を意味する。
【0084】
上記一般式（１）における非極性基としては、炭素原子及び／又はケイ素原子と水素原子により構成される基であれば特に制限されないが、例えば、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、フェニル基、アルケニル基、アラルキル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シリル基、シロキサニル基、などが挙げられる。なお、非極性基には水素原子は含まれない。
【0085】
この中でも、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度の観点から、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の示す基としては、アルキル基、フェニル基が好ましく、また、Ｒ１及びＲ２の示す基が、アルキル基、フェニル基であり、Ｒ３及びＲ４の非極性基が、アルキル基、フェニル基であること、または、Ｒ１及びＲ２の示す基が、アルキル基、フェニル基であり、Ｒ３及びＲ４が、水素原子であることがより好ましい。これにより、解重合性が上がり、レーザー感度が向上する傾向にある。
【0086】
また、この中でもレーザー感度の観点から、Ｒ１の示す基としては、アルキル基、フェニル基、アシル基が好ましい。
【0087】
上記非極性基の炭素数は、好ましくは１以上２０以下であり、より好ましくは１以上１０以下であり、さらに好ましくは１以上５以下である。
【0088】
一般式（１）を満たす単量体としては、特に制限されないが、例えば、イソブチレン、２－メチル－２－ブテン、２，３－ジメチル－２－ブテン、及びこれらのメチル基がエチル基などの他のアルキル基に置換したもの、これらの変性物；α－メチルスチレン、シス－（１－メチル－１－プロペニル）ベンゼン、トランス－（１－メチル－１－プロペニル）ベンゼン、及びこれらのメチル基がエチル基などの他のアルキル基に置換したもの、これらの変性物；１，１－ジフェニルエチレン等が挙げられる。
【0089】
一般式（１）においてＲ３及びＲ４が、水素原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、フェニル基、アルケニル基、アラルキル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シリル基、シロキサニル基であることが好ましく、共に水素原子であることがより好ましい。これにより、樹脂の解重合性がより向上するため、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度がより向上する傾向にある。
【0090】
このような構成を満たすものとして、具体的には、イソブチレン、α－メチルスチレン、及びこれらのメチル基がエチル基などの他のアルキル基に置き換わったもの等が挙げられる。なお、α－メチルスチレンなどのフェニル基を有する単量体を用いることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）の耐ピンホール性がさらに向上する傾向にある。
【0091】
更に、一般式（１）においてＲ１及びＲ２が、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、フェニル基、アルケニル基、アラルキル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シリル基、シロキサニル基であることが好ましく、アルキル基、フェニル基であることがより好ましく、それぞれ独立に、アルキル基であることがさらに好ましい。Ｒ１及び／又はＲ２がアルキル基であることにより、ゴム状弾性を得ることができる。そのため、エラストマーにおけるソフト部となることができ、赤外線アブレーション層（ｃ）の可撓性がより向上する傾向にある。また、Ｒ１及び／又はＲ２がフェニル基であることにより、本構成体を比較的低温で平滑に成形できる傾向にある。
【0092】
また、構成単位（ｃ１）は１種単独で用いても、２種以上を併用していてもよい。例えば、上記樹脂は、構成単位（ｃ１）として、Ｒ１及びＲ２がアルキル基である構成単位と、Ｒ１及びＲ２の一方がアルキル基であり、もう一方がフェニル基である構成単位とを有していてもよい。これにより、アルキル基とフェニル基の両方の特性を向上することができる。
【0093】
このような構成を満たすものとして、具体的には、イソブチレン、及びこれらのメチル基がエチル基などの他のアルキル基に置換したものが挙げられる。
【0094】
また、構成単位（ｃ１）の含有量は、樹脂の総量に対して、好ましくは４０質量％以上であり、より好ましくは５０質量％以上であり、さらに好ましくは６０質量％以上であり、よりさらに好ましくは７０質量％以上であり、さらにより好ましくは８０質量％以上である。また、構成単位（ｃ１）の含有量は、樹脂の総量に対して、好ましくは１００質量％以下であり、より好ましくは９５質量％以下であり、さらに好ましくは９０質量％以下であり、よりさらに好ましくは８５質量％以下であり、さらにより好ましくは８０質量％以下である。これらの数値の上下限は任意に組み合わせられる。
【0095】
構成単位（ｃ１）の含有量が４０質量％以上であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度および可撓性がより向上する傾向にある。また、構成単位（ｃ１）の含有量が１００質量％以下であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）の耐ピンホール性がより向上する傾向にある。
【0096】
赤外線アブレーション層（ｃ）で用いる上記樹脂は、構成単位（ｃ１）に加えて、側鎖に芳香族基を含む構成単位（ｃ２）を含有することが好ましい。構成単位（ｃ２）としては、モノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位（ｃ２）が好ましい。モノビニル芳香族炭化水素は一般式（１）で表される単量体と化学的に結合されていても良いし、別々の樹脂として添加しても良いが、分散性やそれによるレーザー加工均一性の観点で化学的に結合し共重合体となっていることが好ましい。樹脂がモノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位（ｃ２）を含有することで、耐ピンホール性がより向上する傾向にある。
【0097】
モノビニル芳香族炭化水素化合物としては、特に制限されないが、例えば、スチレン、ｔ－ブチルスチレン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｐ－アミノエチルスチレン、Ｎ，Ｎ－ジエチル－ｐ－アミノエチルスチレン、ビニルピリジン、ｐ－メチルスチレン、第三級ブチルスチレン等の単量体が挙げられる。このなかでも、本構成体を比較的低温で平滑に成形できることからスチレンが好ましい。構成単位（ｃ２）は、１種のみを単独でも２種以上の併用でもよい。
【0098】
構成単位（ｃ２）の含有量は、樹脂の総量に対して、好ましくは０質量％以上であり、より好ましくは５質量％以上であり、さらに好ましくは１０質量％以上であり、よりさらに好ましくは１５質量％以上であり、さらにより好ましくは２０質量％以上である。また、構成単位（ｃ２）の含有量は、樹脂の総量に対して、好ましくは６０質量％以下であり、より好ましくは５５質量％以下であり、さらに好ましくは５０質量％以下であり、よりさらに好ましくは４５質量％以下であり、さらにより好ましくは４０質量％以下である。これらの数値の上下限は任意に組み合わせられる。
【0099】
構成単位（ｃ２）の含有量が０質量％以上であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）の耐ピンホール性がより向上する傾向にある。また、構成単位（ｃ２）の含有量が６０質量％以下であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度および可撓性がより向上する傾向にある。なお、「０質量％以上」とは、構成単位（ｃ２）を含有している態様と、含有していない態様の両方を含むものである。これらの数値の上下限は任意に組み合わせられる。
【0100】
なお、赤外線アブレーション層（ｃ）で用いる上記樹脂における構成単位（ｃ１）及び（ｃ２）等の含有量や比率は、核磁気共鳴装置（１Ｈ－ＮＭＲ）を用いて測定することができる。
【0101】
赤外線アブレーション層（ｃ）は、上記樹脂以外にもその他の樹脂を含有してもよい。その場合、上記樹脂の含有量は、赤外線アブレーション層（ｃ）の全樹脂成分に対して、好ましくは５０質量％以上であり、より好ましくは７０質量％以上１００質量％以下である。上記樹脂の含有量が上記範囲内であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度および可撓性がより向上する傾向にある。また、上記その他の樹脂として側鎖に極性基を有する樹脂を使用する場合には、レーザー感度の観点から、上記樹脂を全樹脂成分中で７０％以上含有することが好ましい。
【0102】
上記樹脂の含有量は、赤外線アブレーション層（ｃ）の総量に対して、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることがさらに好ましい。また、上記樹脂の含有量は、赤外線アブレーション層（ｃ）の総量に対して、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることがさらに好ましい。これらの数値の上下限は任意に組み合わせられる。
【0103】
上記樹脂の含有量が２０質量％以上であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）の耐ピンホール性および可撓性がより向上する傾向にある。また、上記樹脂の含有量が９０質量％以下であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度や遮蔽性がより向上する傾向にある。
【0104】
（赤外線吸収物質）
赤外線アブレーション層（ｃ）は、アブレーション加工を行うため赤外線吸収物質を含有してもよい。赤外線吸収物質には通常７５０～２０００ｎｍの範囲で強い吸収をもつ単体あるいは化合物が使用される。
赤外線アブレーション層（ｃ）は、アブレーション加工を行うため赤外線吸収物質を含有してもよい。赤外線吸収物質には通常７５０～２０００ｎｍの範囲で強い吸収をもつ単体あるいは化合物が使用される。
【0105】
そのような赤外線吸収物質としては、特に制限されないが、例えば、カーボンブラック、グラファイト、亜クロム酸銅、酸化クロムなどの無機顔料；ポリフタロシアニン化合物、シアニン色素、金属チオレート色素などの色素類などが挙げられる。粒径が小さいほど赤外線レーザーに対する感度も高くなるが、特にカーボンブラックは粒径が１３ｎｍ以上８５ｎｍ以下の広い範囲で使用が可能であり、赤外線吸収物質として好ましい。また、カーボンブラックは下記遮蔽物質としても機能し得る。これら赤外線吸収物質は、使用するレーザー光線で切除可能な感度を付与する範囲で添加される。
【0106】
（遮蔽物質）
赤外線アブレーション層（ｃ）は、マスクとしての役割を担うため、紫外線などの非赤外線に対する遮蔽物質を含有してもよい。非赤外線に対する遮蔽物質としては紫外光を反射または吸収する物質を用いることができる。紫外線吸収剤やカーボンブラック、グラファイトなどが挙げられる。
赤外線アブレーション層（ｃ）は、マスクとしての役割を担うため、紫外線などの非赤外線に対する遮蔽物質を含有してもよい。非赤外線に対する遮蔽物質としては紫外光を反射または吸収する物質を用いることができる。紫外線吸収剤やカーボンブラック、グラファイトなどが挙げられる。
【0107】
赤外線吸収物質及び遮蔽物質の総含有量は、赤外線アブレーション層（ｃ）の総量に対して、好ましくは１０質量％以上８０質量％以下であり、好ましくは２０質量％以上７０質量％以下であり、好ましくは３０質量％以上６０質量％以下である。赤外線吸収物質及び遮蔽物質の総含有量が上記範囲内であることにより、レーザー感度及び遮蔽性がより向上する傾向にある。
【0108】
（膜厚）
本構成体の赤外線アブレーション層（ｃ）の膜厚は、本構成体に対して露光処理を行う工程の際の紫外線に対する遮蔽性を確保する観点からは厚い方がよく、アブレーション性を高くする観点からは薄い方がよい。
本構成体の赤外線アブレーション層（ｃ）の膜厚は、本構成体に対して露光処理を行う工程の際の紫外線に対する遮蔽性を確保する観点からは厚い方がよく、アブレーション性を高くする観点からは薄い方がよい。
【0109】
以上のような観点から、赤外線アブレーション層（ｃ）の膜厚は０．１μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以上１５μｍ以下がより好ましく、１．０μｍ以上１０μｍ以下がさらに好ましい。
【0110】
赤外線アブレーション層（ｃ）の非赤外線遮蔽効果としては、赤外線アブレーション層（ｃ）の光学濃度が２以上となることが好ましく、光学濃度が３以上となることがより好ましい。
【0111】
光学濃度は、Ｄ２００－ＩＩ透過濃度計（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）を用いて測定できる。また、光学濃度はいわゆる視感（ＩＳＯ ｖｉｓｕａｌ）であり、測定対象の光は４００～７５０ｎｍ程度の波長領域である。
【0112】
赤外線アブレーション層（ｃ）の形成方法としては、特に制限されないが、例えば、赤外線吸収物質と非赤外線の遮蔽物質の両方をかねてカーボンブラックを使用する場合、まず、所定の溶媒を用いて樹脂溶液を調製し、そこにカーボンブラックと分散剤とを添加し、カーボンブラックを樹脂溶液中に分散させてから後述する剥離力調整層（ｄ）を有するカバーフィルム（ｆ）上にコーティングし、その後、このカバーフィルム（ｆ）を、感光性樹脂組成物層（ｂ）にラミネート又はプレス圧着して赤外線レーザーで切除可能な非赤外線の遮蔽層を転写させる方法等がある。
【0113】
樹脂溶液にカーボンブラックを分散させる方法としては、撹拌羽根による強制撹拌と超音波や各種ミルを利用した撹拌を併用する方法が効果的である。あるいは樹脂とカーボンブラックと分散剤を、押し出し機やニーダーを用いて予備混練してから溶剤に溶解する方法も、カーボンブラックの良好な分散性を得るために有効である。また、ラテックス溶液の状態にある樹脂中に、カーボンブラックを強制分散させてもよい。
【0114】
赤外線アブレーション層（ｃ）を製膜するための溶液や分散液等の溶媒は、使用する樹脂や赤外線吸収剤の溶解性を考慮して適宜選択できる。溶媒は一種のみを用いてもよく、二種以上の溶媒を混合して用いてもよい。
【0115】
また、例えば、比較的低沸点の溶媒と高沸点の溶媒を混合して、溶媒の揮発速度を制御することで、赤外線アブレーション層（ｃ）の膜質を向上させることも有効である。
【0116】
赤外線アブレーション層（ｃ）を製膜するための溶媒としては、特に制限されないが、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、エチレングリコール、プロピレングリコール、エタノール、水、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ｎ－プロピルアルコール、ｉ－プロピルアルコール、１，４－ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、ｎ－ペンタン、アセトニトリルやその類縁体等が挙げられる。
【0117】
（剥離力調整層（ｄ））
上記赤外線アブレーション層（ｃ）を高精細な描画を可能にすることにより、赤外線アブレーション層と接するように、ポリエチレンテレフタレートフィルムからなるカバーフィルム（ｆ）を設置すると、カバーフィルム（ｆ）の剥離が困難になった。これは、上述した一般式（１）で表される構造がポリエチレンテレフタレートに含まれるエステル結合部と相互作用し密着力が高まるためだと推測する。
上記赤外線アブレーション層（ｃ）を高精細な描画を可能にすることにより、赤外線アブレーション層と接するように、ポリエチレンテレフタレートフィルムからなるカバーフィルム（ｆ）を設置すると、カバーフィルム（ｆ）の剥離が困難になった。これは、上述した一般式（１）で表される構造がポリエチレンテレフタレートに含まれるエステル結合部と相互作用し密着力が高まるためだと推測する。
【0118】
そこで検討の結果、本発明者らは、特定の組成を有する剥離力調整層（ｄ）が剥離力改善のために重要であるということを見出した。
【0119】
具体的には、剥離力調整層が飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）による分析において、負イオンに関してＣ２Ｈ（ｍ／ｚ＝２５）の強度を１、正イオンに関してＣ２Ｈ３（ｍ／ｚ＝２７）の強度を１とした際に、Ｃ２Ｎ３（ｍ／ｚ＝６６）の強度が０．３０以上７．００以下であることが重要である。Ｃ２Ｎ３はメラミン構造に由来するピークであり、剥離力が大きく軽減する。これは、メラミン構造を有することによりアブレーション層（ｃ）に含有される樹脂成分と静電気的な反発が起きるためと推測する。Ｃ２Ｎ３（ｍ／ｚ＝６６）の強度が０．３０未満であると十分な剥離力改善効果が得られず、７．００より大きいものはカバーフィルムへの密着力が得られない。剥離力とカバーフィルムとの密着性との観点からＣ２Ｎ３（ｍ／ｚ＝６６）の強度は０．３５以上６．９０以下が好ましく、０．４５以上６．８０以下がより好ましい。
【0120】
Ｃ２Ｎ３（ｍ／ｚ＝６６）の強度は後述する剥離力調整層（ｄ）を製造する際に使用するメラミン樹脂の量を変更することで制御可能である。
【0121】
また、Ｃ６Ｈ５（ｍ／ｚ＝７７）の強度が０．０５以上０．４０以下であることが重要である。Ｃ６Ｈ５のピークはベンゼン環由来のピークである。ベンゼン環を有することで赤外線アブレーション層（ｃ）に含有される樹脂との相互作用が強くなり、剥離力が悪化してしまう。そのため、上記範囲であることが重要であり、０．０５以上０．３５以下であることが好ましく、０．０５以上０．３０以下であることがさらに好ましい。
【0122】
Ｃ６Ｈ５（ｍ／ｚ＝７７）の強度は後述する剥離力調整層（ｄ）を製造する際に使用するアルキド樹脂の種類や量を変更することで制御可能である。
【0123】
また、Ｃ３Ｈ５（ｍ／ｚ＝４１）の強度が３．００以上１６．００以下であることが好ましい。Ｃ３Ｈ５は長鎖アルキルなどに由来するピークであり、このような構造を有することで赤外線アブレーション層（ｃ）に含有される樹脂との相互作用が小さくなり剥離力が改善する。そのため、上記範囲であることが好ましく、３．１０以上１６．００以下であることがより好ましく、３．２０以上１６．００以下であることがさらに好ましい。
【0124】
Ｃ３Ｈ５（ｍ／ｚ＝４１）の強度は後述する剥離力調整層（ｄ）を製造する際に使用するアルキド樹脂の種類や量を変更することで制御可能である。
【0125】
剥離力調整層（ｄ）にメラミン構造すなわちＣ２Ｎ３（ｍ／ｚ＝６６）を付与するにはメラミン樹脂を使用することができ、その中でもメチルエーテル化メラミン樹脂が好ましい。これにより、上記数値範囲の剥離力調整層（ｄ）を得ることができる。
【0126】
メチルエーテル化メラミン樹脂としては、例えば、三和ケミカル製のＭＷ－３０Ｍ、ＭＷ－３０、ＭＷ－２２、ＭＳ－１１、ＭＳ－００１、ＭＸ－７３０、ＭＸ－７５０、ＭＸ－７０６、ＭＸ－０３５等を使用することができる。
【0127】
Ｃ６Ｈ５（ｍ／ｚ＝７７）及びＣ３Ｈ５（ｍ／ｚ＝４１）を付与するにはアルキド樹脂を用いることができる。アルキド樹脂とは油や脂肪酸、酸、アルコールを縮合反応させた樹脂である。その中でもＣ６Ｈ５を小さく、Ｃ３Ｈ５を大きくする目的で油や脂肪酸を多く含むグレードが好ましい。
【0128】
このような樹脂としては、例えば、荒川化学工業製のアラキード８０１２、５３５０、１４６５－６０等を使用することができる。
【0129】
上記メラミン樹脂とアルキド樹脂の比率は上記数値範囲を満たすためにメラミン樹脂／アルキド樹脂＝９５／５～９９／１が好ましく、９６／４～９９／１がさらに好ましい。
【0130】
メラミン樹脂とアルキド樹脂との合計含有量は、剥離力調整層（ｄ）の総量に対して、５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることがさらに好ましい。また、メラミン樹脂とアルキド樹脂との合計含有量は、剥離力調整層（ｄ）の総量に対して、１００質量％以下であることが好ましく、９８質量％以下であることがより好ましく、９８質量％以下であることがさらに好ましい。これらの数値の上下限は任意に組み合わせられる。
【0131】
剥離力調整層（ｄ）の形成方法としては、特に制限されないが、メラミン樹脂、アルキド樹脂および触媒を混合したのちに、グラビアコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティング、ドクターナイフコーティングなどの方法によりカバーフィルム（ｆ）上にコーティングし、その後、このカバーフィルム（ｆ）を、加熱することで樹脂の架橋を行いカバーフィルム（ｆ）に密着させることで製膜可能である。
【0132】
本構成体の剥離力調整層（ｄ）を製膜するためのカバーフィルム（ｆ）は、加熱をしても寸法安定性に優れたフィルムであることが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム等が好ましい。
【0133】
（中間層（ｅ））
本構成体は、感光性樹脂組成物層（ｂ）と、赤外線アブレーション層（ｃ）との間に、１層以上の中間層（ｅ）を、さらに有していてもよい。中間層（ｅ）は、特に制限されないが、例えば、酸素阻害層、接着層、及び／又は保護層とすることができる。以下、各層について説明する。
本構成体は、感光性樹脂組成物層（ｂ）と、赤外線アブレーション層（ｃ）との間に、１層以上の中間層（ｅ）を、さらに有していてもよい。中間層（ｅ）は、特に制限されないが、例えば、酸素阻害層、接着層、及び／又は保護層とすることができる。以下、各層について説明する。
【0134】
高精細かつハイライト領域を有する印刷物を作製するためには、フレキソ印刷版に微小なドットを形成する必要がある。このような微小なドットを形成する観点から、中間層（ｅ）は、酸素阻害能を有する酸素阻害層であることが好ましい。
【0135】
感光性樹脂組成物層（ｂ）を紫外線の照射により硬化する際、硬化はラジカル重合によって進行する。このラジカル重合の際に酸素が共存するとラジカル生成化合物と酸素が反応して重合反応が抑制される。このように重合反応が抑制されると、感光性樹脂組成物層（ｂ）の露光部に未反応部分が残るおそれがある。この未反応部分は、後述する第四の工程で除去されてしまうため、最終的にフレキソ印刷版に形成されるパターンは先端に曲線部を有する形状になる。これは、感光性樹脂組成物層（ｂ）の赤外線アブレーション層（ｃ）側の部分が特に酸素による重合阻害の影響を受けやすく、赤外線アブレーション層（ｃ）の直下にあたる感光性樹脂組成物層（ｂ）に未反応部分が生じやすいためである。
【0136】
これに対して、紫外線硬化時に酸素の共存量を減少させると重合反応が抑制されにくくなり、最終的に形成されるパターンは先端に平面部を有する形状になる。したがって、先端に平坦部を有するパターンを作製しようとする場合、中間層（ｅ）が酸素阻害能を有することにより、感光性樹脂組成物層（ｂ）に接する酸素を減少させることが有効である。
【0137】
また、中間層（ｅ）は、感光性樹脂組成物層（ｂ）と赤外線アブレーション層（ｃ）の接着性を向上する接着層であってもよい。これによって取り扱い性がより向上する傾向にある。
【0138】
さらに、中間層（ｅ）は、赤外線アブレーション層（ｃ）を保護する機能も有してもよい。従来のフレキソ印刷版の製造工程においては、カバーフィルム（ｆ）と積層した赤外線アブレーション層（ｃ）をフィルム送りする際、赤外線アブレーション層（ｃ）がロールと接触したり、フィルムロール輸送中に巻き締まりが生じたりすることによって、ロール内において赤外線アブレーション層（ｃ）とそれに積層されるカバーフィルム（ｆ）とがこすれたりする。これにより、赤外線アブレーション層（ｃ）が物理的に欠落し、ピンホールが生じるおそれがある。また、感光性樹脂組成物層（ｂ）を押し出し成型しながら赤外線アブレーション層（ｃ）上に塗設する方法により感光性樹脂組成物層（ｂ）と赤外線アブレーション層（ｃ）を積層させる場合には、加熱溶融した感光性樹脂組成物が赤外線アブレーション層（ｃ）上を流動した際に生じる摩擦よって、ピンホールが生じるおそれがある。
【0139】
このような赤外線アブレーション層（ｃ）のピンホールの発生を防ぐために、本構成体を構成する中間層（ｅ）は、保護層としての物理的な強度、耐熱性を有することが好ましい。
【0140】
〔フレキソ印刷版の製造方法〕
本実施形態のフレキソ印刷版の製造方法は、本構成体を用いて、まず、支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、パターンが描画加工された赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線を照射してパターン露光する第三の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）と感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去する第四の工程とを有する。
本実施形態のフレキソ印刷版の製造方法は、本構成体を用いて、まず、支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、パターンが描画加工された赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線を照射してパターン露光する第三の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）と感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去する第四の工程とを有する。
【0141】
その後、必要に応じて後露光処理する工程を行い、感光性樹脂組成物層の硬化物によるフレキソ印刷版（凸版印刷版）が得られる。なお、剥離性付与の観点から、フレキソ印刷版の表面をシリコーン化合物及び／又はフッ素化合物を含有する液と接触させてもよい。
【0142】
図２に、本実施形態のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用いたフレキソ印刷版の製造方法を示す概略図を示す。以下各工程について詳説する。
【0143】
（第一の工程）
第一の工程において、支持体（ａ）側から感光性樹脂組成物層（ｂ）へ紫外線照射する方法は、特に制限されず、公知の照射ユニットを使用して行うことができる。この際に照射する紫外線の波長は、好ましくは１５０～５００ｎｍであり、より好ましくは３００～４００ｎｍである。
第一の工程において、支持体（ａ）側から感光性樹脂組成物層（ｂ）へ紫外線照射する方法は、特に制限されず、公知の照射ユニットを使用して行うことができる。この際に照射する紫外線の波長は、好ましくは１５０～５００ｎｍであり、より好ましくは３００～４００ｎｍである。
【0144】
紫外線の光源としては、特に制限されないが、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ジルコニウムランプ、カーボンアーク灯、紫外線用蛍光灯等を使用できる。
【0145】
なお、この第一の工程は、後述する第二の工程の前に行っても、第二の工程の後に行ってもよい。
【0146】
（第二の工程）
第二の工程において、赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する方法は、特に制限されず、公知の照射ユニットを使用して行うことができる。なお、赤外線アブレーション層（ｃ）への赤外線の照射は、赤外線アブレーション層（ｃ）側から行うことができる。
第二の工程において、赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する方法は、特に制限されず、公知の照射ユニットを使用して行うことができる。なお、赤外線アブレーション層（ｃ）への赤外線の照射は、赤外線アブレーション層（ｃ）側から行うことができる。
【0147】
本構成体は、カバーフィルム（ｆ）を有しているので、赤外線照射前にまずカバーフィルム（ｆ）を剥離力調整層（ｄ）と一緒に剥離する。その後、赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線をパターン照射して、赤外線の照射部の樹脂を分解し、パターンを描画加工する。これにより、感光性樹脂組成物層（ｂ）上に赤外線アブレーション層（ｃ）のマスクを形成することができる。
【0148】
第二の工程において、好適な赤外線レーザーとしては、例えば、ＮＤ／ＹＡＧレーザー（例えば、１０６４ｎｍ）又はダイオードレーザー（例えば、８３０ｎｍ）が挙げられる。ＣＴＰ製版技術に好適なレーザーシステムは市販されており、例えば、ダイオードレーザーシステムＣＤＩ Ｓｐａｒｋ（ＥＳＫＯ ＧＲＡＰＨＩＣＳ社）を使用できる。このレーザーシステムは、本構成体を保持する回転円筒ドラム、ＩＲレーザーの照射装置、及びレイアウトコンピュータを含み、画像情報は、レイアウトコンピュータからレーザー装置に直接送信される。
【0149】
（第三の工程）
第三の工程は、パターンが描画加工された赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線を照射してパターン露光する。この際、マスクを通過した光が感光性樹脂組成物層（ｂ）の硬化反応を促進し、赤外線アブレーション層（ｃ）に形成されたパターンが、凹凸が反転して、感光性樹脂組成物層（ｂ）に転写される。紫外線の照射は、本構成体の全面に照射してもよい。
第三の工程は、パターンが描画加工された赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線を照射してパターン露光する。この際、マスクを通過した光が感光性樹脂組成物層（ｂ）の硬化反応を促進し、赤外線アブレーション層（ｃ）に形成されたパターンが、凹凸が反転して、感光性樹脂組成物層（ｂ）に転写される。紫外線の照射は、本構成体の全面に照射してもよい。
【0150】
第三の工程は、本構成体をレーザーシリンダに取り付けた状態で行うことができるが、一般的には、本構成体をレーザー装置から取り外し、慣用の照射ユニットを用いて照射する。照射ユニットは、第一の工程における紫外線照射で例示したものと同様のユニットを使用できる。
【0151】
（第四の工程）
第四の工程は、赤外線アブレーション層（ｂ）と感光性樹脂組成物層（ｃ）の未露光部を除去する工程である。第四の工程（現像工程）における、除去方法は特に制限されず、従来公知の方法を適用できる。
第四の工程は、赤外線アブレーション層（ｂ）と感光性樹脂組成物層（ｃ）の未露光部を除去する工程である。第四の工程（現像工程）における、除去方法は特に制限されず、従来公知の方法を適用できる。
【0152】
具体的には、上記のように、本構成体の感光性樹脂組成物層（ｂ）を露光し、その後、未露光部分を溶剤現像用の溶剤又は水現像用の洗浄液で洗い流すか、あるいは４０℃～２００℃に加熱された未露光部分を吸収可能な所定の吸収層に接触させ、吸収層を除去することで未露光部分を取り除くことができる。
【0153】
その後に、必要に応じて後露光処理することによって、フレキソ印刷版が製造される。
【0154】
なお、赤外線アブレーション層（ｃ）と感光性樹脂組成物層（ｂ）との間に中間層（ｅ）を有する場合には、現像工程において同時に取り除いてもよい。
【0155】
未露光部を溶剤現像するために用いられる現像用の溶剤としては、特に制限されないが、例えば、ヘプチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート等のエステル類；石油留分、トルエン、デカリン等の炭化水素類；テトラクロルエチレン等の塩素系有機溶剤にプロパノール、ブタノール、ペンタノール等のアルコール類を混合したもの；が挙げられる。未露光部の洗い出しは、ノズルからの噴射によって、またはブラシによるブラッシングで行われる。
【0156】
また、水現像用の洗浄液としては、水、アルカリ性水溶液、中性洗剤、界面活性剤を好適に用いることができる。
【0157】
界面活性剤とは、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等が挙げられる。これらは、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
【0158】
アニオン系界面活性剤としては、特に制限されないが、例えば、硫酸エステル塩、高級アルコール硫酸エステル、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩、硫酸化オレフィン、アルキルベンゼンスルホン酸塩、α－オレフィンスルホン酸塩、リン酸エステル塩、ジチオリン酸エステル塩等が挙げられる。
【0159】
両性界面活性剤としては、特に制限されないが、例えば、アミノ酸型両性界面活性剤、ベタイン型両性界面活性剤等が挙げられる。
【0160】
ノニオン系界面活性剤としては、特に制限されないが、例えば、高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物等のポリエチレングリコール型界面活性剤やグリセロール脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ソルビトール、及びソルビタンの脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエステル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等の多価アルコール型界面活性剤等が挙げられる。
【0161】
また、アルカリ性水溶液には、ｐＨ調整剤を用いてもよい。ｐＨ調整剤としては、有機材料、無機材料のいずれでもよいが、ｐＨを９以上に調整できるものが好ましい。ｐＨ調整剤としては、特に制限されないが、例えば、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム、琥珀酸ナトリウム等が挙げられる。
【0162】
未露光部分を吸収可能な吸収層としては、特に制限されないが、例えば、不織布材料、紙素材、繊維織物、連続気泡発泡体、及び多孔質材料が挙げられる。このなかでも、ナイロン、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレンからなる不織布材料、及びこれらの不織布材料の組み合わせが好ましく、ナイロン又はポリエステルの不織布連続ウェブがより好ましい。
【0163】
〔フレキソ印刷方法〕
本実施形態のフレキソ印刷方法は、上記フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用い、支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、パターンが描画加工された赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線照射してパターン露光する第三の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）と感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去してフレキソ印刷版を製造する第四の工程と、フレキソ印刷版を用いて印刷する第五の工程と、を、有する。
本実施形態のフレキソ印刷方法は、上記フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用い、支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、パターンが描画加工された赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線照射してパターン露光する第三の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）と感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去してフレキソ印刷版を製造する第四の工程と、フレキソ印刷版を用いて印刷する第五の工程と、を、有する。
【0164】
フレキソ印刷方法における第一の工程から第四の工程までは、上述のとおりである。
【0165】
（第五の工程）
第五の工程は、第一の工程から第四の工程によって得られたフレキソ印刷版を用いて印刷する工程である。フレキソ印刷版を用いた印刷方法は、フレキソ印刷版の凸部に対してインキを付着させ、そのインキを基材に転写させる方法であれば、特に制限されない。
第五の工程は、第一の工程から第四の工程によって得られたフレキソ印刷版を用いて印刷する工程である。フレキソ印刷版を用いた印刷方法は、フレキソ印刷版の凸部に対してインキを付着させ、そのインキを基材に転写させる方法であれば、特に制限されない。
【実施例0166】
以下に、具体的な実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。
【0167】
〔ＴＯＦ－ＳＩＭＳの測定〕
剥離力調整層（ｄ）を製膜したカバーフィルム（ｆ）、又はフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体からカバーフィルム（ｆ）を剥離し、適切な大きさに切断した後、剥離力調整層（ｄ）のある面を下記の条件により測定した。
剥離力調整層（ｄ）を製膜したカバーフィルム（ｆ）、又はフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体からカバーフィルム（ｆ）を剥離し、適切な大きさに切断した後、剥離力調整層（ｄ）のある面を下記の条件により測定した。
【0168】
測定装置：ｎａｎｏ－ＴＯＦ （アルバック・ファイ社製）
一次イオン：Ｂｉ３ ＋＋
加速電圧：３０ｋＶ
電流値：約０．１ｎＡ（ＤＣとして）
分析面積：２００μｍ×２００μｍ
積算時間：５ｍｉｎ
検出イオン：正・負イオン
中和電子銃：有、正イオンはＡｒモノマーを併用
一次イオン：Ｂｉ３ ＋＋
加速電圧：３０ｋＶ
電流値：約０．１ｎＡ（ＤＣとして）
分析面積：２００μｍ×２００μｍ
積算時間：５ｍｉｎ
検出イオン：正・負イオン
中和電子銃：有、正イオンはＡｒモノマーを併用
【0169】
負イオンに関してＣ２Ｈ（ｍ／ｚ＝２５）の強度を１、正イオンに関してＣ２Ｈ３（ｍ／ｚ＝２７）の強度を１として規格化し、Ｃ２Ｎ３（ｍ／ｚ＝６６）、Ｃ６Ｈ５（ｍ／ｚ＝７７）、Ｃ３Ｈ５（ｍ／ｚ＝４１）の相対強度を求めた。ここで、Ｃ２Ｎ３（ｍ／ｚ＝６６）は負イオン側に、Ｃ６Ｈ５（ｍ／ｚ＝７７）、Ｃ３Ｈ５（ｍ／ｚ＝４１）は正イオン側にピークが検出された。
【0170】
〔フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体の製造〕
以下の実施例及び比較例において、フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を製造した。
以下の実施例及び比較例において、フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を製造した。
【0171】
（（１）支持体と感光性樹脂組成物層の積層体の製造）
スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（旭化成製 商品名：タフプレンＡ）６０質量部と、液状ポリブタジエン（日本石油化学製 商品名：Ｂ－２０００）３０質量部、１，９－ノナンジオールジアクリレート７質量部、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン２質量部、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール０．３質量部とを加圧ニーダーで混練し、感光性樹脂組成物を調製した。
スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（旭化成製 商品名：タフプレンＡ）６０質量部と、液状ポリブタジエン（日本石油化学製 商品名：Ｂ－２０００）３０質量部、１，９－ノナンジオールジアクリレート７質量部、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン２質量部、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール０．３質量部とを加圧ニーダーで混練し、感光性樹脂組成物を調製した。
【0172】
次に、押し出し成型機に前記感光性樹脂組成物を投入し、Ｔ型ダイスから押し出し成型された感光性樹脂組成物の片方の面にベースフィルム（支持体）を貼り合わせ、感光性樹脂組成物層の支持体積層側とは反対の面に離型フィルム（三菱化学社製、商品名：ダイアホイルＭＲＶ１００）を貼り合わせて、支持体と感光性樹脂組成物層の積層体を得た。
【0173】
（（２）剥離力調整層積層体の製造）
＜剥離力調整層積層体１の製造例＞
・アミノ樹脂（三和ケミカル製、ＭＸ－７０６、不揮発分７０％）：１３９質量部
・アルキド樹脂（荒川化学工業製、アラキード８０１２、不揮発分５０％）：６質量部
＜剥離力調整層積層体１の製造例＞
・アミノ樹脂（三和ケミカル製、ＭＸ－７０６、不揮発分７０％）：１３９質量部
・アルキド樹脂（荒川化学工業製、アラキード８０１２、不揮発分５０％）：６質量部
【0174】
上記材料を混合し、その後パラトルエンスルホン酸を３質量部加え更に混合した。
混合後の液をカバーフィルムとなる厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の重量が０．１ｇ／ｍ２となるようにコーティングし、１００℃で２分間の加熱・乾燥処理を施して剥離力調整層積層体１を得た。
下記表１に、剥離力調整層積層体１の構成材料及び物性を示す。
混合後の液をカバーフィルムとなる厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の重量が０．１ｇ／ｍ２となるようにコーティングし、１００℃で２分間の加熱・乾燥処理を施して剥離力調整層積層体１を得た。
下記表１に、剥離力調整層積層体１の構成材料及び物性を示す。
【0175】
＜剥離力調整層積層体２の製造例＞
アルキド樹脂として荒川化学工業製のアラキード１４６５－６０（不揮発分６０％）を使用しアミノ樹脂及びアルキド樹脂の配合比を下記表１のように変更した以外は、前記剥離力調整層積層体１と同様にして剥離力調整層積層体２を得た。
下記表１に、構成材料及び物性を示す。
アルキド樹脂として荒川化学工業製のアラキード１４６５－６０（不揮発分６０％）を使用しアミノ樹脂及びアルキド樹脂の配合比を下記表１のように変更した以外は、前記剥離力調整層積層体１と同様にして剥離力調整層積層体２を得た。
下記表１に、構成材料及び物性を示す。
【0176】
＜剥離力調整層積層体３～５の製造例＞
アミノ樹脂及びアルキド樹脂の種類及び配合比を下記表１のように変更した以外は、前記剥離力調整層積層体１と同様にして剥離力調整層積層体３～５を得た。
下記表１に、構成材料及び物性を示す。
アミノ樹脂及びアルキド樹脂の種類及び配合比を下記表１のように変更した以外は、前記剥離力調整層積層体１と同様にして剥離力調整層積層体３～５を得た。
下記表１に、構成材料及び物性を示す。
【0177】
＜剥離力調整層積層体６の製造例＞
・アミド樹脂（ＤＩＣ製、スーパーペッカミンＯＤＬ－６０）：９５質量部
・アルキド樹脂（日立化成ポリマー製、テスラック２０５２－６０）：５質量部
・硬化剤（パラトルエンスルホン酸）：３質量部
・アミド樹脂（ＤＩＣ製、スーパーペッカミンＯＤＬ－６０）：９５質量部
・アルキド樹脂（日立化成ポリマー製、テスラック２０５２－６０）：５質量部
・硬化剤（パラトルエンスルホン酸）：３質量部
【0178】
上記材料を溶媒に溶解し、剥離力調整層組成液を調製した。両面に離型処理を施したＰＥＴフィルム支持部材（Ｅ５０００、東洋紡績（株）、厚さ：１００μｍ）（感光性樹脂凸版印刷原版とした際には保護フィルムとして機能）上に剥離力調整層組成液を、層厚が１．０μｍになるように適宜選択したバーコーターを用いて塗工し、１６０℃×３分の条件で加熱乾燥、硬化させて剥離力調整層積層体６を作製した。
下記表１に、剥離力調整層積層体６の構成材料及び物性を示す。
下記表１に、剥離力調整層積層体６の構成材料及び物性を示す。
【0179】
【表1】
【0180】
（（３）赤外線アブレーション層に用いる樹脂の製造）
＜樹脂１の製造＞
２Ｌのセパラブルフラスコの重合容器内を窒素置換した後、注射器を用いて、ｎ－ヘキサン（モレキュラーシーブスで乾燥したもの）４５６．１ｍＬ及び塩化ブチル（モレキュラーシーブスで乾燥したもの）６５６．５ｍＬを加え、重合容器を－７０℃のドライアイス／メタノールバス中につけて冷却した後、イソブチレンモノマー１６１．１ｇ（２８７１ｍｍｏｌ）が入っている三方コック付耐圧ガラス製液化採取管にテフロン（登録商標）製の送液チューブを接続し、重合容器内にイソブチレンモノマーを窒素圧により送液した。ｐ－ジクミルクロライド０．６４７ｇ（２．８ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１．２２ｇ（１４ｍｍｏｌ）を加えた。次にさらに四塩化チタン８．６７ｍＬ（７９．１ｍｍｏｌ）を加えて重合を開始した。重合開始から１．５時間同じ温度で撹拌を行った後、重合溶液からサンプリング用として重合溶液約１ｍＬを抜き取った。続いて、あらかじめ－７０℃に冷却しておいたスチレンモノマー７７．９ｇ（７４８ｍｍｏｌ）、ｎ－ヘキサン２３．９ｍＬおよび塩化ブチル３４．３ｍＬの混合溶液を重合容器内に添加した。該混合溶液を添加してから４５分後に、約４０ｍＬのメタノールを加えて反応を終了させた。
＜樹脂１の製造＞
２Ｌのセパラブルフラスコの重合容器内を窒素置換した後、注射器を用いて、ｎ－ヘキサン（モレキュラーシーブスで乾燥したもの）４５６．１ｍＬ及び塩化ブチル（モレキュラーシーブスで乾燥したもの）６５６．５ｍＬを加え、重合容器を－７０℃のドライアイス／メタノールバス中につけて冷却した後、イソブチレンモノマー１６１．１ｇ（２８７１ｍｍｏｌ）が入っている三方コック付耐圧ガラス製液化採取管にテフロン（登録商標）製の送液チューブを接続し、重合容器内にイソブチレンモノマーを窒素圧により送液した。ｐ－ジクミルクロライド０．６４７ｇ（２．８ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１．２２ｇ（１４ｍｍｏｌ）を加えた。次にさらに四塩化チタン８．６７ｍＬ（７９．１ｍｍｏｌ）を加えて重合を開始した。重合開始から１．５時間同じ温度で撹拌を行った後、重合溶液からサンプリング用として重合溶液約１ｍＬを抜き取った。続いて、あらかじめ－７０℃に冷却しておいたスチレンモノマー７７．９ｇ（７４８ｍｍｏｌ）、ｎ－ヘキサン２３．９ｍＬおよび塩化ブチル３４．３ｍＬの混合溶液を重合容器内に添加した。該混合溶液を添加してから４５分後に、約４０ｍＬのメタノールを加えて反応を終了させた。
【0181】
反応溶液から溶剤等を留去した後、トルエンに溶解し２回水洗を行った。さらにトルエン溶液を多量のメタノールに加えて重合体を沈殿させ、得られた重合体を６０℃で２４時間真空乾燥することにより樹脂１を得た。スチレンの含有割合を１Ｈ－ＮＭＲにより求めたところ３０質量％であった。
【0182】
＜樹脂２、３の製造例＞
使用するモノマーの種類、配合比を下記表２のように変更した以外は樹脂１と同様にして樹脂２、３を得た。下記表２に、樹脂の構成材料及び物性を示す。
使用するモノマーの種類、配合比を下記表２のように変更した以外は樹脂１と同様にして樹脂２、３を得た。下記表２に、樹脂の構成材料及び物性を示す。
【0183】
【表2】
【0184】
（（４）赤外線アブレーション層積層体の製造）
＜赤外線アブレーション層積層体１の製造例＞
樹脂１：６．５質量部と、トルエン：５４．０質量部と、シクロヘキサノン：３６．０質量部と、を混合し、樹脂１を溶剤に溶解させた。その後、カーボンブラック（三菱ケミカル製、＃１０００）３．５質量部をさらに投入し、ビーズミルで４時間混合しカーボンブラック分散液を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１の製造例＞
樹脂１：６．５質量部と、トルエン：５４．０質量部と、シクロヘキサノン：３６．０質量部と、を混合し、樹脂１を溶剤に溶解させた。その後、カーボンブラック（三菱ケミカル製、＃１０００）３．５質量部をさらに投入し、ビーズミルで４時間混合しカーボンブラック分散液を得た。
【0185】
上記のようにして得られたカーボンブラック分散液を剥離力調整層積層体１上の剥離力調整層がある面に、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるようにコーティングし、９０℃で２分間の乾燥処理を施して、赤外線アブレーション層と剥離力調整層積層体１とカバーフィルムとの積層体である赤外線アブレーション層積層体１を得た。
【0186】
＜赤外線アブレーション層積層体２～１１の製造例＞
使用する樹脂及び剥離力調整層積層体を、下記表３のように変更した以外は、赤外線アブレーション層積層体１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体２～１１を得た。
使用する樹脂及び剥離力調整層積層体を、下記表３のように変更した以外は、赤外線アブレーション層積層体１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体２～１１を得た。
【0187】
【表3】
【0188】
（（５）フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体の作製）
＜実施例１＞
支持体と感光性樹脂組成物層の積層体から離型フィルムをはがし、赤外線アブレーション層積層体１を、赤外線アブレーション層が感光性樹脂組成物層に接するように、温度２５℃、湿度４０％の環境でラミネートし、１２０℃に設定したホットプレート上でカバーフィルム面をホットプレートの加熱部に接触するように配置して、１分間熱を加えて実施例１のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体１を得た。
＜実施例１＞
支持体と感光性樹脂組成物層の積層体から離型フィルムをはがし、赤外線アブレーション層積層体１を、赤外線アブレーション層が感光性樹脂組成物層に接するように、温度２５℃、湿度４０％の環境でラミネートし、１２０℃に設定したホットプレート上でカバーフィルム面をホットプレートの加熱部に接触するように配置して、１分間熱を加えて実施例１のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体１を得た。
【0189】
上述のようにして作製した実施例１のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体１を、以下のように評価した。評価結果を下記表４に示す。なお、評価はフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を１０ｃｍ×１５ｃｍの大きさに切り出て行った。
【0190】
（評価方法）
＜レーザー感度の評価＞
フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体から、剥離力調整層を積層したカバーフィルムを除去した後、Ｅｓｋｏ ＣＤＩ ＳＰＡＲＫ２５３０に設置し、解像度８０００ｄｐｉ、レーザー強度３．０Ｊにおいて、２×１ピクセルの計２ピクセルを形成する画像パターンを持つテスト画像でレーザー描画を行った。
＜レーザー感度の評価＞
フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体から、剥離力調整層を積層したカバーフィルムを除去した後、Ｅｓｋｏ ＣＤＩ ＳＰＡＲＫ２５３０に設置し、解像度８０００ｄｐｉ、レーザー強度３．０Ｊにおいて、２×１ピクセルの計２ピクセルを形成する画像パターンを持つテスト画像でレーザー描画を行った。
【0191】
その後、アブレーション部をレーザー顕微鏡（ＶＫ－Ｘ１００、キーエンス（株）製；対物レンズ１００倍）を用いて観察し、レーザーによって削れている長径方向（２ピクセル側）の赤外線アブレーション層表面の長さと、感光性樹脂組成物層との界面の長さを測定し、感光性樹脂組成物層との界面／赤外線アブレーション層表面の長さを、レーザー感度の指標として、下記のように評価した。高解像度を精度よく描画する上で、Ｃ以上を使用上問題ない範囲とした。
【0192】
（評価基準）
Ａ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．５０以上
Ｂ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．４０以上０．５０未満
Ｃ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．３０以上０．４０未満
Ｄ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．３０未満
Ｅ：穴は貫通していない
Ａ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．５０以上
Ｂ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．４０以上０．５０未満
Ｃ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．３０以上０．４０未満
Ｄ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．３０未満
Ｅ：穴は貫通していない
【0193】
＜剥離性の評価＞
フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を温度３２℃、相対湿度８０％ＲＨに設定された恒温恒湿槽ＰＨ－３Ｋ（ＥＳＰＥＣ社製）に１カ月間保存したのちに、後述の方法で剥離力を測定した。
フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を温度３２℃、相対湿度８０％ＲＨに設定された恒温恒湿槽ＰＨ－３Ｋ（ＥＳＰＥＣ社製）に１カ月間保存したのちに、後述の方法で剥離力を測定した。
【0194】
剥離力の測定は、引張試験器 Ａｕｔｏｇｒａｐｈ ＡＧＳ－Ｘ１００Ｎ（島津製作所製）を使用して、１８０°方向にクロスヘッドスピード５０ｍｍ／ｍｉｎでカバーフィルムを剥離し、剥離力を測定した。
【0195】
その結果をもとに、下記の基準により１～５に評価した。
Ｃ以上を使用上問題ない範囲とした。
Ｃ以上を使用上問題ない範囲とした。
【0196】
Ａ：剥離力の最大値が１０ｇｆ／１０ｃｍ以上で、３０ｇｆ／１０ｃｍより小さい。
Ｂ：剥離力の最大値が３０ｇｆ／１０ｃｍ以上で、４０ｇｆ／１０ｃｍより小さい。
Ｃ：剥離力の最大値が４０ｇｆ／１０ｃｍ以上で、剥離可能である。
Ｅ：赤外線アブレーション層が剥離できない、もしくはカバーフィルム側に転写される。
Ｆ：剥離力の最大値が１０ｇｆ／１０ｃｍより小さく、容易に剥離してしまう。
Ｂ：剥離力の最大値が３０ｇｆ／１０ｃｍ以上で、４０ｇｆ／１０ｃｍより小さい。
Ｃ：剥離力の最大値が４０ｇｆ／１０ｃｍ以上で、剥離可能である。
Ｅ：赤外線アブレーション層が剥離できない、もしくはカバーフィルム側に転写される。
Ｆ：剥離力の最大値が１０ｇｆ／１０ｃｍより小さく、容易に剥離してしまう。
【0197】
＜ピンホール（ＰＨ）評価＞
前記赤外線アブレーション層積層体１から、剥離力調整層を積層したカバーフィルムを除去した後、赤外線アブレーション層をライトテーブル上に置き、サンプルの下からライトテーブルで照らし、光って見える箇所をピンホールである、と判断した。
前記赤外線アブレーション層積層体１から、剥離力調整層を積層したカバーフィルムを除去した後、赤外線アブレーション層をライトテーブル上に置き、サンプルの下からライトテーブルで照らし、光って見える箇所をピンホールである、と判断した。
【0198】
赤外線アブレーション層において、長径２０μｍ以上のサイズのピンホールの個数を数え、平均値を算出し、（個／ｍ2）の値を算出し、下記のように評価した。Ｃ以上を使用上問題ない範囲とした。
【0199】
Ａ：ピンホールの数が、平均２（個／ｍ2）より少ない。
Ｂ：ピンホールの数が、平均２（個／ｍ2）以上で５個（個／ｍ2）より少ない。
Ｃ：ピンホールの数が、平均５（個／ｍ2）以上で１０（個／ｍ2）より少ない。
Ｄ：ピンホールの数が、平均１０（個／ｍ2）以上で２０（個／ｍ2）より少ない。
Ｅ：ピンホールの数が、平均２０（個／ｍ2）以上である。
Ｂ：ピンホールの数が、平均２（個／ｍ2）以上で５個（個／ｍ2）より少ない。
Ｃ：ピンホールの数が、平均５（個／ｍ2）以上で１０（個／ｍ2）より少ない。
Ｄ：ピンホールの数が、平均１０（個／ｍ2）以上で２０（個／ｍ2）より少ない。
Ｅ：ピンホールの数が、平均２０（個／ｍ2）以上である。
【0200】
【表4】
【図1】
【図2】
